JPH1171671A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蒸着面が球面状の蒸着基体に対しても均一な
膜厚で薄膜を形成する。 【解決手段】 第１の基体ホルダ４は第１の仮想軸線２
６を中心に回転可能に真空チェンバ１０４内に支持さ
れ、第２の基体ホルダ６は第１の仮想軸線２６に対して
２０度ないし６０度の角度で傾斜して延在する第２の仮
想軸線２４を中心に回転可能な状態で第１の基体ホルダ
４に支持されている。表面に薄膜を形成すべき基体２０
は、その球面状の蒸着面を下方に向け、第２の基体ホル
ダ６を成す回転板１６に形成された開口１８の箇所に配
置されている。第１の基体ホルダ４がモータ１２８によ
り回転駆動されると、回転板１６は、その外周に形成さ
れた歯部と、真空チェンバ１０４に固定されたピニオン
２８とが歯合している結果、第１の基体ホルダ４と共に
回転しつつ第１の基体ホルダ４に対しても回転する。蒸
発手段１０６は真空チェンバ１０４内の中心から外れた
位置に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着によって
基体表面に薄膜を形成する真空蒸着装置に関し、特にレ
ンズなど、蒸着面が球面状の基体に薄膜を蒸着形成する
真空蒸着装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、真空雰囲気中で、蒸着材料か
ら成る蒸発源を蒸発させ蒸着対象物の表面に蒸気を付着
させて薄膜を形成する真空蒸着法が知られている。例え
ば光学部品を製造する分野などでは、この真空蒸着法に
より、ガラス基板に、反射防止膜や、反射増加膜、ある
いは光学フィルタ膜などが形成される。薄膜を形成する
方法としては真空蒸着法以外にも、スパッタ法やＣＶＤ
法などが知られているが、特に多層膜を形成する場合に
は、膜厚制御の容易さ、成膜速度の速さ、装置構成の簡
素さなどの点で真空蒸着法が優れており、広く用いられ
ている。

【０００３】図５は真空蒸着法を行うための従来の真空
蒸着装置の一例を示す断面側面図である。この真空蒸着
装置１０２は、図５に示すように、真空チェンバ１０
４、蒸発手段１０６、基板ホルダ１０８、モータ１２８
などにより構成されている。真空チェンバ１０４の底部
近傍の側壁には排気口１１４が形成されており、真空チ
ェンバ１０４の内部は、この排気口１１４を通じて不図
示の真空ポンプにより排気が行われることで必要な真空
状態が確保される。真空チェンバ１０４の底面の略中央
には蒸発手段１０６が配設されている。蒸発手段１０６
は、ルツボ１１６、そのシャッタ１１８、電子銃１２０
などを含んで構成されている。ルツボ１１６には、蒸発
源である蒸着材料が充填され、シャッタ１１８はその上
部に近接して配置されている。

【０００４】シャッタ１１８はルツボ１１６の上部を被
う大きさを有し、回転柱１１９により回転可能に支持さ
れている。そして、回転柱１１９が不図示のモータによ
り回転駆動されることでシャッタ１１８の回転位置が変
化し、シャッタ１１８の開閉が行われる。すなわち、シ
ャッタ１１８を開放状態とするときは、シャッタ１１８
の位置はルツボ１１６の上部から外れた位置とされ、シ
ャッタ１１８を閉鎖状態とするときは、シャッタ１１８
の位置がルツボ１１６の上部の位置（図５の位置）とさ
れる。ルツボ１１６の側部には電子銃１２０が配設され
ており、この電子銃１２０から放出された電子が点線ａ
により示すようにルツボ１１６内の蒸着材料に入射する
ことで蒸着材料が蒸発する。

