JPS601159A - アニリン誘導体およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式（１） 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
、低級アルコキシル基またはニトロ基を表りす。

Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−０Ｒ
１，−ＣＨ，ＯＲ１，−ＧＯＯＲ□。

Ｒ１ｉヨウ素原子または一般式−Ｒ′。

−Ｎ＝ＣＨ−Ｒ’　、−ＮＨ−Ｒ’　、−ＮＨ−Ｃ−Ｒ
’　。

１（ Ａ′ で示される基を表わす（ここで　Ｒ／　およびＲ“は同
一または相異なり、低級シクロアルキル基、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロ
アルキル基、低級アノＶコキシアルキル基、シアノ基、
低級シアノアルキル基または水素原子を表わし、Ａ′お
よびＡ″は同一または相異なり、酸素原子または硫黄原
子を表わし、ｎはＯ，ｌまたは２を表わす。）。ただし
、Ｒが水素原子である場合を除く。

２は水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシカルボニルア
ルキル基または一般式一〇−Ｒ，あるいは−Ｓ−Ｒ，で
示され１ る基を表わす（ここで、Ｒ３は低級アルキル基、低級シ
クロアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ８は低級
アルキル基、低級アルコキシカルボニル基またはフェニ
ル基を表わす。）。

Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。

Ｂは低級アルキル基、低級アルテニル基、低級シクロア
ルキル基、フェニル基まｔこは一般式−ＷＲ４で示され
る置換基を表わす（ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原
子を表わし、Ｒ４は低級シクロアルキル基、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロ
アＩレケニル基、低級ハロアルキニル基または低級シク
ロアルキルアルキル基を表わすか、またはハロゲン原子
、シアノ基、低級アルコキシル基、フェニル基、低級ア
ルゲニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ
基、低級アラルキルオキシ基のうち少なくとｔｉ・つの
基あるいは原子で置換された低級アルキル基を表わす。

〕 で示されるアニリン誘導体　（以下、本発明化金物と称
す。）、その製造法およびそれを有効成分として含有す
る農園芸用殺菌剤に関するものである。

本発明者らは、ベノミル〔メチル　１−（ブチルカルバ
モイル）ベンズイミダゾール−２−Ｔイルカ−バメート
〕、フベリダゾール〔２−（２−フリル）ベンズイミダ
ゾール〕、チアベンダゾール（２−（４−チアゾリル）
ベンズイミダゾール〕、カルペンダジム〔メチル　ベン
ズイミダゾール−２−イルカ−バメート〕、チオファネ
ートメチル（１，２−ビス（８ニメトキシカルボニル−
２−チオウレイド）ベンゼン〕、チオファネート（１，
２−ビス（８−エトキシカルボニル−２−チオウレイド
）ベンゼン〕などのベンズイミダゾール・チオノ１ネー
ト系殺菌剤、およびプロシミドンｌ：Ｎ−（８’、５’
−ジクロロフェニル）−１，２−ジメチルシクロプロパ
ン−１，２−ジカルボキシイミド〕、イプロジオン（８
−（８’、５’−ジクロロフェニル）−１−イソプロピ
ルカルバモイルイミダゾリジシー２，４−ジオン〕、ビ
ンクロプリン〔８−（８’　、　５’−ジクロロフェニ
ル）−５−メチル−５−ビニル−オキサゾリジン−２，
４−ジオン〕、エチル（Ｒ８）−８−（８’、５’−ジ
クロロフェニル）−５−メチル−２，４−ジオキソオキ
サゾリジン−５−カルボキシレートなどの環状イミド系
殺菌剤に耐性を示す植物病原菌およびその他の糸状菌（
以下、薬剤耐性菌と称す。）に対し、選択的に殺菌効果
を示す殺菌剤の発明に鋭意努力した結果、前記一般式（
１）で示されるアニリン誘導体がこのような効果を示す
ことを見出した。

