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JPH1196761A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JPH1196761A
JPH1196761A JP9259532A JP25953297A JPH1196761A JP H1196761 A JPH1196761 A JP H1196761A JP 9259532 A JP9259532 A JP 9259532A JP 25953297 A JP25953297 A JP 25953297A JP H1196761 A JPH1196761 A JP H1196761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
power supply
ternary
semiconductor integrated
inverter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9259532A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakuni Kawagoe
政邦 川越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd, Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP9259532A priority Critical patent/JPH1196761A/ja
Priority to TW087105124A priority patent/TW381265B/zh
Priority to US09/055,988 priority patent/US6133752A/en
Priority to CN98109668A priority patent/CN1212435A/zh
Priority to EP98116237A priority patent/EP0905904B1/en
Priority to DE69819278T priority patent/DE69819278T2/de
Priority to KR10-1998-0039813A priority patent/KR100363142B1/ko
Publication of JPH1196761A publication Critical patent/JPH1196761A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/09425Multistate logic
    • H03K19/09429Multistate logic one of the states being the high impedance or floating state

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  • Mathematical Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 バックバイアスに昇圧電源を用いる必要があ
るが、昇圧電源は電位変動の影響を受けることがあるた
め、ラッチアップすることがあった。 【解決手段】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
する三値回路を備える半導体集積回路装置において、三
値回路に、(i) 昇圧電源を除く他の2つの電源のうちい
ずれかを選択出力する第1のインバータ回路と、(ii)第
1のインバータ回路の出力と昇圧電源のいずれかを選択
出力する第2のインバータ回路と、(iii)第1のインバ
ータと上記第2のインバータとを接続する配線に挿入さ
れた抵抗とを備えるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路装置
に関し、特に、昇圧電源を使用する回路を有する半導体
集積回路装置に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】以下、DRAM(ダイナミックRAM)
を例に説明する。DRAMには、一般に、図2に示す回
路構成が用いられている。
【0003】DRAMは、三値回路(TG回路)から与
えられるタイミング信号に応じてトランスファゲート
(1)及び(2)をオンオフ制御することによって、メ
モリアレイ(メモリセル)に保持されているデータのセ
ンスアンプ(SA)への転送を制御し、転送結果を増幅
し出力する構成を有する。
【0004】ここで、三値回路(TG回路)の内部構成
を図3に示し、その動作タイミングを図4に示す。三値
回路(TG回路)は、2つのインバータ回路とラッチ回
路とで構成される回路であり、セット信号Aによって昇
圧電源SBOOSTと他の2つの電源との切替を制御す
る一方、リセット信号A’によって電源電圧VccとVss
との切替を制御している。すなわち、昇圧電源SBOO
ST及び電源電圧Vcc、Vssの3種類の電圧を切替制御
している。
【0005】因みに、ここで用いられる昇圧電源SBO
