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JPH11508629A - ポリシラン - Google Patents

ポリシラン

Info

Publication number
JPH11508629A
JPH11508629A JP9504755A JP50475597A JPH11508629A JP H11508629 A JPH11508629 A JP H11508629A JP 9504755 A JP9504755 A JP 9504755A JP 50475597 A JP50475597 A JP 50475597A JP H11508629 A JPH11508629 A JP H11508629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
substituted
groups
alkyl
Prior art date
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Ceased
Application number
JP9504755A
Other languages
English (en)
Inventor
カロッツァ,プリモ
ボルザッタ,ヴァレリオ
チャトギリアログル,クリソストモス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of JPH11508629A publication Critical patent/JPH11508629A/ja
Ceased legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】 酸化的,熱的又は化学線分解に曝される有機材料、及び少なくとも一つの次式(I): で表わされる化合物であって、式(I)中、p+qは2ないし100の数を表わし、そしてqはp+qの合計の0ないし50%変化し、m及びnは同一又は異なって0又は1を表わし、R1,R2及びYは同一又は異なって、例えば炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わし、X1及びX2は同一又は異なって、例えば炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表わし、A及びBは例えば水素原子を表わし、基R1,R2,X1,X2及びY並びに変数m及びnの各々は、同一又は異なって、式(I)中に含まれる繰り返し構造単位中の定義を表わし、そして式(I)で表わされる化合物がコポリマー状である場合には、上記構造単位は個々の構造単位のランダム,交互又はブロック分布を有する化合物を含む組成物。式(I)で表わされる化合物は加工用安定剤として特に適する。幾つかの式(I)で表わされる化合物は新規である。

Description

【発明の詳細な説明】 ポリシラン 本発明は、酸化的,熱的又は化学線分解に曝される有機材料及びポリシラン誘 導体を含む組成物、加工安定剤としてのそれらの使用、並びに新規ポリシラン誘 導体に関するものである。 ポリフェニルシラン及び写真におけるそれらの使用は、例えばダーウェント(D erwent)94−297018/37に記載されている。シラン結合を含む写真及 び輻射線感受性有機材料は、EP−A−129834に記載されている。繊維及 びフィルムとしてのポリシラン誘導体の使用は、US−A−5241029に記 載されている。有機ポリシランを含むポリオレフィン組成物は、例えば、特開昭 63−105048号及び特開平3−212438号の各公報に記載されている 。ポリエチレンにグラフトされたポリ[(フェニルシリレン)エチレン]は、ケ ミカル・アブストラクト73:67193に記載されている。 特に、本発明は、酸化的,熱的又は化学線分解に曝される有機材料、及び次式 (I): で表わされる化合物であって、 式(I)中、 p+qは2ないし100の数を表わし、そしてqはp+qの合計の0ないし5 0%変化し、 m及びnは同一又は異なって0又は1を表わし、 R1及びR2は同一又は異なって、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ− 置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数 1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素 原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換さ れたフェニル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1 ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基に よりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたナフチル基;或いは非置換又は炭素 原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又 は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若 しくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、 Yは炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭 素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/ 又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたナフチル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7 ないし9のフェニルアルキル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3−S i(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eは互いに独立して炭素原子数1ない し8のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rは互いに独立して水素原 子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアル キル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ない し4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基により モノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2は同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基; 酸素原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす )により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基;炭素原子数2ない し12のアルケニレン基;炭素原子数2ないし12のアルキニレン基、フェニレ ン基、ビフェニレン基又は次式(II): {式中、 R3及びR4は同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味を表わし 、そしてZは酸素原子、基>N−R又は基−N(R)−N(R)−(Rは上記に おいて定義されたものと同じ意味を表わす)を表わす}で表わされる基を表わし 、そして A及びBは同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの一 つを表わし、又は水素原子、基−OSi(E)3又は基−Si(E)3を表わし、 Eは上記において定義されたものと同じ意味を表わし、 p+qが3ないし10の数を表わす場合には、A及びBは一緒になって直接結 合も表わし、 基R1,R2,X1,X2及びY並びに変数m及びnの各々は、式(I)中に含ま れる繰り返し構造単位において同一又は異なる定義を表わし、そして式(I)で 表わされる化合物がコポリマー状である場合には、式(I)で表わされる化合物 は個々の構造単位のランダム,交互又はブロック分布を有する化合物の少なくと も一つを含む組成物に関するものである。 18個を越えない炭素原子を有するアルキル基の例は、メチル基、エチル基、 プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、第三ブ チル基、ペンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、 2−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、 ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基及びオクタデシル 基である。式(I)で表わされる化合物において、R1及びR2の好ましい意味は 、炭素原子数1ないし10のアルキル基、特に炭素原子数1ないし8のアルキル 基、例えば炭素原子数1ないし6のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアル キル基である。式(Ia)で表わされる化合物において、R1及びR2は例えば、 炭素原子数7ないし18のアルキル基又は炭素原子数10ないし18のアルキル 基であってよい。基Eは好ましくは炭素原子数1ないし6のアルキル基、特に炭 素原子数1ないし4のアルキル基である。非置換又は置換された炭素原子数5な いし12のシクロアルキル基の例はシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基 、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジ メチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキ シル基、シクロオクチル基、シクロデシル基及びシクロドデシル基である。非置 換又は置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、特にシクロヘキシ ル基が好ましい。 置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリ メチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基、3,5− ジ第三ブチル−4−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル 基、メチル−メトキシフェニル基、アセチルフェニル基及びブタノイルフェニル 基である。炭素原子数2ないし20のアルカノイル基で置換されたフェニル基は 、R1の好ましい意味のうちの一つを表わす。 置換されたナフチル基の例は、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリ メチルナフチル基、第三ブチルナフチル基、ジ第三ブチルナフチル基、メトキシ ナフチル基、エトキシナフチル基、メチル−メトキシナフチル基、アセチルナフ チル基及びブタノイルナフチル基である。 非置換又はフェニル基が置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベ ンジル基、第三ブチルベンジル基、メトキシベンジル基、アセチルベンジル基及 び2−フェニルエチル基である。非置換又は置換されたベンジル基が好ましい。 炭素原子数2ないし12のアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、 トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリ メチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン 基、デカメチレン基及びドデカメチレン基である。炭素原子数2ないし10のア ルキレン基、特に炭素原子数2ないし8のアルキレン基又は炭素原子数2ないし 6のアルキレン基が好ましい。 酸素原子、例えば1,2,3個の酸素原子により中断された炭素原子数4ない し12のアルキレン基の例は、3−オキサペンタン−1,5−ジイル基、4−オ キサヘプタン−1,7−ジイル基、3,6−ジオキサオクタン−1,8−ジイル 基、4,7−ジオキサデカン−1,10−ジイル基、4,9−ジオキサデカン− 1,12−ジイル基及び3,6,9−トリオキサウンデカン−1,11−ジイル 基である。 基>N−Rにより中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基の代表例 は次式: で表わされる基である。 炭素原子数2ないし12のアルケニレン基の例は、エテン−1,2−ジイル基 、2−ブテン−1,4−ジイル基、2−ペンテン−1,5−ジイル基、1,3− ペンタジエン−1,5−ジイル基、2−ヘキセン−1,6−ジイル基、3−ヘキ セン−1,6−ジイル基、1,4−ヘキサジエン−1,6−ジイル基、1,5− ヘキサジエン−1,6−ジイル基、2,4−ヘキサジエン−1,6−ジイル基、 2−ヘプテン−1,7−ジイル基、1−オクテン−1,8−ジイル基、2−オク テン−1,8−ジイル基、1,7−オクタジエン−1,8−ジイル基、1−デセ ン−1,10−ジイル基、5−デセン−1,10−ジイル基、1−ドデセン−1 ,12−ジイル基である。 炭素原子数2ないし12のアルキニレン基の例は、 エチンジイル基及び1,3−ブタジイン基である。 炭素原子数2ないし12のアルキニレン基の例は、エチンジイル基及び1,3 −ブタジイン−1,4−ジイル基である。 範囲p+qの例は2〜80,2〜50,2〜30,4〜100,7〜100, 4〜30及び7〜30である。特に、範囲4〜30が好ましい。 qは例えば、p+qの合計に対して0〜40%,0〜25%,0〜20%,5 〜50%,5〜25%又は10〜50%変化してよい。 基Rは水素原子と異なることが好ましい。 式I中、 p+qが2ないし80の数を表わし、 R1及びR2が同一又は異なって、炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置 換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1な いし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子 数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された フェニル基;或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数 1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基 によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたベンジル基を表わし 、 Yが炭素原子数1ないし10のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原 子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイ ル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素 原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又 は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若 しくはトリ−置換されたベンジル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3 −Si(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eが互いに独立して炭素原子数1 ないし6のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rが互いに独立して水 素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロ アルキル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1 ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基に よりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yが更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし8のアルキレン基;酸素 原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)に より中断された炭素原子数4ないし8のアルキレン基;炭素原子数2ないし8の アルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン基、ビフ ェニレン基又は式(II)で表わされる基を表わす前記組成物が好ましい。 