JPH11233300A - Particle accelerator - Google Patents
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- JPH11233300A JPH11233300A JP5128698A JP5128698A JPH11233300A JP H11233300 A JPH11233300 A JP H11233300A JP 5128698 A JP5128698 A JP 5128698A JP 5128698 A JP5128698 A JP 5128698A JP H11233300 A JPH11233300 A JP H11233300A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子を加速し
て出射しその荷電粒子を輸送して対象物に照射する粒子
加速器に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a particle accelerator for accelerating and emitting charged particles, transporting the charged particles, and irradiating an object.
【0002】[0002]
【従来の技術】粒子加速器で加速された荷電粒子は、放
射線治療や各種実験に用いられる。図3は、従来の粒子
加速器の構成図である。粒子加速器では、まず、イオン
源1で荷電粒子を生成し、その生成された荷電粒子を所
定のエネルギーまで入射用加速器2で加速する。そし
て、対象物に照射するエネルギーまで主加速器3でさら
に加速し、その加速した荷電粒子を対象物までビーム輸
送系4で輸送する。以下、このイオン源での荷電粒子の
生成からビーム輸送系で対象物に荷電粒子を輸送するま
でを荷電粒子発生設備ということにする。2. Description of the Related Art Charged particles accelerated by a particle accelerator are used for radiotherapy and various experiments. FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional particle accelerator. In the particle accelerator, first, charged particles are generated by the ion source 1, and the generated charged particles are accelerated by the incidence accelerator 2 to a predetermined energy. The main accelerator 3 further accelerates the energy to irradiate the object, and the accelerated charged particles are transported to the object by the beam transport system 4. Hereinafter, a process from the generation of charged particles by the ion source to the transport of the charged particles to the target by the beam transport system is referred to as a charged particle generation facility.
【0003】ここで、荷電粒子発生設備を構成するイオ
ン源1は、陽子、重イオン、炭素イオン、シリコンイオ
ン等の荷電粒子を生成する機器であり、入射用加速器2
は、イオン源からの荷電粒子を主加速器で加速できるエ
ネルギー(数MeV〜)まで加速する線型加速器等の加
速器である。そして、主加速器3は、治療や実験に使用
するエネルギーまで加速するシンクロトロン等の加速器
であり、ビーム輸送系4は、主加速器3から出射した荷
電粒子を治療室や実験室等のビーム照射系5まで輸送す
るシステムである。[0003] Here, an ion source 1 constituting a charged particle generation facility is a device that generates charged particles such as protons, heavy ions, carbon ions, silicon ions, etc., and an injection accelerator 2
Is an accelerator such as a linear accelerator that accelerates charged particles from an ion source to an energy (several MeV or more) that can be accelerated by the main accelerator. The main accelerator 3 is an accelerator such as a synchrotron for accelerating to the energy used for treatment or experiment, and the beam transport system 4 is a beam irradiation system for treating the charged particles emitted from the main accelerator 3 in a treatment room or a laboratory. It is a system for transporting up to 5.
【0004】荷電粒子発生設備のビーム輸送系4からの
荷電粒子はビーム照射系5に入力され、対象物6に照射
される。ビーム輸送系4から荷電粒子ビームを引き継ぐ
このビーム照射系5は、荷電粒子ビームを計測する線量
モニタ7を有しており、この線量モニタで計測された荷
電粒子ビームは加速器制御回路8に入力されるようにな
っている。[0004] Charged particles from a beam transport system 4 of the charged particle generation equipment are input to a beam irradiation system 5 and irradiated on an object 6. The beam irradiation system 5 that takes over the charged particle beam from the beam transport system 4 has a dose monitor 7 that measures the charged particle beam. The charged particle beam measured by the dose monitor is input to an accelerator control circuit 8. It has become so.
