JPH1164862A - 液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶表示素子に用いられる多層構造、光学制御
層等の表示特性を改善するための複合基板間での接着時
の歪み回避を目的とする。 【解決手段】本発明の液晶表示素子は、二重シール構造
において室温硬化型接着層と熱硬化型接着層の併用によ
り、熱接着時の基板歪みを回避することを特徴とする。
また、シールパターンに不連続パターンを採用すること
でシール部への気泡混入も回避可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】近年、表示素子として、広く
CRT が用いられている。CRT は、一つの電子銃で全ての
画素を走査するためにディスプレイの奥行きを大きく取
る必要がある。さらに消費電力や重量が大きい問題があ
るので携帯用ディスプレイとしては適していない。その
外にプラズマディスプレイやエレクトロルミネッセンス
ディスプレイがある。しかしながらプラズマディスプレ
イでは、やはり消費電力や重量が大きいという問題、エ
レクトロルミネッセンスディスプレイでは表示品位や信
頼性に問題があるため携帯用として実用化されていな
い。現在実用化されている唯一の携帯用表示素子は液晶
表示素子である。液晶表示素子は、薄型、低消費電力駆
動が可能という利点を有しているので、腕時計、電卓な
どの表示素子として広く使用されている。特に、TN(Twi
sted Nematic) 型液晶表示方式は、TFT などのアクティ
ブスイッチ素子を組み込むことにより、CRT 並みの表示
特性を持たせることができ、テレビにも用いられつつあ
る。ここでTN型液晶表示素子は、偏光板を用いているた
めに光利用効率が低く、光量を確保するにはバックライ
トが必要とされる。従ってバックライトに要する消費電
力が高く、電池駆動が必要な携帯型表示素子にはむいて
いない。一方、このような光利用効率を低下させる偏光
板や消費電力の増大を招くバックライトを用いずに表示
できる反射型液晶表示素子が研究されている。

【０００２】このような反射型表示素子として、液晶材
料に色素材料を混合したGH(GuestHost)LCDやコレステリ
ック液晶の選択反射を用いたものがある。これら反射型
表示素子はバックライトを必要としないために極めて低
消費電力で、携帯用表示素子として期待されている。さ
らにこれら反射型液晶表示素子ではシアン層、マゼンタ
層、イエロー層を積層して表示するＧＨＬＣＤや光制御
層を加えることにより、色再現性や反射率を向上し表示
特性の改善が試みられている。このような多層構造や光
制御層は、液晶表示素子に一般的に用いられるガラス基
板とは、物理的性質（熱膨張係数や膜厚）のことなる樹
脂基板や特殊加工を行うための硝子基板等が用いられ
る。しかしながら物理的性質の異なる基板を接着する場
合、その特性から生じる歪みから基板の反り等が生じ、
液晶表示素子のセルギャップを均一に保つことが難しい
という問題が生じる。特に、熱による基板寸法の変化
は、液晶表示素子のセルギャップを極端に変化させる問
題がある。

【０００３】従来セルギャップを形成する接着層は、セ
ルギャップを均一に保つために十分な強度と、液晶材料
の電気的、光学的な特性に悪影響を与えない特性が要求
されることから、熱硬化性の接着剤が用いられていた。
しかしながら熱膨張係数に差がある基板では、接着剤の
熱硬化時に、基板間の熱膨張の差により生じる寸法差を
持ったまま固定され、セルギャップを均一に保つことが
できないという問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、異な
る熱膨張係数を有する基板を接着するにあたり、熱硬化
性樹脂を接着層として用いた場合は、液晶表示素子のセ
ルギャップを均一に保つことは困難であるという問題が
あった。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもの
で、異なる物理的性質を有する基板を接着する場合に
も、均一なセルギャップを実現し、高い信頼性を有する
液晶表示素子及びその製造方法を提供することを目的と
する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、第１の基板と、この第１の基板に対向して
配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の
基板との間に挟持された液晶材料と、前記第１の基板と
前記第２の基板の間に形成され前記液晶材料を封止する
第１のシール材と、前記第１のシール材の外周部に形成
された第２のシール材とを具備する液晶表示素子におい
て、前記第２のシール材は当該液晶表示素子の使用温度
にて硬化可能な接着剤であり、前記第１のシール材は前
記使用温度よりも高い温度で硬化する熱硬化性樹脂から
なることを特徴とする液晶表示素子を提供する。また本
発明は、前記第２のシール材が開口部を持つことを特徴
とする液晶表示素子を提供する。

