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JPH11171806A - ペンタフルオロエタンの製造方法、並びにフッ素化用触媒及びその製造方法 - Google Patents

ペンタフルオロエタンの製造方法、並びにフッ素化用触媒及びその製造方法

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JPH11171806A
JPH11171806A JP9342774A JP34277497A JPH11171806A JP H11171806 A JPH11171806 A JP H11171806A JP 9342774 A JP9342774 A JP 9342774A JP 34277497 A JP34277497 A JP 34277497A JP H11171806 A JPH11171806 A JP H11171806A
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JP
Japan
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chromium
catalyst
fluorination
pentafluoroethane
producing
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Takashi Kanemura
崇 金村
Takashi Shibanuma
俊 柴沼
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Daikin Industries Ltd
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Daikin Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ペンタフルオロエタンや原料として反応系に
リサイクル可能な化合物の生成活性を有意に低下させる
ことなく、副生成物であるクロロフルオロエタン類の総
生成量を低減できるペンタフルオロエタンの製造方法。
並びにこれに用いるフッ素化用触媒及びその製造方法を
提供すること。 【解決手段】 インジウム、ガリウム、コバルト、ニッ
ケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれる少
なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物を主
成分とし、前記クロム化合物におけるクロムの平均原子
価数が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非晶
質状態にあるクロム系触媒の存在下に、含塩素炭素化合
物をフッ素化する、ペンタフルオロエタンの製造方法。
並びに、前記クロム系触媒及びその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペンタフルオロエ
タンの製造方法、並びにフッ素化用触媒及びその製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、水素含有飽和ハロゲン化炭化水
素(以下、代替フロンと称することがある。)は、オゾ
ン層の破壊の可能性が極めて低いため、従来より市場で
用いられている水素を含まないハロゲン化炭素(例え
ば、クロロフルオロエタン類:以下、特定フロンと称す
ることがある。)の代替品として注目されている。
【0003】特に、ペンタフルオロエタンは、冷媒、発
泡剤、溶剤、ドライエッチャント等の多岐に渡る用途が
期待される。また、ペンタフルオロエタンは、通常の温
度及び圧力では不活性で低毒性の気体であり、有用な物
質である。
【0004】従来より、ペンタフルオロエタンの製造方
法としては、酸化クロム触媒やアルミナに金属を担持し
た触媒等を用い、テトラクロロエチレンやハロゲン化炭
化水素〔C2 HClx (5-x) ;但し、xは1〜5〕の
気相フッ素化反応が知られている。
【0005】しかしながら、従来より知られている反応
では、目的生成物のペンタフルオロエタンや、原料とし
て反応系へのリサイクルが可能なC2 HClx (5-x)
(但し、xは1〜5)で表されるハロゲン化炭化水素の
他に、副生成物としてクロロフルオロエタン類(特定フ
ロン)の生成が避けられないことも明らかとなってい
る。
【0006】この特定フロンであるクロロフルオロエタ
ン類〔C2 Clx (6-x) (但しxは1〜5)〕は、原
料として反応系にリサイクルできないために、生産ロス
をもたらすだけでなく、特に、CFC−115(1−ク
ロロ−1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタン:以
下、同様)は、精製工程における目的生成物(ペンタフ
ルオロエタン)との分離が困難なため、精製設備費の増
大やペンタフルオロエタンの純度低下を招いている。さ
らに、その処理には多くの費用が必要とされている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】まず、酸化クロム触
媒、或いは活性炭にクロム又は酸化クロムを担持した触
媒を用いた従来のペンタフルオロエタンの製造方法を説
明する。
【0008】例えば、米国特許第3755477号で
は、HCFC−123(2,2−ジクロロ−1,1,1
−トリフルオロエタン:以下、同様)を原料とし、酸化
クロム触媒を用いてペンタフルオロエタンが生成される
ことが示されており、また、特開平8−38904号で
は、還元処理した酸化クロム触媒で、パークロロエチレ
ンからペンタフルオロエタンが生成されること、さら
に、WO92/19576号では、(NH4 2 Cr2
7 から調製した酸化クロム触媒で、HCFC−123
からペンタフルオロエタンが生成されることを示してい
る。また、欧州特許第456552号では、活性炭にC
rを担持せしめた触媒で、HCFC−123を原料とし
てペンタフルオロエタンが生成されることが示されてい
る。
【0009】しかしながら、以上のような酸化クロム触
媒、或いは活性炭にクロム又は酸化クロムを担持した触
媒を用いた従来の方法では、上述のように問題となる副
生成物クロロフルオロエタン類の低減には限界があり、
クロロフルオロエタン類生成の問題についての改善は、
依然として不十分である。
【0010】特に、上述したいずれの方法でも、目的生
成物であるペンタフルオロエタンの生成量に対する副生
成物クロロフルオロエタン類の総生成量の割合を1%以
下とすることは困難である。
【0011】また、アルミナ又はフッ化アルミニウムに
金属を担持した触媒を用いてペンタフルオロエタンを製
造する方法が知られている。
【0012】例えば、欧州特許第638535号では、
Cr2 3 /AlF3 、特表平3−505328号で
は、Mn(又はCo、Cr)/AlF3 、WO92/1
6482号ではZn/アルミナ、特開平4−29940
号ではCo/Ce/アルミナ、或いは、欧州特許第60
9124号では、Cr/Ni/Al酸化物の触媒で、パ
ークロロエチレン、HCFC−122(1,1,2−ト
リクロロ−2,2−ジフルオロエタン:以下、同様)、
或いは、HCFC−123を原料としたペンタフルオロ
エタンの製造方法が示されている。
【0013】これらアルミナ又はフッ化アルミニウムを
担体とした触媒を用いた場合、酸化クロム系触媒を使用
した場合に比べて、いずれも反応活性が低く、高温での
反応を余儀なくされ、結果的に副生成物の生成が多くな
る条件となるだけでなく、反応器の加熱設備費や用役費
の増大につながっている。さらに、多量の触媒が必要と
なり、自ずと高級材質を用いた大きな反応器が必要とな
ってしまう。
【0014】また、酸化クロム、フッ素化酸化クロムな
どのクロム系触媒に金属を担持せしめた触媒もペンタフ
ルオロエタン製造用の触媒として提案されている。
【0015】しかしながら、そのほとんどは、問題とな
る副生成物クロロフルオロエタン類の生成量を考慮して
おらず、フッ素化活性が高く、即ち、ペンタフルオロエ
タンの生成率が高く、かつ、副生成物であるクロロフル
オロエタン類の生成を抑えたペンタフルオロエタンの製
造方法は示されていない。
【0016】例えば、特開平2−178237号では、
Fe2 3 −Cr2 3 触媒を用いてパークロロエチレ
ンをフッ素化し、収率良くペンタフルオロエタンを生成
している。また、特開平7−61944号では、HCF
C−123を原料とし、400℃で4時間水素処理した
In/CrOx y (当該公開特許公報に示された触媒
は、その触媒組成によりCrの価数は+3.0に特定さ
れる。)触媒を用いてペンタフルオロエタンを得てお
り、また、特開平8−108073号では、同じくHC
FC−123から400℃で4時間水素処理したGa/
CrOx y (当該公開特許公報に示された触媒は、そ
の触媒組成によりCrの価数は+3.0に特定され
る。)触媒を用いたペンタフルオロエタンの生成を開示
しており、それぞれ、反応圧力の増加による活性低下の
抑制効果と触媒の長寿命化について示されている。
【0017】しかしながら、これらのいずれの例におい
ても、副生成物であるクロロフルオロエタン類の生成に
関する知見は示されていない。
【0018】即ち、WO95/27688号ではZn/