【０００５】基板ホルダ１０８は円盤状に形成され、多
数の開口１２４が形成されている。基板ホルダ１０８の
上面中央には回転軸１２６が略鉛直に固着され、基体ホ
ルダ１０８はこの回転軸１２６により支持されて、真空
チェンバ１０４内の上部に、下面を蒸発手段１０６に向
けて配置されている。回転軸１２６は、真空チェンバ１
０４の天井部に形成した穴１０５に挿通して回転可能に
支持され、その上端は真空チェンバ１０４の上部に配設
されたモータ１２８の出力軸に連結されている。なお、
回転軸１２６と上記穴１０５との間にはＯリング１２７
が介在されて気密性が確保されている。

【０００６】このように構成された真空蒸着装置１０２
で、例えば光学部品を成すガラス基板などの基体の表面
に薄膜を形成する場合には、蒸着対象の基体１５４を、
下面を開口１２４を通じて下方に露出させた状態で、そ
れぞれ開口１２４内に係止させて配置し、そして、モー
タ１２８に給電して基板ホルダ１０８を回転させる。次
に、不図示のモータに給電してシャッタ１１８を一定の
角度だけ回転させ開放状態に設定する。その結果、ルツ
ボ１１６内の蒸着材料の蒸気はルツボ１１６から放出さ
れ、真空チェンバ１０４内を上昇して、基板ホルダ１０
８により支持された基体１５４の表面に、開口１２４を
通じて付着し、薄膜を形成する。

【０００７】蒸着材料の蒸気は真空チェンバ１０４内に
おいて必ずしも均一な密度で分布しないが、基体ホルダ
１０８を回転させるため、どの基体１５４にも概ね均一
な厚さの薄膜が形成される。ただし、蒸発手段１０６が
真空チェンバ１０４内のほぼ中央に配置されているた
め、基体ホルダ１０８の周辺部では蒸気密度が低くな
り、基板ホルダ１０８の中央部に配置された基体１５４
と周辺部に配置された基体１５４とでは形成される薄膜
の厚さが異なる場合がある。そのため、基体ホルダ１０
８の下方に、基体ホルダ１０８の半径方向で幅の異なる
膜厚補正板が配置され、膜厚の均一化が図られることも
多い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
真空蒸着装置１０２では、基体１５４の蒸着面が平面
か、あるいは平面に近い場合には、蒸発手段１０６から
の蒸気は各基体１５４の蒸着面に対してほぼ垂直に入射
するので、基体１５４上の場所によらずほぼ均一な膜厚
で薄膜が形成される。しかし、蒸着対象の基体１５４が
例えば凸レンズであり、図５に示したようにその蒸着面
が球面状となっている場合には、基体１５４の中央部で
は蒸気はほぼ垂直に入射するが、周辺部では表面に対し
て斜めに入射する。そのため、周辺部に形成される薄膜
は膜厚が薄くなり、基体１５４の表面に均一な厚さで薄
膜を形成することは困難である。

【０００９】すなわち、従来の真空蒸着装置では、蒸着
面が球面状の蒸着基体に対しては均一な膜厚で薄膜を形
成することができず、必要な光学特性を備えた光学部品
を作製することは困難であった。本発明の目的は、この
ような問題を解決して、蒸着面が球面状の蒸着基体に対
しても蒸着面上の場所によらず均一な膜厚で薄膜を形成
することが可能な真空蒸着装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、複数の基体を真空チェンバ内に支持し、前記
基体の下方に配設した蒸発源から蒸着材料を蒸発させて
前記基体の表面に付着させることにより前記基体の表面
に薄膜を形成する真空蒸着装置において、略鉛直な第１
の仮想軸線を中心に回転可能な状態で前記真空チェンバ
内に支持された第１の基体ホルダと、前記第１の仮想軸
線に対し傾斜して延在する第２の仮想軸線を中心に回転
可能な状態で前記第１の基体ホルダに支持された第２の
基体ホルダと、前記基体の前記蒸着面を前記第２の仮想
軸線の延在方向とほぼ同方向に向けた状態で前記基体を
支持する、前記第２の基体ホルダに設けられた基体支持
部と、前記第１の基体ホルダを回転駆動する第１の駆動
手段と、前記第２の基体ホルダを回転駆動する第２の駆
動手段とを備えたことを特徴とする。

