[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH1184680A - 液晶表示基板製造装置 - Google Patents

液晶表示基板製造装置

Info

Publication number
JPH1184680A
JPH1184680A JP23953397A JP23953397A JPH1184680A JP H1184680 A JPH1184680 A JP H1184680A JP 23953397 A JP23953397 A JP 23953397A JP 23953397 A JP23953397 A JP 23953397A JP H1184680 A JPH1184680 A JP H1184680A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
injection
glass substrate
display substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23953397A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriyoshi Araki
宣義 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd, Hitachi Consumer Electronics Co Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
Priority to JP23953397A priority Critical patent/JPH1184680A/ja
Publication of JPH1184680A publication Critical patent/JPH1184680A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像工程における現像むらを低減することが
可能な液晶表示基板製造装置を提供すること。 【解決手段】 液晶ガラス基板表面に現像液を噴射する
噴射手段と、該噴射手段と対向して配置され、前記現像
液の噴射時に前記液晶ガラス基板を前記噴射手段と平行
に移動あるいは回転させる回転移動手段と、該移動ある
いは回転時に前記液晶ガラス基板を前記移動手段に固定
する固定手段とを有する液晶表示基板製造装置におい
て、前記現像液の噴射時に少なくとも前記噴射手段を所
定の方向に揺動させる揺動手段と、予め設定した揺動パ
ターンにしたがって前記揺動手段の揺動動作を制御する
制御手段と、前記揺動パターンを格納する揺動パターン
格納手段と、前記液晶ガラス基板の延在方向に噴射口を
配列した噴射手段とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示基板製造
装置に関し、特に、ガラス基板上に形成したレジスト膜
の内で露光工程で特定した個所のレジスト膜を除去する
現像装置(エッチング装置)に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のガラス基板処理における成膜処理
の概略としては、薄膜形成装置によってガラス基板表面
に電極配線および絶縁膜部分等となる薄膜を形成した
後、塗布装置によってこの薄膜上にレジストを塗布し、
ベーキング装置でこのレジストを乾燥させてレジスト膜
を形成し、露光装置によってこのレジスト膜に所定のパ
ターンを露光し、エッチング装置の一種である現像装置
によってこのパターン部分を残して他の個所のレジスト
膜を除去し、この残したレジスト膜をエッチングマスク
として薄膜部分をエッチングした後、このレジスト除去
装置で残りのレジスト膜を除去するという、以上に説明
した工程を順次繰り返し実行することによって、ガラス
基板表面に所望のパターンを形成していた。したがっ
て、現像装置による露光部分のレジスト膜を除去する現
像工程における現像品質が、ガラス基板表面に形成する
薄膜パターンの品質に重大な影響を与えていた。
【0003】このとき、従来の現像装置では、現像液を
ポンプ等で加圧した後、1〜5本のパイプ先端のノズル
より噴射することにより、当該現像液を噴霧状にしてガ
ラス基板表面へ吐出させるスプレー式の現像装置が一般
的であった。これはスプレー式の現像装置では、常に新
しい現像液をレジスト表面へ供給してレジストの現像を
行っていたので、現像時間を短縮することができたから
であった。
【0004】この従来の現像装置は、ガラス基板の供給
の仕方の違いによって大きく2つの方式に大別できた。
第1の方式の現像装置は、露光後のガラス基板を格納し
たカセットホルダから搬送手段が取り出した当該ガラス
基板を、コンベア等の移動手段によって移動させなが
ら、この移動手段上に設けたノズルから現像液を吐出す
ることによって、レジストの現像を行ういわゆる直線ラ
イン型の現像装置であった。第2の方式の現像装置は、
カセットホルダから取り出したガラス基板を回転テーブ
ルに固定し、該回転テーブルと共にガラス基板を回転さ
せながら、この回転テーブル上に設けたノズルから現像
液を吐出することによって、レジストの現像を行ういわ
ゆるスピン型の現像装置であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、前記従来
技術を検討した結果、以下の問題点を見いだした。近
年、表示装置の大画面化の進展に伴って、液晶表示装置
においても大画面化の要望が大きくなっている。また、
一方では、一般的な表示装置であるCRT(Catho
de Ray Tube)を用いたCRTモニタ装置に
比較して、省スペース、表示のちらつきが少ない、およ
び、高精細化が可能である等の理由から液晶表示装置を
情報処理装置用のモニタ装置として使用するという観点
