JPS595647A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPS595647A JPS595647A JP11464982A JP11464982A JPS595647A JP S595647 A JPS595647 A JP S595647A JP 11464982 A JP11464982 A JP 11464982A JP 11464982 A JP11464982 A JP 11464982A JP S595647 A JPS595647 A JP S595647A
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体集積回路に関し、特に配線ノ(ターンの
変更によって機能を異にするばかシでなく、内蔵の記憶
素子の内容を変更することによっても、動作態様を制御
可能な、プログラマブル、マスター。スライスに関スる
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and in particular, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and particularly to a semiconductor integrated circuit, in which the operation mode is controlled not only by changing the function by changing the wiring (turn), but also by changing the contents of the built-in memory element. Possible, programmable, master, related to slicing.
従来、この種の回路として、第1図に示すものがあった
。図は、2NANDをシリコン、ゲ−) 、CMC)S
、金属2層配線技術により得られるものであるが、この
ように、ゲート共通のPチャンネルFET、Nチャンネ
ルFETのベアを2組並べたものを、基本セルとし、こ
の基本セルを第2図のように、マトリクス状に配列し、
各行間に、金属配線を行う余地を設けたものが一般的で
ある。Conventionally, there has been a circuit of this type as shown in FIG. The figure shows 2NAND in silicon, Ga), CMC)S
, which can be obtained using two-layer metal interconnection technology.In this way, two sets of bare P-channel FETs and N-channel FETs with common gates are lined up as a basic cell, and this basic cell is shown in Fig. 2. Arranged in a matrix like this,
Generally, there is room for metal wiring between each row.
即ち、P−ウェル1中に2組のNチャンネルFET2が
形成され、一方2組のPチャンネルFET3が別途形成
されている。各Fl(T2 。That is, two sets of N-channel FETs 2 are formed in the P-well 1, while two sets of P-channel FETs 3 are separately formed. Each Fl (T2.
3はポリシリコン4.5によってシリコンケ−)MOS
FETとなっている。3 is silicon MOS by polysilicon 4.5
It is an FET.
第2111WIUP−ウェル1中に形成された第1図の
NチャンネルMO8FET2の詳細を示す図である。N
型ドレイン領斌21 、N型ソース領域22及びポリシ
リコン4更にN型ソース領域23、N型ト°レイン領域
22及びポリシリコン5とが夫々F E T Q A*
Q Bを構成している。2NANDのときアルミ配線
6はFETQBのソース23にコンタクトホール61で
接続され、基準電1位に接続される。2111 WIUP--FIG. 2 shows details of the N-channel MO8FET 2 of FIG. 1 formed in well 1; N
Type drain region 21, N type source region 22 and polysilicon 4, furthermore N type source region 23, N type drain region 22 and polysilicon 5 are FET Q A*
It constitutes QB. In the case of 2NAND, the aluminum wiring 6 is connected to the source 23 of FETQB through a contact hole 61 and connected to the reference potential 1.
まだアルミ配#!7はコンタクトホール71でF E
T QAのドレインと接続され出力端子となり、F E
T Q A e Q Bは直列接続となっている。Still aluminum distribution #! 7 is contact hole 71 F E
T Connected to the drain of QA and becomes an output terminal, F E
TQAeQB are connected in series.
同様に2つのPチャンネルFET3の各ドレインはコン
タクトホール72.73によF)FETQA と接続さ
れ、アルミ配線8はコンタクトホール81によシ共通ソ
ースと接続され、電、源V ]) D に接続されて
いる。このように配線されたFETは第3図の等価回路
で示すように2人力NANDゲートを構成しておシ、ポ
リシリコン4.5が夫々人力A、Hに対応し、出力Xは
アルミ配線7に対応している。そして、これらの第1層
目のアルミ配線6. 7. 8の配線パターンの変更に
よって、2人力N ORゲート、イ/バータ等を構成す
ることができる。こうして得られるゲートを配線エリア
20上に金属配線f曲して相互接続する。Similarly, the drains of the two P-channel FETs 3 are connected to the FETQA through contact holes 72 and 73, and the aluminum wiring 8 is connected to the common source through the contact hole 81, and connected to the power source V])D. has been done. The FETs wired in this way form a two-way NAND gate as shown in the equivalent circuit in Figure 3, where the polysilicon 4.5 corresponds to the points A and H, respectively, and the output X is connected to the aluminum wire 7. It corresponds to Then, these first layer aluminum wiring lines 6. 7. By changing the wiring pattern of 8, it is possible to configure a two-man power NOR gate, an inverter, etc. The gates thus obtained are interconnected by bending metal wires onto the wiring area 20.
