[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPS59177929A - サツクバツクポンプ - Google Patents

サツクバツクポンプ

Info

Publication number
JPS59177929A
JPS59177929A JP58050506A JP5050683A JPS59177929A JP S59177929 A JPS59177929 A JP S59177929A JP 58050506 A JP58050506 A JP 58050506A JP 5050683 A JP5050683 A JP 5050683A JP S59177929 A JPS59177929 A JP S59177929A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve
chamber
pump
pipe
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58050506A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0220135B2 (ja
Inventor
Terukuni Tano
田野 輝邦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOKYO SHIIRING KK
Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
Original Assignee
TOKYO SHIIRING KK
Canon Inc
Canon Hanbai KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TOKYO SHIIRING KK, Canon Inc, Canon Hanbai KK filed Critical TOKYO SHIIRING KK
Priority to JP58050506A priority Critical patent/JPS59177929A/ja
Priority to US06/593,704 priority patent/US4597719A/en
Publication of JPS59177929A publication Critical patent/JPS59177929A/ja
Publication of JPH0220135B2 publication Critical patent/JPH0220135B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F15/00Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Reciprocating Pumps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体を定量排出させた後、余分の液体がパイ
プ等の先端から滴下するのを防止するために用いられる
サックバックポンプに関するものである。
各種液体を定量だけ排出させるということは種々の分野
で要求される機能であるが、この場合特に解決しなけれ
ばならないことの一つに定量排出後の余剰滴下の防止と
いうことがある。例えばIC製造技術においては、シリ
コンウェハー表面に微細パターンを形成するにあたり、
フォトエツチング技術が利用されているが、このために
はウェハー表面にフォトレジストを均一な厚さに塗布す
る必要がある。この塗布には、ウェハーにフォトレジス
トを所定量滴下し、ウェハーの回転による遠心力を利用
してフォトレジストを均一に広げる方法が用いられてい
る。このような回転塗布法では、所定量のフォトレジス
トをウェハーに滴下させた後に、余剰分のフォトレジス
トが滴下した場合には膜厚のムラが発生し、後の処理中
で不要なトラブルが発生することになる。
前述したフォトレジストの余剰滴下を防ぐためには、定
量送り出し後にその送シ出し系路内で若干の吸引力を生
じさせ、送り出しノズルからフォトレジストを引き込む
方法が用いられている。このような方法を実施するにあ
たり、従来では、例エバテフロンチューブなどのような
弾性をもつチューブに、その径方向から圧力を加えて若
干押しつぶした状態で定量のフォトレジストを送り出し
、その後チューブに加えていた圧力を解いてチューブが
弾性で後締する際に生ずる吸引力を利用したり、捷た送
シ出し径路内にベローズポンプを設け、定量送シ出し後
にベローズポンプを作動して、ベローズ内に液体を吸い
戻したりしている。しかしながら、上述の従来技術では
いずれにしても、装置の劣化が著しい。すなわち、弾性
チューブを繰シ返し変形させていると、その変形部位の
劣化が避けられず、またベローズポンプを利用する場合
もベローズの折り曲は部の変形量が大きいために、その
劣化が避けられず、たとえステンレス製ベローズを用い
ても耐久性が充分なものとは言えない。
本発明は上記欠点に鑑み、液体の定量送り出し後の余剰
液体の滴下を確実に防止し、しかも耐久性に富むサック
バックポンプを提供することを目的とするものである。
このために本発明では、液体の流入口と流出口との間に
、交互に作動される2つの弁、すなわち液体の流路を迩
ぎる閉止弁と、流出口側の液体を吸い込むだめの吸引弁
とが設けられている。また、望ましい態様によれば、前
述の閉止弁に定量送シ出し作用をももたせている。
以下、添付した図面に従って本発明の一実施例につき詳
述する。
第1図は本発明を用いたフォトレジストの塗布装置の概
略を示すものである。タンク1はその内部にフォトレジ
ストが貯留されており、パイプ2を介してサックバック
ポンプ8に接続されている。
このパイプ2の途中に定量送り出しポンプ4が設けられ
ており、一定量のフォトレジストを間欠的にサックバッ
クポンプ8に送る。このサックバックポンプ8は、流入
口にパイプ2が接続されており、流入口から入ったフォ
トレジストがその内部を素通りして流出口に達する。こ
の流出口にはパイプ5が接続されており、その先端から