Cr酸化物系の触媒を用いたペンタフルオロエタンの製
造方法を開示しているが、副生成物クロロフルオロエタ
ン類の総生成量に関する知見は示されていない。また、
CFC−115についてのそれは示されているが、パー
クロロエチレンを原料にした実施例では、生成してくる
ペンタフルオロエタンに対するCFC−115の割合は
0.59%、HCFC−123を原料とした実施例で
は、HFC−125とHCFC−124を合わせた量に
対するCFC−115の割合でさえも既に1.46%に
達しており、クロロフルオロエタン類の低減効果は不十
分と言える。
【0019】さらに、Mg/Cr酸化物触媒を用いたパ
ークロロエチレンからのペンタフルオロエタンの製造方
法を開示した欧州特許第733611号に至っては、そ
こに示されているどの実施例においても、副生成物であ
るクロロフルオロエタン類の生成量は、その中の比較例
に比べても明らかに多く、ペンタフルオロエタンの生成
量に対するクロロフルオロエタン類の総生成量の割合
は、2.9〜7.0%と高い値である。
【0020】また、他の反応、例えば、HCFC−13
3a(2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン:
以下、同様)のフッ素化反応において、いくつかの金属
添加の酸化クロム触媒が提案されている。
【0021】例えば、特開平2−172933号では、
Crとともに、Al、Mg、Ca、Ba、Sr、Fe、
Ni、Co及びMnからなる群より選ばれる少なくとも
1種の元素を含むハロゲン化物または酸化物からなる触
媒を用いたHCFC−133aのフッ素化反応が示され
ており、また、欧州特許第546883号では、+3価
のCrと+2価のNiとの水酸化物ゾルにより調製した
CrとNiとの混合酸化物を基材とする触媒を用いた、
HCFC−133aのフッ素化反応が示されている。
【0022】しかしながら、これらの文献の中で、ペン
タフルオロエタンの生成反応における活性、選択性及び
クロロフルオロエタン類の生成量等に関する知見は何ら
示されておらず、また、ペンタフルオロエタンの生成反
応における反応性は容易に推測できるものではない。さ
らに、前者における触媒は、450℃で5時間の焼成を
行っており、また、後者における触媒は420℃、4時
間の焼成により調製されているので、Crの平均価数が
+3.0程度となり、かつ、非晶質の触媒を得る条件と
しては適当でない。
【0023】本発明は、上述した従来の実情に鑑みてな
されたものであり、その目的は、目的生成物であるペン
タフルオロエタンや、原料として反応系にリサイクル可
能なC2 HClx (5-x) (但し、xは1〜5の整数)
の生成活性を有意に低下させることなく、かつ、ペンタ
フルオロエタン製造時の副生成物であるクロロフルオロ
エタン類の総生成量が低減され、その結果として、生産
ロスを抑えるだけでなく、精製設備費の抑制や、ペンタ
フルオロエタンの純度向上が可能な触媒を用いたペンタ
フルオロエタンの製造方法を提供することにある。
【0024】本発明の更に他の目的は、上述したペンタ
フルオロエタンの製造方法に用いることができるフッ素
化用触媒及びその製造方法を提供することにある。
【0025】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述した課
題を解決するべく、酸化クロム、酸化フッ化クロムなど
のクロム系触媒の改良を検討した結果、クロムの平均原
子価が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非晶
質(アモルファス)状態にあるクロム系触媒に、インジ
ウム、ガリウム、コバルト、ニッケル、亜鉛及びアルミ
ニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元
素が添加された触媒が、ペンタフルオロエタンや、原料
として反応器へのリサイクルが可能なC2 HClx
(5-x) (但し、xは1〜5の整数)の生成活性を有意に
悪化させることなく、ペンタフルオロエタン製造時の副
生成物であるクロロフルオロエタン類の総生成量を低減
させることが可能であることを見いだした。
【0026】即ち、本発明者は、添加されるクロム系触
媒中のクロムの原子価と反応性との関係に着目し、検討
を行った結果、その平均原子価数が約+4価である触媒
において上述した効果が得られることを明らかにした。
これは、クロム触媒性能の一つとして考えられる価数変
化が容易となっていることによるものと推定される。ま
た、+6価となれば熱的に不安定になり、また、昇華性
を示すものもあり、触媒として使用する上で問題となる
場合がある。
【0027】また、組成分析や磁化率測定結果より特定
される触媒全体としてのクロムの平均原子価は、比較的
安定な+3、+4、或いは+6という整数値を必ずしも
とるものではないことも判明し、それらは、+3価、+
4価、或いは+6価のクロムが混在する結果、平均原子
価数として整数値をとらないものと考えられる。
【0028】以上のことから、主に+4価のクロムを含
み、クロムの平均原子価としては、+3.5以上、+5
以下(好ましくは+4〜+4.5)とすべきである。こ
の平均原子価が+3.5以上であることによって、これ
未満に比べて触媒活性が向上し、また+5.0以下であ
ることによって、これより大きいものに比べて高活性で
かつ構造が安定となる。そして、このクロム系触媒に、
前記金属を添加することにより、高活性でクロロフルオ
ロエタン類の生成し難い触媒が得られ、上述した効果が
得られるのである。
【0029】即ち、本発明は、インジウム、ガリウム、
コバルト、ニッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群
より選ばれる少なくとも1種の金属元素が添加されたク
ロム化合物を主成分とし、前記クロム化合物におけるク
ロムの平均原子価数が+3.5以上、+5.0以下であ
り、かつ、非晶質状態にあるクロム系触媒の存在下に、
含塩素炭素化合物をフッ素化する、ペンタフルオロエタ
ンの製造方法(以下、本発明のペンタフルオロエタンの
製造方法と称する。)に係るものである。
【0030】前述したように、クロムの原子価数が+3
である酸化クロム又はフッ素化酸化クロムに金属を添加
した触媒はいくつか提案されているが、本発明者が鋭意
検討を重ねた結果、インジウム、ガリウム、コバルト、
ニッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれ
る少なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物
であって、この化合物が安定な原子価数+3よりも大き
く、昇華性を有する化合物をも形成する原子価数+6よ
りも小さい、+3.5以上、+5.0以下であり、か
つ、非晶質状態にあるクロム系触媒の存在下に、例え
ば、パークロロエチレン、1,1−ジクロロ−2,2,
2−トリフルオロエタン及び1−クロロ−1,2,2,
2−テトラフルオロエタンなどの含塩素炭素化合物をフ
ッ素化することによって、ペンタフルオロエタン生成反
応の高活性化と、ペンタフルオロエタン生成量に対する
副生成物であるクロロフルオロエタン類の生成量の低減
化との両立が可能になることを見いだした。
【0031】特に、前記高活性化は、反応温度の低温化
や触媒量の低減、長寿命化を可能にして設備費やランニ
ングコストの低減をもたらすだけでなく、副生成物、特
にクロロフルオロエタン類が生成し難い条件を実現させ
る結果となって、さらに、副生成物であるクロロフルオ
ロエタン類の生成を抑制することができる。
【0032】これは、非晶質でクロムの価数が+3.5
〜+5の触媒の主反応(ペンタフルオロエタンの生成反
応)に対する活性が、結晶性、或いはクロムの価数が+
3の触媒の活性に比べ非常に高いために、前記金属元素
を添加することによって、特定フロンの生成量を抑えつ
つ、非晶質の特長である高活性を十分に活かすことがで
きる。加えて、高活性化により同一HFC−125生成
量の条件では、非晶質の触媒を用いることで反応温度の
低温化が可能となり、添加金属の効果とあいまって特定
フロンの絶対量においても結晶性触媒よりも大幅に少な
くなる。
【0033】なお、本発明における前記平均原子価数と
は、その組成分析及び磁化率測定により特定されるクロ
ムの原子価数であって、前記組成分析により特定される
平均原子価数は、実際に前記クロム系触媒の組成分析を
行い、これによって得られる結果から前記触媒中のクロ
ムの平均原子価を求めたものであって、磁化率測定によ
り特定される平均原子価数は、温度変化による前記触媒
の磁化率の変化を求め、その結果から理論的に、前記触
媒中のクロムの平均原子価を求めたものである(具体的
な測定方法については後述する)。
【0034】なお、前記平均原子価数は、+3.6以
上、+4.8以下(更には+4.0以上、+4.5以
下)がさらに望ましい。
【0035】さらに、前記非晶質状態とは、前記触媒が
全体として非晶質(アモルファス)状態にあることを意
味し、これは、例えばX線回折測定において特定の結晶
構造に帰属される回折ピークが存在しない状態である。
【0036】また、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法におけるフッ素化反応では、使用するフッ素化剤
として、HF、F2 又はその他のフッ素含有炭化水素な