本発明化合物は上述のようにベンズイ之ダゾール・チオ
ファネート系殺菌剤に耐性を示す菌に対し選択的に強い
殺菌効果を示すが故に、前°配薬剤が使用されることに
より出現が予想されるかまたは出現した薬剤耐性菌の防
除に使用することができる。このような菌としては、た
とえばリンゴのうどんこ病菌（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ
　１ｅ−ｏｕｃｏｔｒｉｃｈａ　）　、黒星病菌（Ｖｅ
ｎｔｕｒｉａ　１ｎａｅ−ｑｕａｌｉｓ）、ｔシの黒星
病菌（Ｖｅｎｔｕｒｉａ　ｎａｓｈ−ｉｃｏｌａ　）、
モニリア病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｍａ−１ｉ　
）、カキの炭そ病菌（Ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｋａ
−ｋｉ）、モモの灰層病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　
ｃｉｎｅｒ−ｅａ）、黒星病菌（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉ
ｕｍ　ｃａｒｐｏｐｈ−ｉ　ｌ　ｕｍ　）、ブドウの灰
色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓｃｉｎｅｒｅａ　）　、
黒とう病菌（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ａｍｐｅｌｉ　−ｎａ）
、晩腐病菌（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔ
ａ）、テンサイの褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｂ
ｅｔｉｃｏｌａ）、ピー＋ツツの褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏ
ｓｐｏｒａ　ａｒａｃｈｉ　−ｄｉｃｏｌａ　）、黒渋
病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｐｅｒｓｏｎａ−ｔａ）
、オオムギのうどんこ病菌（Ｅｒｙｓｉｐｈｅｇｒａｍ
ｉｎｉｓ　ｆ、ｓｐ、　ｈｏｒｄｅｉ）　、フィー２ポ
ツト病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ　ｈｅｒｐｏｔ
ｒｉｃｈｏｉｄｅｓ）、紅色雪腐病菌（Ｆｕｓａｒｉｕ
ｒａ　ｎ１ｖａｌｅ）　、：Ｉ　ムギのうどんこ病菌（
Ｅｒｙｓｉｐｈｅ　ｇｒａｍｉｎｉｓ、ｆ、ｓｐ。

ｔｒｉｔｉｃｉ）、キュウリのうどんこ病菌（Ｓｐｈａ
−ｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）　、　−ｐ
る枯病菌（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｍｅｌｏｎ
ｉｓ　）、灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅ
ｒｅａ）　、黒星病菌（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｃ
ｕｃｕｍｅｒｉｎｕｍ）　、トｖトの葉かび病菌（Ｃｌ
ａｄｏｐｏｒｉｕｍ　ｆｕｌｖｕｍ）　、灰色カビ病菌
（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）、イチゴのうど
んこ病菌（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｈｕｍｕｌｉ）
　、ホップの灰色カビ病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎ
ｅｒｅａ）　、タバコのうどんこ病菌（Ｅｒｙｓｉｐｈ
ｅ　ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）　、バラの黒星病［
（Ｄｉｐｌｏｃａｒｐｏｎ　ｒｏｓａｅ）　、ミカンの
そうか病菌（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ｆａｗｃｅｔｉｉ）、青
かび病菌（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｉ−ｔａｌｉｃｕ
ｍ）、緑かび病菌（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｄｉｇｉ
ｔａｔｕｍ）などが挙げられる。

さらに検討を続けた結果、薬剤耐性の有無に拘らず本発
明化合物はイネいもち病菌（Ｐｙｒｉ−ｃｕｌａｒｉａ
　ｏｒｙｚａｅ）等の防除に効果のあることが判明した
。

本発明化合物を例示すると、第１表のようになる。

次に、本発明化合物の製造法について述べる。

本発明化合物は例えば次の方法によって製造することが
できる。

製法（ａ）　一般式（１） 〔式中、ｘ、ｙ、ｚおよびＲは前記と同じ意味を表わす
。〕 で示される化合物と一般式（ｆｆｉ） ＾ 〔式中、Ｒ５はハロゲン原子を表わす。ＡおよびＢは前
記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物あるいは一般式［ＩＶ）〔式中、Ａは
前記と同じ意味を表わし、Ｂ′は、低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級シクロアルキル基またはフェニル
基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。

この反応は、たとえば水またはベンゼン、トルエン、キ
シレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ピリ
ジン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒、またはそれ
らの混合物中において行われ、通常ピリジン、トリエチ
ルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、水酸化カリウム
等の脱酸剤を用い、必要に応じて、テトラブチルアンモ
ニウムプロミド等の相間移動触媒を用いて、高収率で行
うことができる。反応は必要に応じて冷却または加熱（
０〜１５０℃）することにより、１０時間以内で完結し
、収率よく目的物を得ることができる。

また、本発明化合物は前記一般式（１）において置換基
Ｚが水素原子であり、Ｂが一般式−Ｗ−Ｒ４（ここで、
ＷおよびＲ４は前記と同じ意味を表わす。）で示される
置換基である場合、例えば次の方法によって製造するこ
とができる。

製法（ｂ）　一般式（Ｖ） 〔式中、Ｘ、Ｙ、ＺおよびＡは前記と同じ意味を表わす
。〕 で示される化合物と、一般式（Ｖｌ） Ｈ−Ｗ−Ｒ４（■〕 〔式中、ＷおよびＲ４は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる方法。

