JPH1126541A - Processor - Google Patents
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- JPH1126541A JPH1126541A JP9176892A JP17689297A JPH1126541A JP H1126541 A JPH1126541 A JP H1126541A JP 9176892 A JP9176892 A JP 9176892A JP 17689297 A JP17689297 A JP 17689297A JP H1126541 A JPH1126541 A JP H1126541A
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- JP
- Japan
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- processing
- transport
- loading
- processing unit
- paths
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Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばガラス基板
などの被処理体上にフォトリソグラフィー技術により、
塗布・現像処理を施す塗布・現像装置などの処理装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an object to be processed, such as a glass substrate, by photolithography.
The present invention relates to a processing device such as a coating / developing device for performing a coating / developing process.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、処理装置のレイアウトとして
は、カセットステーションと搬送路とをT字を描くよう
に直交させて配設し、その搬送路の両側に複数の処理部
を一列ずつ配置した、いわゆるT型レイアウトが採用さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a layout of a processing apparatus, a cassette station and a transport path are arranged orthogonally so as to draw a T-shape, and a plurality of processing units are arranged in a row on both sides of the transport path. , A so-called T-type layout is employed.
【0003】図6は典型的なT型レイアウトの処理装置
の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a typical T-type layout processing apparatus.
【0004】この処理装置では、カセットステーション
100に収容カセットCを複数個、例えば4個をY方向
に一列にセットし、各収容カセットC内には25枚のガ
ラス基板Gが互いに間隔を空けながら水平に保持されて
いる。各収容カセットCに対して搬出入機構101がア
クセスし、中のガラス基板Gを引き出して搬送路102
を移動し、搬送機構201に引き渡す。ガラス基板Gを
受け取った搬送機構201は搬送路202上を直線状に
移動し、搬送路202の両側にそれぞれ一列ずつ配設さ
れた処理ユニット210、211の各処理部212〜2
16へ引き渡す。各処理部に引き渡されたガラス基板G
はそこででレジスト塗布や加熱乾燥などの処理を受け
る。In this processing apparatus, a plurality of, for example, four cassettes C are set in a row in the Y direction in a cassette station 100, and 25 glass substrates G are arranged in each cassette C while being spaced from each other. It is held horizontally. The loading / unloading mechanism 101 accesses each of the storage cassettes C, pulls out the glass substrate G therein, and transfers the glass substrate G to the transfer path 102.
Is moved to the transport mechanism 201. The transport mechanism 201 that has received the glass substrate G moves linearly on the transport path 202, and the processing units 212 to 2 of the processing units 210 and 211 arranged in a row on each side of the transport path 202.
Deliver to 16. Glass substrate G delivered to each processing unit
Undergoes processes such as resist coating and drying by heating.
【0005】各工程の装置間で、基板の収まったカセッ
トの運搬を行うAGV(オートガイデッドヴィークル)
がある。今回例に挙げる様な処理装置において、処理ユ
ニットの種類が多く、また同一ユニットを複数個使用す
る様な並列処理のケースでは、カセット内の基板が各ユ
ニットに搬出されてしまったり、搬出中だったり、収納
中だったりと、AGVがアクセス可能なカセットが存在
しない状態が発生し、AGVの回避サイクル時間を処理
装置が律速するようなことになるが、従来までのように
1個に25枚程度のガラス基板Gを収容できる収容カセ
ットCの場合には、カセットステーション100に4個
程度セットできれば十分な処理速度を維持できる。つま
り、処理ユニット数とカセット数×収納枚数と処理装
置、AGVのタクトバランスがとれていた。An AGV (Auto Guided Vehicle) for transporting a cassette containing substrates between apparatuses in each process.
There is. In the case of processing equipment such as this example, there are many types of processing units, and in the case of parallel processing in which a plurality of the same units are used, the substrates in the cassette are unloaded to each unit or are being unloaded. When the cassette is accessible, the state in which there is no cassette accessible by the AGV occurs, and the processing device determines the AGV avoidance cycle time. In the case of the accommodation cassette C capable of accommodating about the glass substrate G, a sufficient processing speed can be maintained if about four cassettes can be set in the cassette station 100. In other words, the tact balance of the number of processing units, the number of cassettes, the number of stored sheets, the processing device, and the AGV was achieved.
【0006】しかも、4個程度の収容カセットCと5台
程度の処理部からなる処理ステーション200の組み合
わせは丁度バランスがよく、処理装置全体がほぼ長方形
になり、クリーンルームに配設したときにデッドスペー
スができないため、クリーンルームのスペースを効率良
く利用できる。In addition, the combination of the four storage cassettes C and the processing station 200 including about five processing units has a well-balanced configuration, the entire processing apparatus becomes substantially rectangular, and a dead space when disposed in a clean room. Can use the space of the clean room efficiently.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
基板Gが大型化して収容カセットC1個当たりの収容枚
数が減ったり、処理ユニットの数が増えると、AGVと
のタクトバランスを維持するためにカセットステーショ
ン100にセットする収容カセットCの個数を多くする
必要が生じた。そのため、カセットステーション100
の長さを図6中点線で描いた103の位置まで延ばす
と、処理ステーション200のY方向の長さより大きく
なり従来長方形であった処理装置全体の形がL字型にな
って図中斜線で描いたようなデッドスペースDが生じ、
クリーンルームのスペースコストが上昇するという問題
がある。However, when the size of the glass substrate G is increased and the number of storage units per storage cassette C is reduced or the number of processing units is increased, the cassette station is required to maintain the tact balance with the AGV. It became necessary to increase the number of storage cassettes C set to 100. Therefore, the cassette station 100
When the length of the processing apparatus is extended to the position indicated by the dotted line 103 in FIG. 6, the length of the processing station 200 in the Y direction becomes larger, and the entire processing apparatus, which has been rectangular in the past, becomes L-shaped, and is hatched in the figure. The dead space D as drawn appears,
There is a problem that the space cost of the clean room increases.
【0008】本発明は、このような課題を解決するため
になされたもので、カセットステーションにセットする
収容カセットの数が増大してもカセットステーションと
処理ステーションとのバランスがよく、デッドスペース
を生じさせることなくクリーンルームを効率良く利用で
きる処理装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem. Even if the number of cassettes set in a cassette station increases, the balance between the cassette station and the processing station is good, and dead space is generated. It is an object of the present invention to provide a processing apparatus capable of efficiently using a clean room without causing the processing to be performed.
【0009】本発明は、熱的影響を受け易い非加熱型処
理部が加熱型処理部から発生する熱により悪影響を受け
るのを防止することができる処理装置を提供することを
他の目的とする。Another object of the present invention is to provide a processing apparatus capable of preventing a non-heating type processing section which is easily affected by heat from being adversely affected by heat generated from a heating type processing section. .
【0010】本発明は、塗布部や現像部など、高頻度の
保守管理を必要とする処理部について、保守管理を容易
に行うことのできる処理装置を提供することを他のもう
一つの目的とする。Another object of the present invention is to provide a processing apparatus which can easily perform maintenance management of a processing section requiring high-frequency maintenance such as a coating section and a development section. I do.