一定量のフォトレジストがウェハー6上に滴下される。
このウェハー6は、モータ7で回転されるテーブル8上
に装着されており、滴下されたフォトレジストが遠心力
によって均一の厚みに広げられる。
前記サックバックポンプ8は、ウェハー6上に一定量の
フォトレジストを滴下した後、パイプ5の先端からフォ
トレジストが余分にウェハー6上に滴下しないようにす
るために、パイプ5内に残っているフォトレジストの一
部を吸い戻す。これにより、パイプ5の先端から膨出し
ていたフォトレジストの液面は、パイプ5内へ入シ込む
ため、フォトレジストの滴下が防止される。
前記サックバックポンプ8は、第2図に詳細に示すよう
に、加圧空気で作動されるようになっており、このため
に加圧空気を作るエアーポンプ9と、加圧空気をサック
バックポンプ3へ送るためのパイプ10と、パイプ10
の途中に設けられた切換弁11とが設けられている。こ
の切換弁11は、定量送り出しポンプ4に連動して作動
し、エアーポンプ9からの加圧空気をザックバックポン
プ3に送ったり、サックバックポンプ3内の加圧空気を
外部へ逃がしたりする。
第2図は本発明のサックバックポンプを示すものである
。サックバックポンプ3は、パイプ2が接続される流入
口12と、パイプ5が接続される流出口18と、パイプ
10が接続されるエアー人口14とを備えている。流入
口12からサックバックポンプ8内に送られたフォトレ
ジストは、ボール15とスプリング16とからなる逆止
弁を経て第1室17に入る。この第1室17は、連通路
18を介して第2室19に連通しており、第2室19に
入ったフォトレジストは流出口13から排出される。
前記第1室17内には周縁の可撓部に穴を有し、下降し
た時に連通路18を閉鎖する閉止弁20が収納されてい
る。捷だ第2室19内には、周端縁がその室内壁に水密
に止着され、かつ室内を仕切るとともに、仕切られた区
画内の容積を増減するように移動する吸引弁21が設け
られている。これらの弁20.21には例えば5LIS
ステンレス、ゴムなどが利用できる。また閉止弁20.
吸引弁21はそれぞれ加圧空気で作動されるピストン2
2゜23に連結されている。これらのピストン22゜2
3はそれぞれバネ24.25により、図示の初期状態に
向かってゆ帰習性が与えられている。
26.27はそれぞれのピストン22.28を受容する
シリンダであり、第1図に示すエアーポンプ9から加圧
空気が供給される。ピストンの作動及びその復帰に寄与
するエアー流通路は図示のとおりで、流路81,82は
シリンダ26.27を連通させており、流路31にはニ
ードル弁34が、また流路32にはボール弁85がそれ
ぞれ設けられている。このニードル弁84ばつ才み36
をまわすことによって流路31に沿って移動する。
なお、閉止弁20.吸引弁21、ピストン22゜28の
移動を容易にするために、シリンダ26゜27及び第2
室19にエアー抜き用の流路が設けられている。捷たピ
ストン22.28の工程路に面する適宜個所にはOIJ
ング88が設けられている。
以上の構成になるサックバックポンプの作動は以下に従
ってなされる。まず第2図の初期状態ではそれぞれのピ
ストン22.28は図示実線位置にあり、パイプ2.5
と第1室17及び第2室19内はフォトレジストによシ
満たされているものとする。定量送シ出しポンプ4によ
り一定量のフォトレジストが送り出された直後に、エア
ーポンプ9から加圧空気がシリンダ26内に送り込まれ
る。
この加圧空気によりピストン22がバネ24に抗して押
し下けられ、よって閉止弁20は図中破線位置へと移動
してゆき、連通路18を閉鎖する。
この閉止弁20の可撓部には穴が形成されているので、
閉止弁20が下降する時には、フォトレジストが閉止弁
20の背後へ逃げるために、フォトレジストが加圧され
てサックバックポンプ8から押し出されることはない。
前記ピストン22が下降してゆくと、エアー流路81が
開かれ、加圧空気がシリンダ27内へ送り込捷れる。こ
の際、エアー流路81にはニードル弁34が設けられて
いるから、ピストン23が適当に調整された速さで序々
に作動されてゆく。
そしてピストン28と吸引弁21は図中破線位置へと下
降してゆくことになる。これにより第2室19の容積が
増加することになシ、パイプ5内にあるフォトレジスト
は第2室19へ向かって吸引されることに彦り、定量送
り出し後の余剰フォトレジストの滴下が未然に防止でき
る。なおこの工程中においてはシリンダ26側の作用力
の方がシリンダ27側の作用力よりも若干高いので、ボ
ール弁35が作用してエアー流路82を閉じる。
前記定量送り出しポンプ4が再び作動する直前に、切換
弁11が作動してパイプ10をエアーポンプ9から切シ
離して外気へ開放する。これによりシリンダ26内の加
圧空気は外部へ放出され、上部ピストン22がバネ24
の畜勢力によって直ちに上昇して初期位置へ戻る。一方
、上部シリンダ26内の圧力低下により、下部シリンダ
27内の加圧空気が通路82内を通り、ボール弁85を
持ち上げて上部シリンダ26内へ入ることができる。し
たがって、下部ピストン23も上部ピストン22と一緒
に上昇して直ちに初期位置へ戻ることができる。この上
部ピストン22の上昇によって閉止弁20が開かれ、ま
た下部ピストン23の上昇によって吸引弁21が初期位
置へ戻る。
前記実施例では、閉止弁2oの可撓性部分に穴を設けで
あるが、この穴をなくして吸引弁21と同じ構成にすれ
ば、閉止弁2oの下降時にフォトレジストを流出口18
がら押し出すことができる。
この場合には、閉止弁2oが定量送り出しポンプとして
も機能するから、第1図に示す定量送シ出しポンプ4を
省略することができる。
上記構成を有する本発明は、変形が少ないダイヤフラム
式の弁を用いたから、ベローズ等を用いた従来の装置に
比較して、耐久性、作動の確実性が格段に向上する。し
かも上述のよう彦弁の採用により、その作動を加圧空気
あるいは油圧などで駆動されるピストンにより行なうこ
とが容易となるため、駆動制御の自動化が行ない易くな
り、多数回の繰り返し作業が必要とされる場合などでは