【０００６】また本発明は、前記第２のシール材の開口
部は、前記第２のシール材の曲率を有する領域及び直線
領域に形成されていることを特徴とする液晶表示素子を
提供する。

【０００７】前記第２のシール材の開口部は、前記第２
のシール材の幅以上の大きさであることを特徴とする液
晶表示素子を提供する。また本発明は、前記第２のシー
ル材は、前記第１及び第２の基板の間隔を一定に保つス
ペーサーを含有しないことを特徴とする液晶表示素子を
提供する。また本発明は、前記第２のシール材を液晶表
示素子の使用温度において硬化させる第１の硬化工程
と、この第１の硬化工程の後、前記第１のシール材を液
晶表示素子の使用温度よりも高い温度で硬化させる第２
の硬化工程とを具備することを特徴とする前記液晶表示
素子の製造方法を提供する。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１に本発明に関する液晶表示素
子の断面図を示す。ＴＦＴ、走査線、信号線（図示せ
ず）等が形成されたアレイ基板１と共通電極、カラーフ
ィルタ（図示せず）等が形成された対向基板２が対向配
置されている。これらアレイ基板１と対向基板２は、液
晶表示素子の使用温度よりも十分高い温度で硬化される
第１のシール材と、この第１のシール材１の外周部形成
された液晶表示素子の使用温度条件で硬化できる第２の
シール材２とによって封止されている。５は液晶層、６
はセルギャップを保つスペーサである。本発明では、前
記第２のシール材２を液晶表示素子完成時に使用する温
度状態（例えば15℃〜40℃）において予め硬化させる。
この時の第２のシール材４は二液性接着剤や紫外線硬化
接着剤或いはこの温度において硬化する熱硬化性の接着
剤でも構わない。この後温度を上げて第１のシール材１
を熱硬化させ強固に接着する。また第１のシール材とし
ては、高温焼成により重合硬化を示す一液性の熱硬化樹
脂や二液性の熱硬化樹脂が挙げられる。本発明では、先
ず液晶表示の使用温度帯で硬化可能な第２のシール材４
を硬化し均一なセルギャップのまま保持させる。次に温
度を上げて第１のシール材１を硬化する。このとき基板
間の熱膨張差に起因する基板の反りが生じたとしても、
反った状態で第１のシール材１が硬化して基板間のずれ
を生じない。したがって温度が下がった場合前記反りは
元に戻り、通常の液晶表示素子の使用温度帯では均一な
セルギャップを実現できる。前述した第１のシール材４
で予め基板間を固定していなければ、高温状態でセルギ
ャップが均一なまま固定され、温度が下がった場合に熱
膨張係数に起因して基板が反ってしまうのである。図２
は基板１上に第１のシール材３、第２のシール材４を印
刷した様子を示す上面図である。図２に示すように、基
板１、基板２間を強固に固定するための第１のシール材
３は、基板１の内周部に位置し、第２のシール材４は、
第１のシール材１より外周部に位置するようにスクリー
ン印刷によりそれぞれ印刷する。この場合、第２のシー
ル材３は不連続なパターン（図中矢印で示す部分）を構
成することが好ましい。以下にその理由を述べる。アレ
イ基板１を対向基板２に位置合わせし、液晶表示素子の
使用温度にて所定のセルギャップ付近まで潰した場合、
図３、図４に示すように第１のシール材３と第２のシー
ル材４は潰されて１本のシール材７になる。このときこ
のシール材７の内周部は第１のシール材３、外周部は第
２のシール材４を構成する。第２のシール材４の開放部
（図２中矢印で示す部分）がない場合、第１のシール材
３と第２のシール材４により閉ざされた空間が、気泡
（図３中矢印、図４中符号８で示す）となりシール材７
中に混入し易い。この気泡は第２のシール材４が硬化す
る温度において膨張し、流動性を示す第１のシール材３
から外部（セル内部側）に放出されようとする。これに
より液晶層を封じ込めるための閉空間を形するシールの
一部に欠落が生じやすく、後工程における液晶の注入を
困難にする可能性がある。