【0011】本発明は、搬出入手段と処理部との間の被
処理体の搬送を効率よく行うことのできる処理装置を提
供することを更に他の目的とする。It is still another object of the present invention to provide a processing apparatus capable of efficiently transporting an object between the carrying-in / out means and the processing section.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項1記載の本発明の処理装置は、互いにほぼ平
行に配置された2以上の搬送路と、前記各搬送路に沿っ
て配置された処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出
入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を
各処理部及び前記搬出入手段に対し搬送する搬送機構と
を具備する。According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus comprising two or more transport paths arranged substantially in parallel with each other and arranged along each of the transport paths. Processing unit, carrying-in / out means for carrying in / out the object to / from each transport path, and a transport mechanism for transporting the workpiece to each processing unit and the carrying-in / out means via each transport path. Have.
【0013】請求項2記載の本発明の処理装置は、請求
項1に記載の処理装置であって、処理部は各搬送路の両
側に配置されていることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided the processing apparatus according to the first aspect, wherein the processing units are disposed on both sides of each transport path.
【0014】請求項3記載の本発明の処理装置は、請求
項1に記載の処理装置であって、搬出入手段は、複数の
収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に載置する載
置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前記収容カセ
ットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構とを具備す
る。According to a third aspect of the present invention, there is provided the processing apparatus according to the first aspect, wherein the loading / unloading means includes a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path. And a transport mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to the transport path and transports the object in and out of the storage cassette.
【0015】請求項4記載の本発明の処理装置は、互い
にほぼ平行に配置された2つの搬送路と、前記2つの搬
送路に沿ってその間に配置された加熱型処理部と、前記
2つの搬送路に沿ってその外側に配置された非加熱型処
理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手
段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前
記搬出入手段に対し搬送する搬送機構とを具備する。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus according to the first aspect of the present invention, wherein the two transport paths are arranged substantially in parallel with each other, the heating type processing section is disposed along the two transport paths, A non-heating type processing unit disposed outside along the transport path, a loading / unloading unit for loading / unloading the workpiece to / from each transport path, A transport mechanism for transporting to and from the loading / unloading means.
【0016】請求項5記載の本発明の処理装置は、請求
項4に記載の処理装置であって、2つの搬送路の間に配
置された処理部と処理部との間に保守管理用の通路を具
備する。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus according to the fourth aspect, wherein a maintenance section is provided between the processing sections disposed between the two transport paths. It has a passage.
【0017】請求項6記載の本発明の処理装置は、請求
項4又は5に記載の処理装置であって、2つの搬送路に
沿ってその間に配置された加熱型処理部がその上部に空
気の流れを規制するカーテンを具備する。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the processing apparatus according to the fourth or fifth aspect, wherein a heating-type processing unit disposed between the two conveying paths is provided with air on the upper part thereof. Curtain that regulates the flow of air.
【0018】請求項7記載の本発明の処理装置は、請求
項4〜6のいずれか1項に記載の処理装置であって、搬
出入手段は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを具備する。A processing apparatus according to a seventh aspect of the present invention is the processing apparatus according to any one of the fourth to sixth aspects, wherein the carrying-in / out means moves the plurality of storage cassettes in a direction substantially orthogonal to the transport path. The apparatus includes a mounting table that is mounted in a row, and a transport mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to the transport path and transports an object to and from the storage cassette.
【0019】請求項8記載の本発明の処理装置は、互い
にほぼ平行に配置された2つの搬送路と、前記2つの搬
送路に沿ってその間に配置された加熱型処理部と、前記
2つの搬送路に沿ってその外側に配置された塗布部及び
/又は現像部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する
搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理
部及び前記搬出入手段に対し搬送する搬送機構とを具備
する。According to another aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus comprising: two conveying paths arranged substantially in parallel with each other; a heating type processing section disposed along the two conveying paths therebetween; A coating unit and / or a developing unit disposed along the transport path outside the transport path, loading / unloading means for loading / unloading the target object into / from each transport path, and processing the target object via each transport path. And a transport mechanism for transporting to and from the loading / unloading means.
【0020】請求項9記載の本発明の処理装置は、請求
項8に記載の処理装置であって、2つの搬送路に沿って
その間に配置された塗布部及び現像部処理部以外の処理
部がその上部に空気の流れを規制するカーテンを具備す
る。A processing apparatus according to a ninth aspect of the present invention is the processing apparatus according to the eighth aspect, wherein the processing units other than the coating unit and the developing unit are disposed along two transport paths therebetween. Is provided with a curtain at the upper part thereof for restricting the flow of air.
【0021】請求項10記載の本発明の処理装置は、請
求項8又は9に記載の処理装置であって、搬出入手段
は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを具備する。According to a tenth aspect of the present invention, in the processing apparatus of the eighth or ninth aspect, the loading / unloading means places a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path. A mounting table; and a transport mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to the transport path and transports the object to and from the storage cassette.
【0022】請求項11記載の本発明の処理装置は、互
いにほぼ平行に配置された2つの搬送路と、前記2つの
搬送路に沿って、前記2つの搬送路の外側と、前記2つ
の搬送路の間にそれぞれ一列ずつ配置された処理部と、
各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前
記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出入
手段に対し搬送する搬送機構とを具備する。The processing apparatus of the present invention according to the eleventh aspect is characterized in that two transport paths are disposed substantially in parallel with each other, along the two transport paths, outside the two transport paths, and the two transport paths. A processing unit arranged in a line between the roads,
The apparatus includes a loading / unloading means for loading / unloading the object to / from each transport path, and a transport mechanism for transporting the workpiece to each processing unit and the loading / unloading means via each transport path.
【0023】請求項12記載の本発明の処理装置は、請
求項11に記載の処理装置であって、2つの搬送路の間
に配置された処理部は、前記2つの搬送路の両方との間
で被処理体の搬送を行うことができる処理部であること
を特徴とする。A processing apparatus according to a twelfth aspect of the present invention is the processing apparatus according to the eleventh aspect, wherein the processing unit disposed between the two transport paths is connected to both of the two transport paths. The processing unit is capable of transporting an object between the processing units.
【0024】請求項13記載の本発明の処理装置は、請
求項11又は12に記載の処理装置であって、2つの搬
送路の間に配置された処理部は、加熱型処理部であるこ
とを特徴とする請求項14記載の本発明の処理装置は、
請求項13に記載の処理装置であって、2つの搬送路の
間に配置された処理部が、その上部に空気の流れを規制
するカーテンを具備する。A processing apparatus according to a thirteenth aspect of the present invention is the processing apparatus according to the eleventh or twelfth aspect, wherein the processing unit disposed between the two transport paths is a heating type processing unit. The processing device of the present invention according to claim 14, wherein
14. The processing apparatus according to claim 13, wherein the processing unit disposed between the two transport paths has a curtain on an upper portion thereof for restricting a flow of air.
【0025】請求項15記載の本発明の処理装置は、請
求項11〜14のいずれか1項に記載の処理装置であっ
て、搬出入手段は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬送機構とを具備する。According to a fifteenth aspect of the present invention, in the processing apparatus according to any one of the eleventh to fourteenth aspects, the loading / unloading means includes a plurality of storage cassettes arranged in a direction substantially orthogonal to the transport path. The apparatus includes a mounting table that is mounted in a row, and a transport mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to the transport path and transports an object to and from the storage cassette.
