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JPH11160046A - Appearance inspection method - Google Patents

Appearance inspection method

Info

Publication number
JPH11160046A
JPH11160046A JP9323527A JP32352797A JPH11160046A JP H11160046 A JPH11160046 A JP H11160046A JP 9323527 A JP9323527 A JP 9323527A JP 32352797 A JP32352797 A JP 32352797A JP H11160046 A JPH11160046 A JP H11160046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
characteristic line
intersection
sum
differential
Prior art date
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Granted
Application number
JP9323527A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3508518B2 (en
Inventor
Mitsuru Shirasawa
満 白澤
Takeshi Masuda
剛 増田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP32352797A priority Critical patent/JP3508518B2/en
Publication of JPH11160046A publication Critical patent/JPH11160046A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3508518B2 publication Critical patent/JP3508518B2/en
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an appearance inspection method capable of detecting a ruggedness defect present on the surface for an object to be inspected whose surface is in a dome shape. SOLUTION: The surface of the object 1 to be inspected in the dome shape is linearly irradiated with a laser beam, the feature of a ruggedness defect part appearing on a feature line obtained by projecting the reflected light on a screen 3 is recognized and the normal/defective conditions of the object 1 to be inspected are judged. Images including the feature line projected on the screen 3 are picked up, the feature line is extracted as a curve in an almost arch shape by an image processing, an inspection line is prepared by slightly moving it and a defect candidate part is detected by obtaining the intersection of the inspection line and the original feature line.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面がドーム形状
の被検査物について、表面の凹みあるいは突起等の凹凸
欠陥を検出する外観検査方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a visual inspection method for detecting an uneven defect such as a dent or a projection on a surface of an inspection object having a dome shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、外観検査による欠陥抽出方法とし
て、当社の特開平3−175343号公報に開示されて
いるように、被検査物の表面を撮像して得られた画像に
所定の検査領域を設定し、該領域内をラスター走査し
て、所定のアルゴリズムに従って微分画像、エッジ画像
等を求めて、被検査物表面の欠陥を抽出する方法が知ら
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for extracting defects by visual inspection, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 3-175343, a predetermined inspection area is added to an image obtained by imaging the surface of an inspection object. Is known, a raster scan is performed in the area, a differential image, an edge image, and the like are obtained according to a predetermined algorithm, and a defect on the surface of the inspection object is extracted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述の従来例は、被検
査物の表面形状が平面である場合には検査光学系のセッ
ティングも容易で確実に検査できるが、被検査物の表面
がドーム形状で、その表面に存在する凹凸欠陥を認識し
ようとする場合には、検査光学系のセッティングが難し
く、確実な検査ができなかった。
In the above-mentioned prior art, when the surface shape of the inspection object is flat, the setting of the inspection optical system can be easily and surely inspected, but the surface of the inspection object has a dome shape. Therefore, when trying to recognize a concave / convex defect existing on the surface, setting of the inspection optical system is difficult, and a reliable inspection cannot be performed.

【0004】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、その目的とするところは、表面がドーム形状
の被検査物について、その表面に存在する凹凸欠陥を検
出できるような外観検査方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a visual inspection that can detect an uneven defect existing on the surface of an inspection object having a dome shape. It is to provide a method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の外観検査方法に
よれば、上記の課題を解決するために、図1に示すよう
に、ドーム形状の被検査物1の表面にレーザ光をライン
状に照射し、その反射光をスクリーン3に投影して得ら
れる特徴ラインL上に現れる凹凸欠陥部の特徴を認識し
て被検査物1の良否判定を行うことを特徴とするもので
ある。
According to the appearance inspection method of the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, as shown in FIG. , And the quality of the object 1 to be inspected is determined by recognizing the features of the uneven defect portion appearing on the feature line L obtained by projecting the reflected light on the screen 3.