【００１１】また、本発明は、前記蒸発源が、真空チェ
ンバの底部で前記第１の仮想軸線から側方に偏位した箇
所に配置されていることを特徴とする。また、本発明
は、前記真空チェンバが前記第１の仮想軸線を中心とす
る円柱状を呈し、前記蒸発源は真空チェンバの底部の外
周寄り箇所に配置されていることを特徴とする。また、
本発明は、前記第２の仮想軸線が、前記第１の仮想軸線
に対して２０度ないし６０度の角度を成して傾斜して延
在することを特徴とする。

【００１２】また、本発明は、前記第２の仮想軸線が、
前記第１の仮想軸線に対して４０度ないし５５度の角度
を成して傾斜していることを特徴とする。また、本発明
は、前記第１の基体ホルダに複数の第２の基体ホルダが
支持されていることを特徴とする。また、本発明は、前
記第１の基体ホルダが第１の仮想軸線を中心とし上方に
凸で下部が開放された中空の円錐状に形成され、複数の
円形の第１の開口がこの第１の基体ホルダの周方向に間
隔をおいて複数形成され、前記第２の基体ホルダは前記
第２の開口に回転可能に嵌合支持される平面視円形の回
転板により構成され、前記第２の仮想軸線は第１の開口
の中心を通ることを特徴とする。

【００１３】また、本発明は、前記第２の基体ホルダの
外周には歯部が形成され、第２の駆動手段は、前記第１
の仮想軸線にほぼ中心を一致させて前記真空チャンバ内
に固定され、前記第１の基体ホルダの上部において前記
第２の基体ホルダの歯部に歯合するピニオンを含むこと
を特徴とする。また、本発明は、前記第２の基体ホルダ
には、該第２の基体ホルダの周方向に間隔をおいて複数
の第２の開口が形成され、前記基体支持部はこれらの第
２の開口を含んで構成され、前記基体は各第２の開口
に、下面を下方に露出させて配設されていることを特徴
とする。また、本発明は、前記第１の駆動手段が、第１
の基体ホルダの上端から前記ピニオンの内側を通って第
１の仮想軸線上を上方に延在する回転軸と、真空チェン
バ外に配設され前記回転軸を回転させるモータとを含ん
で構成されていることを特徴とする。また、本発明は、
前記薄膜が形成される基体の表面は球面状であることを
特徴とする。

【００１４】本発明の真空蒸着装置では、各基体は、第
２の基体ホルダにより支持されて、それぞれの蒸着面が
第２の仮想軸線の延在方向に向いて傾斜した状態とな
り、そして、第１の基体ホルダと共に全体が回転するだ
けでなく、第２の基体ホルダと共に第２の仮想軸線の回
りを回転する。したがって、蒸発源からの蒸着材料の蒸
気は、基体の蒸着面が球面状であっても、各基体の中央
部に対して角度を変化させつつ斜めから入射し、一方、
基体の周辺部に対しても角度を変化させつつ斜めから入
射する。そのため、本発明では、基体の蒸着面に、場所
によらず均一な厚さで薄膜を形成することができる。そ
の結果、表面全体で必要な光学特性を備えた凸レンズな
どの光学部品を作製することが可能となる。また、本発
明では、蒸発源が、第１の仮想軸線から側方に偏位した
箇所に配置されるので、蒸着材料の蒸気が基体に対して
より斜めから入射することになり、均一な厚さの薄膜を
形成する上でより一層有利となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。図１は本発明による真空蒸着
装置の一例を示す断面側面図、図２は図１のＦ−Ｆ’線
断面図である。図中、図５に示した真空蒸着装置と同一
の要素には同一の符号が付されており、それらに関する
詳しい説明はここでは省略する。本実施例の真空蒸着装
置２は、第１の基体ホルダ４、第１の基体ホルダ４に支
持された第２の基体ホルダ６、第１および第２の基体ホ
ルダ４，６をそれぞれ駆動する第１および第２の駆動手
段８，１０などを含んで構成されている。第１の基体ホ
ルダ４は上方に凸で下部が開放された中空の円錐状に形
成され、円錐の中心を回転軸１２６の中心に一致させて
配置され、円錐の頂部に相当する箇所が略鉛直の回転軸
１２６の下端部に固着されている。この第１の基体ホル
ダ４には、平面視円形の４つの開口１２（特許請求の範
囲の第１の開口に相当）が第１の基体ホルダ４の中心の
回りに等間隔に形成されている。各開口１２の下面側の
縁には、第１の基体ホルダ４の下面側の箇所において、
中心方向に迫り出した段部１４（図１）が形成され、段
部１４の上面が第２の基体ホルダ６の下面に当接するこ
とで開口１２に嵌合した第２の基体ホルダ６が支持され
る。開口１２の直径は、平面視円形の第２の基体ホルダ
６がこの開口１２に嵌合し、がたつきがなく、かつ円滑
に回転できる大きさとなっている。