【0005】加速器制御回路8での荷電粒子ビームの照
射線量の制御としては、線量モニタ7で各荷電粒子ビー
ムパルスの線量を測定し、その積算値が規定値に達した
時点で、ビームシャツター9を閉鎖して荷電粒子ビーム
の対象物6への通過を止めるようにしている。[0005] In controlling the irradiation dose of the charged particle beam in the accelerator control circuit 8, the dose of each charged particle beam pulse is measured by the dose monitor 7, and when the integrated value reaches a specified value, the beam shutter 9 is controlled. Is closed to stop the passage of the charged particle beam to the object 6.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、荷電粒
子ビームのパルス毎の線量のばらつきは、粒子加速器の
荷電粒子発生設備における各々の機器のリップルや安定
度に依存しており、ばらつきを抑える制御は最終段であ
るビーム照射系5からは行っていない。However, the variation in the dose of each pulse of the charged particle beam depends on the ripple and the stability of each device in the charged particle generator of the particle accelerator. It is not performed from the beam irradiation system 5 which is the last stage.
【0007】このように、従来の粒子加速器において
は、荷電粒子ビーム毎のばらつきや時間的な変動を抑制
しようとする制御を行っていないので、粒子加速器にお
ける荷電粒子発生設備の時間的な変化に伴い荷電粒子ビ
ームの線量が変動する要因となっている。荷電粒子ビー
ムの変動を小さくし安定した治療や実験を行うために
は、運転員による運転パラメータの変更を行う必要があ
り、運転員の負担が大きいものであった。As described above, in the conventional particle accelerator, since control for suppressing the variation and the time variation of each charged particle beam is not performed, the time variation of the charged particle generation equipment in the particle accelerator is not considered. Accordingly, the dose of the charged particle beam fluctuates. In order to reduce the fluctuation of the charged particle beam and perform stable treatments and experiments, it is necessary to change the operation parameters by the operator, which places a heavy burden on the operator.
【0008】本発明の目的は、荷電粒子ビームの線量の
ばらつきや時間変動を抑えることができる粒子加速器を
得ることである。An object of the present invention is to provide a particle accelerator capable of suppressing variation in dose of a charged particle beam and time variation.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係わる
粒子加速器は、イオン源で生成された荷電粒子を所定の
エネルギーまで入射用加速器で加速し対象物に照射する
エネルギーまで主加速器でさらに加速しその加速した荷
電粒子を対象物までビーム輸送系で輸送する荷電粒子発
生設備と、荷電粒子発生設備のビーム輸送系からの荷電
粒子を対象物に照射するビーム照射系と、対象物に照射
される荷電粒子ビームの照射線量が予め設定された基準
値になるように荷電粒子ビームの照射量を調整するため
の制御指令を出力する線量制御回路と、線量制御回路か
らの制御指令に基づいて対象物に照射される荷電粒子ビ
ームの照射線量が基準値になるように荷電粒子発生設備
を制御すると共に対象物に照射される荷電粒子ビームの
照射線量の積算値が所定量になると対象物への荷電粒子
ビームの照射を停止する加速器制御回路とを備えたこと
を特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a particle accelerator, in which a charged particle generated by an ion source is accelerated to a predetermined energy by an accelerator for incidence, and further increased to an energy for irradiating an object with a main accelerator. A charged particle generation facility that accelerates and transports the accelerated charged particles to the target using a beam transport system, a beam irradiation system that irradiates the target with charged particles from the beam transport system of the charged particle generation facility, and irradiates the target A dose control circuit that outputs a control command for adjusting the dose of the charged particle beam so that the dose of the charged particle beam to be irradiated becomes a preset reference value, and based on the control command from the dose control circuit. Controls the charged particle generation equipment so that the dose of the charged particle beam irradiated to the target becomes the reference value, and integrates the dose of the charged particle beam irradiated to the target Characterized by comprising a accelerator control circuit for stopping the irradiation of the charged particle beam to the object when a predetermined amount.