【0026】請求項1の処理装置では、搬送路をほぼ平
行に2つ以上配設し、この搬送路に沿って処理部を配置
したので、カセットステーションのY方向の長さと処理
ステーションのY方向の長さとが一致して処理装置全体
の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合
のデッドスペースを無くすることができる。In the processing apparatus according to the first aspect, two or more transport paths are provided substantially in parallel, and the processing units are disposed along the transport paths. Therefore, the length of the cassette station in the Y direction and the length of the processing station in the Y direction are arranged. And the outer shape of the entire processing apparatus becomes rectangular, and dead space when installed in a clean room can be eliminated.
【0027】請求項2の処理装置では、処理部を各搬送
路の両側に配置したので、処理部の配置数が増え、クリ
ーンルームを効率良く利用することができる。In the processing apparatus according to the second aspect, since the processing units are arranged on both sides of each transport path, the number of processing units to be arranged increases, and the clean room can be used efficiently.
【0028】請求項3の処理装置では、搬出入手段とし
て、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被処
理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを効
率良く利用することができる。According to a third aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line in a direction substantially orthogonal to the transport path; And a transfer mechanism for transferring the object in and out, the object can be efficiently stored and transported in a limited space, and the clean room can be used efficiently.
【0029】請求項4の搬送装置では、搬送路をほぼ平
行に2つ配設し、この搬送路に沿って処理部を配置した
ので、カセットステーションのY方向の長さと処理ステ
ーションのY方向の長さとが一致して処理装置全体の外
形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合のデ
ッドスペースを無くすることができる。In the transfer device according to the fourth aspect, two transfer paths are disposed substantially in parallel, and the processing units are disposed along the transfer paths. Therefore, the length of the cassette station in the Y direction and the length of the processing station in the Y direction are determined. The outer shape of the entire processing apparatus becomes rectangular in accordance with the length, and dead space when the processing apparatus is installed in a clean room can be eliminated.
【0030】請求項5の搬送装置では、2の搬送路の間
に配置された処理部と処理部との間に保守管理用の通路
を設けたので、2の搬送路の間に2列の処理部を配置し
た場合であっても、この通路を介してこれらの処理部を
容易に保守管理することができる。According to the fifth aspect of the present invention, since a maintenance path is provided between the processing units disposed between the two transport paths, two rows are provided between the two transport paths. Even when the processing units are arranged, these processing units can be easily maintained and managed through this passage.
【0031】請求項6の搬送装置では、2の搬送路の間
に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れを規制す
るカーテンを設けたので、加熱型処理部から発生した熱
が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡散するのを
有効に防止することができる。また、クリーンルーム内
の発熱を集中して効果的に排熱することができ、維持費
のムダを抑えることができる。In the transfer device according to the sixth aspect, since a curtain for regulating the flow of air is provided above the heating-type processing unit disposed between the two transfer paths, heat generated from the heating-type processing unit is It is possible to effectively prevent diffusion to the vicinity of the processing section disposed outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0032】請求項7の搬送装置では、搬出入手段とし
て、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被処
理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを効
率良く利用することができる。According to a seventh aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, and And a transfer mechanism for transferring the object in and out, the object can be efficiently stored and transported in a limited space, and the clean room can be used efficiently.
【0033】請求項8の搬送装置では、塗布部や現像部
といった、保守管理を高頻度に行う必要のある処理部を
搬送路の外側に配置したので、これら塗布部や現像部の
保守管理を容易に行うことができる。In the transfer device of the present invention, since the processing units such as the coating unit and the developing unit, which need to be maintained and managed at high frequency, are arranged outside the transfer path, the maintenance management of the coating unit and the developing unit is performed. It can be done easily.
【0034】請求項9の処理装置では、2の搬送路の間
に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れを規制す
るカーテンを設けたので、加熱型処理部から発生した熱
が、搬送路の外側に配置した塗布部や現像部といった熱
的影響を受け易い処理部付近に拡散するのを有効に防止
することができる。また、クリーンルーム内の発熱を集
中して効果的に排熱することができ、維持費のムダを抑
えることができる。In the processing apparatus according to the ninth aspect, since a curtain for regulating the flow of air is provided above the heating type processing unit disposed between the two transport paths, heat generated from the heating type processing unit is It is possible to effectively prevent diffusion to the vicinity of a processing unit that is easily affected by heat, such as a coating unit and a developing unit disposed outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0035】請求項10の処理装置では、搬出入手段と
して、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列
に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して
前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機
構とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被
処理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを
効率良く利用することができる。According to a tenth aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line in a direction substantially orthogonal to the transport path; And a transfer mechanism for transferring the object in and out, the object can be efficiently stored and transported in a limited space, and the clean room can be used efficiently.
【0036】請求項11の処理装置では、搬送路をほぼ
平行に2つ配設し、この2つの搬送路に沿って、搬送路
の外側と、2つの搬送路の間とに処理部を3列配置した
ので、カセットステーションのY方向の長さと処理ステ
ーションのY方向の長さとが一致して処理装置全体の外
形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合のデ
ッドスペースを無くすることができる。In the processing apparatus according to the eleventh aspect, two transport paths are disposed substantially in parallel, and three processing units are provided along the two transport paths between the outside of the transport path and between the two transport paths. Since they are arranged in a row, the length of the cassette station in the Y direction matches the length of the processing station in the Y direction, so that the outer shape of the entire processing apparatus is rectangular, and dead space when installed in a clean room can be eliminated.
【0037】請求項12の搬送装置では、2つの搬送路
の間にこれら2つの搬送路の両方との間で被処理体の搬
送を行うことができる処理部を配置したので、被処理体
の搬送のしかたに融通性を持たせることができ、効率よ
く被処理体の搬送を行うことができる。In the transfer apparatus according to the twelfth aspect, since the processing unit capable of transferring the object to be processed between the two transfer paths is disposed between the two transfer paths, Flexibility can be given to the way of transport, and the workpiece can be transported efficiently.
【0038】請求項13の搬送装置では、2つの搬送路
の間に加熱型処理部を配置したので、加熱型処理部から
発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡
散するのを有効に防止することができる。In the transfer device according to the thirteenth aspect, since the heating-type processing section is disposed between the two transfer paths, heat generated from the heating-type processing section is diffused near the processing section disposed outside the transfer path. Can be effectively prevented.
【0039】請求項14の搬送装置では、2の搬送路の
間に配置された処理部の上部に空気の流れを規制するカ
ーテンを設けたので、2の搬送路の間に配置した処理部
から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近
に拡散するのを有効に防止することができる。また、ク
リーンルーム内の発熱を集中して効果的に排熱すること
ができ、維持費のムダを抑えることができる。In the transfer device according to the fourteenth aspect, since a curtain for restricting the flow of air is provided above the processing section disposed between the two transfer paths, the processing section disposed between the two transfer paths can be used. The generated heat can be effectively prevented from diffusing in the vicinity of the processing section disposed outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0040】請求項15の搬送装置では、搬出入手段と
して、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列
に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して
前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機
構とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被
処理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを
効率良く利用することができる。According to a fifteenth aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, And a transfer mechanism for transferring the object in and out, the object can be efficiently stored and transported in a limited space, and the clean room can be used efficiently.
【0041】[0041]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の詳細を
図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0042】図1は本発明の一実施形態に係るLCD用
ガラス基板の塗布・現像装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of an apparatus for coating and developing an LCD glass substrate according to an embodiment of the present invention.