式(I)中、 p+qが2ないし50の数を表わし、 R1,R2及びYが同一又は異なって、炭素原子数1ないし12のアルキル基、 非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたシクロヘキシル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基 ,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のア ルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;或いは 非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコ キシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基が モノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたベンジル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし6のアルキレン基;酸素 原子により中断された炭素原子数4ないし6のアルキレン基;炭素原子数2ない し8のアルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン基 又は式(II)で表わされる基を表わす前記組成物が特に好ましい。 本発明の組成物において、R1は好ましくは非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2な いし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニ ル基である。 qが0を表わし、pが2ないし40の数を表わし、mが0を表わし、そしてR1 が非置換又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基により置換されたフェ ニル基を表わす組成物は、本発明の別の好ましい態様である。 X1及び/又はX2が式(II)で表わされる基を表わし、そしてZが酸素原子を 表わす組成物、並びにA及びBが水素原子を表わす組成物も好ましい。 式(I)中、 qが0を表わし、そしてpが2ないし50の数を表わし、 mが0を表わし、 R1が炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表 わし、そして A及びBが同一又は異なって、水素原子又は基−Si(E)3を表わし、E炭 素原子数1ないし8のアルキル基を表わす組成物は、別の重要な組成物である。 式(I)で表わされる化合物は、例えば以下に示す様に、公知方法で製造する ことができる。製造方法1: m及びnが0を表わし、そしてA及びBが水素原子を表わす場合は 、式(I)で表わされる化合物は、例えば以下に示す方法で製造され得る。 A) 有機遷移金属錯体の触媒量の存在下で、特に例えばUS−A−49653 86,US−A−5087719,J.A.C.S.111,8043〜44,1989 ,J.A.C.S.108,4059〜66,1986及びAcc.Chem.Res.26,22〜 29,1993に記載された様なTi,Zr,V,U,Hf,Nd,Y及びSc のη5−シクロペンタジエニル錯体の存在下で、適するヒドロシラン中間体から 出発する脱水素カップリング反応(オリゴメリゼーション)による方法。Zr及 びTiの錯体が好ましく、特に下記の錯体が好ましい: Cp2ZrX2,Cp2ZrXCl,Cp2Zr[CH2Si(CH332,Cp2 TiX2,Cp2TiXCl,Cp2Zr[Si(Si(CH333]CH3,C pCp*ZrH2,CpCp*Zr[Si(Si(CH333]CH3,CpCp* Zr[Si(Si(CH333]Cl ここで、Cp=η5−シクロペンタジエニル基、Cp*=η5−ペンタメチル シクロペンタジエニル基及びX=炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わす。 反応は無溶媒又は不活性溶媒、例えばベンゼン,トルエン,エチルベンゼン, キシレン又はテトラヒドロフラン中で行なうことができる。トルエン及びエチル ベンゼンは好ましい溶媒である。反応温度は例えば−20℃ないし140℃、好 ましくは−10℃ないし80℃、特に−10℃ないし30℃である。 qが0と異なり、そしてA,B,m及びnが上述の意味を有する場合には、式 (I)で表わされるコオリゴマー状化合物は、先に記載された様な得られた適す るポリヒドロシランと適するアルケン又はケト化合物の適するモル比とのラジカ ル的ヒドロシリル化反応(例えばJ.A.C.S.116,9779〜80,1994に 記載された反応)により製造されてもよい;或いは B) 日本国特許第91−45479号〔Chem.Abstr.118:103000及 びダーウェント(Derwent)92−361941/44〕及びJ.Chem.Rev.89, 1359〜1410,1989に記載された様な、反応物としてNa,Mgを用 いる、適する置換されたジクロロシランとモノクロロシランとのヴルツ(Wurz)カ ップリングによる反応。この反応は、炭化水素溶媒又はトルエン中で、溶融Na を用いて又は有機マグネシウム化合物を使用することにより(グリニャール反応 )行なってよい。 A及びBが水素原子及び−OSi(E)3基と異なる場合は、適するモノクロ ロシラン鎖停止剤をジクロロ中間体と同様にして反応させてもよい。 A及びBが−OSi(E)3基(Eは上記において定義されたものと同じ意味 を表わす)を表わす場合は、適するシラノール鎖停止剤をジクロロ中間体と同様 にして反応させてもよい。製造方法2: m及びnが1を表わし、そしてA及びBが水素原子を表わす場合は 、式(I)で表わされる化合物は、例えば以下に示す方法で製造され得る。 A) X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基 ;酸素原子又は基>N−Rにより中断された炭素原子数4ないし12のアルキレ ン基(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)を表わす場合は、 先に定義した様な基X1及びX2を形成し得るアルケン基を含む適するヒドロシラ ン中間体のヒドロシリル化反応を介するコオリゴメリゼーションによる方法 B) X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基 ;酸素原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わ す)により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基;炭素原子数2な いし12のアルケニレン基;炭素原子数2ないし12のアルキニレン基、フェニ レン基、ビフェニレン基を表わす場合は、例えば、高分子(Macromolecules)27 (20),5583〜90に報告された様な、適するジクロロシラン中間体と適 するアルキレン,アルケニレン,アルキニレン,フェニレン又はビフェニレン誘 導体のジリチウム塩又はジナトリウム塩とのヴルツ(Wurz)カップリング(コオリ ゴメリゼーション)による方法。適するヒドロモノクロロシランは、鎖停止剤と して使用される。;或いは C) X1及びX2が同一又は異なって、式(II)で表わされる基を表わす場合は 、適する中間体(III): と適するクロロシラン中間体とのヴルツ(Wurz)反応を介するコオリゴメリゼーシ ョンによる方法。中間体(III)は公知文献記載の方法に従って製造することが できる。 Zが酸素原子と異なる場合は、本化合物は、例えば、日本国特許第84−19 3867〔Chem.Abstr.105:173308及びダーウェント(Derwent)86 −134824/21〕に記載された様な、適するジクロロシラン中間体とNH2 (R)及びNH(R)−NH(R)とのポリ縮合によっても製造することがで きる。 適するヒドロモノクロロシランは、鎖停止剤として使用される。製造方法3: mが0を表わし且つnが1を表わし、又はmが1を表わし且つnが 0を表わし、そしてA及びBが水素原子を表わす場合には、式(I)で表わされ る化合物は、例えば、製造方法2において記載された手順と同様の合成手順を使 用して、適するモル比で適するシラン中間体を用いることにより製造することが できる。 製造方法2及び3において、A及びBが水素原子と異なる場合には、適するモ ノクロロシラン鎖停止剤は、上記の様なヴルツ(Wurz)反応に従って、適するジク ロロシラン中間体と反応させることができる。 A及びBが−OSi(E)3基(Eは上記において定義されたものと同じ意味 を表わす)を表わす場合は、適するシラノール鎖停止剤は、適するジクロロシラ ン中間体と反応させることができる。 出発物質は市販されているか、又は、例えばホーベン−ヴェイル(Houben-Weyl ),第13巻,第5部に記載された様な公知方法により製造することができる。 式(I)で表わされる化合物は、酸化的,熱的又は化学線分解に対して有機材 料を安定化するために有用である。本発明の組成物において使用することができ る有機材料の例は下記のものである。 1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポ リイソブチレン、ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エン、ポ リイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えば シクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン(所望により架橋さ れていてよい)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度且つ高分子量 ポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度且つ超高分子量ポリエチレン(HD PE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、中密度ポリエチレン(M DPR)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LL DPE)、分岐鎖状低密度ポリエチレン(BLDPE)。 ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィンのポリマー、好 ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法により製造することが でき、そして、とりわけ下記の方法により製造することができる。 a)ラジカル重合(通常、高圧及び高められた温度の下で行われる)。 b)通常、周期律表の属IVb,Vb,VIb又はVIIIの1種又は1種よりも多くの 金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常1種又はそれより多くの 配位子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されていてよい酸化物、ハロ ゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル 及び/又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は 基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸 化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよ いし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく 、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキル ハイドライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用して もよい(前記金属は、周期律表の属Ia,IIa及び/又はIIIaの元素である)。 活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合 良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス(Phillips)触媒 ,スタンダード オイル インディアナ(Standard Oil Indiana)触媒,チーグ ラー(−ナッタ)〔Ziegler(-Natta)〕触媒,TNZ〔デュポン(DuPont)〕触 媒,メタロセン触媒又はシングルサイト(single site)触媒(SSC)と呼ばれ る。 2. 1.で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチ レンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/HD PE、PP/LDPE)及び異なる種類のポリエチレンの混合物(例えばLDP E/HDPE)。 3. モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーと のコポリマー、例えばエチレン/プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチ レン(LLDPE)及びその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物、プロ ピレン/ブテ−1−エンコポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エ チレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマー、エチレン /メチルペンテンコポリマー、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オク テンコポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イソプレ ンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキ ルメタクリレートコポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマー及びこれらの一 酸化炭素とのコポリマー又はエチレン/アクリル酸コポリマー及びそれらの塩( イオノマー)、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジ シクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー;並びに前 記コポリマーの互いの混合物及び前記コポリマーと上記1.において記載したポ リマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレンコポリマー、 LDPE/エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エチレン− アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLDPE/EAA及 び交互又はランダムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー並びにそれらの他の ポリマー例えばポリアミドとの混合物。 4. 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)及びその水素化変性体(例 えば粘着付与剤)及びポリアルキレンと澱粉との混合物。 5. ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン )。 6. スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体とのコポリ マー、例えばスチレン/ブタジエンコポリマー、スチレン/アクリロニトリルコ ポリマー、スチレン/アルキルメタクリレートコポリマー、スチレン/ブタジエ ン/アルキルアクリレートコポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルメタク リレートコポリマー、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、スチレン/アクリ ロニトリル/メチルアクリレートコポリマー;スチレンコポリマーとその他のポ リマー例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン/プロピレン/ジ エンターポリマーとから製造された高い衝撃強度を有する混合物;及びスチレン のブロックコポリマー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレンブロックコポリ マー、スチレン/イソプレン/スチレンブロックコポリマー、スチレン/エチレ ン/ブチレン/スチレンブロックコポリマー又はスチレン/エチレン/プロピレ ン/スチレンブロックコポリマー。 7. スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ ジエンに対するスチレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレンコポ リマー又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーに対するスチレンのグ ラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアクリロニトリル(又 はメタクリロニトリル)のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレ ン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコポリマー;ポリブ タジエンに対するスチレン及び無水マレイン酸のグラフトコポリマー;ポリブタ ジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びマレイミドのグラ フトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキルアクリレート又 はメタクリレートのグラフトコポリマー;エチレン/プロピレン/ジエンターポ リマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー;ポリアル キルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートに対するスチレン及びアクリ ロニトリルのグラフトコポリマー;アクリレート/ブタジエンコポリマーに対す るスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー、並びにそれらの6.に おいて記載したコポリマーとの混合物、例えばABSポリマー、MBSポリマー 、ASAポリマー又はAESポリマーとして知られるコポリマー混合物。 8. ハロゲン含有ポリマー例えばポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン −イソプレンの塩化及び臭化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩化又はスルホク ロル化ポリエチレン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒド リンモノ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー 、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニ リデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニルデンコポリ マー、塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー又は塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポ リマー。 9. α,β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマー例えばポリアク リレート及びポリメタクリレート;ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性を改良 したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル 。 10. 9.において記載したモノマーの互いの又はその他の不飽和モノマーと のコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニト リル/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキアルキル アクリレート又はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロ ニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンターポリマー。 11. 不飽和アルコール及びアミン又はそのアシル誘導体又はそのアセタール から誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ ビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビ ニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン;並びに上記1 .において記載したオレフィンとのそれらのコポリマー。 12. 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレング リコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジル エーテルとのそれらのコポリマー。 13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチ レンオキシドを含む前記ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ ート又はMBSを用いて変性されたポリアセタール。 14. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシ ドとポリスチレン及びポリアミドとの混合物。 15. 一成分としてのヒドロキシル基で末端閉鎖されたポリエーテル、ポリエ ステル又はポリブタジエンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアネ ートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆物質。 16. ジアミン及びジカルボン酸から、及び/又はアミノカルボン酸又は相当 するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4 、ポリアミド6、ポリアミド6/6,6/10,6/9,6/12,4/6,1 2/12,ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンとアジピン 酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミン及びイソ フタル酸及び/又はテレフタル酸及び所望により変性剤としてのエラストマーを 用いて製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチ レンテレフタルアミド又はポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;及び更に、 前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化学 的に結合された若しくはグラフトされたエラストマーとのコポリマー;又はポリ エーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリ テトラメチレングリコールとのコポリマー;並びにEPDM又はABSを用いて 変性されたポリアミド又はコポリアミド;及び加工中に縮合されたポリアミド( RIM−ポリアミド系)。 17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポ リエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。 18. ジカルボン酸及びジオールから、及び/又はヒドロキシカルボン酸又は 相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフター ル、ポリブチレンテレフタール、ポリ−1,4−ジメチロールシクロヘキサンテ レフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基により末 端閉鎖されたポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル;及 び更にポリカーボネート又はMBSを用いて変性されたポリエステル。 19. ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。 20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。 21. 一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラ ミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂 、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。 22. 乾性及び非乾性アルキド樹脂。 23. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル 化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲ ン含有変性体。 24. 置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレー ト又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂を用い て架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレート樹脂。 26. 脂肪族,脂環式,複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された 架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールA及びビスフェノールFのグリシジ ルエーテルの生成物(これらは、慣用の硬化剤、例えば酸無水物又はアミンを用 いて、所望により促進剤を用いて架橋される)。 27. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性さ れたそれらの同種の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオ ネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセル ロース;並びにロジン及びそれらの誘導体。 28. 上述のポリマーの配合物(ポリブレンド)、例えばPP/EPDM、ポ リアミド/EPDM又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/M BS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC /CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/P A6.6及びコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT /PC/ABS又はPBT/PET/PC。 29. 純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有 機材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル( 例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート)をベースと する油、脂肪及びワックス、及び更に何れかの重量比の合成エステルと鉱油との 混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料の 水性乳剤。 30. 天然又は合成ゴムの水性乳剤、例えば天然ラテックス又はカルボキシル 化スチレン/ブタジエンコポリマーのラテックス。 式(I)で表わされる化合物は、合成ポリマー、特にポリオレフィン、とりわ けポリエチレン及びポリプロピレンの熱安定性及び酸化安定性を向上させるため に特に適する。式(I)で表わされる化合物は、安定化すべき有機材料の性質、 最終用途及び他の添加剤の性質に応じて、種々の比率での有機材料との混合物と して使用することができる。 通常、安定化すべき前記材料の重量に対して、式(I)で表わされる化合物を 0.01ないし5重量%、好ましくは0.05重量%と1重量%との間で使用す ることが好ましい。 通常、式(I)で表わされる化合物は、前記材料の重合又は架橋の前,間又は 後に、ポリマー状材料に添加することができる。 式(I)で表わされる化合物は、例えば純粋な形態で、又はワックス,油若し くはポリマー中に封止されて、ポリマー状材料に配合することができる。 式(I)で表わされる化合物は、種々の方法、例えば、粉末形態でのドライミ キシング、又は溶液若しくは懸濁液の形態でのウェットミキシング、或いは更に 、マスターバッチの形態でポリマー材料中に配合され得る;このような操作にお いて、ポリマーは、粉末,粒子,溶液,懸濁液又はラテックスの形態で使用され てよい。 式(I)で表わされる化合物を用いて安定化された材料は、成形品,フィルム ,テープ,モノフィラメント,繊維,表面コーティング及び同種のものを製造す るために使用することができる。 所望により、合成ポリマーのための他の慣用の添加剤、例えば、酸化防止剤, 紫外線吸収剤,ニッケル安定剤,顔料,充填材,可塑剤,帯電防止剤,防炎加工 剤,潤滑剤,腐蝕防止剤及び金属奪活剤を、式(I)で表わされる化合物と有機 材料との混合物に添加することができる。 式(I)で表わされる化合物と混合して使用することができる添加剤の特定の 例は、下記のものである。1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4, 6−ジメチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−エチルフェノール、2, 6−ジ第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−イ ソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2− (α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオク タデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール 、2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール;側鎖が直鎖状又は分 岐鎖状であるノニルフェノール、例えば2,6−ジノニル−4−メチルフェノー ル;2,4−ジメチル−6−(1′−メチルウンデシ−1′−イル)フェノール 、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルヘプタデシ−1′−イル)フェノール 、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルトリデシ−1′−イル)フェノール及 びそれらの混合物。1.2.アルキルチオメチルフェノール 例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、2,4− ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル −6−エチルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノー ル。1.3.ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン 例えば2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ第三ブチ ルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4 −オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5 −ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド ロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー ト、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。1.4.トコフェロール 例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ− トコフェロール及びこれらの混合物(ビタミンE)。1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2, 2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−2−メ チルフェノール)、4,4′−チオビス(3,6−ジ第二アミルフェノール)、 4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。1.6.