【0010】請求項1の発明に係わる粒子加速器では、
荷電粒子発生設備により、イオン源で生成された荷電粒
子を所定のエネルギーまで入射用加速器で加速し対象物
に照射するエネルギーまで主加速器でさらに加速しその
加速した荷電粒子を対象物までビーム輸送系で輸送す
る。荷電粒子発生設備のビーム輸送系からの荷電粒子は
ビーム照射系に入射され対象物に照射される。この場
合、加速器制御回路は、線量制御回路からの制御指令に
基づいて対象物に照射される荷電粒子ビームの照射線量
が基準値になるように荷電粒子発生設備を制御すると共
に、対象物に照射される荷電粒子ビームの照射線量の積
算値が所定量になると対象物への荷電粒子ビームの照射
を停止する。In the particle accelerator according to the first aspect of the present invention,
The charged particle generation equipment accelerates the charged particles generated by the ion source to a predetermined energy with the accelerator for injection, further accelerates with the main accelerator to the energy to irradiate the target object, and transmits the accelerated charged particles to the target object. Transport by Charged particles from the beam transport system of the charged particle generation equipment are incident on a beam irradiation system and are irradiated on an object. In this case, the accelerator control circuit controls the charged particle generation equipment based on the control command from the dose control circuit so that the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object becomes a reference value, and irradiates the object. When the integrated value of the irradiated dose of the charged particle beam reaches a predetermined amount, the irradiation of the charged particle beam to the object is stopped.
【0011】請求項2の発明に係わる粒子加速器は、請
求項1の粒子加速器において、線量制御回路は、対象物
に照射される荷電粒子ビームの照射線量の変化分を算出
し、その変化分に基づいて先行的に荷電粒子ビームの照
射線量が予め設定された基準値になるように荷電粒子ビ
ームの照射量を調整するための制御指令を出力するよう
にしたことを特徴とする。A particle accelerator according to a second aspect of the present invention is the particle accelerator according to the first aspect, wherein the dose control circuit calculates a change in the irradiation dose of the charged particle beam irradiated to the object, and calculates the change in the change. And outputting a control command for adjusting the irradiation dose of the charged particle beam so that the irradiation dose of the charged particle beam becomes a preset reference value.
【0012】請求項2の発明に係わる粒子加速器では、
請求項1の粒子加速器の作用に加え、対象物に照射され
る荷電粒子ビームの照射線量の変化分に基づいて、先行
的に荷電粒子ビームの照射線量が予め設定された基準値
になるように荷電粒子ビームの照射量を調整する。In the particle accelerator according to the second aspect of the present invention,
In addition to the operation of the particle accelerator according to claim 1, the irradiation dose of the charged particle beam is set to a reference value set in advance based on a change in the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object. Adjust the dose of the charged particle beam.
【0013】請求項3の発明に変わる粒子加速器は、請
求項1または請求項2の粒子加速器において、線量制御
回路および加速器制御回路で使用する荷電粒子ビームの
照射線量は、ビーム照射系に設けられた同一線量モニタ
により計測された計測値を使用するようにしたことを特
徴とする。A particle accelerator according to a third aspect of the present invention is the particle accelerator according to the first or second aspect, wherein the irradiation dose of the charged particle beam used in the dose control circuit and the accelerator control circuit is provided in a beam irradiation system. And using a measurement value measured by the same dose monitor.
【0014】請求項3の発明に係わる粒子加速器では、
請求項1または請求項2の粒子加速器の作用に加え、線
量制御回路および加速器制御回路は、ビーム照射系に設
けられた線量モニタにより計測された荷電粒子ビームの
照射線量を使用する。In the particle accelerator according to the third aspect of the present invention,
In addition to the operation of the particle accelerator according to claim 1 or 2, the dose control circuit and the accelerator control circuit use the irradiation dose of the charged particle beam measured by the dose monitor provided in the beam irradiation system.
【0015】請求項4の発明に係わる粒子加速器は、請
求項1または請求項2の粒子加速器において、線量制御
回路で使用する荷電粒子ビームの照射線量は、ビーム輸
送系に設けられた線量モニタにより計測された計測値を
使用し、加速制御回路で使用する荷電粒子ビームの照射
量はビーム照射系に設けられた線量モニタにより計測さ
れた計測値を使用するようにしたことを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the particle accelerator according to the first or second aspect, the irradiation dose of the charged particle beam used in the dose control circuit is controlled by a dose monitor provided in a beam transport system. The measured value is used, and the irradiation amount of the charged particle beam used in the acceleration control circuit uses a value measured by a dose monitor provided in the beam irradiation system.