この反応はたとえば無溶媒またはベンゼン、トルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、クロロホル
ム、四塩化炭素などの有機溶媒中で、無触媒またはトリ
エチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、１．４−ジ
アザシクロ〔２・２・２〕オクタンを触媒として行うこ
とができ、必要に応じて冷却または加熱（０〜５０℃）
することにより、１０時間以内で完結し、収率よく目的
物を得ることができる。

上記製法１こおいて、一般式（Ｖ）で示される化合物は
前記一般式〔ｌ）で示される化合物とホスゲンまたはチ
オホスゲンとを反応させることにより得ることができる
。この反応はたとえばベンゼン、トルエン、キシレン、
酢酸エチル等の有機溶媒またはその混合物中で行われ、
必要に応じて５０℃から還流温度に加熱することにより
、１０時間以内で完結し、収率よく目的物を得ることが
できる。

さらに、本発明化合物は前記一般式（１）において置換
基ＺがＺ′（ここで　Ｚ／は低級アルキル基、低級アル
テニル基、低級アルキニルｉ、低級アルコキシカルボニ
ルアルキル基または一般式−Ｃ−Ｒ２あるいは−８−Ｒ
３で１ 示さｎる基を表わす（ここで、Ｒ１は低級アルキル基、
低級シクロアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ３
は低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基または
フェニル基を表わす。）。） である場合、例えば次の方法により製造することができ
る。

製法（Ｃ）　一般式〔■〕 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ，ＡおよびＢは前記と同じ意味を表
わす。〕 で示される化合物と、一般式ｌ〕 Ｚ’　Ｒｅ　（Ｖｌｌ［） 〔式中、Ｚ′は前記と同じ意味を表わし、Ｒ６はハロゲ
ン原子、メシルオキシ基またはトシルオキシ基を表わす
。〕 で示される化合物とを反応させる方法。

反応は不活性溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジオキサン、クロロホルム）中で行われ、塩基（
例えば、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水素化
ナトリウム）を用いることにより、反応温度０〜１５０
℃で、１２時間以内で、収率良く目的物を得ることがで
きる。

上述の製造法で共通に用いられる原料である一般式（１
）で示される化合物は文献（Ｊ、Ｍｅｄ。

Ｃｈ　ｅｍ−ｅ　２６　＃　９７　（１９８８）　）に
記載の方法で合成する仁とができる。

次に製造例を示す。

製造例１　〔製法（ａ）による。〕 ８．５−ジクロロ−４−メトキシメチルアニリン（２，
０６Ｎ）、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン１．４９Ｆおよび
トルエン１５耐の混合溶液中に、水冷下クロロギ酸イソ
プロピル１．２４ノを５分間かけて滴下した。反応液を
室温で１２時間放置したのち、氷水に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を
、トルエンおよび酢酸エチルを用いたシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、イソプロピルＮ−（８，
５−ジクロロ−４−メトキシメチルフェニル）カーバメ
ート〔化合物番号（１）　）　２．６２ｇを得た。収率
８９．６％ ｎＤ　ｔ、５２８８ ＮＭＲδ（ＣＤＣ＆？ｓ）　：　７．８１　（Ｓ　、　
２Ｈ）、６．８８　（ｂｒｏａｄ、　ＩＨ）、４．９５
（ｍ、ＩＨ）、４．６０（ｓ、２Ｈ）、８．８８（Ｓ、
８）１）、１．２７（ｄ、６Ｈ） 製造例２　〔製法（ｂ）による。〕 ８．５−ジメチル−４−プロピオニルアニリン（１，７
７ｇ、）をトルエン２０　ｍｌに溶かし、ホスゲン１０
Ｆを含むトルエン溶液に１０〜２０℃で滴下した。徐々
に加熱し、８０分還流した後、室温にもどし減圧下に溶
媒を留去し、８，５−ジメチル−４−プロピオごルフェ
ニルイソシアネートを得た。精製することなく、これを
トリエチルアミン１．０１および１−ブチン−８−オー
ル０．７５９を含む５０ｍ１のトルエン溶液に室温で滴
下した。室温下１２時間放置した後、氷水にあけ、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をト
ルエンと酢酸エチルの混合溶媒によるシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、１−メチル−２−プロピ
ニルＮ−（８，５−ジメチル−４−プロピオニルフェニ
ル）カーバメート（化合物番号（２１））’２．４５９
を得た。収率８９．９％ ｎ　Ｄ　”　’　１．５２４７ 製造例８　〔製法（Ｃ）による。〕 イソプロピルＮ−（８，５−ジメチル−４−プロピオニ
ルフェニル）カーバメート （２，６８ｉおよびヨウ化メチル（４，８０１）のテト
ラヒドロフラン溶液（１０ｇ／）を、水酸化ナトリウム
（１，６８Ｆ）およびテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
プロミド（１，Ｏｇ）を含むテトラヒドロフラン溶液中
に滴下した。