から複数の液晶表示装置メーカから製品が発売されてい
る。
【0006】しかしながら、液晶表示装置を大画面化す
るということは、液晶表示基板の面積そのものを拡大す
ることであり、その一方で、当該液晶表示装置をモニタ
装置として普及させるためには、CRTモニタ装置との
価格差を小さくするすなわち液晶表示基板の製造効率を
向上させるために、1枚のガラス基板からより多くの液
晶表示基板が取れるように、ガラス基板の大きさがます
ます大きくなっている。
【0007】このため、現像装置においても、ますます
面積の大きいガラス基板を処理しなければならないため
に、現像むらが発生してしまうという問題があった。こ
のため、エッチングによって得られた薄膜パターンにも
パターンむらが発生してしまい、液晶表示基板の色むら
となってしまい、液晶表示基板の製造効率すなわち歩留
まりを低下させてしまうという問題があった。
【0008】本発明の目的は、現像工程における現像む
らを低減することが可能な液晶表示基板製造装置を提供
することにある。
【0009】本発明の他の目的は、液晶表示基板の製造
効率を向上することが可能な液晶表示基板製造装置を提
供することにある。
【0010】本発明のその他の目的は、液晶ガラス基板
の薄膜パターン不均一に伴う液晶表示基板における色む
らを低減することが可能な液晶表示基板製造装置を提供
することにある。
【0011】本発明のその他の目的は、液晶表示基板の
製造コストを低減することが可能な液晶表示基板製造装
置を提供することにある。
【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0014】(1)液晶ガラス基板表面に現像液を噴射
する噴射手段と、該噴射手段と対向して配置され、前記
現像液の噴射時に前記液晶ガラス基板を前記噴射手段と
平行に移動あるいは回転させる回転移動手段と、該移動
あるいは回転時に前記液晶ガラス基板を前記移動手段に
固定する固定手段とを有する液晶表示基板製造装置にお
いて、前記現像液の噴射時に少なくとも前記噴射手段を
所定の方向に揺動させる揺動手段と、予め設定した揺動
パターンにしたがって前記揺動手段の揺動動作を制御す
る制御手段と、前記揺動パターンを格納する揺動パター
ン格納手段と、前記液晶ガラス基板の延在方向に噴射口
を配列した噴射手段とを具備する。
【0015】(2)前述した(1)に記載の液晶表示基
板製造装置において、前記噴射口を2グループ以上分割
し、各グループごとに現像液の噴射および停止を行う噴
射停止手段と、予め設定した噴射パターンにしたがって
前記噴射停止手段を制御する噴射制御手段と、前記噴射
パターンを格納する噴射パターン格納手段とを具備す
る。
【0016】(3)前述した(2)に記載の液晶表示基
板製造装置において、前記噴射手段は、前記噴射口を当
該複噴射口の配列の中心から同心円上のグループに分割
した手段である。
【0017】(4)前述した(1)ないし(3)の内の
いずれかに記載の液晶表示基板製造装置において、前記
揺動手段は、前記噴射手段を前記液晶ガラス基板と平行
な座標位置に特定するX座標およびY座標の所定位置に
当該噴射手段を移動するX方向移動手段およびY方向移
動手段と、前記噴射手段と前記液晶ガラス基板との傾斜
角を設定する傾斜手段と、前記液晶ガラス基板と前記噴
射手段との間隔を設定する間隔移動手段とを具備する。
【0018】(5)前述した(1)ないし(4)の内の
いずれかに記載の液晶表示基板製造装置において、前記
回転移動手段は、前記現像液の噴射初期には低速で前記
液晶ガラス基板回転させ、その後高速に回転させる手段
である。
【0019】(6)前述した(1)ないし(5)の内の
いずれかに記載の液晶表示基板製造装置において、前記
回転移動手段は、前記液晶ガラス基板を縦姿勢に保持す
る手段である。
【0020】前述した(1)〜(6)の手段によれば、
噴射口を液晶ガラス基板の延在方向すなわち2次元もし
くは3次元に配列し、この噴射口を複数個のグループに
分け、該グループごとに現像液の噴射を制御する噴射停
止手段を配置し、現像時すなわち現像液の噴出時におい
ては、制御手段が液晶ガラス基板の品種、現像液の種
類、現像時間および現像液の濃度等の違いによって噴射
パターン格納手段に格納する噴射パターンに基づいて、
噴射停止手段の開閉時間を変化させることによって、液
晶ガラス基板の周辺部分と中心部分とのように、回転時
の接線速度および水平移動時の液晶ガラス基板の撓み量
の違いによる現像液の供給差を補正することができるの
で、液晶ガラス基板上のレジストの露光パターンの現像
むらを防止することができる。したがって、液晶ガラス
基板の薄膜パターン不均一に伴う液晶表示基板における
色むらを低減することができる。よって、液晶表示基板
の歩留まりが向上できる。さらには、歩留まりが向上で
きるので、液晶表示基板すなわち液晶表示装置の製造コ
ストを低減できる。
【0021】このとき、噴射手段は、X方向移動手段、
Y方向移動手段、傾斜手段および間隔移動手段から構成
される揺動手段を有し、現像時においては、制御手段が
揺動パターン格納手段に格納する揺動パターンに基づい
て、噴射手段を3次元的に揺動させることによって、噴
射口ごとの噴射むらを補正した最適な液晶ガラス基板へ
の現像液の噴射を行うことができる、すなわち、液晶ガ
ラス基板と各噴射口との距離、および、各噴射口によっ
て異なる現像液の噴射状況等を液晶ガラス基板の表面に
均等に分散させることができるので、現像むらをさらに
防止することができる。したがって、液晶ガラス基板の
薄膜パターン不均一に伴う液晶表示基板における色むら
をさらに低減することができる。よって、液晶表示基板
の歩留まりをさらに向上することができる。また、歩留
まりをさらに向上できるので、液晶表示基板すなわち液
晶表示装置の製造コストをさらに低減できる。
【0022】また、このとき、回転させながら液晶ガラ
ス基板の現像を行う場合には、現像液の噴射初期時には
