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JPS5989316A - Solder resist ink composition curable by ultraviolet rays - Google Patents

Solder resist ink composition curable by ultraviolet rays

Info

Publication number
JPS5989316A
JPS5989316A JP57197640A JP19764082A JPS5989316A JP S5989316 A JPS5989316 A JP S5989316A JP 57197640 A JP57197640 A JP 57197640A JP 19764082 A JP19764082 A JP 19764082A JP S5989316 A JPS5989316 A JP S5989316A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
parts
resist ink
resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57197640A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0414151B2 (en
Inventor
Kunio Nishihara
邦夫 西原
Takefumi Shibuya
渋谷 武文
Shigeo Makino
繁男 牧野
Sumio Hirose
純夫 広瀬
Kazuyoshi Ono
小野 一良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP57197640A priority Critical patent/JPS5989316A/en
Publication of JPS5989316A publication Critical patent/JPS5989316A/en
Publication of JPH0414151B2 publication Critical patent/JPH0414151B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:The titled composition having improved curing properties of thick film, soldering resistance, heat resistance, water-vapor resistance, solvent resistance, and electrical insulating properites, containing an aromatic compound having plural (meth)acryloyl, a (meth)acryloyl aromatic derivative and a photosensitizer. CONSTITUTION:(A) 20-80wt% unsaturated compound having two or more (meth)acryloyl groups obtained by reacting an epoxy compound of a polyhydric phenol or polyether compound with (meth)acrylic acid is blended with (B) 5- 70wt% monomer (e.g., p-butyl-phenoxyethyl acrylate, etc.) shown by the formula I [X is H, 1-12C alkyl, or group shown by the formula II (R is H, or CH3); Y is group shown by the formula III, or formula IV (n is integer of 0-10); Z is H, or CH3] and (C) 0.5-15wt% photosensitizer (e.g., benzyl dimethylketal, etc.) as main components, to give the desired composition. If, necessary, the composition is blended with another monomer and an additive.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリント配線基板の永久保護膜として使用され
る紫外線により硬化し、厚膜硬化性、耐メッキ性、耐熱
性、耐湿性、耐溶剤性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れ
たソルダーレジストインク組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is a permanent protective film for printed circuit boards that is cured by ultraviolet rays and has excellent thick film curing properties, plating resistance, heat resistance, moisture resistance, solvent resistance, chemical resistance, and electrical resistance. The present invention relates to a solder resist ink composition with excellent insulation properties.

近年、省資源、省エネルギー、作業性向上、生産性向上
などの理由により紫外線硬化型組成物が多用されて来て
いる。プリント基板加工分野においても同様の理由より
パターン形成用インク、ソルダーレジストインク、マー
キングインクなど種々のインクが従来の熱硬化型組成物
から紫外線硬化型組成物へと移行して来ている。中でも
ソルダーレジストインクは、従来の熱硬化型組成物の場
合、長時間の加熱が要求され、その為に作業性、基材の
変形など多くの問題点があり、いち早く紫外線硬化組成
物へと移行した。しかしながら、現在この紫外線硬化組
成物の適用されている用途としては、ラジオ、テレビ等
に使用されている民生用基板と称せられる分野に限られ
、コンピュータター、制御機器等の産業用基板と称せら
れる分野への適用は未だ行われていない。これは産業用
基板に使用すれるソルダーレジストインクには、民生基
板用ソルダーレジストインクに要求されていない厚膜硬
化性、耐メッキ性、高電気絶縁性、加湿下における。ハ
ンダ耐熱性など高い性能が要求されており、現在の民生
基板用ソルダーレジストインクでは要求性能レベルに達
していない為である。
In recent years, ultraviolet curable compositions have been widely used for reasons such as resource saving, energy saving, improved workability, and improved productivity. For similar reasons, in the field of printed circuit board processing, various inks such as pattern forming inks, solder resist inks, and marking inks are shifting from conventional thermosetting compositions to ultraviolet curable compositions. Among these, conventional thermosetting compositions for solder resist inks require long heating times, which poses many problems such as workability and deformation of the base material, so we quickly transitioned to UV-curable compositions. did. However, the current applications of this ultraviolet curable composition are limited to so-called consumer substrates used in radios, televisions, etc., and industrial substrates such as computers and control equipment. It has not yet been applied to the field. This is because solder resist inks used for industrial boards have thick film hardening properties, plating resistance, high electrical insulation properties, and under humid conditions, which are not required of solder resist inks for consumer boards. This is because high performance such as soldering heat resistance is required, and current solder resist inks for consumer boards do not reach the required performance level.

すなわち、産業用基板と民生用基板とでは導体パターン
の厚さが異なり、民生用基板の場合導体パターンの厚さ
が35μであるのに比べ、産業用基板の場合、銅ハタ上
の銅またはハンダメッキ厚を含め100μ以上にもなる
。したがって印刷されたインクの膜厚は、民生用基板の
場合導体上で10〜20μ、導体のエツジ部分で40〜
50μとなり、産業用基板の場合導体で10〜20μ、
導体のエツジ部分でioo〜120μ近くなる。
In other words, the thickness of the conductor pattern is different between industrial and consumer boards, and while the thickness of the conductor pattern for consumer boards is 35μ, the thickness of the conductor pattern for industrial boards is 35 μm, whereas the thickness of the conductor pattern for industrial boards is 35μ. The thickness including the plating is over 100μ. Therefore, the film thickness of the printed ink is 10 to 20 μm on the conductor in the case of a consumer board, and 40 μm to 40 μm at the edge of the conductor.
50μ, and in the case of industrial boards, the conductor is 10 to 20μ,
At the edge portion of the conductor, it becomes approximately ioo~120μ.

