JPH11231456A - Color image forming method using silver halide color photographic sensitive material - Google Patents
Color image forming method using silver halide color photographic sensitive materialInfo
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- JPH11231456A JPH11231456A JP4458698A JP4458698A JPH11231456A JP H11231456 A JPH11231456 A JP H11231456A JP 4458698 A JP4458698 A JP 4458698A JP 4458698 A JP4458698 A JP 4458698A JP H11231456 A JPH11231456 A JP H11231456A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はカラー写真技術に関
し、発色性、保存安定性、色像堅牢性や色相が良好で簡
易迅速処理に対応できるハロゲン化銀カラー写真感光材
料を用い、少量の処理液を均一に塗り付けることによっ
て、低廃液量と処理変動減をともに可能とするカラー画
像形成方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color photographic technique, and uses a silver halide color photographic light-sensitive material which has good color developability, storage stability, color image fastness and hue and can cope with simple and rapid processing. The present invention relates to a color image forming method that enables both a low waste liquid amount and a reduction in processing fluctuation by uniformly applying a liquid.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、カラー写真感光材料は、露光
後、発色現像することにより、酸化されたp−フェニレ
ンジアミン誘導体とカプラーが反応し画像が形成され
る。この方式においては減色法による色再現法が用いら
れ、青、緑、及び赤を再現する為にはそれぞれの補色の
関係にあるイエロー、マゼンタ、及びシアンの色画像が
形成される。発色現像は、露光されたカラー写真感光材
料をp−フェニレンジアミン誘導体含有アルカリ水溶液
(発色現像液)中に浸漬することで達成される。一般に
このような処理を行う場合にはカラー写真感光材料を発
色現像液に浸漬するためのタンク及び、消費される発色
現像液を補充する液をストックしておく補充タンクが必
要となり処理装置としては大きくならざるを得ない。特
に分散処理を行いミニラボなどの場合では装置は小型で
あることが好ましく、装置を小型化するためには上記し
たようなタンクを減らすことが求められている。タンク
を減らす際にまず、処理タンクを無くすことが考えられ
る。処理タンクを無くす方法として、特許第26122
05号に記載のように処理液をタンクにためずに感光材
料の表面に塗り付ける方法が考えられる。しかしなが
ら、このような方法では発色に必要なp−フェニレンジ
アミン誘導体を処理液中に含有させようとすると、処理
液を大量に塗り付けるもしくは、処理液中のp−フェニ
レンジアミン誘導体の濃度を高くしなければならない。
前者の場合、処理液を大量に使うことになり、ストック
タンクを大きくしなければならず、また大量の処理廃液
が出るなどの問題点が生じる。また後者の場合はp−フ
ェニレンジアミン誘導体の水に対する溶解度には限界が
あるために、高濃度にすると析出が起こる等の問題点が
ある。また、特開平7−261353号、同9−171
244号等に記載のように、カプラーとp−フェニレン
ジアミン誘導体のカップリングによる画像形成方法を用
いず、色素の転写による画像形成方法を用いることが考
えられる。これらの特許の記載の方法によれば感光材料
中にもともと色素が入っており、塩基も塩基発生剤の型
で感光材料中に含有されているので、水を塗設し、加熱
するだけで画像形成が可能である。しかしながらこれら
の特許に記載の方法では感光材料の他に転写した色素を
媒染させるための受像シートが必要であり、廃材がでる
などの問題点を生じている。2. Description of the Related Art Generally, a color photographic light-sensitive material undergoes color development after exposure, whereby an oxidized p-phenylenediamine derivative and a coupler react to form an image. In this method, a color reproduction method based on a subtractive color method is used, and in order to reproduce blue, green, and red, yellow, magenta, and cyan color images having respective complementary colors are formed. Color development is achieved by immersing the exposed color photographic light-sensitive material in a p-phenylenediamine derivative-containing alkaline aqueous solution (color developing solution). In general, such processing requires a tank for immersing the color photographic light-sensitive material in a color developing solution and a replenishing tank for storing a solution for replenishing the consumed color developing solution. I have to grow. In particular, in the case of a minilab or the like which performs a dispersion process, it is preferable that the size of the device is small. In order to reduce the size of the device, it is required to reduce the number of tanks as described above. In reducing the number of tanks, it is conceivable to first eliminate the processing tank. Japanese Patent No. 26122 discloses a method of eliminating a processing tank.
As described in No. 05, a method of applying the processing liquid to the surface of the photosensitive material without collecting the processing liquid in the tank can be considered. However, in such a method, if the p-phenylenediamine derivative required for color development is to be contained in the processing solution, a large amount of the processing solution must be applied or the concentration of the p-phenylenediamine derivative in the processing solution must be increased. Must.
In the former case, a large amount of the processing solution is used, and the size of the stock tank must be increased, and a large amount of processing waste liquid is generated. In the latter case, since the solubility of the p-phenylenediamine derivative in water is limited, there is a problem that a high concentration causes precipitation or the like. Also, JP-A-7-261353, 9-171
As described in JP-A-244, for example, it is conceivable to use an image forming method by transferring a dye instead of using an image forming method by coupling a coupler with a p-phenylenediamine derivative. According to the methods described in these patents, the dye is originally contained in the photosensitive material, and the base is also contained in the photosensitive material in the form of a base generator. Formation is possible. However, the methods described in these patents require an image receiving sheet for mordanting the transferred dye in addition to the photosensitive material, which causes problems such as waste material.
【0003】上記のような間題点を解決する方法の一つ
として感光材料中にp−フェニレンジアミンもしくはそ
れと同様の働きをする化合物を感光材料中に含有させる
方法が考えられる。p−フェニレンジアミンもしくはそ
れと同様の働きをする化合物を感光材料中に内蔵してお
けば、p−フェニレンジアミンを処理液中に含有させる
必要がなくなり、また、p−フェニレンジアミンもしく
はそれと同様の働きをする化合物とカプラーとのカップ
リングで色素生成させるために受像シートが必要なくな
る。p−フェニレンジアミンもしくはそれと同様の働き
をする化合物を感光材料中に含有させる方法として、例
えば、芳香族第一級アミンまたはその前駆体を感光材料
中に内蔵する方法があり、内蔵可能な芳香族第一級アミ
ン現像主薬またはその前駆体としては、米国特許第25
07114号、同第3764328号、同第40604
18号、特開昭56−6235号、同58−19203
1号等に記載の化合物が挙げられる。しかし、これらの
芳香族一級アミン及びその前駆体は不安定なため、未処
理の感光材料の長期保存または発色現像時にステインが
発生するという欠点を有している。いまひとつの有効な
手段は、例えば、欧州特許第0545491A1号、同
第565165A1号、特開平8−286340号、同
8−292529号、同8−297354号、同8−3
20542号、同8−292531号等に記載のヒドラ
ジン化合物、米国特許第4021240号、リサーチデ
ィスクロージャー15108(1976年11月)等に
記載のスルホンアミドフェノール化合物等の安定な発色
用還元剤を親水性コロイド層中に内蔵する方法が挙げら
れる。これらの発色用還元剤は上記したような芳香族第
一級アミンやその前駆体に比べ保存安定性に優れ、ま
た、高い発色性を有するという特徴を持っている。As one of the methods for solving the above problems, a method of incorporating p-phenylenediamine or a compound having a similar function into the light-sensitive material can be considered. If p-phenylenediamine or a compound having a similar function is incorporated in the light-sensitive material, it is not necessary to include p-phenylenediamine in the processing solution, and p-phenylenediamine or a compound having the same function can be obtained. No image receiving sheet is required to form a dye by coupling the compound with the coupler. As a method of incorporating p-phenylenediamine or a compound having a similar function into the photosensitive material, for example, there is a method of incorporating an aromatic primary amine or a precursor thereof into the photosensitive material. As the primary amine developing agent or its precursor, US Pat.
No. 07114, No. 3764328, No. 40604
No. 18, JP-A-56-6235 and JP-A-58-19203
No. 1 and the like. However, since these aromatic primary amines and precursors thereof are unstable, they have a drawback that stain is generated during long-term storage or color development of unprocessed photosensitive materials. Another effective means is described in, for example, European Patent Nos. 0545491A1, 565165A1, JP-A-8-286340, JP-A-8-292529, JP-A-8-297354, and 8-3.
Hydrazine compounds described in US Pat. A method of embedding in a layer is mentioned. These color-forming reducing agents are characterized by having excellent storage stability and high color-forming properties as compared with the above-mentioned aromatic primary amines and precursors thereof.
【0004】上記のような発色用還元剤を感光材料中に
含有した化合物を発色させる場合にはアルカリ液が必要
となる。少量のアルカリ液を感光材料の表面上に供給す
る方法として特許第2612205号に記載のスリット
中を通す方法がまず考えられる。しかしながらこのよう
な方法ではアルカリ液は多量に使用しなければならな
い。これに対してローラーコート、フェルト布、スポン
ジコート等でアルカリ液を感光材料の表面に薄層状に塗
りつける方法を用いれば使用するアルカリ液量を大幅に
削減することができる。しかしながら、これらの方法で
は塗布部分が感光材料から流出する物質によって徐々に
汚染されていき、処理変動などの原因となり得るため塗
布装置の塗布部分と感光材料は非接触であることが必要
である。また、塗り付けにムラが生じると発色もムラに
なってしまうために、塗り付け処理をする場合には処理
液を均一に塗り付けることが必要である。非接触で感光
材料表面上に処理液を均一に塗り付ける方法としては、
特開平9−17927号、特開平6−324455号に
記載の細いノズルから噴霧し、処理液を吹き付ける方法
がある。感光材料と非接触で、処理液を均一に塗り付け
る方法として、特に特開平9−179272号に記載さ
れた処理液塗布装置を用いた処理液の塗り付けが有効で
ある。しかしながら、このような処理液塗布装置を用い
て処理液を塗設する場合、均一に塗り付きうるものの塗
り付け後の処理液の偏りによって、特に塗り付け始め部
分の発色濃度が低下するという問題点が生じた。When a compound containing the above-described color-forming reducing agent in a light-sensitive material is colored, an alkali solution is required. As a method of supplying a small amount of an alkaline solution onto the surface of a photosensitive material, a method of passing through a slit described in Japanese Patent No. 2612205 can be considered first. However, in such a method, a large amount of alkaline solution must be used. On the other hand, if a method of applying an alkaline solution to the surface of the photosensitive material in a thin layer using a roller coat, a felt cloth, a sponge coat, or the like is used, the amount of the alkaline solution used can be greatly reduced. However, in these methods, the coated portion is gradually contaminated by the substance flowing out of the photosensitive material, which may cause a process variation or the like. Therefore, the coated portion of the coating apparatus and the photosensitive material need to be in non-contact. In addition, if unevenness occurs in the application, the coloration also becomes uneven. Therefore, when performing the application processing, it is necessary to apply the processing liquid uniformly. As a method of applying the processing solution uniformly on the photosensitive material surface without contact,
There is a method described in JP-A-9-17927 and JP-A-6-324455, in which a processing liquid is sprayed from a thin nozzle and sprayed. As a method of uniformly applying a processing solution without contacting the photosensitive material, it is particularly effective to apply a processing solution using a processing solution application apparatus described in JP-A-9-179272. However, when the processing liquid is applied using such a processing liquid application apparatus, the unevenness of the processing liquid after application, although it can be applied evenly, causes a problem that the color density particularly at the start of application decreases. Occurred.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は発色
性、保存安定性、色像堅牢性や色相の良好で簡易迅速処
理に対応できるハロゲン化銀カラー写真感光材料を用
い、少量の処理液を均一に塗り付けることが可能なノズ
ル噴射法によって塗布した処理液で現像処理すること
で、低廃液量と処理変動減をともに可能とするカラー画
像形成方法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to use a silver halide color photographic light-sensitive material which has good color developability, storage stability, color image fastness and hue and can cope with simple and rapid processing, and uses a small amount of processing solution. The purpose of the present invention is to provide a color image forming method that enables both a low waste liquid amount and a reduction in processing fluctuations by performing development processing with a processing liquid applied by a nozzle jetting method that can uniformly apply.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の方
法により達成されることを見出した。 (1)支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有する
ハロゲン化銀カラー写真感光材料に、実質的に発色現像
主薬を含有しないアルカリ性処理液を用い発色現像処理
するカラー画像形成方法において、該写真構成層のい
ずれかに少なくとも一種の色素形成カプラーと少なくと
も一種の下記一般式(I)または一般式(II)で表され
る発色用還元剤を含有し、該アルカリ性処理液の該感
光材料上への供給が、該アルカリ性処理液を複数のノズ
ル孔から噴射して、該感光材料に付着された相互に隣接
する3つの液滴が、相互間内に隙間を有さない状態で該
アルカリ性処理液を塗布して行われ、該アルカリ性処
理液の表面張力が15dyn/cm以上、60dyn/
cm以下であり、該アルカリ性処理液の液滴と該感光材
料との接触角が10°以上、30°以下であることを特
徴とするカラー画像形成方法。It has been found that the object of the present invention is achieved by the following method. (1) A color image forming method in which a silver halide color photographic light-sensitive material having at least one photographic constituent layer on a support is subjected to color development processing using an alkaline processing solution substantially free of a color developing agent. Any of the constituent layers contains at least one kind of dye-forming coupler and at least one kind of a color-forming reducing agent represented by the following general formula (I) or (II), and the alkaline processing liquid is applied onto the photosensitive material. Supplies the alkaline processing liquid from a plurality of nozzle holes, and the three adjacent droplets attached to the photosensitive material are separated from each other in a state where there is no gap between them. And the surface tension of the alkaline treatment liquid is 15 dyn / cm or more and 60 dyn / cm or more.
cm or less, and a contact angle between the droplet of the alkaline processing liquid and the photosensitive material is 10 ° or more and 30 ° or less.
【0007】[0007]
【化7】 Embedded image
【0008】[0008]
【化8】 Embedded image
【0009】式中、R1 〜R4 は水素原子または置換基
を表す。A1 、A2 は水酸基または置換アミノ基を表
す。Xは-CO-、-SO-、-SO2-、 -PO<から選ばれる2価以上
の連結基を表す。Y1K、Z1Kは窒素原子または-CR5=
(R5は水素原子または置換基)で表される基を表す。k
は0以上の整数を表す。Pはプロトン解離性基またはカ
チオンとなりうる基を表し、本化合物と露光されたハロ
ゲン化銀との酸化還元反応により生じた酸化体が、カプ
ラーとカップリングした後、Pからの電子移動を引き金
とするN−X結合の切断およびカプラーのカップリング
部位に結合した置換基の脱離により色素を形成する機能
を有する。Yは2価の連結基を表す。Zは求核性基であ
って、本化合物が酸化された際に、Xに攻撃可能な基を
表す。nはXが-PO <のとき1又は2であり、Xがその
他の基であるとき1である。R1 とR2 、R3 とR4 お
よびY1K、Z1K、Pから任意に選ばれる2つ以上の原子
または置換基間でそれぞれ独立に互いに結合して環を形
成しても良い。 (2)支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有する
ハロゲン化銀カラー写真感光材料に、実質的に発色現像
主薬を含有しないアルカリ性処理液を用い発色現像処理
するカラー画像形成方法において、該写真構成層のい
ずれかに少なくとも一種の色素形成カプラーと少なくと
も一種の下記一般式(III)で表される発色用還元剤を含
有し、該アルカリ性処理液の該感光材料上への供給
が、該アルカリ性処理液を複数のノズル孔から噴射し
て、該感光材料に付着された相互に隣接する3つの液滴
が、相互間内に隙間を有さない状態で該アルカリ性処理
液を塗布して行われ、該アルカリ性処理液の表面張力
が15dyn/cm以上、60dyn/cm以下であ
り、該アルカリ性処理液の液滴と該感光材料との接触角
が10°以上、30°以下であることを特徴とするカラ
ー画像形成方法。In the formula, R 1 to R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. A 1 and A 2 represent a hydroxyl group or a substituted amino group. X is -CO -, - SO -, - SO 2 -, it represents a divalent or higher linking group selected from -PO <. Y 1K and Z 1K represent a nitrogen atom or —CR 5 =
(R 5 is a hydrogen atom or a substituent). k
Represents an integer of 0 or more. P represents a proton-dissociable group or a group that can be a cation, and an oxidant generated by a redox reaction between the present compound and exposed silver halide is coupled with a coupler, and then the electron transfer from P is triggered. Has the function of forming a dye by cleavage of the NX bond and elimination of the substituent bonded to the coupling site of the coupler. Y represents a divalent linking group. Z is a nucleophilic group and represents a group capable of attacking X when the present compound is oxidized. n is 1 or 2 when X is -PO <, and 1 when X is another group. Two or more atoms or substituents arbitrarily selected from R 1 and R 2 , R 3 and R 4, and Y 1K , Z 1K and P may be independently bonded to each other to form a ring. (2) In a color image forming method, a silver halide color photographic light-sensitive material having at least one photographic constituent layer on a support is subjected to color development processing using an alkaline processing solution substantially free of a color developing agent. Any of the constituent layers contains at least one dye-forming coupler and at least one color-forming reducing agent represented by the following general formula (III). The processing is performed by ejecting the processing liquid from a plurality of nozzle holes, and applying the alkaline processing liquid in a state where there are no gaps between the three mutually adjacent droplets attached to the photosensitive material. The surface tension of the alkaline processing liquid is 15 dyn / cm or more and 60 dyn / cm or less, and the contact angle between the droplet of the alkaline processing liquid and the photosensitive material is 10 ° or more and 30 ° or less. Color image forming method comprising and.
【0010】[0010]
【化9】 Embedded image
【0011】式中、R11は置換基を有してもよいアリー
ル基またはヘテロ環基であり、R12は置換基を有しても
よいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基またはヘテロ環基である。X0 は−SO2 −、−C
O−、−COCO−、−CO−O−、−CONH
(R13)−、−COCO−O−、−COCO−N
(R13)−または−SO2 −NH(R13)−である。こ
こでR13は水素原子またはR12で述べた基である。 (3)一般式(III)で表される化合物が一般式(IV)ま
たは(V)で表されることを特徴とする(2)項に記載
のカラー画像形成方法。In the formula, R 11 is an optionally substituted aryl or heterocyclic group, and R 12 is an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic group. It is a ring group. X 0 is -SO 2 -, - C
O-, -COCO-, -CO-O-, -CONH
(R 13 )-, -COCO-O-, -COCO-N
(R 13 ) — or —SO 2 —NH (R 13 ) —. Here, R 13 is a hydrogen atom or a group described for R 12 . (3) The color image forming method according to item (2), wherein the compound represented by the general formula (III) is represented by the general formula (IV) or (V).
【0012】[0012]
【化10】 Embedded image
【0013】式中、Z1 はアシル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、またはアリールオキシカルボ
ニル基を表し、Z2 はカルバモイル基、アルコキシカル
ボニル基、またはアリールオキシカルボニル基を表し、
X1 、X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子または置換基
を表す。但し、X1 、X3 、X5 のハメットの置換基定
数σp値とX2 、X4 のハメットの置換基定数σm値の
和は0.08以上、3.80以下である。R3aはヘテロ
環基を表す。 (4)一般式(IV)および(V)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(VI)および(VII)で表されることを特徴
とする(3)項に記載のカラー画像形成方法。Wherein Z 1 is an acyl group, a carbamoyl group,
Represents an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, Z 2 represents a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a hydrogen atom or a substituent. However, the sum of the Hammett's substituent constant σp value of X 1 , X 3 and X 5 and the Hammett's substituent constant σm value of X 2 and X 4 is 0.08 or more and 3.80 or less. R 3a represents a heterocyclic group. (4) The color image forming method according to item (3), wherein the compounds represented by formulas (IV) and (V) are represented by formulas (VI) and (VII), respectively.
【0014】[0014]
【化11】 Embedded image
【0015】式中、R1a、R2aは水素原子または置換基
を表し、X1 、X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子また
は置換基を表す。但し、X1 、X3 、X5 のハメットの
置換基定数σp値とX2 、X4 のハメットの置換基定数
σmの和は0.80以上、3.80以下である。R3aは
ヘテロ環基を表す。 (5)一般式(VI) および(VII)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(VIII) および(IX)で表されることを特
徴とする(4)項に記載のカラー画像形成方法。In the formula, R 1a and R 2a represent a hydrogen atom or a substituent, and X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a hydrogen atom or a substituent. However, the sum of the Hammett's substituent constant σp value of X 1 , X 3 and X 5 and the Hammett's substituent constant σm of X 2 and X 4 is 0.80 or more and 3.80 or less. R 3a represents a heterocyclic group. (5) The method according to (4), wherein the compounds represented by formulas (VI) and (VII) are represented by formulas (VIII) and (IX), respectively.
【0016】[0016]
【化12】 Embedded image
【0017】式中、R4a、R5aは水素原子または置換基
を表し、X6 、X7 、X8 、X9 、X10は水素原子、シ
アノ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アシル基、トリフルオロメチ
ル基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アシルチオ基、
またはヘテロ環基を表す。但し、X6 、X8 、X10のハ
メットの置換基定数σp値とX7 、X9 のハメットの置
換基定数σm値の和は1.20以上、3.80以下であ
る。Q1 はCとともに含窒素の5〜8員環のヘテロ環を
形成するのに必要な非金属原子群を表す。 (6)アルカリ性処理液を感光材料に供給するために、
塗布装置として、アルカリ性処理液を噴射させて感光材
料にアルカリ性処理液を塗布する複数のノズル孔を有
し、これらのノズル孔より噴射される一滴のアルカリ性
処理液の体積をVとし、アルカリ性処理液が感光材料上
に付着された際の接触角をθとしたとき、In the formula, R 4a and R 5a represent a hydrogen atom or a substituent, and X 6 , X 7 , X 8 , X 9 and X 10 represent a hydrogen atom, a cyano group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, Carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, trifluoromethyl group, halogen atom, acyloxy group, acylthio group,
Or a heterocyclic group. However, the sum of the Hammett's substituent constant σp value of X 6 , X 8 and X 10 and the Hammett's substituent constant σm value of X 7 and X 9 is 1.20 or more and 3.80 or less. Q 1 represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a nitrogen-containing 5- to 8-membered heterocyclic ring together with C. (6) To supply an alkaline processing solution to the photosensitive material,
The coating apparatus has a plurality of nozzle holes for spraying the alkaline processing liquid onto the photosensitive material by spraying the alkaline processing liquid, and the volume of one drop of the alkaline processing liquid ejected from these nozzle holes is defined as V, When the contact angle when is attached to the photosensitive material is θ,
【0018】[0018]
【数2】 (Equation 2)
【0019】の式で示される感光材料上に付着した一滴
のアルカリ性処理液の直径Dに基づき算出される隣接し
たノズル孔相互間のピッチPを(√3)・D/2以下の
値とした塗布装置を用いることを特徴とした(1)、
(2)、(3)、(4)または(5)項に記載のカラー
画像形成方法。 (7)該アルカリ性処理液と該塗布装置のノズル表面と
の接触角が40°以上であることを特徴とする(1)、
(2)、(3)、(4)、(5)または(6)項に記載
のカラー画像形成方法。 (8)感光材料中に塗設されるアルカリ性処理液の液膜
の厚さが50μm以下であることを特徴とする(1)、
(2)、(3)、(4)、(5)、(6)または(7)
項に記載のカラー画像形成方法。 (9)(1)、(2)、(3)、(4)、(5)または
(6)項に記載の感光材料が全ての塗布層の銀量を合計
した塗布銀量が銀換算で0.003〜0.3g/m2 の
ハロゲン化銀を含有する感光材料であり、実質的に発色
用現像主薬を含有しないアルカリ性処理液が過酸化水素
を含有することを特徴とする(1)、(2)、(3)、
(4)、(5)、(6)、(7)または(8)項に記載
のカラー画像形成方法。 (10)1画素当たりの露光時間が10-8〜10-4秒で
かつ隣接するラスター間の重なりがある走査露光で露光
することを特徴とする(1)、(2)、(3)、
(4)、(5)、(6)、(7)、(8)または(9)
項に記載のカラー画像形成方法。The pitch P between adjacent nozzle holes calculated on the basis of the diameter D of one drop of the alkaline processing liquid adhered on the photosensitive material represented by the following formula is set to a value of (√3) · D / 2 or less. (1) characterized in that a coating device is used.
(2), (3), (4) or (5). (7) The contact angle between the alkaline processing liquid and the nozzle surface of the coating device is 40 ° or more (1).
(2), (3), (4), (5) or (6). (8) The thickness of the liquid film of the alkaline processing liquid applied in the photosensitive material is 50 μm or less (1).
(2), (3), (4), (5), (6) or (7)
Item. (9) The light-sensitive material described in (1), (2), (3), (4), (5) or (6) is obtained by adding the silver amount of all the coating layers to the coated silver amount in terms of silver. (1) A photosensitive material containing 0.003 to 0.3 g / m < 2 > of silver halide, wherein the alkaline processing solution containing substantially no color developing agent contains hydrogen peroxide. , (2), (3),
(4), (5), (6), (7) or (8). (10) Exposure is performed by scanning exposure in which an exposure time per pixel is 10 -8 to 10 -4 seconds and there is an overlap between adjacent rasters (1), (2), (3),
(4), (5), (6), (7), (8) or (9)
Item.
【0020】本発明は、少液量を均一に感光材料表面上
に非接触で塗設することが可能な処理液塗布装置を用い
た場合に特有に起こる「塗り付けた処理液の偏り」によ
る、塗り付け始め部分の発色濃度の低下を改善すること
を目的とする。本発明の目的は感光材料とアルカリ性処
理液との接触角が小さいだけでは達成できず、また、処
理液の表面張力が低いだけでも達成できない。感光材料
とアルカリ性処理液との接触角が本発明の範囲内であ
り、かつ処理液の表面張力が本発明の範囲内である場合
に効果的に達成できる。本発明によってはじめて 1.処理機の小型化が可能となる。 2.環境に与える影響の少ない処理液で処理ができる。 3.廃液量が少ない。 4.むらの無い均一な画像が形成できる。 という画像形成方法が提供できる。The present invention is based on the "deviation of the applied processing solution" which is peculiar to the use of a processing solution application apparatus which can apply a small amount of the solution uniformly on the surface of the photosensitive material in a non-contact manner. It is an object of the present invention to improve the decrease in the color density at the start of application. The object of the present invention cannot be achieved only by a small contact angle between the photosensitive material and the alkaline processing solution, and cannot be achieved only by a low surface tension of the processing solution. This can be effectively achieved when the contact angle between the photosensitive material and the alkaline processing solution is within the range of the present invention, and the surface tension of the processing solution is within the range of the present invention. First time according to the present invention The processing machine can be reduced in size. 2. Processing can be performed with a processing liquid that has little effect on the environment. 3. The amount of waste liquid is small. 4. A uniform image without unevenness can be formed. Image forming method can be provided.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に述べ
る。一般式(I)及び一般式(II)で表される化合物に
ついて詳しく述べる。以下に述べるアルキル基(アルキ
ル残基)、アリール基(アリール残基)、アミノ基(ア
ミノ残基)等は、本明細書において、更に置換基が置換
されたものを含む意味で用いられている。一般式(I)
及び一般式(II)で表される化合物は、アミノフェノー
ル誘導体ならびにフェニレンジアミン誘導体に分類され
る現像主薬を表す。式中、R1 〜R4 は水素原子または
置換基を表すが、その置換基の例としては、例えばハロ
ゲン原子(例えばクロル基、ブロム基)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、t−ブチル基)、アリール基(たとえばフェニ
ル基、トリル基、キシリル基)、カルボンアミド基(例
えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチロ
イルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、スルホンアミド
基(例えばメタンスルホニルアミノ基、エタンスルホニ
ルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基、トルエンス
ルホニルアミノ基)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基)、アリールオキシ基(例えばフェノキ
シ基)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチル
チオ基、ブチルチオ基)、アリールチオ基(例えばフェ
ニルチオ基、トリルチオ基)、カルバモイル基(例えば
メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジブチル
カルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基、モルホリ
ノカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、メチルフ
ェニルカルバモイル基、エチルフェニルカルバモイル
基、ベンジルフェニルカルバモイル基)、スルファモイ
ル基(例えばメチルスルファモイル基、ジメチルスルフ
ァモイル基、エチルスルファモイル基、ジエチルスルフ
ァモイル基、ジブチルスルファモイル基、ピペリジノス
ルファモイル基、モルホリノスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基、メチルフェニルスルファモイル
基、エチルフェニルスルファモイル基、ベンジルフェニ
ルスルファモイル基)、シアノ基、スルホニル基(例え
ばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、フェニル
スルホニル基、4−クロロフェニルスルホニル基、p−
トルエンスルホニル基)、アルコキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェノキシカルボニル基)、アシル基(例えば
アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ベンゾイ
ル基、アルキルベンゾイル基)、ウレイド基(例えばメ
チルアミノカルボンアミド基、ジエチルアミノカルボン
アミド基)、ウレタン基(例えばメトキシカルボンアミ
ド基、ブトキシカルボンアミド基)、またはアシルオキ
シ基(例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチロイルオキシ基)等を表す。R1 〜R4 の中
で、R2 および/またはR4 は好ましくは水素原子であ
る。また、A1 又はA2 が水酸基の場合、R1 〜R4 の
ハメット定数σp値の合計は、0以上となることが好ま
しく、A1 又はA2 が置換アミノ基の場合はR1 〜R4
のハメット定数σp値の合計は、0以下となることが好
ましい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The compounds represented by formulas (I) and (II) will be described in detail. An alkyl group (alkyl residue), an aryl group (aryl residue), an amino group (amino residue), and the like described below are used in the present specification to include those in which a substituent is further substituted. . General formula (I)
And a compound represented by the general formula (II) represents a developing agent classified into an aminophenol derivative and a phenylenediamine derivative. In the formula, R 1 to R 4 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include, for example, a halogen atom (eg, a chloro group, a bromo group) and an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group). , N-butyl group, t-butyl group), aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group), carbonamido group (for example, acetylamino group, propionylamino group, butyroylamino group, benzoylamino group), sulfone Amido group (eg, methanesulfonylamino group, ethanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, toluenesulfonylamino group), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group), aryloxy group (eg, phenoxy group), alkylthio group (eg, methylthio group) Group, ethylthio group, butylthio group), arylthio group For example, phenylthio group, tolylthio group), carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, dibutylcarbamoyl group, piperidinocarbamoyl group, morpholinocarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, methylphenylcarbamoyl group , Ethylphenylcarbamoyl group, benzylphenylcarbamoyl group), sulfamoyl group (for example, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group, diethylsulfamoyl group, dibutylsulfamoyl group, piperidinosulfa Moyl group, morpholinosulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, methylphenylsulfamoyl group, ethylphenylsulfamoyl group, benzylphenylsulfa Moyl group), cyano group, sulfonyl group (for example, methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, phenylsulfonyl group, 4-chlorophenylsulfonyl group, p-
Toluenesulfonyl group), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, butyroyl group, benzoyl group, An alkylbenzoyl group), a ureido group (eg, a methylaminocarbonamide group, a diethylaminocarbonamide group), a urethane group (eg, a methoxycarbonamide group, a butoxycarbonamide group), or an acyloxy group (eg, an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyroyloxy group) Group) and the like. Among R 1 to R 4 , R 2 and / or R 4 are preferably a hydrogen atom. When A 1 or A 2 is a hydroxyl group, the sum of Hammett constant σp values of R 1 to R 4 is preferably 0 or more, and when A 1 or A 2 is a substituted amino group, R 1 to R 4 Four
Is preferably 0 or less.
【0022】A1 、A2 は水酸基または置換アミノ基
(例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル
ヒドロキシエチルアミノ基)を表し、A2 は水酸基が好
ましい。Xは-CO-,-SO-,-SO2-,-PO <から選ばれる2価
以上の連結基を表す。Y1k、Z1kは窒素原子または-CR5
=(R5は水素原子または置換基)で表される基を表す。
ここでR5の例としては、R1〜R4の置換基として挙げたも
の等を同様に挙げることができる。Pはプロトン解離性
基またはカチオンとなりうる基を表し、本化合物と露光
されたハロゲン化銀との酸化還元反応により生じた酸化
体が、カプラーとカップリングした後、Pからの電子移
動を引き金とするN−X結合の切断およびカプラーのカ
ップリング部位に結合した置換基の脱離により色素を形
成する機能を有する。具体的には、カップリング反応
後、P上のプロトン解離したアニオンまたはカチオンと
なりうる原子の非共有電子対から、カップリング部位に
向かって電子移動が起こり、X、Y1k間(k=0の時は
X:P間)に2重結合を生じることによって、N−X結
合の切断を生じせしめ、さらにカプラーのカップリング
部位とN原子の間に2重結合が生じるのと同時にカプラ
ー側の置換基がアニオンとして離脱する。この一連の電
子移動機構によって、色素の生成と置換基の離脱が起こ
る。P中のこのような機能を有する原子としては、プロ
トン解離性原子として酸素原子、硫黄原子、セレン原子
および電子吸引性基が置換した窒素原子や炭素原子等を
挙げることができる。また、カチオンになりうる原子と
しては窒素原子、硫黄原子等を挙げることができる。A 1 and A 2 represent a hydroxyl group or a substituted amino group (for example, a dimethylamino group, a diethylamino group, an ethylhydroxyethylamino group), and A 2 is preferably a hydroxyl group. X is -CO -, - SO -, - SO 2 -, - represents a bivalent or more linking group selected from the PO <. Y 1k and Z 1k represent a nitrogen atom or —CR 5
= Represents a group represented by (R 5 is a hydrogen atom or a substituent).