、例えば第1図においては配線エリア20は複数の配線
71201〜205から構成されており、ゲート4(A
)はコンタクトホール91,92により夫々配線層20
1〜204に接続草れ、またゲート(Blはコンタクト
ホール101によシ配線1@ 202に接続されている
。For example, in FIG. 1, the wiring area 20 is composed of a plurality of wirings 71201 to 205, and the gate 4
) are connected to the wiring layer 20 by contact holes 91 and 92, respectively.
The gate (Bl) is connected to the wiring 1@202 through the contact hole 101.
この4個のFETより構成さiするセル300と配線エ
リア20とをル4図に示すように複数側形成し、配線パ
ターンを変更することにより、所望の機能を有する論理
回路を得る。A logic circuit having a desired function is obtained by forming a plurality of cells 300 composed of these four FETs and wiring areas 20 as shown in FIG. 4, and changing the wiring pattern.
か力・る手段によりH[定の機能を有する論理回路を実
現でき、これを−半導体基板上に形成したものが、マス
ター、スライスと称して市販されている。A logic circuit having a certain function can be realized by using forceful means, and the circuit formed on a semiconductor substrate is commercially available as a master or a slice.
マスター、スライスにおいてンよ、配線工程以前の工程
は、昇なる品種のICにおいても共通であって、通常の
量産技術によって製作されるが、品種が変るととに、配
線工程のマスクのみ、作成し、配線バよ−ンの変化によ
って、種々の機能が実現される。IC1品種について、
全層のマスクを作成する場合のコ1トは、膨大なもので
あり、生涯生産数量が少ない場合の単価が高くなる上に
、マスクにミスがあって、修正した場合、全工程をや)
直さねばならず、長期に及ぶ製品開発期間が必要となる
。また、マスク−スライスでは、同一のパターンが繰す
返して厚んでいるだけなので、電子計算機を用いた自動
設計を行い易く、この点A−ら言っても、全層作成する
場合では、現実には、人手に頼るしかなく、氷1品開発
コストの点で、マスター。スライスが有利なのである。In mastering and slicing, the processes before the wiring process are common even for the next generation of ICs, and are manufactured using normal mass production technology, but when the type changes, only the mask for the wiring process needs to be created. However, various functions can be realized by changing the wiring bars. Regarding the IC1 variety,
The costs involved in making a full-thickness mask are enormous, and the unit price is high if the lifetime production quantity is small.In addition, if there is a mistake in the mask and it is corrected, the entire process will be required.)
This would require a long product development period. In addition, with mask-slice, the same pattern is repeated and thickened, so it is easy to automatically design using a computer. has no choice but to rely on human labor, and is a master in terms of the cost of developing a single ice product. Slices are advantageous.
しかしながら、上記のとおり、従来のマスミスライスで
はあらかじめFET 、交叉配線体の回路素子を所定数
形成しておくので、回路規模にかかわらず、チップサイ
ズは共通であシ、同一回路を全マスクで製作する場合と
比較してマスミスライスでは使711 Lない回路素子
が存在するため3〜4倍の面積を必要とする。However, as mentioned above, in conventional mass slicing, a predetermined number of circuit elements such as FETs and cross wiring bodies are formed in advance, so the chip size is the same regardless of the circuit scale, and the same circuit is manufactured using all masks. Compared to the case of using the Massumi slice, there are 711 L unused circuit elements, so the area is three to four times larger.
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ために成されたもので、回路素子を時分割で使用できる
ように、記憶素子を内蔵させ、この記憶素子の内容を変
えるととKよって、機能を変化せしめ、回路規模を縮小
させることによって、同一チップ、サイズにてよシ多く
の機能を実現しうるマスター、スライスを提供すること
を目的としている。This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and it is possible to incorporate a memory element so that circuit elements can be used in time division, and to change the contents of this memory element. Therefore, the objective is to provide a master and a slice that can realize more functions with the same chip and size by changing the functions and reducing the circuit scale.
以下、この発明の一実施例を、第5図、第6図に基いて
説明する。第5図において2個のセル500は夫々記憶
素子としてD−ラッチを用いトランスミッションゲ−)
Bl 、B2及び(ンバ−4B3mB4から構成されて
おり、記憶セルとして動作する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 5 and 6. In FIG. 5, two cells 500 each use a D-latch as a storage element and a transmission gate.
It is composed of Bl, B2 and (member 4B3mB4) and operates as a memory cell.