このように航業基板用ソルダーンジストインクには、厚
膜に対する安定した硬化性が要求される。
As described above, the solder resist ink for aviation substrates is required to have stable curability for thick films.

しかしながら現状では、厚膜部分を充分硬化させようと
すず体上の薄膜部分が遅硬化となり、ノ・ンダ耐熱など
の熱ショックに対し密着不良やノ・ガレを生じやすくな
り、又、薄膜部分に対し適正な硬化条件にすると厚膜部
分の硬化不良により電気絶縁性、耐メッキ性、加湿下の
ノ・ンダ耐熱性などに問題を生じ、産業基板用ソルダー
レジストインクの要求性能を十分に満足させるものは未
だ開発されていない。本発明者等は、上記問題点を解決
すべく鋭意検討を続けた結果、厚膜硬化性、耐メッキ性
、耐熱性、耐湿性、耐溶剤性及び電気絶縁性に優れた紫
外線硬化ソルダーレジストインク組成物を見出し、本発
明を完成するに至った。
However, in the current situation, in order to fully cure the thick film part, the thin film part on the tin body hardens slowly, making it easy to cause poor adhesion and cracking due to thermal shock such as heat shock, and also to cure the thin film part. On the other hand, if proper curing conditions are used, poor curing of the thick film portions will cause problems with electrical insulation, plating resistance, heat resistance under humidification, etc., which does not fully satisfy the required performance of solder resist ink for industrial boards. Things have not been developed yet. As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have discovered an ultraviolet curing solder resist ink that has excellent thick film curing properties, plating resistance, heat resistance, moisture resistance, solvent resistance, and electrical insulation properties. They discovered a composition and completed the present invention.

すなわち、本発明の紫外線硬化ソルダーレジストインク
組成物は、 (為多価フェノールのエポキシ化合物または多価フェノ
ールのポリエーテル化物と(メタ)アクリル酸とを反応
させて得られる(メタ)アクリロイル基を2個以上有す
る不飽和化合物と(B)一般式(I) または+0H260→71.(nはOないし10の整数
を示す)を、Zは水素原子またはメチル基をそれぞれ表
わす〕で示されるモノマーおよび(0)光増感剤とを主
成分として含有することを特徴とする紫外線硬化ソルダ
ーレジストインク組成物である。
That is, the ultraviolet curable solder resist ink composition of the present invention has (meth)acryloyl groups obtained by reacting an epoxy compound of polyhydric phenol or a polyetherified product of polyhydric phenol with (meth)acrylic acid. (B) a monomer represented by the general formula (I) or +0H260→71. (n represents an integer of O to 10), Z represents a hydrogen atom or a methyl group, and ( 0) An ultraviolet curing solder resist ink composition characterized by containing a photosensitizer as a main component.

ここで(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリロイル基は
、アクリル酸および、メタクリル酸とアクリロイル基お
よびメタクリロイル基を含む事を意味する。
Here, (meth)acrylic acid and (meth)acryloyl group include acrylic acid, methacrylic acid, acryloyl group, and methacryloyl group.