【００１６】第２の基体ホルダ６は具体的には回転板１
６により構成され、回転板１６には、その中心の回りに
等間隔に４つの開口１８（特許請求の範囲の第２の開口
に相当）が形成されている。各開口１８は基体支持部を
成し、各基体２０は開口１８を通じて下面を下方に露出
させた状態で開口１８の箇所に配置される。各開口１８
の縁には、回転板１６の下面側の箇所において、中心方
向に迫り出した段部２２が形成されており、この段部２
２の箇所における内径は基体２０の直径より小さくなっ
ている。したがって、この開口１８の箇所に配置された
基体２０は、落下することなく各開口１８の箇所に支持
される。回転板１６の外周には歯部２１が全周に形成さ
れている。

【００１７】第１の基体ホルダ４が上述のように円錐状
に形成され、第２の基体ホルダ６を成す回転板１６は第
１の基体ホルダ４に形成された開口１２に嵌合している
ので、回転板１６の回転の中心となる第２の仮想軸線２
４は、第１の基体ホルダ４の回転の中心となる第１の仮
想軸線２６（回転軸１２６の中心線）に対して傾斜して
延在している。そして、本実施の形態では、回転板１
６、すなわち第１の基体ホルダ４が水平に対してなす角
度θを２０度ないし６０度、望ましくは４０度ないし５
５度傾斜させることで、第１および第２の仮想軸線２
６，２４が成す角度θを２０度ないし６０度、望ましく
は４０度ないし５５度に設定している。

【００１８】また、第１の基体ホルダ４の頂部の箇所に
は、回転軸１２６を内側にし、中心を回転軸１２６の中
心に一致させてピニオン２８が配設され、真空チャンバ
の天井部に固定されている。ピニオン２８は一種の傘形
歯車であり、その歯部は、第１の基体ホルダ４の上面か
ら突出する回転板１６の歯部２１に歯合している。この
ピニオン２８および回転板１６に形成された歯部２１、
さらに第１の基体ホルダ４および第１の駆動手段８であ
るモータ１２８により本発明に係わる第２の駆動手段１
０が構成されている。

【００１９】真空チェンバ１０４の床部に配設する蒸発
手段１０６は、真空チェンバ１０４の中心部ではなく、
第１の仮想軸線２６から側方に偏位した箇所、本実施の
形態では真空チェンバ１０４の外周寄り箇所に配置され
ている。

【００２０】次に、このように構成された真空蒸着装置
２の動作について説明する。まず、表面に薄膜を形成す
べき１６個の基体２０を、４つの回転板１６の各開口１
８の箇所にそれぞれ配置する。各基体２０は、図１に示
したように、一方の面が球面状に形成されており、球面
側が開口１８を通じて下方に露出するように、球面側を
下にして配置する。

