JPS591220B2 - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- JPS591220B2 JPS591220B2 JP10737580A JP10737580A JPS591220B2 JP S591220 B2 JPS591220 B2 JP S591220B2 JP 10737580 A JP10737580 A JP 10737580A JP 10737580 A JP10737580 A JP 10737580A JP S591220 B2 JPS591220 B2 JP S591220B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- raw material
- base material
- quartz tube
- fiber base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、気相化学反応を利用した、いわゆるCVD
法(内付けCVD法)により光ファイバ母材を製造する
方法に関する。
法(内付けCVD法)により光ファイバ母材を製造する
方法に関する。
従来、CVD法(内付けCVD法)は、その製造プロセ
スにおいて反応系がclosedsystemであるこ
と、及びプリフオーム製造工程までが連続して行なえる
ことのため、光ファイバ中に混入するOH基量が少ない
製造方法としてよく知られている。
スにおいて反応系がclosedsystemであるこ
と、及びプリフオーム製造工程までが連続して行なえる
ことのため、光ファイバ中に混入するOH基量が少ない
製造方法としてよく知られている。
光ファイバ中に残存するOH基量は、通常40〜50p
pb程度である。更にOH基量を減少させるためには、
石英管からのOH基の拡散を防ぐことと、コアガラス中
に混入するOH基量を減らすことが重要である。本発明
は、気相化学反応によりガラス微粉末を生成するための
原料ガスとして用いるO2を、多孔質ガラス粉末でなる
脱水触媒中に通すことにより脱水処理して、コアガラス
中に混入するOH基量を減少させるように改善したCV
D法による光ファイバ母材の製造方法を提供することを
目的とする。
pb程度である。更にOH基量を減少させるためには、
石英管からのOH基の拡散を防ぐことと、コアガラス中
に混入するOH基量を減らすことが重要である。本発明
は、気相化学反応によりガラス微粉末を生成するための
原料ガスとして用いるO2を、多孔質ガラス粉末でなる
脱水触媒中に通すことにより脱水処理して、コアガラス
中に混入するOH基量を減少させるように改善したCV
D法による光ファイバ母材の製造方法を提供することを
目的とする。
一般にSiO2・Al2O2等の二元酸化物触媒は、焼
結処理によつて二元酸化物中に酸点と塩基点とを有する
ことが知られている。
結処理によつて二元酸化物中に酸点と塩基点とを有する
ことが知られている。
そして水(OH基)はルイス酸として作用するため、塩
基点を有する触媒と反応するので、二元酸化物触媒を用
いれば、OH基を除去することが可能である。本発明者
等は、上記光ファイバの製造工程において、気相化学反
応により作られる多孔質ガラス微粉末がSiO2を主成
分としP2O5やGe02等を含むものであることに着
目し、この多孔質ガラス微粉末もまた上記二元酸化物触
媒としての作用をもつものと予想し、上記多孔質ガラス
微粉末を脱水用の触媒として用いる本発明をなしたもの
である。以下、本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。第1図において、石英管1がガラス旋
盤2により回転するように保持されており、酸水素バー
ナ3を矢印に示すように往復動させることにより、石英
管1の加熱ゾーンを軸方向に移動させる。この石英管1
の中空部には原料ガス供給システム4からスウイベルコ
ネクタ11を介して原料ガスが送られている。原料ガス
供給システム4は模式的に描かれており、バプラ41中
の原料の液体SiCl4(ガラスの原料)、GeCl4
、POCl3、BBに3(屈折率制御用添加物の原料)
等にO2を通してバブリングし、上記の原料を含んだ0
2を原料ガスとしている。この原料ガスは石英管1内に
供給されると、その加熱ゾーンにおいて熱酸化反応や加
水分解反応等の気相化学反応によりガラス微粉末及びこ
れに含まれる金属酸化物を生成し、これが石英管1の内
壁面に堆積してコアガラスが形成される。
基点を有する触媒と反応するので、二元酸化物触媒を用
いれば、OH基を除去することが可能である。本発明者
等は、上記光ファイバの製造工程において、気相化学反
応により作られる多孔質ガラス微粉末がSiO2を主成
分としP2O5やGe02等を含むものであることに着
目し、この多孔質ガラス微粉末もまた上記二元酸化物触
媒としての作用をもつものと予想し、上記多孔質ガラス
微粉末を脱水用の触媒として用いる本発明をなしたもの
である。以下、本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。第1図において、石英管1がガラス旋