【0006】特徴ラインから凹凸欠陥部を検出するに
は、例えば、スクリーンに投影された特徴ラインを含む
画像を撮像し、画像処理により略アーチ状の曲線として
特徴ラインを抽出し、抽出された特徴ラインを若干ずら
せて略同じ形状の検査ラインを作成し、この検査ライン
と元の特徴ラインとの交点を求めることにより欠陥候補
部の検出を行う。そして、この欠陥候補部に対して評価
用のウィンドウを設定し、ウィンドウ間の濃度差や微分
絶対値等を総合的に評価することにより、欠陥であるか
否かを判定する。
In order to detect a concave / convex defect portion from a characteristic line, for example, an image including a characteristic line projected on a screen is captured, and the characteristic line is extracted as a substantially arched curve by image processing. An inspection line having substantially the same shape is created by slightly shifting the line, and the intersection of the inspection line and the original feature line is determined to detect a defect candidate portion. Then, an evaluation window is set for the defect candidate portion, and a density difference between windows, a differential absolute value, and the like are comprehensively evaluated to determine whether the defect is a defect.

【0007】あるいは、抽出された特徴ラインの微分方
向値を求め、被検査物が良品である場合の微分方向値の
変化パターンを予め良品パターンとして記憶しておい
て、測定対象となる被検査物の微分方向値の変化パター
ンを良品パターンと比較し、相違点を検出することによ
り凹凸欠陥を検出する。あるいは、変化パターン上で所
定画素離れた位置での微分方向値の大小を比較すること
により凹凸欠陥を検出する。この際、特徴ラインの全長
を凹凸欠陥判定のための参考基準として用いてもよい。
また、1〜2画素程度の変化パターンの乱れはノイズと
して除去することが好ましい。
Alternatively, a differential direction value of the extracted characteristic line is obtained, and a change pattern of the differential direction value when the object to be inspected is a non-defective item is stored in advance as a non-defective item, and the inspected object to be measured is stored. The pattern of change in the differential direction value is compared with a non-defective pattern, and a difference is detected to detect an irregularity defect. Alternatively, the unevenness defect is detected by comparing the magnitude of the differential direction value at a position separated by a predetermined pixel on the change pattern. At this time, the entire length of the characteristic line may be used as a reference for judging unevenness defects.
Further, it is preferable to remove disturbance of the change pattern of about 1 to 2 pixels as noise.

【0008】そのほか、被検査物を回転させながら各撮
像画面毎に抽出された特徴ラインを重ね合わせることに
より欠陥部分を強調し、重ね合わせにより得られた多重
特徴ラインに基づいて凹凸欠陥を検出することも非常に
有効である。
In addition, the defect portion is emphasized by superimposing the feature lines extracted for each imaging screen while rotating the object to be inspected, and the unevenness defect is detected based on the multiple feature lines obtained by the superimposition. It is also very effective.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】(実施例1)図1は本発明の外観
検査方法を実施するための検査光学系の外観を示す斜視
図である。図中、1はドーム形状の被検査物であり、例
えば火災感知器のようなものである。2はライン光源で
あり、例えば半導体レーザを用いて被検査物の表面にラ
イン光を照射する。3は被検査物の表面からの反射光を
投影するためのスクリーンである。4はスクリーン上の
投影像Lを撮像するテレビカメラであり、例えば、CC
Dカメラにより構成される。この検査光学系では、被検
査物1を矢印の方向に回転させることができ、被検査物
1を回転させながら、複数回の撮像を行うことができ
る。被検査物1の回転軸はドーム形状の中心軸と略一致
させており、被検査物1が回転しても投影像の位置は殆
ど変動しない。なお、スクリーン3は半透明のものとし
て透過光を撮影しているが、これは不透明のスクリーン
に置き換えて反射光を撮影しても良い。また、ライン光
源をビーム光源に置き換えてCCDカメラの電荷蓄積時
間中に光ビームをライン状に走査することにより等価的
にライン光源としても良い。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of an inspection optical system for carrying out the appearance inspection method of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a dome-shaped inspection object, such as a fire detector. Reference numeral 2 denotes a line light source that irradiates the surface of the inspection object with line light using, for example, a semiconductor laser. Reference numeral 3 denotes a screen for projecting light reflected from the surface of the inspection object. Reference numeral 4 denotes a television camera that captures a projection image L on a screen, and includes, for example, CC
It is composed of a D camera. In this inspection optical system, the inspection object 1 can be rotated in the direction of the arrow, and imaging can be performed a plurality of times while rotating the inspection object 1. The rotation axis of the inspection object 1 is substantially coincident with the center axis of the dome shape, and the position of the projected image hardly changes even if the inspection object 1 rotates. Although the screen 3 is translucent and shoots transmitted light, the screen 3 may be replaced with an opaque screen to shoot reflected light. Alternatively, the line light source may be replaced with a beam light source, and the light beam may be scanned linearly during the charge accumulation time of the CCD camera, thereby equivalently forming a line light source.