また、セル600は、論理セルで記憶素子の内容によシ
、機能を異にするゲートであるシFETQ□〜Q、より
構成される。記憶素子としては、その他、スタティック
RAM、ダイナミックRAM 、ダイナミック型Dフリ
ップフロップ等でもよい。Further, the cell 600 is a logic cell and is composed of FETQ□ to Q, which are gates that have different functions depending on the contents of the storage element. The storage element may also be a static RAM, a dynamic RAM, a dynamic D flip-flop, or the like.
ゲートとしては、その他の回路構成も考えられるが、素
子数の点にお・いて、第5図のセル600がすぐれてい
る。セル600では、入力信号として、X、Y、出力信
号としてZという端イが設けられており、機能は(a)
Z =X 、 (b)Z =Y 、 (c)Z=X+
Y、(di z=x、 Y (7) 4通勺が実現可能
である。4通勺の機能を実現するためには、2ビツトの
情報が必要なので、セル6001個に対して、記憶素子
を2個付属させ、第5図、A、B2ビットの信号によっ
て、4)111りの機能を切り換えるよう釦なってbる
。この例では、記憶素子としてDラッチを用いたので、
Dラッグに読みとるべきデータを供給する端子DATA
1.DATA2を設け、D−ラッチがデータを読みとる
ための信号を供給する端子CL、CLが設けられている
。Although other circuit configurations are possible for the gate, the cell 600 shown in FIG. 5 is superior in terms of the number of elements. In the cell 600, terminals X and Y are provided as input signals, and terminals Z are provided as output signals, and the functions are (a).
Z=X, (b) Z=Y, (c) Z=X+
Y, (di z=x, Y (7) 4-bit function is possible. In order to realize the 4-bit function, 2 bits of information are required, so for 6001 cells, the memory element 4) A button is provided to switch between 111 and 111 functions using the 2-bit signals A and B shown in FIG. In this example, a D latch is used as the memory element, so
Terminal DATA that supplies data to be read to the D lug
1. DATA2 is provided, and terminals CL and CL for supplying a signal for the D-latch to read data are provided.
仁の基本回路を複数個配列する場合の例な第6図に□示
す。このように、セル500を一列に並べ、セル600
をセル5002個分で、1個がはいるように一列に並べ
、セル500.セル600を結線せずに、残しておき、
セル500.600間に結線エリア700を設け1回路
に応じて、結線する方が後述するように、応用上有利で
ある。An example of arranging a plurality of basic circuits is shown in Fig. 6 (□). In this way, the cells 500 are arranged in a row, and the cells 600
are arranged in a line with 5002 cells, so that one cell is included, and cells 500. Leave cell 600 unwired,
As will be described later, it is more advantageous in terms of application to provide a wiring area 700 between the cells 500 and 600 and to connect them according to one circuit.
次に、この発明の動作について説明する。第5図セル5
00は、公知のD−ラッチであるが、CLの立ち上がシ
で、DATAl、内部、DATA2がラッチされる。こ
のラッチされたデータによって、セル600の機能態様
が変化するが、A=O、B=O%従ってA=1.B=1
のときには、Qs=Q+、Q・、Qll が導通、Q。Next, the operation of this invention will be explained. Figure 5 Cell 5
00 is a well-known D-latch, and when CL rises, DATA1, internal data, and DATA2 are latched. This latched data changes the functional aspect of cell 600, but A=O, B=O%, so A=1. B=1
When Qs=Q+, Q・, Qll is conductive, Q.
、Qう*Q@*Qt。が非導通で、セル600はNOR
ゲートと等価になる。A=1 、B=1、従ってλ==
0.B=Oのときには、Q s −Q 4−Q8Qss
が非導通、Ql −Qs −Qo −Qt。が導通で、
セル600は、NANDゲートと等価になる。, Qu*Q@*Qt. is non-conducting and cell 600 is NOR
It becomes equivalent to a gate. A=1, B=1, therefore λ==
0. When B=O, Q s −Q 4−Q8Qss
is non-conducting, Ql -Qs -Qo -Qt. is conductive,
Cell 600 becomes equivalent to a NAND gate.
Aヲ1 、 B=0 、従って%^==0 、B=1の
ときには、Qs 、 Qs 、Qt。、Ql、が導通で
sQt* Q4 * Qa * Q曾 が非導通で、セ
ル600は、Xのインバータと等価になる。A=O,B
=1、従って、A=1.8=OのときにはsQs+Qs
eQs。5Qtsが非導通で、Ql # Q4 s Q
s*Q@が導通でセルBは、Yのインノ(−夕と等価に
なる。When Awo1, B=0, therefore %^==0 and B=1, Qs, Qs, Qt. , Ql, are conducting and sQt* Q4 * Qa * Qs are non-conducting, making the cell 600 equivalent to an X inverter. A=O,B
=1, therefore, when A=1.8=O, sQs+Qs
eQs. 5Qts is non-conducting, Ql # Q4 s Q
When s*Q@ is conductive, cell B becomes equivalent to Y's inno (-).