Here, as examples of R 5, mention may be made similarly like those exemplified as the substituents of R 1 to R 4. P represents a proton-dissociable group or a group that can be a cation, and an oxidant generated by a redox reaction between the present compound and exposed silver halide is coupled with a coupler, and then the electron transfer from P is triggered. Has the function of forming a dye by cleavage of the NX bond and elimination of the substituent bonded to the coupling site of the coupler. Specifically, after the coupling reaction, electron transfer occurs from an unshared electron pair of an atom that can be a proton-dissociated anion or cation on P toward the coupling site, and the electron transfer between X and Y 1k (where k = 0) In some cases, a double bond is generated between X and P) to cause cleavage of the NX bond, and furthermore, a double bond is generated between the coupling site of the coupler and the N atom, and at the same time, substitution on the coupler side is performed. The group leaves as an anion. This series of electron transfer mechanisms results in the formation of a dye and the elimination of a substituent. Examples of the atom having such a function in P include an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a nitrogen atom or a carbon atom substituted by an electron-withdrawing group as the proton-dissociating atom. In addition, examples of atoms that can be cations include a nitrogen atom and a sulfur atom.
【0023】Pは、上記の原子に結合した一群の置換基
であり、この原子に結合する置換基の例としては、例え
ばアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、t−ブチル基)、アリール基(た
とえばフェニル基、トリル基、キシリル基)、カルボン
アミド基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミ
ノ基、ブチロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、ス
ルホンアミド基(例えばメタンスルホニルアミノ基、エ
タンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ
基、トルエンスルホニルアミノ基)、アルコキシ基(例
えばメトキシ基、エトキシ基)、アリールオキシ基(例
えばフェノキシ基)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、ブチルチオ基)、アリールチオ基
(例えばフェニルチオ基、トリルチオ基)、カルバモイ
ル基(例えばメチルカルバモイル基、ジメチルカルバモ
イル基、エチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル
基、ジブチルカルバモイル基、ピペリジルカルバモイル
基、モルホリルカルバモイル基、フェニルカルバモイル
基、メチルフェニルカルバモイル基、エチルフェニルカ
ルバモイル基、ベンジルフェニルカルバモイル基)、ス
ルファモイル基(例えばメチルスルファモイル基、ジメ
チルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ジエ
チルスルファモイル基、ジブチルスルファモイル基、ピ
ペリジルスルファモイル基、モルホリルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基、メチルフェニルスルフ
ァモイル基、エチルフェニルスルファモイル基、ベンジ
ルフェニルスルファモイル基)、シアノ基、スルホニル
基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、
フェニルスルホニル基、4−クロロフェニルスルホニル
基、p−トルエンスルホニル基)、アルコキシカルボニ
ル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基)、アリールオキシカルボ
ニル基(例えばフェノキシカルボニル基)、アシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、
ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基)、またはアシル
オキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキ
シ基、ブチロイルオキシ基)、ウレイド基、ウレタン基
等を表す。中でも好ましくは、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基である。P is a group of substituents bonded to the above atom. Examples of the substituent bonded to this atom include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, t-butyl group), aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group), carbonamido group (eg, acetylamino group, propionylamino group, butyroylamino group, benzoylamino group), sulfonamide group (eg, methanesulfonyl group) Amino group, ethanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, toluenesulfonylamino group), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group), aryloxy group (eg, phenoxy group), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, butylthio group) Group), an arylthio group (for example, phenylthio) Group, tolylthio group), carbamoyl group (for example, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, dibutylcarbamoyl group, piperidylcarbamoyl group, morpholylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, methylphenylcarbamoyl group, ethylphenyl Carbamoyl group, benzylphenylcarbamoyl group), sulfamoyl group (for example, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group, diethylsulfamoyl group, dibutylsulfamoyl group, piperidylsulfamoyl group, mol Holylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, methylphenylsulfamoyl, ethylphenylsulfamoyl, benzylphenylsulfamoyl), shea Group, a sulfonyl group (e.g., methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group,
Phenylsulfonyl group, 4-chlorophenylsulfonyl group, p-toluenesulfonyl group), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group), acyl group (for example, Acetyl group, propionyl group, butyroyl group,
Represents a benzoyl group, an alkylbenzoyl group), an acyloxy group (eg, an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyroyloxy group), a ureido group, a urethane group, or the like. Among them, preferred are an alkyl group, an aryl group and a heterocyclic group.
【0024】Zは、求核性基を表し、本化合物が露光さ
れたハロゲン化銀を還元した後、生じる酸化体が、カプ
ラーとカップリングした後、該求核性基がXの炭素原
子、硫黄原子、またはリン原子を求核攻撃することによ
り色素を形成する機能を有する基を表す。この求核性基
において、求核性を発現するのは、有機化学の分野で一
般的なように、非共有電子対を有する原子(例えば窒素
原子、リン原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子等)
およびアニオン種(例えば窒素アニオン、酸素アニオ
ン、炭素アニオン、硫黄アニオン)である。この求核性
基の例としては、下記具体例に挙げられる部分構造また
はその解離体を有する基が挙げられる。Z represents a nucleophilic group, and after the present compound reduces the exposed silver halide, the resulting oxidized product is coupled with a coupler, and the nucleophilic group is converted to a carbon atom of X; A group having a function of forming a dye by nucleophilic attack on a sulfur atom or a phosphorus atom. In this nucleophilic group, nucleophilicity is expressed by an atom having an unshared electron pair (eg, a nitrogen atom, a phosphorus atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom), as is common in the field of organic chemistry. etc)
And anionic species (eg, nitrogen anion, oxygen anion, carbon anion, sulfur anion). Examples of the nucleophilic group include a group having a partial structure or a dissociated form thereof described in the following specific examples.
【0025】[0025]
【化13】 Embedded image
【0026】Zの具体例としては上記の基の片端に水素
原子又は先のPの置換基として挙げたものが結合したも
のが挙げられる。Yは2価の連結基を表す。この連結基
とは、Yを介してXに都合良く分子内求核攻撃できるよ
うな位置にZを連結する基を表す。実際には、求核性基
が、Xを求核攻撃する際の遷移状態が、原子の数で5な
いし6員環を構成できるように原子が連結されているこ
とが好ましい。このような連結基Yとして好ましいもの
は、例えば1,2-または1,3-アルキレン基、1,2-シクロア
ルキレン基、2-ビニレン基、1,2-アリーレン基、1,8-ナ
フチレン基等が挙げられる。kは0〜5の整数が好まし
く、更に好ましくは0〜2の整数である。R1 とR2 、
R3 とR4 およびY1k、Z1k、Pから任意に選ばれる2
つ以上の原子または置換基間でそれぞれ独立に互いに結
合して環を形成しても良い。次に、一般式(1)及び一
般式(2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明
の化合物は、これによって限定されるものではない。Specific examples of Z include those in which a hydrogen atom or a substituent described above for P is bonded to one end of the above group. Y represents a divalent linking group. The term "linking group" refers to a group that links Z to a position that allows convenient nucleophilic attack on X via Y. In practice, it is preferable that the atoms are linked so that the transition state when the nucleophilic group makes a nucleophilic attack on X can constitute a 5- or 6-membered ring by the number of atoms. Preferred as such a linking group Y are, for example, a 1,2- or 1,3-alkylene group, a 1,2-cycloalkylene group, a 2-vinylene group, a 1,2-arylene group, a 1,8-naphthylene group And the like. k is preferably an integer of 0 to 5, and more preferably an integer of 0 to 2. R 1 and R 2 ,
R 3 and R 4 and 2 arbitrarily selected from Y 1k , Z 1k and P
One or more atoms or substituents may be independently bonded to each other to form a ring. Next, specific examples of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) are shown, but the compounds of the present invention are not limited thereto.
【0027】[0027]
【化14】 Embedded image
【0028】[0028]
【化15】 Embedded image
【0029】[0029]
【化16】 Embedded image
【0030】[0030]
【化17】 Embedded image
【0031】[0031]
【化18】 Embedded image
【0032】以下に一般式(III)で表される発色用還元
剤の構造について詳しく説明する。一般式(III)におい
て、R11は置換基を有してもよいアリール基またはヘテ
ロ環基を示す。R11のアリール基としては、好ましくは
炭素数6ないし14のもので、例えばフェニルやナフチ
ルが挙げられる。R11のヘテロ環基としては、好ましく
は窒素、酸素、硫黄、セレンのうち少なくとも一つを含
有する飽和または不飽和の5員環、6員環または7員環
のものである。これらにベンゼン環またはヘテロ環が縮
合していてもよい。R11のヘテロ環の例としては、フラ
ニル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾ
リル、トリアゾリル、ピロリジニル、ベンズオキサゾリ
ル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリダジル、ピリミ
ジニル、ピラジニル、トリアジニル、キノリニル、イソ
キノリニル、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリ
ニル、プリニル、プテリジニル、アゼピニル、ベンゾオ
キセピニル等が挙げられる。Hereinafter, the structure of the color-forming reducing agent represented by the general formula (III) will be described in detail. In the general formula (III), R 11 represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. The aryl group of R 11, preferably that of 6 to 14 carbon atoms include, for example, phenyl or naphthyl. The heterocyclic group represented by R 11 is preferably a saturated or unsaturated 5-, 6- or 7-membered ring containing at least one of nitrogen, oxygen, sulfur and selenium. These may be condensed with a benzene ring or a hetero ring. Examples of the hetero ring of R 11 include furanyl, thienyl, oxazolyl, thiazolyl, imidazolyl, triazolyl, pyrrolidinyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, pyridyl, pyridazyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazinyl, quinolinyl, isoquinolinyl, phthalazinyl, quinoxalinyl, and quinazolinyl. , Purinyl, pteridinyl, azepinyl, benzoxepinyl and the like.
【0033】R11の有する置換基としては、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、ア
リールスルホニルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アミド基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレ
イド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルカルバモイル基、
カルバモイルカルバモイル基、スルホニルカルバモイル
基、スルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホニル
基、アリールオキシスルホニル基、スルファモイル基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシル基、メルカプ
ト基、イミド基、アゾ基等が挙げられる。R12は置換基
を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Examples of the substituent for R 11 include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group and a heterocyclic thio group. , Acyloxy group, acylthio group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, amino group, alkylamino group, arylamino group, amide group, alkoxycarbonylamino group An aryloxycarbonylamino group, a ureido group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, acylcarbamoyl group,
Carbamoylcarbamoyl group, sulfonylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfamoyl group,
Examples include acylsulfamoyl, carbamoylsulfamoyl, halogen, nitro, cyano, carboxyl, sulfo, phosphono, hydroxyl, mercapto, imide, and azo groups. R 12 represents an optionally substituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heterocyclic group.
【0034】R12のアルキル基としては、好ましくは炭
素数1ないし16の直鎖、分岐または環状のもので、例
えばメチル、エチル、ヘキシル、ドデシル、2−オクチ
ル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロオクチル等が
挙げられる。R12のアルケニル基としては、好ましくは
炭素数2ないし16の鎖状または環状のもので、例え
ば、ビニル、1−オクテニル、シクロヘキセニルが挙げ
られる。The alkyl group for R 12 is preferably a linear, branched or cyclic C 1-16 alkyl group such as methyl, ethyl, hexyl, dodecyl, 2-octyl, t-butyl, cyclopentyl, cyclooctyl. And the like. The alkenyl group for R 12 is preferably a chain or cyclic group having 2 to 16 carbon atoms, and includes, for example, vinyl, 1-octenyl and cyclohexenyl.
【0035】R12のアルキニル基としては、好ましくは
炭素数2ないし16のもので、例えば1−ブチニル、フ
ェニルエチニル等が挙げられる。R12のアリール基及び
ヘテロ環基としては、R11で述べたものが挙げられる。
R12の有する置換基としてはR11の置換基で述べたもの
が挙げられる。X0 としては−SO2 −、−CO−、−
COCO−、−CO−O−、−CON(R13)−、−C
OCO−O−、−COCO−N(R13)−または−SO
2 −N(R13)−が挙げられる。ここでR13は水素原子
またはR12で述べた基である。これらの基の中で−CO
−、−CON(R13)−、−CO−O−が好ましく、発
色性が特に優れるという点で−CON(R13)−が特に
好ましい。一般式(III)で表わされる化合物の中でも一
般式(IV)および(V)で表わされる化合物が好まし
く、一般式(VI) および(VII)で表わされる化合物がよ
り好ましく、一般式(VIII)および(IX) が表わされる
化合物が更に好ましい。以下に一般式(IV)から(IX)
で表わされる化合物について詳しく説明する。一般式
(IV)および一般式(VにおいてZ1 はアシル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、またはアリール
オキシカルボニル基を表し、Z2 はカルバモイル基、ア
ルコキシカルボニル基または、アリールオキシカルボニ
ル基を表す。このアシル基としては、炭素数1〜50の
アシル基が好ましく、より好ましくは炭素数は2〜40
である。具体的な例としては、アセチル基、2−メチル
プロパノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−オ
クタノイル基、2−ヘキシルデカノイル基、ドデカノイ
ル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ベ
ンゾイル基、4−ドデシルオキシベンゾイル基、2−ヒ
ドロキシメチルベンゾイル基、3−(N−ヒドロキシ−
N−メチルアミノカルボニル)プロパノイル基が挙げら
れる。Z1 、Z2 がカルバモイル基である場合に関して
は一般式(VIII)〜(IX) で詳述する。アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基としては炭素数
2〜50のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基が好ましく、より好ましくは炭素数は2〜4
0である。具体的な例としては、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニ
ル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ドデシルオ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、フェ
ノキシカルボニル基、4−オクチルオキシフェノキシカ
ルボニル基、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニ
ル基、2−ドデシルオキシフェノキシカルボニル基など
が挙げられる。The alkynyl group for R 12 preferably has 2 to 16 carbon atoms, such as 1-butynyl and phenylethynyl. As the aryl group and heterocyclic group for R 12 , those described for R 11 can be mentioned.
Examples of the substituent of R 12 include those described for the substituent of R 11 . X 0 is -SO 2- , -CO-,-
COCO -, - CO-O - , - CON (R 13) -, - C
OCO-O -, - COCO- N (R 13) - or -SO
2 -N (R 13) - and the like. Here, R 13 is a hydrogen atom or a group described for R 12 . Of these groups, -CO
—, —CON (R 13 ) — and —CO—O— are preferable, and —CON (R 13 ) — is particularly preferable in that color developing properties are particularly excellent. Among the compounds represented by the general formula (III), the compounds represented by the general formulas (IV) and (V) are preferable, and the compounds represented by the general formulas (VI) and (VII) are more preferable. Compounds represented by (IX) are more preferred. The following formulas (IV) to (IX)
The compound represented by is described in detail. In the general formulas (IV) and (V, Z 1 represents an acyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group, and Z 2 represents a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group. The acyl group is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 2 to 40 carbon atoms.
It is. Specific examples include acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, n-octanoyl, 2-hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-benzoyl, Dodecyloxybenzoyl group, 2-hydroxymethylbenzoyl group, 3- (N-hydroxy-
(N-methylaminocarbonyl) propanoyl group. The case where Z 1 and Z 2 are carbamoyl groups will be described in detail by the general formulas (VIII) to (IX). The alkoxycarbonyl group and the aryloxycarbonyl group are preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms and an aryloxycarbonyl group, more preferably having 2 to 4 carbon atoms.
0. Specific examples include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples include a methylphenoxycarbonyl group and a 2-dodecyloxyphenoxycarbonyl group.
【0036】X1 、X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子
または置換基を表す。ここで置換基の例としては、炭素
数1〜50の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキ
ル基(例えば、トリフルオロメチル、メチル、エチル、
プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブ
チル、t−ブチル、t−ペンチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ル等)、炭素数2〜50の直鎖または分岐、鎖状または
環状のアルケニル基(例えばビニル、1−メチルビニ
ル、シクロヘキセン−1−イル等)、総炭素数2〜50
のアルキニル基(例えば、エチニル、1−プロピニル
等)、炭素数6〜50のアリール基(例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等)、炭素数1〜50のアシ
ルオキシ基(例えば、X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a hydrogen atom or a substituent. Here, examples of the substituent include a linear or branched, chain or cyclic alkyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, trifluoromethyl, methyl, ethyl,
Propyl, heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, etc.), linear or branched, chain or cyclic alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms (Eg, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexen-1-yl, etc.), having 2 to 50 carbon atoms in total.
Alkynyl group (e.g., ethynyl, 1-propynyl, etc.), an aryl group having 6 to 50 carbon atoms (e.g., phenyl, naphthyl, anthryl, etc.), an acyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (e.g.,
【0037】アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベ
ンゾイルオキシ等)、炭素数1〜50のカルバモイルオ
キシ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ
等)、炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホ
ルムアミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、
N−メチルホルムアミド、ベンツアミド等)、炭素数1
〜50のスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、p−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜50
のカルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイ
ル等)、炭素数0〜50のスルファモイル基(例えば、
N−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファ
モイル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)ス
ルファモイル等)、炭素数1〜50のアルコキシ基(例
えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチ
ルオキシ、t−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、2−
(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)エトキシ
等)、炭素数6〜50のアリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、4−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等)、
炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等)、Acetoxy, tetradecanoyloxy, benzoyloxy, etc., a carbamoyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (eg, N, N-dimethylcarbamoyloxy), a carboxamide group having 1 to 50 carbon atoms (eg, formamide) , N-methylacetamide, acetamide,
N-methylformamide, benzamide, etc.), having 1 carbon atom
~ 50 sulfonamide groups (e.g., methanesulfonamide, dodecanesulfonamide, benzenesulfonamide, p-toluenesulfonamide, etc.);
Carbamoyl group (for example, N-methylcarbamoyl,
N, N-diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.), a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms (for example,
N-butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-N- (4-methoxyphenyl) sulfamoyl and the like, an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms (for example, methoxy, propoxy, isopropoxy, Octyloxy, t-octyloxy, dodecyloxy, 2-
(2,4-di-t-pentylphenoxy) ethoxy and the like), an aryloxy group having 6 to 50 carbon atoms (for example, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy and the like),
An aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl, naphthoxycarbonyl, etc.),
【0038】炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基
(例えば、メトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル等)、炭素数1〜50のN−アシルスルファモイル基
(例えば、N−テトラデカノイルスルファモイル、N−
ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜50のアル
キルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘ
キシルデシルスルホニル等)、炭素数6〜50のアリー
ルスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニル
アミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、炭
素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ基(例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等)、炭素数0〜50のアミノ基(例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基等)、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基
(例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等)、炭素数1〜5
0のアルキルチオ基(例えば、An alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), an N-acylsulfamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, N-tetradecanoylsulfamoyl, N-
Benzoylsulfamoyl, etc.), an alkylsulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methanesulfonyl, octylsulfonyl, 2-methoxyethylsulfonyl, 2-hexyldecylsulfonyl, etc.), and an arylsulfonyl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, Benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), an alkoxycarbonylamino group having 2 to 50 carbon atoms (eg, ethoxycarbonylamino, etc.), and an aryloxycarbonylamino group having 7 to 50 carbon atoms (eg, Phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino, etc.), an amino group having 0 to 50 carbon atoms (eg, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino, morpholino, etc.), cyano group, nitro group, carboxyl , A hydroxy group, a sulfo group, a mercapto group, etc.), an alkylsulfinyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methanesulfinyl, octanesulfinyl, etc.), an arylsulfinyl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, benzenesulfinyl, 4-chlorophenyl) Sulfinyl, p-toluenesulfinyl, etc.), having 1 to 5 carbon atoms
An alkylthio group of 0 (eg,
【0039】メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシ
ルチオ等)、炭素数6〜50のアリールチオ基(例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1〜50
のウレイド基(例えば、3−メチルウレイド、3,3−
ジメチルウレイド、1,3−ジフェニルウレイド等)、
炭素数2〜50のヘテロ環基(ヘテロ原子としては例え
ば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上含
み、3ないし12員環の単環、縮合環で、例えば、2−
フリル、2−ピラニル、2−ピリジル、2−チエニル、
2−イミダゾリル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベ
ンツイミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾ
オキサゾリル等)、炭素数1〜50のアシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル
等)、炭素数0〜50のスルファモイルアミノ基(例え
ば、N−ブチルスルファモイルアミノ、N−フェニルス
ルファモイルアミノ等)、炭素数3〜50のシリル基
(例えば、トリメチルシリル、ジメチル−t−ブチルシ
リル、トリフェニルシリル等)、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙げられ
る。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、
その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。またX1 、X2 、X3 、X4 、X5 は互いに結合し
て縮合環を形成しても良い。縮合環としては5〜7員環
が好ましく、5〜6員環が更に好ましい。Methylthio, octylthio, cyclohexylthio, etc.), an arylthio group having 6 to 50 carbon atoms (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), 1 to 50 carbon atoms
Ureido group (eg, 3-methylureido, 3,3-
Dimethylureide, 1,3-diphenylureide, etc.),
A heterocyclic group having 2 to 50 carbon atoms (as a hetero atom, for example, a 3- to 12-membered monocyclic or condensed ring containing at least one or more of nitrogen, oxygen, sulfur and the like;
Furyl, 2-pyranyl, 2-pyridyl, 2-thienyl,
2-imidazolyl, morpholino, 2-quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl, 2-benzoxazolyl, etc.), an acyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl, etc.), carbon A sulfamoylamino group having a number of 0 to 50 (for example, N-butylsulfamoylamino, N-phenylsulfamoylamino, etc.), a silyl group having 3 to 50 carbon atoms (for example, trimethylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, Triphenylsilyl and the like, and a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like). The above substituents may further have a substituent,
Examples of the substituent include the substituents mentioned here. X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 may be bonded to each other to form a condensed ring. The condensed ring is preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5- to 6-membered ring.
【0040】置換基の炭素数に関しては50以下が好ま
しいが、より好ましくは42以下であり、最も好ましく
は34以下である。また、1以上が好ましい。一般式
(IV) におけるX1 、X2 、X3 、X4 、X5 に関して
は、X1 、X3、X5 のハメットの置換基定数σp値と
X2 、X4 のハメットの置換基定数σm値の和は0.8
0以上、3.80以下である。また、一般式(VIII)に
おけるX6 、X7 、X8 、X9 、X10は水素原子、シア
ノ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アシル基、トリフルオロメチル
基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アシルチオ基また
はヘテロ環基を表し、これらはさらに置換基を有してい
ても良く、互いに結合して縮合環を形成しても良い。こ
れらの具体例についてはX1 、X2 、X3 、X4 、X5
で述べたものと同様である。但し一般式(VIII)におい
ては、X6 、X8 、X10のハメットの置換基定数σp値
とX7 、X9のハメットの置換基定数σm値の和は1.
20以上、3.80以下であり、1.50以上、3.8
0以下が好ましく、更に好ましくは1.70以上、3.
80以下である。ここで、σp値とσm値の総和が、
0.80に満たないと発色性が十分でないなどの問題が
あり、また逆に3.80をこえると、化合物自体の合成
・入手が困難となる。The number of carbon atoms of the substituent is preferably 50 or less, more preferably 42 or less, and most preferably 34 or less. Also, one or more is preferable. Regarding X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 in the general formula (IV), Hammett's substituent constant σp value of X 1 , X 3 and X 5 and Hammett's substituent of X 2 and X 4 The sum of the constant σm values is 0.8
It is 0 or more and 3.80 or less. X 6 , X 7 , X 8 , X 9 and X 10 in the general formula (VIII) represent a hydrogen atom, a cyano group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, Represents an acyl group, a trifluoromethyl group, a halogen atom, an acyloxy group, an acylthio group or a heterocyclic group, which may further have a substituent and may be bonded to each other to form a condensed ring. Examples of these are X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , X 5
It is the same as that described above. However, in the general formula (VIII), the sum of Hammett's substituent constant σp value of X 6 , X 8 and X 10 and Hammett's substituent constant σm value of X 7 and X 9 is 1.
20 or more and 3.80 or less, 1.50 or more and 3.8
0 or less, more preferably 1.70 or more;
80 or less. Here, the sum of the σp value and the σm value is
If it is less than 0.80, there are problems such as insufficient coloring properties, and if it exceeds 3.80, it becomes difficult to synthesize and obtain the compound itself.
【0041】なお、ハメットの置換基定数σp、σmに
ついては、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応
性−」(丸善)、「新実験化学講座14・有機化合物の
合成と反応V」2605頁(日本化学会編、丸善)、仲
矢忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同
人)、ケミカル・レビュー(91巻),165〜195
頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。The Hammett's substituent constants σp and σm are described, for example, by Naoki Inamoto, “Hammet Rule—Structure and Reactivity—” (Maruzen), “New Experimental Chemistry Lecture 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds V” 2605. (Chemical Society of Japan, Maruzen), Tadao Nakaya, "Theoretical Organic Chemistry", p. 217 (Tokyo Kagaku Dojin), Chemical Review (91), 165-195.
The book is described in detail in pages (1991).
【0042】一般式(VI)、(VII)におけるR1 、R
2 、(VIII)、(IX) におけるR4a、R5aは水素原子ま
たは置換基を表し、置換基の具体例としてはX1 、X
2 、X3、X4 、X5 について述べたものと同じ意味を
表すが、好ましくは水素原子または炭素数1〜50の置
換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜50の置換
もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜50の置換も
しくは無置換のヘテロ環基であり、さらに好ましくはR
1a、R2aの少なくとも一方およびR4a、R5aの少なくと
も一方は水素原子である。R 1 and R in the general formulas (VI) and (VII)
R 4a and R 5a in 2 , (VIII) and (IX) represent a hydrogen atom or a substituent, and specific examples of the substituent include X 1 and X
2 , X 3 , X 4 and X 5 have the same meaning as described above, but are preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 50 carbon atoms. And a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably R
At least one of 1a and R 2a and at least one of R 4a and R 5a are a hydrogen atom.
【0043】一般式(V)、(VII)においてR3aはヘテ
ロ環基を表す。ここで好ましいヘテロ環基は炭素数1〜
50のヘテロ環基であり、ヘテロ原子としては例えば、
窒素、酸素およびイオウ原子等を少なくとも一個以上を
含み、飽和または不飽和の3ないし12員環(好ましく
は3〜8員環)の単環または縮合環であり、ヘテロ環の
具体例としてはフラン、ピラン、ピリジン、チオフェ
ン、イミダゾール、キノリン、ベンツイミダゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンツオキサゾール、ピリミジン、ピ
ラジン、1,2,4−チアジアゾール、ピロール、オキ
サゾール、チアゾール、キナゾリン、イソチアゾール、
ピリダジン、インドール、ピラゾール、トリアゾール、
キノキサリンなどが挙げられる。これらのヘテロ環基は
置換基を有していても良く、一個以上の電子吸引性の基
を有しているものが好ましい。ここで電子吸引性の基と
はハメットのσp値で正の値を有しているものを意味す
る。本発明の発色用還元剤を感光材料に内蔵させる場合
には、Z1 、Z2 、R1a〜R5a、X1 〜X10の少なくと
も1つの基にバラスト基を有していることが好ましい。
Q1 で完成されるヘテロ環の例は、具体的化合物例I−
16〜I−74に図示されている。In formulas (V) and (VII), R 3a represents a heterocyclic group. The preferred heterocyclic group here has 1 to 1 carbon atoms.
50 heterocyclic groups, and the hetero atom is, for example,
It is a saturated or unsaturated 3- to 12-membered (preferably 3- to 8-membered) monocyclic or condensed ring containing at least one or more nitrogen, oxygen and sulfur atoms. , Pyran, pyridine, thiophene, imidazole, quinoline, benzimidazole, benzothiazole, benzoxazole, pyrimidine, pyrazine, 1,2,4-thiadiazole, pyrrole, oxazole, thiazole, quinazoline, isothiazole,
Pyridazine, indole, pyrazole, triazole,
Quinoxaline and the like. These heterocyclic groups may have a substituent, and preferably have at least one electron-withdrawing group. Here, the electron-withdrawing group means a group having a positive Hammett σp value. When the color-forming reducing agent of the present invention is incorporated in a light-sensitive material, it is preferable that at least one of Z 1 , Z 2 , R 1a to R 5a , and X 1 to X 10 has a ballast group. .
Examples of the heterocycle completed by Q 1 are specific compound examples I-
16-I-74.
【0044】つぎに一般式(III) で表される発色用還元
剤を具体的に示すが、本発明の範囲はこれら具体例に限
定されるものではない。Next, the color-forming reducing agent represented by the general formula (III) will be specifically described, but the scope of the present invention is not limited to these specific examples.
【0045】[0045]
【化19】 Embedded image
【0046】[0046]
【化20】 Embedded image
【0047】[0047]
【化21】 Embedded image
【0048】[0048]
【化22】 Embedded image
【0049】[0049]
【化23】 Embedded image
【0050】[0050]
【化24】 Embedded image
【0051】[0051]
【化25】 Embedded image
【0052】[0052]
【化26】 Embedded image
【0053】[0053]
【化27】 Embedded image
【0054】[0054]
【化28】 Embedded image
【0055】[0055]
【化29】 Embedded image
【0056】[0056]
【化30】 Embedded image
【0057】[0057]
【化31】 Embedded image
【0058】本発明において一般式(I)または(II)
で表わされる化合物と一般式(III)で表わされる化合物
を同一感光材料中に用いることも可能である。この場
合、感材の別の層にそれぞれ別々に添加しても良いし、
同一層に添加してもよい。またそれぞれの化合物の使用
する比率はいかなる比率でもよい。本発明に好ましく使
用されるカプラーとしては、以下の一般式(1)〜(1
2)に記載するような構造の化合物がある。これらはそ
れぞれ一般に活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾ
ール、フェノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと
総称される化合物であり、当該分野で公知の化合物であ
る。In the present invention, the compound represented by the general formula (I) or (II)
And the compound represented by formula (III) can be used in the same photosensitive material. In this case, they may be added separately to different layers of the light-sensitive material,
It may be added to the same layer. The ratio of each compound used may be any ratio. The couplers preferably used in the present invention include the following general formulas (1) to (1)
There is a compound having a structure as described in 2). These are compounds generally referred to as active methylene, pyrazolone, pyrazoloazole, phenol, naphthol, and pyrrolotriazole, respectively, and are compounds known in the art.
【0059】[0059]
【化32】 Embedded image
【0060】[0060]
【化33】 Embedded image
【0061】[0061]
【化34】 Embedded image
【0062】一般式(1)〜(4)は活性メチレン系カ
プラーと称されるカプラーを表し、式中R14は置換基を
有しても良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基であ
る。Formulas (1) to (4) represent couplers referred to as active methylene couplers, wherein R 14 represents an optionally substituted acyl group, cyano group, nitro group, aryl group, A heterocyclic residue, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group.
【0063】一般式(1)〜(3)において、R15は置
換基を有しても良いアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環残基である。一般式(4)においてR16は置換基を
有しても良いアリール基またはヘテロ環残基である。R
14、R15、R16が有しても良い置換基としては、前述の
X1 〜X5 の例として述べたものが挙げられる。In the general formulas (1) to (3), R 15 is an optionally substituted alkyl group, aryl group or heterocyclic residue. In the general formula (4), R 16 is an aryl group or a heterocyclic residue which may have a substituent. R
14, as the R 15, the substituent that may be R 16 has, include those mentioned as examples of X 1 to X 5 as described above.