OSTは、トランスファゲート(1)及び(2)のゲー
ト信号となる電圧であり、電源電圧Vccを基に集積回路
内で生成される。また、昇圧電源SBOOSTは、ビッ
ト線の電荷を十分にセンスアンプ(SA)に伝達するた
め、Vcc+Vt +αに昇圧されている。
【0006】三値回路(TG回路)は、以下の動作によ
って3種類の電圧を発生する。
【0007】まず、アクセス時(メモリアレイ内の、あ
るメモリセルにアクセスする場合)の動作を説明する。
【0008】このとき、リセット信号A’は「H」レベ
ルを保持した状態に、セット信号Aは「L」レペルを保
持した状態になる。これにより、PチャネルMOSトラ
ンジスタP1はオフし、NチャネルMOSトランジスタ
N1はオンする。一方、PチャネルMOSトランジスタ
P2はオンし、NチャネルMOSトランジスタN2はオ
フする。この結果、タイミング信号(TG信号)のレベ
ルは、PチャネルMOSトランジスタP2を介し与えら
れるSBOOSTレベルになる。
【0009】なお、このように、タイミング信号(TG
信号)がSBOOSTレベルになると、トランスファゲ
ート(1)が完全にオン(一方、トランスファゲート
(2)はオフ)し、ビット線がセンスアンプ(SA)に
接続される状態となり、センス動作を開始する。さらに
次動作を行なっていき、アクセス動作を行なう。
【0010】次に、アクセス動作後のプリチャージ動作
を説明する。
【0011】このとき、リセット信号A’は「L」レベ
ルを保持した状態に、セット信号Aは「H」レベルを保
持した状態になる。これにより、PチャネルMOSトラ
ンジスタP1はオンし、NチャネルMOSトランジスタ
N1はオフする。一方、PチャネルMOSトランジスタ
P2はオフし、NチャネルMOSトランジスタN2はオ
ンする。この結果、タイミング信号(TG信号)のレベ
ルは、PチャネルMOSトランジスタP1−Nチャネル
MOSトランジスタN2を介して与えられる電源電圧V
ccレベルになる。
【0012】なお、非選択時には、リセット信号A’及
びセット信号A共に「H」レベルを保持した状態にな
る。これにより、タイミング信号(TG信号)のレベル
は、NチャネルMOSトランジスタN1及びN2を介し
て与えられる電源電圧Vssレベルになる。
【0013】以上が、三値回路(TG回路)が3種類の
電圧を選択的に発生する場合の動作である。なおここ
で、図3におけるPチャネルMOSトランジスタP1及
びP2のバックバイアスが昇圧電源SBOOSTになっ
ているのは、これらPチャネルMOSトランジスタの耐
性を考慮した結果である。
【0014】例えば、アクセス動作からプリチャージ動
作に移行する際、三値回路(TG回路)から出力される
タイミング信号(TG信号)の電位は、昇圧電源SBO
OSTから電源電圧Vccへと遷移し、その際、遷移分に
相当する電荷がPチャネルMOSトランジスタP1を介
して電源電圧Vccへ流れることになる。
【0015】この遷移の段階で、PチャネルMOSトラ
ンジスタP1のソースにかかる昇圧電源SBOOSTに
対する耐性を高めるため、バックバイアスを昇圧電源S
BOOSTとしているのである。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】ところが、バックバイ
アスとして与えられるこの昇圧電源SBOOSTは、集
積回路内で生成される電源であるため、他の回路の影響
によりその電圧が変動する場合があり、特に、当該昇圧
電源SBOOSTのレベルが低下した場合にはラッチ・
アップ現象が生じ得る問題があった。
【0017】この現象の発生メカニズムを、図5のモデ
ル例を用いて説明する。なお、図5の図中、VBBとある
電源電圧は、NチャネルMOSトランジスタのバックバ
イアスに使用している電源であり負電圧である。これ
は、電源電圧VBBをバックバイアスに印加すると、トラ
ンジスタの閾値(Vt)が上がり、メモリセルのホール
ドタイムが良くなるためである。
【0018】以下、図5において、入出力パッド(以
下、I/OPADという。)に、電源電圧Vccレベルよ
り高い電圧が印加された場合を例に、昇圧電源SBOO
STのレベルが低下するとラッチアップ現象が生じるこ
とを説明する。
【0019】(A)まず、I/OPADに高い電圧が印
加されると、I/O回路のPチャネルMOSトランジス
タ下部に存在する寄生PNP型トランジスタ(a)がオ
ンし、基板へ電流が流れ始める。これにより、電源電圧
VBBのレベルが上昇する。
【0020】(B)この後、電源電圧VBBがそのレベル
の上昇によりVssレペルより高くなると、今度は、寄生
PNP型トランジスタ(b)もオンし、VccからVssへ
電流が流れるようになる。またこのとき、寄生NPN型
トランジスタ(c)もオンし、昇圧電源SBOOSTか
らVssへ電流が流れるようになる。これにより、昇圧電
源SBOOSTのレベルが低くなる。
【0021】(C)そして、以上3つの事象を原因とし
て、昇圧電源SBOOSTのレベルがVccより低くなる
と、寄生PNP型トランジスタ(d)もオンして基板へ
大電流が流れ出し、ついには昇圧電源SBOOSTのレ
ベルが元のレベルに戻らなくなる。これが、ラッチ・ア
ップ状態である。
【0022】
【課題を解決するための手段】