【0043】この塗布・現像装置では、被処理体の搬入
出ポートをなすカセットステーション10、処理ステー
ション20、待機部30、処理ステーション40及びイ
ンタフェース部50がこの順でX方向に配置されてい
る。インタフェース部50の更に隣には例えば露光装置
60が配置され、このインタフェース部50を介して処
理ステーション40と露光装置60との間でガラス基板
Gのやりとりが行われる。 搬出入手段としてのカセッ
トステーション10には収容カセットCを載置するため
の載置台11、搬出入機構12、及び搬出入機構12の
移動路となる搬出入路13とが設けられている。載置台
11は複数個、例えば8個の収容カセットCを図中上下
方向(Y方向)に一列にセットできるようにY方向に伸
びた長方形の形状を備えている。In this coating / developing apparatus, a cassette station 10, a processing station 20, a standby section 30, a processing station 40, and an interface section 50, which form a loading / unloading port for a workpiece, are arranged in this order in the X direction. An exposure device 60 is disposed, for example, next to the interface unit 50, and the glass substrate G is exchanged between the processing station 40 and the exposure device 60 via the interface unit 50. The cassette station 10 serving as a loading / unloading unit is provided with a mounting table 11 for loading the storage cassette C, a loading / unloading mechanism 12, and a loading / unloading path 13 serving as a moving path of the loading / unloading mechanism 12. The mounting table 11 has a rectangular shape extending in the Y direction so that a plurality of, for example, eight, storage cassettes C can be set in a line in the vertical direction (Y direction) in the drawing.
【0044】収容カセットCは例えば立方体の前面に開
口部を設けた箱型の容器であり、内部には被処理体とし
てのガラス基板Gが複数枚、例えば12枚を所定の間隔
ごとに水平に収容される。また各ガラス基板Gは水平方
向に移動可能に収容されており、収容カセットCの前面
からスライドさせて出し入れされる。The accommodating cassette C is, for example, a box-shaped container provided with an opening in the front of a cube. Inside the accommodating cassette C, a plurality of glass substrates G as objects to be processed, for example, 12 substrates are horizontally arranged at predetermined intervals. Will be accommodated. Each glass substrate G is accommodated so as to be movable in the horizontal direction, and is slid from the front surface of the accommodation cassette C to be taken in and out.
【0045】搬出入機構12は搬出入路13に沿ってY
方向に可動かつZ方向に昇降可能であり、θ方向にも回
転自在である。また搬出入機構12はその最上部の前面
にX方向に進退可能なピンセット12aを備えている。The loading / unloading mechanism 12 moves along the loading / unloading path 13
It can move in the direction, can move up and down in the Z direction, and can rotate in the θ direction. The loading / unloading mechanism 12 has a pair of tweezers 12a which can be moved forward and backward in the X direction on the upper front surface.
【0046】処理ステーション20には、互いに平行に
配置された2本の搬送路25及び27がX方向に配設さ
れている。搬送路25の両側には処理部21aと21
b、及び22a〜22cが搬送路25に沿ってそれぞれ
配置されている。片側に一列に配置された処理部21a
と21bは一組の処理ユニット21を構成し、処理部2
2a〜22cは一組の処理ユニット22を構成してい
る。In the processing station 20, two transport paths 25 and 27 arranged in parallel to each other are provided in the X direction. The processing units 21a and 21
b and 22a to 22c are arranged along the transport path 25, respectively. Processing units 21a arranged in a line on one side
And 21b constitute a set of processing units 21, and the processing unit 2
2a to 22c constitute a set of processing units 22.
【0047】同様に、搬送路27の両側には処理部23
aと23b、及び処理部24a〜24cが搬送路27に
沿って配置されており、処理部23aと23bは一組の
処理ユニット23aを、処理部24a〜24cは一組の
処理ユニット24をそれぞれ構成している。Similarly, on both sides of the transport path 27, the processing units 23
a and 23b, and processing units 24a to 24c are arranged along the transport path 27. The processing units 23a and 23b each include one set of the processing unit 23a, and the processing units 24a to 24c each include one set of the processing unit 24. Make up.
【0048】処理ユニット22と処理ユニット23との
間には空間29が設けられており、この空間29は処理
ユニット22と処理ユニット23とを構成する各処理部
22a〜22c及び23a〜23cを保守管理するため
の通路を構成している。A space 29 is provided between the processing unit 22 and the processing unit 23, and the space 29 maintains the processing units 22a to 22c and 23a to 23c constituting the processing unit 22 and the processing unit 23. It constitutes a passage for management.
【0049】一方、処理ユニット21及び24を構成す
る処理部21a、21b、24a及び24bについて
は、塗布・現像装置の外側から保守管理するようになっ
ている。そのため、塗布装置や現像装置など、保守点検
を高頻度で行う必要のある処理部は処理ユニット21や
24内に配設するのが便利である。On the other hand, the processing units 21a, 21b, 24a and 24b constituting the processing units 21 and 24 are maintained and managed from outside the coating / developing apparatus. Therefore, it is convenient to arrange the processing units such as the coating device and the developing device, which need to perform maintenance and inspection frequently, in the processing units 21 and 24.
【0050】処理ステーション20のY方向両外側にそ
れぞれ位置する処理ユニット21と24とはその外縁部
がカセットステーション10のY方向の両端部とそれぞ
れ一致するように配設され、処理装置全体の外形が長方
形をなしている。The processing units 21 and 24 located on both outer sides of the processing station 20 in the Y direction are disposed such that the outer edges thereof are respectively aligned with both ends of the cassette station 10 in the Y direction, and Is a rectangle.
【0051】各処理ユニットを構成する各処理部21a
〜24bの例としては、スピンコーターなどの塗布装
置、現像装置、ホットプレートや乾燥機に代表される加
熱装置、更に乾燥機で加熱したガラス基板Gを冷却する
ための冷却装置などが挙げられる。 これらの各処理部
21a〜24bは、ホットプレートや乾燥機などの加熱
型処理部と、塗布装置など外部からの熱の影響を受けや
すい非加熱型処理部とに分け、それぞれ別の処理ユニッ
トに組み込み、加熱型処理部を含む処理ユニットから発
生した熱が非加熱型処理部を含む処理ユニットの付近ま
で拡散して非加熱型処理部に影響を及ぼさないような位
置に配置される。Each processing unit 21a constituting each processing unit
Examples of-24b include a coating device such as a spin coater, a developing device, a heating device represented by a hot plate and a dryer, and a cooling device for cooling the glass substrate G heated by the dryer. Each of these processing units 21a to 24b is divided into a heating-type processing unit such as a hot plate and a dryer and a non-heating-type processing unit that is easily affected by heat from the outside such as a coating device. It is arranged at a position where the heat generated from the processing unit including the built-in heating type processing unit diffuses to the vicinity of the processing unit including the non-heating type processing unit and does not affect the non-heating type processing unit.
【0052】例えば、処理部22a〜22c、23a〜
23cには加熱部や乾燥部が配置され、処理部21a〜
21b、24a〜24bの位置には塗布部や現像部が配
置される。For example, the processing units 22a to 22c and 23a to
23c is provided with a heating unit and a drying unit, and processing units 21a to 21c.
A coating unit and a developing unit are arranged at positions 21b and 24a to 24b.