【0016】請求項4の発明に係わる粒子加速器は、請
求項1または請求項2の粒子加速器において、線量制御
回路はビーム輸送系に設けられた線量モニタで計測した
照射線量を使用し、加速器制御回路はビーム照射系に設
けられた線量モニタにより計測された照射線量を使用す
る。A particle accelerator according to a fourth aspect of the present invention is the particle accelerator according to the first or second aspect, wherein the dose control circuit uses an irradiation dose measured by a dose monitor provided in the beam transport system, and controls the accelerator. The circuit uses the irradiation dose measured by the dose monitor provided in the beam irradiation system.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は、本発明第1の実施
の形態に係る粒子加速器の構成を示す図である。この第
1の実施の形態は、図1に示した従来例に対し、対象物
6に照射される荷電粒子ビームの照射線量が予め設定さ
れた基準値になるように荷電粒子ビームの照射量を調整
するための制御指令を出力する線量制御回路10を設
け、加速器制御回路8は、線量制御回路10からの制御
指令に基づいて対象物6に照射される荷電粒子ビームの
照射線量が基準値になるように荷電粒子発生設備を制御
すると共に、対象物6に照射される荷電粒子ビームの照
射線量の積算値が所定量になると対象物6への荷電粒子
ビームの照射を停止するようにしたものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a particle accelerator according to the first embodiment of the present invention. The first embodiment is different from the conventional example shown in FIG. 1 in that the irradiation amount of the charged particle beam is adjusted so that the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object 6 becomes a preset reference value. A dose control circuit 10 for outputting a control command for adjustment is provided, and the accelerator control circuit 8 sets the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object 6 based on the control command from the dose control circuit 10 to a reference value. And controlling the charged particle generation equipment so that the irradiation of the charged particle beam to the object 6 is stopped when the integrated value of the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object 6 reaches a predetermined amount. It is.
【0018】荷電粒子ビームを得る荷電粒子発生設備
は、荷電粒子を発生させるイオン源1と、その荷電粒子
を主加速器3で加速可能なエネルギーまで加速する入射
用加速器2と、入射用加速器2からの荷電粒子を対象物
に照射するレベルのエネルギーまで加速する主加速器3
と、主加速器3で加速され得られた荷電粒子ビームをビ
ーム照射系5まで輸送するビーム輸送系4から構成され
る。The charged particle generating equipment for obtaining a charged particle beam includes an ion source 1 for generating charged particles, an accelerator 2 for accelerating the charged particles to an energy that can be accelerated by the main accelerator 3, and an accelerator 2 for incidence. Main accelerator 3 that accelerates the charged particles to the level of energy to irradiate the target object
And a beam transport system 4 for transporting the charged particle beam accelerated by the main accelerator 3 to a beam irradiation system 5.
【0019】すなわち、荷電粒子はイオン源1で発生
し、線型加速器等の入射用加速器2で数MeVのエネル
ギーまで加速され、シンクロトロンやサイクロトロン等
の主加速器3において、さらに加速されてビーム輸送系
4に出射される。そして、ビーム輸送系4を通過してビ
ーム照射系5に到達する。That is, the charged particles are generated in the ion source 1, accelerated to an energy of several MeV by an injection accelerator 2 such as a linear accelerator, and further accelerated in a main accelerator 3 such as a synchrotron or a cyclotron to be transported. 4 is emitted. Then, the light reaches the beam irradiation system 5 through the beam transport system 4.
【0020】ビーム照射系5では、荷電粒子ビームの形
状を照射対象である治療部や実験対象の形状にあわせて
整形する。また、線量モニタ7により対象物6に照射さ
れた荷電粒子ビームの線量を検出し、加速器制御回路8
および線量制御回路10に入力する。線量モニタ7とし
ては、平行平板電離箱等のモニタが採用されている。In the beam irradiation system 5, the shape of the charged particle beam is shaped in accordance with the shape of the treatment section to be irradiated or the shape of the experimental object. The dose monitor 7 detects the dose of the charged particle beam applied to the object 6, and controls the accelerator control circuit 8.
And input to the dose control circuit 10. As the dose monitor 7, a monitor such as a parallel plate ionization chamber is used.