どを用いてよい。
【0037】本発明は、本発明のペンタフルオロエタン
の製造方法に使用できるフッ素化用触媒として、インジ
ウム、ガリウム、コバルト、ニッケル、亜鉛及びアルミ
ニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元
素が添加されたクロム化合物を主成分とし、前記クロム
化合物におけるクロムの平均原子価数が+3.5以上、
+5.0以下であり、かつ、非晶質状態にあるクロム系
フッ素化用触媒(以下、本発明の触媒と称する。)を提
供するものである。
【0038】本発明の触媒は、フッ素化反応に供するク
ロム系フッ素化反応用触媒であり、種々のフッ素化反応
に供することができるが、特に、エタンやエチレン系の
塩化炭化水素(又は塩化炭素)をフッ素化してペンタフ
ルオロエタンを得る、ペンタフルオロエタンの製造方法
に供することが望ましい。
【0039】さらに、本発明は、本発明の触媒を再現性
良く製造する方法として、インジウム、ガリウム、コバ
ルト、ニッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より
選ばれる少なくとも1種の金属元素が添加されたクロム
化合物を主成分とし、前記クロム化合物におけるクロム
の平均原子価数が+3.5以上、+5.0以下であり、
かつ、非晶質状態にあるクロム系フッ素化用触媒を製造
するに際し、不活性ガスの雰囲気下での焼成によって前
記非晶質状態にあるクロム系フッ素化用触媒を得る、フ
ッ素化用触媒の製造方法(以下、本発明の触媒の製造方
法と称する。)も提供するものである。
【0040】本発明の触媒の製造方法によれば、本発明
の触媒を製造するに際し、例えば窒素ガス等の不活性ガ
スの雰囲気下で焼成によって、前記非晶質状態にあるク
ロム系フッ素化用触媒を得ることができ、前記焼成は、
特に焼成温度380℃〜410℃、焼成時間0.5時間
〜3.5時間程度で行うことがきる。
【0041】
【発明の実施の形態】まず、本発明のペンタフルオロエ
タンの製造方法を説明する。
【0042】本発明のペンタフルオロエタンの製造方法
において、パークロロエチレン、1,1−ジクロロ−
2,2,2−トリフルオロエタン及び1−クロロ−1,
2,2,2−テトラフルオロエタンからなる群より選ば
れる少なくとも1種の前記含塩素炭素化合物をフッ化水
素によりフッ素化することが望ましい。
【0043】さらに、前記含塩素炭素化合物が、1,1
−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエタン(HCF
C−123)及び1−クロロ−1,2,2,2−テトラ
フルオロエタン(HCFC−124)のいずれか又はそ
の混合物であることが望ましい。
【0044】即ち、出発原料としてHCFC−123や
HCFC−124(特にHCFC−124)を使用する
場合、副生成物であるクロロフルオロエタン類の生成を
極めて少量に抑制することができ、これと同時に目的物
であるペンタフルオロエタンを高収率で得ることができ
る。
【0045】もちろん、出発原料としてパークロロエチ
レンを用いることもでき、この場合、パークロロエチレ
ンはHCFC−123やHCFC−124等の中間体を
経てペンタフルオロエタンへと導かれると考えられる。
【0046】上述したように、本発明のペンタフルオロ
エタンの製造方法は、特に、クロロフルオロエタン類を
副生する反応に関してその効果が大きい。従って、本発
明においては、このような反応であれば出発原料の制限
はないが、比較的ペンタフルオロエタンの収率が高く、
かつ、クロロフルオロエタン類の生成量が多い、パーク
ロロエチレン、1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフ
ルオロエタン及び1−クロロ−1,2,2,2−テトラ
フルオロエタンのいずれか、又はそれらの混合物、或い
は1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエタン
と1−クロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン
との混合物のHFによるフッ素化において特に顕著な効
果が得られる。また、前記含塩素炭素化合物として、
1,1,2−トリクロロ−2,2−ジフルオロエタン
(HCFC−122)などを用いてもよい。
【0047】本発明のペンタフルオロエタンの製造方法
におけるフッ素化反応の反応条件は、各出発原料の特性
に応じて任意に選ばれる。
【0048】例えば、原料となるHFと含塩素炭素化合
物(特に、パークロロエチレン、HCFC−123及び
−124のいずれか)との反応のモル比は通常、(0.
9〜100):1であり、また、反応温度は通常、15
0℃〜450℃である。また、前記触媒と反応ガスとの
接触時間(触媒重量を反応ガスの単位時間に流れる量で
割った値)は、通常、0.1g/NmL・sec〜50
g/NmL・secである。なお、好ましい反応圧力は
反応に供する原料ガスの種類等によって適宜選ぶことが
できる。
【0049】例えば、HCFC−123からペンタフル
オロエタンを生成させるフッ素化反応では、HF等のフ
ッ素化剤とHCFC−123との反応のモル比、反応温
度、接触時間及び反応圧力を適宜変えることにより、ペ
ンタフルオロエタンへの転化率やクロロフルオロエタン
類の生成率が変化し、例えば、ペンタフルオロエタンへ
の転化率は、反応温度や接触時間の増加に伴って増加す
る傾向にある。
【0050】特に、製造設備費や反応条件による用役
費、或いは上記の反応条件を考慮すると、反応温度はさ
らに250℃〜380℃が望ましく、反応のモル比はさ
らに2〜10が望ましい。また、さらに望ましい接触時
間は0.2g/NmL・sec〜20g/NmL・se
cである。さらに、反応圧力は、常圧付近であることが
好ましく、常圧よりも高い圧力下での反応も可能である
が、ペンタフルオロエタンへの転化率が低下する傾向に
ある。
【0051】また、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法によれば、前記クロム系触媒の存在下、前記含塩
素炭素化合物として1,1−ジクロロ−2,2,2−ト
リフルオロエタンをフッ素化する際に、得られるペンタ
フルオロエタンの生成量に対して、副生成物であるクロ
ロフルオロエタン類の総生成量の割合が0.5%以下と
なるように実施することが十分に可能である。
【0052】さらに、前記含塩素炭素化合物として1−
クロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタンをフッ
素化する場合は、得られるペンタフルオロエタンの生成
量に対して、副生成物であるクロロフルオロエタン類の
総生成量の割合が0.3%以下となるように実施するこ
とが十分に可能である。
【0053】このように、本発明のペンタフルオロエタ
ンの製造方法によれば、ペンタフルオロエタンの生成量
やリサイクル可能なC2 HClx (5-x) (但し、xは
1〜5の整数)の生成活性を有意に悪化させることな
く、ペンタフルオロエタンの生成量に対するクロロフル
オロエタン類の総生成量の割合を0.5%以下或いは
0.3%以下とすることができ、原料として反応系にリ
サイクルできないクロロフルオロエタン類の総生成量を
低減すると共に、ペンタフルオロエタンとの分離が困難
であるCFC−115の生成も抑制することができ、ペ
ンタフルオロエタンの効率良い製造を実施することがで
きる。
【0054】また、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法において、前記クロム化合物は、酸化クロム、フ
ッ化クロム、酸化フッ化クロム及び酸化塩化フッ化クロ
ムからなる群より選ばれる少なくとも1種であってよ
い。即ち、本発明のペンタフルオロエタンの製造方法で
用いる触媒は、このような種々の形態の混合体であって
よいし、例えば、原子価の異なるクロムを含む酸化フッ
化クロム等であってもよい。
【0055】また、前記クロム系触媒を前記含塩素炭素
化合物のフッ素化反応に供する前に予めフッ素化するこ
とが望ましい。例えば、HFガスとN2 ガスとの混合ガ
ス中に所定温度、所定時間、前記触媒を配しておくこと
でフッ素化される。
【0056】なお、前記フッ素化後の比表面積が25〜
130m2 /gとなるような前記クロム系触媒を用いる
ことができる。即ち、上述した方法で、金属添加した非
晶質で高原子価のCrを含む酸化クロムを調製し、その
後100〜460℃、好ましくは150〜400℃でH
Fガス処理を行えば、自ずと25〜130m2 /gの触
媒が得られる。なお、このためには、非常に大きな発熱
を伴うHF処理の初期は低温(150〜250℃)で、
HFを窒素ガスで希釈(HF:5〜20%)して行い、
その後、昇温、或いはHF濃度を増加していくことが望
ましい。
【0057】また、不活性ガスの雰囲気下で前記クロム
系触媒の焼成を行い、これによって前記クロム系触媒を
非晶質状態とすることができる。
【0058】上述した温度、時間内での前記焼成によっ
て、上述した原子価を有し、かつ、非晶質のクロム系触
媒を形成することができるが、特に、温度380〜41
0℃、0.5〜3.5時間の範囲内で前記焼成を行うこ
とが望ましい。
【0059】また、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法において、前記クロム系触媒への前記金属元素の