本発明に使用される(A)不飽和化合物として(′!、
、例えばビスフェノ−AzA、ビスフェノールF、ノボ
ラック等の多価フェノールとエピクロルヒドリンを反応
させる事により得られるエポキシ化合物と(メタ)アク
リル酸を付加させる事により得られる不飽和化合物、ま
たは上記多価フェノールに例工ばエチレンオキサイド、
プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、ε−カプ
ロラクトンなどを付加させて得られる多価フェノールの
ポリエーテル化物と(メタ)アクリル酸をエステル化反
応さ叡て得られる不飽和化合物があげられる。こセ れら(A)不飽和化合物は、一種または二種以上任意の
割合で混合する事が出来る。(B)モノマーとしては、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジ
ェトキシエチル(メタ)アクリレートに代表されるフェ
ノキシポリエトキシエチル(メタ)アクリレート類、フ
ェノキシイソプロビル(メタ)アクリレート、フェノキ
シジイソプロポキシイソプロビル(メタ)アクリレート
に代表されるフエノキシポリイングロボキシイソプロビ
ル(メタ)アクリレート類、p−エチルフェノキシエチ
ル(メタ)アクリレート、p−ブチルフェノキシジェト
キシエチル(メタ)アクリレート、p −ノニルフェノ
キンジェトキシエチル(メタ)アクリレートに代表され
るアルキルフェノキシポリエトキシエチル(メタ)アク
リレート類、p−エチルフェノキシイソプロビル(メタ
)アクリレート、p−ブチルフェノキシジイソプロポキ
シイソプロビル(メタ)アクリレート、p−ノニルフエ
ノキシジイソグロポキシイソプロビル(メタ)アクリレ
ートに代表されるアルキルフェノキシポリイソプロポキ
シイソプロビル(メタ)アクリレート類、p−クミルフ
ェノキシエチル(メタ)アクリレート、p−クミルフェ
ノキシジェトキシエチル(メタ)アクリレートに代表さ
れるp−クミルフェノキシポリエトキシエチル(メタ)
アクリレート類、p−クミルフェノキシイソプロピル(
メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシジイソプロ
ポキシイソプロビル(メタ)アクリレートに代表される
p−クミルフェノキシポリイソプロポキシイソプロビル
(メタ)アクリレート類、p−ベンジルフェノキシエチ
ル(メタ)アクリレート、p−ベンジルフェノキシジェ
トキシエチル(メタ)アクリレートなどに代表されるp
−ベンジルフェノキシポリエトキシエチル(メタ)アク
リレート類、p−ベンジルフェノキシイソプロピル(メ
タ)アクリレート、p−ベンジルフェノキシジインプロ
ポキシイソプロピル(メタ)アクリレートに代表される
p−ベンジルフエノキシポリイソプロボキシイソプロビ
ル(メタ)アクリレート類などが例示出来るが、好まし
くはアルキルフェノキシポリエトキシエチル(メタ)ア
クリV−)類、アルキルフェノキシポリイソプロポキシ
イソプロビル(メタ)アクリレート類、p−クミルフェ
ノキシポリエトキシエチル(メタ)アクリレート類、p
 −クミルフェノキシポリイソプロポキシイソプロビル
(メタ)アクリレート類、p−ベンジルフェノキシポリ
エトキシエチル(メタ)アクリレート類、p−ベンジル
フェノキシイソプロポキシイソプロビル(メタ)アクリ
レート類がのぞましい。上記モノマー類におけるポリエ
トキシ基およびポリイソプロポキシ基中のエトキシ基お
よびイソプロポキシ基の繰返しの数は好ましくはθ〜1
0、更に好ましくは1〜5である。繰返しの数が10を
越えると組成物の耐水性、耐薬品性が著しく低下し好ま
しくない。これら(B)モイマーは1種または2種以上
任意の割合で混合する事が出来る。(0)光増感剤とし
ては公知のどのような光増感剤でも使用する事が出来る
が配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このよう
な光増感剤としては例えばベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテルナトのベンゾインアルキ
ルエーテル系光増感剤、2,2−ジェトキシアセトフェ
ノン、4′−フェノキシ−2,2−ジクロルアセトフェ
ノンなどのアセトフェノン系光増感剤、2−ヒドロキシ
−2−メチルプロピオフェノン、4′−イソプロピル−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノンなどのプ
ロピオフェノン系光増感剤、2−エチルアントラキノン
、2−t−ブチルアントラキノン、2−クロルアントラ
キノンなどのアントラキノン系光増感剤、2−クロルチ
オキナ吟ン、2,4−ジイソプロピルチオキーr’t−
ン、2,4−ジメチルチオキナ4ンなどのチオキサント
ン系光増感剤、ベンジルジメチル□ケタールなどのベン
ジルケタール系光増感剤などがあげられる。これら光増
感剤は一種または=種以上を任意の割合で混合して使用
する事が出来る。
As the unsaturated compound (A) used in the present invention ('!,
, for example, an unsaturated compound obtained by adding (meth)acrylic acid to an epoxy compound obtained by reacting a polyhydric phenol such as bispheno-AzA, bisphenol F, or novolac with epichlorohydrin, or an unsaturated compound obtained by adding (meth)acrylic acid to the above polyhydric phenol. Ethylene oxide,
Examples include unsaturated compounds obtained by subjecting (meth)acrylic acid to an esterification reaction with a polyetherified polyhydric phenol obtained by adding propylene oxide, butylene oxide, ε-caprolactone, or the like. These unsaturated compounds (A) can be used alone or in combination of two or more in any proportion. (B) As the monomer,
Phenoxypolyethoxyethyl (meth)acrylates represented by phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxyjethoxyethyl (meth)acrylate, phenoxyisoprobyl (meth)acrylate, phenoxydiisopropoxyisopropyl (meth)acrylate p-ethylphenoxyethyl (meth)acrylate, p-butylphenoxyjethoxyethyl (meth)acrylate, p-nonylphenoquine jetoxyethyl (meth)acrylate, Representative alkylphenoxypolyethoxyethyl (meth)acrylates, p-ethylphenoxyisoprobyl (meth)acrylate, p-butylphenoxydiisopropoxyisopropyl (meth)acrylate, p-nonylphenoxydiisopropoxyisopropyl Alkylphenoxypolyisopropoxyisopropyl (meth)acrylates represented by (meth)acrylate, p-cumylphenoxyethyl (meth)acrylate, and p-cumylphenoxyethoxyethyl (meth)acrylate represented by p-cumylphenoxyethoxyethyl (meth)acrylate. Cumylphenoxypolyethoxyethyl (meth)
Acrylates, p-cumylphenoxyisopropyl (
meth)acrylate, p-cumylphenoxypolyisopropoxyisopropyl (meth)acrylates represented by p-cumylphenoxydiisopropoxyisopropyl (meth)acrylate, p-benzylphenoxyethyl (meth)acrylate, p- p typified by benzylphenoxyjethoxyethyl (meth)acrylate, etc.
- p-Benzylphenoxypolyisoproboxyisopropyl (as represented by benzylphenoxypolyethoxyethyl (meth)acrylates, p-benzylphenoxyisopropyl (meth)acrylate, p-benzylphenoxydiynepropoxyisopropyl (meth)acrylate) Examples include meth)acrylates, but preferably alkylphenoxypolyethoxyethyl (meth)acrylic V-), alkylphenoxypolyisopropoxyisopropyl (meth)acrylates, p-cumylphenoxypolyethoxyethyl (meth) acrylates, p
-cumylphenoxypolyisopropoxyisopropyl (meth)acrylates, p-benzylphenoxypolyethoxyethyl (meth)acrylates, and p-benzylphenoxyisopropoxyisopropyl (meth)acrylates are preferred. The number of repeats of the ethoxy group and isopropoxy group in the polyethoxy group and polyisopropoxy group in the above monomers is preferably θ to 1
0, more preferably 1-5. If the number of repetitions exceeds 10, the water resistance and chemical resistance of the composition will drop significantly, which is not preferable. These (B) moimers can be used alone or in combination of two or more in any proportion. (0) As the photosensitizer, any known photosensitizer can be used, but it is desirable that it has good storage stability after being blended. Examples of such photosensitizers include benzoin ethyl ether,
Benzoin alkyl ether photosensitizers such as benzoin isobutyl ether nato, acetophenone photosensitizers such as 2,2-jetoxyacetophenone, 4'-phenoxy-2,2-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl Propiophenone, 4'-isopropyl-
Propiophenone photosensitizers such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, anthraquinone photosensitizers such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, and 2-chloroanthraquinone, 2-chlorothioquina 2,4-diisopropylthiokey r't-
Examples include thioxanthone photosensitizers such as 2,4-dimethylthioquinone, and benzyl ketal photosensitizers such as benzyl dimethyl ketal. These photosensitizers can be used singly or in combination in any proportion.