液晶ガラス基板の回転速度を低くし、その後、液晶ガラ
ス基板の回転速度を通常の速度とすることによって、噴
射初期時から現像液を液晶ガラス基板の周辺部分にまで
十分に行き渡らせることができるので、更なる現像むら
および現像むらに伴う液晶表示基板における色むらを低
減でき、その結果、更なる歩留まりの向上および製造コ
ストの低減ができる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明について、発明の実
施の形態(実施例)とともに図面を参照して詳細に説明
する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図に
おいて、同一機能を有するものは同一符号を付け、その
繰り返しの説明は省略する。
【0024】図1は本発明の一実施の形態の液晶表示基
板製造装置の一つであるスピン型の現像装置の概略構成
を示すブロック図であり、101は基板ホルダ(回転移
動手段)、102はガラス基板、103は支柱、104
は噴射ノズル(噴射口)、105は噴射手段、106は
前後移動レール、107は前後モータ、108は左右移
動支持板、109は左右移動レール、110は傾斜支持
板、111はエアシリンダ、112は支持ジョイント、
113は回収パン、114は回転機構、115は回転用
モータ、116は第1のプーリ、117は駆動ベルト、
118は第2のプーリ、119は油圧シリンダ、120
は接続部材、121は支柱支持棒、122は支持天板、
123は機構部カバーを示す。なお、本発明は直線ライ
ン型現像装置およびスピン型現像装置に特定されること
なく適用可能であるが、本実施の形態においては、本発
明をスピン型の現像装置に適用した場合について説明す
る。
【0025】図1において、基板ホルダ101は、図示
しない搬送手段によって載置されたガラス基板102を
固定するための周知の基板ホルダであり、たとえば、周
知の真空吸着手段(固定手段)によって固定したガラス
基板102をそのままの姿勢で当該装置の設置面と水平
に回転させる。
【0026】支柱103は、支柱支持棒121と支持天
板122とを接続する支柱であり、本実施の形態におい
ては、支持天板122の支持を安定して行うすなわち支
持天板122の揺れを防止するために、3本以上の支柱
103によって支持天板122を支持する。
【0027】噴射ノズル104は図示しない周知の電磁
弁を介して図示しない周知のポンプに接続されており、
このポンプによって加圧された現像液を噴射ノズル10
4からガラス基板102に向けて吐出することによっ
て、ガラス基板102の表面に塗布したレジストの現像
を行う。このとき、噴射ノズル104は所定の個数ずつ
が1つにまとめられ、この1まとまり毎に1個の電磁弁
が設けら、図示しない制御手段の出力に基づいて、この
電磁弁を動作させることによって各グループに分割した
噴射ノズル104から現像液を吐出する。なお、噴射ノ
ズル104の分割法(グループ分け)の詳細について
は、後述する。
【0028】噴射手段105は、ガラス基板102に面
する側に2次元に配列された複数個(たとえば、10×
10個)の噴射ノズル104を有すると共に、左右移動
支持板108に対する噴射手段105の移動方向を前後
移動レール106によって紙面垂直方向(以下、「Y軸
方向」と記す)にその移動方向を規制されている。ただ
し、本実施の形態においては、噴射ノズル104の配置
は10×10個としたが、これに限定されることはな
く、5×5個以上であれば本発明の効果を得ることが可
能である。
【0029】前後移動レール106は、前述するように
左右移動支持板108に対する噴射手段105の移動方
向を規制すると共に、噴射手段105と左右移動支持板
108とを接続する周知の移動レール(直線案内機器)
であり、たとえば、直線案内機器としての負荷能力を十
分に考えた剛性をもった転動体を選定し、噴射手段10
5の側に取り付けられたレールと左右移動支持板108
の側に取り付けられたレールとが組合わさり構成されて
いる。図示しない制御手段から与えられた指令により、
前後モータ107が動作し所定の移動量を動くものであ
る。
【0030】前後モータ107は、前後移動レール10
6とその回転軸方向が平行となるように噴射手段105
に取り付けられた周知のモータであり、たとえば、回転
軸に取り付けたボールネジと左右移動支持板108に設
けたネジとが嵌合している。したがって、図示しない制
御手段の制御出力に基づいて、この前後モータ107の
回転を制御することによって、左右移動支持板109に
対する噴射手段105の位置を前後移動レール106に
沿って移動制御することができる。ただし、このときの
左右移動支持板108に対する噴射手段105の位置検
出は、たとえば、前後モータ107の回転軸に周知のポ
テンショメータを取り付け、制御手段がその出力に基づ
いて行う。
【0031】左右移動支持板108は、傾斜支持板11
0に対する移動方向を規制する左右移動レール109に
よって当該傾斜支持板110に取り付けられると共に、
この左右移動レールの側に前述した噴射手段105と同
様に、回転軸にボールネジを取り付けた図示しない左右
モータが取り付けられており、この左右モータの回転に
よって傾斜支持板110に対する左右支持板108の移
動量を制御する。ただし、この左右モータのボールネジ
には傾斜支持板110のネジが嵌合している。したがっ
て、この左右モータの回転量を回転軸に取り付けた周知
のポテンショメータの出力値によって、図示しない制御
手段が左右移動支持板108の傾斜支持板110に対す
る移動量を制御する。
【0032】傾斜支持板110は、一方の側には前述し
た左右移動レール109が設けられており、他方の側に
は2つのエアシリンダ111の他端が取り付けられると
共に、この傾斜支持板109の支持天板122に対する
傾き方向(以下、「θ方向」と記す)を制限する支持ジ