添加方法に制限はなく、例えば、水酸化クロムを前記金
属元素の水溶液中に浸漬処理し、乾燥した後に、前記焼
成を行ってもよく(含浸法又は浸漬法:図1参照)、又
は、前記金属元素とクロムが溶解する水溶液から共沈に
より前記金属元素を含有する水酸化クロムを得、乾燥し
た後に前記焼成を施してもよい(共沈法:図2参照)。
【0060】即ち、例えば、前記金属塩水溶液にクロム
系触媒を浸漬させる、或いは、前記金属塩水溶液にクロ
ム系触媒の前駆体である水酸化クロムを浸漬させた後、
乾燥、焼成を施す含浸法や、前記金属元素の金属塩水溶
液とクロム塩水溶液との混合液にアンモニア水等の沈殿
剤を加え、前記金属元素を含有する水酸化クロムを得、
焼成することによって調製する共沈法などにより、I
n、Ga、Co、Ni、Zn及びAlからなる群より選
ばれる少なくとも1種の金属元素がクロム化合物に添加
される。
【0061】また、酸化クロム等のクロム系触媒への前
記金属元素の添加量は、本発明の効果が得られない程に
少な過ぎず、クロム系触媒の反応活性を有意に阻害する
程に多過ぎない量でよい。即ち、触媒中のCrに対し
て、原子数比で0.001〜0.5、好ましくは0.0
05〜0.1となる範囲内の量が望ましい(本発明の触
媒の製造方法も同様)。
【0062】このように、前記触媒の初期活性の安定化
や脱水のために、HF等による前記触媒のフッ素化処理
を行う場合、前記金属元素の添加は、前記フッ素化処理
の後でも問題はないが、フッ素化処理の前に行うことが
望ましい。
【0063】また、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法においては、前記クロム系触媒に、クロム、イン
ジウム、ガリウム、コバルト、ニッケル、亜鉛、アルミ
ニウム、酸素、塩素及びフッ素以外の反応活性又は選択
性改善の効果を有する元素を添加、または担持すること
が望ましく、前記元素は、カドミウム、マグネシウム及
びチタンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素
としてよい。
【0064】また、前記含塩素炭素化合物をフッ化水素
を用いてフッ素化する際に生じる生成物の一部若しくは
全部を、反応系に戻す、或いは、請求項1に記載した触
媒を使用してフッ化水素によるフッ素化を行う他の反応
系に導くことができる。さらに、前記生成物からペンタ
フルオロエタン及び塩化水素を含む混合物を分離し、残
りの生成物を前記反応系に戻す、或いは、前記他の反応
系に導いてもよい。
【0065】このような工程によって、より一層効率的
なペンタフルオロエタンの製造が可能となる。
【0066】次に、本発明の触媒について説明する。
【0067】本発明の触媒において、前記クロム化合物
が、酸化クロム、フッ化クロム、酸化フッ化クロム及び
酸化塩化フッ化クロムからなる群より選ばれる少なくと
も1種の化合物であってよい。即ち、クロムの原子価
が、前述した原子価数の範囲内にあれば、前記の種々の
形態であってよい。
【0068】また、本発明の触媒はフッ素化されている
ことが望ましい。特に、前記フッ素化後の比表面積が2
5〜130m2 /gであることがよい。
【0069】また、本発明の触媒においては、クロム、
インジウム、ガリウム、コバルト、ニッケル、亜鉛、ア
ルミニウム、酸素、塩素、フッ素以外の反応活性又は選
択性改善の効果を有する元素が添加されていることが望
ましく、前記元素は、カドミウム、マグネシウム及びチ
タンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素であ
ってよい。
【0070】次に、本発明の触媒の製造方法を説明す
る。
【0071】後述する調製法により得た水酸化クロムを
不活性雰囲気下で高温処理すると、脱水と共に、酸化ク
ロムの生成が進行し、同時に表面積も増加する。この現
象は、比較的低温、或いは短時間の焼成、即ち、300
℃〜370℃、或いは0.4時間の焼成でも進行し、十
分大きな表面積は得られるが、この焼成条件では、触媒
中に水酸基(OH- )が多く残留し、得られた触媒中の
クロムの価数が+3.5に満たない値となる。逆に41
0℃を越える、或いは3.5時間を越える焼成では、ク
ロムイオンとして原子価は安定な+4価から+3価に移
行してゆき、酸化クロムの結晶構造としても、非晶質か
ら、安定なCr2 3 (Cr+3価)構造への結晶化が
進み、クロムの平均原子価は+3.5を下回ってしま
う。
【0072】以上の検討結果から、本願中に示した調製
法により得た水酸化クロムの焼成により、非晶質でのク
ロムの平均原子価が+3.5以上、+5.0以下の触媒
を得るためには、不活性雰囲気下で、380℃〜410
℃、特に400℃で0.5〜3.5時間、好ましくは2
時間の焼成が適当である。
【0073】また、粉末状水酸化クロムを前記金属元素
の水溶液中に浸漬処理し、乾燥した後に、前記焼成を行
うことができる(含浸法又は浸漬法:図1参照)。また
は、前記金属元素とクロムが溶解する水溶液から共沈に
より前記金属元素を含有する水酸化クロムを得て乾燥し
た後、前記焼成を行ってもよい(共沈法:図2参照)。
【0074】また、本発明の触媒の製造方法における前
記クロム化合物は、酸化クロム、フッ化クロム、酸化フ
ッ化クロム及び酸化塩化フッ化クロムからなる群より選
ばれる少なくとも1種の化合物であってよい。
【0075】また、本発明の触媒の製造方法において
は、前記触媒を前記焼成後にフッ素化することが望まし
い。前記フッ素化用触媒の比表面積が25〜130m2
/gとなるように前記フッ素化を行うことができる。
【0076】さらに、本発明の製造方法における前記フ
ッ素化用触媒に、クロム、インジウム、ガリウム、コバ
ルト、ニッケル、亜鉛、アルミニウム、酸素、塩素、フ
ッ素以外の反応活性又は選択性改善の効果を有する元素
を添加することが望ましい。
【0077】前記元素は、カドミウム、マグネシウム及
びチタンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素
であってよい。
【0078】本発明の触媒の製造方法において、前記触
媒におけるクロムの平均原子価数は+3.5以上、+
5.0以下であり、かつ、非晶質であるが、このような
フッ素化用触媒は、例えば、以下に示す方法で調製され
る。
【0079】まず、クロム塩の水溶液(例えば、硝酸ク
ロム、塩化クロム、クロムみょうばん、硫酸クロム)と
アンモニア水とを混合することによって、水酸化クロム
の沈殿を得る。
【0080】次いで、例えば、硝酸クロムの5.7%水
溶液に10%のアンモニア水を等当量から等当量の1.
2倍程度滴下することによって、水酸化クロムの沈殿を
得る。この時の沈殿反応の反応速度により水酸化クロム
の物性を制御することができるが、反応速度はある程度
速いことが望ましい。この反応速度は、反応溶液の温
度、アンモニア水の混合方法(混合速度)、攪拌状態に
よって左右される。
【0081】次いで、この沈殿を濾過、洗浄後、乾燥す
る。この乾燥は、例えば、空気中70℃〜140℃、特
に120℃前後で1時間〜50時間、特に12時間前後
行うことが望ましい。この段階で得られる物質は、水酸
化クロムの状態である。
【0082】次いで、この水酸化クロムを、例えば硝酸
インジウム水溶液(例えばこの水酸化クロム中のクロム
に対し、硝酸インジウム水溶液中のインジウムの量が原
子比で約1:0.03程度になるように前記水溶液の濃
度を調整する。)に浸漬し、例えば12時間程含浸させ
た後、改めて例えば120℃で12時間乾燥することに
よって、インジウム添加の水酸化クロムが得られる。
【0083】次いで、ペレット形状の触媒にする場合
は、インジウム添加の水酸化クロムを解砕し、打錠機に
よってペレット状に成形する。ペレットは、例えば直径
3mm、高さ3mm程度の円柱状であってよい。また
は、ガス流通時の圧力損失やガスの拡散を考慮すると、
前記ペレットは中空円筒形に成形することが望ましい。
【0084】次いで、成形された触媒を窒素ガス等の不
活性ガスの雰囲気中、焼成することによって、クロムの
平均原子価数が+3.5以上、+5.0以下で非晶質の
酸化クロムにすることができる。
【0085】この焼成温度は、380℃以上であること
が望ましいが、高くしすぎるとCr2 3 (クロムの原
子価は+3)組成を形成してしまうため、それを回避で
きる範囲でより高温にすることが望まれる。従って、こ
の焼成は、例えば、380℃〜410℃、特に400℃
前後で0.5時間〜3.5時間、特に2時間前後行う。
上述したように、この焼成時間が上述した範囲よりも長
すぎると、Cr2 が生成して平均原子価数の高いク
ロム系触媒が得られず、また、短すぎると、触媒中に水
酸基の残留が多くなりすぎる傾向にある。
【0086】次いで、触媒をCFC類やHCFC類、或
いはHFやFによってフッ素化処理することができ
る。フッ素化処理を行わない場合、ペンタフルオロエタ
ンの生成反応中に触媒のフッ素化が進行してしまい、目
的物であるペンタフルオロエタンの生成反応を大きく阻
害したり、副生成物の生成を促進することがある。
【0087】特に、HFでフッ素化処理する場合、温
度、圧力は高いほどフッ素化の進行速度は大きくなり、
また、温度は生成する水が工程内で凝縮しない温度であ
って、反応熱により触媒が結晶化しない温度を上限とす
