JPS59117130A - ロ−ド・アンロ−ド装置 - Google Patents
ロ−ド・アンロ−ド装置Info
- Publication number
- JPS59117130A JPS59117130A JP22614982A JP22614982A JPS59117130A JP S59117130 A JPS59117130 A JP S59117130A JP 22614982 A JP22614982 A JP 22614982A JP 22614982 A JP22614982 A JP 22614982A JP S59117130 A JPS59117130 A JP S59117130A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- loading
- cartridges
- wafers
- unloading
- stage
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は被処理物のロード・アンロード装置、たとえば
、半導体ウェハ処理工程の長時間無人運転を必要とし、
かつ連続運転の可能な装置に接続するウェハロード・ア
ンロード装置に関する。
、半導体ウェハ処理工程の長時間無人運転を必要とし、
かつ連続運転の可能な装置に接続するウェハロード・ア
ンロード装置に関する。
半導体ウェハ（ウェハ）を処理するホトレジスト装置、
スクラバ、マスクアライナ、ドライエツチング装置等の
処理装置７に搬送機構６を介してウェハｌを搬入したり
、搬出するロード・アンロード装置としては、第１図〜
第４図で示すものが考えられた。すなわち、第１図およ
び第２図に示すものは、２５枚のウェハ１を収容したカ
ートリッジ２を一段あるいは複数段エレベータ５で支持
し、エレベータ５の昇降毎の搬送機構６の搬送動作によ
ってウェハ１のローディング、アンローディングを行な
う。
スクラバ、マスクアライナ、ドライエツチング装置等の
処理装置７に搬送機構６を介してウェハｌを搬入したり
、搬出するロード・アンロード装置としては、第１図〜
第４図で示すものが考えられた。すなわち、第１図およ
び第２図に示すものは、２５枚のウェハ１を収容したカ
ートリッジ２を一段あるいは複数段エレベータ５で支持
し、エレベータ５の昇降毎の搬送機構６の搬送動作によ
ってウェハ１のローディング、アンローディングを行な
う。
また、第２図および第３図に示すものは、力−トリーツ
ジ２をステージ３上に一段だけ円形に配置したものをタ
ーンテーブル４上に載せ、エレベータ５を昇降させてエ
レベータ５上のカートリッジ２でのクエハローディング
・アンローディングを行ない、単一のカートリッジでの
ロード・アンロードが終了するとターンテーブル４を所
定角度毎回動させて新なカートリッジを用いてローディ
ング、アンローディングな行なうつ しかし、このような構造では、１回に収納できるカート
リッジ２の個数が少なく連続的に長時間ウェハをロード
、アンロードする無人連続運転はせいぜい２〜３時間で
あり、８時間以上の連続運転を行なうには途中で人間が
カートリッジを交換してやる必要がある。
ジ２をステージ３上に一段だけ円形に配置したものをタ
ーンテーブル４上に載せ、エレベータ５を昇降させてエ
レベータ５上のカートリッジ２でのクエハローディング
・アンローディングを行ない、単一のカートリッジでの
ロード・アンロードが終了するとターンテーブル４を所
定角度毎回動させて新なカートリッジを用いてローディ
ング、アンローディングな行なうつ しかし、このような構造では、１回に収納できるカート
リッジ２の個数が少なく連続的に長時間ウェハをロード
、アンロードする無人連続運転はせいぜい２〜３時間で
あり、８時間以上の連続運転を行なうには途中で人間が
カートリッジを交換してやる必要がある。
したがって、本発明の目的は、カートリッジの収納筒数
を増やし、連続したかつ安定した長時間のウェハロード
、アンロードを行なうことにある。
を増やし、連続したかつ安定した長時間のウェハロード
、アンロードを行なうことにある。
このような目的を達成するために本発明は同一平面上に
複数個のカートリッジを配置し、それを複数段積み爪ね
た構造とし、上下ピッチ送り（昇降）２回転を使ってウ
ニノ・送り出し、収納を行なうものであろっ 以下、実施例により本発明を説明する。
複数個のカートリッジを配置し、それを複数段積み爪ね
た構造とし、上下ピッチ送り（昇降）２回転を使ってウ
ニノ・送り出し、収納を行なうものであろっ 以下、実施例により本発明を説明する。
第５図は本発明の一実施例による大容量ウェハロード・
アンロード装置を示す概略平面図、第６図は同じく概略
正面図である。
アンロード装置を示す概略平面図、第６図は同じく概略
正面図である。
この実施例では、被処理物であるウェハ１を処理する処
理装置７０ローダおよびアンローダ側の搬送機構６の一