【０００９】そこで図２、図５に示すように第２のシー
ル材４の一部に開放部（図２中矢印、図５中符号９で示
す）を設けることで、前述した気泡８を開放部９から外
周部に放出することが可能となるので、第１のシール材
の一部に欠陥を生じることがなくなる。特に第２のシー
ル材４のパターンの屈曲部や長い直線部の中間部へ開放
部９を形成することが気泡開放に効果的である。また、
液晶表示素子のセルギャップは最内周部の第１のシール
材３により保持されることが実験から明らかになってい
る。このため第１のシール材３の接着強度は、第２のシ
ール材４の接着強度より強くする必要がある。さらに第
１のシール材３としては、液晶材料に対する耐性が必要
がある。したがって第１のシール材３は、接着強度が強
く耐性のある熱硬化性接着樹脂が好ましい。

【００１０】（実施例１）図６は本発明の液晶表示素子
の製造方法を説明するための斜視図である。図６に示す
ように、スイッチング素子、走査線、信号線、画素電極
等が形成されたアレイ基板１、共通電極等が形成された
対向基板２の表面に液晶の配向を制御するための配向膜
１０、１１をポリイミド膜（オプトマーAL-1051 ：日本
合成ゴム）によりそれぞれ形成する。アレイ基板１と対
向基板２はそれぞれ熱膨張係数が46×10^-7／℃と83×10
^-7／℃の硝子基板を用いた。配向膜面は、液晶分子が一
定方向への規則性を示して並ぶような配向処理を施し、
表示品位が均一になるよう設定する。例えば配向膜を布
等で擦るラビング処理が挙げられる。

【００１１】次にアレイ基板１上に液晶表示素子の使用
温度よりも高温において硬化する第１のシール材３、対
向基板２上に液晶表示素子の使用温度において硬化する
第２のシール材４をディスペンサーを用いて描画塗布す
る。セルを組み立てたとき第１のシール材３は内側に、
第２のシール材４は外側にくるように配置した。また第
１のシール３は、硬化温度１３０℃から１６０℃の熱硬
化型接着樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用い、第２のシー
ル４は、紫外線の照射により室温状態にて硬化する紫外
線硬化型接着樹脂(UV-1000：Sony Chemical)を用いた。
さらに第１のシール材３の形状は、液晶層を保持するた
めに閉空間構造を形成しており開口端１２より常法によ
り液晶を注入する。第２のシール材４は、第１のシール
材３の形状と平行配置される様に基板面に描画した。か
つ開放部8 を直線部および曲線部にそれぞれ形成した。
また第１のシール材３には液晶層の厚みを制御するため
のスペーサー１３が混合されており接着時の加圧により
所定の液晶層厚みを形成する。ただし第２のシール材４
には厚みを制御するスペーサーを混合していない。

【００１２】次に上述したアレイ基板１、対向基板２
を、それぞれ塗布された第１のシール材３、第２のシー
ル材４が向かい合うように張り合わせた後、基板間隔が
所定の厚みになるまで加圧する。

【００１３】次に室温状態にてUVランプを用いて基板側
面部より露光を行い周辺部の第２のシール材４を硬化す
る。このときシール材中の気泡によって第１のシール材
３を破壊することはなかった。またこの状態でセルギャ
ップを満たしていることが重要である。

【００１４】次にこれら基板間を加圧した状態で熱硬化
型接着樹脂からなる第１のシール材３を160 ℃、1Hにて
硬化接着する。このとき160 ℃での熱膨張率の差により
歪みが生じるが、第２のシール材４により既に固定され
ているため、この歪みを基板間に含んだまま第１のシー
ル材３が硬化され、冷却後には元のセルギャップを有す
るセルが形成される。次にこのように作成した液晶セル
に、液晶材料を真空注入して液晶表示素子を完成した。