本発明組成物に使用される(→成分の量は、組成物の好
ましくは20〜80重量%、特に好ましくは35〜75
5〜75重量%い。(4)成分の量が20重量%以下で
は、硬化性、硬度、耐薬品性が低下し、80重量%以上
では、印刷性、ハンダ浸漬時の耐熱密着性が低下する。
The amount of (→ component) used in the composition of the invention is preferably 20 to 80% by weight of the composition, particularly preferably 35 to 75% by weight of the composition.
5-75% by weight. If the amount of the (4) component is less than 20% by weight, curability, hardness, and chemical resistance will be reduced, and if it is more than 80% by weight, printability and heat-resistant adhesion during solder immersion will be reduced.

(B)成分の量は前記組成物の好ましくは5〜70重量
%、特に好ましくは10〜500〜50重量%しい台)
成分輿の量が5重量係以下であると、膜厚に対する硬化
の安定性が得られず加湿下のハンダ浸漬時の耐熱性の低
下など本発明の効果が得られない。70重量%以上では
、硬化性、耐水性、耐薬品性の低下を生ずる。(0)成
分の量は前記組成物の好ましくは0.5〜15重量%、
特に好ましくは1〜8重量%である。(0)成分が05
重量%以下では紫外線による硬化性が著しく低下し、1
5重量%以上では性能的に顕著な向上は見られず価格的
な面より実用的ではない。
The amount of component (B) is preferably 5 to 70% by weight, particularly preferably 10 to 500 to 50% by weight of the composition.
If the amount of the component is less than 5% by weight, curing stability with respect to film thickness cannot be obtained, and the effects of the present invention such as a decrease in heat resistance during solder immersion under humidified conditions cannot be obtained. If it exceeds 70% by weight, curability, water resistance, and chemical resistance decrease. (0) The amount of component is preferably 0.5 to 15% by weight of the composition,
Particularly preferably 1 to 8% by weight. (0) component is 05
If it is less than 1% by weight, the curing property by ultraviolet rays will be significantly reduced
If the amount exceeds 5% by weight, no significant improvement in performance is observed, making it impractical from a cost standpoint.

本発明組成物には、(1,)成分の不飽和化合物および
(B)成分のモノマー以外の不飽和化合物をさらに加え
ることができる。このような不飽和化合物としては、例
えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(
メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)
アクリレート、シンクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレ
ート、(メタ)アクリロキシエチルフォスフェート、セ
ロソルブ(メタ)アクリレート、プチルセロンルプ(メ
タ)アクリレート、カルピトール(メタ)アクリレート
、ブチルカルピトール(メタ)アクリレート、ヘンシル
(メタ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテルの
(メタ)アクリル酸付加物などの単官能不飽和化合物、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンシオールジ(
メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ
)アクリレート、ビス〔(メタ)アクリロキシエチルシ
フオスフェートなどの2官能不飽和化合物、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒド
ロキシエチル)インシアヌル酸(メタ)アクリレート、
グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリオキシエチル(メタ)アクリレートなどの多
官能不飽和化合物などがあげられるが、本発明の組成物
のうち50重重量板上を用いると、硬化性、耐薬品性、
耐熱性などのバランスがくずれるため好ましくない。
The composition of the present invention may further contain unsaturated compounds other than the unsaturated compound as component (1,) and the monomer as component (B). Examples of such unsaturated compounds include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-
Hydroxypropyl (meth)acrylate, benzyl (
meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)
Acrylate, synclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, (meth)acryloxyethyl phosphate, cellosolve (meth)acrylate, butyl selonulp (meth)acrylate, calpitol (meth)acrylate, butyl carpitol ( Monofunctional unsaturated compounds such as meth)acrylate, Hensyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid adduct of phenyl glycidyl ether,
Ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate ) acrylate, 1,6-hexanethiol di(
difunctional unsaturated compounds such as meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, bis[(meth)acryloxyethyl cyphosphate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ) acrylate, tris(2-hydroxyethyl)incyanuric acid (meth)acrylate,
Examples include polyfunctional unsaturated compounds such as glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and trimethylolpropane trioxyethyl(meth)acrylate. Among the compositions, when used on a 50-weight plate, curability, chemical resistance,
This is not preferable because the balance of heat resistance etc. will be lost.

本発明組成物は、スクリーン印刷法またはオフセット印
刷法により印刷されるが、その場合の印刷性を向上させ
るため、例えばタルク、炭酸カルシウム、アルミナ、硫
酸バリウム、マイカなどの体質顔料、およびレベリング
剤、着色顔料、揺変剤、増粘剤、キレート剤などを本発
明組成物に加えてもかまわない。
The composition of the present invention is printed by a screen printing method or an offset printing method, and in order to improve printability in that case, extender pigments such as talc, calcium carbonate, alumina, barium sulfate, and mica, and leveling agents, Colored pigments, thixotropic agents, thickeners, chelating agents, etc. may be added to the composition of the present invention.