アルキリデンビスフェノール 例えば2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、 2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′ −メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール] 、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2 ,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチ レンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(4 ,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三ブチル −4−イソブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[6−(α−メチルベ ンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α− ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレンビス(2, 6−ジ第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2 −メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2− メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒ ドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブ チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三 ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプト ブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−4′−ヒ ドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5 −メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−2 ′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニ ル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニ ル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル) プロパン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ ル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−第三 ブチル−4−ヒドロキシ−2−メルカプトフェニル)ペンタン。1.7.O−,N−及びS−ベンジル化合物 例えば3,5,3′,5′−テトラ第三ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベ ンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメ ルカプトアセテート、トリデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベン ジルメルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベ ンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ ンジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ ベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ ベンジルメルカプトアセテート。1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート 例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−2−ヒドロキ シベンジル)マロネート、ジオクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロ キシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2 −ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[ 4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3, 5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル )−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル− 4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4, 6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。1.10.トリアジン化合物 例えば2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ第三ブチル− 4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト −4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3, 5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチ ル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリ ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,2,3−トリア ジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2 ,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ 第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、1, 3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル )ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジシ クロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。1.11.ベンジルホスホネート 例えばジメチル−2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネー ト、ジエチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジオクタデシル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート 、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホス ホネート、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチ ルエステルのカルシウム塩。1.12.アシルアミノフェノール 例えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒドロキシアニ リド、オクチルN−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバ メート。1.13.下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−(3,5−ジ第三ブチル −4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノール、オク タデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレン グリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチ レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ トリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス( ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカ ノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキ シメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オク タン。1.14.下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−(5−第三ブチル−4− ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノール、オク タデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレン グリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチ レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ トリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス( ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカ ノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキ シメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オク タン。1.15.下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−(3,5−ジシクロヘキ シル−4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6− ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プ ロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒ ドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)オキ サミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキ サンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ −2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。1.16.下記の一価又は多価アルコールを用いた3,5−ジ第三ブチル−4− ヒドロキシフェニル酢酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6− ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プ ロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒ ドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)オキ サミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキ サンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ −2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。1.17.β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピン酸 アミド 例えばN,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ ピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ第三ブチル− 4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N′−ビス (3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。1.18.アスコルビン酸(ビタミンC) 1.19.アミン酸化防止剤 例えばN,N′−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ジ第 二ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ビス(1,4−ジメチルペンチ ル)−p−フェニレンジアミン、N,N′−ビス(1−エチル−3−メチルペン チル)−p−フェニレンジアミン、N,N′−ビス(1−メチルヘプチル)−p −フェニレンジアミン、N,N′−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン 、N,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ビス(2−ナフ チル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N′−フェニル−p−フ ェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N′−フェニル−p−フ ェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N′−フェニル−p−フェニ レンジアミン、N−シクロヘキシル−N′−フェニル−p−フェニレンジアミン 、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N′−ジメチル −N,N′−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−ア リルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル− 1−ナフチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン 、N−フェニル−2−ナフチルアミン;オクチル化ジフェニルアミン、例えばp ,p′−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン;4−n−ブチルアミノフェ ノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4 −ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビ ス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−4−ジメチルアミ ノメチルフェノール、2,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミ ノジフェニルメタン、N,N,N′,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノ ジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1 ,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4 −(1′,3′−ジメチルブチル)フェニル]アミン、第三オクチル化N−フェ ニル−1−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチル ジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの 混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及 びジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ− 及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3 ,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及び ジアルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジ アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、 N,N,N′,N′−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N, N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル)ヘキサメチレン ジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル)セバケー ト、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,2,6,6−テ トラメチルピペリジン−4−オール。2.紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1.2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール 例えば2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール 、2−(3′,5′−ジ第三ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア ゾール、2−(5′−第三ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ ール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル )フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三ブチル−2′−ヒ ドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチ ル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾ ール、2−(3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−2′−ヒドロキシフェニル )ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシフェニ ル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ第三アミル−2′−ヒドロキシ フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベ ンジル)−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′−第三 ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フ ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−5′− [2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフ ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′− ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ −ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−( 2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′− 第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル )フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−第三ブチル−5′−[2−(2 −エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)ベ ンゾトリアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフ ェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ− 5′−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾー ルの混合物;2,2′−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブ チル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエチレングリ コール300を用いた2−[3′−第三ブチル−5′−(2−メトキシカルボニ ルエチル)−2′−ヒドロキシルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールのエス テル交換生成物;[R−CH2CH2−COO(CH232−(式中、R=3′ −第三ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル −フェニル)。2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオキシ、4−デシルオキ シ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキ シ及び2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。2.3.置換及び非置換安息香酸エステル 例えば4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチ ルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチル ベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ第三ブチ ルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル 3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ 第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ第三ブチル フェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。2.4.アクリルレート 例えばエチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα −シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナ メート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、ブチル α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキ シ−p−メトキシシンナメート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニ ル)−2−メチルインドリン。2.5.ニッケル化合物 例えば付加配位子例えばn−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はN−シ クロヘキシルジエタノールアミンを有するか又は有しない、2,2′−チオビス [4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体例 えば1:1又は1:2錯体;ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキ ルエステル例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸の メチルエステル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロ キシ−4−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加配位子を 有するか又は有しない、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾ ールのニッケル錯体。2.6.立体障害アミン 例えばビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス( 1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1− オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート 、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5− ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート;1−(2−ヒドロキシエチ ル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸と の縮合生成物;N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1 ,3,5−トリアジンとの縮合生成物;トリス(2,2,6,6−テトラメチル −4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テ トラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレー ト、1,1′−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメチル ピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、 4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1, 2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒド ロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル−7, 7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2 ,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ リジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ ルピペリジル)スクシネート;N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル −4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロ ロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物;2−クロロ−4,6−ビス(4− n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5− トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物 ;2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペン タメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプ ロピルアミノ)エタンとの縮合生成物;8−アセチル−3−ドデシル−7,7, 9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4 −ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ ル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6− ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン;4−ヘキサデシ ルオキシ及び4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 混合物;N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘ キサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3 ,5−トリアジンとの縮合生成物;1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ) エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物;並 びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン〔CAS Reg.No .[136504-96-6]〕、N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)− n−ドデシルスクシンイミド;N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4− ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9 −テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.5] デカン;7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ− 3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.5]デカンとエピクロロヒドリンと の混合物。2.7.オキサミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジエトキシオキ サニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニリド 、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニリド、2−エ トキシ−2′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロ ピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチルオキサニリド 及びその2−エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ第三ブチル−オキサニリド との混合物並びにオルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物並 びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 例えば2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニ ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ ニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピ ルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア ジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス( 4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4− ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5 −トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4, 6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2− ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェ ニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[ 2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ )フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、 2−[4−ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)− 2−ヒドロキシ−フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1 ,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ド デシルオキシ−プロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ ニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ )フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロ キシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン 、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ −プロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフ ェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリア ジン。3.