【0053】また、処理ユニット22、23の上部には
カーテン70が設けられている。A curtain 70 is provided above the processing units 22 and 23.
【0054】図2は本実施形態の塗布・現像装置をX方
向真横から見た状態を示した図であり、図3は本実施形
態の塗布・現像装置をY方向真横から見た状態を示した
図である。FIG. 2 is a view showing the coating / developing apparatus of this embodiment as viewed from the side in the X direction, and FIG. 3 is a view showing the coating / developing apparatus of this embodiment as viewed from the side in the Y direction. FIG.
【0055】カーテン70は例えば長方形の透明樹脂製
シートで作られており、処理ユニット22、23、及び
保守管理用の通路29で占められる領域の外縁に沿っ
て、この領域を外側から覆うように前記シートの一辺を
クリーンルームの天井に固定することにより取り付けら
れている。The curtain 70 is made of, for example, a rectangular transparent resin sheet, and covers the area from the outside along the outer edge of the area occupied by the processing units 22, 23 and the maintenance passage 29. The sheet is attached by fixing one side of the sheet to the ceiling of a clean room.
【0056】搬送機構26および28はそれぞれ搬送路
25及び27に沿ってX方向に可動かつ、Z方向に昇降
可能であり、θ方向にも回転自在である。搬送機構26
および28は、その最上部の前面にY方向に進退可能な
ピンセット26a、28aをそれぞれ備えている。The transport mechanisms 26 and 28 can move in the X direction along the transport paths 25 and 27, can move up and down in the Z direction, and can rotate in the θ direction. Transport mechanism 26
And 28 are provided with tweezers 26a and 28a, respectively, which can be advanced and retracted in the Y direction on the upper front surface thereof.
【0057】次に、このように構成された塗布・現像装
置の動作を説明する。Next, the operation of the coating / developing apparatus thus configured will be described.
【0058】本実施形態の塗布・現像装置の載置台11
上に12枚のガラス基板Gを収容した収容カセットCを
セットして塗布・現像装置を起動すると、まず搬出入機
構12が収容カセットCにアクセスして中に収容された
ガラス基板Gを取り出し、ガラス基板Gを保持した状態
で搬出入路13上を移動して搬送路25の図面左端と対
向する位置で停止し、θ方向に回転してピンセット12
aを図中右側に向ける。 一方、処理ステーション20
側では、搬送機構12と同期して搬送機構26を搬送路
25上左端まで移動させる。The mounting table 11 of the coating / developing apparatus of this embodiment
When the accommodating cassette C accommodating twelve glass substrates G is set thereon and the coating / developing apparatus is started, first, the carrying-in / out mechanism 12 accesses the accommodating cassette C to take out the glass substrate G accommodated therein. While holding the glass substrate G, it moves on the carry-in / out path 13, stops at the position facing the left end of the transfer path 25 in the drawing, and rotates in the θ direction to rotate the tweezers 12.
a is turned to the right side in the figure. Meanwhile, the processing station 20
On the side, the transport mechanism 26 is moved to the left end on the transport path 25 in synchronization with the transport mechanism 12.
【0059】この搬送路25の図中左端で搬送機構26
は搬出入機構12からガラス基板Gを受け取り、搬送路
25上を図中右方向に移動して所定の処理部、例えば処
理部21aの前で停止し、θ方向に回転してピンセット
26aを図中上方に向け、図中上方に移動させてガラス
基板Gを処理部21a内にセットする。At the left end of the transport path 25 in FIG.
Receives the glass substrate G from the loading / unloading mechanism 12, moves on the transport path 25 rightward in the figure, stops at a predetermined processing unit, for example, in front of the processing unit 21a, and rotates in the θ direction to draw the tweezers 26a. The glass substrate G is set in the processing unit 21a by moving the glass substrate G upward in the drawing toward the middle upward.
【0060】この処理部21aでの工程が終了すると、
処理部21aからガラス基板Gを取り出し、上記と同様
にして後続の処理部へと順次ガラス基板Gを搬送する。When the process in the processing section 21a is completed,
The glass substrate G is taken out from the processing unit 21a, and the glass substrate G is sequentially transported to the subsequent processing unit in the same manner as described above.
【0061】なお、搬送機構28も搬送機構26と同様
に、搬送路27に沿ってX方向に移動し、搬出入機構1
2、待機部30、処理部23a〜23c、24a及び2
4bとの間でガラス基板Gを搬送する。The transport mechanism 28 also moves in the X direction along the transport path 27 similarly to the transport mechanism 26, and
2, standby unit 30, processing units 23a to 23c, 24a and 2
The glass substrate G is conveyed to and from the substrate 4b.
【0062】処理ステーション20での処理が終わる
と、待機部30を経て処理ステーション40に搬送さ
れ、ここでの処理が終わると、インタフェース部50を
介して隣接する露光装置60へ搬送される。露光終了
後、ガラス基板Gは再びインタフェース部50、処理ユ
ニット40、待機部30、処理ユニット20へ搬送さ
れ、処理ユニット20からは搬送機構26又は28を介
して搬出入機構12に引き渡され、搬出用収容カセット
C内に収容される。When the processing at the processing station 20 is completed, the wafer is transported to the processing station 40 via the standby unit 30, and when the processing is completed, the wafer is transported to the adjacent exposure apparatus 60 via the interface unit 50. After the exposure is completed, the glass substrate G is transported again to the interface unit 50, the processing unit 40, the standby unit 30, and the processing unit 20, and is delivered from the processing unit 20 to the loading / unloading mechanism 12 via the transport mechanism 26 or 28, and is unloaded. Is accommodated in the accommodation cassette C.
【0063】本実施形態では、収容カセットCを8個載
置台11にセットできるようにカセットステーション1
0の長さを長くしたのに対応して、処理ステーション2
0に合計4列の処理ユニット21〜24を配置して処理
ステーション20のY方向の長さとカセットステーショ
ン10のY方向の長さとが一致するようにしたので、塗
布・現像装置全体の外形が長方形となり、クリーンルー
ムに設置した場合にデッドスペースができるのを防止す
ることができる。In this embodiment, the cassette station 1 is set so that eight storage cassettes C can be set on the mounting table 11.
Processing station 2 in response to the length of
0, four rows of processing units 21 to 24 are arranged so that the length of the processing station 20 in the Y direction coincides with the length of the cassette station 10 in the Y direction. Thus, it is possible to prevent a dead space from being generated when the apparatus is installed in a clean room.
【0064】また、本実施形態ではホットプレートや乾
燥機など加熱型処理部を内側の処理ユニット22、23
として配置する一方、塗布部など熱の影響を受け易い非
加熱型処理部を外側の処理ユニット21、24内の処理
部として配置して加熱型処理部と塗布部とを別個の処理
ユニットに配置したので、塗布部がホットプレートから
の熱を受けて塗布工程に支障を来すことが防止できる。In this embodiment, a heating type processing unit such as a hot plate or a dryer is connected to the inner processing units 22 and 23.
On the other hand, a non-heating type processing unit such as a coating unit which is easily affected by heat is disposed as a processing unit in the outer processing units 21 and 24, and a heating type processing unit and a coating unit are disposed in separate processing units. Accordingly, it is possible to prevent the application unit from receiving heat from the hot plate and hindering the application process.