【0010】図2は画像処理系のブロック図である。テ
レビカメラ4により撮像されたスクリーン投影像はA/
D変換器5によりデジタルの濃淡画像に変換されて画像
メモリ7に原画像として取り込まれる。画像メモリ7に
取り込まれた濃淡画像は前処理部6により所定の画像処
理を施されて、後述の微分画像、微分方向値画像、並び
にエッジ画像に変換され、再び画像メモリ7に記憶され
る。これらの前処理後の画像は判定部8で評価されて、
凹凸欠陥の有無を判定される。以上の図1に示す検査光
学系及び図2に示す画像処理系のシステム構成を、以
下、「システム構成1」と呼ぶ。
FIG. 2 is a block diagram of the image processing system. The screen projection image captured by the television camera 4 is A /
The image is converted into a digital grayscale image by the D converter 5 and taken into the image memory 7 as an original image. The grayscale image taken into the image memory 7 is subjected to predetermined image processing by the preprocessing unit 6, converted into a differential image, a differential direction value image, and an edge image described later, and stored in the image memory 7 again. The images after these pre-processing are evaluated by the determination unit 8,
The presence or absence of the irregularity defect is determined. The system configuration of the inspection optical system shown in FIG. 1 and the image processing system shown in FIG. 2 is hereinafter referred to as “system configuration 1”.

【0011】ここで、前処理部6による画像処理につい
ては、当社の特開平3−175343号公報に詳しく開
示されているが、その要点を改めて説明すると、以下の
通りである。まず、スクリーンを撮像して得られる原画
像は、例えば図3に示すような濃淡画像であり、この濃
淡画像からレーザライン光特徴画像を抽出する処理は、
濃度を微分することによって濃度変化が大きい部分、す
なわち、エッジを検出するという考え方を基本にしてい
る。微分処理は、図4に示すように、原画像を3×3画
素の局所並列ウィンドウに分割して行う。つまり、注目
する画素Eと、その画素Eの周囲の8画素(8近傍)A
〜D、F〜Iとで局所並列ウィンドウを形成し、局所並
列ウィンドウ内の画素A〜Iの濃度の縦方向の濃度変化
ΔVと横方向の濃度変化ΔHとを次式によって求め、 ΔV=(A+B+C)−(G+H+I) ΔH=(A+D+G)−(C+F+I) さらに、微分絶対値|e|と微分方向値∠eとを次式に
よって求めるのである。
Here, the image processing by the pre-processing unit 6 is disclosed in detail in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 3-175343 of the Company, and the main points thereof will be described again as follows. First, the original image obtained by imaging the screen is, for example, a grayscale image as shown in FIG. 3, and the process of extracting the laser line light characteristic image from this grayscale image is as follows.
Based on the concept of detecting a portion where a change in density is large, that is, an edge, by differentiating the density. The differentiation process is performed by dividing the original image into local parallel windows of 3 × 3 pixels as shown in FIG. That is, a pixel E of interest and eight pixels (near eight) A around the pixel E
To D and F to I, a local parallel window is formed, and a vertical density change ΔV and a horizontal density change ΔH of the density of the pixels A to I in the local parallel window are obtained by the following equation: ΔV = ( A + B + C) − (G + H + I) ΔH = (A + D + G) − (C + F + I) Further, the differential absolute value | e | and the differential direction value ∠e are obtained by the following equations.