本発明のインク組成物を実用に際しては、導体パターン
をエツチングまたはメッキにより形成した積層板表面に
スクリーン印刷またはオフセット印刷などの方法により
所望の部分の印刷をした後、紫外線を照射し永久保護膜
を形成する。
When the ink composition of the present invention is put into practical use, a desired portion is printed on the surface of a laminate with a conductive pattern formed by etching or plating by a method such as screen printing or offset printing, and then ultraviolet rays are irradiated to form a permanent protective film. Form.

紫外線の照射は通常50〜2.00 W 7cmの高圧
水銀灯又はメタルハライドランプを用い、20秒以内の
短時間の照射により硬化を完了することが出来る。
For irradiation with ultraviolet rays, a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp of 50 to 2.00 W 7 cm is usually used, and curing can be completed within a short time of 20 seconds.

実施例1 ビスフェノールA型エポキシとしてエピコート828(
シェル社製)184.!iI、アクリル酸72g、反応
触媒としてジメチルアミン塩酸塩1g、重合防止剤とし
てヒドロキノン02gを攪拌装置伺フラスコに入れ、1
00°0にて酸価か0.1以下となるまで反応させ不飽
和化合物A−1を得た。
Example 1 Epicote 828 (as a bisphenol A epoxy)
(manufactured by Shell) 184. ! iI, 72 g of acrylic acid, 1 g of dimethylamine hydrochloride as a reaction catalyst, and 02 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor were placed in a flask with a stirrer, and 1
The reaction was carried out at 00°0 until the acid value became 0.1 or less to obtain unsaturated compound A-1.

上記不飽和化合物A−1を40部、(B)モノマーとし
てp−ブチルフェノキシエチルアクリレート4−0部、
(0)光増感剤としてベンジルジメチルケタール8部、
その他年飽和化合物としてトリメチロールプロパントリ
アクリレート16部を混合し、更に体質顔料としてタル
ク35部、揺変剤としてエコジル2部、着色顔料として
フタロシアニングリーン0.3部を加えろ本ロールによ
り混練し、紫外線硬化ソルダーレジストインクを調製し
た。上記レジストインクを厚さ100μの導体パターン
を形成した積層板にスクリーン印刷により所望パターン
な印刷し、80 W 7cm高圧水銀灯により紫外線を
照射し、上記レジストインクを硬化させた。
40 parts of the above unsaturated compound A-1, 4-0 parts of p-butylphenoxyethyl acrylate as the (B) monomer,
(0) 8 parts of benzyl dimethyl ketal as a photosensitizer;
Mix 16 parts of trimethylolpropane triacrylate as a saturated compound, further add 35 parts of talc as an extender, 2 parts of Ecosil as a thixotropic agent, and 0.3 parts of phthalocyanine green as a coloring pigment. Knead with a main roll. An ultraviolet curing solder resist ink was prepared. The above resist ink was screen printed into a desired pattern on a 100 μm thick conductor patterned laminate, and the resist ink was cured by irradiation with ultraviolet rays using an 80 W 7 cm high pressure mercury lamp.

硬化に要した時間は10秒であった。上記インクの硬化
膜厚は導体上で15μ、導体エツジ部分で11.0μで
あった。
The time required for curing was 10 seconds. The cured film thickness of the above ink was 15 μm on the conductor and 11.0 μm at the edge of the conductor.

硬化塗膜の鉛筆硬度は4H1常態、40°090%RH
4時間の加湿処理及び80°0温水1時間浸漬直後にお
ける260°020秒間のハンダ浸漬においてフクレ、
ハガレを生じなかった。導体露出部分に対し金メッキを
行なったが上記レジストインクの硬化膜にフクレ、ハガ
レは生じなかった。又、JIS  Z3197による絶
縁抵抗は2×10 Ωであった。
The pencil hardness of the cured coating is 4H1 normal, 40°090%RH
After 4 hours of humidification treatment and 1 hour of immersion in 80°0 warm water, 260°020 seconds of solder immersion caused swelling,
No peeling occurred. Gold plating was performed on the exposed conductor portions, but no blistering or peeling occurred in the cured film of the resist ink. Further, the insulation resistance according to JIS Z3197 was 2×10 Ω.

実施例2 ビスフェノールF型エポキシとしてエピコート807(
シェル社製)170,9.アクリル酸72g、反応触媒
として2.4.6−)リス(ジメチルアミンメチル)フ
ェノール0.5 g、重合防止剤としてヒドロキノン0
.2 gを撹拌装置付フラスコに入れ、100°0にて
酸価が0.1以下となるまで反応させ不飽和化合物A−
2を得た。
Example 2 Epicote 807 (as bisphenol F type epoxy)
(manufactured by Shell) 170,9. 72 g of acrylic acid, 0.5 g of 2.4.6-)lis(dimethylaminemethyl)phenol as a reaction catalyst, 0.0 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor.
.. 2 g was placed in a flask with a stirrer and reacted at 100°0 until the acid value became 0.1 or less to form an unsaturated compound A-
I got 2.

上記不飽和化合物A−2を70部、(B)モノマーとし
てp−クミルフェノキシエチルアクリレート20部、(
0)光増感剤として2−1−ブチルアントラキノン5部
、その他不飽和化合物としてヒドロキシエチルメタクリ
レート5部を混合し、更に体質顔料としてメルク20部
、アルミナ10部、揺変剤とシテエロジル1部、着色顔
料としてフタロシアニングリーン06部を加え、サンド
ミルにより混線分散を行ない紫外線硬化ソルダーレジス
トインクを調製した。
70 parts of the above unsaturated compound A-2, 20 parts of p-cumylphenoxyethyl acrylate as the (B) monomer, (
0) Mix 5 parts of 2-1-butylanthraquinone as a photosensitizer and 5 parts of hydroxyethyl methacrylate as other unsaturated compounds, furthermore, 20 parts of Merck as extender pigment, 10 parts of alumina, 1 part of thixotropic agent and Citerosil, 06 parts of phthalocyanine green was added as a coloring pigment, and cross-dispersion was performed using a sand mill to prepare an ultraviolet curing solder resist ink.