特に有効となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置を用いたフォトレジストの塗布装置
を示す概略図、第2図は本発明の実施例を示す断面図で
ある。 1・・・タンク 3・@−サックバックポンプ 4・・・定量送シ出しポンプ 6・・・ウェハー   7・参・モータ8・・・テーブ
ル   9・・・エアーポンプ11・・・切換弁   
17・・・第1室18・・・連通路   19・・・第
2室20・・・閉止弁   21・・・吸引弁22・・
 eピストン   23・ ・・ピストン84・・・ニ
ードル弁。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)流入口と流出口とを有し、この流出口に接続され
    たパイプ内に存在する液体を吸い戻してパイプの先端か
    らの液体の滴下及び硬化を防止するサックバックポンプ
    において、 前記流入口に接続された第1室と、前記流出口に接続さ
    れた第2室と、前記第1室と第2室とを接続する連通路
    と、この連通路を閉鎖する移動自在な閉止弁と、前記第
    2室内の容積を増減させる移動自在な吸引弁と、前記閉
    止弁の作動後に吸引弁が作動するように吸引弁の作動を
    遅延させる手段とからなることを特徴とするサックバッ
    クポンプ。
  2. (2)前記閉止弁及び吸引弁とをエアーピストンによっ
    てそれぞれ移動させるようにしたことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のサックバックポンプ。
  3. (3)前記閉止弁用エアーピストンが嵌合するシリンダ
    と、前記吸引弁用エアーピストンが嵌合するシリンダと
    を連通し、前記閉止弁用エアーピストンが一定量移動し
    た時に、加圧空気が閉止弁用シリンダを介して吸引弁用
    エアーシリンダに供給され乞ようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項記載のサックバックポンプ。
  4. (4)前記閉止弁用シリンダと吸引弁用シリンダとを連
    通するエアー流路内にニードル弁を設け、吸引弁用シリ
    ンダに供給される加圧空気の流量を制御することによっ
    て吸引弁用ピストンの作動を調整するようにしたことを
    特徴とする特許請求の範囲第3項記載のサックバックポ
    ンプ。
  5. (5)前記流入口と第1室との間に逆止弁を設けると共
    に、閉止弁の移動によシ第1室内の容積が増減するよう
    構成し、前記閉止弁の連通路を閉じる方向への移動によ
    って第1室内の容積を減少させ、第2室を介して一定量
    の液体を流出口から排出させるようにしたことを特徴と
    する特許請求の範囲第4項記載のサックバックポンプ。
JP58050506A 1983-03-28 1983-03-28 サツクバツクポンプ Granted JPS59177929A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58050506A JPS59177929A (ja) 1983-03-28 1983-03-28 サツクバツクポンプ
US06/593,704 US4597719A (en) 1983-03-28 1984-03-26 Suck-back pump

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58050506A JPS59177929A (ja) 1983-03-28 1983-03-28 サツクバツクポンプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59177929A true JPS59177929A (ja) 1984-10-08
JPH0220135B2 JPH0220135B2 (ja) 1990-05-08

Family

ID=12860840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58050506A Granted JPS59177929A (ja) 1983-03-28 1983-03-28 サツクバツクポンプ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4597719A (ja)
JP (1) JPS59177929A (ja)

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5167837A (en) 1989-03-28 1992-12-01 Fas-Technologies, Inc. Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series
JP2803859B2 (ja) * 1989-09-29 1998-09-24 株式会社日立製作所 流動体供給装置およびその制御方法
US5516545A (en) * 1991-03-26 1996-05-14 Sandock; Leonard R. Coating processes and apparatus
EP0505894A1 (en) * 1991-03-26 1992-09-30 Shipley Company Inc. Coating processes and apparatus
US5538754A (en) * 1991-03-26 1996-07-23 Shipley Company Inc. Process for applying fluid on discrete substrates
US5195655A (en) * 1991-05-24 1993-03-23 Motorola, Inc. Integrated fluid dispense apparatus to reduce contamination
DE69306295T2 (de) * 1992-04-24 1997-04-03 Hewlett Packard Co Regelung des Gegendrucks beim Farbstrahldrucken