ョイント112が取り付けられており、その傾き方向は
支持ジョイント112を回転中心とする紙面と平行の傾
き方向である。
【0033】エアシリンダ111は周知のエアシリンダ
であり、本実施の形態において、一端側が傾斜支持板1
09に取り付けられ、他端側が支持天板122にそれぞ
れ接続されている。したがって、本実施の形態において
は、図示しない制御手段の出力に基づいてこのエアシリ
ンダ111に圧縮空気を供給する圧縮装置を制御するこ
とによって、支持天板122に対する傾斜支持板109
の傾き角度を制御することができる。ただし、このとき
の傾き角度の検出は、たとえば、支持ジョイント112
に取り付けた周知の傾斜角センサの出力値に基づいて行
う。
【0034】支持ジョイント112は、一方の側が傾斜
支持板109に取り付けられ、他方の側が支持天板12
2に取り付けられており、本実施の形態においては、前
述するように紙面の2次元内における支持天板122に
対する傾斜支持板109の傾き方向を制限する。ただ
し、支持ジョイント112の動作方向は2次元に限定さ
れることはなく、たとえば、3次元に回転するジョイン
トでもよく、この場合には、エアシリンダを3個以上使
用することによって、支持天板122に対する傾斜基板
109の角度を任意に設定でき、傾斜角の自由度すなわ
ち現像液の吐出パターンの自由度を増すことができる。
【0035】回収パン113は、噴射ノズル104から
ガラス基板102に向けて吐出された現像液を回収する
ための周知の回収パンであり、本実施の形態において
は、図1に示すように噴射手段105の全周を周囲から
覆うように配置されている。
【0036】回転機構114は周知の回転機構であり、
本実施の形態においては、従来の現像装置と同様の回転
機構を用いるので、その詳細な説明は省略する。
【0037】回転用モータ115は、基板ホルダ101
を回転させるための動力を発生するための周知のモータ
であり、図示しない制御手段の駆動出力に応じた回転数
で基板ホルダ101を回転させる。
【0038】第1のプーリ116は回転用モータ115
の回転軸の取り付けられており、回転用モータ115の
回転力を駆動ベルト114介して回転機構に取り付けた
第2のプーリ118に伝達する。
【0039】油圧シリンダ119は周知の油圧シリンダ
であり、本実施の形態においては、図示しない油圧ポン
プを図示しない制御手段で制御することによって、その
伸縮量を制御する。また、この油圧シリンダ119は、
本体側が当該現像装置の枠部材である基台枠に固定さ
れ、シリンダの先端側が接続部材120によって支柱支
持棒121に接続されている。したがって、この油圧シ
リンダ119の伸縮量に応じて、当該現像装置における
支持天板122の高さすなわち基板ホルダ101と噴射
手段105との間隔を制御することができる。
【0040】機構部カバー123は、当該現像装置にお
ける噴射手段105の揺動機構における前後、左右およ
び角度を設定するための前後移動レール106、前後モ
ータ107、左右移動支持板108、左右移動レール1
09、図示しない左右モータ、傾斜支持板110、エア
シリンダ111および支持ジョイント112からなる可
動部分を覆う周知のカバーであり、本実施の形態におい
て、可動部分の動作に伴って機構部カバー123が変形
可能なように、ジャバラ形状となっている。
【0041】このように、本実施の形態の現像装置で
は、噴射手段105に取り付けた油圧シリンダ119の
伸縮量によって、噴射手段105と現像対象となるガラ
ス基板102との間隔を任意に設定する間隔移動機構
(間隔移動手段)によってガラス基板102との間隔を
設定できる。また、前後移動レール106および前後モ
ータ107からなる前後移動機構(X方向移動手段)に
よって噴射手段105を紙面垂直方向すなわち前後方向
に移動させることができる。さらには、左右移動レール
109および左右モータからなる左右移動機構(Y方向
移動手段)によって、噴射手段105を前後移動機構ご
と左右に移動することができると共に、エアシリンダ1
11および支持ジョイント112からなる変角機構(傾
斜手段)によって、前後移動機構および左右移動機構ご
と噴射手段105がガラス基板102すなわち基板ホル
ダ101となす角度を変化させることができる。ただ
し、この場合の各機構の移動量および変角量は、図示し
ない制御手段によって、制御される。なお、制御手段の
詳細については、後述する。また、以下の説明において
は、間隔移動機構、前後移動機構、左右移動機構および
変角機構からなる噴射手段105の移動機構を揺動機構
(揺動手段)と記す。
【0042】図2は、本実施の形態の制御手段の概略構
成を説明するためのブロック図であり、201は制御手
段、202は電磁弁制御手段(噴射制御手段)、203
は姿勢制御手段、204は回転制御手段、205はパラ
メータ格納手段(揺動パターン格納手段、噴射パターン
格納手段)を示す。
【0043】図2において、電磁弁制御手段202は、
パラメータ格納手段205に格納された現像液の吐出パ
ターンに基づいて、各電磁弁のON/OFFを制御する
電磁弁駆動制御信号を出力する手段であり、本実施の形
態においては、制御手段201を構成する周知の情報処
理装置上で動作するプログラムによって実現する。
【0044】姿勢制御手段203は、前後モータ107
および図示しない左右モータを駆動するモータ制御駆動
信号、エアシリンダ111に圧縮空気を供給する圧縮装
置を制御する圧縮装置制御駆動信号および油圧シリンダ
119の油圧ポンプを駆動する油圧ポンプ制御駆動信号
をそれぞれパラメータ格納手段205に格納される制御
駆動パターンに基づいて生成し、該当するモータ、圧縮
装置および油圧ポンプにこの制御駆動信号を出力する手
段であり、本実施の形態においては、制御手段201を
構成する周知の情報処理装置上で動作するプログラムに
よって実現する。
【0045】回転制御手段204は、パラメータ格納手