【００１５】（比較例１）図７に示すように、スイッチ
ング素子、走査線、信号線、画素電極等が形成されたア
レイ基板１、共通電極等が形成された対向基板２の表面
に液晶の配向を制御するための配向膜１０、１１をポリ
イミド膜（オプトマーAL-1051 ：日本合成ゴム）により
それぞれ形成する。アレイ基板１と対向基板２はそれぞ
れ熱膨張係数が46×10^-7／℃と83×10^-7／℃の硝子基板
を用いた。配向膜面は、液晶分子が一定方向への規則性
を示して並ぶような配向処理を施し、表示品位が均一に
なるよう設定する。例えば配向膜を布等で擦るラビング
処理が挙げられる。次にアレイ基板１上にシール材３を
ディスペンサーを用いて描画塗布する。このときのシー
ル材３は、熱硬化型接着樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用
いた。またこのシール材３の形状は、液晶層を保持する
ための閉空間構造を形成しており開口端26より常法によ
り液晶を注入する。またシール材３には液晶層の厚みを
制御するためのスペーサー１３が混合されており接着時
の加圧により所定の液晶層厚みを形成する。

【００１６】次に上述したアレイ基板１、対向基板２を
シール材３を介して、張り合わせた後、基板間隔が所定
の厚みになるまで加圧する。次に基板を加圧した状態で
熱硬化型接着樹脂からなるシール材３を160 ℃、1Hにて
硬化接着した。このとき160 ℃でアレイ基板１および対
向基板２がそれぞれの膨張率に応じて膨張し、この状態
でシール材３が硬化し固定される。このセルは冷却後、
アレイ基板１及び対向基板２がそれぞれの熱膨張率に応
じて収縮する。このときシール材３で固定されているの
で、常温付近では基板間に歪みを保持し十分なセルギャ
ップが取れなかった。

【００１７】（実施例２）実施例１と同様のプロセスに
より液晶表示素子を作製した。本実施例では第１のシー
ル材３として、接着強度が強い熱硬化型接着樹脂(XN-5A
-C：三井東圧) を用い、第２のシール材４として、紫外
線硬化型接着樹脂(UV-1000：Sony Chemical)を用いた。
液晶材料にはセル厚2.5 μm にて15Ｖで駆動可能なカイ
ラルネマチック系の液晶材料を用いた。

【００１８】（比較例２）実施例１と同様のプロセスに
より液晶表示素子を作製した。本比較例では第１のシー
ル材３として、紫外線硬化型(UV-1000：Sony Chemical)
を用い、第２のシール材４として、接着力が強い熱硬化
型接着樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用いた。液晶材料に
はセル厚2.5 μm にて15Ｖで駆動可能なカイラルネマチ
ック系の液晶材料を用いた。

【００１９】（実施例３）実施例１と同様のプロセスに
より液晶表示素子を作製した。本実施例では第１のシー
ル材３として、接着強度が強い熱硬化型接着樹脂(XN-5A
-C：三井東圧) を用い、第２のシール材４として、紫外
線硬化型接着樹脂(UV-1000：Sony Chemical)を用いた。
液晶材料には二色性色素を混合したＧＨタイプの液晶を
用いた。

【００２０】（比較例３）実施例１と同様のプロセスに
より液晶表示素子を作製した。本比較例では第１のシー
ル材３として、接着強度が強い熱硬化型接着樹脂(XN-5A
-C：三井東圧) を用い、第２のシール材４として、紫外
線硬化型接着樹脂(UV-1000：Sony Chemical)を用いた。
ただし本実施例では第２のシール材４の開放部９は形成
せず連続なパターンとした。