この第5図の基本セルを、第6図の如く配置する場合、
セル500とセル600を結線しない状態としておく、
こうしておけば、プログラマブルにする必要のない部分
のD−ラッチは、2個組み合わせて、Dフリップフロッ
プとして使用することが可能になる。また、IC内部で
ハート°的ニロジックを組んで、この結果によシ、ゲー
トの型を制御することもできる。セル500を用いて、
Dプリップフロップを構成するには、第6図において、
下側のセルのAもしくは、λを、上側のセルのDATA
2に接続し、B、又は、百をQ出力端子とすれば良い。When the basic cells in Fig. 5 are arranged as shown in Fig. 6,
Leave cells 500 and 600 unconnected,
In this way, two D-latches that do not need to be made programmable can be combined and used as a D flip-flop. It is also possible to construct a heart-like logic inside the IC and control the gate type based on this result. Using cell 500,
To configure a D flip-flop, in FIG.
A or λ of the lower cell, DATA of the upper cell
2 and use B or 100 as the Q output terminal.
上記実施例においては、回路構成としているが、勿論、
NMO8、TTL 、ECLなど、他の論理に於ても、
全く同様のものが実現できるし、第4園では、A、A、
B、Bと、正負の論理を用いているが、セル600の一
部のFETをP型からN型及びN型からP型にと変更す
れば、2本の信丹線にて実現することもできる。In the above embodiment, the circuit configuration is used, but of course,
In other logics such as NMO8, TTL, ECL, etc.
Exactly the same thing can be achieved, and in the fourth garden, A, A,
B, B and positive/negative logic are used, but if some FETs in the cell 600 are changed from P type to N type and from N type to P type, it can be realized with two Shintan lines. You can also do it.
また、上記実施例においては、記憶素子として、1ビツ
トごとに、データを書き込めるものtm提としたが、シ
フトレジスタ、CCDメモリ、のようなものであっても
構わない。但し、第6図の如く、セル500.セル60
0を未結線の状伸としておけば、1ビツト毎にデータを
書き込むようなタイプ、シリアルでデータを書き込むよ
うなタイプ、いずれにも転用できるし、同一チップ上に
、記載することもできる。Further, in the above embodiment, it is assumed that the memory element is one in which data can be written bit by bit, but it may be a shift register, a CCD memory, or the like. However, as shown in FIG. 6, if the cell 500. cell 60
If 0 is left unconnected, it can be used for either a type that writes data bit by bit or a type that writes data serially, and can also be written on the same chip.
また、上記実施例においては、セル600として2人力
、1出力のゲートを考えたが、回路構成、配線は、複雑
になるが、3人力以上のもの、2出力以上のものを、同
様な方法によって、機能を変化させることも可能である
。また、セル600にては、2端子にバッファが付属し
ていないが、チップサイズが大きく、長い配線ラインを
ト°ライブする可能性のある場合には、バッファを付属
さゼても良い。In addition, in the above embodiment, a two-manpower, one-output gate was considered as the cell 600, but a gate with three or more manpower and two outputs or more could be constructed using a similar method, although the circuit configuration and wiring would be complicated. It is also possible to change the function. Further, in the cell 600, a buffer is not attached to the two terminals, but if the chip size is large and there is a possibility of driving a long wiring line, a buffer may be attached.
また、セル500.セル600内の回路は、固定される
仁とを前提としたが、通常のマスタースライスによって
、配線の変更により1本実施例と同等のものを構成する
ことも可能であるし、セル500.若しくは、セル60
0の内部を未結線のまま、残しておき、回路に応じて配
線を行う仁とを禁じているものではない。Also, cell 500. Although it is assumed that the circuit in cell 600 is a fixed circuit, it is also possible to configure a circuit equivalent to this embodiment by changing the wiring using a normal master slice. Or cell 60
This does not prohibit leaving the internal parts of 0 unconnected and wiring them according to the circuit.
更に、1チツプ上の1部に1本回路構成を採用し、他の
回路の制御を行うことも可能であるし、本回路を制御す
る回路を同一チップ上にて、実現することは、本回路構
成に対して望まれる所でもある。Furthermore, it is possible to adopt a single circuit configuration in one part of one chip and control other circuits, and it is not possible to implement a circuit that controls this circuit on the same chip. This is also a desirable aspect of the circuit configuration.