【0012】|e|=√(ΔV2 +ΔH2 ) ∠e=tan-1(ΔV/ΔH)+π/2 ただし、A〜Iは対応する画素の濃度を示している。上
式から明らかなように、微分絶対値|e|は、原画像の
着目する画素の近傍領域における濃度の変化率を表し、
微分方向値∠eは、同近傍領域における濃度変化の方向
に直交する方向を表している。
| E | = √ (ΔV 2 + ΔH 2 ) ∠e = tan −1 (ΔV / ΔH) + π / 2 where A to I indicate the density of the corresponding pixel. As is apparent from the above equation, the differential absolute value | e | represents the rate of change in density in the area near the pixel of interest in the original image,
The differential direction value Δe represents a direction orthogonal to the direction of the density change in the vicinity area.

【0013】以上の演算を原画像の全画素について行う
ことにより、レーザライン光特徴画像のような背景に対
する濃度変化が大きい部分と、その変化の方向とを抽出
することができるのである。ここに、各画素の濃度を、
微分絶対値|e|で表現した画像を微分絶対値画像、微
分方向値∠eで表現した画像を微分方向値画像と呼ぶ。
By performing the above operation for all pixels of the original image, it is possible to extract a portion where the density change is large with respect to the background such as a laser line light characteristic image and the direction of the change. Here, the density of each pixel is
An image expressed by the differential absolute value | e | is called a differential absolute value image, and an image expressed by the differential direction value ∠e is called a differential direction value image.

【0014】次に、細線化処理が施される。細線化処理
は、微分絶対値が大きいほど濃度変化が大きいことを表
している点に着目して行われる。すなわち、各画素の微
分絶対値を周囲の画素の微分絶対値と比較し、周囲の画
素よりも大きくなるものを連結していくことにより、1
画素の幅を有したエッジを抽出するのである。
Next, a thinning process is performed. The thinning process is performed while paying attention to the fact that the larger the absolute differential value, the larger the density change. That is, the differential absolute value of each pixel is compared with the differential absolute values of the surrounding pixels, and those that are larger than the surrounding pixels are connected, whereby 1
The edge having the width of the pixel is extracted.

【0015】図5に示すように、各画素の位置をX−Y
座標で表わし、微分絶対値をZ軸に取った微分絶対値画
素を考えれば、細線化処理は、この曲面における稜線を
求めることに相当する。ここまでの処理により、微分絶
対値の大小にかかわらず、すべての稜線が抽出される。
この段階で得られている稜線には、ノイズ等による不要
な小さな山も含まれているから、図6に示すように、適
宜しきい値を設定し、このしきい値以上の値のみを採用
してノイズ成分を除去する。この処理で得られた画像
は、原画像のコントラストが不十分であるときや、ノイ
ズが多いようなときには、不連続線になりやすい。そこ
で、エッジ延長処理を行う。エッジ延長処理では、不連
続線の端点から始めて、注目する画素とその周囲の画素
とを比較し、次式で表される評価関数が最も大きくなる
方向に線を延長し、他の線の端点に衝突するまでこれを
続ける。
As shown in FIG. 5, the position of each pixel is represented by XY.
Considering a differential absolute value pixel represented by coordinates and taking the differential absolute value on the Z axis, thinning corresponds to finding a ridge line on this curved surface. By the processing so far, all edges are extracted regardless of the magnitude of the differential absolute value.
Since the ridge lines obtained at this stage include unnecessary small peaks due to noise or the like, as shown in FIG. 6, a threshold value is appropriately set, and only the values above this threshold value are adopted. To remove noise components. The image obtained by this processing tends to be a discontinuous line when the contrast of the original image is insufficient or when there is much noise. Therefore, edge extension processing is performed. In the edge extension processing, starting from the end point of the discontinuous line, the pixel of interest is compared with its surrounding pixels, the line is extended in a direction in which the evaluation function represented by Keep doing this until you crash.