(A)かかる課題を解決するため、請求項1の発明にお
いては、昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力する三
値回路を備える半導体集積回路装置において、以下のよ
うにしたことを特徴とする。
【0023】すなわち、三値回路に、(i) 昇圧電源を除
く他の2つの電源のうちいずれかを選択出力する第1の
インバータ回路と、(ii)第1のインバータ回路の出力と
昇圧電源のいずれかを選択出力する第2のインバータ回
路と、(iii) 第1のインバータと第2のインバータとを
接続する配線に挿入された抵抗とを設けるようにする。
【0024】このように、抵抗を介して第1及び第2の
インバータ回路間を接続したことにより、出力端子に電
源を供給するインバータ回路が、第2のインバータ回路
から第1のインバータ回路に切り替わる際にも、抵抗に
よる電圧降下によって、直前出力端子に印加されていた
昇圧電源が第1のインバータ回路の出力に直接印加され
る事態を避けることができる。
【0025】このため、第1のインバータ回路を構成す
るPチャネルMOSトランジスタのバックバイアスに印
加する電位に、従来のように昇圧電源を用いなくても、
十分な耐性を得ることができる。
【0026】なお、請求項2の半導体集積回路装置の場
合のように、第1のインバータ回路を構成するPチャネ
ルMOSトランジスタのバックバイアスに外部電源を供
給することにより、内部で発生される昇圧電源を用いる
場合のようなバックバイアスの電位変動を無くし得、ラ
ッチアップ現象が起こらないようにできる。
【0027】(B)また、かかる課題を解決するため、
請求項3の発明においては、昇圧電源を含む3種類の電
源を選択出力する三値回路を備える半導体集積回路装置
において、以下のようにしたことを特徴とする。
【0028】すなわち、三値回路を構成するPチャネル
MOSトランジスタに対してバックバイアスを供給する
バックバイアス供給源と三値回路とを接続する配線を、
低抵抗の配線とする。
【0029】このように、低抵抗の配線を用いてバック
バイアスを供給することにより、基板電位の変動によら
ず、バックバイアス電位を一定に保ち得、ラッチアップ
が生じないようにできる。
【0030】(C)また、かかる課題を解決するため、
請求項4の発明においては、昇圧電源を含む3種類の電
源を選択出力する三値回路を備える半導体集積回路装置
において、以下のようにしたことを特徴とする。
【0031】すなわち、三値回路を構成するPチャネル
MOSトランジスタに対してバックバイアスを供給する
バックバイアス供給源として供給能力の高いものを使用
する。
【0032】このように、供給能力の高いバックバイア
ス供給源を用いることにより、基板電位の変動によら
ず、バックバイアス電位を一定に保ち得、ラッチアップ
が生じないようにできる。
【0033】なお、供給能力の高いバックバイアス供給
源としては、例えば、請求項5の発明のように、1つの
供給線当たり複数のバックバイアス供給源を用意するよ
うにしても良い。
【0034】(D)また、かかる課題を解決するため、
請求項6の発明においては、昇圧電源を含む3種類の電
源を選択出力する三値回路を備える半導体集積回路装置
において、以下のようにしたことを特徴とする。
【0035】すなわち、負電圧発生回路を入出力回路部
の近辺に配置したことを特徴とする。
【0036】このように、負電圧発生回路を入出力回路
部の近辺に配置することにより、入出力回路部に対する
電位の供給能力を高め、基板電位を安定に保つことがで
きる。この結果、負電圧発生回路の周辺に位置する三値
回路にラッチアップが生じ難くなる。
【0037】(E)また、かかる課題を解決するため、
請求項7の発明においては、昇圧電源を含む3種類の電
源を選択出力する三値回路を備える半導体集積回路装置
において、以下のようにしたことを特徴とする。
【0038】すなわち、入出力回路部の周囲を取り囲む
ようにガードリングを配置したことを特徴とする。
【0039】このように、入出力回路部の周囲を取り囲
むようにガードリングを配置することにより、入出力回
路部に流れ込む電流をガードリングに逃がすことがで
き、基板電位に変動が生じないようにできる。この結
果、負電圧発生回路の周辺に位置する三値回路にラッチ
アップが生じ難くなる。
【0040】(F)また、かかる課題を解決するため、
請求項8の発明においては、昇圧電源を含む3種類の電
源を選択出力する三値回路を備える半導体集積回路装置
において、以下のようにしたことを特徴とする。
【0041】すなわち、三値回路に、(i) 昇圧電源を除
く他の2つの電源のうちいずれかを選択出力する、ブー
ストストラップインバータ構成の第1のインバータ回路
と、(ii)第1のインバータ回路の出力と昇圧電源のいず
れかを選択出力する第2のインバータ回路とを備えるよ
うにする。
【0042】このように、第1のインバータ回路をブー
ストストラップインバータ構成とし、従来構成のように
PチャネルMOSトランジスタを用いないので、ラッチ
アップの心配を回避できる。
【0043】(G)また、かかる課題を解決するため、
請求項9の発明においては、それぞれ昇圧電源を含む3