室温下１２時間放置した後、氷水にあけ、トルエンで抽
出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をトルエンと酢
酸エチルの混合溶媒によるシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、イソプロピルＮ−メ−ｒ−ｎｙ−Ｎ
−（８，５−ジメチル−４−プロピオニル）カーバメー
ト〔化合物番号（１２））　２．６　Ｏｆを得た。収率
９３．８％ ｎ　ｏ”　ｌ−５１２０ このようにして得られた本発明化合灼を第２表に示す。

このようにして得られた本発明化合物を実際に施用する
際には他成分を加えずそのまま施用でき、また、殺菌剤
として使いやすくするため担体と混合して施用すること
ができ、通常施用される形態たとえば粉剤、水和剤、油
剤、乳剤、錠剤、粒剤、微粒剤、エアゾール、フロアブ
ルなどに製剤して施用する。

次に製剤例を示す。

製剤例１　粉　剤 本発明化合物（１）２部、クレー８８部およびタルク１
０部をよく粉砕混合して主剤含有量２％の粉剤を得る。

製剤例２　水和剤 本発明化合物（６）８０部、珪藻土４５部、ホワイトカ
ーボン２０部、湿潤剤（ラクリル硫酸ソーダ）８部およ
び分散剤（リグニンスルホン酸カルシウム）２部をよく
粉砕混合して主剤含有量８０％の水和剤を得る。

製剤例８　水和剤 本発明化合物（１８）　５０部、珪藻土４６部、湿潤剤
（アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム）２．５部お
よび粉散剤（リグニンスルホン酸カルシウム）２．５部
をよく粉砕混合して主剤含有量５０％の水和剤を得る。

製剤例４　乳　剤 本発明化合物（１４）　１０部、シクロヘキサノン８０
部および乳化剤（ポリオキシエチレンアルキルアリルエ
ーテル）　１　（１＆混合すで主剤含有量１０％の乳剤
を得る。

上記製剤中には一般に活性化合物を重量にして１．０〜
９５．０％、好ましくは２．０〜８０．０％を含み、そ
の施用量は通常ｌＯアールあたり１０〜１００ｇである
。さらにその施用濃度は０．００５〜０．５％の範囲が
望ましいが、これらの施用量、濃度は剤型、施用時間、
方法、場所、対象病害、対象作物等によっても異なるた
め前記範囲に拘わる仁となく増減することは何ら差し支
えない。

さらに他の殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤および殺虫
剤と混合して使用することもできる。

次に試験例をあげ、本発明化合物の農園芸用殺菌剤とし
ての有用性をさらに明らかにする。

なお、対照化合物は第８表の一般名で表示する。

第　８　表 注（１）市販除草剤　注＜２）　市販殺菌剤試験例１　
キュウリうどんこ病防除効果９０ゴ容のプラスチック製
ポットに砂壌土をつめ、キュウリ（品種：相撲半白）を
播種した。これを室温で８日間栽培し、子葉が展開した
キュウリ幼苗を得た。この幼苗に製剤例４に準じて調製
した下記本発明化合物の乳剤および対照化合物の水和剤
の水希釈液を液滴が葉面に十分量付着するまで茎葉散布
した。

薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のキュウリう
どんこ病菌（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉ−ｇ
ｉｎｅａ）の分生胞子懸濁液を噴ｉ接種した。

これを温室で１０日間栽培し発病させた後、発病状態を
観察した。

発病度は下記の方法によって算出した。

すなわち、調査葉の病斑出現に応じて、０゜０．５，１
．２．４の指数に分類し、次式によって発病度を算出し
た。

（発病指数）　（発病状態　） ０・・・・・・・葉面上に菌叢または病斑を認めない。

０．５・・・・・・・・・葉面上に葉面積の５％未満に
菌叢または病斑を認める。

１・・・・・・・・・葉面上に葉面積の２０％未満に菌
叢または病斑を認める。

２・・・・・・・・−葉面上に葉面積の５０％未満に菌
叢または病斑を認める。

４・・・・・・・・・葉面上に葉面積の５０％以上に菌
叢または病斑を認める。

・つづいて防除価を次式よりめた。

その結果、第４表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、薬剤感受性菌を接
種した場合防除効果を示さなかった。一方、市販殺菌剤
のベノミル、チオノ１ネートメチル、カルペンダジムの
いずれも、薬剤耐性菌を接種した場合防除効果を示さず
、薬剤感受性菌を接種した場合優れた防除効果を示した
。