段205に格納される回転パターンに基づいて、回転用
モータ115の動作を制御する駆動信号を生成し回転モ
ータ115に出力する手段であり、本実施の形態におい
ては、制御手段201を構成する周知の情報処理装置上
で動作するプログラムによって実現する。
【0046】パラメータ格納手段205は、図2のパラ
メータ格納手段中に示す各条件、すなわち、ガラス基板
の品種、現像液の種類、現像時間および現像液の濃度に
基づいて、作業者が実験および試作等によって予め決定
(設定)した1つ以上の吐出パターン、揺動パターンお
よび回転パターンを格納する周知の格納手段であり、た
とえば、制御手段を構成する情報処理装置に接続される
周知の半導体記憶装置あるいは磁気ディスク装置等のい
わゆる外部記憶装置を用いる。
【0047】次に、図1および図2に基づいて、本実施
の形態の液晶表示基板製造装置である現像装置の動作を
説明する。
【0048】まず、制御手段201が図示しない搬送装
置を制御する搬送装置制御手段から該搬送装置がガラス
基板102を基板ホルダ101に搬送したことを通知す
る信号を受け取ったならば、制御手段201の図示しな
い吸着制御手段が図示しない真空ポンプを動作させて、
基板ホルダ101にガラス基板102を吸着して固定す
る。
【0049】次に、制御手段201の電磁弁制御手段2
02、姿勢制御手段203および回転制御手段204
は、それぞれパラメータ格納手段205からこれら各制
御手段202,203,204が使用する吐出パター
ン、揺動パターンおよび回転パターンを読み出す。
【0050】この後、姿勢制御手段203が、まず、吐
出パターンから現像液の吐出を開始する時の噴射手段1
05の位置を決定した後、噴出手段105をこの位置に
移動するための前後モータ107、図示しない左右モー
タ、エアシリンダ111の移動量および油圧シリンダ1
19の移動量を計算する。次に、姿勢制御手段203
は、該計算結果に基づいた制御駆動信号を各モータ、圧
縮装置および油圧ポンプに出力する。ここで、姿勢制御
手段203からモータ駆動制御駆動信号を入力された前
後モータ107は、回転を開始することによって当該回
転軸に取り付けられたボールネジが回転し、このボール
ネジに嵌合するネジと前後モータ107との間隔が回転
方向によって変化する。したがって、この前後モータ1
07が取り付けられた噴射手段105とボールネジに嵌
合するネジが設けられた左右移動支持板108とが相対
的に移動することとなるので、結果としてガラス基板1
02に対して噴射手段105を前後方向に移動すること
になる。このとき、姿勢制御手段203は前後モータ1
07の回転軸に取り付けた図示しないポテンショメータ
の値を監視しながら制御駆動信号を出力し、ポテンショ
メータの値が初期位置に相当する値に達したことを検知
したならば、制御駆動信号の出力を停止することによっ
て、噴射手段105は前後方向の初期位置に移動終了と
なる。図示しない左右モータにおいても同様となり、左
右モータが左右移動支持板108ごと噴射手段105を
初期位置に移動させることによって、噴射手段105は
前後方向(X軸方向)および左右方向(Y軸方向)で指
定される2次元平面内の所定位置に移動する。一方、姿
勢制御手段203から圧縮装置制御駆動信号を入力され
た図示しない圧縮装置は、2つのエアシリンダ111に
それぞれ制御駆動信号に基づいた圧縮空気を供給して、
支持ジョイント112を傾斜(回転)中心として傾斜支
持板110および左右移動支持板108と共に噴射手段
105を傾斜させることによって、ガラス基板102す
なわち基板ホルダ101に対して角度θの傾斜をつけ
る。このとき、姿勢制御手段203は、支持ジョイント
112に取り付けた図示しない傾斜角センサの値を監視
しながら制御駆動信号を出力し、傾斜角センサの値が初
期位置に相当する値に達したならば、制御駆動信号の出
力を停止することによって、噴射手段105のガラス基
板102すなわち基板ホルダ101に対する傾斜角を設
定する。姿勢制御手段203から油圧ポンプ制御駆動信
号を入力された図示しない油圧ポンプは、入力信号にし
たがったオイルの供給あるいは抜き取りを行って油圧シ
リンダ119を伸縮させることによって、このシリンダ
先端に取り付けられる支柱支持棒121を上下動させ
る。したがって、この支柱支持棒121に取り付けられ
る支柱103、この支柱103に取り付けられる支柱天
板122、および、この支柱天板122に取り付けられ
る前後移動機構、左右移動機構および変角機構ごと噴射
手段105を上下方向に移動する。このとき、姿勢制御
手段203はシリンダ動作部分に取り付けた周知の位置
センサの値を監視しながら制御駆動信号を出力し、位置
センサの値が初期位置に相当する値に達したならば、制
御駆動信号の出力を停止することによって、ガラス基板
102すなわち基板ホルダ101と噴射手段105との
間隔を設定する。
【0051】揺動機構による噴射手段105の初期位置
の設定が終了したならば、次に、回転制御手段204が
パラメータ格納手段205に格納される回転パターンに
基づく駆動信号を回転用モータ115に供給する。回転
用モータ115の回転は、回転軸に取り付けた第1のプ
ーリ116からベルト117を介して回転機構114の
第2のプーリ118に伝達され、基板ホルダ101と共
にこの基板ホルダ101に吸着されるガラス基板102
を回転させる。なお、このときの回転数は、回転制御手
段204が回転機構114に設けた周知の回転センサの
出力値によって監視する。
【0052】ガラス基板102すなわち基板ホルダ10
1の回転数が所定の値に達したならば、次に、電磁弁制
御手段202がパラメータ格納手段205から読み込ん
だ現像液の噴射パターンに基づいて、所定の電磁弁をO
Nすなわち開くことによって現像液を回転するガラス基
板102に吐出させる。このときの回転制御手段204
は、まず、回転用モータ115の回転速度を低速に制御