盤2により回転するように保持されており、酸水素バー
ナ3を矢印に示すように往復動させることにより、石英
管1の加熱ゾーンを軸方向に移動させる。この石英管1
の中空部には原料ガス供給システム4からスウイベルコ
ネクタ11を介して原料ガスが送られている。原料ガス
供給システム4は模式的に描かれており、バプラ41中
の原料の液体SiCl4(ガラスの原料)、GeCl4
、POCl3、BBに3(屈折率制御用添加物の原料)
等にO2を通してバブリングし、上記の原料を含んだ0
2を原料ガスとしている。この原料ガスは石英管1内に
供給されると、その加熱ゾーンにおいて熱酸化反応や加
水分解反応等の気相化学反応によりガラス微粉末及びこ
れに含まれる金属酸化物を生成し、これが石英管1の内
壁面に堆積してコアガラスが形成される。
前記のバブリングのための02は、多孔質ガラス微粉末
からなる脱水触媒51が納められている触媒カラム52
中を通されることにより脱水処理されている。この脱水
触媒51となる多孔質ガラス微粉末は、例えば次の第1
表に示す条件で1本の多層バーナに原料ガスを供給し、
火炎加水分解法を用いたVAD法により、棒状基材の軸
方向に堆積させたものからなり、この多孔質ガラス微粉
末の成分はSlO2・P2O5・GeO2系三元酸化物
であるから、上述の二元酸化物の脱水触媒としての機能
を果たす。この実施例では、触媒カラム52をヒータ5
3により250〜300℃に熱して、バルブ62,63
,65,67を開き、N2ガスまたはH2ガスを流し、
約1時間加熱処理して活性化したのち、バルブ62,6
7を閉じ、バルプ61,64,66を開き、C2をこの
触媒カラム52中に通して精製し、原料ガス供給システ
ム4に連続的に送るようにした。
からなる脱水触媒51が納められている触媒カラム52
中を通されることにより脱水処理されている。この脱水
触媒51となる多孔質ガラス微粉末は、例えば次の第1
表に示す条件で1本の多層バーナに原料ガスを供給し、
火炎加水分解法を用いたVAD法により、棒状基材の軸
方向に堆積させたものからなり、この多孔質ガラス微粉
末の成分はSlO2・P2O5・GeO2系三元酸化物
であるから、上述の二元酸化物の脱水触媒としての機能
を果たす。この実施例では、触媒カラム52をヒータ5
3により250〜300℃に熱して、バルブ62,63
,65,67を開き、N2ガスまたはH2ガスを流し、
約1時間加熱処理して活性化したのち、バルブ62,6
7を閉じ、バルプ61,64,66を開き、C2をこの
触媒カラム52中に通して精製し、原料ガス供給システ
ム4に連続的に送るようにした。
そしてこの02を流量11/Mmで送りながら、石英管
1の内壁面に}けるガラス微粉末のデポジシヨンを行な
つた。この実施例では、まずクラツド層を次の第2表に
示す条件でデポジシヨンし、次に第3表に示す条件でコ
アのデポジシヨンを行なつた。こうして石英管1の内側
にクラツド層となるガラス微粉末堆積層を有し、更にそ
の内側にコア層となるガラス微粉末堆積層を有する光フ
アイバ母材を得て、これを通常のCVD法と同様に焼結
ガラス化したのちコラツプス(中実化)して、中央部の
中空部を埋めて1本の充実した光フアイバ母材とした。
1の内壁面に}けるガラス微粉末のデポジシヨンを行な
つた。この実施例では、まずクラツド層を次の第2表に
示す条件でデポジシヨンし、次に第3表に示す条件でコ
アのデポジシヨンを行なつた。こうして石英管1の内側
にクラツド層となるガラス微粉末堆積層を有し、更にそ
の内側にコア層となるガラス微粉末堆積層を有する光フ
アイバ母材を得て、これを通常のCVD法と同様に焼結
ガラス化したのちコラツプス(中実化)して、中央部の
中空部を埋めて1本の充実した光フアイバ母材とした。
そしてこれを加熱線引きして光フアイバを試作し、その
波長特性を測定した。測定結果の一例を第2図に示す0
この第2図において、実線が第1図のように触媒カラム
52を使用した場合の特性である。比較のために触媒カ
ラム52を使用しない通常のCVD法により試作した光
フアイバの波長特性を測定し、その測定結果の一例を点
線で示す。この第2図から分るように、通常のCVD法
の場合、0H基による吸収損失(波長1.38μmで)
は4.0dB./Kmであるが、第1図のように触媒カ
ラム52を使用して試作した光フアイバの場合には、0
H基による吸収損失(波長1.38μmで)は0.4d
B/iであり、0H基量を減少させる効果の高いことが
分る。以上、実施例について説明したように、本発明に
よれば、気相化学反応を利用して形成される多孔質ガラ
ス微粉末を脱水触媒として使用し、原料ガスの02を脱
水処理することにより光フアイバ中に残存する0H基量
を減少させることができ、良好な特性の光フアイバを得
ることができる〇な卦、この脱水触媒として用いられる
多孔質ガラス微粉末は、外付け法やAD法等により形成
することができるので、光フアイバ母材の製造工程で簡
単に得ることができる。
波長特性を測定した。測定結果の一例を第2図に示す0
この第2図において、実線が第1図のように触媒カラム
52を使用した場合の特性である。比較のために触媒カ