化学構造類似の市販除草剤はいずれの菌を接種した場合
もほとんど防除効果を示さなかった。

第　４　表 試験例２　テンサイ褐斑病防除効果 ９０１１／容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、
テンサイ（品種：デトロイトダークレッド）を播種した
。温室で２０日間栽培したのち得られた幼苗に、製剤例
４に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および対照
化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着する
まで茎葉散布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感
受性のテンサイ褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｂｅ
ｔｉｃｏｌａ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。これ
にビニールカバーをかぶせて多湿条件とし、温室で１０
日間栽培したのち、発病状態を観察した。発病調査方法
および防除価の算出は試験例１と同様に行った。

その結果第５表のように試験例１の結果と同様に、本発
明化合物は薬剤耐性菌を接種した場合に優れた防除効果
を示し、逆に市販殺菌剤のベノミルおよびチオファネー
トメチル、カルペンダジムは薬剤感受性菌を接種した場
合に優れた防除効果を示した。化学構造類似の市販除草
剤はいずれの菌を接種した場合もほとんど防除効果を示
さなかった。

第　５　表 試験例８　ナシ黒星病防除効果 ９０肩／容プラスチツク製ポツトにピートモこれを温室
で２０日間栽培し得られた幼苗に製剤例４に準じて調製
した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の水
和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着するまで茎葉散
布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感受性ノナシ
黒星病菌（Ｖｅｎｔｕｒｉａ　ｎａｓｈｉｃｏｌａ）の
分生胞子懸濁液を噴霧接拙した。これを２０℃多湿条件
下に８日間置き、つづいて２０℃蛍光灯照明下に２０日
間栽培して発病させた。発病調査方法および防除価の算
出は試験例１と同様にした。

その結果、第６表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

第　６　表 試験例４　ピーテ、ッツ褐斑病防除効果１００　ｘｌ容
のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、ビーナツツ（
品種二千葉半立性）を播種した。温室で１４日間栽培し
たのち得られた幼苗に、製剤例４に準じて調製した下記
本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の水和剤の水
希釈液をポットあたり１０　ｙｘｌ茎葉散布した。薬液
風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のビーナツツ褐斑
病菌（Ｃｅｒ（ｏｓ−ｐｏｒａ　ａｒａｃｈｉｄｉｃｏ
ｌａ）の胞子懸濁液を噴霧接種した。これ昏ζビニール
カバーをかぶすて多湿条件とし、温室で１０日間栽培し
た後、発病状態を観察した。発病調査方法および防除価
の算出は試験例１と同様に行った。

その結果、第７表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

試験例５　キュウリ灰色カビ病防除効果９０５ｇ／容の
プラスチック製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ（品種
：相撲半白）を播種した。これを温室で８日間栽培し、
子葉が展開したキュウリを得た。この幼苗に製剤例４に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照
化合物の水和剤の水希釈液をポットあたｔ）ＬＣ）ｘｌ
、茎葉散布した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感
受性のキュウリ灰色カビ病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉ
ｎｅｒｅａ）の菌叢初版（直径５ｊｌｌｊｆ）を葉面上
にはり付けて接種した。ξれを２０℃多湿条件下に８日
間型いて発病させた後、発病状態を観察した。発病調査
方法および防除価の算出は試験例１と同様に行った。

その結果、第８表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネート４チルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

第　８　表 試験例６　キュウリつる枯病防除効果 ９０ｍ１容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、キ
ュウリ（品種：相撲半白）を播種した。これを温室で８
日間栽培し、子葉が展間したキュウリを得た。この幼苗
に製剤例４に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤お
よび下記対照化合物の水和剤の水希釈液をポットあたｔ
ｌｌｏｍｌ、茎葉散布した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐
性または感受性のキュウリ′りる枯病間（Ｍｙｃｏｓｐ
ｈａｅｒｅｌｌａ　ｍｅｌｏｎｉｓ）の菌叢初版（直径
５闘）を葉面上にはり付けて接種した。これを２０℃多
湿条件下に８日間型いて発病させた後、発病状態を観察
した。