し、所定の時間が経過後に噴射パターンに基づいた高速
の回転速度に制御することによって、ガラス基板102
の周辺部分で発生する気流の乱れに伴う現像液の付着不
良を防止する。一方、姿勢制御手段203は、現像液の
吐出と同時に、パラメータ格納手段205から読み込ん
だ噴射パターンに基づいた制御駆動信号を各モータ、圧
縮装置および油圧ポンプに出力することによって、ガラ
ス基板102に対する噴射手段105の位置すなわち回
転するガラス基板102に現像液を吐出する噴射ノズル
104の位置を変化させながらレジストの現像を行う。
ただし、この場合における噴射手段105の移動速度に
ついては、姿勢制御手段203から各モータに供給する
駆動電圧の制御、圧縮装置からエアシリンダ111に供
給される圧縮空気量の制御、および、油圧ポンプから油
圧シリンダ119に供給される油量の制御によって行
い、移動量の制御については、各センサから入力される
センサ値に基づいて姿勢制御手段203が制御駆動信号
を制御することによって行う。また、このときの噴射手
段105の移動経路としては、たとえば、8の字の軌跡
が少しずつ前後、左右あるいはその組み合わせで移動す
るような同じ個所を通らない経路とすることによって、
噴射ノズル104ごとに異なる現像液の噴射特性をガラ
ス基板102上に広く分散させることができるので、現
像液の塗布むらすなわちガラス基板102の現像むらを
防止することができる。ただし、前述の各モータの電圧
制御、圧縮空気量の制御および油量の制御については、
周知の技術を用いる。
【0053】ここで、パラメータ格納手段205から読
み込んだ現像時間に達したならば、まず、電磁弁制御手
段202が噴射ノズル104に現像液を供給する配管に
設けた電磁弁を閉じることによって、現像液の供給を停
止する。次に、姿勢制御手段203が各モータ、エアシ
リンダ111および油圧シリンダ119を予め設定され
た位置(基板搬送位置)に制御すると共に、回転制御手
段204が回転用モータ115に供給するモータ制御駆
動信号の出力を停止する。
【0054】次に、制御手段201が図示しない真空ポ
ンプを停止させることによって、ガラス基板102の基
板ホルダ101への吸着を解除させた後、図示しない搬
送制御手段が図示しない搬送手段を制御して、現像の終
了したガラス基板102を基板ホルダ101と次のガラ
ス基板102とを交換する。以上に説明した動作を繰り
返して実行することによって、図示しないホルダに格納
されたガラス基板の現像が終了する。
【0055】図3は本実施の形態の噴射ノズルの配管パ
ターンの一例を説明するための図であり、301は電磁
弁(噴射停止手段)、302は配管を示す。
【0056】図3から明らかなように、本実施の形態に
おいては、1つの噴射手段105に数十個以上(10×
10=100個)の噴射ノズル104を設けると共に、
該噴射ノズル104を2次元に配列し、さらに、5個の
噴射ノズル104を1つのグループとし、各グループの
噴射ノズル104に接続される配管201と図示しない
現像液供給ポンプとの間に電磁弁301を配置する。
【0057】各電磁弁301は、電磁弁制御手段202
とそれぞれ別々に接続されており、電磁弁制御手段20
2から出力される電磁弁制御駆動信号に基づいて、各電
磁弁301の開閉すなわち各グループごとの噴射タイミ
ングを制御する。このときの噴射タイミングは、前述す
るように、パラメータ格納手段205に格納される現像
液の噴射パターンに基づき、電磁弁制御手段202が行
う。
【0058】なお、噴射ノズル104のグループの分け
方、および、各グループ当たりの噴射ノズル104の数
はこれに限定されることはなく、たとえば、噴射手段1
05に配置される噴射ノズル104を当該噴射手段10
5の中心に対して対象となるようにグループ分けする、
あるいは、図4に示すように噴射ノズル104の配列の
中心から同心円状となるように噴射ノズル104をグル
ープ分けする等のように、他のグループ分けでもよい。
特に、図4に示すように、同心円上に噴射ノズル104
を同一グループとすることによって、スピン型の現像装
置では、ガラス基板102の接線速度に応じた現像液の
吐出制御を行うことができるので、現像むらのさらに低
減できるという効果がある。
【0059】また、各グループに属する噴射ノズル10
4の数は、全てのグループで同一数とする必要はなく、
各ループごとにその数を変えてもよいことはいうまでも
ない。さらには、噴射手段105の基板ホルダ101の
側を緩やかな球面状あるいは凹凸を有する形状とし、そ
こに噴射ノズル104を配置することによって、噴射ノ
ズル104を基板ホルダ101すなわちガラス基板10
2に対して3次元となるように配置することによって、
さらにガラス基板102に適した現像液の吐出を行うこ
とができる。したがって、現像むらをさらに低減するこ
とが可能となり、液晶表示基板の歩留まりを向上でき
る。
【0060】ただし、前述した噴射ノズル104のグル
ープ分けに関しても、前述した揺動機構と同様に、当該
現像装置で現像するガラス基板102の品種、現像液の
種類および現像時間等により、予め試験および試作等を
行った結果に基づいて最適となるグループ分けを行うこ
とによって、よりガラス基板102に適した現像を行う
ことができることはいうまでもない。
【0061】以上説明したように、本実施の形態の液晶
表示基板製造装置である現像装置では、噴射ノズル10
4をガラス基板と対向する面に2次元で配列し、さら
に、この噴射ノズル104を複数個のグループに分け、
該グループごとに現像液の吐出を制御する電磁弁301
を配置し、現像時すなわち現像液の吐出時においては電
磁弁制御手段202が品種(1枚のガラス基板102か
らどの大きさの液晶表示基板を何枚とるかの種別)、現
像液の種類、現像時間および現像液の濃度等の違いによ
って予め設定した噴射パターンに基づいて、この電磁弁