【0064】一般式(1)〜(4)において、Yは水素
原子または発色用還元剤の酸化体とのカップリング反応
により脱離可能な基である。Yの例として、ヘテロ環基
(ヘテロ原子としては窒素、酸素、イオウ等を少なくと
も一個含み、飽和または不飽和の5〜7員環の単環もし
くは縮合環であり、例としては、スクシンイミド、マレ
インイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロ
ール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾー
ル、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダ
ゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,4−ジ
オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、イミダゾリジン
−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリン−2
−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾオキサ
ゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オン、2−
ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−オン、イ
ンドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシプリン、
パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−3,5−ジ
オン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピリミドン、
6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ−1,3,
4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4−チアゾリ
ジン−4−オン等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ
キシ、1−ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオ
キシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ
等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N,N −ジエチ
ルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ
等)、アリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フ
ェノキシカルボニルオキシ等)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ、ナフチルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例え
ば、テトラゾリルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチ
オ、1,3,4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダ
ゾリルチオ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチ
オ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等)、アルキルス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ
等)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、ベンゼン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等)、カ
ルボンアミド基(例えば、アセタミド、トリフルオロア
セタミド等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、アルキルス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル等)、アリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等)、アル
キルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル
等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスル
フィニル等)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルアミノ基(例え
ば、N −メチルカルバモイルアミノ等)などである。In the general formulas (1) to (4), Y is a hydrogen atom or a group which can be eliminated by a coupling reaction with an oxidized form of a color-forming reducing agent. Examples of Y include a heterocyclic group (a heterocyclic atom is a saturated or unsaturated monocyclic or condensed 5- to 7-membered ring containing at least one nitrogen, oxygen, sulfur or the like, and examples thereof include succinimide and maleic Imide, phthalimide, diglycolimide, pyrrole, pyrazole, imidazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, indole, benzopyrazole, benzimidazole, benzotriazole, imidazoline-2,4-dione, oxazolidin-2,4-dione , Thiazolidine-2,4-dione, imidazolidine-2-one, oxazolin-2-one, thiazoline-2
-One, benzimidazolin-2-one, benzoxazolin-2-one, benzothiazolin-2-one, 2-
Pyrrolin-5-one, 2-imidazolin-5-one, indoline-2,3-dione, 2,6-dioxypurine,
Parabanic acid, 1,2,4-triazolidine-3,5-dione, 2-pyridone, 4-pyridone, 2-pyrimidone,
6-pyridazone, 2-pyrazone, 2-amino-1,3,
4-thiazolidine, 2-imino-1,3,4-thiazolidine-4-one, etc.), halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy, 1-naphthoxy, etc.), hetero A ring oxy group (eg, pyridyloxy, pyrazolyloxy, etc.), an acyloxy group (eg, acetoxy, benzoyloxy, etc.),
Alkoxy group (eg, methoxy, dodecyloxy, etc.), carbamoyloxy group (eg, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, etc.), aryloxycarbonyloxy group (eg, phenoxycarbonyloxy, etc.), alkoxycarbonyloxy group (Eg, methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), heterocyclic thio groups (eg, tetrazolylthio, 1,3,4-thiadiazolylthio, 1,3,4- Oxadiazolylthio, benzimidazolylthio, etc.), alkylthio group (eg, methylthio, octylthio, hexadecylthio, etc.), alkylsulfonyloxy group (eg, methanesulfonyloxy, etc.), arylsulfonyloxy Groups (eg, benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, etc.), carbonamide groups (eg, acetamide, trifluoroacetamide, etc.), sulfonamide groups (eg, methanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), alkylsulfonyl groups (eg, , Methanesulfonyl, etc.), an arylsulfonyl group (eg, benzenesulfonyl, etc.), an alkylsulfinyl group (eg, methanesulfinyl, etc.), an arylsulfinyl group (eg, benzenesulfinyl, etc.), an arylazo group (eg, phenylazo, naphthylazo, etc.), A carbamoylamino group (for example, N-methylcarbamoylamino and the like);
【0065】Yは置換基により置換されていても良く、
Yを置換する置換基の例としてはX1 〜X5 で述べたも
のが挙げられる。Yは好ましくはハロゲン原子、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、カルバモイルオキシ基である。一般式(1)
〜(4)において、R14とR15、R14とR16は互いに結
合して環を形成しても良い。一般式(5)は5−ピラゾ
ロン系カプラーと称されるカプラーを表し、式中R17は
アルキル基、アリール基、アシル基またはカルバモイル
基を表す。R18はフェニル基または1個以上のハロゲン
原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキ
シカルボニル基またはアシルアミノ基が置換したフェニ
ル基を表す。Y may be substituted with a substituent,
Examples of the substituent for substituting Y include those described for X 1 to X 5 . Y is preferably a halogen atom, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a carbamoyloxy group. General formula (1)
In (4), R 14 and R 15 , and R 14 and R 16 may be bonded to each other to form a ring. Formula (5) represents a coupler called a 5-pyrazolone-based coupler, wherein R 17 represents an alkyl group, an aryl group, an acyl group, or a carbamoyl group. R 18 represents a phenyl group or a phenyl group substituted with one or more halogen atoms, alkyl groups, cyano groups, alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, or acylamino groups.
【0066】一般式(5)で表される5−ピラゾロン系
カプラーの中でもR17がアリール基またはアシル基、R
18が1個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基のも
のが好ましい。これらの好ましい基について詳しく述べ
ると、R17はフェニル基、2−クロロフェニル基、2−
メトキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラデカンア
ミドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オクタデセニ
ル−1−スクシンイミド)フェニル基、2−クロロ−5
−オクタデシルスルホンアミドフェニル基または2−ク
ロロ−5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフ
ェノキシ)テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリー
ル基またはアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基はさらに置
換基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒
素原子またはイオウ原子で連結する有機置換基またはハ
ロゲン原子である。Yについては前述したものと同じ意
味である。In the 5-pyrazolone coupler represented by the general formula (5), R 17 is an aryl group or an acyl group,
A phenyl group in which 18 is substituted with one or more halogen atoms is preferred. To describe these preferred groups in detail, R 17 is a phenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 2-
Methoxyphenyl group, 2-chloro-5-tetradecanamidophenyl group, 2-chloro-5- (3-octadecenyl-1-succinimido) phenyl group, 2-chloro-5
An aryl group such as -octadecylsulfonamidophenyl group or 2-chloro-5- [2- (4-hydroxy-3-t-butylphenoxy) tetradecanamido] phenyl group or an acetyl group, 2- (2,4-di- t-pentylphenoxy) butanoyl group, benzoyl group, 3-
(2,4-di-t-amylphenoxyacetamido) is an acyl group such as a benzoyl group, and these groups may further have a substituent, and these groups may be a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom. It is a connecting organic substituent or a halogen atom. Y has the same meaning as described above.
【0067】R18は2,4,6−トリクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。一般式(6)はピラ
ゾロアゾール系カプラーと称されるカプラーを表し、式
中、R19は水素原子または置換基を表す。Q3 は窒素原
子を2〜4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環
を含む)を有しても良い。一般式(6)で表されるピラ
ゾロアゾール系カプラーの中でも、発色色素の分光吸収
特性の点で、米国特許第4,500,630号に記載の
イミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米国特許第4,
500,654号に記載のピラゾロ〔1,5−b〕−
1,2,4−トリアゾール類、米国特許第3,725,
067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕−1,2,4
−トリアゾール類が好ましい。R 18 is preferably a substituted phenyl group such as a 2,4,6-trichlorophenyl group, a 2,5-dichlorophenyl group and a 2-chlorophenyl group. The general formula (6) represents a coupler called a pyrazoloazole coupler, wherein R 19 represents a hydrogen atom or a substituent. Q 3 represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5-membered azole ring containing 2 to 4 nitrogen atoms, and the azole ring may have a substituent (including a condensed ring). Among the pyrazoloazole couplers represented by the general formula (6), imidazo [1,2-b] pyrazoles described in U.S. Pat. U.S. Patent No. 4,
No. 500,654, pyrazolo [1,5-b]-
1,2,4-triazoles, U.S. Pat.
No. 067, pyrazolo [5,1-c] -1,2,4
-Triazoles are preferred.
【0068】置換基R19、Q3 で表されるアゾール環の
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3または6位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62
−209457号もしくは同63−307453号に記
載されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特開平2−
201443号に記載されている分子内にカルボンアミ
ド基を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Yに
関しては前述したものと同じ意味を表す。For details of the substituent of the azole ring represented by the substituents R 19 and Q 3 , see, for example, US Pat.
No. 0,654, column 2, line 41 to column 8, line 27. Preferably, JP-A-61-
No. 65245, a pyrazoloazole coupler having a branched alkyl group directly bonded to the 2, 3 or 6-position of the pyrazolotriazole group, and a sulfonamide group in the molecule described in JP-A-61-65245. A pyrazoloazole coupler having an alkoxyphenylsulfonamide ballast group described in JP-A-61-147254;
Pyrazolotriazole couplers having an alkoxy group or an aryloxy group at the 6-position described in JP-A-209457 or JP-A-63-307453;
No. 201443 is a pyrazolotriazole coupler having a carboxamide group in the molecule. Y has the same meaning as described above.
【0069】一般式(7)、(8)はそれぞれフェノー
ル系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカプラ
ーであり、式中、R20は水素原子または−CONR22R
23、−SO2 NR22R23、−NHCOR22、−NHCO
NR22R23、−NHSO2 NR22R23から選ばれる基を
表す。R22、R23は水素原子または置換基を表す。一般
式(7)、(8)において、R21は置換基を表し、lは
0〜2から選ばれる整数、mは0〜4から選ばれる整数
を表す。l、mが2以上の時にはR21はそれぞれ異なっ
ていても良い。R21〜R23の置換基としては前記一般式
(II)や(IV)のX1 〜X5 の例として述べたもの
が挙げられる。Yに関しては前述のものと同じ意味を表
す。Formulas (7) and (8) are couplers called phenol couplers and naphthol couplers, respectively, wherein R 20 is a hydrogen atom or —CONR 22 R
23, -SO 2 NR 22 R 23 , -NHCOR 22, -NHCO
NR 22 R 23, represents a group selected from -NHSO 2 NR 22 R 23. R 22 and R 23 represent a hydrogen atom or a substituent. In the general formulas (7) and (8), R 21 represents a substituent, 1 represents an integer selected from 0 to 2, and m represents an integer selected from 0 to 4. When l and m are 2 or more, R 21 may be different from each other. Examples of the substituent of R 21 to R 23 include those described as examples of X 1 to X 5 in the general formulas (II) and (IV). Y has the same meaning as described above.
【0070】一般式(7)で表されるフェノール系カプ
ラーの好ましい例としては、米国特許第2,369,9
29号、同第2,801,171号、同第2,772,
162号、同第2,895,826号、同第3,77
2,002号等に記載の2−アシルアミノ−5−アルキ
ルフェノール系、米国特許第2,772,162号、同
第3,758,308号、同第4,126,396号、
同第4,334,011号、同第4,327,173
号、西独特許公開第3,329,729号、特開昭59
−166956号等に記載の2,5−ジアシルアミノフ
ェノール系、米国特許第3,446,622号、同第
4,333,999号、同第4,451,559号、同
第4,427,767号等に記載の2−フェニルウレイ
ド−5−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Yに関しては前述したものと同じである。Preferred examples of the phenolic coupler represented by the general formula (7) include US Pat. No. 2,369,9.
No. 29, No. 2,801,171, No. 2,772
No. 162, No. 2,895,826, No. 3,77
2,002 and the like, 2-acylamino-5-alkylphenols, U.S. Pat. Nos. 2,772,162, 3,758,308, 4,126,396;
Nos. 4,334,011, 4,327,173
No. 3,329,729, West German Patent Publication No.
2,166-9656, 2,5-diacylaminophenol, U.S. Pat. Nos. 3,446,622, 4,333,999, 4,451,559, and 4,427, No. 767, etc., and 2-phenylureido-5-acylaminophenols. Y is the same as described above.
【0071】一般式(8)で表されるナフトールカプラ
ーの好ましい例としては、米国特許第2,474,29
3号、同第4,052,212号、同第4,146,3
96号、同第4,282,233号、同第4,296,
200号等に記載の2−カルバモイル−1−ナフトール
系および米国特許第4,690,889号等に記載の2
−カルバモイル−5−アミド−1−ナフトール系等を挙
げることができる。Yに関しては前述したものと同じで
ある。一般式(9)〜(12)はピロロトリアゾールと
称されるカプラーであり、R32、R33、R34は水素原子
または置換基を表す。Yについては前述したとおりであ
る。R32、R33、R34の置換基としては、前記X1 〜X
5 の例として述べたものが挙げられる。一般式(9)〜
(12)で表されるピロロトリアゾール系カプラーの好
ましい例としては、欧州特許第488,248A1号、
同第491,197A1号、同第545,300号に記
載のR32、R33の少なくとも一方が電子吸引性基である
カプラーが挙げられる。Yに関しては前述したものと同
じである。その他、縮環フェノール、イミダゾール、ピ
ロール、3−ヒドロキシピリジン、前記以外の活性メチ
レン、活性メチン、5,5−縮環複素環、5,6−縮環
複素環といった構造を有するカプラーが使用できる。Preferred examples of the naphthol coupler represented by the general formula (8) include US Pat. No. 2,474,29.
No. 3, 4,052, 212 and 4,146, 3
No. 96, No. 4,282,233, No. 4,296,
No. 200, etc., and 2-carbamoyl-1-naphthols described in US Pat. No. 4,690,889 and the like.
-Carbamoyl-5-amido-1-naphthol type and the like. Y is the same as described above. Formula (9) to (12) are couplers called pyrrolotriazoles, R 32, R 33, R 34 represents a hydrogen atom or a substituent. Y is as described above. As the substituents for R 32 , R 33 and R 34 , X 1 to X
Examples described in 5 are given. General formula (9)
Preferable examples of the pyrrolotriazole coupler represented by (12) include EP 488,248 A1,
Couplers in which at least one of R 32 and R 33 described in JP-A-491,197A1 and JP-A-545,300 are electron-withdrawing groups are exemplified. Y is the same as described above. In addition, couplers having a structure such as fused phenol, imidazole, pyrrole, 3-hydroxypyridine, active methylene, active methine, 5,5-fused heterocycle, and 5,6-fused heterocycle other than those described above can be used.
【0072】縮環フェノール系カプラーとしては米国特
許第4,327,173号、同第4,564,586
号、同第4,904,575号等に記載のカプラーを使
用できる。イミダゾール系カプラーとしては、米国特許
第4,818,672号、同第5,051,347号等
に記載のカプラーが使用できる。3−ヒドロキシピリジ
ン系カプラーとしては特開平1−315736号等に記
載のカプラーが使用できる。US Pat. Nos. 4,327,173 and 4,564,586 as fused phenol couplers.
And the couplers described in JP-A Nos. 4,904,575 and the like can be used. As the imidazole coupler, couplers described in U.S. Pat. Nos. 4,818,672 and 5,051,347 can be used. As the 3-hydroxypyridine-based coupler, couplers described in JP-A-1-315736 and the like can be used.
【0073】活性メチレン、活性メチン系カプラーとし
ては米国特許第5,104,783号、同第5,16
2,196号等に記載のカプラーが使用できる。5,5
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第5,16
4,289号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平4−174429号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。5,6−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第4,950,585号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平4−20473
0号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
556,700号に記載のカプラー等が使用できる。As active methylene and active methine couplers, US Pat. Nos. 5,104,783 and 5,16
The couplers described in 2,196 and the like can be used. 5,5
-As a fused heterocyclic coupler, US Pat.
Pyrrolopyrazole couplers described in JP-A-4,289, and pyrroleimidazole couplers described in JP-A-4-174429 can be used. Examples of 5,6-fused heterocyclic couplers include pyrazolopyrimidine couplers described in U.S. Pat. No. 4,950,585 and JP-A-4-20473.
No. 0, pyrrolotriazine couplers described in EP-A-556700, and the like can be used.
【0074】本発明には前述のカプラー以外に、西独特
許第3,819,051A号、同第3,823,049
号、米国特許第4,840,883号、同第5,02
4,930号、同第5,051,347号、同第4,4
81,268号、欧州特許第304,856A2号、同
第329,036号、同第354,549A2号、同第
374,781A2号、同第379,110A2号、同
第386,930A1号、特開昭63−141055
号、同64−32260号、同64−32261号、特
開平2−297547号、同2−44340号、同2−
110555号、同3−7938号、同3−16044
0号、同3−172839号、同4−172447号、
同4−179949号、同4−182645号、同4−
184437号、同4−188138号、同4−188
139号、同4−194847号、同4−204532
号、同4−204731号、同4−204732号等に
記載されているカプラーも使用できる。本発明に使用で
きるカプラーの具体例を以下に示すが、本発明はもちろ
んこれによって限定されるわけではない。In the present invention, in addition to the couplers described above, West German Patent Nos. 3,819,051A and 3,823,049.
No. 4,840,883, US Pat.
No. 4,930, No. 5,051,347, No. 4,4
No. 81,268, European Patent Nos. 304,856A2, 329,036, 354,549A2, 374,781A2, 379,110A2, 386,930A1, 63-141055
Nos. 64-32260, 64-32261, JP-A-2-29747, JP-A-2-44340, and 2-
No. 110555, No. 3-7938, No. 3-16044
No. 0, No. 3-172839, No. 4-17247,
4-179949, 4-182645, 4-
Nos. 184437, 4-188138, 4-188
No. 139, No. 4-194847, No. 4-204532
And the couplers described in JP-A Nos. 4-207473 and 4-204732 can also be used. Specific examples of the coupler that can be used in the present invention are shown below, but the present invention is of course not limited thereto.
【0075】[0075]
【化35】 Embedded image
【0076】[0076]
【化36】 Embedded image
【0077】[0077]
【化37】 Embedded image
【0078】[0078]
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【0079】[0079]
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【0080】[0080]
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【0081】[0081]
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【0082】[0082]
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【0083】[0083]
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【0084】[0084]
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【0086】[0086]
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【0087】[0087]
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【0088】[0088]
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【0089】[0089]
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【0090】[0090]
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【0091】[0091]
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【0092】[0092]
【化52】 Embedded image
【0093】本発明の発色用還元剤は十分な発色濃度を
得るために、発色層1層当たり0.01〜10mmol/m2
使用することが好ましい。更に好ましい使用量は0.0
5〜5mmol/m2であり特に好ましい使用量は0.1〜1
mmol/m2である。この範囲であると十分な発色濃度が得
られる点で好ましい。本発明の発色用還元剤が使用され
る発色層のカプラーの好ましい使用量は発色用還元剤に
対してモル換算で0.05〜20倍で、更に好ましくは
0.1〜10倍、特に好ましくは0.2〜5倍である。
この範囲であると十分な発色濃度が得られる点で好まし
い。The color-forming reducing agent of the present invention is used in an amount of 0.01 to 10 mmol / m 2 per color-forming layer in order to obtain a sufficient color-forming density.
It is preferred to use. A more preferred amount is 0.0
The amount is 5 to 5 mmol / m 2 , and the particularly preferred amount is 0.1 to 1
mmol / m 2 . This range is preferred in that a sufficient color density can be obtained. The amount of the coupler in the color-forming layer in which the color-forming reducing agent of the present invention is used is preferably 0.05 to 20 times, more preferably 0.1 to 10 times, particularly preferably 0.1 to 10 times the molar amount of the color-forming reducing agent. Is 0.2 to 5 times.
This range is preferred in that a sufficient color density can be obtained.
【0094】本発明に用いるカラー感光材料は、基本的
には支持体に少なくとも1層の親水性コロイド層からな
る写真構成層を塗布して成り、この写真構成層のいずれ
かに感光性ハロゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用
還元剤を含有する。色素形成カプラーおよび発色用還元
剤は、同一層に添加することが最も代表的な態様である
が、反応可能な状態であれば分割して別層に添加するこ
とができる。これらの成分は、感光材料中のハロゲン化
銀乳剤層又はその隣接層に添加されることが好ましく、
特にハロゲン化銀乳剤層にともに添加することが好まし
い。The color light-sensitive material used in the present invention is basically formed by coating a support with a photographic constituent layer comprising at least one hydrophilic colloid layer, and any of the photographic constituent layers is coated with a photosensitive halide. Contains silver, dye-forming coupler, and color-forming reducing agent. The most typical embodiment is to add the dye-forming coupler and the color-forming reducing agent to the same layer, but they can be added separately to separate layers if they can react. These components are preferably added to a silver halide emulsion layer or a layer adjacent thereto in a light-sensitive material,
In particular, it is preferable to add them together to the silver halide emulsion layer.
【0095】本発明の発色用還元剤及びカプラーは種々
の公知分散方法により感光材料に導入でき、高沸点有機
溶媒(必要に応じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、
ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加
する水中油滴分散法が好ましい。本発明に用い得る高沸
点有機溶媒は、融点が100℃以下、沸点が140℃以
上の水と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプ
ラーの良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融
点は好ましくは80℃以下である。高沸点有機溶媒の沸
点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは
170℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細に
ついては、特開昭62−215272号公開明細書の第
137頁右下欄〜144頁右上欄に記載されている。本
発明に用いられる高沸点有機溶媒としては発色用還元剤
とカプラーから生成する色素を低pHから解離すること
が可能である点では特開平8−320542号に記載の
電子供与性パラメーター△Vが80以上の高沸点有機溶
媒を用いることが好ましい。本発明において、高沸点有
機溶媒を使用する際に高沸点有機溶媒の使用量はいかな
る量であっても良いが、好ましくは発色用還元剤に対し
て、重量比て高沸点有機溶媒/発色用還元剤比が20以
下が好ましく、0.02〜5が更に好ましく、0.2〜
4が特に好ましい。また本発明には公知のポリマー分散
法を用いても良い。ポリマー分散法の一つとしてのラテ
ックス分散法の工程、効果、含浸用のラテックスの具体
例は、米国特許4,199,363号、西独特許出願第
(OLS)2,541,274号、同第2,541,2
30号、特公昭53−41091号及び、欧州特許公開
第029104号等に記載されており、又水不溶性かつ
有機溶媒可溶性ポリマーによる分散法についてPCT国
際公開番号WO88/00723号明細書に記載されて
いる。The color-forming reducing agent and coupler of the present invention can be introduced into a light-sensitive material by various known dispersion methods, and are dissolved in a high-boiling organic solvent (optionally using a low-boiling organic solvent in combination).
An oil-in-water dispersion method in which the emulsion is dispersed in an aqueous gelatin solution and added to the silver halide emulsion is preferred. The high boiling organic solvent that can be used in the present invention is a compound that is immiscible with water having a melting point of 100 ° C. or less and a boiling point of 140 ° C. or more, and can be used as long as it is a good solvent for a color-forming reducing agent and a coupler. The melting point of the high boiling organic solvent is preferably 80 ° C. or lower. The boiling point of the high boiling organic solvent is preferably 160 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher. Details of these high-boiling organic solvents are described in JP-A-62-215272, page 137, lower right column to page 144, upper right column. The high-boiling organic solvent used in the present invention has an electron-donating parameter ΔV described in JP-A-8-320542 in that a dye formed from a reducing agent for coloring and a coupler can be dissociated from a low pH. It is preferable to use an organic solvent having a high boiling point of 80 or more. In the present invention, when a high boiling organic solvent is used, the amount of the high boiling organic solvent used may be any amount, but preferably, the high boiling organic solvent / color developing solvent is preferably used in a weight ratio with respect to the color-forming reducing agent. The reducing agent ratio is preferably 20 or less, more preferably 0.02 to 5, and 0.2 to 5
4 is particularly preferred. In the present invention, a known polymer dispersion method may be used. The steps and effects of the latex dispersion method as one of the polymer dispersion methods and specific examples of the latex for impregnation are described in US Pat. No. 4,199,363, West German Patent Application (OLS) 2,541,274, and US Pat. 2,541,2
No. 30, JP-B-53-41091 and European Patent Publication No. 029104, and a dispersion method using a water-insoluble and organic solvent-soluble polymer is described in PCT International Publication No. WO88 / 00723. I have.
【0096】本発明の発色用還元剤を含有する親油性微
粒子の平均粒子サイズは特に制限はないが、発色性の観
点で0.05〜0.3μmにすることが好ましい。また
0.05μm〜0.2μmが更に好ましい。The average particle size of the lipophilic fine particles containing the color-forming reducing agent of the present invention is not particularly limited, but is preferably from 0.05 to 0.3 μm from the viewpoint of color-forming properties. Further, the thickness is more preferably 0.05 μm to 0.2 μm.
【0097】一般的に親油性微粒子の平均粒子サイズを
小さくするためには、界面活性剤の種類の選択、界面活
性剤の使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度
を上げること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の
併用などで低下させること、あるいは乳化装置の撹拌羽
根の回転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を
長くすること等によって達成される。親油性微粒子の粒
子サイズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の
装置によって測定できる。Generally, in order to reduce the average particle size of the lipophilic fine particles, it is necessary to select the type of the surfactant, increase the amount of the surfactant used, increase the viscosity of the hydrophilic colloid solution, This can be achieved by reducing the viscosity of the organic layer by using a low-boiling organic solvent in combination, or by increasing the shearing force such as increasing the rotation of the stirring blades of the emulsifier, or by lengthening the emulsification time. The particle size of the lipophilic fine particles can be measured by, for example, a device such as Nanosizer manufactured by Coulter, UK.
【0098】本発明において、アルカリ性処理液と本発
明の感光材料との接触角は30°以下であることが必要
である。アルカリ性処理液と本発明の感光材料との接触
角が大きい場合には、感光材料上に塗設された処理液が
感光材料中に十分に浸透する前に収縮してしまうために
塗設し始めた部分が他の部分に比べ濃度がでないと言う
現象が生じてしまう。本発明のアルカリ性処理液と本発
明の感光材料との接触角の値は25°以下が好ましく、
20°以下が更に好ましい。また、塗布した液膜の厚み
を保ち、且つ単位面積当たりに必要なアルカリ性処理液
の量を確保するために接触角は10°以上が必要であ
り、15°以上が好ましい。ここで言う接触角は実験化
学講座18巻「界面とコロイド」(日本化学会編集、昭
和52年10月20日 丸善株式会社発行)、p97に
記載の液滴法によって測走した測定値である。In the present invention, the contact angle between the alkaline processing solution and the light-sensitive material of the present invention needs to be 30 ° or less. When the contact angle between the alkaline processing solution and the photosensitive material of the present invention is large, the processing solution applied on the photosensitive material shrinks before it sufficiently penetrates into the photosensitive material. This causes a phenomenon in which the density of the portion is lower than that of the other portions. The value of the contact angle between the alkaline processing solution of the present invention and the photosensitive material of the present invention is preferably 25 ° or less,
20 ° or less is more preferable. Further, in order to maintain the thickness of the applied liquid film and to secure the necessary amount of the alkaline processing liquid per unit area, the contact angle needs to be 10 ° or more, and preferably 15 ° or more. The contact angle mentioned here is a measured value measured by the droplet method described in p97, Experimental Chemistry, Vol. .
【0099】本発明のアルカリ性処理液と本発明の感光
材料との接触角を本発明の範囲にするためにはいかなる
方法を用いても良いが、その方法として感光材料の最上
層中に接触角を低下させる化合物を添加する方法、アル
カリ性処理液に接触角を低下させる化合物を添加させる
方法が好ましい。感光材料の最上層中に添加するのに好
ましい接触角を低下させる化合物としては水溶性ポリマ
ーや界面活性剤が好ましい。水溶性ポリマーとしてはカ
ルボン酸基またはその塩、硫酸エステル基またはその
塩、スルホン酸基またはその塩、燐酸エステル基または
その塩、ジチオ燐酸エステル基またはその塩、水酸基、
アミノ基、アミド基から選ばれる置換基の少なくとも1
種類を有する親水性ポリマーが更に好ましい。ただしこ
の水溶性ポリマーは通常バインダーとして用いているゼ
ラチン以外のものである。これら水溶性ポリマーの例と
しては、例えば、特開昭63−103240号公報の第
2頁右下欄〜第6頁右下欄に記載のものが挙げられる。
以下に本発明に使用できる水溶性ポリマーの具体例を掲
げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。Any method can be used to adjust the contact angle between the alkaline processing solution of the present invention and the light-sensitive material of the present invention within the range of the present invention. The method of adding the compound which reduces the contact angle to the alkaline treatment liquid is preferable. As the compound which preferably reduces the contact angle when added to the uppermost layer of the light-sensitive material, a water-soluble polymer or a surfactant is preferable. Examples of the water-soluble polymer include a carboxylic acid group or a salt thereof, a sulfate group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, a phosphate group or a salt thereof, a dithiophosphate group or a salt thereof, a hydroxyl group,
At least one substituent selected from an amino group and an amide group
More preferred are hydrophilic polymers having different types. However, this water-soluble polymer is other than gelatin usually used as a binder. Examples of these water-soluble polymers include those described in JP-A-63-103240, page 2, lower right column to page 6, lower right column.
Specific examples of the water-soluble polymer that can be used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
【0100】[0100]
【化53】 Embedded image
【0101】[0101]
【化54】 Embedded image
【0102】[0102]
【化55】 Embedded image
【0103】[0103]
【化56】 Embedded image
【0104】[0104]
【化57】 Embedded image
【0105】[0105]
【化58】 Embedded image
【0106】[0106]
【化59】 Embedded image
【0107】水溶性ポリマーの分子量としては小さい方
が好ましいが、小さすぎると水溶性ポリマーが処理液中
に移動・流出してしまうため、5000〜200000
0程度が好ましく、特に、10000〜800000程
度、更には10000〜500000程度が好ましい。
最上層中における水溶性ポリマーの塗設量としては、1
×10-3〜1g/m2が好ましく、更には1×10-2〜
5×10-1g/m2 が好ましい。The molecular weight of the water-soluble polymer is preferably as small as possible.
It is preferably about 0, particularly preferably about 10,000 to 800,000, and more preferably about 10,000 to 500,000.
The coating amount of the water-soluble polymer in the uppermost layer is 1
× 10 -3 to 1 g / m 2 is preferable, and 1 × 10 -2 to 1 g / m 2 is more preferable.
5 × 10 −1 g / m 2 is preferred.
【0108】界面活性剤としてはどのような界面活性剤
でも接触角を低下させ得る化合物として用いることが出
来るが、中でも両性界面活性剤やフッ素系界面活性剤が
更に好ましい。本発明で好ましく用いられる両性界面活
性剤について説明する。両性界面活性剤は特開平1−1
08036号、特開平8−62797号等に記載されて
いるが、1つの分子中にアニオン性官能基、カチオン性
官能基、及びノニオン性官能基のうちの異なる2種類の
官能基を合わせ持つ界面活性剤を意味し、アニオン/カ
チオン型、アニオン/ノニオン型、カチオン/ノニオン
型に大別される。この中ではアニオン/カチオン型両性
界面活性剤か好ましい。アニオン/カチオン型両性界面
活性剤の例としてはカルボキシベタイン型(カチオン部
に4級アルキルアンモニウムイオン(又はその塩)を有
し、アニオン部にカルボン酸イオン(又はその塩)を有
する)、スルホベタイン型(カチオン部に4級アルキル
アンモニウムイオン(又は塩)を有し、アニオン部にス
ルホン酸イオン(又はその塩)を有する)、硫酸エステ
ル型(カチオン部に4級アルキルアンモニウムイオン
(又はその塩)を有し、アニオン部に−OSO3 -基(又
は塩)を有する)、燐酸エステル型(カチオン部に4級
アルキルアンモニウムイオン(又はその塩)を有し、ア
ニオン部に−OPO3 -基(又はその塩)を有する)、ア
ミノ酸型(カチオン部に− +NH2 −(又はその塩)を
有し、アニオン部にカルボン酸イオン(又はその塩)を
有する)、アミノスルホン酸型(カチオン部に− +NH
2 −(又はその塩)を有し、アニオン部にスルホン酸イ
オン(又はその塩)を有する)等が挙げられる。この中
でカルボキシベタイン型の両性界面活性剤が特に好まし
く、アルキル鎖中にカルボン酸アミド連結部を有するカ
ルボキシベタイン型の両性界面活性剤が最も好ましい。
以下に好ましく用いられ得る両性界面活性剤の具体例を
掲げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。As the surfactant, any surfactant can be used as a compound capable of lowering the contact angle. Among them, an amphoteric surfactant and a fluorine-based surfactant are more preferable. The amphoteric surfactant preferably used in the present invention will be described. Amphoteric surfactants are disclosed in
No. 08036, JP-A-8-62797, etc., but an interface having two different functional groups of anionic functional group, cationic functional group, and nonionic functional group in one molecule. It means an activator and is roughly classified into an anion / cation type, an anion / nonion type, and a cation / nonion type. Of these, anionic / cationic amphoteric surfactants are preferred. Examples of anionic / cationic amphoteric surfactants include carboxybetaine type (having a quaternary alkyl ammonium ion (or a salt thereof) in the cation portion and a carboxylate ion (or a salt thereof) in the anion portion), and sulfobetaine. Type (having a quaternary alkylammonium ion (or salt) in the cation portion and a sulfonate ion (or a salt thereof) in the anion portion), sulfate ester type (quaternary alkylammonium ion (or a salt thereof) in the cation portion) has, -OSO 3 in the anion portion - having a group (or salt)), phosphoric acid ester type has the (quaternary alkyl ammonium ions in the cationic portion (or a salt thereof), -OPO 3 to anion - group ( or with a salt thereof)), amino acid type (cation portion - + NH 2 - (or has a salt thereof), anionic portion carboxylate ion (also With its salt)), amino acid type (cation portion - + NH
2- (or a salt thereof) and a sulfonate ion (or a salt thereof) in the anion portion. Of these, carboxybetaine-type amphoteric surfactants are particularly preferred, and carboxybetaine-type amphoteric surfactants having a carboxylic acid amide linkage in the alkyl chain are most preferred.
Specific examples of the amphoteric surfactant which can be preferably used are shown below, but the present invention is not limited to these.
【0109】[0109]
【化60】 Embedded image
【0110】[0110]
【化61】 Embedded image
【0111】[0111]
【化62】 Embedded image
【0112】次に本発明で好ましく用いられるフッ素系
界面活性剤について説明する。本発明で好ましく用いら
れ得るフッ素系界面活性剤は、例えば英国特許第1,2
93,189号、同第1,259,398号、同第1,
330,356号、米国特許第3,589,906号、
同第3,666,478号、同第3,754,924
号、同第3,775,236号、同第3,850,64
0号、特開昭54−48520号、同56−11494
4号、同50−161236号、同51−151127
号、同50−59025号、同50−113221号、
同50−99525号、同53−84712号、同54
−14224号、同50−113221号、同49−1
0722号、特公昭48−43130号、同57−65
77号、特開平2−33144号、アイアンドイーシー
・プロダクト・リサーチ・アンド・ディベロプメント
(I&EC Product Research an
d Development)1(3)(1962.