【0021】線量制御回路10では、このビーム照射系
5に設けられた線量モニタ7により測定した各パルスの
線量のデータを入力し、入力されたパルスの線量と予め
設定された基準値とを比較する。つまり、2つの信号の
偏差を演算して加速器制御回路8に対して、次回以降の
パルス運転のパラメータを微調整して、荷電粒子のビー
ム電流値を増減するように制御する。荷電粒子のビーム
電流値の増減は、加速器制御回路8において、イオン源
1での荷電粒子の生成量を調整したり、入射用加速器2
の加速電圧や主加速器3の加速電圧等を調整を調整した
り、ビーム輸送系4の輸送電圧を調整することにより行
う。The dose control circuit 10 receives dose data of each pulse measured by the dose monitor 7 provided in the beam irradiation system 5 and compares the input pulse dose with a preset reference value. I do. In other words, the deviation between the two signals is calculated, and the accelerator control circuit 8 is controlled so as to finely adjust the parameters of the next and subsequent pulse operations to increase or decrease the beam current value of the charged particles. The increase / decrease of the beam current value of the charged particles can be controlled by the accelerator control circuit 8 by adjusting the amount of charged particles generated in the ion source 1 or by changing the incidence of the incident accelerator 2.
The adjustment is performed by adjusting the acceleration voltage of the main accelerator 3, the acceleration voltage of the main accelerator 3, and the like, or by adjusting the transport voltage of the beam transport system 4.
【0022】このように、線量制御回路10ではビーム
照射系5の線量モニタ7で得られる線量のデータをその
線量の基準値と比較する処理を行い、加速器制御回路8
では、イオン源1のヒータ電流の上げ/下げや、入射用
加速器2の高周波加速電圧の上げ/下げや、主加速器3
の高周波加速電圧の上げ/下げ等を制御する。また、加
速器制御回路8では、ビーム照射系5の線量モニタ7で
得られる線量のデータをカウントし、その積算値が規定
量に達するとビームシャツター9を閉じてビームの照射
を停止する。これにより、対象物6への照射線量を制御
している。As described above, the dose control circuit 10 performs processing for comparing the dose data obtained by the dose monitor 7 of the beam irradiation system 5 with the reference value of the dose.
Then, the heater current of the ion source 1 is increased / decreased, the high-frequency acceleration voltage of the injection accelerator 2 is increased / decreased, and the main accelerator 3 is increased.
Control of the high-frequency acceleration voltage of the device. Further, the accelerator control circuit 8 counts the dose data obtained by the dose monitor 7 of the beam irradiation system 5, and when the integrated value reaches a specified amount, closes the beam shutter 9 and stops beam irradiation. Thereby, the irradiation dose to the object 6 is controlled.
【0023】従って、この第1の実施の形態によれば、
荷電粒子ビームにばらつきや時間変動が生じて基準値と
の偏差が生じると、次のパルスまたは数パルス以内に修
正して、荷電粒子ビームのばらつきや時間変動を抑制す
ることができる。Therefore, according to the first embodiment,
If the charged particle beam has a variation or a time variation and a deviation from the reference value occurs, the charged particle beam can be corrected within the next pulse or several pulses to suppress the variation or the time variation of the charged particle beam.
【0024】次に、本発明の第2の実施の形態を説明す
る。図2は本発明の第2の実施の形態に係わる粒子加速
器の構成図である。この第2の実施の形態は、線量モニ
タ11をビーム輸送系4に追加して設け、線量制御回路
10での荷電粒子ビームの電流値の増減制御に使用する
荷電粒子ビームの線量を線量センサ11で検出するよう
にしたものである。Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a configuration diagram of a particle accelerator according to a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, a dose monitor 11 is additionally provided in the beam transport system 4, and the dose of the charged particle beam used for controlling the increase / decrease of the current value of the charged particle beam in the dose control circuit 10 is determined by the dose sensor 11. This is to be detected by.
【0025】線量モニタ11をビーム輸送系4に追加し
て設け、その線量モニタ11により計測された荷電粒子
ビームの線量を線量制御回路10に入力し、荷電粒子ビ
ームの照射線量のばらつきや変動を抑制する制御に使用
する。この場合、加速器制御回路8はビーム照射系5の
線量モニタ7により得られる荷電粒子ビームの線量を積
算し、その積算値が規定量になるとビームシャッター9
を閉じる。A dose monitor 11 is additionally provided to the beam transport system 4, and the dose of the charged particle beam measured by the dose monitor 11 is input to the dose control circuit 10, and the variation and fluctuation of the dose of the charged particle beam are monitored. Used for control to suppress. In this case, the accelerator control circuit 8 integrates the dose of the charged particle beam obtained by the dose monitor 7 of the beam irradiation system 5, and when the integrated value reaches a specified value, the beam shutter 9
Close.