【0016】 f(ej )=|ej |・cos(∠ej −∠e0 ) ・cos{(j−1)π/4−∠e0 ) ここに、e0 は中心画素(局所並列ウィンドウのEに相
当する)の微分データであり、ej は隣接画素(局所並
列ウィンドウの8近傍に相当する)の微分データであ
り、j=1,2,…,8である。
F (e j ) = | e j | · cos (∠e j −∠e 0 ) · cos {(j−1) π / 4−∠e 0 ) where e 0 is a central pixel (local a differential data corresponding to) the E parallel window, e j is the differential data of the adjacent pixels (corresponding to 8 near the local parallel window), j = 1,2, ..., 8.

【0017】以上の処理により、図6に示すように、原
画像において濃度変化が大きい部分をなぞるようなエッ
ジ画像が得られる。エッジ画像は、レーザライン光特徴
画像を表すものとみなせる。以上の前処理により、原画
像、微分絶対値画像、微分方向値画像、エッジ画像の4
種類の画像が得られ、各画像はそれぞれ原画像メモリ7
1、微分絶対値画像メモリ72、微分方向値画像メモリ
73、エッジ画像メモリ74に記憶される。以下の説明
では、各画像の画素の位置をX−Y座標で表現するもの
とし、各画像における画素の濃度をそれぞれf1 (x,
y)、f2 (x,y)、f3 (x,y)、f4 (x,
y)とする。
By the above processing, as shown in FIG. 6, an edge image which traces a portion where the density change is large in the original image is obtained. The edge image can be regarded as representing a laser line light characteristic image. By the pre-processing described above, the original image, the differential absolute value image, the differential direction value image, and the edge image
There are obtained various types of images, and each image is stored in the original image memory 7.
1, stored in a differential absolute value image memory 72, a differential direction value image memory 73, and an edge image memory 74. In the following description, it is assumed that the positions of the pixels in each image are represented by XY coordinates, and the density of the pixels in each image is f 1 (x,
y), f 2 (x, y), f 3 (x, y), f 4 (x, y
y).

【0018】原画像は、濃淡画像であって、濃度は通常
8ビットで表されるから、各画素における濃度a(=f
1 (x,y))は、0≦a≦255となる。また、微分
絶対値画素の濃度(すなわち、微分絶対値)b(=f2
(x,y))は、例えば6ビットで表され、0≦b≦6
3となり、微分方向値画像の濃度(すなわち、微分方向
値)c(=f3 (x,y))は、例えば16方向で表さ
れ、0≦c≦15となる。エッジ画像については、線の
有無のみであるから、線となる画素は“1”、それ以外
の画素は“0”として表される。つまり、f4 (x,
y)の値域は{0,1}となる。なお、以下の説明にお
いては、濃度という用語は白の濃度を表し、濃度値が大
きいほど明るいものとする。
The original image is a grayscale image, and the density is usually represented by 8 bits. Therefore, the density a (= f
1 (x, y)) is 0 ≦ a ≦ 255. Further, the density of the differential absolute value pixel (that is, the differential absolute value) b (= f 2
(X, y)) is represented by, for example, 6 bits, and 0 ≦ b ≦ 6.
The density of the differential direction value image (that is, the differential direction value) c (= f 3 (x, y)) is represented, for example, in 16 directions, and 0 ≦ c ≦ 15. For an edge image, only the presence or absence of a line is represented, so that a pixel serving as a line is represented as "1" and the other pixels are represented as "0". That is, f 4 (x,
The value range of y) is {0, 1}. In the following description, the term "density" indicates white density, and the higher the density value, the brighter the density.