端に臨んで配置されるロード・アンロード装置ヲマ、回
転軸８を中心に回動制御されるターンテーブル４と、円
周部に２列ずつカートリッジ２を支持しかつターンテー
ブル４上に載置されるステージ３と、ターンテーブル４
の一円／Ｆｉ１部に臨み昇降するエレベータ５と、かも
なっている。ステージ３は２５枚のウェハ１を収容した
カートリッジ２な２列３段収容する構造となっていると
ともに、これら各ステージ３は従来装置と同様にターン
テーブル４の切欠部に臨み昇降可能な構造となっている
う このようなロード、アンロード装置は、２つの列の３段
分のカートリッジ２がエレベータ５で上下方向にピッチ
送りされ、３段分のローディングあるいはアンローディ
ングが終ってからターンテーブル４を回転させて次の列
のウェハ１のローディングあるいはアンローディングな
するものであり、これが繰り返されてウェハ１の搬出入
が行なわれるっ 第７図は他の実施例を示す概略正面図である。
理装置７０ローダおよびアンローダ側の搬送機構６の一
端に臨んで配置されるロード・アンロード装置ヲマ、回
転軸８を中心に回動制御されるターンテーブル４と、円
周部に２列ずつカートリッジ２を支持しかつターンテー
ブル４上に載置されるステージ３と、ターンテーブル４
の一円／Ｆｉ１部に臨み昇降するエレベータ５と、かも
なっている。ステージ３は２５枚のウェハ１を収容した
カートリッジ２な２列３段収容する構造となっていると
ともに、これら各ステージ３は従来装置と同様にターン
テーブル４の切欠部に臨み昇降可能な構造となっている
う このようなロード、アンロード装置は、２つの列の３段
分のカートリッジ２がエレベータ５で上下方向にピッチ
送りされ、３段分のローディングあるいはアンローディ
ングが終ってからターンテーブル４を回転させて次の列
のウェハ１のローディングあるいはアンローディングな
するものであり、これが繰り返されてウェハ１の搬出入
が行なわれるっ 第７図は他の実施例を示す概略正面図である。
この実施例では、ターンテーブル４を多段（実施例では
３段）にするとともに、各段それぞれに独立した回転を
与え１段目のウェハｌを全て送り出してから、段切換を
行ない１次々にウェハ１乞送り出す構造であろう このように、第５図〜第７図で示す両実施例のロード、
アンロード装置によれば、ウェハ１の搬送機構６への送
り出しは、２レーン（２列）での取り出しが可能となり
、３段重ねで合計２４個のカートリッジ２を搭載するこ
とができる。
３段）にするとともに、各段それぞれに独立した回転を
与え１段目のウェハｌを全て送り出してから、段切換を
行ない１次々にウェハ１乞送り出す構造であろう このように、第５図〜第７図で示す両実施例のロード、
アンロード装置によれば、ウェハ１の搬送機構６への送
り出しは、２レーン（２列）での取り出しが可能となり
、３段重ねで合計２４個のカートリッジ２を搭載するこ
とができる。
またル−ン（１列）で取り出す場合は第８図および第９
図のように一平面上に８個のカートリッジ２を円形に等
間隔に設置すれば３段重ねで合計２４個搭載できろう この場合、各段が一体となって回転する方式でもよいが
、同一平面の各段ごと独立して回転を行ない、必要なカ
ートリッジ２を取り出すことができる機構を加えればよ
りきめ細かな生産管理が可能となろうまた、本発明の場
合処理装置７とのウェハ１のやりとりには、ベルト、エ
アベア１．真空吸着等の搬送機構が使用できろう なお、本発明ｆ・工他の被処理物の搬出入な行なう場合
にも適用できる。
図のように一平面上に８個のカートリッジ２を円形に等
間隔に設置すれば３段重ねで合計２４個搭載できろう この場合、各段が一体となって回転する方式でもよいが
、同一平面の各段ごと独立して回転を行ない、必要なカ
ートリッジ２を取り出すことができる機構を加えればよ
りきめ細かな生産管理が可能となろうまた、本発明の場
合処理装置７とのウェハ１のやりとりには、ベルト、エ
アベア１．真空吸着等の搬送機構が使用できろう なお、本発明ｆ・工他の被処理物の搬出入な行なう場合
にも適用できる。
また、前記実施例において、処理装置との関係で、取り
出しレーン数を決めてやれば、半導体ウェハ処理工程の
製造装置全般に接続することができる。このように本発
明のロード、アンロード装置は、従来の機構の回転と上
下運動を組み合せた簡便な構造で大量のカートリッジを
収納することができるので、安価でかつ、長時間の連続
無人振出人運転を行なうことができる。
出しレーン数を決めてやれば、半導体ウェハ処理工程の
製造装置全般に接続することができる。このように本発
明のロード、アンロード装置は、従来の機構の回転と上
下運動を組み合せた簡便な構造で大量のカートリッジを
収納することができるので、安価でかつ、長時間の連続
無人振出人運転を行なうことができる。
したがって人員低減にもつながる。
第１図は本発明を成すに先立って考えられたロード・ア