ればよい。例えば、フッ素化処理時の温度は100℃〜
460℃の範囲内であればよい。
【0088】なお、このフッ素化処理によって、触媒の
比表面積は低下し、25m2 /g〜130m2 /gにな
る。
【0089】上述したような方法以外でも、触媒中のク
ロムの平均原子価数が+3.5以上、+5.0以下であ
り、かつ、非晶質状態にあるクロム系触媒を調製するこ
とが可能であるが、本発明における触媒を得るために
は、上述した触媒調製方法における、沈殿反応(中和反
応)によって水酸化クロムを得るときの種々の条件や、
水酸化クロムの焼成条件などが特に重要となる。
【0090】なお、上述した触媒調製例以外の調製方法
例としては、硝酸インジウム水溶液を水酸化クロムに含
浸させる代わりに、硝酸クロム水溶液に硝酸インジウム
水溶液を混合させて、水酸化クロムの沈殿を得る共沈法
などがある。
【0091】
【実施例】以下、本発明を実施例について詳細に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【0092】触媒調製 まず、本実施例に基づくフッ素化用触媒(触媒1〜
8)、及び比較用のフッ素化用触媒(比較触媒1〜3)
を作製した。
【0093】触媒1〜6(実施例) 図1に示すフローチャートに従って、触媒1〜触媒6を
作製した。
【0094】まず、5.7%硝酸クロム水溶液7.65
kgに対し、10%水酸化アンモニウム1.14kgを
攪拌しながら滴下し、水酸化クロムの沈殿を得た。次い
で、これを濾別し、純水による洗浄の後、その一部を空
気中、120℃で12時間乾燥して得られた固形水酸化
クロムを0.2mm以下の粒径に粉砕し、粉末状の水酸
化クロムを得た。
【0095】次いで、得られた粉末状の水酸化クロムの
うちの50gを下記の表1に示す試薬を30mLの水に
溶解した水溶液に浸漬し、12時間放置した後、改めて
乾燥、水分除去を行った。
【0096】次いで、これを解砕し直し、黒鉛2重量%
を加えて混合した粉末を、市販の打錠機を用いて外形3
mm、高さ3mmの円柱状に圧縮成形し、これを内径2
0mmのハステロイC製の反応管に充填し、窒素ガス流
通下、400℃で2時間加熱、焼成し、さらに、フッ化
水素と窒素との混合ガスに200℃〜360℃で2時間
接触させてフッ素化し、 触媒1:インジウム含有のフッ化酸化クロム 触媒2:ガリウム含有のフッ化酸化クロム 触媒3:コバルト含有のフッ化酸化クロム 触媒4:ニッケル含有のフッ化酸化クロム 触媒5:亜鉛含有のフッ化酸化クロム 触媒6:アルミニウム含有のフッ化酸化クロム を得た。
【0097】
【0098】以上の触媒調製例で得られた本実施例の触
媒1〜6のフッ素化前の組成分析とそれより算出される
Crの原子価数、また、磁化率測定により特定されるC
rの原子価数、X線回折測定(XRD)結果及び比表面
積測定(SSA)結果を下記の表2にまとめた。
【0099】なお、組成分析により特定される平均原子
価数は、下記の如く測定した。
【0100】まず、アルカリ溶融法を用いてクロムを6
価に酸化し、触媒を水溶液中に溶解させた。次いで、酸
化還元滴定の一種である過マンガン酸塩法によりクロム
を定量した。水素の定量はCHN分析装置(水素をH2
Oに完全酸化して定量)を用いて行った。得られたクロ
ム、フッ素及び水素の定量結果から、残りの構成元素で
ある酸素の量を算出した。以上の元素分析と同時に、触
媒に吸着しているH2Oを示差熱天秤を用いて定量して
おく(100℃付近での吸熱に伴う重量減少分を吸着水
分量とする)。元素分析の結果と示差熱天秤での測定結
果から、自ずと触媒の組成はCrx (OH)y ・H2
z の形で特定される。
【0101】次いで、酸素(O)、水酸基(OH)、及
び水(H2 O)の価数はそれぞれ、−2、−1及び0で
あるので、残るクロム(Cr)の原子価は組成分析の結
果を用いて、下式により導いた。 Cr原子価=−(−2×x−1×y)−n×m (但し、nは上記したInなどの添加金属元素の原子価
であり、mはCrに対する添加金属元素の原子数比であ
る。)
【0102】また、磁化率測定により特定される平均原
子価数は、下記の如く測定した。
【0103】常磁性体の磁性イオン(Crイオン)の価
数は、磁化率曲線(温度の変化に対する磁化率の変化)
を測定することにより、その結果から理論的に特定でき
ることが一般的に知られている。即ち、3d軌道の不対
電子の数より理論的に算出される各価数のクロムイオン
に固有の有効ボーア磁子数と、磁化率測定結果から得ら
れた有効ボーア磁子数との比較からCrの価数が特定さ
れる。
【0104】まず、磁気天秤を用いて、温度変化による
触媒の磁化率の変化を測定した。その結果から下式で表
されるキュリー定数を求めた。 X=C/T (X:磁化率、C:キュリー定数、T:温
度〔K〕)
【0105】次いで、下記の関係式(A)に、得られた
Cを代入し有効ボーア磁子数を算出した。 有効ボーア磁子数μ=√(C/0.125)・・・(A)
【0106】一方、クロムイオンの有効ボーア磁子数が
イオンの3d軌道電子の数により決定される全スピン角
運動量から理論的に得られることも知られており、その
値は下記表aの通りである。
【0107】そして、表aにおけるμとクロム原子価と
の相関性をもとに、前記式(A)で得られた値から、触
媒中のクロムの平均原子価数を特定した。例えば、μ=
2.72ならば、 2.72=1.73x+2.83(1−x)・・・式1 クロム原子価=+5x+4(1−x) ・・・式2 であり、式1、式2を解くと、クロム原価=+4.1と
算出される。
【0108】 但し、「原子価」は各触媒中のクロム平均原子価であ
り、フッ素化前のものであって、触媒組成Mm CrOx
(OH)y ・H2 z から導いたものである。
【0109】触媒7(実施例) 図2に示すフローチャートに従って、触媒7を作製し
た。
【0110】まず、5.7%水酸化クロム水溶液7.6
5gと10.0%の硝酸インジウム水溶液330gとの
混合溶液を調製した。この混合溶液に対し、10%水酸
化アンモニウム1.21kgを攪拌しながら滴下し、イ
ンジウム添加の水酸化クロムの沈殿を得た。
【0111】次いで、これを濾別し、純水による洗浄の
後、その一部を空気中、120℃で12時間乾燥して得
られた固形水酸化クロムを0.2mm以下の粒径に粉砕
し、粉末状のインジウム含有水酸化クロムを得た。
【0112】次いで、これに黒鉛2重量%を加えて混合
した粉末を、市販の打錠機を用いて外形3mm、高さ3
mmの円柱状に圧縮成形し、これを内径20mmのハス
テロイC製の反応管に充填し、窒素ガス流通下、400
℃で2時間加熱、焼成し、さらに、フッ化水素と窒素と
の混合ガスに200℃〜360℃で2時間接触させてフ
ッ素化し、触媒7として、インジウム含有のフッ化酸化
クロムを得た。
【0113】得られた触媒のCrの原子価数は、組成分
析からの値が+4.27であり、磁化率測定から特定さ
れた値は+4.3であった。また、そのX線回折測定
(XRD)から、この触媒は非晶質を示していることが
確認された。また、この触媒7の比表面積(SSA)は
105.2m2 /gであった。
【0114】触媒8(実施例) 図2に示すフローチャートに従って、触媒8を得た。
【0115】10.0%の硝酸インジウム水溶液330
gの代わりに、10.0%の硝酸ニッケル水溶液200
gを使用した以外は触媒調製例7と同様にして、触媒8
としてニッケル含有のフッ化酸化クロムを得た。
【0116】得られた触媒のCrの原子価数は、組成分
析からの値が+4.23であり、磁化率測定から特定さ
れた値は+4.2であった。また、そのX線回折測定
(XRD)から、この触媒は非晶質を示していることが
確認された。また、この触媒7の比表面積(SSA)は
108.1m2 /gであった。
【0117】比較触媒1 図3に示すフローチャートに従って、比較触媒1を得
た。
【0118】まず、5.7%硝酸クロム水溶液7.65
kgに対し、10%水酸化アンモニウム1.14kgを
攪拌しながら滴下し、水酸化クロムの沈殿を得た。次い
で、これを濾別し、純水による洗浄の後、その一部を空
気中、120℃で12時間乾燥して得られた固形水酸化
クロムを0.2mm以下の粒径に粉砕し、粉末状の水酸
化クロムを得た。
【0119】次いで、これに黒鉛2重量%を加えて混合
した粉末を、市販の打錠機を用いて外形3mm、高さ3
mmの円柱状に圧縮成形し、これを内径20mmのハス
テロイC製の反応管に充填し、窒素ガス流通下、400
℃で2時間加熱、焼成し、さらに、フッ化水素と窒素と
の混合ガスに200℃〜360℃で2時間接触させてフ
ッ素化し、比較触媒1として、フッ化酸化クロムからな
る触媒を調製した。
【0120】得られた触媒のCrの原子価数は、組成分
析からの値が+4.18であり、磁化率測定から特定さ
れた値は+4.2であった。また、そのX線回折測定
(XRD)から、この触媒は非晶質を示していることが
確認された。また、この比較触媒1の比表面積(SS
A)は111.3m2 /gであった。
【0121】比較触媒2 図3に示すフローチャートに従って、比較触媒2を得
た。
【0122】まず、5.7%硝酸クロム水溶液7.65
kgに対し、10%水酸化アンモニウム1.14kgを
攪拌しながら滴下し、水酸化クロムの沈殿を得た。次い
で、これを濾別し、純水による洗浄の後、その一部を空
気中、120℃で12時間乾燥して得られた固形水酸化
クロムを0.2mm以下の粒径に粉砕し、粉末状の水酸
化クロムを得た。