【0019】次に、判定部8では、図3に示すように、
エッジ画像について、検査領域を適宜設定する。検査領
域が設定されると、図3に矢印で示すように、エッジ画
像内で検査領域内をラスター走査することにより、f4
(x,y)=1となる画素を検出しフラグ点とする。こ
のフラグ点を始点として、8近傍についてf4 (x,
y)=1となる画素を抽出しながら輪郭線の追跡を行
う。こうして輪郭線を追跡することにより、輪郭線の上
の全画素の座標がわかるから、X座標およびY座標の最
大値と最小値とをそれぞれ求める。X座標およびY座標
の最大値と最小値とを求める方法としては、輪郭線を追
跡して全座標をバッファに格納した後に求める方法と、
全座標を格納することなく輪郭線の追跡中に座標の大小
関係を比較しながら求める方法とがある。以上のように
して、輪郭線のX座標およびY座標の最大値Xmax,
Ymaxと最小値Xmin,Yminとを求めることが
できれば、図3に示すように、レーザライン光特徴画像
に外接する四角形の欠陥候補領域を設定することができ
る。こうして欠陥候補領域を設定した後、図3に示すよ
うに、欠陥候補領域の中点oを設定する。中点oは、ア
ーチ状のレーザライン光特徴画像の凹面側に設定する。
Next, in the judgment section 8, as shown in FIG.
The inspection area is appropriately set for the edge image. When the inspection region is set, as indicated by the arrows in FIG. 3, by raster scanning the inspection area within the edge image, f 4
Pixels satisfying (x, y) = 1 are detected and set as flag points. Starting from this flag point, f 4 (x,
The contour line is traced while extracting pixels for which y) = 1. By tracking the contour in this way, the coordinates of all the pixels on the contour can be known, and the maximum and minimum values of the X coordinate and the Y coordinate are obtained, respectively. As a method of obtaining the maximum and minimum values of the X coordinate and the Y coordinate, a method of tracking the contour and storing all the coordinates in a buffer,
There is a method in which the magnitude relationship between the coordinates is determined while the contour is being tracked without storing all the coordinates. As described above, the maximum values Xmax, Xmax,
If Ymax and the minimum values Xmin and Ymin can be obtained, a rectangular defect candidate area circumscribing the laser line light characteristic image can be set as shown in FIG. After the defect candidate area is set in this way, a middle point o of the defect candidate area is set as shown in FIG. The middle point o is set on the concave side of the arched laser line light characteristic image.

【0020】以上の画像処理手順は、当社の特開平3−
175343号公報に詳しく開示されている。この画像
処理手順を用いて、微分絶対値、微分方向値、エッジ抽
出、エッジ延長等の画像処理を施して特徴ラインの画像
を得る。そして、この特徴ライン上に発生する凹凸欠陥
特徴部を検出することにより良品判定を行う。
The above image processing procedure is described in Japanese Unexamined Patent Publication No.
It is disclosed in detail in 175343. Using this image processing procedure, image processing such as differential absolute value, differential direction value, edge extraction, and edge extension is performed to obtain an image of a feature line. Then, a non-defective item is determined by detecting the irregularity defect characteristic portion generated on the characteristic line.

【0021】ドーム形状の被検査物に照射されたレーザ
ライン光の投影像は、良品の場合は図7に示す形状とな
り、表面に凹凸欠陥が存在する場合は図8(a)〜
(c)に例示するような形状となる。良品面での反射、
投影パターンは滑らかなアーチ状(弓形)であるが、凹
凸欠陥部では反射角度が変化するため、投影パターンの
一部で曲率が急変する。図8(a)〜(c)の矢印で示
した箇所が凹凸欠陥に対応する投影パターンの乱れであ
る。
The projected image of the laser line light applied to the dome-shaped inspection object has the shape shown in FIG. 7 for a non-defective product, and FIGS.
The shape is as illustrated in FIG. Good quality reflection,
Although the projection pattern has a smooth arch shape (bow shape), the curvature changes abruptly in a part of the projection pattern because the reflection angle changes at the concave / convex defect portion. 8A to 8C show disturbances of the projection pattern corresponding to the concave / convex defects.

【0022】被検査物の表面に凹凸欠陥が存在する場合
に、図8のような画像になる原理を図9に示した。図中
の光路(2),(3)は図8(a),(b)にそれぞれ
対応している。被検査物の表面に欠陥が無い場合(図3
の破線で示す表面形状の場合)には、光路(1)を通る
ので、図7のようなアーチ状の投影パターンとなる。
FIG. 9 shows the principle of forming an image as shown in FIG. 8 when an unevenness defect exists on the surface of the inspection object. Optical paths (2) and (3) in the figure correspond to FIGS. 8A and 8B, respectively. When there is no defect on the surface of the inspection object (FIG. 3
(In the case of the surface shape shown by the broken line in FIG. 7), the light passes through the optical path (1), so that the projection pattern has an arch shape as shown in FIG.