種類の電源を選択出力する一対の三値回路を備え、当該
一対の三値回路が相補動作する半導体集積回路装置にお
いて、以下のようにしたことを特徴とする。
【0044】すなわち、各三値回路は、(i) 昇圧電源を
除く他の2つの電源のうちいずれかを選択出力する第1
のインバータ回路と、(ii)第1のインバータ回路の出力
と昇圧電源のいずれかを選択出力する第2のインバータ
回路とを備え、(iii) 各三値回路の第1のインバータ回
路は、対をなす他の三値回路における第2のインバータ
回路の駆動信号を制御信号に用い動作するようにする。
【0045】このように、一対の三値回路間で、その内
部で発生される制御信号を他方の回路の制御信号に使用
する構成としたことにより、各回路に専用の制御信号発
生回路を用いなくて良くなり、その分、レイアウト面積
を削減することができる。
【0046】
【発明の実施の形態】
(A)第1の実施形態 以下、図面について、本発明の第1の実施形態を説明す
る。
【0047】図1に、第1の実施形態に係る三値回路
(TG回路)の構成を示す。この図1は、図3との同一
部分に同一符号を付して示すもので、NチャネルMOS
トランジスタN2のソースとPチャネルMOSトランジ
スタP1のドレインとの間に電位差吸収用の抵抗を設け
た点及びバックバイアスとして電源電圧Vccを与えるこ
とにした点を特徴とするものである。
【0048】その他の部分は、図3の場合と同様であ
る。すなわち、昇圧電源SBOOSTと他の2つの電源
とを切り替えるための第1のインバータ回路と、電源電
圧VccとVssとを切り替えるための第2のインバータ回
路と、第1のインバータ回路を切替制御するラッチ回路
とを有する点は同様である。
【0049】このため、その基本的な動作も前述した動
作と同様となる。
【0050】すなわち、アクセス時(メモリアレイ内
の、あるメモリセルにアクセスする場合)には、リセッ
ト信号A’に「H」レベル、セット信号Aに「L」レペ
ルが印加された状態で、昇圧電源SBOOSTをタイミ
ング信号(TG信号)として出力する。
【0051】また、アクセス動作後のプリチャージ動作
時には、リセット信号A’に「L」レベル、セット信号
Aに「H」レベルが印加された状態で、電源電圧Vccレ
ベルをタイミング信号(TG信号)として出力する。
【0052】なお、非選択時には、リセット信号A’及
びセット信号A共に「H」レベルが印加された状態で、
電源電圧Vssレベルをタイミング信号(TG信号)とし
て出力する。
【0053】ただし、従来構成ではラッチアップが生じ
得るような状態(すなわち、I/OPADにVccレベル
より高い電圧が印加され、寄生トランジスタがオンする
ような状態)になっても、本実施形態の三値回路(TG
回路)はラッチアップを生じなくなる。
【0054】これは、バックバイアスとして電源電圧V
ccを用いることにしたことにより、その電位がほぼ一定
電位に固定されるため、従来回路のようにバックバイア
スの電位がVccレベルより低下して寄生PNP型トラン
ジスタ(d)がオンするような事態を有効に回避し得る
からである。
【0055】また、従来は、プリチャージ時におけるP
チャネルMOSトランジスタの耐性を高めるため、昇圧
電源SBOOSTでバックバイアスをかける必要があっ
たが、この実施形態の回路の場合には、プリチャージ時
開始直後の期間における電位差は抵抗Rの電圧降下によ
って吸収され、PチャネルMOSトランジスタP1のソ
ースに印加される電位はほぼVccレベルとできるので、
トランジスタの耐性上も問題ない。
【0056】以上のように、第1の実施形態によれば、
従来に比してラッチアップの発生し難い三値回路(TG
回路)を実現することができる。
【0057】(B)第2の実施形態 続いて、本発明の第2の実施形態を説明する。
【0058】図6に、第2の実施形態に係る構成を示
す。この第2の実施形態は、三値回路部(TG回路部)
にバックバイアスを供給する配線の抵抗を低下させるこ
とにより、バックバイアスの電圧低下を避ける方法を提
案するものである。
【0059】この第2の実施形態では、バックバイアス
PUMP回路と三値回路部(TG回路部)とを、同一線
幅の2本の配線で接続する。
【0060】なお、この実施形態は、三値回路部(TG
回路部)の構成を、図1(第1の実施形態の三値回路)
の構成とする場合にも、図3(従来型の三値回路)の構
成とする場合にも、どちらの場合にも適用可能である。
いずれにしても、バックバイアスのレベル低下を起こら
ないようにし得る。なお、図1の場合には、図3の場合
よりもさらに高い効果が期待できる。
【0061】この結果、図5における寄生PNP型トラ
ンジスタ(c)がオンする事象によるバックバイアスレ
ベル低下を無くし得、寄生PNP型トランジスタ(d)
がオンする事象、すなわち、ラッチアップを防ぐことが
できる。
【0062】(C)第3の実施形態 以下図面について、本発明の第3の実施形態を説明す
る。
【0063】図7は、第3の実施形態に係る構成を示
す。この第3の実施形態は、三値回路部(TG回路部)
にバックバイアスを供給するPUMP回路の供給能力を
強化することにより、バックバイアスの低下を一層起こ
りにくくする方法を提案するものである。
【0064】この第3の実施形態では、バックバイアス
