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JPS5817677B2 - 水溶液中の砒素の除去法 - Google Patents

水溶液中の砒素の除去法

Info

Publication number
JPS5817677B2
JPS5817677B2 JP53115278A JP11527878A JPS5817677B2 JP S5817677 B2 JPS5817677 B2 JP S5817677B2 JP 53115278 A JP53115278 A JP 53115278A JP 11527878 A JP11527878 A JP 11527878A JP S5817677 B2 JPS5817677 B2 JP S5817677B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arsenic
aqueous solution
added
liquid
ferric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53115278A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5541863A (en
Inventor
下飯坂潤三
松岡功
成田重雄
中沢広
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Mining Co Ltd filed Critical Dowa Mining Co Ltd
Priority to JP53115278A priority Critical patent/JPS5817677B2/ja
Publication of JPS5541863A publication Critical patent/JPS5541863A/ja
Publication of JPS5817677B2 publication Critical patent/JPS5817677B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水溶液中に含有されている砒素を効果的に除去
する方法に関するものである。
砒素は毒性が強いために、これを含む排液の排出基準は
0.5m9/l以下と定められている。
水溶液中の砒素を除去する方法として、従来最も一般的
なのは、いわゆる共沈除去法であり、この共沈除去法に
よって、なんとか排出基準以下に砒素を除去している。
だが、この共沈除去法(水溶液に第2鉄イオンを添加し
たあと中和して水酸化第2鉄を生成させ、これに砒素を
共沈させる方法)は、水溶液中の砒素に対する第2鉄イ
オンの重量比(これを砒鉄比という)を、5価砒素に対
しては約10,3価砒素に対しては20〜30、のよう
に太きくしなければ、排出基準を満足する程度にまで砒
素を除去できない。
砒鉄比を大きくしなければ所望の除去率が得られないと
いうことは、実操業上極めてやっかいな事態を生ずる。
すなわち、多量の第2鉄イオンを添加しなければならず
、その結果、砒素を含む水酸化第2鉄スラツジが多量に
生ずることになり、このスラッジの後処理に困窮してい
るのが実状である。
しかも、このスラッジを液から分離するさいにも、設備
が過大化し非能率的な操業を余儀なくされる。
本発明は、生成するスラッジを従来法の1/10以下に
までも低下させることができかつ砒素の分離除去操作も
簡単な設備で実施できる非常に効果的な砒素の除去法を
提供するもので、その要旨と゛するところは、砒素を含
む水溶液中に第2鉄イオンを砒鉄比が0.5〜3の程度
で共存させ(被処理水溶液が第2鉄イオンを含まないと
きは、第2鉄イオンを添加し)、この第2鉄イオンが水
酸化第2鉄として沈殿する状態(好ましくはpH4〜5
)にまでこの水溶液を中和処理して砒素と鉄を含む微細
な沈殿を生成せしめ、この微細沈殿が生成した液に陰イ
オン系界面活性剤を添加し、次いでこの液を浮遊選鉱処
理して該微細沈殿を浮選分離する水溶液中の砒素の除去
法にある。
5価砒素を含む水溶液に、0.5〜3程度の小さな砒鉄
比となるように第2鉄イオンを共存させ、これにアルカ
リ中和剤例えば水酸化ナトリウムや消石灰を添加してp
Hを4〜6、好ましくは4〜5に調整すると、砒酸鉄と
、砒素を吸着した水酸化第2鉄と、からなる混合物であ
ろうと推察される沈殿が生ずる。
この沈殿は非常に微細でありかつ安定に分散しているか
ら、これを沈降分離することは実際上困難である。
本発明者らは、このような、砒酸鉄、砒素、水酸化第2
鉄が混在していると考えられる微細沈殿の分散液に、陰
イオン性界面活性剤、例えばドデシルベンゼンスルホン
酸塩好マしくはドデシルベンゼン硫酸ナトリウム、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、などを添加したあと、この
液を浮選すると、微細に分散していた沈殿(固形物)は
非常に効率よく浮遊し、固液分離が簡単に実姉できるこ
とを見い出した。
実施例に従い具体的に説明すると、第1図は比較例(曲