ラム52を使用しない通常のCVD法により試作した光
フアイバの波長特性を測定し、その測定結果の一例を点
線で示す。この第2図から分るように、通常のCVD法
の場合、0H基による吸収損失(波長1.38μmで)
は4.0dB./Kmであるが、第1図のように触媒カ
ラム52を使用して試作した光フアイバの場合には、0
H基による吸収損失(波長1.38μmで)は0.4d
B/iであり、0H基量を減少させる効果の高いことが
分る。以上、実施例について説明したように、本発明に
よれば、気相化学反応を利用して形成される多孔質ガラ
ス微粉末を脱水触媒として使用し、原料ガスの02を脱
水処理することにより光フアイバ中に残存する0H基量
を減少させることができ、良好な特性の光フアイバを得
ることができる〇な卦、この脱水触媒として用いられる
多孔質ガラス微粉末は、外付け法やAD法等により形成
することができるので、光フアイバ母材の製造工程で簡
単に得ることができる。
勿論、光フアイバ母材の製造工程とは別個に作るように
してもよ四
してもよ四
第1図は本発明の一実施例を説明するためのプロツク図
、第2図は同実施例で得られた光フアイバの波長特性の
測定結果の一例を示すグラフであるO1・・・・・・石
英管、2・・・・・・ガラス旋盤、3・・・・・・酸水
素バーナ、4・・・・・・原料ガス供給システム、51
・・・・・・脱水触媒、52・・・・・・触媒カラム。
、第2図は同実施例で得られた光フアイバの波長特性の
測定結果の一例を示すグラフであるO1・・・・・・石
英管、2・・・・・・ガラス旋盤、3・・・・・・酸水
素バーナ、4・・・・・・原料ガス供給システム、51
・・・・・・脱水触媒、52・・・・・・触媒カラム。
Claims (1)
- 1 O_2を原料の液体中に送つてバブリングし、原料
を含んだO_2を原料ガスとし、この原料ガスを、加熱
されている石英管内に供給してこの石英管内で気相化学
反応によりガラス微粉末を生成し、これを前記石英管内
壁面に堆積させるようにした光ファイバ母材の製造方法
において、前記O_2を、多孔質ガラス微粉末でなる脱
水触媒中に通したのち原料の液体中に送つてバブリング
することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10737580A JPS591220B2 (ja) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10737580A JPS591220B2 (ja) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5734035A JPS5734035A (en) | 1982-02-24 |
JPS591220B2 true JPS591220B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=14457504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10737580A Expired JPS591220B2 (ja) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS591220B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230168107A (ko) * | 2022-06-03 | 2023-12-12 | (주)동일캔바스엔지니어링 | 여과포 순환 필터프레스의 다기능대차 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS637893A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | フツ素含有廃水の処理方法 |
JPH01231989A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-18 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 廃水の処理方法 |
-
1980
- 1980-08-05 JP JP10737580A patent/JPS591220B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230168107A (ko) * | 2022-06-03 | 2023-12-12 | (주)동일캔바스엔지니어링 | 여과포 순환 필터프레스의 다기능대차 |
KR20230168106A (ko) * | 2022-06-03 | 2023-12-12 | (주)동일캔바스엔지니어링 | 여과포 순환 필터프레스의 다기능대차 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5734035A (en) | 1982-02-24 |
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