発病調査方法および防除価の算出は試験例１と同様に行
った。

その結果、第９表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

第　９　表 試験例７　ミカン青かび病防除効果 ミカン果実（品ｇＸ：温州）をよく水洗し、風乾した後
、製剤例４に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤お
よび下記対照市販薬剤を水で希釈し所定濃度とした薬液
に１分間浸漬した。風乾後、薬剤耐性または感受性のミ
カン青カビ病菌（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｉｔａｌｉ
ｃｕｍ）分生胞子を水に懸濁し、果実表面に噴霧接種し
た。

接種後１４日間湿温室おいたのち、発病程度を下記のよ
うにＯ，，１，２，，８，４，５の発病指数を用いて調
査した。

（発病状態）　（発病指数ゝ 病斑が認められない　０ 果実表面積の２０％未満に病斑が認められる　１〃　２
０〜４０％未満に病斑が認められる　２〃　４０〜６０
％　〃　８ ／／　６０〜８０％　４ 〃　８０％以上に病斑が認められる　５発病度および防
除価の算出は試験例１と同様１こ行った。

その結果、第１θ表のように本発明化合物は薬剤耐性菌
を接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤
のベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌
を接種した場合優れｒこ防除効果を示した。

第１０表 試験例８　作物に対する薬害試験 １５０　ｍｌ容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ
、コムギ（品種：農林６１号）、リンゴ（品種：紅玉）
、ビーナツツ（品種：千葉半立性）のそれぞれを播種し
、温室で栽培した。得られた幼苗に製剤例４に準じて調
製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の
水和剤の水希釈液を茎葉散布した。