9)、油化学12(12)(1963)p653、等に
記載されているが、好ましくは下記一般式で表される。
Rf−(A)m−X式中、Rfは少なくとも3個のフッ
素原子を有する、アルキル基もしくはアルコキシ基(置
換基を有するものも含まれる。例えばドデカフロロヘキ
シル基、ヘプタデカフロロオクチル基、ドデカフロロヘ
キシルオキシ基、テトラデカフロロオクチル基、テトラ
デカフロロオクチルオキシ基等)、アルケニル基(置換
基を有するものも含まれる。例えばヘプタフロロブチレ
ン基等)又はアリール基もしくはアリールオキシ基(置
換基を有するものも含まれる。例えばトリフロロフェニ
ル基、ペンタフロロフェニル基、ペンタフロロフェニル
オキシ基等)を表わす。Aは2価の連結基を表し、Xは
親水性基を表し、またmは0又は1を表す。Next, the fluorine-based surfactant preferably used in the present invention will be described. Fluorinated surfactants that can be preferably used in the present invention include, for example, British Patent Nos. 1 and 2
No. 93,189, No. 1,259,398, No. 1,
No. 330,356; U.S. Pat. No. 3,589,906;
Nos. 3,666,478 and 3,754,924
No. 3,775,236, No. 3,850,64
0, JP-A-54-48520 and JP-A-56-11494.
No. 4, No. 50-161236, No. 51-151127
No., No. 50-59025, No. 50-11221,
Nos. 50-99525, 53-84712, 54
No. 14224, No. 50-113221, No. 49-1
No. 0722, JP-B-48-43130, 57-65
No. 77, JP-A-2-33144, I & EC Product Research and Development (I & EC Product Research and Development)
d Development) 1 (3) (1962.
9), Oil Chemistry 12 (12) (1963) p653, etc., and is preferably represented by the following general formula.
Rf- (A) mX In the formula, Rf has an alkyl group or an alkoxy group having at least three fluorine atoms (including those having a substituent. For example, dodecafluorohexyl group, heptadecafluorooctyl group, dodeca group) Fluorohexyloxy group, tetradecafluorooctyl group, tetradecafluorooctyloxy group, etc., alkenyl group (including those having a substituent; for example, heptafluorobutylene group, etc.) or aryl group or aryloxy group (substituent For example, a trifluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a pentafluorophenyloxy group, etc.). A represents a divalent linking group, X represents a hydrophilic group, and m represents 0 or 1.
【0113】Aは好ましくはアルキレン基(置換基を有
するものも含まれる。例えばエチレン基、トリメチレン
基、オキシアルキレン基等)、アリーレン基(置換基を
有するものも含まれる。例えばフェニレン基、オキシフ
ェニレン基等)、アルキルアリーレン基(置換基を有す
るものも含まれる。例えばプロピルフェニレン基等)、
又はアリールアルキレン基(置換基を有するものも含ま
れる。例えばフェニルエチレン基、フェニルオキシエチ
レン基等)を表し、これらの基には酸素原子、エステル
基、アミド基、スルホンアミド基、スルホニル基、硫黄
原子の様な異種の原子又は異種の基で中断された2価の
連結基も含まれる。A is preferably an alkylene group (including those having a substituent, for example, an ethylene group, a trimethylene group, an oxyalkylene group, etc.) and an arylene group (including those having a substituent, for example, a phenylene group, an oxyphenylene. Group), an alkylarylene group (including those having a substituent, such as a propylphenylene group),
Or an arylalkylene group (including those having a substituent; for example, a phenylethylene group, a phenyloxyethylene group, and the like), and these groups include an oxygen atom, an ester group, an amide group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, and a sulfur group. Also included are divalent linking groups interrupted by heterogeneous atoms such as atoms or heterogeneous groups.
【0114】Xは親水性基であり、例えば−(B−O)
−nR1 のポリオキシアルキレン基(ここでBは−CH
2 −CH2 −、−CH2 −CH2 −CH2 −、−CH2
−CH(OH)−CH2 −、及び−CH2 −CH(CH
3 )−などのアルキレン基を表し、nはポリオキシアル
キレン基の平均重合度を表し、1〜50の整数である。
またR1 は水素原子、置換基を有するものも含むアルキ
ル基または置換基を有するものも含むアリール基を表わ
す。)で表わされるノニオン基;例えば− +N(R2 )
(R3 )−R4 −COO- 及び− +N(R2 )(R3 )
−R4 −SO3 -(式中、R4 は炭素原子数1〜5のアル
キレン基、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブ
チレンを表し、R2 、R3 は炭素原子数1〜8の置換基
を有するものも含むアルキル基、置換基を有するものも
含むアリール基、例えばメチル基、エチル基、ベンジル
基等を表す。)で表される親水性ベタイン基;例えば−
+ N(R2 )(R3 )−R5 ・Y- (式中、R2 、R
3 、R5 は前記R2 と同義であり、Y- は陰イオンを表
わし、例えばヒドロキシ基、ハロゲン基、硫酸基、炭酸
基、過塩素酸基、有機カルボン酸基、有機スルホン酸
基、有機硫酸基等を表す。)で表される親水性カチオン
基;例えば −SO3 M、−OSO3 M、−COOM、−O−P(=
O)(OM)2 、−O−P(=O)(−O−A−Rf)
−OM (式中、Mは無機または有機の陽イオンを表し、好まし
くは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アン
モニウム、炭素原子数1〜3のアルキルアミン等であ
る。A及びRfは前記と同義である。)で表される親水
性アニオン基等が挙げられる。X is a hydrophilic group, for example,-(BO)
-NR 1 polyoxyalkylene group (where B is -CH
2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - CH 2
—CH (OH) —CH 2 — and —CH 2 —CH (CH
3 ) represents an alkylene group such as-, and n represents an average degree of polymerization of the polyoxyalkylene group, and is an integer of 1 to 50.
R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group including a substituent, or an aryl group including a substituent. )); For example,- + N (R 2 )
(R 3 ) —R 4 —COO − and − + N (R 2 ) (R 3 )
—R 4 —SO 3 — (wherein, R 4 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, for example, methylene, ethylene, propylene, and butylene, and R 2 and R 3 represent a substituent having 1 to 8 carbon atoms. A hydrophilic betaine group represented by an alkyl group including those having a substituent, an aryl group also including a substituent having a substituent, for example, a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, etc .;
+ N (R 2) (R 3) -R 5 · Y - ( wherein, R 2, R
3 and R 5 have the same meanings as R 2 described above, and Y − represents an anion, for example, a hydroxy group, a halogen group, a sulfate group, a carbonate group, a perchlorate group, an organic carboxylic acid group, an organic sulfonic acid group, an organic Represents a sulfate group and the like. Hydrophilic cationic group represented by); for example -SO 3 M, -OSO 3 M, -COOM, -O-P (=
O) (OM) 2 , -OP (= O) (-OA-Rf)
-OM (wherein, M represents an inorganic or organic cation, and is preferably a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, ammonium, an alkylamine having 1 to 3 carbon atoms, etc., and A and Rf are as defined above. And a hydrophilic anionic group represented by the formula:
【0115】また、Xがポリオキシアルキレン基である
ものが更に好ましい。特に置換、無置換のポリオキシエ
チレン基が好ましく、オキシアルキレン基として5〜3
0が好ましい。また、Rfとしては炭素数4以上のフロ
ロ,アルキル基、アルケニル基またはアリール基が好ま
しく、炭素数6〜14のパーフロロ,アルキル基、アル
ケニル基またはアリール基が好ましい。Aとしては窒素
原子上にアルキル基、アルキレン基またはアリール基を
有するスルホンアミド基を含む基が好ましい。Further, those in which X is a polyoxyalkylene group are more preferred. Particularly, a substituted or unsubstituted polyoxyethylene group is preferable, and 5 to 3
0 is preferred. Further, Rf is preferably a fluoro, alkyl, alkenyl or aryl group having 4 or more carbon atoms, and more preferably a perfluoro, alkyl, alkenyl or aryl group having 6 to 14 carbon atoms. A is preferably a group containing a sulfonamide group having an alkyl group, an alkylene group or an aryl group on a nitrogen atom.
【0116】[0116]
【化63】 Embedded image
【0117】[0117]
【化64】 Embedded image
【0118】[0118]
【化65】 Embedded image
【0119】本発明で好ましく用いられる界面活性剤の
使用量は1×10-3〜1mmol/m2 が好ましく、1
0-2〜0.5mmol/m2 が更に好ましい。本発明の
両性界面活性剤とフッ素系界面活性剤を併用することも
好ましく、なかでも、カルボキシベタイン型両性界面活
性剤とポリオキシアルキレン基を有するフッ素系界面活
性剤を併用することが特に好ましい。The amount of the surfactant preferably used in the present invention is preferably 1 × 10 −3 to 1 mmol / m 2 ,
0 -2 ~0.5mmol / m 2 is more preferable. It is also preferable to use the amphoteric surfactant of the present invention in combination with a fluorinated surfactant, and particularly preferable to use a carboxybetaine-type amphoteric surfactant and a fluorinated surfactant having a polyoxyalkylene group in combination.
【0120】また、水溶性ポリマーと界面活性剤を併用
することは更に好ましく、水溶性ポリマーと両性界面活
性剤とフッ素系界面活性剤を併用することは特に好まし
く、なかでも、水溶性ポリマーとカルボキシベタイン型
両性界面活性剤とポリオキシアルキレン基を有するフッ
素系界面活性剤を併用することが特に好ましい。両性界
面活性剤とフッ素系界面活性剤との使用モル比率は、1
/10〜10倍の範囲が好ましく、また水溶性ポリマー
と界面活性剤(上記の2種の界面活性剤が併用される場
合にはその合計)との使用比率(重量比)は1/10〜
10倍の範囲が好ましい。Further, it is more preferable to use a water-soluble polymer and a surfactant in combination, and it is particularly preferable to use a water-soluble polymer, an amphoteric surfactant and a fluorine-containing surfactant in combination. It is particularly preferable to use a betaine-type amphoteric surfactant and a fluorine-based surfactant having a polyoxyalkylene group in combination. The molar ratio of the amphoteric surfactant and the fluorosurfactant used is 1
The ratio of the water-soluble polymer and the surfactant (the sum of the two surfactants when used in combination) is 1/10 to 10%.
A range of 10 times is preferred.
【0121】本発明において発色用還元剤と色素形成カ
プラーから生成する色素が拡散性色素である場合、感光
材料中に媒染剤を添加することが好ましい。本発明をこ
の様な形態に適用した場合、アルカリに浸漬して発色さ
せる必要が無くなり、そのため処理後の画像安定性が著
しく改良される。媒染剤はいずれの層に用いても良い
が、本発明の発色用還元剤が含有されている層に添加す
ると、発色用還元剤の安定性が悪化するために、本発明
の発色用還元剤を含まない層に用いることが好ましい。
更に、発色用還元剤とカプラーから生成する色素は処理
中膨潤したゼラチン膜中を拡散して媒染剤に染色する。
その為、良好な鮮鋭度を得るためには拡散距離が短い方
が好ましい。従って、媒染剤が添加される層は発色用還
元剤が含有されている層の隣接層に添加することが好ま
しい。又本発明の発色用還元剤と、本発明のカプラーか
ら生成する色素が水溶性色素である場合、処理液中に流
出してしまう可能性がある。従って、これを阻止するた
めに媒染剤が添加される層は発色用還元剤が含有されて
いる層に対して、支持体と反対側にあることが好まし
い。ただし、特開平7−168335号に記載されてい
るようなバリアー層を媒染剤を添加する層に対して支持
体と反対側に設ける場合には、媒染剤が添加される層が
発色用還元剤が含有されている層に対して支持体と同じ
側にあるのも好ましい。In the present invention, when the dye formed from the color-forming reducing agent and the dye-forming coupler is a diffusible dye, it is preferable to add a mordant to the light-sensitive material. When the present invention is applied to such a form, it is not necessary to immerse the film in an alkali to form a color, so that the image stability after processing is remarkably improved. The mordant may be used in any layer, but when added to a layer containing the color-forming reducing agent of the present invention, the stability of the color-forming reducing agent deteriorates. It is preferably used for a layer that does not contain.
Furthermore, the dye formed from the color-forming reducing agent and the coupler diffuses through the swollen gelatin film during the treatment and dyes the mordant.
Therefore, it is preferable that the diffusion distance is short in order to obtain good sharpness. Therefore, the layer to which the mordant is added is preferably added to the layer adjacent to the layer containing the color-forming reducing agent. When the coloring agent of the present invention and the dye formed from the coupler of the present invention are water-soluble dyes, they may flow out into the processing solution. Therefore, the layer to which the mordant is added to prevent this is preferably on the side opposite to the support with respect to the layer containing the color-forming reducing agent. However, when a barrier layer as described in JP-A-7-168335 is provided on the side opposite to the support with respect to the layer to which the mordant is added, the layer to which the mordant is added contains a color-forming reducing agent. It is also preferably on the same side as the support with respect to the layer being made.
【0122】また、本発明の媒染剤は複数の層に添加さ
れてもよく、特に、発色用還元剤が含有されている層が
複数である場合にはそれぞれの隣接層に、媒染剤を添加
することも好ましい。また拡散性色素を形成するカプラ
ーは本発明の発色用還元剤とカップリングして形成され
る拡散性色素が媒染剤まで到達するものであれば如何な
るカプラーでも良いが、形成される拡散性色素がpKa
(酸解離定数)12以下の解離基を1つ以上持つことが
好ましく、pKa8以下の解離基を1つ以上持つことが
更に好ましく、pKa6以下の解離基を持つことが特に
好ましい。形成される拡散性色素の分子量は200以上
2000以下が好ましい。さらに(形成される色素の分
子量/pKa12以下の解離基の数)は100以上20
00以下が好ましく、100以上1000以下であるこ
とが更に好ましい。ここでpKaの値はジメチルホルム
アミド:水=1:1を溶媒として測定した値を用いる。The mordant of the present invention may be added to a plurality of layers. In particular, when there are a plurality of layers containing a color-forming reducing agent, the mordant is added to each adjacent layer. Is also preferred. The coupler forming the diffusible dye may be any coupler as long as the diffusible dye formed by coupling with the color-forming reducing agent of the present invention reaches the mordant, but the diffusible dye formed is pKa
(Acid dissociation constant) It is preferable to have one or more dissociating groups of 12 or less, more preferably one or more dissociating groups of pKa 8 or less, and particularly preferably a dissociating group of pKa 6 or less. The molecular weight of the formed diffusible dye is preferably 200 or more and 2000 or less. Further, (the molecular weight of the formed dye / the number of dissociating groups having a pKa of 12 or less) is 100 to 20.
00 or less, more preferably 100 or more and 1000 or less. Here, as the value of pKa, a value measured using dimethylformamide: water = 1: 1 as a solvent is used.
【0123】拡散性色素を形成するカプラーは本発明の
発色用還元剤とカップリングして形成される拡散性色素
の溶解度が25℃までpH11のアルカリ液に1×10
-6モル/リットル以上溶けることが好ましく、1×10
-5モル/リットル以上溶けることが更に好ましく、1×
10-4モル/リットル以上溶けることが特に好ましい。
また拡散性色素を形成するカプラーは本発明の発色用還
元剤とカップリングして形成される拡散性色素の拡散定
数が25℃、pH11のアルカリ液中、10-4モル/リ
ットルの濃度で溶かしたときに1×10-8m2/s-1以上
であることが好ましく、1×10-7m2/s-1以上である
ことが更に好ましく、1×10-6m2/s-1以上であるこ
とが特に好ましい。The coupler which forms the diffusible dye is 1 × 10 5 in an alkaline solution having a pH of 11 until the solubility of the diffusible dye formed by coupling with the reducing agent for color formation of the present invention reaches 25 ° C.
-6 mol / liter or more is preferable, and 1 × 10
-5 mol / liter or more preferably 1 ×
It is particularly preferred that the dissolution is 10 -4 mol / l or more.
The coupler forming the diffusible dye is dissolved in an alkaline solution having a diffusion constant of 25 ° C. and a pH of 11 at a concentration of 10 −4 mol / liter in an alkaline solution having a diffusible dye formed by coupling with the color-forming reducing agent of the present invention. In this case, it is preferably 1 × 10 −8 m 2 / s −1 or more, more preferably 1 × 10 −7 m 2 / s −1 or more, and 1 × 10 −6 m 2 / s −. It is particularly preferred that it is 1 or more.
【0124】本発明で用いることの出来る媒染剤は通常
使用される媒染剤の中から任意に選ぶことが出来るが、
それらの中でも特にポリマー媒染剤が好ましい。ここで
ポリマー媒染剤とは、3級アミノ基を有するポリマー、
含窒素複素環部分を有するポリマー、及びこれらの4級
カチオン基を含むポリマー等である。The mordant which can be used in the present invention can be arbitrarily selected from mordants usually used.
Among them, a polymer mordant is particularly preferable. Here, the polymer mordant is a polymer having a tertiary amino group,
Examples of the polymer include a polymer having a nitrogen-containing heterocyclic moiety, and a polymer including a quaternary cation group.
【0125】3級イミダゾール基を有するビニルモノマ
ー単位を含むホモポリマーやコポリマーの具体例として
は、米国特許第4,282,305号、同第4,11
5,124号、同第3,148,061号、特開昭60
−118834号、同60−122941号、同62−
244043号、同62−244036号等に記載され
ている媒染層が挙げられる。Specific examples of homopolymers and copolymers containing a vinyl monomer unit having a tertiary imidazole group are described in US Pat. Nos. 4,282,305 and 4,11.
No. 5,124, No. 3,148,061, JP-A-60
No. 118834, No. 60-122941, No. 62-
And mordant layers described in JP-A Nos. 240443 and 62-244036.
【0126】4級イミダゾリウム塩を有するビニルモノ
マー単位を含むホモポリマーやコポリマーの好ましい具
体例としては、英国特許第2,056,101号、同第
2,093,041号、同第1,594,961号、米
国特許第4,124,386号、同第4,115,12
4号、同第4,450,224号、特開昭48−283
25号等に記載されている媒染剤を含め以下のものが挙
げられる。Preferred specific examples of homopolymers and copolymers containing a vinyl monomer unit having a quaternary imidazolium salt include British Patent Nos. 2,056,101, 2,093,041, and 1,594. U.S. Pat. Nos. 4,124,386 and 4,115,12.
4, No. 4,450,224, JP-A-48-283.
The following may be mentioned, including the mordants described in No. 25 and the like.
【0127】その他、4級アンモニウム塩を有するビニ
ルモノマー単位を有するホモポリマーやコポリマーの好
ましい具体例としては、米国特許第3,709,690
号、同第3,898,088号、同第3,958,99
5号、特開昭60−57836号、同60−60643
号、同60−122940号、同60−122942
号、同60−235134号等に記載されている媒染剤
が挙げられる。In addition, preferred specific examples of homopolymers and copolymers having a vinyl monomer unit having a quaternary ammonium salt are described in US Pat. No. 3,709,690.
No. 3,898,088, No. 3,958,99
No. 5, JP-A-60-57836 and JP-A-60-60643.
No. 60-122940, No. 60-122942
And mordants described in JP-A-60-235134.
【0128】その他、米国特許第2,548,564
号、同第2,484,430号、同第3,148,16
1号、同第3,756,814号明細書等に開示されて
いるビニルピリジンポリマー、およびビニルピリジニウ
ムカチオンポリマー;米国特許第3,625,694
号、同第3,859,096号、同第4,128,53
8号、英国特許第1,277,453号明細書等に開示
されているゼラチン等と架橋可能なポリマー媒染剤;米
国特許3,958,995号、同第2,721,852
号、同第2,798,063号、特開昭54−1152
28号、同54−145529号、同54−26027
号明細書等に開示されている水性ゾル型媒染剤;米国特
許第3,898,088号明細書に開示されている水不
溶性媒染剤;米国特許第4,168,976号(特開昭
54−137333号)明細書等に開示の染料と共有結
合を行うことのできる反応性媒染剤;更に米国特許第
3,709,690号、同第3,788,855号、同
第3,642,482号、同第3,488,706号、
同第3,557,066号、同第3,271,147
号、特開昭50−71332号、同53−30328
号、同52−155528号、同53−125号、同5
3−1024号明細書に開示してある媒染剤を挙げるこ
とができる。その他、米国特許第2,675,316
号、同第2,882,156号明細書に記載の媒染剤も
挙げることができる。In addition, US Pat. No. 2,548,564
No. 2,484,430 and 3,148,16
No. 3,756,814 and the like, vinylpyridine polymer and vinylpyridinium cationic polymer; US Pat. No. 3,625,694
No. 3,859,096, No. 4,128,53
No. 8, No. 1,277,453 and the like, polymer mordants crosslinkable with gelatin and the like; US Pat. Nos. 3,958,995 and 2,721,852
No. 2,798,063, JP-A-54-1152.
No. 28, No. 54-145529, No. 54-26027
Aqueous sol-type mordant disclosed in the specification of US Pat. No. 3,898,088; water-insoluble mordant disclosed in the specification of US Pat. No. 3,898,088; US Pat. No. 3,709,690, 3,788,855, and 3,642,482; reactive mordants capable of forming a covalent bond with the dyes disclosed in the specification and the like; No. 3,488,706,
No. 3,557,066, No. 3,271,147
No., JP-A-50-71332 and JP-A-53-30328.
Nos. 52-155528, 53-125, 5
Examples include mordants disclosed in the specification of JP-A-3-1024. Other US Pat. No. 2,675,316
And the mordants described in JP-A-2,882,156.
【0129】本発明のポリマー媒染剤の分子量は1,0
00〜1,000,000が適当であり、特に10,0
00〜200,000が好ましい。上記のポリマー媒染
剤は通常親水性コロイドと混合されて用いられる。親水
性コロイドとしては親水性コロイド、高吸湿性ポリマー
あるいはそれらの両方が使用できるが、ゼラチンが最も
代表的である。ポリマー媒染剤と親水性コロイドの混合
比、及びポリマー媒染剤の塗布量は、媒染されるべき色
素の量、ポリマー媒染剤の種類や組成、さらに用いられ
る画像形成過程などに応じて、当業者が容易に定めるこ
とができるが、媒染剤/親水性コロイド比が20/80
〜80/20(重量比)、媒染剤塗布量は0.2〜15
g/m2が適当であり、好ましくは0.5〜8g/m2で使
用するのが好ましい。The polymer mordant of the present invention has a molecular weight of 1,0.
100 to 1,000,000 is suitable, and especially 10,000
00 to 200,000 is preferred. The above-mentioned polymer mordant is usually used by being mixed with a hydrophilic colloid. As the hydrophilic colloid, a hydrophilic colloid, a highly hygroscopic polymer or both of them can be used, and gelatin is most typical. The mixing ratio of the polymer mordant and the hydrophilic colloid, and the amount of the polymer mordant to be applied are easily determined by those skilled in the art according to the amount of the dye to be mordant, the type and composition of the polymer mordant, and the image forming process to be used. But the mordant / hydrophilic colloid ratio is 20/80
~ 80/20 (weight ratio), mordant applied amount is 0.2 ~ 15
g / m 2 is suitable, preferably for use in the 0.5 to 8 g / m 2.
【0130】本発明では感光材料中に補助現像主薬また
はその前駆体を用いることが好ましく、これら化合物に
ついて以下に説明する。本発明で用いられる補助現像主
薬とは、ハロゲン化銀粒子の現像過程において、発色用
還元剤からハロゲン化銀への電子移動を促進する作用を
有する化合物であり、好ましくは露光されたハロゲン化
銀粒子を現像し、かつその酸化体が発色用還元剤を酸化
すること(以後クロス酸化と呼ぶ)かできる化合物であ
る。本発明で用いられる補助現像主薬は、好ましくはピ
ラゾリドン類、ジヒドロキシベンゼン類、レダクトン類
またはアミノフェノール類が用いられ、特に好ましくは
ピラゾリドン類が用いられる。親水性コロイド層中での
これら化合物の拡散性は低い方が好ましく、例えば水へ
の溶解度(25℃)が、好ましくは0.1%以下、更に
好ましくは0.05%以下、特に好ましくは0.01%
以下である。本発明で用いられる補助現像主薬の前駆体
は、感材材料中では安定に存在するが、一旦処理液で処
理されると迅速に上記補助現像主薬を放出する化合物で
あり、この化合物を使用する場合にも親水性コロイド層
中での拡散性が低い方が好ましい。例えば水への溶解度
(25℃)が好ましくは0.1%以下、更に好ましくは
0.05%以下、特に好ましくは0.01%以下であ
る。前駆体から放出される補助現像主薬の溶解度は特に
制限されないが、補助現像主薬自体も溶解度が低い方が
好ましい。本発明の補助現像主薬前駆体は好ましくは一
般式(A)で表される。In the present invention, it is preferable to use an auxiliary developing agent or a precursor thereof in the light-sensitive material, and these compounds will be described below. The auxiliary developing agent used in the present invention is a compound having an action of promoting electron transfer from a color-forming reducing agent to silver halide in the course of developing silver halide grains, and preferably, an exposed silver halide. It is a compound which develops particles and whose oxidized form can oxidize a color-forming reducing agent (hereinafter referred to as cross-oxidation). As the auxiliary developing agent used in the present invention, pyrazolidones, dihydroxybenzenes, reductones or aminophenols are preferably used, and pyrazolidones are particularly preferably used. The diffusivity of these compounds in the hydrophilic colloid layer is preferably low. For example, the solubility in water (25 ° C.) is preferably 0.1% or less, more preferably 0.05% or less, and particularly preferably 0% or less. .01%
It is as follows. The precursor of the auxiliary developing agent used in the present invention is a compound which is stably present in the light-sensitive material, but which releases the above-mentioned auxiliary developing agent quickly once it is processed with a processing solution. In this case, it is preferable that the diffusivity in the hydrophilic colloid layer is low. For example, the solubility in water (25 ° C.) is preferably 0.1% or less, more preferably 0.05% or less, and particularly preferably 0.01% or less. The solubility of the auxiliary developing agent released from the precursor is not particularly limited, but the auxiliary developing agent itself preferably has low solubility. The auxiliary developing agent precursor of the present invention is preferably represented by the general formula (A).
【0131】一般式(A) A−(L)n −PUG Aは現像処理時に(L)n −PUGとの結合が開裂する
ブロック基を表し、Lは一般式(A)におけるLとAと
の結合が開裂した後、LとPUGとの結合が開裂する連
結基を表し、nは0〜3の整数を表し、PUGは補助現
像主薬を表す。補助現像主薬としてはp−フェニレンジ
アミン類の化合物以外のケンダール−ペルツ則に従う電
子放出性の化合物が用いられ、上記したピラゾリドン類
が好ましく用いられる。Aで表されるブロック基として
は、公知の以下のものを適用できる。即ち、米国特許第
3,311,476号等に記載のアシル基、スルホニル
基等のブロック基、特開昭59−105642号等に記
載の逆マイケル反応を利用するブロック基、特開平2−
280140号等に記載の分子内電子移動によりキノン
メチドまたはキノンメチド類似の化合物を利用するブロ
ック基、特開昭63−318555号(欧州特許公開0
295729号)等に記載の分子内求核置換反応を利用
するブロック基、特開平4−186344号等に記載の
共役不飽和結合への求核剤の付加反応を利用するブロッ
ク基、特開昭62−163051号に記載のβ−離脱反
応を利用するブロック基、特開昭61−188540号
に記載のジアリールメタン類の求核置換反応を利用した
ブロック基、特開昭62−187850号に記載のロッ
セン転位反応を利用したブロック基、特開昭62−14
7457号に記載されているチアゾリジン−2−チオン
のN−アシル体とアミンとの反応を利用したブロック
基、国際公開特許93/03419号に記載の2個の求
電子基を有して二求核剤と反応するブロック基等を挙げ
る事ができる。Lで表される基は現像処理時Aで表され
る基より離脱した後、(L)n-1 −PUGを開裂するこ
とが可能な連結基であり、この機能をもつものなら特に
制限はない。補助現像主薬またはその前駆体を具体的に
示すが、本発明に用いられる化合物はこれら具体例に限
定されるものではない。Formula (A) A- (L) n -PUG A represents a block group in which the bond to (L) n -PUG is cleaved during development processing, and L represents L and A in formula (A). Represents a linking group in which the bond between L and PUG is cleaved after the bond is cleaved, n represents an integer of 0 to 3, and PUG represents an auxiliary developing agent. As the auxiliary developing agent, an electron-emitting compound according to the Kendall-Peltz rule other than the p-phenylenediamine compounds is used, and the above-mentioned pyrazolidones are preferably used. As the blocking group represented by A, the following known ones can be applied. That is, a blocking group such as an acyl group or a sulfonyl group described in U.S. Pat. No. 3,311,476, a blocking group utilizing a reverse Michael reaction described in JP-A-59-105542 or the like;
No. 280140, a blocking group utilizing quinone methide or a compound similar to quinone methide by intramolecular electron transfer, JP-A-63-318555 (European Patent Publication 0)
No. 295729), a blocking group utilizing an intramolecular nucleophilic substitution reaction, a blocking group utilizing an addition reaction of a nucleophile to a conjugated unsaturated bond described in JP-A-4-186344, and the like. 62-163051, a blocking group utilizing a β-elimination reaction, JP-A-61-188540, a blocking group utilizing a nucleophilic substitution reaction of diarylmethanes, and JP-A-62-187850. Group utilizing the Rossen rearrangement reaction of
No. 7457, a blocking group utilizing the reaction of an N-acyl compound of thiazolidine-2-thione with an amine, and a dithiolidine having two electrophilic groups described in WO 93/03419. Blocking groups that react with a nucleating agent can be exemplified. The group represented by L is a linking group capable of cleaving (L) n-1 -PUG after leaving from the group represented by A during development processing. Absent. Specific examples of the auxiliary developing agent or its precursor are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to these specific examples.
【0132】[0132]
【化66】 Embedded image
【0133】[0133]
【化67】 Embedded image
【0134】これら化合物は感光層、中間層、下塗り
層、保護層のどの層に添加してもよいが、補助現像主薬
を含有する場合、好ましくは非感光層に添加して使用さ
れる。これら化合物を感光材料に含有させる方法として
は、メタノール等の水混和性の有機溶媒に溶解し、直接
親水性コロイド層に添加する方法、界面活性剤を共存さ
せて、水溶液あるいはコロイド分散物にして添加する方
法、実質上水と非混和性の溶媒やオイルに溶解した後、
水または親水性コロイドに分散したものを添加する方法
または固体微粒子分散体の状態で添加する方法等がとら
れ、従来の公知の方法が単独または併用して適用でき
る。固体微粒子分散物の調製方法としては、詳しくは特
開平2−235044号の20頁に記載されている。感
光材料中への添加量は、発色用還元剤に対し1mole%〜
200mole%、好ましくは5mole%〜100mole%、よ
り好ましくは10mole%〜50mole%である。These compounds may be added to any of the photosensitive layer, the intermediate layer, the undercoat layer and the protective layer. When the compound contains an auxiliary developing agent, it is preferably used by adding it to a non-photosensitive layer. As a method of incorporating these compounds into the photosensitive material, a method of dissolving in a water-miscible organic solvent such as methanol and directly adding the compound to the hydrophilic colloid layer, and coexisting with a surfactant to form an aqueous solution or a colloidal dispersion. The method of addition, after dissolving in a solvent or oil that is substantially immiscible with water,
A method of adding a substance dispersed in water or a hydrophilic colloid, a method of adding a dispersion in the form of a solid fine particle dispersion, and the like can be used, and a conventionally known method can be applied alone or in combination. The method for preparing the solid fine particle dispersion is described in detail in page 20 of JP-A-2-23544. The amount added to the light-sensitive material is from 1 mole% to the color-forming reducing agent.
It is 200 mole%, preferably 5 mole% to 100 mole%, more preferably 10 mole% to 50 mole%.