【0065】更に、本実施形態では、処理ユニット2
2、23の上部にカーテン70を設けたので、処理ユニ
ット22、23から発せられる熱が処理ユニット21、
24まで拡散して塗布部に悪影響に及ぶのをより確実に
防止できる。Further, in this embodiment, the processing unit 2
Since the curtain 70 is provided on the upper portions of the processing units 21 and 22, the heat generated from the processing units 22 and 23 is
It is possible to more reliably prevent the coating portion from being adversely affected by diffusion to 24.
【0066】特に、塗布部や現像部は熱による影響を受
け易く、外部からの熱が塗布工程や現像工程に悪影響を
及ぼすことが原因で不良品が生じることが多い。In particular, the coating section and the developing section are easily affected by heat, and defective products often occur because external heat adversely affects the coating step and the developing step.
【0067】そのため、加熱型処理部を、塗布部や現像
部が配置された処理ユニット21、24から離れた処理
ユニット22、23内に配置したり、更にこの処理ユニ
ット22、23の上部にカーテン70を設けることによ
り加熱型処理部からの熱が塗布部や現像部に拡散するの
を確実に防止できるので、この塗布部や現像部での不良
品の発生率を低下することができ、ひいては製品の歩留
まりを向上させることができるので、極めて多大な効果
がもたらされる。For this reason, the heating type processing unit is disposed in the processing units 22 and 23 distant from the processing units 21 and 24 in which the coating unit and the developing unit are disposed. By providing 70, it is possible to reliably prevent the heat from the heating-type processing unit from diffusing to the coating unit and the developing unit, so that the occurrence rate of defective products in the coating unit and the developing unit can be reduced. Since the product yield can be improved, an extremely great effect is brought about.
【0068】また、本実施形態では、処理ユニット22
と23との間に保守管理用の通路を設けたので、内側に
配置した処理ユニット22、23を構成する処理部22
a〜22c及び23a〜23cについての保守管理を容
易に行うことができる。In this embodiment, the processing unit 22
, A maintenance management path is provided between the processing units 22 and 23, so that the processing units 22 and
Maintenance management for a to 22c and 23a to 23c can be easily performed.
【0069】次に、本発明の第二の実施形態を説明す
る。Next, a second embodiment of the present invention will be described.
【0070】図4は第二の実施形態に係る塗布・現像装
置の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a coating and developing apparatus according to the second embodiment.
【0071】本実施形態の塗布・現像装置では、処理ス
テーション20内の2つの搬送路85、87に沿って、
これら2つの搬送路85、87の外側にそれぞれ一列ず
つ処理部81aと81b、83aと83bが配置されて
おり、一方、これらの搬送路85と87との間には共通
の処理部82a〜82cが配置されている。これらの各
処理部82a〜82cはそれぞれ搬送機構86、88の
双方との間でガラス基板Gを出し入れできる構造を備え
ている。In the coating / developing apparatus of the present embodiment, along the two transport paths 85 and 87 in the processing station 20,
The processing units 81a and 81b and 83a and 83b are arranged outside the two transport paths 85 and 87 in a row, respectively. On the other hand, common processing units 82a to 82c are provided between the transport paths 85 and 87. Is arranged. Each of these processing units 82a to 82c has a structure capable of taking the glass substrate G in and out of both of the transport mechanisms 86 and 88, respectively.
【0072】図5は処理ユニット82を処理部82aの
部分で切断した断面の概略を示した図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a cross section of the processing unit 82 cut at the processing section 82a.
【0073】処理部82aのハウジング90には図中左
右両側に開口部91、92がそれぞれ設けられ、内部に
は加熱装置93と保持台94とが配設されている。Openings 91 and 92 are respectively provided on the left and right sides of the housing 90 of the processing section 82a in the figure, and a heating device 93 and a holding table 94 are provided inside.
【0074】本実施形態の塗布・現像装置では、処理ユ
ニット82に対して搬送機構86及び88のいずれもが
アクセスできるようになっているので、処理基板Gの搬
送経路として搬送機構86、88を選択して使用するこ
とができ、効率よく搬送することができる。In the coating / developing apparatus of this embodiment, since both of the transport mechanisms 86 and 88 can access the processing unit 82, the transport mechanisms 86 and 88 are used as the transport path of the processing substrate G. It can be used selectively and can be transported efficiently.
【0075】なお、本発明は上述した実施形態には限定
されない。The present invention is not limited to the above embodiment.
【0076】例えば、カセットステーション10のY方
向の長さを収容カセットCが9個以上セットできるよう
な大きさとし、処理ステーション20を構成する処理ユ
ニットの数をカセットステーション10のY方向の長さ
に対応して5列以上にすることもできる。For example, the length of the cassette station 10 in the Y direction is set so that nine or more cassettes C can be set, and the number of processing units constituting the processing station 20 is set to the length of the cassette station 10 in the Y direction. Correspondingly, five or more rows can be provided.
【0077】また、上記実施形態では、処理ステーショ
ンの内側の処理ユニットに加熱型処理部を配置し、外側
の処理ユニットに熱的影響を受け易い非加熱型処理部を
配置したが、これとは反対に、処理ステーションの内側
の処理ユニット非加熱型処理部を配置し、外側の処理ユ
ニットに加熱型処理部を配置することもできる。In the above embodiment, the heating type processing unit is disposed in the processing unit inside the processing station, and the non-heating type processing unit which is easily affected by heat is disposed in the external processing unit. Conversely, it is also possible to arrange a non-heated processing unit inside the processing unit and a heated type processing unit outside the processing unit.
【0078】更に、上記実施の形態では、LCD用ガラ
ス基板の塗布・現像装置を例にして説明したが、本発明
は、LCD用ガラス基板やそれ以外の被処理体、例え
ば、シリコンウエハの熱処理装置、プラズマ装置、エッ
チング装置、アッシング装置、スパッタリング装置、イ
オン注入装置、プラズマCVD装置、枚葉式CVD装
置、検査装置、洗浄装置、露光装置、その他の装置につ
いても同様に適用することができる。Further, in the above-described embodiment, the explanation has been given by taking as an example the apparatus for coating / developing an LCD glass substrate. However, the present invention is not limited to the heat treatment of an LCD glass substrate and other objects to be processed, for example, a silicon wafer. The present invention can be similarly applied to an apparatus, a plasma apparatus, an etching apparatus, an ashing apparatus, a sputtering apparatus, an ion implantation apparatus, a plasma CVD apparatus, a single-wafer CVD apparatus, an inspection apparatus, a cleaning apparatus, an exposure apparatus, and other apparatuses.
【0079】[0079]
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1記載の本
発明によれば、搬送路をほぼ平行に2つ以上配設し、こ
の搬送路に沿って処理部を配置したので、カセットステ
ーションのY方向の長さと処理ステーションのY方向の
長さとが一致して処理装置全体の外形が長方形となり、
クリーンルームに設置した場合のデッドスペースを無く
することができる。As described above in detail, according to the first aspect of the present invention, two or more transport paths are disposed substantially in parallel, and the processing section is disposed along the transport paths. When the length of the station in the Y direction matches the length of the processing station in the Y direction, the outer shape of the entire processing apparatus becomes rectangular,
Dead space when installed in a clean room can be eliminated.
