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JPS5930081A - 校正用多線源選択型照射装置 - Google Patents

校正用多線源選択型照射装置

Info

Publication number
JPS5930081A
JPS5930081A JP13919382A JP13919382A JPS5930081A JP S5930081 A JPS5930081 A JP S5930081A JP 13919382 A JP13919382 A JP 13919382A JP 13919382 A JP13919382 A JP 13919382A JP S5930081 A JPS5930081 A JP S5930081A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray source
radiation
calibration
irradiation
rack
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13919382A
Other languages
English (en)
Inventor
Kentaro Minami
南 賢太郎
Toshio Okamoto
利夫 岡本
Nobuyuki Sato
信之 佐藤
Shigeru Shimizu
清水 滋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Japan Atomic Energy Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Atomic Energy Research Institute filed Critical Japan Atomic Energy Research Institute
Priority to JP13919382A priority Critical patent/JPS5930081A/ja
Publication of JPS5930081A publication Critical patent/JPS5930081A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は校正用多線源選択型照射装置に関する。
詳しくは本発明は電離箱型ザーベイメータやポケット1
%!量計などの放射線校正に用いる照射装置に関する。
従来、電離箱型ザーベイメータなどの放射)1(メ校正
に用いる照射装置に〔は第1図に示すようC(、比較的
放射線強度の強い単一なγ線源Sを用い、電離箱7%l
Jサーベイメータなどの各測定レンジに対応する校正は
、逆二乗則全利用して校正距Rad’r:決め、被校正
測定器Mをそのつど大きく移動させて実維した。したか
って、測定器のレンジに応じて校正台車全頻繁に移「の
しなければならないこと、及び校正距離がレンジに、r
、p長(なるので大きな校正室を必要とする欠点が認め
られていた。
本発明の目的は、このような欠点のない放躬線校正に用
いる照射装置を提供することである。
本願発明者等はこの目的全達成するため、照射装置内に
測定器のレンジに対応した放射線強度の易なる複数個の
γ線源を格納し、任意にその線源を選択して照射するこ
と、および照射野の変更と4π照別が可能なこと等5目
的として鋭意研究の結果、放芽1線強区が異なる複数個
のγ線源を格納する線源格納部と、照射野の変更が容易
にでき、4πj1α別も可能な照射部、および線源を任
意に選択し、これを格納部から照射部へ移動させる駆動
部より成る線源突上]j式校正用多&!源選択型照射装
置を開発した。
本発明の装置は、放射線強度が異なるγ線源を任意に自
動的に選択するこ七ができるので、82ケット線量計等
全−反に多量に校正できると共VC1′甲離箱型サーベ
イメータなどの各測定(レンジの校正を行う際、r線源
と被校正測定器の校正距離をそのつど太き(移動させる
ことなく大略一定の校正距離で行うことができる。した
がって、校正作業が能率的に実施できる。また、校正距
離全短縮することもできるので、校正室を小型化するこ
とか可能になる。
次に、本発明の装置全図面について具体的に説明する。
本照射装置の断面しを第2図に示す。また図のA −A
’水平面断面図を第3図に示す。これらの図において斜
線部は鉛などの遮蔽材である。
第2図の1.2,3.4はそれぞれ線源格納部、照4=
J部、線源駆動部および線源昇降用ラックである。5は
線源格納ローターである。第3図の6は線源格納孔に収
納された線源を示す。
この照射装置は以下のように動作する。線源格納ロータ
ーを3の駆動機構VC、J:り回転させ、使用すべき線
源をラック軸上に停止させる。次に、3の、駆動機構に
エクジソンを上昇させ線源全照射部7のコリメーター遮
蔽ブロックの位置で停止させ照をを行う。この逆の動作
により線源を元の状態に収納する。安全対策としては、
■電源が消失した時、ラックおよび線源b−自重落下し
格納状態となる方式としたこと、Q)駆動機構には全て
メカニカルトルクテンダーを用い、線源の破損を防止す
る機構としたこと、および■照射部8のプラグを抜き、
替りにチーノミ−プラグを入れ線源を安全に装荷できる
機構としたこと等である。また、照ヰj部は全てブロッ
ク組立方式とし、照射計が簡単に変更でき、ブロックを
撤去することにより4π照射ができる構造とした。
実施例 本照月−1装置全試作し線源として13708 f 0
.3 +3+30Or4装荷した。この場合校正距購0
8〜3n〕で]、 OmR/11〜15 R/ I+の
線量率が得られ、放射線管理に使用している市販の電離
箱サーベイメータの校正全校正距離約1.0mで迅速り
こ実;Irlできた。
本装置は、■大略一定の校正距n出で能率的に校正作業
ができること@照射野の変更か容易で・1π照則が可能
なこと■校正距離が短縮できること■照射8++と線源
格納部が分離されているため、照射時に制御源間の干渉
がないこと、■線源格納ロータが小型化できるのでじゃ
へい体重量を軽くすることができること、および■線源
を安全に装荷できること等の特徴を備えていることが挙
げられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の校正方法の一例を示す概略図である。 第2図は本発明の照射線量測定器の放射線校正に用いる
照射装置の一実施例の概略を示す部分断面図である。 第3図は第2図のA−A’における断面図である。 図において、 1・・・鉛の遮蔽体を有する線源格納部2・・・照射計
の変更が容易な照射部 :3・・・線源全格納から照射状態に移行する42% 
9の部4・・・線源昇降用ラック 5・・・線源格納ローター 6・・・線θ星格納孔に収納された線源7、・・・コリ
メータ遮蔽ブロック 特許出願人 日本原子力研究所 奉2 図 ε 431− ′#3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 放射線強度が異なる複数個のγ線源を格納した線源格納
    部と、照射野の変更が容易にでき4π照躬も可能な照射
    部より構成された線源格納部の線源を任意に選択して照
    射することを特徴とする校正用多線源選択型照射装置。
JP13919382A 1982-08-12 1982-08-12 校正用多線源選択型照射装置 Pending JPS5930081A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13919382A JPS5930081A (ja) 1982-08-12 1982-08-12 校正用多線源選択型照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13919382A JPS5930081A (ja) 1982-08-12 1982-08-12 校正用多線源選択型照射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5930081A true JPS5930081A (ja) 1984-02-17

Family

ID=15239716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13919382A Pending JPS5930081A (ja) 1982-08-12 1982-08-12 校正用多線源選択型照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5930081A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6383681A (ja) * 1986-09-29 1988-04-14 Hitachi Ltd 半導体装置の試験方法
JP2013186014A (ja) * 2012-03-09 2013-09-19 Hitachi Ltd 放射線検出器の校正方法および放射線監視装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4730720U (ja) * 1971-04-26 1972-12-07

Patent Citations (1)

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