301の開閉時間を変化させることによって、ガラス基
板102の周辺部分と中心部分とのように回転時の接線
速度の違いによる現像液の供給差を補正することができ
るので、ガラス基板102上のレジストの露光パターン
の現像むらを防止することができる。したがって、液晶
表示基板の歩留まりが向上できる。さらには、歩留まり
が向上できるので、液晶表示基板すなわち液晶表示装置
の製造コストを低減できる。
【0062】さらには、前後移動機構、左右移動機構、
傾斜機構および上下移動機構からなる揺動機構に噴射手
段105を取り付け、現像時においては、姿勢制御手段
203が品種、現像液の種類、現像時間および現像液の
濃度等の違いによって予め設定した制御駆動パターンに
基づいて、各移動機構および傾斜機構を制御することに
よって、吐出むらを補正した最適なガラス基板102へ
の現像液の吐出を行うことができる、すなわち、ガラス
基板102と各噴射ノズル104との距離、および、各
噴射ノズル104によって異なる現像液の噴射状況等を
ガラス基板102の表面に均等に分散させることができ
るので、現像むらをさらに防止することができる。した
がって、液晶表示基板の歩留まりをさらに向上すること
ができる。また、歩留まりをさらに向上できるので、液
晶表示基板すなわち液晶表示装置の製造コストをさらに
低減できる。
【0063】なお、本実施の形態においては、スピン型
の現像装置に本発明を適用した場合について説明した
が、これに限定されることはなく、たとえば、直線ライ
ン型の現像装置においてもスピン型と同様に適用可能で
あり、この場合においても前述した効果が得られること
はいうまでもない。
【0064】また、現像時のガラス基板の姿勢を当該装
置の設置床面に対して垂直となる縦姿勢に保持してもよ
く、この場合においても、前述した横姿勢と同じ効果が
得られる。
【0065】さらには、本実施の形態においては、TF
T基板およびカラーフィルタ基板等の液晶表示基板の現
像装置に本発明を適用した場合について説明したが、こ
れに限定されることはなく、たとえば、液晶表示基板と
同様に、フォトリソグラフィ技術を用いる半導体装置の
製造段階に使用する現像装置にも適用可能なことはいう
までもない。
【0066】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本
発明は、前記発明の実施の形態に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。
【0067】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。 (1)現像工程における現像むらを低減することができ
る。 (2)液晶表示基板の製造効率を向上することができ
る。 (3)液晶ガラス基板の薄膜パターン不均一に伴う液晶
表示基板における色むらを低減することができる。 (4)液晶表示基板を製造コストを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の液晶表示基板製造装置
の一つであるスピン型の現像装置の概略構成を示すブロ
ック図である。
【図2】本実施の形態の制御手段の概略構成を説明する
ためのブロック図である。
【図3】本実施の形態の噴射ノズルの配管パターンの一
例を説明するための図である。
【図4】本実施の形態の噴射ノズルの配管パターンの他
の例を説明するための図である。
【符号の説明】
101…基板ホルダ、102…ガラス基板、103…支
柱、104…噴射ノズル、105…噴射手段、106…
前後移動レール、107…前後モータ、108…左右移
動支持板、109…左右移動レール、110…傾斜支持
板、111…エアシリンダ、112…支持ジョイント、
113…回収パン、114…回転機構、115…回転用
モータ、116…第1のプーリ、117…駆動ベルト、
118…第2のプーリ、119…油圧シリンダ、120
…接続部材、121…支柱支持棒、122…支持天板、
123…機構部カバー、201…制御手段、202…電
磁弁制御手段、203…姿勢制御手段、204…回転制
御手段、205…パラメータ格納手段、301…電磁
弁、302…配管。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶ガラス基板表面に現像液を噴射する
    噴射手段と、該噴射手段と対向して配置され、前記現像
    液の噴射時に前記液晶ガラス基板を前記噴射手段と平行
    に移動あるいは回転させる回転移動手段と、該移動ある
    いは回転時に前記液晶ガラス基板を前記移動手段に固定
    する固定手段とを有する液晶表示基板製造装置におい
    て、 前記現像液の噴射時に少なくとも前記噴射手段を所定の
    方向に揺動させる揺動手段と、予め設定した揺動パター
    ンにしたがって前記揺動手段の揺動動作を制御する制御
    手段と、前記揺動パターンを格納する揺動パターン格納
    手段と、前記液晶ガラス基板の延在方向に噴射口を配列
    した噴射手段とを具備することを特徴とする液晶表示基
    板製造装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の液晶表示基板製造装置
    において、 前記噴射口を2グループ以上分割し、各グループごとに
    現像液の噴射および停止を行う噴射停止手段と、予め設
    定した噴射パターンにしたがって前記噴射停止手段を制
    御する噴射制御手段と、前記噴射パターンを格納する噴
    射パターン格納手段とを具備することを特徴とする液晶
    表示基板製造装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の液晶表示基板製造装置
    において、 前記噴射手段は、前記噴射口を当該複噴射口の配列の中
    心から同心円上のグループに分割した手段であることを