PUMP回路を2つ設けることにより、1つしか設けな
い場合に比してその供給能力を高めている。これによ
り、寄生PNP型トランジスタ(c)がオンして電荷の
引き抜きが生じても、その分の電荷を容易に供給できる
ため、バックバイアスのレベルが低下する事態を有効に
回避し得る。すなわち、寄生PNP型トランジスタ
(d)がオンしてラッチアップする事態を有効に回避し
得る。
【0065】なお、この実施形態の場合も、三値回路部
(TG回路部)の構成は、図1(第1の実施形態の三値
回路)の構成であっても、図3(従来型の三値回路)の
構成であっても、どちらの場合にも適用できる。勿論、
第1の構成の場合にはより高い効果が得られる。
【0066】(D)第4の実施形態 以下図面について、本発明の第4の実施形態を説明す
る。
【0067】図8は、第4の実施形態に係る構成を示
す。この第4の実施形態は、電源電圧VBBを供給するP
UMP回路の位置を、現在の位置(アドレス部:読み出
し/書き込みアドレスを発生する回路部内)から、I/
O部に近い場所に配置することにより、電源電圧VBBの
レベル上昇を抑制し、ラッチアップを回避する方法を提
案するものである。
【0068】図8の場合には、2つあるI/O部の中間
位置に配置している。これにより、I/OPADに電源
電圧Vccレベルより高い電圧が印加された場合にも、寄
生PNP型トランジスタ(a)、寄生NPN型トランジ
スタ(b)、寄生NPN型トランジスタ(c)がオンす
る事態が回避され、バックバイアスのレベル低下がなく
なる。この結果、寄生PNP型トランジスタ(d)がオ
ンする事象もなくなり、ラッチアップを防ぐことができ
る。
【0069】なお、この実施形態の場合も、三値回路部
(TG回路部)の構成は、図1(第1の実施形態の三値
回路)の構成であっても、図3(従来型の三値回路)の
構成であっても、どちらの場合にも適用できる。勿論、
第1の構成の場合にはより高い効果が得られる。
【0070】(E)第5の実施形態 以下図面について、本発明の第5の実施形態を説明す
る。
【0071】図9は、第5の実施形態に係る構成を示
す。この第5の実施形態は、I/O回路部を取り囲むよ
うに、その周囲をガードリング(電源電圧Vcc又はVss
に固定する)を配置することにより、VBBレベルの上昇
を抑えるものである。
【0072】前述の「発明が解決しようとする課題」に
おいても述べたように、三値回路部(TG回路部)にお
けるラッチアップは、I/OPADに高電圧が印加され
ることによって生じるVBBレベルの低下に起因するもの
と考えられる。
【0073】従って、この実施形態では、I/O回路部
の周囲にガードリングを配置し、I/OPADより流れ
込む電流をガードリングに逃がすことにより、VBBレベ
ルの上昇を抑える。すなわち、寄生PNP型トランジス
タ(a)、寄生NPN型トランジスタ(b)、寄生NP
N型トランジスタ(c)をオンしてバックバイアスのレ
ベルが低下し、寄生PNP型トランジスタ(d)がオン
する事象を回避できる。
【0074】なお、この実施形態の場合も、三値回路部
(TG回路部)の構成は、図1(第1の実施形態の三値
回路)の構成であっても、図3(従来型の三値回路)の
構成であっても、どちらの場合にも適用できる。勿論、
第1の構成の場合にはより高い効果が得られる。
【0075】(F)第6の実施形態 以下図面について、本発明の第6の実施形態を説明す
る。
【0076】図10に、第6の実施形態に係る三値回路
(TG回路)の構成を示す。この図10は、図3との同
一部分に同一符号を付して示すもので、電源電圧Vccと
Vssとを切り替えるための第2のインバータ回路に用い
られていたPチャネルMOSトランジスタP1を、Nチ
ャネルMOSトランジスタN5(バックバイアスがVB
B)に置き換えた点を特徴とするものである。
【0077】これに伴い、この第6の実施形態では、新
たに設けたNチャネルMOSトランジスタN5を駆動す
るためのレベルシフト回路1と、2つのNチャネルMO
SトランジスタN1及びN5を相補動作させるためのイ
ンバータINV4とが付加されている。
【0078】すなわち、第2のインバータ回路をプッシ
ュプルインバータ回路構成とし、そのプッシュプル段を
構成する一対のNチャネルMOSトランジスタのうち電
源電圧Vccの供給/非供給を切り替えるMOSトランジ
スタN5のゲートに、レベルシフト回路1において昇圧
された電圧を印加する構成を採用している。
【0079】ここで、レベルシフト回路1によって昇圧
するのは、ソースにはゲート電位に比してしきい値電圧
Vtだけ低い電圧が現れるため、タイミング信号(TG
信号)の電位がVccより低くなるのを回避するためであ
る。従って、レベルシフト回路1からはVcc+Vt +α
に昇圧された電圧電源SBOOSTが出力される。
【0080】次に、以上の構成を有する本実施形態の三
値回路(TG回路)の動作を説明する。
【0081】まず、アクセス時(メモリアレイ内の、あ
るメモリセルにアクセスする場合)には、リセット信号
A’に「H」レベル、セット信号Aに「L」レペルが印
加される。このとき、NチャネルMOSトランジスタN
5はオフし、NチャネルMOSトランジスタN1はオン