金属奪活剤 例えばN,N′−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−N′−サリチロイ ルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス( 3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3 −サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキ サリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸二無水物、セバコイルビスフ ェニルヒドラジド、N,N′−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N′− ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N′−ビス(サリチロイル )チオプロピオニルジヒドラジド。4.ホスフィット及びホスホナイト 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニ ルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウ リルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト リトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィッ ト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三 ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,6−ジ第三 ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデ シルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル −6−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4, 6−トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトール)ジホスフィット、ト リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチ ルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキ シ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1, 3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三ブ チル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、 ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス (2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット。5.ヒドロキシルアミン 例えばN,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシ ルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロ キシルアミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサ デシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N− ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N− オクタデシルヒドロキシルアミン;水素化獣脂アミンから誘導されたN,N−ジ アルキルヒドロキシルアミン。6.ニトロン N−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン 、N−オクチル−α−ペンチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシル−ニ トロン、N−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α −ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、 N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペン タデシル−ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オ クタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン;水素化獣脂アミンから誘導されたN ,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。7.チオ相乗剤 例えばジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネー ト。8.過酸化物掃去剤 例えばβ−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリ スチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は2−メルカ プトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデ シルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト )プロピオネート。9.ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び/又は燐化合物及び二価マンガン塩と組み合わせた銅塩。10.塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシア ヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン 、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウムステア レート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレー ト、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコ レート又は錫ピロカテココレート。11.核剤 例えば無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マ グネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩;有機化 合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば4−第三ブチル安息 香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウ ム;ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー(“イオノマー”)。12.充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク 、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒 鉛、木材細粉及び他の天然産品の細粉又は繊維、合成繊維。13.その他の添加剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤 、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。14.ベンゾフラノン及びインドリノン 例えばUS−A−4325863、US−A−4338244、US−A−5 175312、US−A−5216052、US−A−5252643、DE− 4316611、DE−4316622、DE−4316876、EP−A−0 589839又はEP−A−0591102に開示されたもの、又は3−[4− (2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン −2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエト キシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ第三ブ チル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オ ン、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2− オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブ チル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキ シフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。 式(I)で表わされる化合物対慣用の添加剤の重量比は、1:0.5ないし1 :5であってよい。 式(I)で表わされる化合物は、特に加工安定剤として有用である。 式(I)で表わされる幾つかの化合物は新規である。したがって、本発明の別 の目的は、次式(Ia): で表わされる化合物であって、 式(Ia)中、 p+qは2ないし100の数を表わし、そしてqはp+qの合計の0ないし5 0%変化し、 m及びnは同一又は異なって0又は1を表わし、 R1及びR2は同一又は異なって、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置 換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし4の アルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ− ,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2な いし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたナフチ ル基;或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のア ルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル 基をモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9のフェニルア ルキル基を表わし、 Yは炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭 素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/ 又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたナフチル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりフェニル基をモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7 ないし9のフェニルアルキル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3−S i(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eは互いに独立して炭素原子数1ない し8のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rは互いに独立して水素原 子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアル キル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ない し4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基により モノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2は同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸 素原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす) により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基;炭素原子数2ないし 12のアルケニレン基;炭素原子数2ないし12のアルキニレン基、フェニレン 基、ビフェニレン基又は次式(II): {式中、 R3及びR4は同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの 一つを表わし、そしてZは酸素原子、基>N−R又は基−N(R)−N(R)− (Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)を表わす}で表わされ る基を表わし、そして A及びBは同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの一 つを表わし、又は水素原子、基−OSi(E)3又は基−Si(E)3を表わし、 Eは上記において定義されたものと同じ意味を表わし、 p+qが3ないし10の数を表わす場合には、A及びBは一緒になって直接結 合も表わし、R1及び/又はR2が炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わす場 合には、式(II)で表わされる少なくとも一つの基は式(Ia)で表わされる化 合物中に存在し、そして基R1,R2,X1,X2及びY並びに変数m及びnの各々 は、式(Ia)中に含まれる繰り返し構造単位において同一又は異なる定義を表 わし、そして 式(Ia)で表わされる化合物がコポリマー状である場合には、式(Ia)で 表わされる化合物は個々の構造単位のランダム,交互又はブロック分布を有する 化合物である。 好ましい式(Ia)で表わされる化合物は、 p+qが2ないし80の数を表わし、 R1及びR2が同一又は異なって、炭素原子数10ないし18のアルキル基、非 置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ− 置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし4の アルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2な いし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニ ル基;或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアル コキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基 がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたベンジル基を表わし、 Yが炭素原子数1ないし10のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原 子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイ ル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素 原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又 は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若 しくはトリ−置換されたベンジル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3 −Si(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eが互いに独立して炭素原子数1 ないし6のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rが互いに独立して水 素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロア ルキル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1な いし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によ りモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yが更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし8のアルキレン基;酸素 原子又は基>N−Rにより中断された炭素原子数4ないし8のアルキレン基(R は上記において定義されたものと同じ意味を表わす);炭素原子数2ないし8の アルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン基、ビフ ェニレン基又は式(II)で表わされる基を表わす化合物である。 下記の実施例により、本発明をより明確に説明する。特記しない限り、部及び %は重量による。 特に重要なものは、実施例1,2,5,7及び9である。 