【0023】図10は本発明の実施例1の外観検査方法
の処理手順を示す流れ図である。この実施例では、被検
査物を図1に示す矢印方向に180度回転させながら、
連続的にレーザライン光を照射し、その反射光の投影パ
ターンを撮像する。撮像された画像を画像処理装置に入
力し、微分絶対値、微分方向値等を求めると共に、エッ
ジ延長等の処理を施して特徴抽出する。求められた特徴
ライン画像を基準として、画像の拡大あるいは縮小を行
い、特徴ライン画像の周辺に、特徴ライン画像と略同形
状の検査ラインを作成する。作成された検査ラインある
いは特徴ライン上を探索することにより濃度値、微分絶
対値、微分方向値などの変化点を求めて、その周辺の画
像データをもとに特徴ライン上の凹凸欠陥を認識するも
のである。凹凸欠陥検出のより具体的な手法について
は、以下の実施例2〜13において詳述する。
FIG. 10 is a flowchart showing a processing procedure of the appearance inspection method according to the first embodiment of the present invention. In this embodiment, while rotating the inspection object 180 degrees in the direction of the arrow shown in FIG.
The laser line light is continuously irradiated, and the projected pattern of the reflected light is imaged. The captured image is input to an image processing apparatus, and a differential absolute value, a differential direction value, and the like are obtained, and a process such as edge extension is performed to extract a feature. The image is enlarged or reduced based on the obtained characteristic line image, and an inspection line having substantially the same shape as the characteristic line image is created around the characteristic line image. By searching for the created inspection line or feature line, a change point such as a density value, a differential absolute value, or a differential direction value is obtained, and unevenness defects on the feature line are recognized based on the surrounding image data. Things. A more specific method of detecting the irregularity defect will be described in Examples 2 to 13 below.

【0024】(実施例2)図11は本発明の実施例2の
外観検査方法の処理手順を示す流れ図である。この実施
例では、上述のシステム構成1で示す光学系において、
レーザライン光を被検査物に照射し、被検査物を回転さ
せながら、反射光の投影像をテレビカメラにより撮像す
る。撮像された画像に対して、図2に示した画像処理装
置の前処理部6により、微分絶対値、微分方向値の各画
像を求めたり、エッジ延長等の処理を施して特徴抽出す
る。
(Embodiment 2) FIG. 11 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to Embodiment 2 of the present invention. In this embodiment, in the optical system shown in the system configuration 1 described above,
A projection image of the reflected light is captured by a television camera while irradiating the inspection object with laser line light and rotating the inspection object. The pre-processing unit 6 of the image processing apparatus shown in FIG. 2 obtains an image of a differential absolute value and a differential direction value from the captured image, performs a process such as edge extension, and performs feature extraction.

【0025】次に、画像処理装置の判定部8では、図3
に示すように、予め設定された検査領域内をラスター走
査することにより、所定値以上の微分値を持ち、エッジ
フラグが存在する画素を求める。これは、レーザライン
光がスクリーン背景よりも輝度があり、画像処理を施す
と微分値も所定値以上となる特徴を利用している。求め
られた画素を起点としてその周辺にn×m画素の探索ウ
ィンドウを設定して追跡し、同じ条件を満たす画素を探
索する。条件を満たす画素が連続で存在し、その画素数
が予め設定されたカウント値よりも大きければ、そのラ
インをレーザライン光特徴画像として認識する。
Next, in the judgment unit 8 of the image processing apparatus, FIG.
As shown in (1), a pixel having a differential value equal to or more than a predetermined value and having an edge flag is obtained by performing raster scanning in a preset inspection area. This utilizes the feature that the laser line light has a higher luminance than the screen background, and the differential value becomes greater than or equal to a predetermined value when image processing is performed. With the obtained pixel as a starting point, a search window of n × m pixels is set and traced around the obtained pixel, and a pixel satisfying the same condition is searched. If pixels satisfying the condition exist continuously and the number of pixels is larger than a preset count value, the line is recognized as a laser line light characteristic image.