【００２１】そして、この状態でモータ１２８に給電し
て第１の基体ホルダ４を駆動し、矢印Ｇ（図１）で示し
たように回転させる。第１の基体ホルダ４が回転するこ
とにより、第１の基体ホルダ４に支持された回転板１６
も第１の基体ホルダ４と共に回転するが、その際、回転
板１６の歯部２１がピニオン２８の歯部に歯合している
結果、回転板１６も駆動されて第２の仮想軸線２４の回
りに矢印Ｈで示したように回転する。一方、不図示のモ
ータに給電してシャッタ１１８を一定の角度だけ回転さ
せ開放状態に設定する。その結果、ルツボ１１６内の蒸
着材料の蒸気はルツボ１１６から放出され、真空チェン
バ１０４内を上昇して、回転板１６により支持された各
基体２０の表面に付着し、薄膜を形成する。

【００２２】そして、本実施の形態の真空蒸着装置２で
は、各基体２０は、上述のように傾斜した回転板１６に
より支持されて、それぞれの蒸着面が第２の仮想軸線２
４の延在方向に向いており、かつ回転板１６と共に第２
の仮想軸線２４の回りに回転している。したがって、蒸
発手段が仮に真空チェンバ１０４内のほぼ中央に配置さ
れていたとしても、蒸発手段１０６から上昇してきた蒸
着源の蒸気は、蒸着面が球面状の各基体２０の中央部に
対して入射角度を変化させつつ斜めから入射し、一方、
基体２０の周辺部に対しても入射角度を変化させつつ斜
めから入射する。そのため、本実施の形態では、基体２
０に対する蒸気の入射角の差異に起因し薄膜の厚さのば
らつきが少なくなり、基体２０の蒸着面には場所によら
ず均一な厚さで薄膜が形成される。しかも、本実施の形
態では、蒸発手段１０６が第１の仮想軸線２６から偏位
した真空チェンバ１０４内の外周寄りに配置されている
ので、蒸発手段１０６からの蒸気は、各基体２０に対し
ては一層傾斜した状態で入射する。したがって、基体２
０に対する蒸着源の蒸気の入射角の差異に起因した薄膜
の厚さのばらつきがより少なくなり、基体２０の球面状
の蒸着面に薄膜を均一な厚さで形成する上でより一層有
利となる。蒸発手段１０６は、仮想軸線２６からもっと
も遠ざかった位置に置くのがよい。これにより、基体２
０と蒸発手段１０６との距離において、最近距離と最遠
距離との差を大きくとることができ、第１および第２の
基体ホルダ４、６の相互回転により、基体２０と蒸発手
段１０６との距離は最近距離と最遠距離との間で連続的
に変化した状態で蒸着がなされるので、蒸発手段１０６
との距離の不均一による膜厚のむらが抑えられて、一層
有利である。

【００２３】以上、本発明について実施の形態をもとに
説明したが、これはあくまでも一例であり、本発明はこ
の例に限定されることなく種々の形態で実施することが
できる。例えば、第１の基体ホルダ４に取り付ける第２
の基体ホルダ６の数や、第２の基体ホルダ６に装着する
基体２０の数などは、要求される装置仕様に応じて種々
に変更可能である。また、第１の基体ホルダ４の形は必
ずしも円錐状である必要はなく、第２の基体ホルダ６を
回転可能な状態で支持でき、そして、各基体２０を傾斜
させて支持できる限りどのような形状であってもかまわ
ない。そして、本発明は基体表面に単層膜を形成する場
合だけでなく多層膜を形成する場合にも無論有効であ
る。