【0123】これを内径20mmのハステロイC製の反
応管に充填し、窒素ガスの流通下、室温から550℃ま
で昇温させ、550℃を下回らないように2時間保持し
て第1回目の焼成を行った。
【0124】その後、降温し、緑色のCr2 3 粉末を
得た。次いで、これに黒鉛2重量%を加えて混合した粉
末を外形3mm、高さ3mmの円柱状に、市販の打錠機
を用いて圧縮成形し、これを内径20mmのハステロイ
C製の反応管に充填し、窒素ガス流通下、400℃で2
時間加熱して第2回目の焼成を行い、さらに、フッ化水
素と窒素との混合ガスに200℃〜360℃で2時間接
触させてフッ素化し、比較触媒2として、フッ化酸化ク
ロムからなる触媒を調製した。
【0125】得られた触媒のCrの原子価数は、組成分
析からの値が+2.95であり、磁化率測定から特定さ
れた値は+3.02であった。また、そのX線回折測定
(XRD)で得られた回折ピークはすべてCr2 3
結晶構造によるものに帰属されており、この触媒は結晶
性を示していることが確認された。また、この比較触媒
2の比表面積(SSA)は10.4m2 /gであった。
【0126】比較触媒3 図3に示すフローチャートに従って、比較触媒3を得
た。
【0127】まず、5.7%硝酸クロム水溶液7.65
kgに対し、10%水酸化アンモニウム1.14kgを
攪拌しながら滴下し、水酸化クロムの沈殿を得た。次い
で、これを濾別し、純水による洗浄の後、その一部を空
気中、120℃で12時間乾燥して得られた固形水酸化
クロムを0.2mm以下の粒径に粉砕し、粉末状の水酸
化クロムを得た。
【0128】これを内径20mmのハステロイC製の反
応管に充填し、窒素ガスの流通下、室温から550℃ま
で昇温させ、550℃を下回らないように2時間保持し
て第1回目の焼成を行った。その後、降温し、緑色のC
2 3 粉末を得た。
【0129】この粉末のうちの45.2gを、5.16
gの In(NO3)3 ・ 8H2O を30mLの水に溶解した水溶
液に浸漬し、12時間放置した後、改めて乾燥、水分除
去を行った。
【0130】次いで、これを解砕し直し、黒鉛2重量%
を加えて混合した粉末を、市販の打錠機を用いて外形3
mm、高さ3mmの円柱状に圧縮成形し、これを内径2
0mmのハステロイC製の反応管に充填し、窒素ガス流
通下、400℃で2時間加熱して第2回目の焼成を行
い、さらに、フッ化水素と窒素との混合ガスに200℃
〜360℃で2時間接触させてフッ素化し、比較触媒3
として、インジウム含有の水酸化クロムからなる触媒を
調製した。
【0131】得られた触媒のCrの原子価数は、組成分
析からの値が+2.97であり、磁化率測定から特定さ
れた値は+3.04であった。また、そのX線回折測定
(XRD)で得られた回折ピークはすべてCr2 3
結晶構造によるものに帰属されており、この触媒は結晶
性を示していることが確認された。また、この比較触媒
3の比表面積(SSA)は9.5m2 /gであった。
【0132】次に、上述した方法で得られた触媒1〜8
及び比較触媒1〜3の触媒をそれぞれ、めのう乳鉢で擦
り潰して粉末にし、X線回折法により下記測定条件で、
各触媒の結晶性及び結晶構造を調べた例を示す。その測
定結果を下記表Aに示す。 ・回折装置:理学電機社製 RAD−RA型X線回折装
置(XRD) ・X線:CuKα線 ・出力:40kV×100mA
【0133】
【0134】但し、図4〜図8の横軸は、X線入射角2
θを示し、縦軸はカウント数(cps:count per seco
nd)を示す。なお、X線入射角2θが26度から27度
に表れた回折ピークと、同じく55度から56度に表れ
た回折ピークとは、成形のために用いた炭素(黒鉛)に
帰属するものである。
【0135】ペンタフルオロエタンの作製 得られた触媒1〜8及び比較触媒1〜3を用いて、ペン
タフルオロエタンを作製した。
【0136】<実施例1〜8>前記触媒調製で得られた
触媒1〜8を用いてHFによるHCFC−123(2,
2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタ
ン)の気相フッ素化を、下記の反応条件で行った。 反応条件 触媒:触媒1〜8 触媒量:9.2g (触媒ペレットを粉砕し、粒径300〜1000μmに揃えたもの) 反応管:ハステロイC製、内径15mm 反応ガス(流量):HCFC−123(48NmL/min) HF(192NmL/min) 反応温度:表3に記載 反応圧力:大気圧
【0137】上記の反応条件でHCFC−123のフッ
素化を行い、得られた反応器出口のガスは、水洗、乾燥
後、ガスクロマトグラフィーで分析し、その有機物組成
を求めた。
【0138】得られた結果を下記の表3に示す。但し、
表中「11X 」は、クロロフルオロエタン類(CFC−1
12、CFC−112a、CFC−113、CFC−1
13a、CFC−114、CFC−114a及びCFC
−115)のトータル濃度を示す(以下、同様)。
【0139】また、表中[115/125] は、ペンタフルオロ
エタン(HFC-125) 濃度に対するペンタフルオロクロロエ
タン(CFC-115) 濃度の割合を示し、表中[11X/125] は、
ペンタフルオロエタン濃度に対する前記クロロフルオロ
エタン類(11X) の割合を示す(以下、同様)。
【0140】
【0141】
【0142】<比較例1〜3>前記比較触媒1〜3の触
媒を用いて、実施例1〜8と同様の反応条件でHCFC
−123のフッ素化反応を行った。その結果を下記の表
4に示す。
【0143】
【0144】<実施例9〜11>触媒1、4及び5を用
い、HFによるHCFC−124(2−クロロ−1,
1,1,2−テトラフルオロエタン)の気相フッ素化反
応を下記の条件で行った。 反応条件 触媒:触媒1、4及び5 触媒量:18.5g (触媒ペレットを粉砕し、粒径300〜1000μmに揃えたもの) 反応管:ハステロイC製、内径15mm 反応ガス(流量):HCFC−124(55NmL/min) HF(110NmL/min) 反応温度:表5に記載 反応圧力:大気圧
【0145】上記の反応条件でHCFC−124のフッ
素化を行い、得られた反応器出口のガスは、水洗、乾燥
後、ガスクロマトグラフィーで分析し、その有機物組成
を求めた。測定結果を下記の表5に示す。
【0146】
【0147】<比較例4〜6>比較触媒1〜3を用い、
実施例9、10及び11と同様の反応条件でHCFC−
124のフッ素化反応を行った。その結果を下記の表6
に示す。
【0148】
【0149】表3及び表4から、触媒1〜8を用い、原
料ガスとしてHCFC−123を用いた場合の実施例1
〜8は、リサイクル可能なHCFC−124の生成量が
多く、これに対して、目的物であるペンタフルオロエタ
ンとの分離が困難であるCFC−115の生成量、及び
リサイクル不可能であって環境への負荷の大きい11X
の生成量共に比較例1〜3よりも少なく、また、目的物
の生成量にも有意な差はなく、産業的に非常に有用なペ
ンタフルオロプロパンの製造方法である。
【0150】また、表5及び表6から、原料ガスとして
HCFC−124を用いた場合の実施例9、10及び1
1についても、上述した場合と同様に、産業的に非常に
有用なペンタフルオロプロパンの製造方法である。
【0151】<比較例7、8>ここでは、比較例1と同
一反応条件(300℃)で比較触媒2〔Cr2 3 (結
晶質)〕及び比較触媒3〔金属元素(In)添加のCr
2 3 (結晶質)〕を用いた場合の例(結晶質触媒でク
ロムの原子価が+3である触媒の主反応活性の高さ(H
CFC−124,HFC−125生成量の多さ))を示
す。
【0152】即ち、反応温度を300℃にする以外は、
比較例2及び3と同一条件でHCFC−123のフッ素
化反応を行った。結果を下記表7に示す。
【0153】
【0154】即ち、反応温度を揃えた、同一条件での上
記の結果から、クロムが+3価の金属無添加又は添加の
触媒(結晶質)を用いると、比較例1に比べて目的物H
FC−125の生成活性は大きく低下し、HFC−12
5に対するクロロフルオロエタン類濃度も上昇すること
が分かる。このことから、非晶質高原子価クロム系触媒
の優位性が分かる。
【0155】<実施例12〜14>ここでは、高温での
実施例〔高活性化(本願の触媒)により低温化できるこ
との利点(HFC−125に対する不純物濃度の低
下)〕を示す。
【0156】反応温度を350℃にする以外は、実施例
1、2及び7と同一条件でHCFC−123のフッ素化
反応を行った。結果を下記表8に示す。
【0157】
【0158】上記の結果から、高温にすることによりH
FC−125の生成量は増加する。HFC−125に対
するクロロフルオロエタン類濃度は、より低温の例に比
較して上昇することが分かる。
【0159】<実施例15>ここでは、反応器から得ら
れる有機物をリサイクルする場合の実施例を示す(本発
明の触媒を用いたHFC−125製造プロセス)。
【0160】以下に、図9に示すプロセスフロー図に基
づいて、本実施例を示す。まず、気相フッ素化反応器1
に、フッ素化触媒として触媒1を45kg充填し、この
反応器1に、原料容器2よりHCFC−123を49m
ol/時間の流量で供給し、原料容器3より無水HFを
102mol/時間の流量で供給した。なお、反応器1
におけるフッ素化反応の温度は324℃とし、圧力は
3.2kg/cm2 とした。
【0161】次いで、反応器1から出た反応混合物を分
縮器(熱交換器)4に導入し、温度−20℃、圧力3.