【0026】このように、線量モニタ7とは別に線量モ
ニタ11を備える必要が生じるが、ビーム輸送系4の線
量モニタ11は、ビーム照射系5のビームシャッター9
より上流に配置できるためビームシャッター9が閉じて
いる状態でも荷電粒子ビームの電流値の増減制御を行え
る利点がある。As described above, it is necessary to provide the dose monitor 11 separately from the dose monitor 7, but the dose monitor 11 of the beam transport system 4 is provided with the beam shutter 9 of the beam irradiation system 5.
Since it can be arranged further upstream, there is an advantage that the increase / decrease control of the current value of the charged particle beam can be performed even when the beam shutter 9 is closed.
【0027】以上の説明では、線量制御回路10におい
て、荷電粒子ビームの線量と予め設定された基準値とを
比較し、その偏差に基づいて荷電粒子ビームの電流値の
増減制御を行うようにしたが、綿量モニタ7から入力さ
れたパルスの線量の時間的な変動を監視し、荷電粒子ビ
ームの線量の変化分を判定し、その荷電粒子ビームの線
量の変化分に基づいて荷電粒子ビームの電流値の増減制
御を行うようにすることも可能である。すなわち荷電粒
子ビームの線量が傾向として増加する傾向にあるか、減
少する傾向にあるかを判定し、その結果に基づき荷電粒
子ビームの電流値の増減制御を行うようにする。In the above description, the dose control circuit 10 compares the dose of the charged particle beam with a preset reference value, and controls the increase or decrease of the current value of the charged particle beam based on the deviation. Monitors the temporal variation of the dose of the pulse input from the cotton amount monitor 7, determines the change in the dose of the charged particle beam, and based on the change in the dose of the charged particle beam, It is also possible to control the increase and decrease of the current value. That is, it is determined whether the dose of the charged particle beam tends to increase or decrease, and based on the result, the increase / decrease control of the current value of the charged particle beam is performed.
【0028】このように、運転開始時または照射開始時
からの照射線量の差が、そのまま運転を継続すると基準
値を超えそうかどうかを判断し、超えそうな傾向にあれ
ば、加速器制御回路8に対して次回以降のパルス運転の
パラメータを微調整して、荷電粒子のビーム電流値を減
少または増加するように制御する。As described above, it is determined whether or not the difference in irradiation dose from the start of operation or from the start of irradiation is likely to exceed the reference value if the operation is continued, and if the difference is likely to exceed, the accelerator control circuit 8 Then, the parameters of the pulse operation after the next time are finely adjusted to control the beam current value of the charged particles to decrease or increase.
【0029】これにより、荷電粒子ビームにばらつきや
時間変動がある場合に、運転開始時または照射開始時点
からの照射線量の差を小さく保ちながら、粒子加速器の
運転を行うことができる。Thus, in the case where the charged particle beam has variation or time variation, the operation of the particle accelerator can be performed while keeping the difference in the irradiation dose from the start of operation or from the start of irradiation small.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、運転員
の介在なしに、荷電粒子ビームによる線量のばらつきや
時間変動を小さくすることができ、治療や照射実験に際
して、より良質の荷電粒子ビームの供給を行うことがで
きる。As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the variation in dose and time variation due to the charged particle beam without the intervention of an operator, and to achieve higher quality charging in treatment and irradiation experiments. A supply of a particle beam can be provided.
【図1】本発明の第1の実施の形態に係わる粒子加速器
の構成図。FIG. 1 is a configuration diagram of a particle accelerator according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第2の実施の形態に係わる粒子加速器
の構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a particle accelerator according to a second embodiment of the present invention.
【図3】従来の粒子加速器の構成図。FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional particle accelerator.