する。一方、PチャネルMOSトランジスタP2はオン
し、NチャネルMOSトランジスタN2はオフする。こ
の結果、タイミング信号(TG信号)のレベルは、Pチ
ャネルMOSトランジスタP2を介し与えられるSBO
OSTレベルになる。
【0082】次に、プリチャージ動作時には、リセット
信号A’に「L」レベル、セット信号Aに「H」レベル
が印加される。このとき、NチャネルMOSトランジス
タN5はオンし、NチャネルMOSトランジスタN1は
オフする。一方、PチャネルMOSトランジスタP2は
オフし、NチャネルMOSトランジスタN2はオンす
る。この結果、タイミング信号(TG信号)のレベル
は、NチャネルMOSトランジスタN5−NチャネルM
OSトランジスタN2を介して与えられる電源電圧Vcc
レベルになる。
【0083】なお、非選択時には、リセット信号A’及
びセット信号A共に「H」レベルが印加された状態とな
り、タイミング信号(TG信号)のレベルは、Nチャネ
ルMOSトランジスタN1及びN2を介して与えられる
電源電圧Vssレベルになる。一方、ラッチアップについ
てであるが、この実施形態の場合には、図5の寄生NP
N型トランジスタ(c)に相当する寄生トランジスタが
構造上存在し得ないので、I/OPADに印加された高
電圧の影響によって、ラッチアップが生じる事態を本質
的に回避し得る。
【0084】(G)第7の実施形態 以下、図面について、本発明の第7の実施形態を説明す
る。
【0085】図11に、第7の実施形態に係るDRAM
のうち特徴部分の概略構成を示し、図12に、これに用
いる三値回路(TG回路)の構成部分を示す。
【0086】図11に示すように、本実施形態に示すD
RAMは、センスアンプ(SA)を中心に対称に配置さ
れた一対の三値回路(TG回路)相互間で、電源電圧切
替用の制御信号を供給し合う関係にあることを特徴とす
るものである。
【0087】具体的な構成を、図12を用いて詳細に説
明する。なお、図12は、図10と同一・対応部分に同
一・対応符号を付して示したものである。
【0088】図12に示す三値回路(TG回路)と、図
10に示す三値回路(TG回路)との違いは、Nチャネ
ルMOSトランジスタN5を駆動するために設けたレベ
ルシフト回路1がないことである。
【0089】これは、当該トランジスタN5を駆動する
のに必要な昇圧電源SBOOSTを、他方の三値回路
(TG回路)のノード(a(又はb))から供給を受け
得るからである。また、トランジスタN5と共に、電源
電圧VccとVssとの切替に用いられるNチャネルMOS
トランジスタN1の駆動信号を、他方の三値回路(TG
回路)のノード(c(又はd))から供給を受け得るか
らである。
【0090】ここで、ノード(a(又はb))は、Pチ
ャネルMOSトランジスタP4のドレインとNチャネル
MOSトランジスタN4のドレインの中点に接続されて
おり、セット信号A(又はB)が「H」レベルのとき、
昇圧電源SBOOSTを発生し、「L」レベルのとき、
電源電圧Vssを発生するノードである。
【0091】また、ノード(c(又はd))は、インバ
ータINV1の出力に接続されており、セット信号A
(又はB)が「H」レベルのとき、「L」レベル(Vc
c)を発生し、「L」レベルのとき、「H」レベル(Vs
s)を発生するノードである。
【0092】このように、この第7の実施形態において
は、必須の構成回路内で発生されている電圧を駆動信号
として用いることにより、ラッチアップの防止と共に、
その回路構成の簡略化を図っている。
【0093】続いて、以上の構成を有する本実施形態の
三値回路(TG回路)の動作を、図12を用いて説明す
る。
【0094】まず、Nチャネルトランスファゲート
(1)に接続されたメモリアレイARRAY−Lにアク
セスする場合について説明する。このとき、セット信号
Aには「L」レペルが印加されており、他方の三値回路
(TG回路)を駆動するセット信号Bには、「H」レベ
ル(Vcc)が印加されている。
【0095】この場合、ノード(a)には、電源電圧V
ssが現れ、NチャネルMOSトランジスタN2をオフす
る一方、PチャネルMOSトランジスタP2をオンす
る。これにより、タイミング信号(TG信号)TG1に
は、昇圧電源SBOOSTが現れる。
【0096】なお、一方の三値回路(TG回路)から出
力されるタイミング信号(TG信号)TG信号2は、ノ
ード(a)が前述のように「L」レベルであり、かつ、
ノード(b)及び(c)が「H」レベルであることよ
り、電源電圧Vssレベルとなり、非選択状態となる。
【0097】次に、プリチャージ動作について説明す
る。このとき、セット信号A及びBには「H」レベルが
印加されており、他方の三値回路(TG回路)を駆動す
るセット信号Bには、「H」レベルが印加されている。
【0098】この場合、ノード(a)及び(b)は共に
「H」レベルとなり、NチャネルMOSトランジスタN
2をオンする一方、PチャネルMOSトランジスタP2
をオフする。このとき、ノード(c)及び(d)は共に
「L」レベルとなることから、NチャネルMOSトラン
ジスタN5を介して電源電圧Vccが、タイミング信号
(TG信号)TG1及びTG2に現れる。
【0099】なお、Nチャネルトランスファゲート
(1)に接続されたメモリアレイが非選択時である場合