JPH0755688Y2 (ja) * 1992-06-12 1995-12-20 ティアック株式会社 ヘッド用フレキシブルプリント基板
JP2830683B2 (ja) * 1992-09-11 1998-12-02 トヨタ自動車株式会社 回転霧化静電塗装装置
JPH06129563A (ja) * 1992-10-16 1994-05-10 Toyota Motor Corp 切替バルブ
US5310257A (en) * 1992-10-29 1994-05-10 Fluid Management Limited Partnership Mixing apparatus
US5305917A (en) * 1992-11-19 1994-04-26 Fluid Management Limited Partnership Simultaneous dispensing apparatus
US5407100A (en) * 1994-01-07 1995-04-18 Fluid Management Limited Partnership Dispensing apparatus with a moveable plate
US5971353A (en) * 1996-04-09 1999-10-26 Barber Industries, Inc. Dump/stop valve for surface controlled subsurface safety valve
US6082587A (en) * 1996-04-10 2000-07-04 Automatic Bar Controls, Inc. Condiment dispensing system utilizing a draw-back valve
US5906296A (en) * 1996-04-10 1999-05-25 Automatic Bar Controls, Inc. Condiment dispensing system utilizing a draw-back valve
JP3789582B2 (ja) * 1997-01-09 2006-06-28 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP4000491B2 (ja) * 1997-03-05 2007-10-31 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP4081620B2 (ja) * 1997-03-05 2008-04-30 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3940853B2 (ja) * 1997-03-11 2007-07-04 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP4035666B2 (ja) * 1997-03-14 2008-01-23 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP4035667B2 (ja) * 1997-03-18 2008-01-23 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3947938B2 (ja) * 1997-03-21 2007-07-25 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3940854B2 (ja) * 1997-03-25 2007-07-04 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3952321B2 (ja) * 1997-04-07 2007-08-01 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3951150B2 (ja) * 1997-04-09 2007-08-01 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3947939B2 (ja) * 1997-04-10 2007-07-25 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP3962933B2 (ja) * 1997-07-17 2007-08-22 Smc株式会社 サックバックバルブ
JP2002500099A (ja) * 1998-01-09 2002-01-08 エフエイスター、リミティド 可動ヘッド、塗装装置、および方法
TW390389U (en) * 1998-08-18 2000-05-11 United Microelectronics Corp The photo-resist feeding pump in photo-resist spreading machine
JP3997535B2 (ja) * 1998-08-31 2007-10-24 Smc株式会社 サックバックバルブ
US6123320A (en) * 1998-10-09 2000-09-26 Swagelok Co. Sanitary diaphragm valve
US6394417B1 (en) * 1998-10-09 2002-05-28 Swagelok Co. Sanitary diaphragm valve
US6062442A (en) * 1998-11-03 2000-05-16 United Microelectronics Corp. Dispense system of a photoresist coating machine
US8172546B2 (en) * 1998-11-23 2012-05-08 Entegris, Inc. System and method for correcting for pressure variations using a motor