ンロード装置の概略正面図、 第２図は本発明を成すに先立って考えられたロード、ア
ンロード装置の概略正面図、 第３図は本発明を成すに先立って考えられたロード、ア
ンロード装置の概略平面図、 第４図は同じく概略正面図、 第５図は本発明の一実施例によるロード、アンロード装
置の概略平面図、 第６図は同じく概略正面図、 第７図は本発明の他の実施例による概略正面図、第８図
は本発明の他の実施例による概略平面図、第９図は同じ
く概略正面図であるっ １・・・ウェハ、２・・・カートリッジ、３・・・ステ
ージ、４・・・ターンテーブル、訃・・エレベータ、６
・・・搬送機構、７・・・処理装置。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸 ］、。 第 ６ ２３３
ンロード装置の概略正面図、 第２図は本発明を成すに先立って考えられたロード、ア
ンロード装置の概略正面図、 第３図は本発明を成すに先立って考えられたロード、ア
ンロード装置の概略平面図、 第４図は同じく概略正面図、 第５図は本発明の一実施例によるロード、アンロード装
置の概略平面図、 第６図は同じく概略正面図、 第７図は本発明の他の実施例による概略正面図、第８図
は本発明の他の実施例による概略平面図、第９図は同じ
く概略正面図であるっ １・・・ウェハ、２・・・カートリッジ、３・・・ステ
ージ、４・・・ターンテーブル、訃・・エレベータ、６
・・・搬送機構、７・・・処理装置。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸 ］、。 第 ６ ２３３
Claims (1)
- １、搬送機構と、その搬送機構の一端部に配置され、か
つ被処理物を収納するカートリッジを支持するテーブル
とを有するロード・アンロード装置において、前記テー
ブルはカートリッジを複数積層支持し、かつ回転できる
構造となっていることな特徴とするロード・アンロード
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22614982A JPS59117130A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ロ−ド・アンロ−ド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22614982A JPS59117130A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ロ−ド・アンロ−ド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117130A true JPS59117130A (ja) | 1984-07-06 |
Family
ID=16840620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22614982A Pending JPS59117130A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ロ−ド・アンロ−ド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59117130A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6325945A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Nikon Corp | ウエハ及びウエハキヤリヤの搬送装置 |
| JPH01274436A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Florm Co Ltd | 板状体の連続洗浄装置 |
| JPH0223605A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP22614982A patent/JPS59117130A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6325945A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Nikon Corp | ウエハ及びウエハキヤリヤの搬送装置 |
| JPH01274436A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Florm Co Ltd | 板状体の連続洗浄装置 |
| JPH0223605A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
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