【0080】請求項2記載の本発明によれば、処理部を
各搬送路の両側に配置したので、処理部の配置数が増
え、クリーンルームを効率良く利用することができる。According to the second aspect of the present invention, since the processing units are arranged on both sides of each transport path, the number of the processing units is increased, and the clean room can be used efficiently.
【0081】請求項3記載の本発明によれば、搬出入手
段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向
一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動
して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬
送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率よ
く被処理体を収容・搬送することができ、クリーンルー
ムを効率良く利用することができる。According to the third aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, and moving in a direction substantially orthogonal to the transport path. Since a transfer mechanism for loading and unloading an object to and from the storage cassette is employed, the object to be processed can be efficiently stored and transported in a limited space, and a clean room can be used efficiently. .
【0082】請求項4記載の本発明によれば、搬送路を
ほぼ平行に2つ配設し、この搬送路に沿って処理部を配
置したので、カセットステーションのY方向の長さと処
理ステーションのY方向の長さとが一致して処理装置全
体の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場
合のデッドスペースを無くすることができる。According to the fourth aspect of the present invention, two transfer paths are provided substantially in parallel, and the processing section is disposed along the transfer paths. The length of the processing apparatus coincides with the length in the Y direction, and the outer shape of the entire processing apparatus becomes rectangular, so that a dead space when installed in a clean room can be eliminated.
【0083】請求項5記載の本発明によれば、2の搬送
路の間に配置された処理部と処理部との間に保守管理用
の通路を設けたので、2の搬送路の間に2列の処理部を
配置した場合であっても、この通路を介してこれらの処
理部を容易に保守管理することができる。According to the fifth aspect of the present invention, since the maintenance path is provided between the processing units disposed between the two transport paths, the maintenance path is provided between the two transport paths. Even if two rows of processing units are arranged, these processing units can be easily maintained and managed through this passage.
【0084】請求項6記載の本発明によれば、2つの搬
送路の間に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れ
を規制するカーテンを設けたので、加熱型処理部から発
生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡散
するのを有効に防止することができる。また、クリーン
ルーム内の発熱を集中して効果的に排熱することがで
き、維持費のムダを抑えることができる。According to the sixth aspect of the present invention, since a curtain for regulating the flow of air is provided above the heating-type processing unit disposed between the two transport paths, the curtain generated from the heating-type processing unit is provided. It is possible to effectively prevent the heat from diffusing near the processing section disposed outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0085】請求項7記載の本発明によれば、搬出入手
段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向
一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動
して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬
送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率よ
く被処理体を収容・搬送することができ、クリーンルー
ムを効率良く利用することができる。According to the seventh aspect of the present invention, the loading / unloading means includes a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, and moving in a direction substantially orthogonal to the transport path. Since a transfer mechanism for loading and unloading an object to and from the storage cassette is employed, the object to be processed can be efficiently stored and transported in a limited space, and a clean room can be used efficiently. .
【0086】請求項8記載の本発明によれば、塗布部や
現像部といった、保守管理を高頻度に行う必要のある処
理部を搬送路の外側に配置したので、これら塗布部や現
像部の保守管理を容易に行うことができる。According to the present invention, since the processing units such as the coating unit and the developing unit, which need to perform maintenance management at high frequency, are arranged outside the transport path, the coating unit and the developing unit are arranged. Maintenance management can be performed easily.
【0087】請求項9記載の本発明によれば、2つの搬
送路の間に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れ
を規制するカーテンを設けたので、加熱型処理部から発
生した熱が、搬送路の外側に配置した塗布部や現像部と
いった熱的影響を受け易い処理部付近に拡散するのを有
効に防止することができる。また、クリーンルーム内の
発熱を集中して効果的に排熱することができ、維持費の
ムダを抑えることができる。According to the ninth aspect of the present invention, since a curtain for regulating the flow of air is provided above the heating-type processing unit disposed between the two transport paths, the curtain generated from the heating-type processing unit is provided. It is possible to effectively prevent heat from diffusing in the vicinity of a processing unit that is easily affected by heat, such as a coating unit and a developing unit disposed outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0088】請求項10記載の本発明によれば、搬出入
手段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率
よく被処理体を収容・搬送することができ、クリーンル
ームを効率良く利用することができる。According to the tenth aspect of the present invention, as the loading / unloading means, a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, and moving in a direction substantially orthogonal to the transport path. Since a transfer mechanism for loading and unloading an object to and from the storage cassette is employed, the object to be processed can be efficiently stored and transported in a limited space, and a clean room can be used efficiently. .
【0089】請求項11記載の本発明によれば、搬送路
をほぼ平行に2つ配設し、この2つの搬送路に沿って、
搬送路の外側と、2つの搬送路の間とに処理部を3列配
置したので、カセットステーションのY方向の長さと処
理ステーションのY方向の長さとが一致して処理装置全
体の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場
合のデッドスペースを無くすることができる。According to the eleventh aspect of the present invention, two transport paths are provided substantially in parallel, and along these two transport paths,
Since the processing units are arranged in three rows outside the transport path and between the two transport paths, the length of the cassette station in the Y direction coincides with the length of the processing station in the Y direction, so that the outer shape of the entire processing apparatus is rectangular. Thus, a dead space when installed in a clean room can be eliminated.
【0090】請求項12記載の本発明によれば、2つの
搬送路の間にこれら2つの搬送路の両方との間で被処理
体の搬送を行うことができる処理部を配置したので、被
処理体の搬送のしかたに融通性を持たせることができ、
効率よく被処理体の搬送を行うことができる。According to the twelfth aspect of the present invention, since the processing section capable of transporting the object to be processed between the two transport paths is disposed between the two transport paths. It can provide flexibility in the way of transporting treated objects,
The object to be processed can be efficiently transported.
【0091】請求項13記載の本発明によれば、2つの
搬送路の間に加熱型処理部を配置したので、加熱型処理
部から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付
近に拡散するのを有効に防止することができる。According to the thirteenth aspect of the present invention, since the heating-type processing section is disposed between the two transport paths, heat generated from the heating-type processing section is generated in the vicinity of the processing section disposed outside the transport path. Can be prevented effectively.
【0092】請求項14記載の本発明によれば、2の搬
送路の間に配置された処理部の上部に空気の流れを規制
するカーテンを設けたので、2の搬送路の間に配置した
処理部から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理
部付近に拡散するのを有効に防止することができる。ま
た、クリーンルーム内の発熱を集中して効果的に排熱す
ることができ、維持費のムダを抑えることができる。According to the fourteenth aspect of the present invention, since a curtain for regulating the flow of air is provided above the processing unit disposed between the two transport paths, the curtain is disposed between the two transport paths. The heat generated from the processing unit can be effectively prevented from diffusing to the vicinity of the processing unit arranged outside the transport path. In addition, the heat generated in the clean room can be concentrated and effectively exhausted, thereby reducing maintenance costs.
【0093】請求項15記載の本発明によれば、搬出入
手段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率
よく被処理体を収容・搬送することができ、クリーンル
ームを効率良く利用することができる。According to the fifteenth aspect of the present invention, as the loading / unloading means, the mounting table for mounting a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path, and moving in a direction substantially orthogonal to the transport path, Since a transfer mechanism for loading and unloading an object to and from the storage cassette is employed, the object to be processed can be efficiently stored and transported in a limited space, and a clean room can be used efficiently. .