【００２４】

【実施例】次に本発明による真空蒸着装置の実施例につ
いて説明する。この実施例では、上述した真空蒸着装置
２において、第１の仮想軸線２６からルツボ１１６の中
心までの距離Ａを３５０ｍｍ、真空チェンバ１０４の底
部を基準にした第１の基体ホルダ４の頂部の高さＢを８
００ｍｍ、第１の基体ホルダ４の頂部から第２の基体ホ
ルダ６（回転板１６）の中心までの距離Ｃを２６０ｍ
ｍ、回転板１６の中心を挟んだ２つの開口１８の中心間
の距離Ｄを１００ｍｍ、第１および第２の仮想軸線２
６，２４が成す角度θを４０度とした。また、基体２０
としては、図３の側面図に示したように、直径が３０ｍ
ｍ、蒸着面の曲率半径が１５ｍｍであり、非蒸着面は平
面で、肉厚は１５ｍｍのものを用いた。

【００２５】このような条件で実際に基体２０に対して
蒸着を行い、表面に形成された薄膜の厚さを測定した。
図４の（Ａ）は薄膜厚の測定位置を示す平面図、（Ｂ）
は同側面図である。測定結果を［表１］に示す。また、
比較のため、図５に示した真空蒸着装置１０２によって
も同じ形状寸法の基体２０に対して蒸着を行い、形成さ
れた薄膜の厚さを同じ測定位置で測定した。測定結果は
同じく［表１］に示す（比較例）。なお、真空蒸着装置
１０２では、真空チェンバ１０４の底部を基準にした基
体ホルダの下面の高さＢ’を８００ｍｍ、基体ホルダ１
０８の中心から外側の基体１５４の中心までの距離Ｃ’
を２００ｍｍとした（図５）。

【００２６】

【表１】

【００２７】この表から分るように、真空蒸着装置２で
は、測定位置Ｐ１〜Ｐ５において膜厚は３９１ｎｍ〜５
００ｎｍであり、変化幅は１０９ｎｍとなっている。こ
れに対して、従来の真空蒸着装置１０２では、測定位置
Ｐ１〜Ｐ５において膜厚は２４０ｎｍ〜５００ｎｍであ
り、変化幅は２６０ｎｍとなっている。すなわち、本実
施例の真空蒸着装置２では膜厚の変化は大幅に縮小され
ている。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように本発明の真空蒸着装
置では、各基体は、第２の基体ホルダにより支持され
て、それぞれの蒸着面が第２の仮想軸線の延在方向に向
いて傾斜した状態となり、そして、第１の基体ホルダと
共に全体が回転するだけでなく、第２の基体ホルダと共
に第２の仮想軸線の回りを回転する。したがって、蒸発
源からの蒸着材料の蒸気は、蒸着面が球面状であって
も、基体の中央部と基体の周辺部に対して、入射角度を
変えつつ斜めに入射する。そのため、本発明では、入射
角度に起因した薄膜の厚さのばらつきが減少し、基体の
蒸着面に場所によらず均一な厚さで薄膜を形成すること
ができる。その結果、表面全体で必要な光学特性を備え
た凸レンズなどの光学部品を作製することが可能とな
る。さらに、本発明では、蒸発源が、第１の仮想軸線か
ら側方に離れた箇所に配置されているので、基体に対す
る蒸気の入射角がより斜めとなり、均一な厚さで薄膜を
形成する上でより有利となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による真空蒸着装置の一例を示す断面側
面図である。

【図２】図１のＦ−Ｆ’線断面図である。

【図３】基体の側面図である。

【図４】（Ａ）は薄膜厚の測定位置を示す平面図、
（Ｂ）は同側面図である。

【図５】真空蒸着法を行うための従来の真空蒸着装置の
一例を示す断面側面図である。

【符号の説明】

２ 真空蒸着装置 ４ 第１の基体ホルダ ６ 第２の基体ホルダ ８ 第１の駆動手段 １０ 第２の駆動手段 １２ 開口（第１の開口） １８ 開口（第２の開口） １６ 回転板 ２０ 基体 ２８ ピニオン １０４ 真空チェンバ １０６ 蒸発手段 １２６ 回転軸