下記の実施例において、数平均分子量MnはGPC(ゲルパーミエーションク ロマトグラフィー)により決定される。GPC測定は、屈折率パーキン・エルマ ー(商標名;Perkin Elmer)LC30を備えたパーキン・エルマー(商標名;Pe rkin Blmer)LC250液体クロマトグラフィー上で行われ、そしてMnはパー キン・エルマー・ソフトウェア・ネルソン900(商標名;Perkin Blmer Softw are)を使用して計算される。全てのGPC測定は、45℃で溶媒として空気を 含まないクロマトグラフィー級トルエンを使用して行われる。ポリスチレン標準 は、検量線のために使用され、そしてポリマー・ラボラトリーズ〔Polymer Labo ratories,シュロップシャ(Shropshire),英国〕により提供される。使用される カラムは、ポリマー・ラボラトリーズ(Polymer Laboratories)により提供され る、PLGEL{ポリマー・ラボラトリーズ〔Polymer Laboratories,シュロッ プシャ(Shropshire),英国}300mm×7.5mmステーショナリー・フェイ ズ3μミックストE(Stationary phase 3μ Mixed E)である。 NMRスペクトルは、300MHz及び22℃で記録される。実施例1: 次式: で表わされる化合物の製造。 アルゴン雰囲気下で、−78℃に冷却されたエチルベンゼン8.5ml中のη5 −シクロペンタジエニルジルコニウムクロリド0.35g(1.2ミリモル) の混合物に、ジエチルエーテル中のメチルリチウム(1.6M溶液)1.5ml を攪拌しながらゆっくり添加する。この混合物を次いで0℃に加熱し、そしてこ の温度で1/2時間保持する。フェニルシラン16.6g(153ミリモル)を 次いで添加し、そしてこの溶液を室温に加熱する。溶液を41時間攪拌する。 次いでこの溶液を、濾過溶媒としてのトルエンと共にフロリシル(商標名;Fl orisil)(100〜200メッシュ)カラムを通過させる。溶液を真空下で蒸発 させ、少量のトルエンを採取し、次いでトルエンと共にフロリシル(商標名;Fl orlsil)(100〜200メッシュ)カラムを再び通過させる。真空下で溶媒を 蒸発させた後、融点32〜35℃及び平均分子量2100(GPCによる)を有 する白色生成物が得られる。1H及び13CのNMR分析は指示された構造に一致 する。1 HのNMR(CDCl3),δ:4.1〜4.7ppm(m;ブロード;SiH ),6.8〜7.7ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(C66),δ:128.0ppm,137.0ppm(m;C6 5実施例2: 36時間のみ反応を行うこと以外は同一のモル比で同一の試薬を使用 して、実施例1に記載された方法に従って、次式: で表わされる化合物を製造する。 得られた生成物は白色で且つ樹脂状であり、そして平均分子量1700(GP C=ガス圧クロマトグラフィーによる)を有する。1H及び13CのNMR分析は 指示された構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:4.1〜4.7ppm(m;ブロード;SiH ),6.8〜7.8ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(C66),δ:128.2ppm,137.0ppm(m;C6 5実施例3: η5−シクロペンタジエニルジルコニウムクロリドの代わりにη5−シ クロペンタジエニルチタンクロリドを使用すること以外は同一のモル比で同一 の試薬を使用して、実施例1に記載された方法に従って、次式: で表わされる化合物を製造する。 得られた生成物は白色油状であり、そして平均分子量960(GPCによる) を有する。1H及び13CのNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:4.1〜4.7ppm(m;ブロード;SiH ),6.8〜7.7ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(C66),δ:128.1ppm,137.1ppm(m;C6 5実施例4: 次式: で表わされる化合物の製造。 窒素雰囲気下で、−65℃に冷却されたトルエン10ml中のη5−シクロペ ンタジエニルジルコニウムクロリド0.4g(1.3ミリモル)の混合物に、ジ エチルエーテル中のメチルリチウム(1.6M溶液)1.6mlを攪拌しながら ゆっくり添加する。この混合物を次いで0℃に加熱し、そしてこの温度で1/2 時間保持する。n−ヘキシルシラン20.0g(172ミリモル)を次いで添加 し、そしてこの溶液を室温に加熱する。溶液を70時間攪拌する;次いでこの溶 液を、濾過溶媒としてのトルエンと共にフロリシル(商標名;Florisil)(10 0〜200メッシュ)カラムを通過させる。溶液を真空下で蒸発させると、平均 分子量1300(GPCによる)を有する白色生成物が得られる。1H及び13C のNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(C66),δ:0.35ppm(s;CH2Si),0.8〜1. 0ppm(t;CH3),,1.2〜1.7ppm〔m;ブロード;(CH24 〕,3.9〜4.2ppm(m;ブロード;SiH〕13 CのNMR(C66),δ:14.37ppm,23.07ppm,31.9 9ppm,127.5ppm,128.05ppm,128.5ppm実施例5: n−ヘキシルシランの代わりにn−ドデシルシランを使用すること以 外は同一のモル比で同一の試薬を使用して、実施例4に記載された方法に従って 、次式: で表わされる化合物を製造する。 得られた生成物は白色油状物であり、そして平均分子量2050を有する。1 H及び13CのNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(C66),δ:0.4ppm(s;CH2Si),0.8〜0.9 ppm(t;CH3),1.2〜1.7ppm〔m;ブロード;(CH210〕, 3.9〜4.2ppm(m;ブロード;SiH)13 CのNMR(C66),δ:14.40ppm,23.10ppm,31. 99ppm,127.6ppm,128.05ppm実施例6: n−ヘキシルシランの代わりにベンジルシランを使用すること以外は 同一のモル比で同一の試薬を使用して、実施例4に記載された方法に従って、次 式: で表わされる化合物を製造する。 得られた生成物は白色油状物であり、そして平均分子量650を有する。1H 及び13CのNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(C66),δ:1.89ppm(q;CH265),3.65p pm(t;SiH),6.9〜7.2ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(C66),δ:15.73ppm,124.98ppm,128 .98ppm,129.04ppm,129.66ppm,139.97ppm実施例7: 次式: で表わされる化合物の製造。 窒素雰囲気下で、−65℃に冷却されたメチル−第三ブチルエーテル7.5m l中のη5−シクロペンタジエニルジルコニウム0.16g(0.554ミリモ ル)の混合物に、ジエチルエーテル中のメチルリチウム(1.6M溶液)0.3 4mlをゆっくり添加する。この混合物を次いで0℃に加熱し、そしてこの温度 で1/2時間保持する。フェニルシラン15g(139ミリモル)を次いで添加 し、そしてこの溶液を室温に加熱する。溶液を34時間攪拌する;次いで、別の メチル−第三ブチルエーテル7mlを用いて希釈し、この溶液を、攪拌しながら 、ベントナイト(トンシル,商標名;Tonsyl)1.5gを用いて処理する。この 混合物を次いで真空下で蒸発させる。融点30〜33℃及び平均分子量3200 (GPCによる)を有する白色生成物が得られる。1H及び13CのNMR分析は 指示された構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:4.1〜4.8ppm(m;ブロード;SiH ),6.8〜7.7ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(C66),δ:128.0ppm,137.0ppm(m;C6 5実施例8: 次式: で表わされる化合物の製造。 トルエン5ml中のフェニルジクロロシラン3.27g(18.48ミリモル )の溶液に、トルエン中の金属ナトリウム分散液(30%w/v)3.6ml( 40.65ミリモル)を0℃で添加する。この混合物を次いで、攪拌しながら且 つ窒素雰囲気下で、還流温度にゆっくし加熱し、そしてこの温度で5時間保持す る。混合物を次いで室温に冷却し、そしてクロロトリメチルシラン0.5ml( 4ミリモル)を攪拌しながら添加する。混合物を濾過し、次いで溶液を真空下で 蒸発させる。得られた生成物は白色油状物であり、そして平均分子量1560を 有する。1H及び13CのNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:0.0〜0.15ppm〔s;Si(CH33 〕,4.0ppm(m;ブロード;SiH),6.8〜7.7ppm(m;ブロ ード;C6513 CのNMR(C66),δ:1.9ppm,129.6ppm,129.9p pm,132.0ppm,133.6ppm実施例9: 次式: で表わされる化合物の製造。 アルゴン雰囲気下で、−65℃に冷却されたトルエン16ml中のη5−シク ロペンタジエニルジルコニウムクロリド0.7g(2.4ミリモル)の混合物に 、ジエチルエーテル中のメチルリチウム(1.6M溶液)3.0mlを攪拌しな がらゆっくり添加する。この混合物を次いで0℃に加熱し、そしてこの温度で1 /2時間保持する。n−ヘキシルシラン6g(51ミリモル)及びフェニルシラ ン27.6g(255ミリモル)を次いで添加し、そしてこの溶液を室温に加熱 する。溶液を41時間攪拌する。次いでこの溶液を、濾過溶媒としてのトルエン と共にフロリシル(商標名;Florisil)(100〜200メッシュ)カラムを通 過させる。溶液を真空下で蒸発させると、平均分子量2630を有する白色油状 生成物が得られる。1H及び13CのNMR分析は指示された構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:0.9〜1.1ppm(m;ブロード;CH3 ),1.1〜1.6ppm(m;ブロード;CH2),3.6〜4.0ppm( m;ブロード;n−ヘキシルSiH),4.1〜4.7ppm(m;ブロード; C65SiH),6.6〜7.9ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(CDCl3),δ:14.0ppm,22.4ppm,27.5 ppm,31.2ppm,32.3ppm,127.8ppm,134.5pp m,136.8ppm(ブロード)実施例10: n−ヘキシルシランの代わりにベンジルシランを使用すること以外 は同一のモル比で同一の試薬を使用して、実施例9に記載された方法に従って、 次式: で表わされる化合物を製造する。得られた生成物は白色油状であり、そして平均 分子量1600(GPCによる)を有する。1H及び13CのNMR分析は指示さ れた構造に一致する。1 HのNMR(CDCl3),δ:1.4〜2.8ppm(m;ブロード;CH2 ),3.2〜5.2ppm(m;ブロード;C65CH2SiH及びC65Si H),6.5〜7.9ppm(m;ブロード;C6513 CのNMR(CDCl3),δ:17.2ppm,19.2ppm,29.4 ppm,29.7ppm,29.8ppm,124.6ppm,128.1pp m,134.0ppm,136.6ppm(ブロード)実施例11: 多重押出(multiple extruction)中のポリプロピレンの安定化 ポリプロピレン粉末〔プロファックス(商標名;Profax)6501;メルトフ ローインデックス:2.16kgを用いて230℃で測定して3.2〕1.3k gを、ペンタエリトリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ ドロキシフェニル]プロピオネート0.05%,トリス[2,4−ジ第三ブチル フェニル]ホスフィット0.05%,ステアリン酸カルシウム0.05%,ジヒ ドロタルサイト〔DHT4A(商標名),共和化学工業株式会社,[Mg4.5A l2(OH)13CO3・3.5H2O0.05%及び表1に記載されたフェニルシ ラン0.05%と混合されたn−オクタデシル−3−[3,5−ジ第三ブチル −4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート0.025%を用いて予備安定化す る。 この混合物を、シリンダー直径20mm及び長さ400mmを有する押出機( 3箇所の加熱ゾーンは、下記の温度:260℃,270℃及び280℃に設定さ れている)で、100回転/分で押し出す。押出物を冷却用の水浴を通して引き 出し、次いで粒子化する。これらの粒子を繰り返し押し出す。メルトインデック スは“オン・ライン”で測定され、そして2.16kg/10分を用いて230 ℃で都合良く測定されるであろう数値に相当する。メルトインデックスの大きな 増加は分子鎖分解、換言すれば安定性の欠如を意味する。結果を表1に要約する 。 実施例12:多重押出(multiple extruction)中のポリプロピレンの安定化 予備安定化されていないポリプロピレン粉末〔ポリチム(商標名;Polychim) A10TB;メルトフローインデックス:2.16kgを用いて230℃で測定 して2.7〕1.5kgを、ペンタエリトリチル−テトラキス[3−(3,5− ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート0.5g,トリス[2 ,4−ジ第三ブチルフェニル]ホスフィット1g,ステアリン酸カルシウム0. 75g及び表2に記載されたポリシラン0.75gと混合する。 この混合物を、シリンダー直径30mm及び長さ250mmを有する押出機で 、40回転/分で押し出す(最大押出機温度は280℃に調整されている)。押 出物を冷却用の水浴を通して引き出し、次いで粒子化する。この押出物を繰り返 し押し出す。メルトインデックスは“オン・ライン”で測定され、そして2.1 6kg/10分を用いて230℃で都合良く測定されるであろう数値に相当する 。メルトインデックスは第1及び第3押出後に決定される。メルトインデックス の大きな増加は分子鎖分解、換言すれば安定性の欠如を意味する。結果を表2に 要約する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AU,BB,BG,BR ,CA,CN,CZ,EE,GE,HU,IL,IS, JP,KP,KR,LK,LR,LT,LV,MG,M K,MN,MX,NO,NZ,PL,RO,SG,SI ,SK,TR,TT,UA,US,UZ,VN (72)発明者 チャトギリアログル,クリソストモス イタリア国,アイ−40126 ボローニャア, ヴィコラ マンドリア 9