【0135】本発明に使用する支持体には、ガラス、
紙、プラスチックフィルムなど写真乳剤層を塗布できる
透過型または反射型支持体ならいかなる支持体も使用で
きる。本発明に使用するプラスチックフィルムには、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、三酢酸セルロースあるいは硝酸セルロースなどのポ
リエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボ
ネート、ポリスチレンフィルム等を用いることができ
る。本発明に使用しうる「反射型支持体」とは、反射性
を高めてハロゲン化銀乳剤層に形成された色素画像を鮮
明にするものをいい、このような反射型支持体には、支
持体上に酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、硫酸
カルシウム等の光反射物質を分散含有する疎水性樹脂を
被覆したものや、光反射性物質を分散含有する疎水性樹
脂そのものを支持体として用いたものが含まれる。例え
ばポリエチレン被覆紙、ポリエステル被覆紙、ポリプロ
ピレン系合成紙、反射層を併設した、或いは反射性物質
を併用する支持体、例えばガラス板、ポリエチレンテレ
フタレート、三酢酸セルロース或いは硝酸セルロースな
どのポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ
カーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、塩化ビ
ニル樹脂がある。ポリエステル被覆紙については、特に
欧州特許EP0,507,489号に記載されているポ
リエチレンテレフタレートを主成分とするポリエステル
被覆紙が好ましく用いられる。The support used in the present invention includes glass,
Any support such as paper and plastic film which can be coated with a photographic emulsion layer can be used as long as it is a transmission or reflection support. As the plastic film used in the present invention, a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, cellulose triacetate or cellulose nitrate, a polyamide film, a polycarbonate film, a polystyrene film and the like can be used. The "reflective support" that can be used in the present invention refers to a support that enhances reflectivity to sharpen a dye image formed in a silver halide emulsion layer. A substrate coated with a hydrophobic resin containing a light-reflective substance such as titanium oxide, zinc oxide, calcium oxide, or calcium sulfate, or a hydrophobic resin itself containing a light-reflective substance dispersed therein was used as a support. Things included. For example, polyethylene-coated paper, polyester-coated paper, polypropylene-based synthetic paper, supports provided with a reflective layer or combined with a reflective substance, for example, glass plates, polyester films such as polyethylene terephthalate, cellulose triacetate or cellulose nitrate, polyamide films , Polycarbonate film, polystyrene film, and vinyl chloride resin. As the polyester-coated paper, a polyester-coated paper containing polyethylene terephthalate as a main component described in European Patent EP 0,507,489 is particularly preferably used.
【0136】本発明に使用する反射性支持体は、耐水性
樹脂層で両面を被覆された紙支持体で耐水性樹脂の少な
くとも一方が白色顔料微粒子や、蛍光増白剤などを含有
するものが好ましい。白色顔料粒子は12重量%以上の
密度で含有されていることが好ましく、より好ましくは
14重量%以上である。光反射性白色顔料としては、界
面活性剤の存在下に白色顔料を十分に混練するのがよ
く、また顔料粒子の表面を2〜4価のアルコールで処理
したものが好ましい。The reflective support used in the present invention is a paper support coated on both sides with a water-resistant resin layer, wherein at least one of the water-resistant resins contains white pigment fine particles, a fluorescent whitening agent and the like. preferable. The white pigment particles are preferably contained at a density of 12% by weight or more, more preferably 14% by weight or more. As the light-reflective white pigment, it is preferable to sufficiently knead the white pigment in the presence of a surfactant, and it is preferable that the surface of the pigment particles is treated with a divalent to tetravalent alcohol.
【0137】前記の蛍光増白剤としては、例えば、ベン
ゾオキサゾール系、クマリン系、ピラゾリン系の化合物
などが好適に挙げられ、これらの中でもベンゾオキサゾ
リルナフタレン系及びベンゾオキサゾリルスチルベン系
の化合物がより好ましい。蛍光増白剤の使用量として
は、特に制限はないが、1〜100mg/m2 が好まし
い。蛍光増白剤を耐水性樹脂に混合する場合、その混合
比としては、耐水性樹脂に対し、0.0005〜3重量
%が好ましく、0.001〜0.5重量%がより好まし
い。なお、本発明においては、蛍光増白剤をハロゲン化
銀カラー写真感光材料における親水性コロイド層中に分
散して使用してもよい。本発明においては、第二種拡散
反射性の表面をもつ支持体が好ましく用いうる。第二種
拡散反射性とは、鏡面を有する表面に凹凸を与えて微細
な異なった方向を向く鏡面に分割して得た拡散反射性の
ことをいう。第二種拡散反射性の表面の凹凸は、中心面
に対する三次元平均粗さが0.1〜2μm、好ましくは
0.1〜1.2μmである。このような支持体の詳細に
ついては、特開平2−239244号に記載されてい
る。Suitable examples of the above-mentioned fluorescent whitening agent include benzoxazole, coumarin and pyrazoline compounds, among which benzooxazolyl naphthalene and benzooxazolyl stilbene compounds. Is more preferred. The amount of the fluorescent whitening agent is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 mg / m 2 . When the fluorescent whitening agent is mixed with the water-resistant resin, the mixing ratio is preferably 0.0005 to 3% by weight, more preferably 0.001 to 0.5% by weight, based on the water-resistant resin. In the present invention, a fluorescent whitening agent may be used by dispersing it in a hydrophilic colloid layer in a silver halide color photographic light-sensitive material. In the present invention, a support having a second type diffuse reflection surface can be preferably used. The second type diffuse reflectivity refers to diffuse reflectivity obtained by imparting irregularities to a surface having a mirror surface and dividing the mirror surface into minute mirror surfaces facing different directions. The unevenness of the surface of the second type diffuse reflection surface has a three-dimensional average roughness of 0.1 to 2 μm, preferably 0.1 to 1.2 μm with respect to the center plane. Details of such a support are described in JP-A-2-239244.
【0138】イエロー、マゼンタ、シアンの3原色を用
いて色度図上の広範囲の色を得るためには、少なくとも
3層のそれぞれ異なるスペクトル領域に感光性を持つハ
ロゲン化銀乳剤層が組み合わせて用いられる。たとえば
前記の支持体上に青感層、緑感層、赤感層の3層や、緑
感層、赤感層、赤外感層の3層などが組み合わせて塗布
される。各感光層は通常のカラー感光材料で知られてい
る種々の配列順序を採ることができる。またこれらの各
感光層は必要に応じて2層以上に分割してもよい。感光
材料には、前記の感光層と保護層、下塗り層、中間層、
アンチハレーション層、バック層等の種々の非感光層か
らなる写真構成層を設けることができる。更に色分離性
を改良するために種々のフィルター染料を写真構成層に
添加することもできる。In order to obtain a wide range of colors on the chromaticity diagram using the three primary colors of yellow, magenta and cyan, at least three silver halide emulsion layers having photosensitivity in different spectral regions are used in combination. Can be For example, three layers of a blue-sensitive layer, a green-sensitive layer, and a red-sensitive layer, and three layers of a green-sensitive layer, a red-sensitive layer, and an infrared-sensitive layer are coated on the support in combination. Each photosensitive layer can adopt various arrangement orders known for ordinary color photosensitive materials. Each of these photosensitive layers may be divided into two or more layers as necessary. In the photosensitive material, the photosensitive layer and the protective layer, an undercoat layer, an intermediate layer,
A photographic component layer composed of various non-photosensitive layers such as an antihalation layer and a back layer can be provided. Further, various filter dyes can be added to the photographic component layer in order to improve color separation.
【0139】本発明に係わる感光材料に用いることので
きる結合剤又は保護コロイドとしては、ゼラチンを用い
ることが有利であるが、それ以外の親水性コロイドを単
独あるいはゼラチンとともに用いることができる。ゼラ
チンのカルシウム含有量は800ppm 以下が好ましく、
200ppm 以下がより好ましく、ゼラチンの鉄含有量は
5ppm 以下が好ましく、3ppm 以下がより好ましい。ま
た親水性コロイド層中に繁殖して画像を劣化させる各種
の黴や細菌を防ぐために、特開昭63−271247号
公報に記載のような防黴剤を添加するのが好ましい。As the binder or protective colloid that can be used in the light-sensitive material according to the present invention, gelatin is advantageously used, but other hydrophilic colloids can be used alone or together with gelatin. The calcium content of the gelatin is preferably 800 ppm or less,
The content of iron is preferably not more than 5 ppm, more preferably not more than 3 ppm, more preferably not more than 200 ppm. In order to prevent various fungi and bacteria that propagate in the hydrophilic colloid layer and deteriorate the image, it is preferable to add a fungicide as described in JP-A-63-271247.
【0140】本発明の感光材料をプリンター露光する
際、米国特許第4,880,726号に記載のバンドス
トップフィルターを用いることが好ましい。これによっ
て光混色が取り除かれ、色再現性が著しく向上する。本
発明の感光材料は、通常のネガプリンターを用いたプリ
ントシステムに使用される以外に、陰極線(CRT)を
用いた走査露光方式にも適している。陰極線管露光装置
は、レーザーを用いた装置に比べて、簡便でかつコンパ
クトであり、低コストになる。また、光軸や色の調整も
容易である。画像露光に用いる陰極線管には、必要に応
じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体が用いられ
る。例えば赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいず
れか1種、あるいは2種以上が混合されて用いられる。
スペクトル領域は、上記の赤、緑、青に限定されず、黄
色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光する蛍光体も用い
られる。特に、これらの発光体を混合して白色に発光す
る陰極線管がしばしば用いられる。When the photosensitive material of the present invention is exposed to a printer, it is preferable to use a band stop filter described in US Pat. No. 4,880,726. As a result, light color mixing is removed, and color reproducibility is significantly improved. The light-sensitive material of the present invention is suitable for a scanning exposure method using a cathode ray (CRT) in addition to being used for a printing system using a normal negative printer. A cathode ray tube exposure apparatus is simpler, more compact, and lower in cost than an apparatus using a laser. Further, adjustment of the optical axis and color is also easy. Various light emitters that emit light in a spectral region are used as necessary for a cathode ray tube used for image exposure. For example, any one of a red light emitter, a green light emitter, and a blue light emitter, or a mixture of two or more thereof is used.
The spectral region is not limited to the above red, green, and blue, and a phosphor that emits light in a yellow, orange, purple, or infrared region is also used. In particular, a cathode ray tube which emits white light by mixing these light emitters is often used.
【0141】感光材料が異なる分光感度分布を有する複
数の感光性層を持ち、陰極線管も複数のスペクトル領域
の発光を示す蛍光体を有する場合には、複数の色を一度
に露光、即ち陰極線管に複数の色の画像信号を入力して
管面から発光させても良い。各色ごとの画像信号を順次
入力して各色の発光を順次行わせ、その色以外の色をカ
ットするフィルムを通して露光する方法(面順次露光)
を採っても良いが、一般には、面順次露光の方が、高解
像度の陰極線管を用いることができるため、高画質化の
ためには好ましい。本発明の感光材料は、ガスレーザ
ー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザー
あるいは半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザ
ーと非線形光学結晶を組合せた第二高調波発生光源(S
HG)、等の単色高密度光を用いたデジタル走査露光に
好ましく使用される。システムをコンパクトで、安価な
ものにするために半導体レーザー、半導体レーザーある
いは固体レーザーと非線形光学結晶を組合せた第二高調
波発生光源(SHG)を使用することが好ましい。特に
コンパクトで、安価、更に寿命が長く安定性が高い装置
を設計するためには半導体レーザーの使用が好ましく、
露光光源の少なくとも一つは半導体レーザーを使用する
ことが望ましい。When the photosensitive material has a plurality of photosensitive layers having different spectral sensitivity distributions and the cathode ray tube also has a phosphor which emits light in a plurality of spectral regions, a plurality of colors are exposed at a time, that is, the cathode ray tube is exposed. The image signal of a plurality of colors may be input to the display unit to emit light from the display screen. A method of sequentially inputting image signals for each color, sequentially emitting light of each color, and exposing through a film that cuts a color other than that color (plane sequential exposure)
However, in general, field-sequential exposure is preferable for improving image quality because a cathode ray tube with high resolution can be used. The photosensitive material of the present invention is a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser or a second harmonic generation light source (S
HG), etc., for digital scanning exposure using monochromatic high-density light. In order to make the system compact and inexpensive, it is preferable to use a semiconductor laser, or a second harmonic generation light source (SHG) combining a semiconductor laser or a solid-state laser with a nonlinear optical crystal. Particularly, in order to design a device that is compact, inexpensive, and has a long life and high stability, it is preferable to use a semiconductor laser.
It is desirable to use a semiconductor laser as at least one of the exposure light sources.
【0142】このような走査露光光源を使用する場合、
本発明の感光材料の分光感度極大は使用する走査露光用
光源の波長により任意に設定することが出来る。半導体
レーザーを励起光源に用いた固体レーザーあるいは半導
体レーザーと非線形光学結晶を組合せて得られるSHG
光源では、レーザーの発振波長を半分にできるので、青
色光、緑色光が得られる。従って、感光材料の分光感度
極大は通常の青、緑、赤の3つの領域に持たせることが
可能である。装置を安価で安定性の高いコンパクトなも
のにするために光源として半導体レーザーを使用するた
めには、少なくとも2層が670nm以上に分光感度極大
を有していることが好ましい。これは、入手可能な安価
で、安定なIII-V族系半導体レーザーの発光波長域が現
在赤から赤外領域にしかないためである。しかしながら
実験室レベルでは、緑や青域のII−VI族系半導体レーザ
ーの発振が確認されており、半導体レーザーの製造技術
が発達すればこれらの半導体レーザーを安価に安定に使
用することができるであろうことは十分に予想される。
このような場合は、少なくとも2層が670nm以上に分
光感度極大を有する必要性は小さくなる。When such a scanning exposure light source is used,
The maximum spectral sensitivity of the light-sensitive material of the present invention can be arbitrarily set depending on the wavelength of the scanning exposure light source used. Solid-state laser using a semiconductor laser as an excitation light source or SHG obtained by combining a semiconductor laser with a nonlinear optical crystal
In the light source, the laser oscillation wavelength can be halved, so that blue light and green light can be obtained. Therefore, the spectral sensitivity maximum of the photosensitive material can be provided in the usual three regions of blue, green and red. In order to use a semiconductor laser as a light source in order to make the device inexpensive, highly stable and compact, it is preferable that at least two layers have a spectral sensitivity maximum at 670 nm or more. This is because the currently available, inexpensive and stable III-V based semiconductor laser has an emission wavelength range only in the red to infrared region. However, at the laboratory level, oscillations of II-VI group semiconductor lasers in the green and blue regions have been confirmed, and if semiconductor laser manufacturing technology develops, these semiconductor lasers can be used stably at low cost. It is fully anticipated.
In such a case, the necessity for at least two layers to have a spectral sensitivity maximum at 670 nm or more is reduced.
【0143】このような走査露光においては、感光材料
中のハロゲン化銀が露光される時間とは、ある微小面積
を露光するのに要する時間となる。この微小面積として
はそれぞれのディジタルデータから光量を制御する最小
単位を一般的に使用し、画素と称している。したがっ
て、この画素の大きさで画素当たりの露光時間は変わっ
てくる。この画素の大きさは、画素密度に依存し現実的
な範囲としては、50〜2000dpi である。露光時間
はこの画素密度を400dpi とした場合の画素サイズを
露光する時間として定義すると好ましい露光時間として
は10-4秒以下、更に好ましくは10-6秒以下である。In such scanning exposure, the time during which the silver halide in the photosensitive material is exposed is the time required to expose a small area. As the minute area, a minimum unit for controlling the amount of light from each digital data is generally used and is called a pixel. Therefore, the exposure time per pixel changes depending on the size of the pixel. The size of this pixel depends on the pixel density, and a practical range is 50 to 2000 dpi. The exposure time is preferably defined as 10-4 seconds or less, and more preferably 10-6 seconds or less, when the pixel density is defined as 400 dpi and the pixel size is defined as the exposure time.
【0144】本発明に用いるハロゲン化銀粒子は臭化
銀、塩化銀、沃化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、沃臭化銀、
塩沃臭化銀である。それ以外の銀塩、例えばロダン銀、
硫化銀、セレン化銀、炭酸銀、リン酸銀、有機酸銀が別
粒子として、あるいはハロゲン化銀粒子の一部分として
含まれていてもよい。現像・脱銀(漂白、定着および漂
白定着)工程の迅速化が望まれるときには塩化銀含有量
が90モル%以上の、いわゆる高塩化銀粒子が望まし
い。また適度に現像を抑制させる場合には沃化銀を含有
することが好ましい。好ましい沃化銀含量は目的の感光
材料によって異なる。本発明で使用する高塩化銀乳剤に
おいては臭化銀局在相を層状もしくは非層状にハロゲン
化銀粒子内部および/または表面に有する構造のものが
好ましい。上記局在相のハロゲン組成は、臭化銀含有率
において少なくとも10モル%のものが好ましく、20
モル%を越えるものがより好ましい。臭化銀局在層の臭
化銀含有率は、X線回折法(例えば、「日本化学会編、
新実験化学講座6、構造解析」丸善、に記載されてい
る。)等を用いて分析することができる。そして、これ
らの局在相は、粒子内部、粒子表面のエッジ、コーナー
あるいは面上にあることができるが、一つの好ましい例
として、粒子のコーナー部にエピタキシャル成長したも
のを挙げることができる。また、現像処理液の補充量を
低減する目的でハロゲン化銀乳剤の塩化銀含有率を更に
高めることも有効である。この様な場合にはその塩化銀
含有率が98モル%〜100モル%であるような、ほぼ
純塩化銀の乳剤も好ましく用いられる。The silver halide grains used in the present invention are silver bromide, silver chloride, silver iodide, silver chlorobromide, silver chloroiodide, silver bromoiodide,
It is silver chloroiodobromide. Other silver salts, such as rodin silver,
Silver sulfide, silver selenide, silver carbonate, silver phosphate, and organic acid silver may be contained as separate grains or as a part of silver halide grains. When rapid development and desilvering (bleaching, fixing and bleach-fixing) steps are desired, so-called high silver chloride grains having a silver chloride content of 90 mol% or more are desirable. In order to appropriately suppress development, it is preferable to contain silver iodide. The preferred silver iodide content depends on the intended light-sensitive material. The high silver chloride emulsion used in the present invention preferably has a structure having a silver bromide localized phase in a layered or non-layered form inside and / or on the surface of silver halide grains. The halogen composition of the localized phase is preferably at least 10 mol% in terms of silver bromide content.
More than mol% is more preferred. The silver bromide content of the silver bromide localized layer is determined by an X-ray diffraction method (for example, “The Chemical Society of Japan,
New Experimental Chemistry Course 6, Structural Analysis "Maruzen. ) And the like. These localized phases can be inside the grains, at the edges, corners, or planes of the grain surfaces. One preferred example is a phase epitaxially grown at the corners of the grains. It is also effective to further increase the silver chloride content of the silver halide emulsion in order to reduce the replenishment amount of the developing solution. In such a case, a substantially pure silver chloride emulsion having a silver chloride content of 98 to 100 mol% is also preferably used.
【0145】投影面積の円相当直径を粒子厚みで割った
値をアスペクト比と呼び、平板状粒子の形状を規定して
いる。アスペクト比が1より大きい平板状粒子を本発明
に使用できる。粒子の全投影面積の80%以上の平均ア
スペクト比として、1以上100未満が望ましい。より
好ましくは2以上20未満であり、特に好ましくは3以
上10未満である。平板粒子の形状として三角形、六角
形、円形などを選ぶことができる。米国特許第4,79
7,354号に記載されているような六辺の長さがほぼ
等しい正六角形は好ましい形態である。The value obtained by dividing the circle equivalent diameter of the projected area by the grain thickness is called an aspect ratio, and defines the shape of tabular grains. Tabular grains having an aspect ratio greater than 1 can be used in the present invention. The average aspect ratio of 80% or more of the total projected area of the grains is desirably 1 or more and less than 100. It is more preferably 2 or more and less than 20 and particularly preferably 3 or more and less than 10. The shape of the tabular grains can be selected from triangles, hexagons, and circles. US Patent 4,79
A regular hexagon having substantially equal lengths of six sides as described in US Pat. No. 7,354 is a preferred form.
【0146】本発明に用いる乳剤は粒子サイズ分布の広
い、いわゆる多分散乳剤でも、サイズ分布の狭い単分散
乳剤でも目的に応じて選んで用いることができる。サイ
ズ分布を表わす尺度として粒子の投影面積円相当直径あ
るいは体積の球相当直径の変動係数を用いる場合があ
る。単分散乳剤を用いる場合、変動係数が25%以下、
より好ましくは20%以下、さらに好ましくは15%以
下のサイズ分布の乳剤を用いるのがよい。本発明に用い
る感光材料には、前記の種々の添加剤が用いられるが、
それ以外にも目的に応じて種々の添加剤を用いることが
できる。これらの添加剤は、より詳しくはリサーチディ
スクロージャーItem 17643(1978年12月)、同It
em 18716(1979年11月)および同Item 307105
(1989年ll月)に記載されており、その該当個所
を後掲の表にまとめて示した。The emulsion used in the present invention may be a polydisperse emulsion having a wide grain size distribution, or a monodisperse emulsion having a narrow size distribution. As a scale representing the size distribution, a variation coefficient of a circle equivalent diameter of a projected area of a particle or a sphere equivalent diameter of a volume may be used. When a monodispersed emulsion is used, the coefficient of variation is 25% or less,
It is more preferable to use an emulsion having a size distribution of 20% or less, more preferably 15% or less. In the photosensitive material used in the present invention, the various additives described above are used.
In addition, various additives can be used according to the purpose. These additives are described in more detail in Research Disclosure Item 17643 (December 1978), It
em 18716 (November 1979) and Item 307105
(11/1989), and the relevant locations are summarized in the table below.
【0147】[0147]
【表1】 [Table 1]
【0148】本発明の感光材料の全塗布銀量は、銀換算
で1m2当たり0.003〜12gで使用するのが好まし
い。カラーネガフィルム等の透過材料の場合には好まし
くは1〜12gで、更に好ましくは3〜10gである。
またカラーペーパー等の反射材料では0.003〜1g
が迅速処理や低補充化の点で好ましく、その場合各層の
添加量は、1つの感光層につき0.001〜0.4gが
好ましい。特に本発明の感光材料を補力処理する場合に
は全塗布銀量が0.003g〜0.3gであることが好
ましく、更に好ましくは0.01〜0.1g、特に好ま
しくは0.015〜0.05gである。この場合1つの
感光層につき0.001〜0.1gが好ましく、更に好
ましくは0.003g〜0.03gである。本発明で
は、それぞれの感光層の塗布銀量が1m2当たり0.00
1g未満だと銀塩の溶解が進み、十分な発色濃度が得ら
れず、また補力処理する場合0.1gを越える場合にD
minの増加や気泡が生じ、鑑賞に耐え難くなりやす
い。The total amount of silver applied to the light-sensitive material of the present invention is preferably 0.003 to 12 g per m 2 in terms of silver. In the case of a transmission material such as a color negative film, the weight is preferably 1 to 12 g, more preferably 3 to 10 g.
0.003 to 1 g for reflective materials such as color paper
Is preferred in terms of rapid processing and low replenishment. In this case, the amount of each layer added is preferably 0.001 to 0.4 g per photosensitive layer. Particularly when the light-sensitive material of the present invention is subjected to intensification processing, the total coated silver amount is preferably 0.003 g to 0.3 g, more preferably 0.01 to 0.1 g, and particularly preferably 0.015 to 0.1 g. It is 0.05 g. In this case, the amount is preferably 0.001 to 0.1 g, more preferably 0.003 g to 0.03 g, for one photosensitive layer. In the present invention, 1 m 2 per 0.00 silver coverage of the light-sensitive layer
If the amount is less than 1 g, the dissolution of the silver salt proceeds, and a sufficient color density cannot be obtained.
An increase in min and bubbles are generated, and it becomes difficult to endure appreciation.
【0149】本発明の感光材料の全ゼラチン量は、1m2
当たり1.0〜30gであり、好ましくは2.0〜20
gである。pH12のアルカリ液を用いた本感光材料の
膨潤において、その飽和膨潤膜厚(最大膨潤膜厚の90
%)の1/2の膨潤膜厚に到達する時間は、15秒以下
が好ましく、更に10秒以下が好ましい。また膨潤率
〔(最大膨潤膜厚−膜厚)/膜厚×100〕は、50〜
300%が好ましく、特に100〜200%が好まし
い。The total amount of gelatin in the light-sensitive material of the present invention is 1 m 2
1.0 to 30 g, preferably 2.0 to 20 g
g. In the swelling of the present photosensitive material using an alkaline solution having a pH of 12, the saturated swelling film thickness (90% of the maximum swelling film thickness) is obtained.
%) Is preferably 15 seconds or less, more preferably 10 seconds or less. The swelling ratio [(maximum swollen film thickness−film thickness) / film thickness × 100] is 50 to
300% is preferable, and especially 100-200% is preferable.
【0150】本発明に用いる装置の構成及び作用を以下
に説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に用いる
処理液塗布装置の概略全体構成図である。図1に示す如
く、処理液塗布部50の感光材料16の搬送経路Aと対
向する位置には、塗布装置310の一部を構成する噴射
タンク312が配置されている。32は感光材料16の
搬送ローラ、34は処理ずみ感光材料の巻取ローラを示
す。図1に示すように、この噴射タンク312の左下方
には、この噴射タンク312に供給する為の処理液を貯
留する処理液ボトル332が配置されており、この処理
液ボトル332の上部に処理液を濾過する為のフィルタ
334が配置されている。そして、途中にポンプ336
が配置された送水パイプ342が、この処理液ボトル3
32とフィルタ334との間を繋いでいる。さらに、噴
射タンク312の右側には、処理液ボトル332より送
られた処理液を溜めるサブタンク338が配置されてお
り、フィルタ334から送水パイプ344がサブタンク
338にまで伸びている。The configuration and operation of the device used in the present invention will be described below. FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of a treatment liquid application apparatus used in the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, an injection tank 312 that constitutes a part of the coating device 310 is disposed at a position of the processing liquid coating unit 50 that faces the transport path A of the photosensitive material 16. Reference numeral 32 denotes a transport roller for the photosensitive material 16, and reference numeral 34 denotes a take-up roller for the processed photosensitive material. As shown in FIG. 1, a processing liquid bottle 332 for storing a processing liquid to be supplied to the injection tank 312 is disposed below and to the left of the injection tank 312. A filter 334 for filtering the liquid is provided. And the pump 336 on the way
Is disposed in the processing liquid bottle 3.
32 and the filter 334. Further, on the right side of the injection tank 312, a sub tank 338 for storing the processing liquid sent from the processing liquid bottle 332 is arranged, and a water supply pipe 344 extends from the filter 334 to the sub tank 338.
【0151】従って、ポンプ336が作動すると、処理
液ボトル332からフィルタ334側に処理液が送られ
ると共に、フィルタ334を通過して濾過された水がサ
ブタンク338に送られて、サブタンク338に処理液
が一旦溜められるようになる。また、サブタンク338
と噴射タンク312との間を繋ぐ送水パイプ346が、
これらの間に配置されており、フィルタ334、サブタ
ンク338、送水パイプ346等を介して、処理液ボト
ル332よりポンプ336で送られた処理液がこの噴射
タンク312内に満たされることになる。Therefore, when the pump 336 is operated, the processing liquid is sent from the processing liquid bottle 332 to the filter 334 side, and the water filtered through the filter 334 is sent to the sub tank 338, and the processing liquid is sent to the sub tank 338. Will be stored once. Also, the sub tank 338
The water supply pipe 346 connecting between the water and the injection tank 312 is
The processing liquid, which is disposed between them, is sent from the processing liquid bottle 332 by the pump 336 via the filter 334, the sub-tank 338, the water supply pipe 346, and the like, so that the injection tank 312 is filled.
【0152】この噴射タンク312の下部には、処理液
ボトル332に循環パイプ348で繋がれたトレー34
0が配置されており、噴射タンク312より溢れ出した
処理液水をトレー340が集め、循環パイプ348を介
して処理液ボトル332に戻すようになっている。ま
た、この循環パイプ348は、サブタンク338内にま
で突出して伸びた状態でサブタンク338に接続されて
おり、サブタンク338内に溜まった必要以上の水を処
理液ボトル332に、戻すようになっている。また、図
1の噴射タンクの次に通常ヒートパネル上での保温、脱
銀、水洗、乾燥工程があるが図では省略されている。ヒ
ートパネルは搬送ローラーのずっと手前(図1の図の左
端)から脱銀処理工程の前まで設置されており、通常こ
のパネル上に感材を載せて移動させることが行われる。In the lower part of the injection tank 312, a tray 34 connected to a processing liquid bottle 332 by a circulation pipe 348 is provided.
The tray 340 collects the processing liquid water overflowing from the injection tank 312 and returns the processing liquid water to the processing liquid bottle 332 via the circulation pipe 348. The circulation pipe 348 is connected to the sub-tank 338 so as to protrude and extend into the sub-tank 338, and returns excess water accumulated in the sub-tank 338 to the processing liquid bottle 332. . Further, after the injection tank of FIG. 1, there are usually steps of heat retention, desilvering, washing and drying on a heat panel, but these steps are omitted in the figure. The heat panel is installed from just before the transport roller (the left end in the diagram of FIG. 1) to before the desilvering process, and usually a photosensitive material is placed on this panel and moved.
【0153】次に、噴射タンク312の構成とその作用
を図2以下を参照して詳細に説明する。図2は噴射タン
クの拡大斜視図、図3は下を感光材料が搬送される状態
を示す噴射タンクの底面図、図4は図3の要部拡大図、
図5は噴射タンクの断面図である。図3及び図5に示す
ように、この噴射タンク312の壁面の一部であって感
光材料16の搬送経路Aに対向した部分には、弾性変形
可能な長方形状の薄板を屈曲して形成したノズル板32
2が設置されている。Next, the structure and operation of the injection tank 312 will be described in detail with reference to FIG. 2 is an enlarged perspective view of the ejection tank, FIG. 3 is a bottom view of the ejection tank showing a state where the photosensitive material is conveyed below, FIG. 4 is an enlarged view of a main part of FIG.
FIG. 5 is a sectional view of the injection tank. As shown in FIGS. 3 and 5, an elastically deformable rectangular thin plate is formed on a part of the wall surface of the injection tank 312 facing the transport path A of the photosensitive material 16. Nozzle plate 32
2 are installed.
【0154】そして、図2から図4に示すように、この
ノズル板322には、噴射タンク312内に満たされた
処理液を噴射するための複数のノズル孔324(例えば
直径数十μm)が、一定の間隔で感光材料16の搬送方
向Aと交差する方向に沿って直線状に並べられつつ感光
材料16の幅方向全体にわたって、千鳥掛状に、少なく
とも2列配置されている。この為、これらノズル孔32
4よりそれぞれ噴射タンク312内の処理液が感光材料
16側に放出可能とされている。本発明の特徴は複数の
噴射ノズルからアルカリ性処理液を感光材料の幅方向全
体に同時に塗布することにある。尚、図4に示すよう
に、それぞれのノズル孔324は相互に同一の内径dの
円形に形成されており、各ノズル孔324からほぼ同一
の体積の水滴Lを噴射可能となっている。また、ノズル
孔324の中心Sがそれぞれ正三角形の頂点となるよう
に、相互に隣接する3つのノズル孔324をノズル板3
22上に配置する構造とした。他方、図1及び図2に示
したように、この噴射タンク312の上部から排気管3
30が伸びており、この排気管330が噴射タンク31
2の内外を連通可能としている。また、この排気管33
0の途中にこの排気管330を開閉する図示しないバル
ブが設置されていて、このバルブの開閉動により、噴射
タンク312内を外気に対して連通及び閉鎖し得るよう
になっている。As shown in FIGS. 2 to 4, the nozzle plate 322 has a plurality of nozzle holes 324 (for example, several tens μm in diameter) for injecting the processing liquid filled in the injection tank 312. At least two rows are arranged in a staggered manner over the entire width direction of the photosensitive material 16 while being linearly arranged along a direction intersecting the transport direction A of the photosensitive material 16 at a constant interval. Therefore, these nozzle holes 32
4, the processing liquid in the injection tank 312 can be discharged to the photosensitive material 16 side. A feature of the present invention resides in that an alkaline processing liquid is simultaneously applied from a plurality of injection nozzles to the entire width direction of a photosensitive material. As shown in FIG. 4, the respective nozzle holes 324 are formed in a circular shape having the same inner diameter d, so that substantially the same volume of water droplets L can be ejected from the respective nozzle holes 324. Further, the three nozzle holes 324 adjacent to each other are placed on the nozzle plate 3 so that the center S of the nozzle holes 324 becomes the vertex of the equilateral triangle.
22. On the other hand, as shown in FIG. 1 and FIG.
30 and the exhaust pipe 330 is connected to the injection tank 31.
The inside and outside of 2 can communicate. Also, this exhaust pipe 33
A valve (not shown) that opens and closes the exhaust pipe 330 is provided in the middle of 0, and the opening and closing movement of this valve allows the inside of the injection tank 312 to communicate with and close to outside air.
【0155】図6は噴射タンクから処理液を噴射する状
態を示す断面図である。同図に示すように線状に配列さ
れた複数のノズル孔324の長手方向と直交する方向に
位置するノズル板322の端部であるノズル板322の
両端部は、一対のてこ板320にそれぞれ接着剤等で接
着されて接続されており、これによってノズル板322
と一対のてこ板320とが連結されている。これら一対
のてこ板320は、噴射タンク312の一対の側壁31
2Aの下部にそれぞれ形成された細幅の支持部312B
を介して、これら一対の側壁312Aにそれぞれ固定さ
れている。一方、相互に当接して噴射タンク312の頂
面を形成する一対の頂壁312Cの一部は、噴射タンク
312の外側にまで突出しており、この突出した頂壁3
12Cの下側には、アクチュエータとなる複数の圧電素
子326(本実施の形態上では、片側に3本づつ)が接
着されて配置されている。この圧電素子326の下面に
は、てこ板320の外端側が接着されて、圧電素子32
6とてこ板320とが連結されている。FIG. 6 is a sectional view showing a state in which the processing liquid is injected from the injection tank. As shown in the figure, both ends of the nozzle plate 322 which is an end of the nozzle plate 322 located in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the plurality of nozzle holes 324 arranged linearly are respectively provided on a pair of lever plates 320. The nozzle plate 322 is connected by bonding with an adhesive or the like.