US7029238B1 (en) 1998-11-23 2006-04-18 Mykrolis Corporation Pump controller for precision pumping apparatus
DE69917927T2 (de) * 1998-11-23 2005-06-23 Mykrolis Corp., Billerica Pumpensteuergerät für hochpräzisionsdosierpumpe
US6158972A (en) * 1999-03-16 2000-12-12 Federal-Mogul World Wide, Inc. Two stage pulse pump
US6325932B1 (en) * 1999-11-30 2001-12-04 Mykrolis Corporation Apparatus and method for pumping high viscosity fluid
US6698629B2 (en) * 2001-05-10 2004-03-02 Shurflo Pump Manufacturing Co., Inc. Comestible fluid dispensing tap and method
US6857543B2 (en) * 2001-12-01 2005-02-22 Shipley Company, L.L.C. Low volume dispense unit and method of using
US6763976B2 (en) * 2002-05-03 2004-07-20 Whirlpool Corporation Anti run-on device for refrigerator water dispenser
US7014076B2 (en) * 2002-10-15 2006-03-21 Carrier Commercial Registration, Inc. Syrup delivery system
JP4035728B2 (ja) * 2003-07-07 2008-01-23 Smc株式会社 サックバックバルブ
EP1859169A2 (en) * 2004-11-23 2007-11-28 Entegris, Inc. System and method for a variable home position dispense system
CN101583796B (zh) 2005-11-21 2012-07-04 恩特格里公司 多级泵及形成多级泵的方法
US8753097B2 (en) 2005-11-21 2014-06-17 Entegris, Inc. Method and system for high viscosity pump
JP5253178B2 (ja) * 2005-12-02 2013-07-31 インテグリス・インコーポレーテッド ポンプの弁シーケンスのためのシステムおよび方法
US7878765B2 (en) 2005-12-02 2011-02-01 Entegris, Inc. System and method for monitoring operation of a pump
US7850431B2 (en) * 2005-12-02 2010-12-14 Entegris, Inc. System and method for control of fluid pressure
KR101243509B1 (ko) 2005-12-02 2013-03-20 엔테그리스, 아이엔씨. 펌프에서의 압력 보상을 위한 시스템 및 방법
US8083498B2 (en) 2005-12-02 2011-12-27 Entegris, Inc. System and method for position control of a mechanical piston in a pump
KR20080073778A (ko) * 2005-12-02 2008-08-11 엔테그리스, 아이엔씨. O링 없는 로우 프로파일 피팅 및 피팅 조립체
WO2007067354A2 (en) * 2005-12-02 2007-06-14 Entegris, Inc. I/o systems, methods and devices for interfacing a pump controller
US20070128061A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Iraj Gashgaee Fixed volume valve system
WO2007067360A2 (en) * 2005-12-05 2007-06-14 Entegris, Inc. Error volume system and method for a pump
TWI402423B (zh) 2006-02-28 2013-07-21 Entegris Inc 用於一幫浦操作之系統及方法
US7684446B2 (en) 2006-03-01 2010-03-23 Entegris, Inc. System and method for multiplexing setpoints
US7494265B2 (en) * 2006-03-01 2009-02-24 Entegris, Inc. System and method for controlled mixing of fluids via temperature
JP5009107B2 (ja) * 2007-09-12 2012-08-22 サーパス工業株式会社 サックバックバルブ
JP5301805B2 (ja) * 2007-10-17 2013-09-25 サーパス工業株式会社 サックバックバルブシステム及びその閉弁動作制御方法
CN102563173A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 高砂电气(苏州)有限公司 回吸结构电磁阀
US10307857B2 (en) 2014-09-09 2019-06-04 Proteus Industries Inc. Systems and methods for coolant drawback