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.酸化的,熱的又は化学線分解に曝される有機材料、及び次式(I): で表わされる化合物であって、 式(I)中、 p+qは2ないし100の数を表わし、そしてqはp+qの合計の0ないし5 0%変化し、 m及びnは同一又は異なって0又は1を表わし、 R1及びR2は同一又は異なって、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置 換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1 ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原 子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換され たフェニル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1な いし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によ りモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたナフチル基;或いは非置換又は炭素原 子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は 炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若し くはトリ−置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、 Yは炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルきル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭 素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/ 又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたナフチル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7 ないし9のフェニルアルキル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3−S i(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eは互いに独立して炭素原子数1ない し8のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rは互いに独立して水素原 子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアル キル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ない し4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基により モノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2は同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸 素原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす) により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基;炭素原子数2ないし 12のアルケニレン基;炭素原子数2ないし12のアルキニレン基、フェニレン 基、ビフェニレン基又は次式(II): {式中、 R3及びR4は同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの 一つを表わし、そしてZは酸素原子、基>N−R又は基−N(R)−N(R )−(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)を表わす}で表わ される基を表わし、そして A及びBは同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの一 つを表わし、又は水素原子、基−OSi(E)3又は基−Si(E)3を表わし、 Eは上記において定義されたものと同じ意味を表わし、 p+qが3ないし10の数を表わす場合には、A及びBは一緒になって直接結 合も表わし、 基R1,R2,X1,X2及びY並びに変数m及びnの各々は、式(I)中に含ま れる繰り返し構造単位において同一又は異なる定義を表わし、そして式(I)で 表わされる化合物がコポリマー状である場合には、式(I)で表わされる化合物 は個々の構造単位のランダム,交互又はブロック分布を有する化合物の少なくと も一つを含む組成物。 2.式(I)中、 p+qが2ないし80の数を表わし、 R1及びR2が同一又は異なって、炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置 換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1な いし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子 数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された フェニル基;或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数 1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基 によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたベンジル基を表わし 、 Yが炭素原子数1ないし10のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原 子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイ ル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素 原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又 は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若 しくはトリ−置換されたベンジル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3 −Si(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eが互いに独立して炭素原子数1 ないし6のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rが互いに独立して水 素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロア ルキル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1な いし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によ りモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yが更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし8のアルキレン基;酸素 原子又は基>N−Rにより中断された炭素原子数4ないし8のアルキレン基(R は上記において定義されたものと同じ意味を表わす);炭素原子数2ないし8の アルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン基、ビフ ェニレン基又は式(II)で表わされる基を表わす請求項1記載の組成物。 3.式(I)中、 p+qが2ないし50の数を表わし、 R1,R2及びYが同一又は異なって、炭素原子数1ないし12のアルキル基、 非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたシクロヘキシル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基 ,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のア ルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;或いは 非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコ キシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基が モノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたベンジル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし6のアルキレン基;酸素 原子により中断された炭素原子数4ないし6のアルキレン基;炭素原子数2な いし8のアルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン 基又は式(II)で表わされる基を表わす請求項1記載の組成物。 4.式(I)中、R1が非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原 子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイ ル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わす請求項1 記載の組成物。 5.式(I)中、qが0を表わし、pが2ないし40の数を表わし、mが0を表 わし、そしてR1が非置換又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基により 置換されたフェニル基を表わす請求項1記載の組成物。 6.式(I)中、X1及び/又はX2が式(II)で表わされる基を表わし、そして Zが酸素原子を表わす請求項1記載の組成物。 7.式(I)中、A及びBが水素原子を表わす請求項1記載の組成物。 8.式(I)中、 qが0を表わし、そしてpが2ないし50の数を表わし、 mが0を表わし、 R1が炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表 わし、そして A及びBが同一又は異なって、水素原子又は基−Si(E)3を表わし、Eが 炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わす請求項1記載の組成物。 9.式(I)で表わされる化合物が次式: で表わされる化合物である請求項1記載の組成物。 請求項1記載の組成物。 10.有機物質が合成ポリマーである請求項1記載の組成物。 11.有機物質がポリオレフィンである請求項1記載の組成物。 12.少なくとも一つの請求項1記載の式(I)で表わされる化合物を有機材料 に配合することからなる、加工中の分解に対して有機材料を安定化する方法。 13.次式(Ia): で表わされる化合物であって、 式(Ia)中、 p+qは2ないし100の数を表わし、そしてqはp+qの合計の0ないし5 0%変化し、 m及びnは同一又は異なって0又は1を表わし、 R1及びR2は同一又は異なって、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置 換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置 換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし4の アルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ− ,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2な いし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたナフチ ル基;或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアル コキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基 がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアル キル基を表わし、 Yは炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 12のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭 素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/ 又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ −置換されたナフチル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素 原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノ イル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数7 ないし9のフェニルアルキル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3−S i(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eは互いに独立して炭素原子数1ない し8のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rは互いに独立して水素 原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア ルキル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1な いし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によ りモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2は同一又は異なって、炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸 素原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす) により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基;炭素原子数2ないし 12のアルケニレン基;炭素原子数2ないし12のアルキニレン基、フェニレン 基、ビフェニレン基又は次式(II): {式中、 R3及びR4は同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの 一つを表わし、そしてZは酸素原子、基>N−R又は基−N(R)−N(R)− (Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)を表わす}で表わされ る基を表わし、そして A及びBは同一又は異なって、R1及びR2に対して与えられた意味のうちの一 つを表わし、又は水素原子、基−OSi(E)3又は基−Si(E)3を表わし、 Eは上記において定義されたものと同じ意味を表わし、 p+qが3ないし10の数を表わす場合には、A及びBは一緒になって直接結 合も表わし、R1及び/又はR2が炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わす場 合には、式(II)で表わされる少なくとも一つの基は式(Ia)で表わされる化 合物中に存在し、そして基R1,R2,X1,X2及びY並びに変数m及びn の各々は、式(Ia)中に含まれる繰り返し構造単位において同一又は異なる定 義を表わし、そして 式(Ia)で表わされる化合物がコポリマー状である場合には、式(Ia)で 表わされる化合物は個々の構造単位のランダム,交互又はブロック分布を有する 化合物。 14.式(I)中、 p+qが2ないし80の数を表わし、 R1及びR2が同一又は異なって、炭素原子数10ないし18のアルキル基、非 置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ− 置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし4の アルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりモノ− ,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;或いは炭素原子数1ないし4のア ルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし 20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若しくはトリ−置換され たベンジル基を表わし、 Yが炭素原子数1ないし10のアルキル基、非置換又は炭素原子数1ないし4 のアルキル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし 7のシクロアルキル基;非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原 子数1ないし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイ ル基によりモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基;非置換又は炭素 原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び/又 は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によりフェニル基がモノ−,ジ−若 しくはトリ−置換されたベンジル基;塩素原子、臭素原子、基−(CH22 〜3 −Si(E)3又は基−N(R)2を表わし、基Eが互いに独立して炭素原子数1 ないし6のアルキル基又はフェニル基を表わし、そして基Rが互いに独立して水 素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロア ルキル基或いは非置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1な いし4のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし20のアルカノイル基によ りモノ−,ジ−若しくはトリ−置換されたフェニル基を表わし、 そして、mが1を表わし且つnが0を表わす場合は、Yは更に水素原子を表わ し、 X1及びX2が同一又は異なって、炭素原子数2ないし8のアルキレン基;酸素 原子又は基>N−R(Rは上記において定義されたものと同じ意味を表わす)に より中断された炭素原子数4ないし8のアルキレン基;炭素原子数2ないし8の アルケニレン基;炭素原子数2ないし8のアルキニレン基、フェニレン基、ビフ ェニレン基又は式(II)で表わされる基を表わす請求項13記載の化合物。
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