And the pair of lever plates 320 are connected. The pair of lever plates 320 are connected to the pair of side walls 31 of the injection tank 312.
Narrow support portions 312B respectively formed at the lower part of 2A
Are fixed to the pair of side walls 312A, respectively. On the other hand, a part of a pair of top walls 312C that contact each other to form the top surface of the injection tank 312 protrudes to the outside of the injection tank 312.
On the lower side of 12C, a plurality of piezoelectric elements 326 (three on each side in the present embodiment) serving as an actuator are bonded and arranged. The lower end of the piezoelectric element 326 is bonded to the outer end side of the lever plate 320 so that the piezoelectric element 32
6 and the lever plate 320 are connected.
【0156】従って、これら圧電素子326、てこ板3
20及び支持部312Bにより、てこ機構が構成される
ことになり、圧電素子326によっててこ板320の外
端側が動かされると、この動きと逆方向にてこ板320
の内端側が動くことになる。尚、この圧電素子326
は、積層された例えば圧電セラミックスで形成されてい
て、圧電素子326の軸方向の変位が大きくされたもの
であり、コントローラにより電圧の印加のタイミングが
制御される電源(それぞれ図示せず)に、接続されてい
る。そして、前述の排気管330の開閉用のバルブも、
このコントローラに接続されていて、このコントローラ
がバルブの開閉動も制御することになる。他方、これら
てこ板320、側壁312A、支持部312B及び頂壁
312Cは、一体的に形成されたフレーム314の一部
をそれぞれ形成しており、図6に示すように、このフレ
ーム314が一対重ね合わされて図示しないボルトでね
じ止められることにより、一対のてこ板320、一対の
側壁312A、一対の頂壁312C及び一対の支持部3
12Bが、それぞれ相互に対向して配置された状態で、
噴射タンク312の外枠を形成することになる。Therefore, the piezoelectric element 326 and the lever plate 3
20 and the support portion 312B constitute a lever mechanism, and when the outer end side of the lever plate 320 is moved by the piezoelectric element 326, the lever plate 320 is moved in the opposite direction to this movement.
The inner end side of the will move. The piezoelectric element 326
Is formed of laminated piezoelectric ceramics, for example, and has a large displacement in the axial direction of the piezoelectric element 326. A power source (not shown) controls the timing of voltage application by a controller. It is connected. And the valve for opening and closing the exhaust pipe 330 described above also
It is connected to this controller, which also controls the opening and closing movement of the valve. On the other hand, the lever plate 320, the side wall 312A, the support portion 312B, and the top wall 312C form part of an integrally formed frame 314, and as shown in FIG. And a pair of lever plates 320, a pair of side walls 312A, a pair of top walls 312C, and a pair of support portions 3 by being screwed with bolts (not shown).
12B are arranged facing each other,
The outer frame of the injection tank 312 will be formed.
【0157】また、ノズル孔324の長手方向に位置す
るノズル板322の端部であるノズル板322の左右端
と、一対のフレーム314の端部とで、区画された部分
には、薄肉の封止板328(図3参照)が一対のフレー
ム314に接着された状態で配置されている。さらに、
この封止板328の内側には、ノズル板322の左右端
及び一対のフレーム314の端部と、この封止板328
との間の隙間を埋めて、これらの間から水が漏れないよ
うにする為、例えばシリコンゴム系の接着剤である弾性
接着剤が、充填されている。従って、ノズル板322の
左右端の動きを阻害せずに、噴射タンク312の隙間が
弾性接着剤により封止されることになる。尚、薄肉の封
止板328を用いず噴射タンク312の左右端を弾性接
着剤のみで封止するようにしても良い。以上より、圧電
素子326に電源より通電されると、図6に示すよう
に、圧電素子326が伸びててこ板320を支持部31
2B廻りに回動されるのに伴って、この圧電素子326
がノズル板322の中央部を矢印B方向に沿って上昇さ
せるように、ノズル板322を変形させつつ変位させ
る。そして、このノズル板322の変形に伴って、噴射
タンク312内の処理液の圧力が高まり、2列に並んだ
ノズル孔324から少量の処理液である液滴Lが一括し
てそれぞれ線状に噴射されることになる。[0157] Further, the left and right ends of the nozzle plate 322, which are the ends of the nozzle plate 322 positioned in the longitudinal direction of the nozzle holes 324, and the ends of the pair of frames 314, are provided with thin sealing portions. A stop plate 328 (see FIG. 3) is disposed in a state of being bonded to the pair of frames 314. further,
Inside the sealing plate 328, the left and right ends of the nozzle plate 322 and the ends of the pair of frames 314 are provided.
In order to fill the gap between them and prevent water from leaking from between them, for example, an elastic adhesive which is a silicone rubber-based adhesive is filled. Therefore, the gap of the injection tank 312 is sealed by the elastic adhesive without obstructing the movement of the left and right ends of the nozzle plate 322. Note that the left and right ends of the injection tank 312 may be sealed with only the elastic adhesive without using the thin sealing plate 328. As described above, when power is supplied to the piezoelectric element 326 from the power supply, the piezoelectric element 326 is extended, as shown in FIG.
As the piezoelectric element 326 is rotated about 2B,
Displaces the nozzle plate 322 while deforming it so that the central part of the nozzle plate 322 rises in the direction of arrow B. Then, with the deformation of the nozzle plate 322, the pressure of the processing liquid in the injection tank 312 increases, and a small amount of the processing liquid droplets L are collectively linearly formed from the nozzle holes 324 arranged in two rows. It will be injected.
【0158】さらに、圧電素子326に繰り返して通電
し、繰り返して圧電素子326を伸ばすことで、ノズル
孔324より連続して液滴Lを噴射することが可能とな
る。図7は噴射タンクのノズル孔から液滴が噴射されて
感光材料に付着した状態を示す。同図に示すように、ノ
ズル孔324より噴射される一滴の液滴Lの体積を体積
Vとすると共に、処理液が感光材料16上に付着された
際の接触角を接触角θとすると、感光材料16上の一滴
の液滴Lの直径Dが、前記の式により得られる。この一
滴の液滴Lの体積Vは、ノズル板322の圧電素子32
6による変位の際のノズル孔324に対応する個所の変
動幅(ノズル振幅h)の条件を変化させた実験結果を表
す下記の表2から得ることができる。尚、ここではノズ
ル孔324の内径dを、30μmとしたものと、80μ
mとしたもののデータを例として表示した。Further, by repeatedly supplying current to the piezoelectric element 326 and repeatedly extending the piezoelectric element 326, the droplet L can be continuously ejected from the nozzle hole 324. FIG. 7 shows a state in which droplets are ejected from the nozzle holes of the ejection tank and adhere to the photosensitive material. As shown in the figure, when the volume of one droplet L ejected from the nozzle hole 324 is defined as a volume V, and the contact angle when the processing liquid is deposited on the photosensitive material 16 is defined as a contact angle θ, The diameter D of one droplet L on the photosensitive material 16 is obtained by the above equation. The volume V of this one droplet L is equal to the volume of the piezoelectric element 32 of the nozzle plate 322.
6 can be obtained from the following Table 2 showing experimental results in which the condition of the variation width (nozzle amplitude h) at the location corresponding to the nozzle hole 324 at the time of displacement by 6 is changed. Here, the inner diameter d of the nozzle hole 324 is set to 30 μm,
The data of m is displayed as an example.
【0159】[0159]
【表2】 [Table 2]
【0160】本発明において、前記のノズル孔324か
ら噴射され、相互に隣接して感光材料16上に付着され
た3つの液滴Lが、相互間内に隙間を有さない状態で接
して感光材料16上に付着されるようにする。噴射タン
クのノズル孔から液滴を噴射して感光材料に塗布する工
程を、さらに詳しく図8〜図10を参照して説明する。
図8は噴射タンクのノズル孔の位置を感光材料上に投影
した説明図、図9は噴射タンクのノズル孔から液滴が噴
射されて塗布された状態の感光材料を示す平面図、図1
0は噴射タンクのノズル孔から液滴が噴射されて塗布さ
れた状態の感光材料より3つの液滴を取り出して示す拡
大概念図である。まず、図10に示すように、液滴Lの
中心S1間の距離であるピッチは、隣接したノズル孔3
24の中心S相互間の距離(図4参照)であるピッチP
と同一となるので、このピッチPを下式により求められ
る値とすれば、3つの液滴Lが、相互間内に隙間を有さ
ない状態で接して感光材料16上に付着されることにな
る。In the present invention, three droplets L ejected from the nozzle hole 324 and adhered to the photosensitive material 16 adjacent to each other come into contact with each other in a state where there is no gap between them. It is to be deposited on the material 16. The process of spraying droplets from the nozzle holes of the spray tank and applying the droplets to the photosensitive material will be described in more detail with reference to FIGS.
FIG. 8 is an explanatory view in which the position of the nozzle hole of the ejection tank is projected on the photosensitive material, FIG. 9 is a plan view showing the photosensitive material in a state where droplets are ejected from the nozzle hole of the ejection tank and applied, and FIG.
Reference numeral 0 is an enlarged conceptual diagram showing three droplets taken out from the photosensitive material in a state where the droplets are ejected from the nozzle holes of the ejection tank and applied. First, as shown in FIG. 10, the pitch, which is the distance between the centers S1 of the droplets L, is different from that of the adjacent nozzle holes
Pitch P, which is the distance between the centers S of the H.24 (see FIG. 4)
Therefore, if the pitch P is set to a value determined by the following equation, the three droplets L adhere to the photosensitive material 16 in contact with each other without any gap between them. Become.
【0161】[0161]
【数3】 (Equation 3)
【0162】さらに、感光材料16の搬送速度に合わせ
た適宜なタイミング、すなわち、図8上、点線324A
で示す部分の上方にノズル孔324が位置した瞬間に処
理液を噴射した後、次に図8上、実線324Bで示す部
分の上方にノズル孔324が位置した瞬間に処理液を噴
射するようなタイミングで、繰り返して液滴Lを噴射す
ることによって、図9に示すようにそれぞれの中心S1
間を結ぶ線が正三角形を形作る配置で、感光材料16の
表面に液滴Lが付着することになる。但し、実際には、
噴霧化して付着した後の液滴L同士が感光材料16の表
面上で接して干渉し合うと、表面エネルギを下げようと
して凝集する性質があるので、相互に重なり合う液滴L
は直ぐに凝集して、全体として一体となる。感光材料1
6は、噴射タンク312よりの噴射により処理液が付着
される際の動作、作用を以下に説明する(例えば図2、
5、6及び7参照)。まず、コントローラによって排気
管330のバルブを閉じた状態とする。この状態でノズ
ル板322から処理液を霧化しつつ噴射する際には、コ
ントローラに制御された電源よりの通電により圧電素子
326に電圧を印加して、全ての圧電素子326を同時
に伸ばすように変形させる。Further, appropriate timing in accordance with the transport speed of the photosensitive material 16, that is, the dotted line 324A in FIG.
After the processing liquid is sprayed at the moment when the nozzle hole 324 is positioned above the portion indicated by, the processing liquid is then sprayed at the moment when the nozzle hole 324 is positioned above the portion indicated by the solid line 324B in FIG. By repeatedly ejecting the droplet L at the timing, as shown in FIG.
The arrangement is such that the connecting lines form an equilateral triangle, and the droplet L adheres to the surface of the photosensitive material 16. However, in practice,
When the droplets L after being atomized and adhered touch each other on the surface of the photosensitive material 16 and interfere with each other, the droplets L tend to agglomerate in order to reduce the surface energy.
Immediately agglomerate and become integral as a whole. Photosensitive material 1
6 describes the operation and operation when the processing liquid is attached by injection from the injection tank 312 (for example, FIG.
5, 6, and 7). First, the valve of the exhaust pipe 330 is closed by the controller. In this state, when the processing liquid is sprayed from the nozzle plate 322 while being atomized, a voltage is applied to the piezoelectric elements 326 by energization from a power supply controlled by the controller, and the piezoelectric elements 326 are deformed so as to extend simultaneously. Let it.
【0163】圧電素子326がこのように変形すると、
一対のてこ板320の支持部312B廻りの回動を介し
て、変位がノズル板322に伝達されて、ノズル板32
2が噴射タンク312内の処理液を加圧するように変位
させられる。この結果、噴射タンク312に充填された
処理液を図7に示すように、ノズル孔324から霧化し
つつ噴出させて、搬送中の感光材料16上に付着させる
ことができる。そして、感光材料16の搬送速度と相ま
って、任意のタイミングで多数回ノズル孔324より処
理液を噴射することにより、感光材料16の全面にわた
って処理液が塗布される。この際、噴射タンク312の
壁面の一部として噴射タンク312に設置されたノズル
板322に、処理液を噴射する複数のノズル孔324が
感光材料16の幅方向全体にわたって2列配列されてい
る。そして、前述のように、ノズル孔324の内径d及
びノズル振幅hから、これらのノズル孔324より噴射
される液滴Lの体積Vが求められる。When the piezoelectric element 326 is deformed in this way,
The displacement is transmitted to the nozzle plate 322 via the rotation of the pair of lever plates 320 around the support portion 312B, and the nozzle plate 32
2 is displaced so as to pressurize the processing liquid in the injection tank 312. As a result, as shown in FIG. 7, the processing liquid filled in the injection tank 312 can be ejected from the nozzle holes 324 while being atomized, and adhere to the photosensitive material 16 being conveyed. The processing liquid is applied over the entire surface of the photosensitive material 16 by spraying the processing liquid from the nozzle holes 324 many times at an arbitrary timing in combination with the transport speed of the photosensitive material 16. At this time, a plurality of nozzle holes 324 for injecting the processing liquid are arranged in two rows over the entire width direction of the photosensitive material 16 on a nozzle plate 322 provided in the ejection tank 312 as a part of the wall surface of the ejection tank 312. Then, as described above, the volume V of the droplet L ejected from these nozzle holes 324 is obtained from the inner diameter d of the nozzle holes 324 and the nozzle amplitude h.
【0164】この結果、ノズル孔324相互間のピッチ
Pを数3の式の範囲内の値とすれば、相互に隣接して感
光材料16上に付着された3つの液滴Lが、それぞれ直
径Dの大きさとなるので、相互間内に隙間を有さない状
態でこれらの液滴Lが接して感光材料16に付着され
る。以上説明した塗布装置は、次のような作用効果を奏
する。以下図1〜図10を参照して説明する。一滴の液
滴Lの直径D及び、隣接したノズル孔324相互間のピ
ッチP等の関係から、噴射タンク312のノズル孔32
4よりの処理液の噴射によって、相互間内に隙間無く液
滴Lを均一に感光材料16に付着することができる。こ
の為、感光材料16と非接触の噴射タンク312によっ
ても、感光材料16に均一な塗布膜を形成することが可
能となる。すなわち、全液滴を凝集させるに足るように
ノズル孔324を配置して、液の噴霧、付着後速やかに
均一な凝集した液膜を感光材料16上に形成すること
で、塗布むらをなくすことができる。As a result, if the pitch P between the nozzle holes 324 is set to a value within the range of the equation (3), three droplets L adhering to the photosensitive material 16 adjacent to each other will each have a diameter of Since these droplets have a size of D, these droplets L come into contact with each other and adhere to the photosensitive material 16 in a state where there is no gap between them. The coating apparatus described above has the following operational effects. This will be described below with reference to FIGS. From the relationship between the diameter D of one droplet L and the pitch P between adjacent nozzle holes 324, the nozzle holes 32
By ejecting the processing liquid from No. 4, the droplets L can be uniformly attached to the photosensitive material 16 without any gaps between them. For this reason, it is possible to form a uniform coating film on the photosensitive material 16 even with the spray tank 312 that is not in contact with the photosensitive material 16. That is, the nozzle holes 324 are arranged so that all the droplets are aggregated, and a uniform aggregated liquid film is formed on the photosensitive material 16 immediately after spraying and adhering the liquid, thereby eliminating coating unevenness. Can be.
【0165】そして、このように付着後の液滴Lの中心
S1がそれぞれ正三角形の頂点をなし、且つこの正三角
形の重心部分が3つの液滴Lによって完全に覆われるよ
うに感光材料16上に塗布することによって、最も少な
い液量で、全液滴を凝集させることが可能となる。以上
より、処理液が汚れて画像記録装置自身の劣化・画像品
質の劣化を生じさせることなく、感光材料16に均一な
塗布膜を形成することができる。一方、噴射タンク31
2がノズル孔324を有し、このノズル孔324から処
理液を噴射させるので、処理液が溜められた槽内に感光
材料等を漬けて塗布する塗布装置と比較して、少量の処
理液で塗布することが可能となると共に、短時間で乾燥
できるようになる。また、噴射タンク312が感光材料
16の幅方向全体にわたって配置される複数のノズル孔
324を有し、圧電素子326による一度の変位によ
り、これらのノズル孔324から処理液が同時に噴射さ
れるので、一度の噴射で、感光材料16の幅方向全体に
わたって広範囲に処理液を塗布することができる。この
為、ノズル板322を二次元平面上で走査する必要が無
くなると共に、短時間で大面積の塗布が可能となって、
塗布時間を短縮することが可能になる。Then, the center S1 of the droplet L thus attached forms a vertex of an equilateral triangle, and the center of gravity of the equilateral triangle is completely covered by the three droplets L on the photosensitive material 16. , All liquid droplets can be aggregated with the least amount of liquid. As described above, it is possible to form a uniform coating film on the photosensitive material 16 without causing the processing liquid to become dirty and causing deterioration of the image recording apparatus itself and deterioration of image quality. On the other hand, the injection tank 31
2 has a nozzle hole 324, and the processing liquid is ejected from the nozzle hole 324. Therefore, compared with a coating apparatus in which a photosensitive material or the like is immersed and applied in a tank in which the processing liquid is stored, a smaller amount of the processing liquid is used. The coating can be performed, and drying can be performed in a short time. In addition, since the ejection tank 312 has a plurality of nozzle holes 324 arranged over the entire width of the photosensitive material 16, the processing liquid is simultaneously ejected from these nozzle holes 324 by a single displacement by the piezoelectric element 326. The processing liquid can be applied over a wide area over the entire width of the photosensitive material 16 by one jet. Therefore, it is not necessary to scan the nozzle plate 322 on a two-dimensional plane, and it is possible to apply a large area in a short time.
The application time can be reduced.
【0166】さらに、ノズル孔324の長手方向と直交
する方向のノズル板322の両端部にてこ板320が連
結され、このてこ板320を介してノズル板322と圧
電素子326とが連結されているので、直線状に配列さ
れた複数のノズル孔324の長手方向に沿ってノズル孔
324を一括して同一の変位量で安定して変位させるこ
とができ、感光材料16へのより一層均一な処理液の塗
布が可能となる。一方、ノズル板322には、単にノズ
ル孔324を複数形成するだけでよいので、集積化技術
が不要となり、低コストで塗布装置310の製造が可能
となる。さらに、ノズル板322のノズル孔324から
処理液が噴射されると、噴射タンク312内の処理液が
順次減少するものの、サブタンク338が処理液を供給
して噴射タンク312内の水位を一定にする機能を有し
ているので、サブタンク338側より処理液が供給され
て、霧化中の噴射タンク312内の水圧を一定値に保つ
ことが可能となり、連続的な水の噴射が確保される。Further, lever plates 320 are connected at both ends of the nozzle plate 322 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the nozzle holes 324, and the nozzle plate 322 and the piezoelectric element 326 are connected via the lever plate 320. Therefore, the nozzle holes 324 can be collectively and stably displaced along the longitudinal direction of the plurality of nozzle holes 324 arranged linearly with the same displacement amount, and the photosensitive material 16 can be more uniformly processed. The liquid can be applied. On the other hand, since it is only necessary to form a plurality of nozzle holes 324 in the nozzle plate 322, no integration technology is required, and the coating device 310 can be manufactured at low cost. Further, when the processing liquid is jetted from the nozzle holes 324 of the nozzle plate 322, although the processing liquid in the injection tank 312 sequentially decreases, the sub tank 338 supplies the processing liquid to keep the water level in the injection tank 312 constant. Since it has the function, the processing liquid is supplied from the sub tank 338 side, and the water pressure in the injection tank 312 during atomization can be maintained at a constant value, and continuous water injection is ensured.
【0167】次に、本発明の第2の実施の形態に係る噴
射タンク312のノズル孔324の位置を感光材料16
上に投影したものを図11に示し、以下に説明する。
尚、第1の実施の形態で説明した部材と同一の部材には
同一の符号を付し、重複した説明を省略する。Next, the position of the nozzle hole 324 of the injection tank 312 according to the second embodiment of the present invention is
The projection above is shown in FIG. 11 and will be described below.
The same members as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
【0168】図11に示すように、本実施の形態に係る
噴射タンク312のノズル板322には、処理液を噴射
する複数のノズル孔324を一定の間隔で感光材料16
の搬送方向Aと交差する方向に沿って直線状に並べたノ
ズル列を千鳥掛状に2列配置したパターンが、繰り返し
形成されている。つまり、ノズル列を4列とし、点線3
24Cと実線324Dで示すタイミングで液滴Lの噴射
を繰り返して行うようにした。これにより、本実施の形
態も第1の実施の形態と同様な作用を奏するが、さらに
噴射に伴う霧化の冗長度を高めることができる。すなわ
ち、仮にノズル孔324のいずれかが詰まるような事態
が生じたとしても、他のノズル孔324によってその場
所が補完されるので、凝集むらが発生しないことにな
る。尚、第1の実施の形態において、ノズル孔324の
中心Sを結ぶ線が正三角形になる位置にノズル列を2列
配置したが、ノズル孔324の中心Sを結ぶ線が正三角
形になる位置に必ずしも2列のノズル列を配置しなくと
も良く、例えば、何列分か離れて2列のノズル列を配置
しても良い。さらに、ノズル列は2列に限定されずに、
3列以上の列数としても良く、ノズル列数を増やすこと
によって、アクチュエータの駆動回数を減らすことが可
能となる。As shown in FIG. 11, the nozzle plate 322 of the injection tank 312 according to the present embodiment is provided with a plurality of nozzle holes 324 for injecting the processing liquid at regular intervals.
A pattern in which two nozzle rows arranged in a straight line along a direction intersecting the transport direction A are arranged in a zigzag pattern is repeatedly formed. That is, four nozzle rows are used, and the dotted line 3
The ejection of the droplet L is repeated at the timing indicated by 24C and the solid line 324D. Thereby, the present embodiment also has the same operation as the first embodiment, but can further increase the redundancy of atomization accompanying the injection. That is, even if one of the nozzle holes 324 is clogged, the location is complemented by the other nozzle holes 324, so that the aggregation unevenness does not occur. In the first embodiment, two rows of nozzles are arranged at a position where the line connecting the centers S of the nozzle holes 324 becomes an equilateral triangle. However, a position where the line connecting the centers S of the nozzle holes 324 becomes an equilateral triangle. However, it is not always necessary to arrange two nozzle rows. For example, two nozzle rows may be arranged several rows apart. Further, the nozzle row is not limited to two rows,
The number of rows may be three or more. By increasing the number of nozzle rows, it is possible to reduce the number of times the actuator is driven.
【0169】また、ピッチPと液滴Lの直径Dの関係を
限界値で説明したが、実際には、液滴Lの飛翔方向のむ
らや、液滴Lの粒径公差を見込んで、飛翔方向のむらが
最大で液滴Lが最小粒径のときに、全液滴が凝集するよ
うに、上記実施の形態より高密度にノズル孔を配置する
ことが考えられる。一方、適用される液滴Lの体積Vは
0.00001〜0.01mm3 の範囲内、接触角θは4
0°以下、感光材料16上に形成される液膜厚は1〜1
00μmの範囲内が考えられるが、5μm 以上50μm
以下が好ましい。さらに、上記第1及び第2の実施の形
態においては、ノズル列を搬送方向に対して直角に配置
したが、直角に限定する必要はなく、搬送方向に対して
斜めに配置しても良い。Although the relationship between the pitch P and the diameter D of the droplet L has been described using the limit value, in practice, the flying direction is considered in consideration of the unevenness of the flying direction of the droplet L and the tolerance of the particle size of the droplet L. It is conceivable to arrange the nozzle holes at a higher density than in the above-described embodiment so that when the unevenness of the droplet L is the maximum and the droplet L has the minimum particle size, all the droplets are aggregated. On the other hand, the volume V of the applied droplet L is in the range of 0.00001 to 0.01 mm 3 , and the contact angle θ is 4
0 ° or less, the liquid film thickness formed on the photosensitive material 16 is 1 to 1
Within the range of 00 μm, 5 μm or more and 50 μm
The following is preferred. Further, in the first and second embodiments, the nozzle rows are arranged at right angles to the transport direction. However, the nozzle rows need not be limited to right angles, and may be arranged at an angle to the transport direction.
【0170】また、本発明では処理液は使いきりにする
ために処理液の温度は通常のタンク処理に比べて高くて
もよく、20℃〜80℃が好ましく、30℃〜50℃が
更に好ましい。処理中この温度を保つためには処理液の
温度を調節するだけでなく、感光材料も温度調節するこ
とが好ましい。本発明に用いる塗布装置は感光材料を収
納しておく感材マガジン、露光部、搬送部、処理液塗布
後温調部、漂白定着部、水洗装置、乾燥部等と組み合わ
され1つの画像形成装置とするのが好ましい。また装置
中にはその他に、余剰の処理液を払拭する絞り装置、感
光材料を搬送すためのニップローラー、ロール状の感光
材料をシート状に裁断するためのカッターなどが組み合
わされることが好ましい。In the present invention, in order to use up the processing solution, the temperature of the processing solution may be higher than that in a normal tank treatment, preferably 20 ° C. to 80 ° C., more preferably 30 ° C. to 50 ° C. . In order to maintain this temperature during processing, it is preferable to control not only the temperature of the processing solution but also the temperature of the photosensitive material. The coating apparatus used in the present invention is combined with a photosensitive material magazine for storing photosensitive materials, an exposure section, a transport section, a temperature control section after applying a processing liquid, a bleach-fix section, a washing apparatus, a drying section, and the like to form one image forming apparatus. It is preferred that In addition, it is preferable that a combination of a squeezing device for wiping excess processing liquid, a nip roller for transporting the photosensitive material, a cutter for cutting the roll-shaped photosensitive material into a sheet, and the like are additionally provided in the apparatus.
【0171】本発明に用いられる処理素材及び処理方法
について説明する。本発明に於いて、感光材料は現像
(銀現像/内蔵還元剤のクロス酸化)後、処理に応じて
脱銀、及び水洗又は安定化処理される。また水洗または
安定化処理後、アルカリ付与などの発色増強のための処
理も施される場合がある。本発明の現像処理について説
明する。本発明に於いて発色現像処理は発色用還元剤を
感光材料の中に内蔵させておき、発色現像主薬を実質的
に含有しないアルカリ性処理液によって処理する。本発
明に用いるアルカリ性処理液には発色現像主薬を実質的
に含まないことが特徴であり、その他の成分(アルカ
リ、ハロゲンやキレート剤等)を含んでいても良い。ま
た、処理安定性を維持するために還元剤は含まれないこ
とが好ましい場合があり、その場合補助現像主薬、ヒド
ロキシアミン類や亜硫酸塩などが実質的に含まれないこ
とが好ましい。The processing material and processing method used in the present invention will be described. In the present invention, the photosensitive material is subjected to desilvering, washing with water or stabilizing treatment after development (silver development / cross oxidation of a built-in reducing agent) depending on the processing. After the washing or stabilizing treatment, a treatment for enhancing color development such as alkali addition may be performed. The development processing of the present invention will be described. In the color developing process of the present invention, a color-forming reducing agent is incorporated in a light-sensitive material, and the color developing agent is processed with an alkaline processing solution containing substantially no color developing agent. The alkaline processing liquid used in the present invention is characterized in that it does not substantially contain a color developing agent, and may contain other components (alkali, halogen, chelating agent, etc.). In some cases, it is preferable that a reducing agent is not contained in order to maintain processing stability. In this case, it is preferable that an auxiliary developing agent, hydroxyamines, sulfites, and the like are not substantially contained.
【0172】ここで実質的に含有しないとは、それぞれ
好ましくは0.5mmol/リットル以下、より好まし
くは0.1mmol/リットル以下である。特に、全く
含有しない場合が好ましい。本発明で用いるアルカリ性
処理液のpHは、好ましくは9〜14であり、特に好ま
しくは10〜13である。現像の後で補力処理を施すこ
とができる。補力を行う化合物としては環境保全の観点
から過酸化水素、過酸化水素を放出する化合物が好まし
い。過酸化水素を放出する化合物としては過ホウ酸、過
炭酸窓が好ましい。この中では過酸化水素が特に好まし
い。これらの化合物の添加量は0.005〜1モル/リ
ットルが好ましく、0.01〜0.5モル/リットルが
更に好ましく、0.02〜0.25モル/リットルが特
に好ましい。Here, "substantially not contained" means preferably 0.5 mmol / liter or less, more preferably 0.1 mmol / liter or less. In particular, it is preferable not to contain at all. The pH of the alkaline treatment liquid used in the present invention is preferably from 9 to 14, and particularly preferably from 10 to 13. After development, an intensification treatment can be applied. As the compound that intensifies, hydrogen peroxide and a compound that releases hydrogen peroxide are preferable from the viewpoint of environmental protection. As the compound releasing hydrogen peroxide, perboric acid and percarbonate windows are preferable. Among them, hydrogen peroxide is particularly preferred. The addition amount of these compounds is preferably 0.005 to 1 mol / l, more preferably 0.01 to 0.5 mol / l, and particularly preferably 0.02 to 0.25 mol / l.
【0173】本発明のアルカリ性処理液は表面張力は6
0dyn/cm以下である必要がある。本発明において
はアルカリ性処理液の表面張力が大きい場合には、感光
材料上に塗設された処理液が感光材料中に十分に浸透す
る前に収縮してしまうために塗設し始めた部分が他の部
分に比べ濃度がでないと言う現象が生じてしまう。本発
明のアルカリ性処理液の表面張力は45dyn/cm以
下であることが更に好ましい。またアルカリ性処理液が
均一な液滴を形成するために表面張力は15dyn/c
m必要である。ここでいう表面張力は実験化学講座18
巻「界面とコロイド」(日本化学会編集、昭和52年1
0月20日 丸善株式会社発行)、p84に記載のWi
lhelmy法によって測定した測定値である。また、
通常、処理液塗布装置のノズルにはニッケルなどの金属
が用いられ、本発明に用いる処理液はノズル材料との接
触角が40°以上あることが好ましい。ノズル面との親
和性が強く接触角が低い場合には処理液はうまくノズル
孔から吐出されなくなり、均一な塗り付けが行われなく
なる点で好ましくない。The alkaline processing liquid of the present invention has a surface tension of 6
It needs to be 0 dyn / cm or less. In the present invention, when the surface tension of the alkaline processing liquid is large, the part which has begun to be applied since the processing liquid applied on the photosensitive material contracts before sufficiently penetrating into the photosensitive material. A phenomenon occurs in which the density is not as high as in other parts. The alkaline treatment liquid of the present invention more preferably has a surface tension of 45 dyn / cm or less. The surface tension is 15 dyn / c in order for the alkaline processing liquid to form uniform droplets.
m is required. The surface tension mentioned here is experimental chemistry course 18
Volume “Interface and Colloid” (edited by The Chemical Society of Japan, 1977
20 Mar, issued by Maruzen Co., Ltd.)
It is a measured value measured by the lhelmy method. Also,
Usually, a metal such as nickel is used for the nozzle of the processing liquid application device, and the processing liquid used in the present invention preferably has a contact angle with the nozzle material of 40 ° or more. When the affinity with the nozzle surface is strong and the contact angle is low, the processing liquid is not discharged well from the nozzle hole, and it is not preferable because uniform coating is not performed.
【0174】アルカリ性処理液の表面張力を下げる方法
としては如何なる方法を用いても良い。表面張力を低下
させる方法として界面活性剤を添加する方法が考えられ
る。また、メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コール、グリコール等の水溶性のアルコール系有機溶媒
を添加する等の方法が通常考えられる。しかしながら、
前者を用いる場合、塗布装置内では加圧、減圧を繰り返
すために、泡が立ち易く、気泡が生成しノズル表面に気
泡が付着するためにノズルからアルカリ性処理液を噴射
できなくなる部分が出来、結果として、処理された感光
材料で白抜けしてしまう部分が発生してしまう点で好ま
しくない。また、水溶性のアルコール系有機溶媒を添加
する場合には表面張力を下げるために多量のアルコール
系有機溶媒を添加しなければならなく、多量にアルコー
ル系有機溶媒を加えた場合には処理液の感光材料中への
浸透速度が遅くなり、現像進行が遅れる点で好ましくな
い。As a method for lowering the surface tension of the alkaline processing liquid, any method may be used. As a method of reducing the surface tension, a method of adding a surfactant can be considered. In addition, a method of adding a water-soluble alcohol-based organic solvent such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and glycol is usually considered. However,
When the former is used, the pressurizing and depressurizing are repeated in the coating apparatus, so that bubbles are easily formed, bubbles are generated, and there is a portion where the alkaline processing liquid cannot be ejected from the nozzle due to the bubbles adhering to the nozzle surface. However, it is not preferable in that a white spot occurs in the processed photosensitive material. Also, when adding a water-soluble alcohol-based organic solvent, a large amount of alcohol-based organic solvent must be added to lower the surface tension. It is not preferable because the rate of penetration into the photosensitive material is reduced, and the progress of development is delayed.