散布後再び温室に置き、１０日間栽培後、薬害発生の有
無を以下の基準により調査した。

薬害程度の基準 （程度）　（症　状） 一異常なし。

十　作物の一部に薬害による異常が認められる。

廿作物の全体に薬害による異常が認められる。

＋薬害によって枯死となる。

その結果、第１１表から明らかなように、本発明化合物
には作物に対する害作用は認められず、対照に用いた化
学構造類似の市販除草剤に薬害作用が認められた。

第　１１　表 Ｃ０７Ｃ１４３／７２　６６６７−４Ｈ１４７１００６
６６７−４Ｈ １４９１００６６６７−４Ｈ １５３１０５７１４４−４Ｈ ０）発　明　者　加藤寿部 宝塚市高司４丁目２番１号住友 化学工業株式会社内 ・塑合　明　者　野口裕志 宝塚市高司４丁目２番１号住友 化学工業株式会社内 ０発　明　者　小栗幸男 宝塚市高司４丁目２番１号住友 化学工業株式会社内 ０発　明　者　山本茂男 宝塚市高司４丁目２番１号住友 化学工業株式会社内 ０発　明　者　鴨下克三 宝塚市高司４丁目２番１号住友 化学工業株式会社内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　一般式〔１〕 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アｆレキル
   基、低級アルコキシル基またはニトロ基を表わす。 Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−０Ｒ
   １，−ＣＨ，ＯＲ１，−ＣＯＯＲ，。 される基を表わす（ここで、Ｒ１は低級アルキル基を表
   わす。）。 Ｒはヨウ素原子または一般式−Ｒ′。 −５−Ｒ’　、　−５０，−Ａ’−Ｒ’あるいは↓ （ここで、Ｒ′およびＲ′は同一または相′異なり、低
   級シクロアルキｌν基、低級アルキ−ν基、低級アルデ
   ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアラレキル基、低
   級ア？レコキシアルキル基、シアノ基、低級シアノアル
   キル基または水素原子を表わし、Ａ′および、Ａ“は同
   一または相異なり、酸素原子または硫黄原子を表わし、
   ｎはＯｏｌ　または２を表わす。）ただし、Ｒが水素原
   子である場合を除く。 Ｚは水素原子、水酸基、低級アルキニル基、低級アルテ
   ニル基、低級アルギニｔし基、低級アルコキシカルボニ
   ？レアルキル基または一般式−Ｃ−Ｒ２あるいは−８−
   Ｒｓ　で示され１ る基を表わす（ここで、Ｒ２は低級アルキｌし基、低級
   シクロアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ３は低
   級アルキＩし基、低級アルコキシカｔレボニＩし基また
   はフェニル基を表わす。）。 Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Ｂは低級アルキル基、低級アルキニル基、低級シクロア
   ルキル基、フェニル基または一般式−ＷＲ４で示される
   置換基を表わす。 （ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原子を表わし、Ｒ４
   は低級シクロアルキル基、低級アルキル基、低級アルケ
   ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニル基、低
   級ハロアルキニル基または低級シクロアルキルアルキル
   基を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基、低級ア
   ルコキシル基、フェニル基、低級アルテニルオキシ基、
   低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基、低級アラルキル
   オキシ基のうち少なくとも１つの基あるいは原子で置換
   された低級アルキル基を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体。 （２）上記一般式ＣＩ）において、置換基Ｂが一般式−
   Ｗ−Ｒ４（ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原子を表わ
   し、Ｒ４は低級シクロアルキル基、低級アルキル基、低
   級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニ
   ル基、低級ハロアルキニル基または低級シクロアルキル
   アルキル基を示すか、またはハロゲン原子、シアノ基、
   低級アルコキシル基、フェニル基、低級アルキニルオキ
   シ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基、低級アラ
   ルキルオキシ基のうち少なくとも１つの基あるいは原子
   で置換された低級アルキル基を示す。）で示される置換
   基である特許請求の範囲第１項に記載のアニリン誘導体
   。 （８）一般式 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
   、低級アルコキシル基またばニトロ基を表わす。 Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−０Ｒ
   １，−ＣＨ２０Ｒ１，−ＣＯＯＲ１゜される基を表わす
   （ここで、Ｒ１は低級アルキル基を表わす。）。 Ｒはヨウ素原子または一般式−Ｒ′。 −Ｎ＝ＣＨ−Ｒ’　、−ＮＨ−Ｒ’　、−ＮＨ−Ｃ−Ｒ
   ’　。 １ Ａ′ で示される基を表わす（ここで、Ｒ′および。 Ｒ“は同一または相異なり、低級シクロアルキル基、低
   級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、シア
   ノ基、低級シアノアルキル基または水素原子を表わし、
   Ａ′およびＡ“は同一または相異なり、酸素原子または
   硫黄原子を表わし、ｎは０゜１または２を表わす。）。 ただし、Ｒが水素原子である場合を除く。 Ｚは水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシカルボニルア
   ルキル基または一般式−Ｃ−Ｒ，あるいは−５−Ｒ，で
   示される１ 基を表わす（ここで、Ｒ２は低級アルキル基、低級シク
   ロアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ３は低級ア
   ルキル基、低級アルコキシカルボニル基またはフェニル
   基を表わす。）。 で示される化合物と、一般式 ％式％ 〔式中、Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。Ｂは低
   級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル
   基、フェニル基または一般式−ＷＲ，で示される置換基
   を表わす（ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原子を表わ
   し、Ｒ４は低級シクロアルキル基、低級アルキル基、低
   級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニ
   ル基、低級ハロアルキニル基または低級シクロアルキル
   アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基
   、低級アルコキシル基、フェニル基、低級アルキニルオ
   キシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基、低級ア
   ラルキルオキシ基のうち少なくとも１つの基あるいは原
   子で置換された低級アルキル基を表わす。Ｒ６はハロゲ
   ン原子を表わす。〕で示される化合物あるいは一般式 〔式中、Ａは酸素原子または硫黄原子を表わし、Ｂ′は
   低級アルキル基、低級アルテニル基、低級シクロアルキ
   ル基またはフェニル基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