US10121685B2 (en) * 2015-03-31 2018-11-06 Tokyo Electron Limited Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5461476A (en) * 1977-10-26 1979-05-17 Hitachi Ltd Discharger for viscous fluid
JPS5547100A (en) * 1978-09-29 1980-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd Method of conveying coating liquid

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US862867A (en) * 1906-03-28 1907-08-06 Lewis Watson Eggleston Pneumatic pumping apparatus.
US3895748A (en) * 1974-04-03 1975-07-22 George R Klingenberg No drip suck back units for glue or other liquids either separately installed with or incorporated into no drip suck back liquid applying and control apparatus
SE7603251L (sv) * 1976-03-15 1977-09-16 Bjoerklund Curt Arnold Ventil, serskilt for inbyggnad i en oljeledning mellan en pump och ett brennarmunstycke
US4139333A (en) * 1977-05-18 1979-02-13 Gca Corporation Positive displacement flow through fluid pump
US4422835A (en) * 1979-02-28 1983-12-27 Mckee James E Fluid operated diaphragm pump with fluid timing control and control circuit manifold mounted on pump body
US4253379A (en) * 1979-10-01 1981-03-03 American Standard Inc. Fluid control system
US4452573A (en) * 1982-02-18 1984-06-05 Western Chemical Pumps, Inc. Variable pilot chemical pump

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5461476A (en) * 1977-10-26 1979-05-17 Hitachi Ltd Discharger for viscous fluid
JPS5547100A (en) * 1978-09-29 1980-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd Method of conveying coating liquid

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0220135B2 (ja) 1990-05-08
US4597719A (en) 1986-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59177929A (ja) サツクバツクポンプ
TW593888B (en) Pump controller for precision pumping apparatus
US4950134A (en) Precision liquid dispenser
US7029238B1 (en) Pump controller for precision pumping apparatus
US6332924B1 (en) Photoresist dispensing device
EP0542783A1 (en) PROCESS AND APPARATUS FOR EXCLUDING AN ADHESIVE AND / OR SEALING PRODUCT.
CN100393375C (zh) 流体产品分配装置
JPS6028339B2 (ja) 感光したフイルムをスプレイ処理する装置を備えたパンチカード・カメラ
JPH07324680A (ja) 流動体供給方法および装置
US5322198A (en) Pump-equipped liquid supply system
JP4328684B2 (ja) 処理液供給システム
JP2835900B2 (ja) フィルター/ディスペンサー装置
JPH0529207A (ja) 流体滴下供給装置
US4161262A (en) Multiple dosing device
US2164441A (en) Fluid dispensing system
JPH09151854A (ja) 薬液供給装置
JPH10159750A (ja) 定量送液ポンプ
JPH059635U (ja) 流体滴下供給装置
US6702655B2 (en) Slurry delivery system for chemical mechanical polisher
JP3186952B2 (ja) ダイヤフラム式液体充填装置
JPH0826849B2 (ja) サツクバツクバルブ
JPH059636U (ja) 流体滴下供給装置
SU742711A1 (ru) Дозатор жидкости
JPH07121380B2 (ja) 液吐出装置
KR102702897B1 (ko) 능동 밸브를 포함한 가변 노즐을 이용한 미세 입자가 포함된 용액의 분주 노즐