【0175】上記の化合物に対して水溶性のスチルベン
化合物が泡立ちが少なく、また、少量の添加で表面張力
を下げる点で好ましい。スチルベン化合物の中でも少量
添加によって表面張力を下げられる化合物としては一般
式(X)で表されるジアミノスチルベンが有効である。
一般式(X)で表されるジアミノスチルベン化合物は処
理液に添加しても金属との接触角を低下させる程度が少
ない点でも好ましい。The water-soluble stilbene compound is preferable to the above compounds in that foaming is small and the surface tension can be reduced by adding a small amount of the compound. Among the stilbene compounds, diaminostilbene represented by the general formula (X) is effective as a compound whose surface tension can be reduced by adding a small amount.
The diaminostilbene compound represented by the general formula (X) is also preferable in that the addition of the diaminostilbene compound to the treatment liquid has a small degree of lowering the contact angle with the metal.
【0176】[0176]
【化68】 Embedded image
【0177】一般式(X)中、L1 及びL2 は同一でも
異なっていてもよく−OR1 または−N−R2 (R3 )
で表され、かつ一般式(X)における4つの置換基L1
およびL2 は合計2つ以上の一般式(XI)群中の置換基
を有する。ここで、R1 およびR2 はそれぞれ水素原
子、アルキル基、アリール基、又は下記一般式(XI)群
中の置換基を有するアルキル基、もしくはアリール基を
表し、R3 はアルキル基、アリール基又は下記一般式
(XI)群中の置換基を有するアルキル基、もしくはアリ
ール基を表す。一般式(XI)In the general formula (X), L 1 and L 2 may be the same or different, and are represented by —OR 1 or —NR 2 (R 3 )
And four substituents L 1 in the general formula (X)
And L 2 have a total of two or more substituents in the general formula (XI) group. Here, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkyl group having a substituent in the following general formula (XI) group or an aryl group, and R 3 represents an alkyl group or an aryl group. Alternatively, it represents an alkyl group having a substituent or an aryl group in the following general formula (XI) group. General formula (XI)
【0178】[0178]
【化69】 Embedded image
【0179】(一般式(XI)中、Xはハロゲン、Rはア
ルキル基を表す。また、一般式(X)および(XI)にお
いてMは水素原子、アルカリ金属、テトラアルキルアン
モニウムまたはピリジニウムを表す。本発明のジアミノ
スチルベン化合物は一般式(XI)群中において、−SO
3 M基を有する化合物が好ましく、L1 及びL2 が−N
−R2 (R3 )であり、かつ、R2 が水素原子である場
合が更に好ましい。また、−SO3 M基の数が4個以上
である場合が更に好ましい。本発明のジアミノスチルベ
ン化合物の好ましい添加量は0.1〜10mmol/L
であり、更に好ましくは0.5〜6mmol/Lであ
る。これ以上少ないと十分な表面張力低下能を示せず、
また、多いと析出、ノズルとの接触角低下が起こり好ま
しくない。好ましいジアミノスチルベン化合物を表2に
示すが、本発明はこれによって限定されるわけではな
い。(In the general formula (XI), X represents a halogen, R represents an alkyl group. In the general formulas (X) and (XI), M represents a hydrogen atom, an alkali metal, a tetraalkylammonium or a pyridinium. The diaminostilbene compound of the present invention is represented by the general formula (XI):
Is preferably a compound having a 3 M group, L 1 and L 2 -N
—R 2 (R 3 ), and R 2 is more preferably a hydrogen atom. Further, it is more preferable that the number of —SO 3 M groups is 4 or more. The preferable addition amount of the diaminostilbene compound of the present invention is 0.1 to 10 mmol / L.
And more preferably 0.5 to 6 mmol / L. If less than this, sufficient surface tension lowering ability cannot be shown,
On the other hand, if it is too large, precipitation and a decrease in the contact angle with the nozzle occur, which is not preferable. Preferred diaminostilbene compounds are shown in Table 2, but the invention is not limited thereto.
【0180】[0180]
【表3】 [Table 3]
【0181】[0181]
【表4】 [Table 4]
【0182】[0182]
【表5】 [Table 5]
【0183】また、界面活性剤の中でもポリオキシアル
キレン基を有するフッ素系界面活性剤も少ない添加量で
表面張力を低下させ、かつ泡立ちが少ない点で本発明の
目的で添加するのは好ましい。Further, among the surfactants, a fluorine-based surfactant having a polyoxyalkylene group is preferably added for the purpose of the present invention in that the surface tension is reduced with a small amount of addition and foaming is small.
【0184】前述の一般式 Rf−(A)m−X において 本発明においては、Xは特に置換、無置換のポリオキシ
エチレン基が好ましく、オキシエチレン基として5〜3
0が好ましい。またRfとしては炭素数4以上のフロ
ロ,アルキル基、アルケニル基またはアリール基が好ま
しく、炭素数6〜14のパーフロロ,アルキル基、アル
ケニル基またはアリール基が好ましい。Aは好ましくは
アルキレン基(置換基を有するものも含まれる。例えば
エチレン基、トリメチレン基、オキシアルキレン基
等)、アリーレン基(置換基を有するものも含まれる。
例えばフェニレン基、オキシフェニレン基等)、アルキ
ルアリーレン基(置換基を有するものも含まれる。例え
ばプロピルフェニレン基等)、又はアリールアルキレン
基(置換基を有するものも含まれる。例えばフェニルエ
チレン基、フェニルオキシエチレン基等)を表し、これ
らの基には酸素原子、エステル基、アミド基、スルホン
アミド基、スルホニル基、硫黄原子の様な異種の原子又
は異種の基で中断された2価の連結基も含まれる。mは
0である場合が更に好ましく、m=1の場合は、Aとし
てはアルキレン基が好ましい。本発明において好ましく
用いられるポリオキシアルキレン基を有するフッ素系界
面活性剤の添加量は0.1〜5mmol/Lであり、更
に好ましくは0.5〜1mmol/Lである。これ以上
少ないと十分な表面張力低下能を示せず、また、多いと
析出、ノズルとの接触角低下が起こり好ましくない。In the above general formula Rf- (A) mX, in the present invention, X is particularly preferably a substituted or unsubstituted polyoxyethylene group.
0 is preferred. Rf is preferably a fluoro, alkyl, alkenyl or aryl group having 4 or more carbon atoms, and more preferably a perfluoro, alkyl, alkenyl or aryl group having 6 to 14 carbon atoms. A is preferably an alkylene group (including those having a substituent, such as an ethylene group, a trimethylene group, and an oxyalkylene group), and an arylene group (including those having a substituent).
For example, a phenylene group, an oxyphenylene group, or the like, an alkylarylene group (including a group having a substituent, such as a propylphenylene group), or an arylalkylene group (including a group having a substituent, such as a phenylethylene group or phenyl) Oxyethylene group), and these groups include an oxygen atom, an ester group, an amide group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a divalent linking group interrupted by a different atom such as a sulfur atom, or a divalent linking group Is also included. m is more preferably 0, and when m = 1, A is preferably an alkylene group. The addition amount of the fluorine-based surfactant having a polyoxyalkylene group preferably used in the present invention is 0.1 to 5 mmol / L, more preferably 0.5 to 1 mmol / L. If the amount is smaller than this, sufficient surface tension lowering ability cannot be exhibited, and if it is larger, precipitation and a decrease in the contact angle with the nozzle undesirably occur.
【0185】また、ノズルとの接触角の低下を防ぐため
にはノズル表面をフッ素樹脂でコーティングすることも
好ましい対応である。In order to prevent a decrease in the contact angle with the nozzle, it is preferable to coat the nozzle surface with a fluororesin.
【0186】現像の後は一般に脱銀処理される。脱銀処
理には、定着処理する場合と漂白および定着処理する場
合がある。漂白および定着処理する場合、漂白処理と定
着処理を個別に行ってもよいし、同時に行ってもよい
(漂白定着処理)。更に二槽の連続した漂白定着浴で処
理すること、漂白定着処理の前に定着処理すること、ま
たは漂白定着処理後に漂白処理することも目的に応じて
任意に実施できる。これらの漂白浴や定着浴は従来から
知られたものが用いられうる。また現像の後に脱銀処理
を施さず、安定化処理し、銀塩や色像を安定化処理する
ことも好ましい。After development, desilvering is generally performed. The desilvering process includes a fixing process and a bleaching and fixing process. When performing the bleaching and fixing processes, the bleaching process and the fixing process may be performed separately or simultaneously (bleach-fixing process). Further, processing in two continuous bleach-fixing baths, fixing before bleach-fixing, or bleaching after bleach-fixing can be arbitrarily performed according to the purpose. Conventionally known bleaching baths and fixing baths can be used. It is also preferable to carry out a stabilization treatment without performing a desilvering treatment after the development to stabilize a silver salt or a color image.
【0187】脱銀工程の処理温度は20〜50℃、好ま
しくは30〜45℃である。処理時問は5秒〜2分、好
ましくは10秒〜1分である。補充量は少ない方が好ま
しいが、感光材料1m2 当たり15〜600ml、好ま
しくは25〜200ml、更に好ましくは35〜100
mlである。蒸発分量を水で補う程度で、無補充で処理
することも好ましい。本発明の感光材料は、脱銀処理後
に水洗工程を経るのが一般的である。安定化処理を施し
た場合には、水洗工程を省いてもよい。水洗や安定化液
のpHは4〜9であり、好ましくは5〜8である。処理
温度は15〜45℃であり、好ましくは25℃〜40℃
である。処理時間は5秒〜2分、好ましくは10秒〜4
0秒である。上記水洗および/または安定化液の補充に
伴うオーバーフロー液は脱銀工程等他の工程において再
利用できる。The processing temperature in the desilvering step is from 20 to 50 ° C., preferably from 30 to 45 ° C. The processing time is 5 seconds to 2 minutes, preferably 10 seconds to 1 minute. The replenishment amount is preferably small, but is preferably 15 to 600 ml, preferably 25 to 200 ml, more preferably 35 to 100 ml per m 2 of the light-sensitive material.
ml. It is also preferable to perform the treatment without replenishment, to the extent that the evaporation amount is supplemented with water. The light-sensitive material of the present invention generally undergoes a washing step after desilvering. When the stabilization treatment is performed, the washing step may be omitted. The pH of the washing or stabilizing solution is 4 to 9, preferably 5 to 8. The processing temperature is 15 to 45 ° C, preferably 25 to 40 ° C.
It is. Processing time is 5 seconds to 2 minutes, preferably 10 seconds to 4 minutes.
0 seconds. The overflow solution accompanying the washing and / or replenishment of the stabilizing solution can be reused in other steps such as a desilvering step.
【0188】水洗水および/または安定化液量は種々の
条件によって広範囲に設定しうるが、補充量は感光材料
1m2 当り15〜360mlが好ましく、25〜120
mlが更に好ましい。The amount of washing water and / or stabilizing solution can be set in a wide range depending on various conditions. The replenishing amount is preferably 15 to 360 ml per 1 m 2 of the photographic material, and is preferably 25 to 120 ml.
ml is more preferred.
【0189】全処理工程つまり、現像工程から乾燥工程
までの処理時間は、360秒以下が好ましく、120秒
以下がさらに好ましく、特に90〜20秒で使用するこ
とが好ましい。アルカリ性処理液による処理時間は通常
60秒以下、好ましくは10〜45秒、さらに好ましく
は15〜40秒である。ここで処理時間とは、全処理工
程では感光材料に処理液が塗布されてから処理機乾燥部
から出るまでの時間である。アルカリ性処理液による処
理時間は、感光材料にアルカリ性処理液を塗り付けた
後、漂白定着工程に入るまでの間(後述の実施例ではヒ
ートパネル上で)放置される時間である。The total processing step, that is, the processing time from the developing step to the drying step is preferably 360 seconds or less, more preferably 120 seconds or less, and particularly preferably 90 to 20 seconds. The processing time with the alkaline processing liquid is usually 60 seconds or less, preferably 10 to 45 seconds, and more preferably 15 to 40 seconds. Here, the processing time is the time from when the processing liquid is applied to the photosensitive material to when it comes out of the drying unit in the processing machine in all the processing steps. The processing time with the alkaline processing solution is a time period after the photosensitive material is coated with the alkaline processing solution and before the bleach-fixing step is started (on a heat panel in the embodiments described later).
【0190】本発明に適用される処理には種々の添加剤
が用いられ、より詳しくはリサーチ・ディスクロジャー
Item36544(1994年9月)に記載されてお
り、その該当個所を以下にまとめて示した。 処理剤種類 頁 カブリ防止剤 537 キレート剤 537右欄 緩衝剤 537右欄 界面活性剤 538左欄および539左欄 漂白剤 538 漂白促進剤 538右欄〜539左欄 漂白用キレート剤 539左欄 再ハロゲン化剤 539左欄 定着剤 539右欄 定着剤の保恒剤 539右欄 定着用キレート剤 540左欄 安定化用界面活性剤 540左側 安定化用スカム防止剤 540右側 安定用キレート剤 540右側 防菌防ばい剤 540右側 色像安定化剤 540右側Various additives are used in the treatment applied to the present invention, and they are described in more detail in Research Disclosure Item 36544 (September 1994), and the relevant portions are summarized below. . Processing agent type Page Antifoggant 537 Chelating agent 537 Right column Buffering agent 537 Right column Surfactant 538 Left column and 539 Left column Bleach 538 Bleaching accelerator 538 Right column to 539 Left column Bleaching chelating agent 539 Left column Rehalogen Agent 539 Left column Fixing agent 539 Right column Fixing agent preservative 539 Right column Fixing chelating agent 540 Left column Stabilizing surfactant 540 Left Stabilizing scum inhibitor 540 Right Stabilizing chelating agent 540 Right Bactericidal Detergent 540 right color image stabilizer 540 right
【0191】[0191]
【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 実施例1 (感光材料の作製)ポリエチレンで両面ラミネートした
紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層を
設け、さらに種々の写真構成層を塗布して、以下に表す
層構成の多層カラー印画紙(100)を作製した。塗布
液は以下のようにして調製した。 第一層塗布液 カプラー(C−21)23g、発色用還元剤(I−3
2)16g、溶媒(Solv−1)80gを酢酸エチル
に溶解し、この溶液を10%ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム及びクエン酸を含む16%ゼラチン溶液4
00gに乳化分散させて乳化分散物Aを調製した。一
方、塩臭化銀乳剤A(立方体、平均粒子サイズ0.88
μmの大サイズ乳剤Aと0.70μmの小サイズ乳剤A
との3:7混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ0.08と0.10、各サイズ乳剤とも
臭化銀0.3モル%を、塩化銀を基体とする粒子表面の
一部に局在含有させた)を調製した。この乳剤には下記
に示す青感性増感色素A、B、Cが銀1モル当たり大サ
イズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.4×10-4モル、
また小サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.7×10
-4モル添加されている。また、この乳剤の化学熟成は硫
黄増感剤と金増感剤が添加して最適に行なわれた。前記
の乳化分散物Aとこの塩臭化銀乳剤Aとを混合溶解し、
以下に示す組成となるように第一層塗布液を調製した。
乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Example 1 (Preparation of photosensitive material) A corona discharge treatment was applied to the surface of a paper support laminated on both sides with polyethylene, and then a gelatin subbing layer containing sodium dodecylbenzenesulfonate was provided, and various photographic constituent layers were further applied. A multilayer color printing paper (100) having the following layer configuration was produced. The coating solution was prepared as follows. First layer coating solution 23 g of coupler (C-21), color reducing agent (I-3)
2) 16 g and a solvent (Solv-1) 80 g were dissolved in ethyl acetate, and this solution was added to a 16% gelatin solution 4 containing 10% sodium dodecylbenzenesulfonate and citric acid.
The resulting mixture was emulsified and dispersed in 00 g to prepare an emulsified dispersion A. On the other hand, silver chlorobromide emulsion A (cubic, average grain size 0.88
μm large size emulsion A and 0.70 μm small size emulsion A
3: 7 mixture (silver molar ratio). The coefficient of variation of the grain size distribution was 0.08 and 0.10, respectively, and 0.3 mol% of silver bromide was locally contained in a part of the grain surface based on silver chloride in each size emulsion). did. This emulsion contains the following blue-sensitive sensitizing dyes A, B, and C in an amount of 1.4 × 10 -4 mol per mol of silver per mol of silver.
For the small size emulsion A, 1.7 × 10
-4 mol is added. The chemical ripening of this emulsion was optimally performed by adding a sulfur sensitizer and a gold sensitizer. The emulsified dispersion A and the silver chlorobromide emulsion A are mixed and dissolved,
A coating solution for the first layer was prepared to have the composition shown below.
The emulsion coating amount indicates a silver equivalent coating amount.
【0192】第二層〜第七層の塗布液も第一層塗布液と
同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤として
は、1−オキシ−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナ
トリウム塩を用いた。また各層にCpd−12、Cpd
−13、Cpd−14とCpd−15をそれぞれ全量が
15.0mg/m2 、60.0mg/m2 、5.0mg
/m2 および10.0mg/m2 となるように添加し
た。各感光性乳剤層の塩臭化銀乳剤には以下の分光増感
色素をそれぞれ用いた。 青感性乳剤層The coating solutions for the second to seventh layers were prepared in the same manner as the coating solution for the first layer. As a gelatin hardener for each layer, 1-oxy-3,5-dichloro-s-triazine sodium salt was used. Cpd-12, Cpd
-13, Cpd-14 and Cpd-15 the total amount each 15.0mg / m 2, 60.0mg / m 2, 5.0mg
/ M 2 and 10.0 mg / m 2 . The following spectral sensitizing dyes were used for the silver chlorobromide emulsion of each photosensitive emulsion layer. Blue-sensitive emulsion layer
【0193】[0193]
【化70】 Embedded image
【0194】(ハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳
剤に対してはそれぞれ1.4×10-4モル、小サイズ乳
剤に対してはそれぞれ1.7×10-4モル添加した。) 緑感性乳剤層(Per mol of silver halide, 1.4 × 10 -4 mol was added to the large-size emulsion and 1.7 × 10 -4 mol was added to the small-size emulsion, respectively.) Green sensitivity Emulsion layer
【0195】[0195]
【化71】 Embedded image
【0196】(増感色素Dをハロゲン化銀1モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては3.0×10-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては3.6×10-4モル、また、増感色
素Eをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対し
ては4.0×10-5モル、小サイズ乳剤に対しては7.
0×10-5モル、また、増感色素Fをハロゲン化銀1モ
ル当たり、大サイズ乳剤に対しては2.0×10-4モ
ル、小サイズ乳剤に対しては2.8×10-4モル添加し
た)(The sensitizing dye D was used in an amount of 3.0 × 10 -4 mol for a large-size emulsion, 3.6 × 10 -4 mol for a small-size emulsion, and Sensitizing dye E was used in an amount of 4.0 × 10 −5 mol for a large-size emulsion and 7.0 for a small-size emulsion per mol of silver halide.
0 × 10 -5 mol, and the sensitizing dye F a per mol of silver halide, 2.0 × 10 -4 mol to the large size emulsion, to the small size emulsion 2.8 × 10 - 4 mol added)
【0197】[0197]
【化72】 Embedded image
【0198】(ハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳
剤に対してはそれぞれ5.0×10-5モル、小サイズ乳
剤に対してはそれぞれ8.0×10-5モル添加した。) さらに、以下の化合物を赤感光性乳剤層にハロゲン化銀
1モル当たり2.6×10-3モル添加した。(5.0 × 10 −5 mol of large-size emulsion and 8.0 × 10 −5 mol of small-size emulsion were added per mol of silver halide). The following compounds were added to the red-sensitive emulsion layer in an amount of 2.6 × 10 -3 mol per mol of silver halide.
【0199】[0199]
【化73】 Embedded image
【0200】また、青感性乳剤層、緑感性乳剤層および
赤感性乳剤層に対し、1−(5−メチルウレイドフェニ
ル)−5−メルカプトテトラゾールを、それぞれハロゲ
ン化銀1モル当たり、3.3×10-4モル、1.0×1
0-3モル及び5.9×10-4モル添加した。さらに、第
二層、第四層、第六層および第七層にも、それぞれ0.
2mg/m2 、0.2mg/m2 、0.6mg/m2 、
0.1mg/m2 となるよう添加した。また、青感光性
乳剤層及び緑感光性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを、そ
れぞれハロゲン化銀1モル当たり、1×10-4モル、2
×10-4モル添加した。また、イラジエーション防止の
ために、乳剤層に以下の染料(カッコ内には塗布量を表
す)を添加した。Further, 1- (5-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added to the blue-sensitive emulsion layer, the green-sensitive emulsion layer and the red-sensitive emulsion layer in an amount of 3.3 × per mole of silver halide. 10 -4 mol, 1.0 × 1
0 -3 mol and 5.9 × 10 -4 mol were added. Further, the second layer, the fourth layer, the sixth layer, and the seventh layer each have a .0 layer.
2 mg / m 2 , 0.2 mg / m 2 , 0.6 mg / m 2 ,
It was added to a concentration of 0.1 mg / m 2 . Further, 4-hydroxy-6 was added to the blue-sensitive emulsion layer and the green-sensitive emulsion layer.
-Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added in an amount of 1 × 10 −4 mol, 2 mol
× 10 -4 mol was added. In order to prevent irradiation, the following dyes were added to the emulsion layer (the coating amount is shown in parentheses).
【0201】[0201]
【化74】 Embedded image
【0202】(層構成)以下に各層の構成を示す。数字
は塗布量(g/m2 )を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換
算塗布量を表す。 支持体 ポリエチレンラミネート紙 [第一層側のポリエチレンに下記の蛍光増白剤(I)お
よび白色顔料(TiO2,15wt%)と青味染料(群
青)を含む] 第一層(青感性乳剤層) 前記の塩臭化銀乳剤A 0.20 ゼラチン 1.50 イエローカプラー(C−21) 0.23 発色用還元剤(I−16) 0.16 溶媒(Solv−1) 0.80(Layer Structure) The structure of each layer is shown below. The numbers represent the coating amount (g / m 2 ). The silver halide emulsion represents a coating amount in terms of silver. Support Polyethylene laminated paper [The first layer of polyethylene contains the following optical brightener (I), a white pigment (TiO 2 , 15 wt%) and a bluish dye (ultramarine)] First layer (blue-sensitive emulsion layer) The above-mentioned silver chlorobromide emulsion A 0.20 gelatin 1.50 yellow coupler (C-21) 0.23 color-forming reducing agent (I-16) 0.16 solvent (Solv-1) 0.80
【0203】 第二層(混色防止層) ゼラチン 1.09 混色防止剤(Cpd−6) 0.11 溶媒(Solv−2) 0.19 溶媒(Solv−3) 0.07 溶媒(Solv−4) 0.25 溶媒(Solv−5) 0.09 1,5−ジフェニル−3−ピラゾリドン 0.03 (微粒子固体分散状態) 第三層(緑感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤B:立方体、平均粒子サイズ0.55μmの大サイズ乳剤B と、0.39μmの小サイズ乳剤Bとの1:3混合物 (Agモル比)。粒子サイズ分布の変動係数はそれぞれ 0.10と0.08、各サイズ乳剤ともAgBr0.8 モル%を、塩化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含 有させた。 0.20 ゼラチン 1.50 マゼンタカプラー(C−56) 0.24 発色用還元剤(I−32) 0.16 溶媒(Solv−1) 0.80Second layer (color mixture preventing layer) Gelatin 1.09 Color mixture inhibitor (Cpd-6) 0.11 Solvent (Solv-2) 0.19 Solvent (Solv-3) 0.07 Solvent (Solv-4) 0.25 Solvent (Solv-5) 0.09 1,5-diphenyl-3-pyrazolidone 0.03 (fine-particle solid dispersion state) Third layer (green-sensitive emulsion layer) Silver chlorobromide emulsion B: Cubic, average grain 1: 3 mixture of large emulsion B (0.55 μm) and small emulsion B (0.39 μm) (Ag molar ratio). The coefficient of variation of the grain size distribution was 0.10 and 0.08, respectively, and 0.8 mol% of AgBr was locally contained in a part of the grain surface containing silver chloride as a base in each size emulsion. 0.20 Gelatin 1.50 Magenta coupler (C-56) 0.24 Coloring reducing agent (I-32) 0.16 Solvent (Solv-1) 0.80
【0204】 第四層(混色防止層) ゼラチン 0.77 混色防止剤(Cpd−6) 0.08 溶媒(Solv−2) 0.14 溶媒(Solv−3) 0.05 溶媒(Solv−4) 0.14 溶媒(Solv−5) 0.06 1,5−ジフェニル−3−ピラゾリドン 0.02 (微粒子固体分散状態) 第五層(赤感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤C:立方体、平均粒子サイズ0.50μmの大サイズ乳剤C と、0.41μmの小サイズ乳剤との1:4混合物(Ag モル比)。粒子サイズ分布の変動係数はそれぞれ0.09 と0.11、各サイズ乳剤ともAgBr0.8モル%を、 塩化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。 0.20 ゼラチン 0.15 シアンカプラー(C−43) 0.21 発色用還元剤(I−16) 0.20 溶媒(Solv−1) 0.80Fourth layer (color mixture preventing layer) Gelatin 0.77 Color mixture inhibitor (Cpd-6) 0.08 Solvent (Solv-2) 0.14 Solvent (Solv-3) 0.05 Solvent (Solv-4) 0.14 Solvent (Solv-5) 0.06 1,5-diphenyl-3-pyrazolidone 0.02 (fine particle solid dispersion state) Fifth layer (red-sensitive emulsion layer) Silver chlorobromide emulsion C: Cubic, average grain 1: 4 mixture of large size emulsion C of size 0.50 μm and small size emulsion of 0.41 μm (Ag molar ratio). The coefficient of variation of the grain size distribution was 0.09 and 0.11, respectively, and 0.8 mol% of AgBr was locally contained in a part of the grain surface having silver chloride as a base in each size emulsion. 0.20 Gelatin 0.15 Cyan coupler (C-43) 0.21 Color-forming reducing agent (I-16) 0.20 Solvent (Solv-1) 0.80
【0205】 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.64 紫外線吸収剤(UV−1) 0.39 色像安定剤(Cpd−8) 0.05 溶媒(Solv−6) 0.05 第七層(保護層) ゼラチン 1.01 ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体(変性度17%) 0.04 流動パラフィン 0.02 界面活性剤(Cpd−1) 0.01Sixth layer (ultraviolet absorbing layer) Gelatin 0.64 Ultraviolet absorbing agent (UV-1) 0.39 Color image stabilizer (Cpd-8) 0.05 Solvent (Solv-6) 0.05 Seventh layer (Protective layer) Gelatin 1.01 Acrylic modified copolymer of polyvinyl alcohol (degree of modification 17%) 0.04 Liquid paraffin 0.02 Surfactant (Cpd-1) 0.01
【0206】[0206]
【化75】 Embedded image
【0207】[0207]
【化76】 Embedded image
【0208】[0208]
【化77】 Embedded image
【0209】[0209]
【化78】 Embedded image
【0210】[0210]
【化79】 Embedded image
【0211】[0211]
【化80】 Embedded image
【0212】試料(100)に対して第七層に表6に示
す濡れ性改良剤を表6に示した量添加した以外は試料
(100)の作製と全く同様にして試料(101)〜
(117)を作製した。Sample (101) to Sample (100) were prepared in exactly the same manner as in the preparation of Sample (100), except that the wettability improver shown in Table 6 was added to the seventh layer to Sample (100).
(117) was produced.
【0213】[0213]
【表6】 [Table 6]
【0214】(処理液作製)以下のような現像液(アル
カリ活性化液)a−1を作製した。 現像液(アルカリ活性化液)(100) 水 600ml KOH 14g KCl 2.5g ベンゾトリアゾール 0.02g ヒドロキシエチリデン−1,1− ジホスホン酸(30%) 4ml 水を加えて 1000ml pH 13.0 処理液a−1に対して表7に示す表面張力低下剤を表7
に示す量添加した処理液a−2〜a−13を作製した。(Preparation of Processing Solution) The following developing solution (alkali activating solution) a-1 was prepared. Developing solution (alkali activating solution) (100) Water 600 ml KOH 14 g KCl 2.5 g Benzotriazole 0.02 g Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (30%) 4 ml Add water 1000 ml pH 13.0 Processing solution a -1 and the surface tension reducing agents shown in Table 7 in Table 7
The processing liquids a-2 to a-13 added in the amounts shown in (1) and (2) were prepared.
【0215】[0215]
【表7】 [Table 7]
【0216】作製した全試料を14cm×12cmの大
きさにカットし、白色光で全曝光した。曝光済みの試料
に対して上記で作製した処理液を以下の処理工程を用い
て塗り付け処理を行った。 (処理工程1) 処理工程 温 度 時 間 現像液塗り付け 40℃ − (本発明の塗布装置を用いて塗り付け処理 処理液の塗設量は40cc/m2 ノズル孔相互間のピッチPは(√3)・D/2以下=150μm ノズルの幅は5.5cm (噴射タンクの複数のノズル孔群の端 から端までの幅(感材の移動方向に 交差する方向)をいう。) 塗り付け長さは12cm (ノズルの下を感材を移動させていき、 アルカリ性処理液をある長さに塗り つけたときの長さをいう。) 処理液は表7に示す) ヒートパネルの上で放置 40℃ 30秒 漂白定着 40℃ 45秒 リンス 30℃ 90秒 乾燥 70℃ 60秒All the prepared samples were cut into a size of 14 cm × 12 cm, and were all exposed to white light. The exposed sample was subjected to a coating treatment using the treatment liquid prepared above using the following treatment steps. (Processing Step 1) Processing Step Temperature Time Developer Coating 40 ° C. − (Coating using the coating apparatus of the present invention The coating amount of the processing liquid is 40 cc / m 2 The pitch P between the nozzle holes is ( √3) · D / 2 or less = 150 μm The width of the nozzle is 5.5 cm (meaning the width from end to end of the plurality of nozzle hole groups of the injection tank (direction intersecting the moving direction of the photosensitive material)) The length is 12cm (The length when the photosensitive material is moved under the nozzle and the alkaline processing liquid is applied to a certain length.) The processing liquid is shown in Table 7.) Leave on the heat panel 40 ° C 30 seconds Bleaching and fixing 40 ° C 45 seconds Rinse 30 ° C 90 seconds Drying 70 ° C 60 seconds
【0217】漂白定着液、水洗液は以下の漂白定着液、
リンス液を用いた。 漂白定着液 水 600ml チオ硫酸アンモニウム(700g/リットル) 93ml 亜硫酸アンモニウム 40g エチレンジアミン四酢酸鉄(III) アンモニウム 55g エチレンジアミン四酢酸 2g 硝酸(67%) 30g 水を加えて 1000ml pH(25℃/酢酸及びアンモニア水にて) 5.8 リンス液 塩素化イソシアヌール酸ナトリウム 0.02g 脱イオン水(導電率5μS/cm以下) 1000ml pH 6.5 処理後のサンプルを処理液を塗り付けた部分の中心
(5.5cmの中心、但し、白抜けがある場合には抜け
のない部分を測った。)を青色光、緑色光、赤色光にて
塗設方向(12cmの方向)に濃度測定を行った。塗り
付け始めから1cmまでのところの平均をDiとし5.
5cmから6.5cmまでの平均をDmとした。(青色
光、緑色光、赤色光のDmの測定値は各々どの水準でも
2.31、2.48、1.56であった。) Diを表8及び表9に示す。また、白抜けの有り無し合
わせて表8及び表9に示す。The bleach-fixing solution and the washing solution include the following bleach-fixing solutions:
A rinsing solution was used. Bleaching-fixing solution Water 600 ml Ammonium thiosulfate (700 g / l) 93 ml Ammonium sulfite 40 g Ammonium iron (III) ethylenediaminetetraacetate 55 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2 g Nitric acid (67%) 30 g Water is added 1000 ml pH (25 ° C./acetic acid and ammonia water) 5.8 Rinse solution Chlorinated sodium isocyanurate 0.02 g Deionized water (conductivity 5 μS / cm or less) 1000 ml pH 6.5 The center of the portion where the sample after treatment was applied with the treatment liquid (5.5 cm) Of the center of the sample, however, when there was a white spot, a portion without the spot was measured.) The density was measured in the coating direction (direction of 12 cm) with blue light, green light and red light. 4. The average from the beginning of application to 1 cm is Di, and
The average from 5 cm to 6.5 cm was defined as Dm. (The measured values of Dm of blue light, green light, and red light were 2.31, 2.48, and 1.56 at any level, respectively.) Di is shown in Tables 8 and 9. Tables 8 and 9 show the presence or absence of white spots.