1 イオン源 2 入射用加速器 3 主加速器 4 ビーム輸送系 5 ビーム照射系 6 対象物 7 線量モニタ 8 加速器制御回路 9 ビームシャッター 10 線量制御回路 11 線量モニタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ion source 2 Injection accelerator 3 Main accelerator 4 Beam transport system 5 Beam irradiation system 6 Target 7 Dose monitor 8 Accelerator control circuit 9 Beam shutter 10 Dose control circuit 11 Dose monitor
Claims (4)
エネルギーまで入射用加速器で加速し対象物に照射する
エネルギーまで主加速器でさらに加速しその加速した荷
電粒子を前記対象物までビーム輸送系で輸送する荷電粒
子発生設備と、前記荷電粒子発生設備の前記ビーム輸送
系からの荷電粒子を対象物に照射するビーム照射系と、
前記対象物に照射される前記荷電粒子ビームの照射線量
が予め設定された基準値になるように荷電粒子ビームの
照射量を調整するための制御指令を出力する線量制御回
路と、前記線量制御回路からの制御指令に基づいて前記
対象物に照射される荷電粒子ビームの照射線量が基準値
になるように前記荷電粒子発生設備を制御すると共に前
記対象物に照射される前記荷電粒子ビームの照射線量の
積算値が所定量になると前記対象物への前記荷電粒子ビ
ームの照射を停止する加速器制御回路とを備えたことを
特徴とする粒子加速器。A charged particle generated by an ion source is accelerated to a predetermined energy by an injection accelerator and further accelerated by a main accelerator to energy for irradiating an object, and the accelerated charged particles are transported to the object by a beam transport system. Charged particle generation equipment to transport in, a beam irradiation system to irradiate the target object with charged particles from the beam transport system of the charged particle generation equipment,
A dose control circuit that outputs a control command for adjusting a dose of the charged particle beam so that a dose of the charged particle beam irradiated to the object is a preset reference value, and the dose control circuit. And controlling the charged particle generation equipment so that the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object based on the control command from the reference value becomes the reference value, and the irradiation dose of the charged particle beam applied to the object. And an accelerator control circuit for stopping the irradiation of the charged particle beam to the object when the integrated value of (a) becomes a predetermined amount.
量制御回路は、前記対象物に照射される前記荷電粒子ビ
ームの照射線量の変化分を算出し、その変化分に基づい
て先行的に前記荷電粒子ビームの照射線量が予め設定さ
れた基準値になるように荷電粒子ビームの照射量を調整
するための制御指令を出力するようにしたことを特徴と
する粒子加速器。2. The particle accelerator according to claim 1, wherein the dose control circuit calculates a change in an irradiation dose of the charged particle beam applied to the object, and precedes the change based on the change. A particle accelerator characterized by outputting a control command for adjusting the dose of a charged particle beam so that the dose of the charged particle beam becomes a preset reference value.
おいて、前記線量制御回路および前記加速器制御回路で
使用する前記荷電粒子ビームの照射線量は、前記ビーム
照射系に設けられた同一線量モニタにより計測された計
測値を使用するようにしたことを特徴とする粒子加速
器。3. The particle accelerator according to claim 1, wherein the dose of the charged particle beam used in the dose control circuit and the accelerator control circuit is determined by the same dose monitor provided in the beam irradiation system. A particle accelerator characterized by using measured values.
おいて、前記線量制御回路で使用する前記荷電粒子ビー
ムの照射線量は、前記ビーム輸送系に設けられた線量モ
ニタにより計測された計測値を使用し、前記加速制御回
路で使用する前記荷電粒子ビームの照射量は前記ビーム
照射系に設けられた線量モニタにより計測された計測値
を使用するようにしたことを特徴とする粒子加速器。4. The particle accelerator according to claim 1, wherein the irradiation dose of the charged particle beam used in the dose control circuit is a measured value measured by a dose monitor provided in the beam transport system. The particle accelerator according to claim 1, wherein the irradiation amount of the charged particle beam used in the acceleration control circuit uses a measurement value measured by a dose monitor provided in the beam irradiation system.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5128698A JPH11233300A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Particle accelerator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5128698A JPH11233300A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Particle accelerator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11233300A true JPH11233300A (en) | 1999-08-27 |
Family
ID=12882698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5128698A Pending JPH11233300A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Particle accelerator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11233300A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-02-18 JP JP5128698A patent/JPH11233300A/en active Pending
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