線a)と本発明例(曲線b)の試験結果を示したもので
、比較例(曲線a)の場合は、10Tn9/lの5価砒
素を含む水溶液に第2鉄イオンをその添加量を変えて添
加し、消石灰を加えてpHを5付近に調節し、その後1
時間静置して沈殿を沈降させたあとの上澄液をサンプリ
ングし、この液中の残留砒素濃度と第2鉄イオンの添加
量との関係を調べたものであり、本発明例(曲線b)の
場合は10■/lの5価砒素を含む同じ水溶液に、同じ
く第2鉄イオンをその添加量を変えて添加し、水酸化ナ
トリウムを加えてpHを5付近に調整し、次いでドデシ
ルベンゼン硫酸ナトl)ラムを7.5m9/l添加した
あと、この液をそのままデンバー型浮選機に入れ、3分
間の浮選処理を実姉し、その処理尾液中の残留砒素濃度
と第2鉄イオンの添加量との関係を調べたものである。
第1図の結果から明らかなように、比較例(曲線a)の
場合は、第2鉄イオンの添加量が10 am9/l (
砒鉄比10)でも排出基準の0.5m9.#の砒素濃度
にするには困難であるが、本発明例(曲線b)の場合は
、第2鉄イオンの添加量が107Q/7程度で急激に砒
素が除去され、砒鉄比が1〜2でも排出基準の0.5T
n9/l以下の砒素濃度にすることができる。
なお、この実姉例のほかに、陰イオン系界面活性剤の添
加量を変えた試験を行なったが、砒鉄比が小さい程、添
加する界面活性剤の量は少量でよいことがわかった。
また界面活性剤の種類としては、陰イオン系のものであ
れば、その効果に多少の変動があるが、浮選効率の向上
には十分に貢献することがわかった。
なお、被処理水溶液中に溶解している砒素が3価砒素の
場合には、5価砒素の場合よりも第2鉄イオン量を多く
しないと、高い除去率が得られないことがわかった。
しかし、この3価砒素が存在する場合は、酸化剤例えば
さらし粉を添加して、これを5価砒素に酸化したあと、
本発明法を実施することにより、小さい砒鉄比のもとで
高い除去率で砒素を除去することができた。
このように、本発明法によると、従来の共沈除去法に比
べて、第2鉄イオンは1/10程度でよく、生成するス
ラッジの量も大巾に低下する。
しかも、沈降のための時間は不要で、固液分離槽も不要
化する。
このような操業上の利点のほかに、本発明法によると、
処理剤液の砒素濃度が従来法よりも一層低下するという
公害防止にとっては極めて意義のある効果を発揮する。
□図面の簡単な説明 第1図は、砒素含有水溶液に共存する第2鉄イオンの量
と処理後の液中の残留砒素濃度との関係図であり、曲線
aは従来法に従う比較例、曲線すは本発明法に従う実症
例結果を示している。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 水溶液中に溶解している砒素を分離除去するにあた
    り、該水溶液中の砒素量に対して重量比で砒鉄比(Fe
    ”/As)が03〜3となるように第2鉄イオンを共存
    させ、次いでこの液にアルカリ剤を添加してpH4〜6
    に中和処理することにより砒素と鉄を含む微細な沈殿を
    液中に生成せしめ、この微細沈殿が分散生成した液に陰
    イオン系界面活性剤を添加し、次いでこの液を浮遊選鉱
    処理して該微細沈殿を浮遊分離することを特徴とする水
    溶液中の砒素の除去法。
JP53115278A 1978-09-20 1978-09-20 水溶液中の砒素の除去法 Expired JPS5817677B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JPS5541863A JPS5541863A (en) 1980-03-24
JPS5817677B2 true JPS5817677B2 (ja) 1983-04-08

Family

ID=14658692

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Families Citing this family (6)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61135475A (ja) * 1984-12-04 1986-06-23 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 複合帯状材料の製造方法
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JP4598415B2 (ja) * 2004-02-27 2010-12-15 オルガノ株式会社 有機ヒ素化合物処理方法
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CN102642974B (zh) * 2012-05-07 2014-05-07 昆明理工大学 一种高酸高氯废水处理方法

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JPS5541863A (en) 1980-03-24

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