   式 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ，ＡおよびＢ（、を前記と同じ
   意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 （４）　一般式 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
   、低級アルコキシル基またはニトロ基を表わす。 Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−ＯＲ
   １、−ＣＨ２０Ｒ，、−ＣＯＯＲ，、される基を表わす
   （ここで、Ｒ１は低級アルキル基を表わす。）。 Ｒはヨウ素原子、または一般式−Ｒ／。 −５−Ｒ’、−３ｏ□−Ａ’−Ｒ’あるいは↓ なり、低級シクロアルキル基、低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニルｉ、低級ハロアルキル基、
   低級ア／Ｌ／　コ−１−ジアルキル基、シアノ基、低級
   シアノアルキル基または水素原子を表わし、Ａ′および
   Ａ“は同一または相異なり、酸素原子、または硫黄原子
   を表わし、ｎは０．ｌまたは２を表わす。）。ただし、
   Ｒが水素原子である場合を除く。 Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕で示される化
   合物と、一般式 Ｈ−Ｗ−Ｒ４ 〔式中、Ｗは酸素原子または硫黄原子を表わし、Ｒ４は
   低級シクロアルキル基、低級アルキル基、低級アルテニ
   ル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニル基、低級
   ハロアルキニル基または低級シクロアルキルアルキル基
   を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基、低級アル
   コキシル基１フェニル基、低級アルゲニルオキシ基、低
   級ハロアルコキシ基、フェノキシ基、低級アラルキルオ
   キシ基のうち少なくとも１つの基あるいは原子で置換さ
   れた低級アルキル基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
   式 〔式中、Ｘｅ　Ｙ＊　Ｗ、Ｒ，ＡおよびＲ４は前記と同
   じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 （５）一般式 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
   、低級アルコキシル基またはニトロ基を表わす。 Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−ＯＲ
   １，−Ｃｆ（、ＯＲ，、−ＣＯＯＲ１゜される基を表わ
   す（ここで、Ｒ１は低級アルキル基を表わす。） Ｒはヨウ素原子または一般式％式％。 −Ｎ＝ＣＨ−Ｒ’　、−ＮＨ−Ｒ’　、　−ＮＨ−Ｃ−
   Ｒ’　。 １ に′ こで　Ｒ／およびＲ／／は同一または相異なり、低級シ
   クロアルキル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
   シアルキル基、シアノ基、低級シアノアルキル基よたは
   水素原子を表わし、Ａ′およびＡ“は同一または相異な
   り、酸素原子または硫黄原子を表わし、ｎは０．１また
   は２を表わす。）。 ただし、Ｒが水素原子である場合を除く。 Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Ｂは低級アルキル基、低級アルテニル基、低級シクロア
   ルキル基、フェニル基または一般式−ＷＲ４で示される
   置換基を表わす（ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原子
   を表わし、Ｒ４は低級シクロアルキル基、低級アルキル
   基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロア
   ルゲニル基、低級ハロアルキニル基または低級シクロア
   ルキルアルキル基を表わすか、またはハロゲン原子、シ
   アノ基、低級アルコキシル基、フェニル基、低級アルゲ
   ニルオキシ基、低級）１０アルコキシ基、フェノキシ基
   、低級アラルキルオキシ基のうち少なくとも１つの基あ
   るいは原子で置換された低級アルキル基を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体と一般式 ％式％ 〔式中、Ｚ′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基、低級アルコキシカルボニルアルキル基
   または一般式 Ｕ 表わす（ここで、Ｒ７は低級アルキル基、低級シクロア
   ルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒｓは低級アルキ
   ル基、低級アルコキシカルボニル基またはフェニル基を
   表わす。）。 Ｒ６はハロゲン原子、メシルオキシ基またはトシルオキ
   シ基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
   式 〔式中、Ｘ、　Ｙ、　Ｚ’　、　Ｒ，Ａ　オヨヒＢハ前
   記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 （６）一般式 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
   、低級アルコキシル基またはニトロ基を表わす。 Ｙはハロゲン原子、低級アルキル基または一般式−ＯＲ
   １，−ＣＨ，ＯＲ１，−ＣＯＯＲ１゜される基を表わす
   。（ここで、Ｒ１は低級アルキル基を表わす。）。 Ｒはヨウ素原子または一般式−Ｒ／。 −Ｎ＝Ｃｆｌ−Ｒ’　、　−ＮＨ−Ｒ’　、　−Ｎｆ（
   −Ｃ−Ｒ’　。 １ −〃 （０）ｎ で示される基を表わす（ここで、Ｒ′　およびＲ“は同
   一または相異なり、低級シクロアルキル基、低級アルキ
   ル基、低級アルケニ／１４、低級アルキニル基、低級ハ
   ロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、シアノ基、
   低級シアノ、アルキル基または水素原子ｎは０．ｌまた
   は２を表わす。）。ただし、Ｒが水素原子である場合を
   除く。 Ｚは水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシカルボニルア
   ルキル基または一般式−Ｃ−Ｒ，あるいは−５−Ｒ３で
   示され１ る基を表わす（ここで、Ｒ２は低級アルキル基、低級シ
   クロアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒｓは低級
   アルキル基、低級アルコキシカルボニル基またはフェニ
   ル基を表わす。）。 Ａは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Ｂは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロア
   ルキル基、フェニル基または一般式−ＷＲ４で示される
   置換基を表わす（ここで、Ｗは酸素原子または硫黄原子
   を表わし、Ｒ４は低級シクロアルキル基、低級アルキル
   基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロア
   ルケニル基、低級ハロアルキニル基または低級シクロア
   ルキルアルキル基を表わすか、またはハロゲン原子、シ
   アノ基、低級アルコキシル基、フェニル基、低級アルケ
   ニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基、
   低級７ラルキルオキシ基のうち少なくとも１つの基ある
   いは原子で置換された低級アルキル基を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体を有効成分として含有するこ
   とを特徴とする農園芸用殺菌剤。