    特徴とする液晶表示基板製造装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3の内のいずれか1項に
    記載の液晶表示基板製造装置において、 前記揺動手段は、前記噴射手段を前記液晶ガラス基板と
    平行な座標位置に特定するX座標およびY座標の所定位
    置に当該噴射手段を移動するX方向移動手段およびY方
    向移動手段と、前記噴射手段と前記液晶ガラス基板との
    傾斜角を設定する傾斜手段と、前記液晶ガラス基板と前
    記噴射手段との間隔を設定する間隔移動手段とを具備す
    ることを特徴とする液晶表示基板製造装置。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4の内のいずれか1項に
    記載の液晶表示基板製造装置において、 前記回転移動手段は、前記現像液の噴射初期には低速で
    前記液晶ガラス基板回転させ、その後高速に回転させる
    手段であることを特徴とする液晶表示基板製造装置。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5の内のいずれか1項に
    記載の液晶表示基板製造装置において、 前記回転移動手段は、前記液晶ガラス基板を縦姿勢に保
    持する手段であることを特徴とする液晶表示基板製造装
    置。
JP23953397A 1997-09-04 1997-09-04 液晶表示基板製造装置 Pending JPH1184680A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23953397A JPH1184680A (ja) 1997-09-04 1997-09-04 液晶表示基板製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23953397A JPH1184680A (ja) 1997-09-04 1997-09-04 液晶表示基板製造装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1184680A true JPH1184680A (ja) 1999-03-26

Family

ID=17046231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23953397A Pending JPH1184680A (ja) 1997-09-04 1997-09-04 液晶表示基板製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1184680A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012216798A (ja) * 2011-03-25 2012-11-08 Toppan Printing Co Ltd 現像ノズル、現像装置および現像方法
US20140007398A1 (en) * 2012-07-09 2014-01-09 Honda Motor Co., Ltd. Work method and work device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012216798A (ja) * 2011-03-25 2012-11-08 Toppan Printing Co Ltd 現像ノズル、現像装置および現像方法
US20140007398A1 (en) * 2012-07-09 2014-01-09 Honda Motor Co., Ltd. Work method and work device
US9156626B2 (en) * 2012-07-09 2015-10-13 Honda Motor Co., Ltd. Work method and work device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019088237A1 (ja) 液体材料塗布装置および塗布方法
JP2004261701A (ja) ペースト塗布装置
JP3619791B2 (ja) ペースト塗布機
JPH08186089A (ja) ポリッシング装置
WO2009081804A1 (ja) 塗布装置および塗布方法
JP3609359B2 (ja) ペースト塗布機とペースト塗布方法
JP3793727B2 (ja) ペースト塗布機
JPH1184680A (ja) 液晶表示基板製造装置
JP3556110B2 (ja) 基板処理装置
JPH11121420A (ja) 基板洗浄方法及びその装置
JP2003251257A (ja) 塗布装置および塗布方法ならびにプラズマディスプレイ部材の製造装置および製造方法
CN104245154B (zh) 涂布装置以及涂布方法
JP3614219B2 (ja) 部品装着装置
JP2007105643A (ja) ペースト塗布装置
JP7465648B2 (ja) 接着剤塗布装置及び接着剤塗布方法、回転子の製造方法
JPH0831732A (ja) 回転式基板処理装置
JP3683390B2 (ja) 基板処理方法
JP3510124B2 (ja) ペースト塗布方法及びペースト塗布機
JP2003001175A (ja) 塗布装置、塗布方法及び表示装置の製造方法
JPH11276941A (ja) 微粉体の散布装置
KR100609897B1 (ko) 기판제조장치
JP5028195B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3820358B2 (ja) ペースト塗布機
JP2003039001A (ja) ペースト塗布機とパターン塗布方法
KR20060078478A (ko) 슬릿코터