には、セット信号Aには「H」レベルが印加されてお
り、他方の三値回路(TG回路)を駆動するセット信号
Bには、「L」レベルが印加されている。
【0100】この場合、ノード(a)に昇圧電源SBO
OSTが現れ、ノード(b)に電源電圧Vssが現れ、ノ
ード(d)に電源電圧Vccが現れるので、そのタイミン
グ信号(TG信号)TG1は、電源電圧Vssレベルとな
る。一方、このとき、タイミング信号(TG信号)TG
2は、昇圧電源SBOOSTとなる。このように、本実
施形態の三値回路(TG回路)は、三値回路としての動
作を実行する。
【0101】一方、ラッチアップについてであるが、こ
の実施形態の場合にも、第6の実施形態の場合と同様
に、図5の寄生NPN型トランジスタ(c)に相当する
寄生トランジスタが構造上存在し得ないので、I/OP
ADに印加された高電圧の影響によって、ラッチアップ
が生じる事態を本質的に回避し得る。
【0102】以上のように、第7の実施形態によれば、
第6の実施形態に比してレイアウト面積が小さくて済む
ラッチアップの発生し難い三値回路(TG回路)を実現
することができる。
【0103】(H)他の実施形態 なお、上述の第2の実施形態においては、バックバイア
スPUMP回路と三値回路(TG回路)とを、同一線幅
の2本の配線で接続することにより配線抵抗を低減する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、配線幅
を2倍としても良い。また、材質の異なる2本の配線層
を重ねて配線幅を1本分とするようにしても良い。この
ようにすると、パターン面積を小さくすることができ
る。勿論、配線の本数やその線幅は、2本や2倍に限る
ものではない。
【0104】また、上述の第2の実施形態と第3の実施
形態とを組み合わせたもの(すなわち、配線数を増やす
と共にPUMP回路の数も増やしたもの)や、第2の実
施形態と第4の実施形態とを組み合わせたもの(すなわ
ち、配線数を増やすと共にPUMP回路と三値回路(T
G回路)との距離を短くしたものにも適用し得る。な
お、後者の場合には、PUMP回路をアップ用とダウン
用との2種類用意することになる。勿論、他の実施形態
同士を組み合わせても良い。例えば、第6の実施形態や
第7の実施形態と第2〜第5の実施形態を組み合わせて
も良い。
【0105】さらに、上述の第4の実施形態において
は、2つあるI/O部の中間位置にPUMP回路を1つ
配置する場合について述べたが、これに限らず、各I/
O部の近傍位置にPUMP回路を1つづつ(計2個)配
置するようにしても良い。
【0106】さらに、上述の第6及び第7の実施形態に
おいては、三値回路(TG回路)の出力段を構成する第
1及び第2のインバータ回路間を接続する配線に抵抗を
配置していないが、第1の実施形態の場合のように配置
しても良い。
【0107】さらに、上述の各実施形態においては、昇
圧電源SBOOSTを使用する回路の例として、DRA
Mの三値回路(TG回路)について述べたが、これに限
らず、ゲートに昇圧電源SBOOSTを使用する回路で
あれば他の回路にも適用し得る。例えば、ワードドライ
バ回路やデータ出力回路等にも適用し得る。
【0108】
【発明の効果】上述のように、請求項1の発明によれ
ば、三値回路を構成する第1及び第2のインバータ回路
間を、抵抗を介して接続したことにより、第1のインバ
ータ回路に印加され得る最大電圧を低減でき、バックバ
イアスに印加する電源として従来よりも低いものを用い
ることが可能となる。
【0109】また、請求項2の発明によれば、バックバ
イアスに昇圧電源よりも低い外部電源を供給することに
より、内部で発生される昇圧電源を用いる場合のような
バックバイアスの電位変動を無くし得、ラッチアップ現
象が起こらないようにできる。
【0110】さらに、請求項3の発明によれば、低抵抗
の配線を用いてバックバイアスを供給するようにしたの
で、基板電位の変動によらず、バックバイアス電位を一
定に保ち得、ラッチアップが生じないようにできる。
【0111】さらに、請求項4の発明によれば、供給能
力の高いバックバイアス供給源を用いるようにしたの
で、基板電位の変動によらず、バックバイアス電位を一
定に保ち得、ラッチアップが生じないようにできる。
【0112】例えば、請求項5の発明のように、1つの
供給線当たり複数のバックバイアス供給源を用意すれば
良い。
【0113】さらに、請求項6の発明によれば、負電圧
発生回路を入出力回路部の近辺に配置したので、入出力
回路部に対する電位の供給能力を高め、基板電位を安定
に保つことができる。この結果、負電圧発生回路の周辺
に位置する三値回路にラッチアップが生じないようにで
きる。
【0114】さらに、請求項7の発明によれば、入出力
回路部の周囲を取り囲むようにガードリングを配置した
ので、入出力回路部に流れ込む電流をガードリングに逃
がすことができ、基板電位に変動が生じないようにでき
る。この結果、負電圧発生回路の周辺に位置する三値回
路にラッチアップが生じ難くできる。
【0115】さらに、請求項8の発明によれば、第1の
インバータ回路をブーストストラップインバータ構成と
し、従来構成のようにPチャネルMOSトランジスタを