上記レジストインクを厚さ100μの導体パターンを形
成した積層板にスクリーン印刷により所望のパターンを
印刷し、100 w/am高圧水銀灯により照射し、上
記レジストインクを硬化した。硬化に要した時間は9秒
であった。上記インクの硬化膜厚は導体上で14μ、導
体エッヂ部分で100μ、硬化塗膜の鉛筆硬度は4H1
常態、40°0904 RH4時間の加湿処理及び80
°C温水1時間浸漬直後における2(S00020秒間
のハンダ浸漬においてフクレ、ハガレを生じなかった。
A desired pattern was printed using the above resist ink on a laminate plate having a 100 μm thick conductor pattern formed thereon by screen printing, and the above resist ink was cured by irradiation with a 100 W/am high pressure mercury lamp. The time required for curing was 9 seconds. The cured film thickness of the above ink is 14μ on the conductor, 100μ on the conductor edge, and the pencil hardness of the cured film is 4H1.
Normal condition, 40°0904RH 4 hours humidification treatment and 80°
2 (S000) immediately after being immersed in warm water at °C for 1 hour.No blistering or peeling occurred when immersed in solder for 20 seconds.

導体露出部分に対し金メッキを行なったがレジストイン
ク硬化膜のフクレ、ハガレは生じなかった。又、J I
 S  Z3197による絶縁抵抗はI X 1013
Ωであった。
Gold plating was performed on the exposed conductor parts, but no blistering or peeling of the cured resist ink film occurred. Also, J I
Insulation resistance by S Z3197 is I x 1013
It was Ω.

実施例6 ノボラックエポキシとしてエピコート154.(シェル
社製)175g、アクリル酸72gを実施例1と同様に
反応させ不飽和化合物A−3を得た。
Example 6 Epicote 154. as a novolac epoxy. (manufactured by Shell) and 72 g of acrylic acid were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain unsaturated compound A-3.

上記不飽和化合物A −3を65部、(B)モノマーと
してp−ベンジルフェノキシイソプロピルアクリレート
60部、(0)光増感剤として2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロピオフェノン5部、その他不飽和化合物として
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート30部を混合
し、更に体質顔料としてタルク40部、硫酸バリウム5
部、揺変剤としてエロジル1部、着色顔料としてフタロ
シアニングリーンを0.5部加え、3本ロールにより混
練し紫外線硬化ソルダーレジストインクを調製した。上
記レジストインクを厚さ100μの導体パターンを形成
した積層板にスクリーン印刷により所望パターンを印刷
し 12’0.W/cmメ、タルハライドランプにより
紫外線を照射し、上記レジストインクを記インクの硬化
膜厚は、導体上で16μ、導体エツジ部分で115μで
あった。硬化塗膜の鉛筆硬度は5H1常態、40°09
04RH4時間の加湿処理及び80°C温水1時間浸漬
直後における2600020秒間のハンダ浸漬に・おい
てフクレ、ハガレを生じなかった。導体露出部分に対し
金メッキを行なったが、上記レジストインクの硬化膜に
フクレ、ハガレは生じなかった。又、J I 8  Z
 3197による絶縁抵抗はlX1013Ωであった。
65 parts of the above unsaturated compound A-3, (B) 60 parts of p-benzylphenoxyisopropyl acrylate as a monomer, (0) 5 parts of 2-hydroxy-2-methylpropiophenone as a photosensitizer, and other unsaturated compounds 30 parts of 1,6-hexanediol diacrylate were mixed as an extender, and 40 parts of talc and 5 parts of barium sulfate were added as extender pigments.
1 part of Erosil as a thixotropic agent and 0.5 part of phthalocyanine green as a coloring pigment were added and kneaded using three rolls to prepare an ultraviolet curing solder resist ink. A desired pattern was printed by screen printing on a laminate plate on which a conductor pattern with a thickness of 100 μm was formed using the above resist ink. The above resist ink was irradiated with ultraviolet rays using a tal halide lamp at a diameter of W/cm, and the cured film thickness of the ink was 16 μm on the conductor and 115 μm at the edge of the conductor. The pencil hardness of the cured coating is 5H1 normal, 40°09
No blistering or peeling occurred during humidification treatment for 04RH for 4 hours and solder immersion for 2600020 seconds immediately after immersion in 80°C warm water for 1 hour. Gold plating was performed on the exposed portion of the conductor, but no blistering or peeling occurred in the cured film of the resist ink. Also, J I 8 Z
The insulation resistance of 3197 was 1×1013Ω.

実施例4 ビスフェノールA型エポキシとしてエピコート1001
(シェル社製)、4.5.0g、アクリル酸72g、溶
剤としてトルエン2.00 、!9、反応触媒として2
.4.6−トリス(ジメチルアミンメチル)フェノール
0.59.重合防止剤としてヒドロキノン0.4gを実
施例1と同様に反応させた後、脱トルエン操作を行ない
不飽和化合物A−4を得た。
Example 4 Epicote 1001 as bisphenol A epoxy
(manufactured by Shell), 4.5.0 g, acrylic acid 72 g, toluene 2.00 as a solvent,! 9. 2 as a reaction catalyst
.. 4.6-tris(dimethylaminemethyl)phenol 0.59. After reacting 0.4 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor in the same manner as in Example 1, the toluene removal operation was performed to obtain unsaturated compound A-4.