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基体を真空チェンバ内に支持し、
   前記基体の下方に配設した蒸発源から蒸着材料を蒸発さ
   せて前記基体の表面に付着させることにより前記基体の
   表面に薄膜を形成する真空蒸着装置において、 略鉛直な第１の仮想軸線を中心に回転可能な状態で前記
   真空チェンバ内に支持された第１の基体ホルダと、 前記第１の仮想軸線に対し傾斜して延在する第２の仮想
   軸線を中心に回転可能な状態で前記第１の基体ホルダに
   支持された第２の基体ホルダと、 前記基体の前記蒸着面を前記第２の仮想軸線の延在方向
   とほぼ同方向に向けた状態で前記基体を支持する、前記
   第２の基体ホルダに設けられた基体支持部と、 前記第１の基体ホルダを回転駆動する第１の駆動手段
   と、 前記第２の基体ホルダを回転駆動する第２の駆動手段
   と、 を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
2. 【請求項２】 前記蒸発源は、真空チェンバの底部で前
   記第１の仮想軸線から側方に偏位した箇所に配置されて
   いる請求項１記載の真空蒸着装置。
3. 【請求項３】 前記真空チェンバは前記第１の仮想軸線
   を中心とする円柱状を呈し、前記蒸発源は真空チェンバ
   の底部の外周寄り箇所に配置されている請求項１記載の
   真空蒸着装置。
4. 【請求項４】 前記第２の仮想軸線は、前記第１の仮想
   軸線に対して２０度ないし６０度の角度を成して傾斜し
   て延在する請求項１乃至３に何れか１項記載の真空蒸着
   装置。
5. 【請求項５】 前記第２の仮想軸線は、前記第１の仮想
   軸線に対して４０度ないし５５度の角度を成して傾斜し
   ている請求項１乃至３に何れか１項記載の真空蒸着装
   置。
6. 【請求項６】 前記第１の基体ホルダに複数の第２の基
   体ホルダが支持されている請求項１乃至５に何れか１項
   記載の真空蒸着装置。
7. 【請求項７】 前記第１の基体ホルダは第１の仮想軸線
   を中心とし上方に凸で下部が開放された中空の円錐状に
   形成され、複数の円形の第１の開口がこの第１の基体ホ
   ルダの周方向に間隔をおいて複数形成され、前記第２の
   基体ホルダは前記第２の開口に回転可能に嵌合支持され
   る平面視円形の回転板により構成され、前記第２の仮想
   軸線は第１の開口の中心を通る請求項１乃至６に何れか
   １項記載の真空蒸着装置。
8. 【請求項８】 前記第２の基体ホルダの外周には歯部が
   形成され、第２の駆動手段は、前記第１の仮想軸線にほ
   ぼ中心を一致させて前記真空チャンバ内に固定され、前
   記第１の基体ホルダの上部において前記第２の基体ホル
   ダの歯部に歯合するピニオンを含む請求項７記載の真空
   蒸着装置。
9. 【請求項９】 前記第２の基体ホルダには、該第２の基
   体ホルダの周方向に間隔をおいて複数の第２の開口が形
   成され、前記基体支持部はこれらの第２の開口を含んで
   構成され、前記基体は各第２の開口に、下面を下方に露
   出させて配設されている請求項７または８記載の真空蒸
   着装置。
10. 【請求項１０】 前記第１の駆動手段は、第１の基体ホ
    ルダの上端から前記ピニオンの内側を通って第１の仮想
    軸線上を上方に延在する回転軸と、真空チェンバ外に配
    設され前記回転軸を回転させるモータとを含んで構成さ
    れている請求項８記載の真空蒸着装置。
11. 【請求項１１】 前記薄膜が形成される基体の表面は球
    面状である請求項１乃至１０に何れか１項記載の真空蒸
    着装置。