【００２１】（実施例４）対向して張り合わせる二枚の
基板の厚みが大きく異なる素子を構成した。図８に示す
ように、予めＩＴＯ膜が形成されている厚み1.1mm の硝
子基板（OA-2：日本電気硝子（株））３１と厚み0.3mm
の硝子基板（ OA-2 ：日本電気硝子（株））３２を用意
する。次に基板３１、３２の表面に液晶の配向を制御す
るための配向膜３３、３４をポリイミド膜( オプトマー
AL-1051 ：日本合成ゴム) によりそれぞれ形成する。基
板３１、３２の熱膨張係数は、それぞれ47×10^-7／℃で
ある。また配向膜３３、３４は、液晶分子が一定方向へ
の規則性を示して並ぶような配向処理を施し、表示品位
が均一になるよう設定した。次にシール材３５、３６を
基板３１、３２の液晶と接する面にディスペンサーを用
いて描画塗布する。基板３１に塗布したシール材３５
は、熱硬化型接着樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用いた。
また基板３２に塗布したシール３６は、紫外線の照射に
より室温状態にて硬化する紫外線硬化型接着樹脂(UV-10
00：Sony Chemical)を用いた。シール材３５の形状は、
液晶層を保持するために閉空間構造を形成し、開口端37
より常法により液晶を注入できる。またシール材３６
は、シール材３５の形状と平行配置される様に基板面に
描画し、かつシール材３５とシール材３６の間に介在す
る気泡を外に追い出すために、不連続部位３８をその直
線部および曲線部にそれぞれ形成する。またシール材３
５には液晶層の厚みを制御するためのスペーサー３９を
混合し、接着時の加圧により所定の液晶層厚みを形成す
る。ただしシール材３６にはギャップを制御するための
スペーサーは混合しない。次に基板３１、３２上に塗布
されたシール材３５、３６を向かい合わせるように張り
合わせた後、基板間隔が所定の厚みになるまで加圧し
た。この時第２のシール材３６は第１のシール材３５の
周辺になるように組み合わせる。次に室温状態にてUVラ
ンプを用いて基板側面部より露光を行い周辺部のシール
材３６を硬化する。この状態にて基板３１、３２の仕様
寸法を満たしていることが重要である。紫外線( ＵＶ)
による硬化固定の後に、基板を加圧した状態にて熱硬化
型接着樹脂を160 ℃、1Hにて硬化接着する。この時基板
３１と基板３２では、160 ℃での熱膨張率に差は無い
が、厚みが異なることによる基板変形量の差により歪み
が生じる。しかしながら、シール材３６により既に固定
されているため熱シール後の寸法変化を殆ど生じること
がない。次にこのように作成した液晶セルに、液晶材料
を真空注入して液晶表示素子を完成した。

【００２２】（比較例４）本比較例では実施例５の第２
のシール材がない液晶表示素子を作成した。図９に示す
ように、予めＩＴＯ透明電極が形成された厚み1.1mm の
硝子基板（OA-2：日本電気硝子（株））４１と厚み0.3m
m の硝子基板４２とを用意する。次に基板４１、４２の
表面に液晶の配向を制御するための配向膜４３、４４を
ポリイミド膜( オプトマーAL-1051 ：日本合成ゴム) に
よりそれぞれ形成する。基板４１、４２はそれぞれ熱膨
張係数が46×10^-7／℃の硝子基板を用いた。配向膜面
は、液晶分子が一定方向への規則性を示して並ぶような
配向処理を施し、表示品位が均一になるよう設定した。
次に基板４１、４２を接着するためのシール材４５を基
板４１の液晶と接する面にディスペンサーを用いて描画
塗布した。基板４１に塗布したシール材４５は、熱硬化
型接着樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用いた。シール材４
５の形状は、液晶層を保持するために閉空間構造にし、
開口端４６より常法により液晶を注入できる。シール材
４５には液晶層の厚みを制御するためのスペーサー４７
を混合し、接着時の加圧により所定の液晶層厚みを形成
する。次に基板４１、４２上に塗布された配向膜が向か
い合うように張り合わせた後、基板間隔が所定の厚みに
なるまで加圧した。基板を加圧した状態にて熱硬化型接
着樹脂を160 ℃、1Hにて硬化接着した。この時、160 ℃
での熱膨張率には差がないが、基板厚みが極端に異なる
ことから基板変形量の差により歪みが生じ、この歪みを
保持した状態で熱硬化性樹脂により固着さた。次にこの
ように作成した液晶セルに、液晶材料を真空注入して液
晶表示素子を完成した。この液晶表示装置は、歪みが大
きく表示品位が大きく低下した。