1kg/cm2 で非凝縮物と凝縮物に分縮した。非凝縮
物は、主としてHFC−125を含むものであり、配管
5を経て精製工程に送って精製し、目的物であるHFC
−125として回収した。凝縮物については分液槽6へ
送り、主としてHFよりなる液相と、主としてHCFC
−123及びHCFC−124よりなる液相と分液し
た。主としてHFよりなる液相は、配管7を経て、配管
8より原料として再び反応器1に供給した。主としてH
CFC−123及びHCFC−124よりなる液相につ
いては、配管9を経て、蒸留塔10に導入し、7.2k
g/cm2 の圧力で蒸留した。
【0162】蒸留塔10と塔頂の凝縮器12での非凝縮
物は、主としてHFC−125を含むものであり、配管
13を経て、上記した分縮器4での非凝縮物と共に、精
製工程に送って精製し、目的物であるHFC−125と
した。HFC−125に伴われていたHCFC−124
については、再び蒸留塔10に戻した。
【0163】蒸留塔10における還流物は配管14を経
由し、蒸留塔10のボトム成分は配管15を経由して、
分液槽6で分液された主としてHFよりなる液相と共
に、配管8を経て反応器1に供給し、新たに加えるHC
FC−123及びHFと共にフッ素化反応の原料として
用いた。
【0164】上記操作を60時間続けると、各成分の組
成がほぼ一定となった。その際の回収物(配管5及び1
3からの成分)を再び再利用成分(配管7、14及び1
5からの成分)の各組成(流量:mol/時間)を下記
表9に示す。
【0165】
【0166】以上の結果から分かるように、配管5及び
13から抜き出された回収物において、HFC−125
中のCFC−115の割合は約0.22%であり、サイ
ドカット(後述の比較例10参照)をしなくても、非常
に少量であった。
【0167】<比較例9>ここでは、金属無添加の酸化
クロム触媒(非晶質)を用い、反応容器から得られる有
機物をリサイクルする場合の比較例を示す。
【0168】反応器1に充填する触媒に比較触媒1を用
い、反応温度を320℃にする以外は、実施例15と同
様にして、HFC−125を製造した。実施例15と同
様に、反応開始から60時間経過後の回収物(配管5及
び13からの成分)及び再利用成分(配管7、14及び
15からの成分)の各組成(流量:mol/時間)を下
記表10に示す。
【0169】
【0170】以上の結果から、配管5及び13から抜き
出された回収物において、HFC−125中のCFC−
115の割合は約1.22%であり、実施例15に比べ
て大幅に増加していた。
【0171】<比較例10>ここでは、リサイクルする
際にサイドカットを用いたときのHFC−125の製造
プロセスを示す。
【0172】蒸留塔10の中段部のCFC−114a濃
度の高い成分を、配管11に設けて、これより系外に除
去(サイドカット)する以外は、比較例9と同様にし
て、HFC−125を製造した。実施例15と同様に、
反応開始から60時間経過後の回収物(配管5及び13
からの成分)、再利用成分(配管7、14及び15から
の成分)及び蒸留塔からの除去成分(配管11からの成
分)の各組成(流量:mol/時間)を下記表1に示
す。
【0173】
【0174】以上の結果から、配管5及び13から抜き
出された回収物において、HFC−125中のCFC−
115の割合は約0.2%であり、製品(HFC−12
5)純度としては実施例15と同等の効果が得られてい
るが、CFC−115を含めたロス量は2.6mol/
時間となり、実施例15(0.1mol/時間)の約2
4倍の量となった。
【0175】<比較例11、12>ここでは、Cr2
3 (クロム原子価:+3)へ金属元素を添加しても、非
晶質でクロムが高原子価の酸化クロムに金属元素を添加
した場合に比べて、不純物低減効果が低いことを示す。
【0176】比較触媒4 5.16gのIn(NO3 3 2 Oの代わりに、5.
82gのGa(NO32 ・8H2 Oを用いる以外は、
比較触媒3と同一の調製方法により比較触媒4を調製し
た。得られた触媒の価数は、組成分析からの値は+3.
00、磁化率測定から特定された値は+3.05であ
り、XRDの回折ピークは、図10に示すように、すべ
てCr2 3 の結晶構造によるものに帰属された。
【0177】比較触媒5 5.16gのIn(NO3 3 2 Oの代わりに、4.
23gのGa(NO32 ・6H2 Oを用いる以外は、
比較触媒3と同一の調製方法により比較触媒5を調製し
た。得られた触媒の価数は、組成分析からの値は+2.