上記不飽和化合物A−4を20部、実施例2にて得た不
飽和化合物A−2を20部、(B)モノマーとしてp−
クミルフェノキシジェトキシエチルアクリレ−)30部
、(0)光増感剤としてジイソプロピルチオキサントン
1部、ベンジルジメチルケタール1部、その他不飽和化
合物として2−ヒドロキシプロピルメタクリレート10
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート18部を混
合し、更に体質顔料としてタルク60部、マイカ粉10
部、揺変剤としてエロジル0.5部、着色顔料としてフ
タロシアニングリーン04部を加え6本ロールにて混練
し、紫外線硬化ソルダーレジストインクを調製した。
20 parts of the above unsaturated compound A-4, 20 parts of the unsaturated compound A-2 obtained in Example 2, p-
(0) 30 parts of diisopropylthioxanthone as a photosensitizer, 1 part of benzyl dimethyl ketal, 10 parts of 2-hydroxypropyl methacrylate as other unsaturated compounds
18 parts of neopentyl glycol diacrylate, and further added 60 parts of talc as an extender pigment and 10 parts of mica powder.
1.0 parts, 0.5 parts of Erosil as a thixotropic agent, and 0.4 parts of Phthalocyanine Green as a coloring pigment were added and kneaded using six rolls to prepare an ultraviolet curing solder resist ink.

上記レジストインクを厚giooμの導体パターンを形
成した積層板にスクリーン印刷により所望パターンを印
刷し、1o o w/cmメタルノ・ライドランプによ
り紫外線を照射し、上記レジストインクを硬化きた。硬
化に要した時間は8秒であった。
A desired pattern was printed using the above resist ink on a laminate plate on which a conductor pattern with a thickness of 10 μm was formed by screen printing, and the above resist ink was cured by irradiation with ultraviolet rays using a 10 o w/cm metalnolide lamp. The time required for curing was 8 seconds.

させ 上記インクの硬化膜厚は導体上にて14μ、導体エツジ
部にて110μであった。硬化塗膜の鉛筆硬度は5H1
常態、40°090%RH4時間の加湿処理及び80°
C温水1時間浸漬直後における260°02.0秒間の
ハンダ浸漬においてフクレ、ハガレを生じなかった。導
体露出部分に対し金メッキを行なったが上記レジストイ
ンクの硬化膜にフクレ、ハガレは生じなかった。又、J
l、5Z3197による絶縁抵抗は2 X 10”’Ω
であった。
The cured film thickness of the ink was 14 μm on the conductor and 110 μm at the edge of the conductor. The pencil hardness of the cured coating is 5H1
Normal condition, 40°090%RH 4 hour humidification treatment and 80°
C: No blistering or peeling occurred during solder immersion at 260° for 2.0 seconds immediately after immersion in warm water for 1 hour. Gold plating was performed on the exposed conductor portions, but no blistering or peeling occurred in the cured film of the resist ink. Also, J
l, insulation resistance by 5Z3197 is 2 x 10'''Ω
Met.

実施例5 ビスフェノールA1モルに対しエチレンオキサイド4モ
ルを付加したビスフェノールAのポリエーテル化物41
0g、アクリル酸144gをトルエン200g、反応触
媒としてp−)ルエンスルホン酸05g、重合防止剤と
してヒドロキノン0、4 gとともに攪拌装置付フラス
コに入れ1000Cにてエステル化反応を行い、反応終
了後脱トルエンを行い不飽和化合物A−5を得た。
Example 5 Polyetherified bisphenol A 41 with 4 moles of ethylene oxide added to 1 mole of bisphenol A
144 g of acrylic acid and 200 g of toluene, 05 g of p-)luenesulfonic acid as a reaction catalyst, and 0.4 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor were placed in a flask equipped with a stirrer, and an esterification reaction was carried out at 1000 C. After the reaction was completed, toluene was removed. was carried out to obtain unsaturated compound A-5.

上記不飽和化合物A −、5を30部、実施例3にて得
た不飽和化合物A−3を20部、(B)モノマーとして
p−ベンジルフェノキシジェトキシメチルメタアクリレ
ート20部、(0)光増感剤として1−ブチルアントラ
キノン3部、4′−フェノキシ−2,2−ジクロルアセ
トフェノン2部、その他モノマーとしてジペンタエリス
リトールへキサアクリレート15部、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレ−)10部を混合し、実施例1と同様に
して紫外線硬化ソルダーレジストインクを調製した。
30 parts of the above unsaturated compound A-, 5, 20 parts of the unsaturated compound A-3 obtained in Example 3, (B) 20 parts of p-benzylphenoxyjethoxymethyl methacrylate as a monomer, (0) light Mixed with 3 parts of 1-butylanthraquinone and 2 parts of 4'-phenoxy-2,2-dichloroacetophenone as a sensitizer, and 15 parts of dipentaerythritol hexaacrylate and 10 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate as other monomers. Then, in the same manner as in Example 1, an ultraviolet curing solder resist ink was prepared.

上記レジストインクを厚さ100μの導体パターンを形
成した積層板にスクリーン印刷により所望のパターンを
印刷し5.1.’o o w/cm高圧水銀灯により紫
外線を照射し、上記レジストインクを硬化させた。硬化
に要した時間は11秒であった。上記インクの硬化膜厚
は導体上にて16μ、導体エツジ部分にて108μであ
った。
5.1. Print a desired pattern using the above resist ink on a laminate plate with a 100μ thick conductor pattern formed thereon by screen printing. The resist ink was cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp of 'o o w/cm. The time required for curing was 11 seconds. The cured film thickness of the ink was 16μ on the conductor and 108μ on the conductor edge.