【００２３】（実施例５）対向して張り合わせる二枚の
基板の材質が大きく異なる素子を構成した。図１０に示
すように、予めＩＴＯが形成された厚み1.1mm の硝子基
板（OA-2：日本電気硝子（株））５１と厚み0.125 mmの
PEN （ポリエチレンテレフタレート）フィルム基板５２
にを用意する。次に基板５１、５２の表面に液晶の配向
を制御するための配向膜５３、５４をポリイミド膜( オ
プトマーAL-1051 ：日本合成ゴム) によりそれぞれ形成
する。基板５１、５２はそれぞれ熱膨張係数が47×10^-7
／℃の硝子基板と130 ×10^-7の樹脂基板である。配向膜
面は、液晶分子が一定方向への規則性を示して並ぶよう
な配向処理を施し、表示品位が均一になるよう設定し
た。次にシール材５５、５６を基板５１及び基板５２の
液晶と接する面にディスペンサーを用いて描画塗布す
る。基板５１に塗布したシール材５５は、熱硬化型接着
樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用いた。また基板５２に塗
布したシール材５６は、紫外線の照射により室温状態に
て硬化する紫外線硬化型接着樹脂(UV-1000：SonyChemic
al)を用いた。シール材５５の形状は、液晶層を保持す
るために閉空間構造とし、開口端５７より常法により液
晶を注入できる。シール材５６は、シール材５５の形状
と平行配置される様に基板面に描画し、かつシール材５
５とシール材５６間に介在する気泡が抜けるように不連
続部位58を直線部および曲線部にそれぞれ形成する。ま
たシール材５５には液晶層の厚みを制御するためのスペ
ーサー５９を混合し、接着時の加圧により所定の液晶層
厚みを形成する。ただしシール材５６にはギャップを制
御するためのスペーサーは混合しない。次に基板５１、
５２上に塗布されたシール材５５、５６を向かい合うよ
うに張り合わせた後、基板間隔が所定の厚みになるまで
加圧した。この時第２のシール材３６は第１のシール材
３５の周辺になるように組み合わせる。次に室温状態に
てUVランプを用いて基板側面部より露光を行い周辺部シ
ール材５６を硬化した。この状態にて基板５１、５２の
仕様寸法を満たしていることが重要である。次に紫外線
( ＵＶ) による硬化固定の後に、基板を加圧した状態に
て熱硬化型接着樹脂を160 ℃、1Hにて硬化接着した。こ
の時基板５１、５２の間で、160 ℃での熱膨張率の差お
よび厚みが異なることによる基板変形量の差により歪み
が生じる。しかしながら、シール材５６により既に固定
されているため熱シール後の寸法変化を殆ど生じること
がない。次にこのように作成した液晶セルに、液晶材料
を真空注入して液晶表示素子を完成した。

【００２４】（比較例５）本比較例は実施例６の第２の
シール材のない液晶表示素子を作成した。図１１に示す
ように、予めＩＴＯが形成された厚み1.1mm の硝子基板
（OA-2：日本電気硝子（株））６１と厚み0.125mm のPE
N （ポリエチレンテレフタレート）フィルム基板６２を
用意する。基板６１、６２の表面に液晶の配向を制御す
るための配向膜６３、６４をポリイミド膜( オプトマー
AL-1051 ：日本合成ゴム) によりそれぞれ形成した。基
板６１、６２はそれぞれ熱膨張係数が47×10^-7／℃の硝
子基板と130 ×10^-7の樹脂基板である。配向膜面は、液
晶分子が一定方向への規則性を示して並ぶような配向処
理を施し、表示品位が均一になるよう設定した。次に基
板６１、６２を接着するためのシール材６５を基板６１
の液晶と接する面にディスペンサーを用いて描画塗布し
た。基板６１に塗布したシール材６５は、熱硬化型接着
樹脂(XN-5A-C：三井東圧) を用いた。シール材65の形状
は、液晶層を保持するために、閉空間構造を形成し、開
口端６６より常法により液晶を注入できる。シール材６
５には液晶層の厚みを制御するためのスペーサー６７を
混合し、接着時の加圧により所定の液晶層厚みを形成す
る。次に基板６１、６２上に塗布された配向膜が向かい
合うように張り合わせた後、基板間隔が所定の厚みにな
るまで加圧した。基板を加圧した状態にて熱硬化型接着
樹脂を160 ℃、1Hにて硬化接着した。この時基板６１、
６２の間で、160 ℃での熱膨張率の差および厚みが異な
ることによる基板変形量の差により歪みが生じる。この
歪みを保持した状態にて熱硬化性樹脂により固着さる。
次にこのように作成した液晶セルに、液晶材料を真空注
入して液晶表示素子を完成した。この液晶表示素子は、
歪みが大きく表示品位の低下した。実施例および比較例
で作製した液晶表示素子のギャップ分布、駆動電圧( 最
大値) を表１にしめす。表からも明らかなように、本発
明のシール構造を用いた液晶表示素子では、熱膨張率の
異なる基板間や大きく厚さの異なる基板間の接着におい
ても、ギャップ分布が均一であり駆動電圧の上昇を引き
起こす原因となるギャップ不良の発生もみられない。