【図1】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
の全体構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an overall configuration of a coating and developing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
の処理ステーションをX方向から見た状態を示した図で
ある。FIG. 2 is a diagram illustrating a processing station of the coating and developing apparatus according to the first embodiment of the present invention when viewed from an X direction.
【図3】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
をY方向から見た状態を示した図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which the coating and developing apparatus according to the first embodiment of the present invention is viewed from a Y direction.
【図4】本発明の第二の実施形態に係る塗布・現像装置
の全体構成を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an overall configuration of a coating and developing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第二の実施形態に係る塗布・現像装置
の処理ステーションの断面の部分拡大図である。FIG. 5 is a partially enlarged view of a section of a processing station of a coating and developing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図6】従来のT型レイアウトの塗布・現像装置の全体
構成を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing the overall configuration of a conventional T-type layout coating / developing apparatus.
G ガラス基板(被処理体) 25、27 搬送路 21a〜24b 処理部 C 収容カセット(搬出入手段) 11 載置台(搬出入手段) 12 搬出入機構(搬出入手段) 13 搬出入路(搬出入手段) 26、28 搬送機構 29 保守管理用の通路 70 カーテン G Glass substrate (object to be processed) 25, 27 Transport path 21a to 24b Processing section C Storage cassette (load-in / out means) 11 Mounting table (load-in / out means) 12 Load-in / out mechanism (load-in / out means) 13 Load-in / out path (load-in / out) Means) 26, 28 Transport mechanism 29 Pathway for maintenance management 70 Curtain
Claims (15)
搬送路と、 前記各搬送路に沿って配置された処理部と、 各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、 前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対して搬送する搬送機構とを具備することを特
徴とする処理装置。A plurality of transport paths arranged substantially in parallel with each other; a processing unit disposed along each of the transport paths; and a loading / unloading unit for loading / unloading an object to / from each transport path. A processing apparatus, comprising: a transport mechanism configured to transport an object to be processed to each processing unit and the loading / unloading unit via each of the transport paths.
とを特徴とする処理装置。2. The processing apparatus according to claim 1, wherein the processing units are arranged on both sides of each of the transport paths.
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。3. The processing apparatus according to claim 1, wherein said loading / unloading means includes: a mounting table for mounting a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path; A processing apparatus, comprising: a loading / unloading mechanism that moves and transfers an object to and from the storage cassette.
路と、 前記2つの搬送路に沿ってその間に配置された加熱型処
理部と、 前記2つの搬送路に沿ってその外側に配置された非加熱
型処理部と、 各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、 前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴
とする処理装置。4. A conveyance path arranged substantially in parallel with each other, a heating-type processing section disposed along and along the two conveyance paths, and a heating-type processing section disposed along and outside the two conveyance paths. A non-heating type processing section, carrying-in / out means for carrying in / out an object to / from each transport path, and a transport mechanism for transporting the workpiece to each processing section and the carrying-in / out means via each transport path. A processing device comprising:
保守管理用の通路を具備することを特徴とする処理装
置。5. The processing apparatus according to claim 4, further comprising a maintenance path between the processing units disposed between the two transport paths. apparatus.
て、 前記加熱型処理部が、その上部に空気の流れを規制する
カーテンを具備することを特徴とする処理装置。6. The processing apparatus according to claim 4, wherein the heating-type processing unit includes a curtain on an upper portion thereof for regulating a flow of air.
理装置であって、 前記搬出入手段が、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。7. The processing apparatus according to claim 4, wherein the loading / unloading means includes a loading table for loading a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to a transport path. A processing apparatus, comprising: a carrying-in / out mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to a transport path and carries in / out an object to / from the storage cassette.
路と、 前記2つの搬送路に沿ってその間に配置された加熱型処
理部と、 前記2つの搬送路に沿ってその外側に配置された塗布部
及び/又は現像部と、 各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、 前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び搬出入手
段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴とす
る処理装置。8. A conveyance path disposed substantially parallel to each other, a heating-type processing unit disposed along and along the two conveyance paths, and a heating-type processing unit disposed outside along the two conveyance paths. Coating / development unit, loading / unloading means for loading / unloading the object to / from each transport path, and transport for transporting the workpiece to each processing unit / loading / unloading means via each transport path. A processing device comprising a mechanism.
その上部に空気の流れを規制するカーテンを具備するこ
とを特徴とする処理装置。9. The processing apparatus according to claim 8, wherein the heating-type processing unit disposed along the two transport paths has a curtain at an upper portion thereof for restricting the flow of air. Processing equipment.
って、 前記搬出入手段が、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。10. The processing apparatus according to claim 8, wherein said loading / unloading means includes: a mounting table for mounting a plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path; And a loading / unloading mechanism for moving the workpiece in and out of the housing cassette.
路と、 前記2つの搬送路に沿って、前記2つの搬送路の外側
と、前記2つの搬送路の間にそれぞれ一列ずつ配置され
た処理部と、 各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、 前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴
とする処理装置。11. Two transport paths arranged substantially in parallel to each other, and one row is arranged along the two transport paths, outside the two transport paths, and between the two transport paths. A processing unit; loading / unloading means for loading / unloading the object to / from each transport path; and a transport mechanism for transporting the workpiece to each processing unit and the loading / unloading means via the transport path. A processing device characterized by the above-mentioned.
て、 2つの搬送路の間に配置された処理部が、前記2つの搬
送路の両方との間で被処理体の搬送を行うことができる
処理部であることを特徴とする処理装置。12. The processing apparatus according to claim 11, wherein the processing unit disposed between the two transport paths transports the workpiece between both of the two transport paths. A processing unit capable of performing the following.
であって、 2つの搬送路の間に配置された処理部が、加熱型処理部
であることを特徴とする処理装置。13. The processing apparatus according to claim 11, wherein the processing unit disposed between the two transport paths is a heating type processing unit.
て、 2つの搬送路の間に配置された処理部が、その上部に空
気の流れを規制するカーテンを具備することを特徴とす
る処理装置。14. The processing apparatus according to claim 13, wherein the processing unit disposed between the two transport paths has a curtain on an upper portion thereof for regulating a flow of air. apparatus.
載の処理装置であって、 前記搬出入手段が、複数の収
容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に載置する載置
台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前記収容カセッ
トとの間で被処理体を搬出入する搬出入機構とを具備す
ることを特徴とする処理装置。15. The processing apparatus according to claim 11, wherein the loading / unloading unit loads the plurality of storage cassettes in a line substantially orthogonal to the transport path. A processing apparatus, comprising: a carrying-in / out mechanism that moves in a direction substantially orthogonal to a transport path and carries in / out an object to / from the storage cassette.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9176892A JPH1126541A (en) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | Processor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9176892A JPH1126541A (en) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | Processor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1126541A true JPH1126541A (en) | 1999-01-29 |
Family
ID=16021583
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9176892A Pending JPH1126541A (en) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | Processor |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH1126541A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009194067A (en) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate treatment apparatus |
JP2015018894A (en) * | 2013-07-10 | 2015-01-29 | 株式会社荏原製作所 | Plating device |
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JPH06143177A (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-24 | Tokyo Electron Ltd | Substrate conveying device |
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-
1997
- 1997-07-02 JP JP9176892A patent/JPH1126541A/en active Pending
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050201 |