98、磁化率測定から特定された値は+3.03であ
り、XRDの回折ピークは、図11に示すように、すべ
てCr2 3 の結晶構造によるものに帰属された。
【0178】比較触媒4及び5を用いて、(反応温度を
除く)反応条件は実施例1〜8と同一条件でHCFC−
123のフッ素化反応を行った。結果を下記表12に示
す。
【0179】
【0180】比較例2と3、比較例5と6、比較例7と
8、或いは比較例11と12の各結果から、クロム価数
が+3である結晶性の触媒に金属添加した場合、CFC
類低減効果は小さいことが分かる。
【0181】また、実施例1〜11の結果から、非晶質
でクロムの価数が約+4である触媒に金属を担持するこ
とにより、顕著な、HFC−125に対するCFC類濃
度の低減効果が得られることは明らかである。
【0182】即ち、下記表13に示すように、クロム原
子価が+3のクロム系触媒に各種金属元素を添加する場
合と無添加の場合とを比べると、たとえ金属元素を添加
した場合でも、〔CFC−115/HFC−125〕の
減少割合はせいぜい21%であり、また、〔11X/H
FC−125〕の減少割合はせいぜい13%であった。
また、金属を添加することによって〔CFC−115/
HFC−125〕や〔11X/HFC−125〕が増え
る場合もあった。
【0183】これに対して、非晶質でクロム原子価が約
4であるクロム系触媒に各種金属元素を添加する場合と
無添加の場合とを比べると、非晶質でクロムの原子価が
約4であるクロム系触媒に金属元素を添加すると、〔C
FC−115/HFC−125〕の減少割合が最も良い
例で93%(少なくとも90%)にも達し、さらに、
〔11X/HFC−125〕の減少割合は、最も良い例
で90%(少なくとも80%)に達した。
【0184】 *括弧内は、添加金属なしの触媒と比べた場合の〔CF
C−115/HFC−125〕の減少割合、及び〔11
X/HFC−125〕の減少割合を示す。
【0185】
【発明の作用効果】本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法によれば、インジウム、ガリウム、コバルト、ニ
ッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれる
少なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物を
主成分とし、前記クロム化合物におけるクロムの平均原
子価数が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非
晶質状態にあるクロム系触媒の存在下に、含塩素炭素化
合物をフッ素化するので、ペンタフルオロエタンや、原
料として反応器へのリサイクルが可能なC2 HClx
(5-x) (但し、xは1〜5の整数)の生成活性を有意に
悪化させることなく、ペンタフルオロエタン製造時の副
生成物であるクロロフルオロエタン類の総生成量を低減
させることが可能である。
【0186】本発明の触媒によれば、インジウム、ガリ
ウム、コバルト、ニッケル、亜鉛及びアルミニウムから
なる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素が添加さ
れたクロム化合物を主成分とし、前記クロム化合物にお
けるクロムの平均原子価数が+3.5以上、+5.0以
下であり、かつ非晶質状態にあって、種々のフッ素化反
応におけるフッ素化用触媒として有用であり、特に、本
発明のペンタフルオロエタンの製造方法に供することが
できる。
【0187】本発明の触媒の製造方法によれば、インジ
ウム、ガリウム、コバルト、ニッケル、亜鉛及びアルミ
ニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元
素が添加されたクロム化合物を主成分とし、前記クロム
化合物におけるクロムの平均原子価数が+3.5以上、
+5.0以下であり、かつ、非晶質状態にあるクロム系
フッ素化用触媒を製造するに際し、不活性ガスの雰囲気
下での焼成によって前記非晶質状態にあるクロム系フッ
素化用触媒を得るので、前記非晶質状態にあるクロム系
フッ素化用触媒を再現性良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の触媒調製例を示すフローチャ
ートである。
【図2】同、他のフローチャートである。
【図3】比較例の触媒調製例を示すフローチャートであ
る。
【図4】触媒1のX線回折測定結果を示すグラフであ
る。
【図5】触媒2のX線回折測定結果を示すグラフであ
る。
【図6】比較触媒1のX線回折測定結果を示すグラフで
ある。
【図7】比較触媒2のX線回折測定結果を示すグラフで
ある。
【図8】比較触媒3のX線回折測定結果を示すグラフで
ある。
【図9】本発明の他の実施例に基づきリサイクルを行う
場合のプロセスフロー図である。
【図10】比較触媒4のX線回折測定結果を示すグラフ
である。
【図11】比較触媒5のX線回折測定結果を示すグラフ
である。
【符号の説明】
1・・・反応器 2、3・・・原料容器 4・・・分縮器(熱交換器) 5、7、8、9、11、13、14、15・・・配管 6・・・分液槽 10・・・蒸留塔 12・・・凝縮器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 17/21 C07C 17/21 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インジウム、ガリウム、コバルト、ニッ
    ケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれる少
    なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物を主
    成分とし、前記クロム化合物におけるクロムの平均原子
    価数が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非晶
    質状態にあるクロム系触媒の存在下に、含塩素炭素化合
    物をフッ素化する、ペンタフルオロエタンの製造方法。
  2. 【請求項2】 パークロロエチレン、1,1−ジクロロ
    −2,2,2−トリフルオロエタン及び1−クロロ−
    1,2,2,2−テトラフルオロエタンからなる群より
    選ばれる少なくとも1種の前記含塩素炭素化合物をフッ
    化水素によりフッ素化する、請求項1に記載したペンタ
    フルオロエタンの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記クロム系触媒の存在下、前記含塩素
    炭素化合物として1,1−ジクロロ−2,2,2−トリ
    フルオロエタンをフッ素化する際に、得られるペンタフ
    ルオロエタンの生成量に対して、副生成物であるクロロ
    フルオロエタン類の総生成量の割合が0.5%以下とな
    り、また、前記クロム系触媒の存在下、前記含塩素炭素
    化合物として1−クロロ−1,2,2,2−テトラフル
    オロエタンをフッ素化する際に、得られるペンタフルオ
    ロエタンの生成量に対して、副生成物であるクロロフル
    オロエタン類の総生成量の割合が0.3%以下となる、
    請求項2に記載したペンタフルオロエタンの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記クロム化合物が、酸化クロム、フッ
    化クロム、酸化フッ化クロム及び酸化塩化フッ化クロム
    からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項
    1に記載したペンタフルオロエタンの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記クロム系触媒を前記含塩素炭素化合
    物のフッ素化反応に供する前に予めフッ素化し、前記フ
    ッ素化後の比表面積が25m2 /g〜130m2 /gと
    なるような前記クロム系触媒を用いる、請求項4に記載
    したペンタフルオロエタンの製造方法。
  6. 【請求項6】 不活性ガスの雰囲気下で前記クロム系触
    媒の焼成を行い、これによって前記クロム系触媒を非晶
    質状態とする、請求項1に記載したペンタフルオロエタ
    ンの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記焼成を温度380℃〜410℃、
    0.5時間〜3.5時間行う、請求項6に記載したペン
    タフルオロエタンの製造方法。
  8. 【請求項8】 水酸化クロムを前記金属元素の水溶液中
    に浸漬処理し、乾燥した後に、前記焼成を行うか、或い
    は、前記金属元素及びクロムを溶解する水溶液から共沈
    により前記金属元素を含有する水酸化クロムを得、乾燥
    した後、前記焼成を行う、請求項6に記載したペンタフ
    ルオロエタンの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記クロム系触媒に、反応活性又は選択
    性改善の効果を有するカドミウム、マグネシウム及びチ
    タンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を添
    加する、請求項1に記載したペンタフルオロエタンの製
    造方法。
  10. 【請求項10】 前記含塩素炭素化合物をフッ化水素を
    用いてフッ素化する際に生じる生成物の一部若しくは全
    部を、反応系に戻す、或いは、請求項1に記載した触媒
    を使用してフッ化水素によるフッ素化を行う他の反応系
    に導く、請求項2に記載したペンタフルオロエタンの製
    造方法。
  11. 【請求項11】 前記生成物からペンタフルオロエタン
    及び塩化水素を含む混合物を分離し、残りの生成物を前
    記反応系に戻す、或いは、前記他の反応系に導く、請求
    項10に記載したペンタフルオロエタンの製造方法。
  12. 【請求項12】 インジウム、ガリウム、コバルト、ニ
    ッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれる
    少なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物を
    主成分とし、前記クロム化合物におけるクロムの平均原
    子価数が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非
    晶質状態にあるクロム系フッ素化用触媒。
  13. 【請求項13】 前記クロム化合物が、酸化クロム、フ
    ッ化クロム、酸化フッ化クロム及び酸化塩化フッ化クロ
    ムからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であ
    る、請求項12に記載したフッ素化用触媒。
  14. 【請求項14】 フッ素化されており、このフッ素化後
    の比表面積が25m2 /g〜130m2 /gである、請
    求項13に記載したフッ素化用触媒。
  15. 【請求項15】 反応活性又は選択性改善の効果を有す
    るカドミウム、マグネシウム及びチタンからなる群より
    選ばれる少なくとも1種の元素が添加されている、請求
    項12に記載したフッ素化用触媒。
  16. 【請求項16】 インジウム、ガリウム、コバルト、ニ
    ッケル、亜鉛及びアルミニウムからなる群より選ばれる
    少なくとも1種の金属元素が添加されたクロム化合物を
    主成分とし、前記クロム化合物におけるクロムの平均原
    子価数が+3.5以上、+5.0以下であり、かつ、非
    晶質状態にあるクロム系フッ素化用触媒を製造するに際
    し、不活性ガスの雰囲気下での焼成によって前記非晶質
    状態にあるクロム系フッ素化用触媒を得る、フッ素化用
    触媒の製造方法。
  17. 【請求項17】 不活性ガスの雰囲気下で、温度380
    ℃〜410℃、0.5時間〜3.5時間、前記焼成を行
    う、請求項16に記載したフッ素化用触媒の製造方法。
  18. 【請求項18】 水酸化クロムを前記金属元素の水溶液
    中に浸漬処理し、乾燥した後に、前記焼成を行うか、或
    いは、前記金属元素とクロムを溶解する水溶液から共沈
    により前記金属元素を含有する水酸化クロムを得、乾燥
    した後、前記焼成を行う、請求項16に記載したフッ素
    化用触媒の製造方法。
  19. 【請求項19】 前記クロム化合物を、酸化クロム、フ
    ッ化クロム、酸化フッ化クロム及び酸化塩化フッ化クロ
    ムからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物とす
    る、請求項16に記載したフッ素化用触媒の製造方法。
  20. 【請求項20】 前記焼成後にフッ素化することによっ
    て、前記フッ素化用触媒の比表面積を25m2 /g〜1
    30m2 /gとする、請求項19に記載したフッ素化用
    触媒の製造方法。
  21. 【請求項21】 前記フッ素化用触媒に、反応活性又は
    選択性改善の効果を有するカドミウム、マグネシウム及
    びチタンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素
    を添加する、請求項16に記載したフッ素化用触媒の製
    造方法。
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