硬化塗膜の鉛筆硬度は5H1常態、40°090%几H
4時間の加湿処理及び80°C温水1時間浸漬直後にお
ける260°020秒間のノ\ンダ浸漬においてフクレ
、ノ・ガレを生じなかった。導体露出部分に対し金メッ
キを行ったが上記レジストインクの硬化膜にフクレ、ノ
・ガレは生じなかった。又、JIS  Z3197によ
る絶縁抵抗ハ2 X 1.0”’Ωであった。
The pencil hardness of the cured coating is 5H1 normal, 40°090%H
No blisters or flakes occurred during humidification treatment for 4 hours and immersion at 260° for 20 seconds immediately after immersion in 80°C hot water for 1 hour. Gold plating was performed on the exposed conductor portions, but no blisters, cracks, or flakes occurred on the cured film of the resist ink. Further, the insulation resistance according to JIS Z3197 was 2×1.0''Ω.

実施例6 ビスフェノールF1モルに対しプロピレンオキサイド2
モルを付加したビスフェノールFのポリエーテル化物2
86g、メタクリル酸172gをトルエン150g、反
応触媒としてp−)ルエンスルホン酸03g1重合防止
剤としてヒドロキノン0.4gとともに攪拌装置付フラ
スコに入れ1000Cにてエステル化反応を行い、反応
終了後脱トルエンを行い不飽和化合物A −6を得た。
Example 6 2 propylene oxide for 1 mole of bisphenol F
Polyetherified product of bisphenol F with moles added 2
86 g, methacrylic acid 172 g, toluene 150 g, p-)luenesulfonic acid 03 g as a reaction catalyst, hydroquinone 0.4 g as a polymerization inhibitor in a flask equipped with a stirrer, and an esterification reaction was carried out at 1000 C. After the reaction was completed, toluene was removed. Unsaturated compound A-6 was obtained.

上記不飽和化合物A−655部、(B)モノマーとして
p−エチルフエノキシジプロボキシブロビルメタクリレ
ート15部、(0)光増感剤として2−ヒドロキシ−2
−メチルグロピオフェノン2部、ジイソプロピルチオキ
サントン2部、その他モノマーとしてジペンタエリスリ
トールへキサアクリレート15部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート61部を混合し、実施例1と同様に
して紫外線価、化レジストインクを調製した。
655 parts of the above unsaturated compound A, (B) 15 parts of p-ethylphenoxydiproboxybrobyl methacrylate as a monomer, (0) 2-hydroxy-2 as a photosensitizer
- 2 parts of methylglopiophenone, 2 parts of diisopropylthioxanthone, and 15 parts of dipentaerythritol hexaacrylate and 61 parts of neopentyl glycol diacrylate as other monomers were mixed, and a UV value and chemical resist ink was prepared in the same manner as in Example 1. Prepared.

上記レジストインクを厚さ100μの導体パターンを形
成した積層板にスクリーン印刷により所望パターンを印
刷し、160 W/cm高圧水銀灯により紫外線を照射
し上記レジストインクを硬化させた。
A desired pattern was printed using the above resist ink on a laminate plate having a conductor pattern having a thickness of 100 μm by screen printing, and the above resist ink was cured by irradiating ultraviolet rays with a 160 W/cm high pressure mercury lamp.

硬化に要した時間は7秒であった。The time required for curing was 7 seconds.

上記インクの硬化膜厚は導体上にて26μ、導体エツジ
部分にて120μであった。硬化塗膜の鉛筆硬度は5 
kl、常態、40’09.0%FLH4時間の加湿処理
及び80°C温水1時間浸漬直後における260°02
.0秒間のハンダ浸漬においてフクレ、ハガレを生じな
かった。導体露出部分に対し金メツキを行ったが上記レ
ジストインクの硬化膜にフクレ、ハガレは生じなかった
。又、JIS  Z51−97による絶縁抵抗はI X
 1013であった。
The cured film thickness of the above ink was 26 μm on the conductor and 120 μm at the conductor edge portion. The pencil hardness of the cured coating is 5.
kl, normal state, 40'09.0% FLH 260°02 immediately after 4-hour humidification treatment and 1-hour immersion in 80°C warm water
.. No blistering or peeling occurred during solder immersion for 0 seconds. Gold plating was performed on the exposed portions of the conductor, but no blistering or peeling occurred in the cured film of the resist ink. Also, the insulation resistance according to JIS Z51-97 is I
It was 1013.

特許出願人 三井東圧化学株式会社Patent applicant: Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (→多価フェノールのエポキシ化合物または多価フェノ
ールのポリエーテル化合物と(メタ)アクリル酸とを反
応させて得られる(メタ)アクリロイル基を2個以上有
する不飽和化合物と(B)一般式(1) 〔式中、Xは水素原子、01ないし012のアルキまた
は(−OH2δO−+−rL(ルは0ないし10の整数
を示す。)を、Zは水素原子またはメチル基をそれぞれ
表わす)で示されるモノマーおよび(0)光増感剤とを
主成分として含有することを特徴とする紫外線硬化ソル
ダーレジストインク組成物。
[Scope of Claims] (→An unsaturated compound having two or more (meth)acryloyl groups obtained by reacting an epoxy compound of polyhydric phenol or a polyether compound of polyhydric phenol with (meth)acrylic acid; B) General formula (1) [wherein, An ultraviolet curable solder resist ink composition containing as main components a monomer represented by (respectively) and (0) a photosensitizer.
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