用いないので、ラッチアップの心配を回避できる。
【0116】さらに、請求項9の発明によれば、一対の
三値回路間で、その内部で発生される制御信号を他方の
回路の制御信号に使用する構成としたので、各回路に専
用の制御信号発生回路を用いなくて良くなり、レイアウ
ト面積が小さくラッチアップし難い回路を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る三値回路(TG回路)の
回路構成を表した図である。
【図2】DRAMのうち本発明に関連する部分の構成を
表した概略構成図である。
【図3】従来用いられている三値回路(TG回路)の回
路構成を表した図である。
【図4】従来回路の動作説明に供するタイミングチャー
トである。
【図5】ラッチアップの原因説明に供する図である。
【図6】第2の実施形態に係るメモリの回路配置を表し
たブロック図である。
【図7】第3の実施形態に係るメモリの回路配置を表し
たブロック図である。
【図8】第4の実施形態に係るメモリの回路配置を表し
たブロック図である。
【図9】第5の実施形態に係るメモリの回路配置を表し
たブロック図である。
【図10】第6の実施形態に係る三値回路(TG回路)
の回路構成を表した図である。
【図11】第7の実施形態のうち本発明に関連する部分
の構成を表した概略構成図である。
【図12】第7の実施形態に係る三値回路(TG回路)
の回路構成を表した図である。
【図13】図12の回路の動作説明に供するタイミング
チャートである。
【符号の説明】 1…レベルシフト回路、SA…センスアンプ、ARRA
Y−R、L…メモリアレイ。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 上記三値回路に、 上記昇圧電源を除く他の2つの電源のうちいずれかを選
    択出力する第1のインバータ回路と、 上記第1のインバータ回路の出力と昇圧電源のいずれか
    を選択出力する第2のインバータ回路と、 上記第1のインバータと上記第2のインバータとを接続
    する配線に挿入された抵抗とを備えることを特徴とする
    半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体集積回路装置に
    おいて、 上記第1のインバータ回路をCMOSインバータ回路構
    成とし、これを構成するPチャネルMOSトランジスタ
    のバックバイアスに外部電源を供給することにしたこと
    を特徴とする半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 上記三値回路を構成するPチャネルMOSトランジスタ
    に対してバックバイアスを供給するバックバイアス供給
    源と上記三値回路とを接続する配線を、低抵抗の配線と
    することを特徴とする半導体集積回路装置。
  4. 【請求項4】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 上記三値回路を構成するPチャネルMOSトランジスタ
    に対してバックバイアスを供給するバックバイアス供給
    源として供給能力の高いものを使用することを特徴とす
    る半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の半導体集積回路装置に
    おいて、 バックバイアス供給源を1つの供給線当たり複数用意す
    ることを特徴とする半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 負電圧発生回路を入出力回路部の近辺に配置したことを
    特徴とする半導体集積回路装置。
  7. 【請求項7】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 入出力回路部の周囲を取り囲むようにガードリングを配
    置したことを特徴とする半導体集積回路装置。
  8. 【請求項8】 昇圧電源を含む3種類の電源を選択出力
    する三値回路を備える半導体集積回路装置において、 上記三値回路に、 上記昇圧電源を除く他の2つの電源のうちいずれかを選
    択出力する、ブーストストラップインバータ構成の第1
    のインバータ回路と、 上記第1のインバータ回路の出力と昇圧電源のいずれか
    を選択出力する第2のインバータ回路とを備えることを
    特徴とする半導体集積回路装置。
  9. 【請求項9】 それぞれ昇圧電源を含む3種類の電源を
    選択出力する一対の三値回路を備え、当該一対の三値回
    路が相補動作する半導体集積回路装置において、 上記各三値回路に、 上記昇圧電源を除く他の2つの電源のうちいずれかを選
    択出力する第1のインバータ回路と、 上記第1のインバータ回路の出力と昇圧電源のいずれか
    を選択出力する第2のインバータ回路とを備え、 上記各三値回路の第1のインバータ回路は、対をなす他
    の三値回路の第2のインバータ回路の駆動信号を制御信
    号に用い動作することを特徴とする半導体集積回路装
    置。
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