以上のように、この発明によれば、論理ゲートを、別途
に設けた記憶素子の内容によシ、制御し、機能を変化せ
しめるように、構成したので、制御デー々を転送するこ
とによって機能を異にするような、半屏体集積回路を実
現することができる。As described above, according to the present invention, the logic gate is configured to be controlled and change the function according to the contents of the separately provided memory element, so that the logic gate functions by transferring control data. It is possible to realize a semi-folding integrated circuit with different characteristics.
しかも回路の違いによってN作するマスクは、従来のマ
ス4−、スライスと同様に、配線工程のマスクのみであ
るから、低開発コスト、迅速な開発速度1回路変更に対
する融通性は全く失われることがなX/−ht。Moreover, the masks that are created depending on the circuit are only those for the wiring process, similar to the conventional square 4-slice, so the flexibility to change one circuit at low development costs and rapid development speed is completely lost. GanaX/-ht.
更に、回路内の素子を制御データの転送によって時分割
で使用できるので、広汎な機能を少数の回路素子で実現
できることになり、チップサイズの縮小にも害鳥する。Furthermore, since the elements in the circuit can be used in a time-sharing manner by transferring control data, a wide range of functions can be realized with a small number of circuit elements, which is also detrimental to chip size reduction.
第1図はもt来の基本セルを示す図、第2図は第1図セ
ルの1部の詳細を示す図、第3南は第1図セルの等価回
路を示す図、第4図は第1図セルを複数個組み合せた全
体の構成を示す図。
第5図は本発明によるセルの基本回路を示す図、第6図
は第5図セルを複数個組み合せだ全体の構成を示す園で
ある。
300.500.600・・・・・・セルフ00・・・
・・・結線エリア
B1.B2・・・・・・トランスミッション2−)B3
.B4・・・用インバータ
Q、〜Q11・・・・・・FET
特許出願人
パイオニア株式会社
第1図
頃2図
ヱi)8図
o7
第4図Figure 1 is a diagram showing the basic cell since then, Figure 2 is a diagram showing details of a part of the cell in Figure 1, Figure 3 is a diagram showing the equivalent circuit of the cell in Figure 1, and Figure 4 is a diagram showing the equivalent circuit of the cell in Figure 1. FIG. 1 is a diagram showing the overall configuration of a combination of a plurality of cells. FIG. 5 is a diagram showing the basic circuit of a cell according to the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing the overall configuration obtained by combining a plurality of cells shown in FIG. 300.500.600... Self 00...
... Connection area B1. B2...Transmission 2-)B3
.. Inverter Q, ~Q11...FET for B4... Patent applicant Pioneer Co., Ltd. Figure 1 and Figure 2 (i) Figure 8 o7 Figure 4
Claims (2)
る記憶回路と、前記記憶内容に対応したデータを出力す
る制御信号線と、前記制御信号線のデータ内容によシ複
数の異なる論理機能に変化する論理回路とを備えること
を特徴とする半導体集積回路。(1) A memory circuit that stores different memory contents according to external data, a control signal line that outputs data corresponding to the memory contents, and a plurality of different logical functions depending on the data contents of the control signal line. A semiconductor integrated circuit comprising a variable logic circuit.
内容を出力する制御信号線と、前記制御信号線のデータ
内容によシ豪数の異なる論理機能に変化する論理回路と
、前記記憶回路と論理回路の間に介在する結線手段とを
備え、制御信号線を前記結線手段によって変更し、前記
論理回路に所定の制御信号線の内容を与えるようにした
ことを特徴とする半導体集積回路。(2) a memory circuit that stores predetermined memory content; a control signal line that outputs the memory content; a logic circuit that changes to a different logic function depending on the data content of the control signal line; and the memory A semiconductor integrated circuit comprising a wiring means interposed between a circuit and a logic circuit, wherein a control signal line is changed by the wiring means to give the content of a predetermined control signal line to the logic circuit. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11464982A JPS595647A (en) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11464982A JPS595647A (en) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS595647A true JPS595647A (en) | 1984-01-12 |
Family
ID=14643087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11464982A Pending JPS595647A (en) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS595647A (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5060152A (en) * | 1973-09-26 | 1975-05-23 | ||
JPS5484446A (en) * | 1977-12-17 | 1979-07-05 | Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Semiconductor logic circuit |
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1982
- 1982-07-01 JP JP11464982A patent/JPS595647A/en active Pending
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