【００２５】

【表１】

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
素子においては、表示特性を向上するための多層構造や
光学制御層の導入等、熱膨張係数の大きく異なる基板間
の接着においても基板歪みの発生を押さえ、ギャップ不
良や駆動電圧上昇の無い液晶表示素子を簡便に提供出来
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子の断面図

【図２】本発明の液晶表示素子の上面図

【図３】シール間に混入する気泡の一例を表す図

【図４】シール間に混入する気泡の一例を表す図

【図５】シール間に混入する気泡が開放される一例を表
す図

【図６】本発明の実施例１、２、３にかかる液晶表示素
子の工程図

【図７】本発明の比較例１、２、３にかかる液晶表示素
子の工程図

【図８】本発明の実施例４にかかる液晶表示素子の工程
図

【図９】本発明の比較例４にかかる液晶表示素子の工程
図

【図１０】本発明の実施例５にかかる液晶表示素子の工
程図

【図１１】本発明の比較例５にかかる液晶表示素子の工
程図

【符号の説明】

１…基板 ２…基板 ３…液晶表示素子の使用温度よりも高い温度で硬化する
熱硬化性樹脂からなる第１のシール材 ４…液晶表示素子の使用温度にて硬化可能な接着剤から
なる第２のシール材 ５…液晶層 ６…スペーサー ７…シール材 ８…気泡 ９…シール材の不連続部分 １０…配向膜 １１…配向膜 １２…注入口 １３…スペーサー ３１…厚い硝子基板 ３２…薄い硝子基板 ３３…配向膜 ３４…配向膜 ３５…熱硬化型接着剤 ３６…室温硬化型接着剤 ３７…注入口 ３８…シール不連続部 ３９…スペーサー ４１…厚い硝子基板 ４２…薄い硝子基板 ４３…配向膜 ４４…配向膜 ４５…熱硬化型接着剤 ４６…注入口 ４７…スペーサー ５１…厚い硝子基板 ５２…薄いPEN フィルム基板 ５３…配向膜 ５４…配向膜 ５５…熱硬化型接着剤 ５６…室温硬化型接着剤 ５７…注入口 ５８…シール不連続部 ５９…スペーサー ６１…厚い硝子基板 ６２…薄いPEN 基板 ６３…配向膜 ６４…配向膜 ６５…熱硬化型接着剤 ６６…注入口 ６７…スペーサー

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第１の基板と、この第１の基板に対向して
   配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の
   基板との間に挟持された液晶材料と、前記第１の基板と
   前記第２の基板の間に形成され前記液晶材料を封止する
   第１のシール材と、前記第１のシール材の外周部に形成
   された第２のシール材とを具備する液晶表示素子におい
   て、前記第２のシール材は当該液晶表示素子の使用温度
   にて硬化可能な接着剤であり、前記第１のシール材は前
   記使用温度よりも高い温度で硬化する熱硬化性樹脂から
   なることを特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】前記第２のシール材が開口部を持つことを
   特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
3. 【請求項３】前記第２のシール材の開口部は、前記第２
   のシール材の曲率を有する領域及び直線領域に形成され
   ていることを特徴とする請求項２記載の液晶表示素子。
4. 【請求項４】前記第２のシール材の開口部は、前記第２
   のシール材の幅以上の大きさであることを特徴とする請
   求項２記載の液晶表示素子。
5. 【請求項５】前記第２のシール材は、前記第１及び第２
   の基板の間隔を一定に保つスペーサーを含有しないこと
   を特徴とする請求項１、請求項２、請求項３或いは請求
   項４記載の液晶表示素子。
6. 【請求項６】前記第２のシール材を液晶表示素子の使用
   温度において硬化させる第１の硬化工程と、この第１の
   硬化工程の後、前記第１のシール材を液晶表示素子の使
   用温度よりも高い温度で硬化させる第２の硬化工程とを
   具備することを特徴とする請求項１、請求項２、請求項
   ３、請求項４或いは請求項５記載の液晶表示素子の製造
   方法。