【0218】[0218]
【表8】 [Table 8]
【0219】[0219]
【表9】 [Table 9]
【0220】以上の結果より以下の事が分かる。処理水
準2と処理水準7等の比較から感光材料と処理液に接触
角が30°以上の場合である処理水準2は大きな白抜け
があり、また、塗り付けた処理液の偏りによる、塗り付
け始め部分の発色の低下が見られる。これに対して感光
材料と処理液の接触角が30°以下の場合である処理水
準7の場合では白抜けは観測されず、また、塗り付けた
処理液の偏りによる、塗り付け始め部分の発色の低下は
殆どみられない(Dmの値にそれぞれ近い)。処理水準
6と処理水準7などの比較から感光材料と処理液の接触
角が30°以下の場合でも処理液の表面張力が60dy
n/cm以上の処理水準6の場合は塗り付けた処理液の
偏りによる、塗り付け始め部分の発色の低下が見られる
が、60dyn/cm以下の処理水準7の場合は塗り付
けた処理液の偏りによる、塗り付け始め部分の発色の低
下が見られない。一方、処理水準11と16の比較か
ら、ノズルと処理液の接触角が40°未満の場合では処
理液の噴霧不良による細かい白抜けが観測されるが、ノ
ズルと処理液の接触角が40°以上の場合ではこのよう
な白抜けは観測されない。処理水準7、19、23、2
6、32、33、34等の比較から本発明の目的の接触
角の範囲にし得る接触角低下剤の使用方法に関しては水
溶性ポリマー、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤を
単独で用いるよりも、2種併用する場合が、塗り付けた
処理液の偏りによる、塗り付け始め部分の発色の低下が
少なく、3種併用する場合が更に低下が少なくなってい
ることが分かる。The following can be understood from the above results. Comparing Processing Level 2 and Processing Level 7, etc., Processing Level 2 where the photosensitive material and the processing liquid have a contact angle of 30 ° or more has large white spots, and is also smeared due to unevenness of the applied processing liquid. A decrease in coloring at the beginning is observed. On the other hand, in the case of the processing level 7 in which the contact angle between the photosensitive material and the processing solution is 30 ° or less, no white spots are observed, and the color development at the beginning of application due to the unevenness of the applied processing solution. Is hardly observed (each is close to the value of Dm). Comparing the processing level 6 with the processing level 7, the surface tension of the processing solution is 60 dy even when the contact angle between the photosensitive material and the processing solution is 30 ° or less.
In the case of the processing level 6 of n / cm or more, the color development at the beginning of application is reduced due to the unevenness of the applied processing liquid, but in the case of the processing level 7 of 60 dyn / cm or less, the No reduction in color development at the beginning of application due to bias is observed. On the other hand, from the comparison between the processing levels 11 and 16, when the contact angle between the nozzle and the processing liquid is less than 40 °, fine white spots due to poor spraying of the processing liquid are observed, but the contact angle between the nozzle and the processing liquid is 40 °. In the above case, such white spots are not observed. Processing level 7, 19, 23, 2
From the comparison of 6, 32, 33, 34, etc., regarding the method of using the contact angle lowering agent which can be brought into the range of the contact angle intended for the present invention, the water-soluble polymer, amphoteric surfactant and fluorine-based surfactant are used alone. Also, it can be seen that when two types are used in combination, the color development at the start of application due to the unevenness of the applied processing liquid is less reduced, and when three types are used in combination, the reduction is further reduced.
【0221】実施例2 実施例1の試料(100)の発色用還元剤、カプラーを
表10に示す発色用還元剤、カプラーに当モルで置き換
えた以外は試料(100)と同様の試料(201)〜
(206)を作製した。また、実施例1の試料(11
7)の発色用還元剤、カプラーを表11に示す発色用還
元剤、カプラーに当モルで置き換えた以外は試料(11
7)と同様の試料(301)〜(306)を作製した。
作製した試料に対し実施例1と同様に露光した後、実施
例1で作製した表7に示す現像液で実施例1と同様に処
理し同様に評価した。Example 2 A sample (201) similar to the sample (100), except that the color-forming reducing agent and coupler of the sample (100) of Example 1 were replaced with the coloring-forming reducing agent and coupler shown in Table 10 in equimolar amounts. ) ~
(206) was produced. The sample of Example 1 (11
Sample (11) except that the color-forming reducing agent and coupler of 7) were replaced with the color-forming reducing agent and coupler shown in Table 11 in equimolar amounts.
Samples (301) to (306) similar to 7) were produced.
After exposing the produced sample in the same manner as in Example 1, the sample was treated with the developing solution shown in Table 7 produced in Example 1 in the same manner as in Example 1, and evaluated similarly.
【0222】[0222]
【表10】 [Table 10]
【0223】[0223]
【表11】 [Table 11]
【0224】[0224]
【表12】 [Table 12]
【0225】[0225]
【表13】 [Table 13]
【0226】発色用還元剤、カプラーが変わっても、接
触角、表面張力が本発明の範囲内である場合のみが塗り
付けた処理液の偏りによる、塗り付け始め部分の発色の
低下が少ない事が分かる。Even if the color-forming reducing agent and the coupler are changed, only when the contact angle and the surface tension are within the range of the present invention, there is little reduction in the color development at the beginning of application due to the unevenness of the applied processing solution. I understand.
【0227】実施例3 実施例1の試料(100)の第一層、第三層および第五
層の塩臭化銀乳剤A、BおよびCを以下に示す塩臭化銀
乳剤E、F、Gにかえ、塗布銀量をそれぞれ1m2 当た
り0.01g、0.01g及び0.015gとする以外
は全く同じ成分の試料(400)を作製した。 塩臭化銀乳剤D:立方体、平均粒子サイズ0.20μm
の大サイズ乳剤Dと、0.10μmの小サイズ乳剤Dと
の3:7混合物(Agモル比)。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ0.08と0.10、各サイズ乳剤とも
AgBr0.3モル%を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。この乳剤の化学熟成は硫黄増
感剤と金増感剤を添加して最適に行った。 塩臭化銀乳剤Dには実施例1で用いた青感性増感色素
A、B、Cを以下に示す量用いた。Example 3 The silver chlorobromide emulsions A, B and C of the first layer, the third layer and the fifth layer of the sample (100) of Example 1 are shown below as silver chlorobromide emulsions E, F and A sample (400) having exactly the same components as in Example G except that the amount of silver applied was changed to 0.01 g, 0.01 g, and 0.015 g per m 2 in place of G. Silver chlorobromide emulsion D: cubic, average grain size 0.20 μm
3: 7 mixture of large emulsion D and 0.10 μm small emulsion D (Ag molar ratio). The variation coefficients of the grain size distribution were 0.08 and 0.10, respectively, and 0.3 mol% of AgBr was locally contained in a part of the grain surface containing silver chloride as a base in each size emulsion. Chemical ripening of this emulsion was optimally performed by adding a sulfur sensitizer and a gold sensitizer. For the silver chlorobromide emulsion D, the following blue-sensitive sensitizing dyes A, B, and C used in Example 1 were used.
【0228】(増感色素A、B、Cをそれぞれハロゲン
化銀1モル当たり、大サイズ乳剤Dに対しては、それぞ
れ7.0×10-4モル、または小サイズ乳剤Dに対して
は、それぞれ8.5×10-4モル添加した。) 塩臭化銀乳剤E:立方体、平均粒子サイズ0.10μm
の大サイズ乳剤Bと、0.08μmの小サイズ乳剤Bと
の1:3混合物(Agモル比)。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ0.10と0.08、各サイズ乳剤とも
AgBr0.8モル%を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。 塩臭化銀乳剤Eには実施例1で用いた緑色増感色素D、
E、Fを以下に示す量用いた。(増感色素Dをハロゲン
化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては1.5×1
0-3モル、小サイズ乳剤に対しては1.8×10-3モ
ル、また増感色素Eをハロゲン化銀1モル当たり、大サ
イズ乳剤に対しては2.0×10-4モル、小サイズ乳剤
に対しては3.5×10-4モル、また増感色素Fをハロ
ゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては1.0
×10-3モル、小サイズ乳剤に対しては1.4×10-3
モル添加した)(Each of sensitizing dyes A, B and C per mol of silver halide was 7.0 × 10 -4 mol for large-size emulsion D, or 7.0 × 10 -4 mol for small-size emulsion D. 8.5 × 10 -4 mol of each was added.) Silver chlorobromide emulsion E: cubic, average grain size 0.10 μm
1: 3 mixture of a large-size emulsion B and a small-size emulsion B of 0.08 μm (Ag molar ratio). The coefficient of variation of the grain size distribution was 0.10 and 0.08, respectively, and 0.8 mol% of AgBr was locally contained in a part of the grain surface containing silver chloride as a base in each size emulsion. Green sensitizing dye D used in Example 1 was used for silver chlorobromide emulsion E,
E and F were used in the following amounts. (Sensitizing dye D was used in an amount of 1.5 × 1
0 -3 mol, per 1 mol of silver halide 1.8 × 10 -3 mol, and the sensitizing dye E to the small size emulsion, 2.0 × 10 -4 mol to the large size emulsion, 3.5 × 10 -4 mol for the small-sized emulsion, and 1.0 mol for the large-sized emulsion,
× 10 -3 mol, 1.4 × 10 -3 for small size emulsions
Mole added)
【0229】塩臭化銀乳剤F:立方体、平均粒子サイズ
0.10μmの大サイズ乳剤Cと、0.08μmの小サ
イズ乳剤との1:4混合物(Agモル比)。粒子サイズ
分布の変動係数は0.09と0.11、各サイズ乳剤と
もAgBr0.8モル%を、塩化銀を基体とする粒子表
面の一部に局在含有させた。 塩臭化銀乳剤Fには実施例2で用いた赤色増感色素G、
Hを以下に示す量用いた。(ハロゲン化銀1モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては各々2.5×10-4モル。
また小サイズ乳剤に対しては4.0×10-4モル添加し
た。) 実施例1の試料(117)の第一層、第三層および第五
層の塩臭化銀乳剤A、BおよびCを上記した塩臭化銀乳
剤E、F、Gにかえ、塗布銀量をそれぞれ1m2 当たり
0.01g、0.01g及び0.015gとする以外は
全く同じ成分の試料(417)を作製した。また以下の
ような現像補力液b−1を作成した。Silver chlorobromide emulsion F: cubic, 1: 4 mixture of large-sized emulsion C having an average grain size of 0.10 μm and small-sized emulsion of 0.08 μm (Ag molar ratio). The coefficient of variation of the grain size distribution was 0.09 and 0.11, and 0.8 mol% of AgBr was locally contained in a part of the grain surface having silver chloride as a base in each size emulsion. The silver chlorobromide emulsion F contains the red sensitizing dye G used in Example 2,
H was used in the amount shown below. (2.5 x 10 -4 moles per mole of silver halide for large size emulsions.)
4.0 × 10 -4 mol was added to the small size emulsion. The silver chlorobromide emulsions A, B and C of the first, third and fifth layers of the sample (117) of Example 1 were replaced with the silver chlorobromide emulsions E, F and G described above, Samples (417) of exactly the same components were made except that the amounts were 0.01 g, 0.01 g and 0.015 g per m 2 , respectively. The following developing intensifier b-1 was prepared.
【0230】 現像補力液 水 800ml 5−スルホサリチル酸ナトリウム 50g ベンゾトリアゾール 0.02g KCl 2.5g ヒドロキシエチリデン−1,1− ジホスホン酸(30%水溶液) 4ml 過酸化水素(30%水溶液) 30ml 水を加えて1リットル pH11.5 b−1に対して以下のような表面張力低下剤を添加した
試料b−2〜b−5を作成した。 表面張力低下剤種 添加剤量 b−2 SR−13 4.5mmol/リットル b−3 SR−32 4.5mmol/リットル b−4 F−4 1mmol/リットル b−5 F−4 6mmol/リットル 上記の感光材料、試料(400)と(417)をベタ露
光した後、上記の現像補力液b−1〜b−5を用いて以
下の処理を行った。Development intensifying solution Water 800 ml Sodium 5-sulfosalicylate 50 g Benzotriazole 0.02 g KCl 2.5 g Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (30% aqueous solution) 4 ml Hydrogen peroxide (30% aqueous solution) 30 ml Water In addition, Samples b-2 to b-5 were prepared by adding the following surface tension reducing agent to 1 liter pH 11.5 b-1. Surface tension lowering agent type Additive amount b-2 SR-13 4.5 mmol / l b-3 SR-32 4.5 mmol / l b-4 F-4 1 mmol / l b-5 F-4 6 mmol / l After the photosensitive material and the samples (400) and (417) were solid-exposed, the following processing was performed using the developing intensifiers b-1 to b-5.
【0231】 (処理工程2) 処理工程 温 度 時 間 現像 40℃ − (本発明の塗布装置を用いて塗り付け処理 ・処理液の塗設量は50cc/m2 ) ヒートパネルの上で放置 40℃ 30秒 水洗 40℃ 90秒 安定化処理 30℃ 15秒 乾燥 70℃ 60秒 但し、安定化液は以下の安定化液を用いた。(Processing Step 2) Processing Step Temperature Time Developing 40 ° C .— (Coating Processing Using Coating Apparatus of the Present Invention—The Coating Amount of Processing Solution is 50 cc / m 2 ) Leave on Heat Panel 40 ℃ 30 seconds Washing 40 ° C 90 seconds Stabilization treatment 30 ° C 15 seconds Drying 70 ° C 60 seconds However, the following stabilizing solution was used.
【0232】 安定液 亜硫酸水素ナトリウム 23g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5− スルホン酸ナトリウム 1g ヒドロキシエチリデン−1,1− ジホスホン酸(30%水溶液) 1ml 5−クロロ−2−メチル−4− イソチアゾリン−3−オン 0.02g 水を加えて1リットル pH7.5 大幅に低銀化した感光材料を用いて脱銀を不要とした場
合でも、本発明の範囲の接触角、表面張力の範囲内の感
光材料、現像補力液を用いた場合でも実施例1と同様の
塗り付けた処理液の偏りによる、塗り付け始め部分の発
色の低下が見られず、均一な発色が見られた。Stabilizer Sodium bisulfite 23 g 2-Mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 1 g Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (30% aqueous solution) 1 ml 5-chloro-2-methyl-4-isothiazoline-3- ON 0.02 g 1 liter by adding water pH 7.5 Even if desilvering is unnecessary by using a photosensitive material having a significantly reduced silver content, a photosensitive material having a contact angle and a surface tension within the range of the present invention can be used. Even when the developing intensifying solution was used, the color development at the beginning of application due to the unevenness of the applied processing solution as in Example 1 was not observed, and uniform color development was observed.
【0233】実施例4 実施例1の試料(117)を用い、センシトメトリー用
の3色分解の階調露光を行った。 (露光)光源として半導体レーザーGaAlAs(発振
波長、808.5nm)を励起光源としたYAG固体レ
ーザー(発振波長、946nm)をKNbO3 のSHG
結晶により波長変換して取りだした473nm、半導体
レーザーGaAlAs(発振波長、808.7nm)を
励起光源としたYVO4 固体レーザー(発振波長、10
64nm)をKTPのSHG結晶により波長変換して取
りだした532nm、AlGaInP(発振波長、約6
70nm:東芝製 タイプNo.TOLD9211)を
用いた。レーザー光はそれぞれ回転多面体により、走査
方向に対して垂直方向に移動するカラー印画紙上に、順
次走査露光できるような装置である。この装置を用い
て、光量を変化させて感光材料の濃度(D)と光量
(E)との関係D−logEを求めた。この際3つの波
長のレーザー光は、外部変調器を用いて光量を変調し、
露光量を制御した。この走査露光は400dpiで行い
この時の画素当たりの平均露光時間は約5×10-8秒で
ある。半導体レーザーは、温度による光量変動を押さえ
るためペルチェ素子を利用して温度を一定に保った。露
光後の試料(117)に対して、処理液a−2を用いて
実施例1で行ったのと同様の処理工程1で処理を行っ
た。その結果、高照度のデジタル露光で形成される画像
においても、本発明の処理液の塗布装置での処理を行っ
た場合でも塗り付けた処理液の偏りによる、塗り付け始
め部分の発色の低下が見られない均一なムラの無い画像
が得られた。Example 4 The sample (117) of Example 1 was subjected to three-color separation gradation exposure for sensitometry. (Exposure) A YAG solid-state laser (oscillation wavelength, 946 nm) using a semiconductor laser GaAlAs (oscillation wavelength, 808.5 nm) as an excitation light source as a light source is SHG of KNbO 3 .
A YVO 4 solid-state laser (oscillation wavelength, 108.7 nm) using a semiconductor laser GaAlAs (oscillation wavelength, 808.7 nm) as an excitation light source, having a wavelength of 473 nm, which has been taken out by wavelength conversion by a crystal.
532 nm, AlGaInP (oscillation wavelength, about 6 nm)
70 nm: Toshiba type No. TOLD9211) was used. Each of the laser beams is a device capable of sequentially scanning and exposing a color photographic paper moving in a direction perpendicular to a scanning direction by a rotating polyhedron. Using this apparatus, the relationship between the density (D) of the photosensitive material and the light amount (E) D-logE was obtained by changing the light amount. At this time, the laser light of three wavelengths modulates the light amount using an external modulator,
Exposure was controlled. This scanning exposure is performed at 400 dpi, and the average exposure time per pixel at this time is about 5 × 10 −8 seconds. The temperature of the semiconductor laser was kept constant by using a Peltier element in order to suppress fluctuations in light quantity due to temperature. The exposed sample (117) was treated in the same treatment step 1 as in Example 1 using the treatment liquid a-2. As a result, even in an image formed by high-illuminance digital exposure, even when the processing liquid of the present invention is applied to the coating apparatus, the reduction in color development at the start of application due to the unevenness of the applied processing liquid is reduced. An image which was not seen and had no uniform unevenness was obtained.
【0234】[0234]
【発明の効果】本発明によって、発色性、保存安定性、
色像堅牢性や色相に優れたカラー写真画像を簡易、迅速
に形成できる、しかも「低廃液量」と「処理変動減」を
ともに実現できる。更に処理液の塗布装置での処理を行
っても、塗り付けた処理液の偏りによる、塗り付け始め
部分の発色濃度の低下が見られず、均一でムラのない画
像が得られる。According to the present invention, color development, storage stability,
A color photographic image having excellent color image fastness and hue can be easily and quickly formed, and both "low waste liquid amount" and "reduction in processing fluctuation" can be realized. Further, even when the processing liquid is applied by the coating apparatus, no reduction in the color density at the start of application due to the unevenness of the applied processing liquid is observed, and a uniform and uniform image can be obtained.
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る塗布装置の概
略全体構成図である。FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of a coating apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクの
拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of the injection tank according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンク下
を感光材料が搬送される状態を示す底面図である。FIG. 3 is a bottom view showing a state in which a photosensitive material is conveyed below an injection tank according to the first embodiment of the present invention.
【図4】図3の要部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part of FIG. 3;
【図5】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクの
断面図である。FIG. 5 is a sectional view of an injection tank according to the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクか
ら処理液を噴射する状態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which the processing liquid is injected from the injection tank according to the first embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクの
ノズル孔から液滴が噴射されて感光材料に付着した状態
を示す概念断面図である。FIG. 7 is a conceptual cross-sectional view showing a state in which droplets are ejected from the nozzle holes of the ejection tank and adhere to the photosensitive material according to the first embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクの
ノズル孔の位置を感光材料上に投影した説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram in which the positions of the nozzle holes of the injection tank according to the first embodiment of the present invention are projected on a photosensitive material.
【図9】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンクの
ノズル孔から液滴が噴射されて塗布された状態の感光材
料を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing the photosensitive material in a state where droplets are ejected from the nozzle holes of the ejection tank and applied according to the first embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第1の実施の形態に係る噴射タンク
のノズル孔から液滴が噴射されて塗布された状態の感光
材料より3つの液滴を取り出して示す拡大概念図であ
る。FIG. 10 is an enlarged conceptual diagram showing three droplets taken out of a photosensitive material in a state where droplets are ejected from a nozzle hole of an ejection tank and applied according to the first embodiment of the present invention.
【図11】本発明の第2の実施の形態に係る噴射タンク
のノズル孔の位置を感光材料上に投影した説明図であ
る。FIG. 11 is an explanatory diagram in which the position of a nozzle hole of an injection tank according to a second embodiment of the present invention is projected on a photosensitive material.
16 感光材料(画像記録材料) 62 処理液塗布部 310 塗布装置 312 噴射タンク 322 ノズル板 324 ノズル孔 326 圧電素子 Reference Signs List 16 photosensitive material (image recording material) 62 treatment liquid coating unit 310 coating device 312 injection tank 322 nozzle plate 324 nozzle hole 326 piezoelectric element
Claims (10)
を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料に、実質的に
発色現像主薬を含有しないアルカリ性処理液を用い発色
現像処理するカラー画像形成方法において、該写真構
成層のいずれかに少なくとも一種の色素形成カプラーと
少なくとも一種の下記一般式(I)または一般式(II)
で表される発色用還元剤を含有し、該アルカリ性処理
液の該感光材料上への供給が、該アルカリ性処理液を複
数のノズル孔から噴射して、該感光材料に付着された相
互に隣接する3つの液滴が、相互間内に隙間を有さない
状態で該アルカリ性処理液を塗布して行われ、該アル
カリ性処理液の表面張力が15dyn/cm以上、60
dyn/cm以下であり、該アルカリ性処理液の液滴と
該感光材料との接触角が10°以上、30°以下である
ことを特徴とするカラー画像形成方法。 【化1】 【化2】 式中、R1 〜R4 は水素原子または置換基を表す。
A1 、A2 は水酸基または置換アミノ基を表す。Xは-C
O-、-SO-、-SO2-、 -PO<から選ばれる2価以上の連結基を
表す。Y1K、Z1Kは窒素原子または-CR5=(R5は水素原
子または置換基)で表される基を表す。kは0以上の整
数を表す。Pはプロトン解離性基またはカチオンとなり
うる基を表し、本化合物と露光されたハロゲン化銀との
酸化還元反応により生じた酸化体が、カプラーとカップ
リングした後、Pからの電子移動を引き金とするN−X
結合の切断およびカプラーのカップリング部位に結合し
た置換基の脱離により色素を形成する機能を有する。Y
は2価の連結基を表す。Zは求核性基であって、本化合
物が酸化された際に、Xに攻撃可能な基を表す。nはX
が-PO <のとき1又は2であり、Xがその他の基である
とき1である。R1 とR2 、R3 とR4 およびY1K、Z
1K、Pから任意に選ばれる2つ以上の原子または置換基
間でそれぞれ独立に互いに結合して環を形成しても良
い。1. A color image forming method for performing color development processing on a silver halide color photographic light-sensitive material having at least one photographic constituent layer on a support using an alkaline processing solution substantially free of a color developing agent. At least one dye-forming coupler and at least one of the following general formulas (I) or (II) in any of the photographic constituent layers
Wherein the supply of the alkaline processing solution onto the photosensitive material is performed by ejecting the alkaline processing solution from a plurality of nozzle holes to adjoin the photosensitive material adhering to the photosensitive material. The three droplets are applied by applying the alkaline processing liquid in a state where there is no gap between them, and the surface tension of the alkaline processing liquid is 15 dyn / cm or more, and
dyn / cm or less, and the contact angle between the droplet of the alkaline processing liquid and the photosensitive material is 10 ° or more and 30 ° or less. Embedded image Embedded image In the formula, R 1 to R 4 represent a hydrogen atom or a substituent.
A 1 and A 2 represent a hydroxyl group or a substituted amino group. X is -C
O -, - SO -, - SO 2 -, it represents a divalent or higher linking group selected from -PO <. Y 1K and Z 1K represent a nitrogen atom or a group represented by —CR 5 ((R 5 is a hydrogen atom or a substituent). k represents an integer of 0 or more. P represents a proton-dissociable group or a group capable of becoming a cation, and an oxidant generated by a redox reaction between the present compound and exposed silver halide is coupled with a coupler, and then the electron transfer from P is triggered. NX
It has a function of forming a dye by breaking a bond and removing a substituent bonded to a coupling site of a coupler. Y
Represents a divalent linking group. Z is a nucleophilic group and represents a group capable of attacking X when the present compound is oxidized. n is X
Is 1 or 2 when —PO <, and 1 when X is another group. R 1 and R 2 , R 3 and R 4 and Y 1K , Z
Two or more atoms or substituents arbitrarily selected from 1K and P may be independently bonded to each other to form a ring.
を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料に、実質的に
発色現像主薬を含有しないアルカリ性処理液を用い発色
現像処理するカラー画像形成方法において、該写真構
成層のいずれかに少なくとも一種の色素形成カプラーと
少なくとも一種の下記一般式(III)で表される発色用還
元剤を含有し、該アルカリ性処理液の該感光材料上へ
の供給が、該アルカリ性処理液を複数のノズル孔から噴
射して、該感光材料に付着された相互に隣接する3つの
液滴が、相互間内に隙間を有さない状態で該アルカリ性
処理液を塗布して行われ、該アルカリ性処理液の表面
張力が15dyn/cm以上、60dyn/cm以下で
あり、該アルカリ性処理液の液滴と該感光材料との接触
角が10°以上、30°以下であることを特徴とするカ
ラー画像形成方法。 【化3】 式中、R11は置換基を有してもよいアリール基またはヘ
テロ環基であり、R12は置換基を有してもよいアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘ
テロ環基である。X0 は−SO2 −、−CO−、−CO
CO−、−CO−O−、−CONH(R13)−、−CO
CO−O−、−COCO−N(R13)−または−SO2
−NH(R13)−である。ここでR13は水素原子または
R12で述べた基である。2. A color image forming method for performing color development processing on a silver halide color photographic light-sensitive material having at least one photographic constituent layer on a support, using an alkaline processing solution containing substantially no color developing agent. Any of the photographic constituent layers contains at least one kind of dye-forming coupler and at least one kind of a color-forming reducing agent represented by the following general formula (III), and the supply of the alkaline processing solution onto the photosensitive material is The alkaline processing liquid is sprayed from a plurality of nozzle holes, and three mutually adjacent droplets attached to the photosensitive material are coated with the alkaline processing liquid in a state where there is no gap between each other. And the surface tension of the alkaline processing liquid is 15 dyn / cm or more and 60 dyn / cm or less, and the contact angle between the droplets of the alkaline processing liquid and the photosensitive material is 10 ° or more and 30 ° or less. Color image forming method characterized in that there. Embedded image In the formula, R 11 is an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent, and R 12 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. is there. X 0 is -SO 2 -, - CO -, - CO
CO -, - CO-O - , - CONH (R 13) -, - CO
CO-O -, - COCO- N (R 13) - or -SO 2
—NH (R 13 ) —. Here, R 13 is a hydrogen atom or a group described for R 12 .
(IV)または(V)で表されることを特徴とする請求項
2に記載のカラー画像形成方法。 【化4】 式中、Z1 はアシル基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、またはアリールオキシカルボニル基を表
し、Z2 はカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
またはアリールオキシカルボニル基を表し、X1 、
X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子または置換基を表
す。但し、X1 、X3 、X5 のハメットの置換基定数σ
p値とX2 、X4 のハメットの置換基定数σm値の和は
0.08以上、3.80以下である。R3aはヘテロ環基
を表す。3. The method according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (III) is represented by the general formula (IV) or (V). Embedded image In the formula, Z 1 represents an acyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group, and Z 2 represents a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group,
Or an aryloxycarbonyl group, X 1 ,
X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a hydrogen atom or a substituent. Here, Hammett's substituent constant σ of X 1 , X 3 and X 5
The sum of the p value and the Hammett's substituent constant σm value of X 2 and X 4 is 0.08 or more and 3.80 or less. R 3a represents a heterocyclic group.
合物がそれぞれ一般式(VI)および(VII)で表されるこ
とを特徴とする請求項3に記載のカラー画像形成方法。 【化5】 式中、R1a、R2aは水素原子または置換基を表し、
X1 、X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子または置換基
を表す。但し、X1 、X3 、X5 のハメットの置換基定
数σp値とX2 、X4 のハメットの置換基定数σmの和
は0.80以上、3.80以下である。R3aはヘテロ環
基を表す。4. The method according to claim 3, wherein the compounds represented by formulas (IV) and (V) are represented by formulas (VI) and (VII), respectively. Embedded image In the formula, R 1a and R 2a represent a hydrogen atom or a substituent,
X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a hydrogen atom or a substituent. However, the sum of the Hammett's substituent constant σp value of X 1 , X 3 and X 5 and the Hammett's substituent constant σm of X 2 and X 4 is 0.80 or more and 3.80 or less. R 3a represents a heterocyclic group.
合物がそれぞれ一般式(VIII) および(IX)で表される
ことを特徴とする請求項4に記載のカラー画像形成方
法。 【化6】 式中、R4a、R5aは水素原子または置換基を表し、
X6 、X7 、X8 、X9 、X10は水素原子、シアノ基、
スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシル基、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、アシルオキシ基、アシルチオ基、またはヘ
テロ環基を表す。但し、X6 、X8 、X10のハメットの
置換基定数σp値とX7 、X9 のハメットの置換基定数
σm値の和は1.20以上、3.80以下である。Q1
はCとともに含窒素の5〜8員環のヘテロ環を形成する
のに必要な非金属原子群を表す。5. The color image forming method according to claim 4, wherein the compounds represented by formulas (VI) and (VII) are represented by formulas (VIII) and (IX), respectively. Embedded image In the formula, R 4a and R 5a represent a hydrogen atom or a substituent,
X 6 , X 7 , X 8 , X 9 , and X 10 represent a hydrogen atom, a cyano group,
Represents a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, a trifluoromethyl group, a halogen atom, an acyloxy group, an acylthio group, or a heterocyclic group. However, the sum of the Hammett's substituent constant σp value of X 6 , X 8 and X 10 and the Hammett's substituent constant σm value of X 7 and X 9 is 1.20 or more and 3.80 or less. Q 1
Represents a non-metallic atomic group necessary for forming a nitrogen-containing 5- to 8-membered heterocyclic ring together with C.
ために、塗布装置として、アルカリ性処理液を噴射させ
て感光材料にアルカリ性処理液を塗布する複数のノズル
孔を有し、これらのノズル孔より噴射される一滴のアル
カリ性処理液の体積をVとし、アルカリ性処理液が感光
材料上に付着された際の接触角をθとしたとき、 【数1】 の式で示される感光材料上に付着した一滴のアルカリ性
処理液の直径Dに基づき算出される隣接したノズル孔相
互間のピッチPを(√3)・D/2以下の値とした塗布
装置を用いることを特徴とした請求項1、2、3、4ま
たは5に記載のカラー画像形成方法。6. A coating apparatus having a plurality of nozzle holes for spraying an alkaline processing liquid to apply the alkaline processing liquid to the photosensitive material in order to supply the alkaline processing liquid to the photosensitive material. Assuming that the volume of one droplet of the alkaline processing liquid to be ejected is V and the contact angle when the alkaline processing liquid is deposited on the photosensitive material is θ, A coating apparatus in which the pitch P between adjacent nozzle holes calculated on the basis of the diameter D of one drop of the alkaline processing liquid adhered on the photosensitive material expressed by the following formula, is a value of (√3) · D / 2 or less. 6. The color image forming method according to claim 1, wherein the method is used.
ル材との接触角が40°以上であることを特徴とする請
求項1、2、3、4、5または6に記載のカラー画像形
成方法。7. A color image forming apparatus according to claim 1, wherein a contact angle between said alkaline processing liquid and a nozzle member of said coating apparatus is 40 ° or more. Method.
液の液膜の厚さが50μm以下であることを特徴とする
請求項1、2、3、4、5、6または7に記載のカラー
画像形成方法。8. The method according to claim 1, wherein the thickness of the liquid film of the alkaline processing liquid applied to the photosensitive material is 50 μm or less. Color image forming method.
載の感光材料が全ての塗布層の銀量を合計した塗布銀量
が銀換算で0.003〜0.3g/m2 のハロゲン化銀
を含有する感光材料であり、実質的に発色用現像主薬を
含有しないアルカリ性処理液が過酸化水素を含有するこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7また
は8に記載のカラー画像形成方法。9. The coated silver amount of the light-sensitive material according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, which is the total silver amount of all coated layers, is 0.003 to 0.3 g / m 2 in terms of silver. 2. The photosensitive material containing silver halide of item 2, wherein the alkaline processing solution containing substantially no color developing agent contains hydrogen peroxide. 9. The color image forming method according to 6, 7, or 8.
0-4秒でかつ隣接するラスター間の重なりがある走査露
光で露光することを特徴とする請求項1、2、3、4、
5、6、7、8または9に記載のカラー画像形成方法。10. An exposure time per pixel of 10 -8 to 1
The exposure is performed by a scanning exposure in which 0-4 seconds and overlap between adjacent rasters is performed.
10. The method for forming a color image according to 5, 6, 7, 8 or 9.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4458698A JPH11231456A (en) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Color image forming method using silver halide color photographic sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4458698A JPH11231456A (en) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Color image forming method using silver halide color photographic sensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11231456A true JPH11231456A (en) | 1999-08-27 |
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ID=12695600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4458698A Pending JPH11231456A (en) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Color image forming method using silver halide color photographic sensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11231456A (en) |
-
1998
- 1998-02-10 JP JP4458698A patent/JPH11231456A/en active Pending
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