【0026】次に、特徴画像の幅とその幅の中点oを求
め、中点oから特徴画像までの距離を放射状に測定す
る。この距離測定値を用いて、距離の拡大あるいは縮小
を行い、検査ラインを作成する。図12は検査ライン作
成方法を示している。図中、太い線は特徴画像であり、
その上下の細い2本の線は、それぞれ拡大ライン、縮小
ラインである。特徴ラインよりも外側に欠陥部の特徴が
発生する場合(図9(a)参照)には、中点oと特徴ラ
イン間の距離を測定値プラスp(pは任意)だけ拡大す
る。特徴ラインよりも内側に欠陥部の特徴が発生する場
合(図9(b)参照)には、中点oと特徴ライン間の距
離を測定値マイナスm(mは任意)だけ縮小する。作成
された拡大・縮小ラインを±方向へ位相をずらせること
により特徴画像との交点を求める。交点の有無により特
徴画像上の凹凸欠陥(あるいはその候補)の有無を検出
する。
Next, the width of the characteristic image and the midpoint o of the width are determined, and the distance from the midpoint o to the characteristic image is radially measured. Using the distance measurement value, the distance is enlarged or reduced to create an inspection line. FIG. 12 shows an inspection line creation method. In the figure, the thick line is the feature image,
The two thin lines above and below are an enlargement line and a reduction line, respectively. When the feature of the defective portion occurs outside the feature line (see FIG. 9A), the distance between the midpoint o and the feature line is enlarged by the measured value plus p (p is arbitrary). When the feature of the defective portion occurs inside the feature line (see FIG. 9B), the distance between the midpoint o and the feature line is reduced by the measured value minus m (m is arbitrary). By shifting the phase of the created enlarged / reduced line in the ± direction, an intersection with the feature image is obtained. The presence / absence of an unevenness defect (or a candidate thereof) on the feature image is detected based on the presence / absence of the intersection.

【0027】ここで、位相ずらしを行う理由は、図13
に示すように、欠陥部が存在する特徴ライン(太線)を
拡大させただけでは、検査ライン(細線)との交点を見
つけることはできないからである。そこで、図14
(a),(b)に示すように、±方向に予め設定された
画素だけ位相をずらせることにより交点を求めている。
図14(a)は−方向への移動により生じた交点、図1
4(b)は+方向への移動により生じた交点を示してい
る。
Here, the reason for performing the phase shift is shown in FIG.
This is because, as shown in (1), the intersection with the inspection line (thin line) cannot be found only by enlarging the characteristic line (thick line) in which the defective portion exists. Therefore, FIG.
As shown in (a) and (b), the intersection is obtained by shifting the phase by a predetermined pixel in the ± direction.
FIG. 14A shows an intersection generated by movement in the negative direction, FIG.
4 (b) shows an intersection generated by the movement in the + direction.

【0028】この実施例2により、特徴ラインと検査ラ
インの交点が求められると、特徴ライン上の曲率の急変
を評価すべき範囲は、図15の矩形で囲まれた部分に限
定される。交点の周辺で特徴ラインが滑らかである場合
には、交点を中心として特徴ラインに沿う方向に大きな
濃度差が観測されることは考えられない。一方、交点の
周辺で特徴ラインが滑らかでない場合には、交点を中心
として特徴ラインに沿う方向に濃度差を測定した場合、
急激な変動が生じると考えられる。この点を考慮して、
以下の実施例3〜8では、交点の周辺で生じる濃度差の
大きさ、微分絶対値の大きさ等を評価することにより、
検出された交点が真の凹凸欠陥であるか否かを判定して
いる。
When the intersection of the characteristic line and the inspection line is obtained according to the second embodiment, the range in which the sudden change in the curvature on the characteristic line is to be evaluated is limited to the portion surrounded by the rectangle in FIG. If the feature line is smooth around the intersection, it is unlikely that a large density difference is observed in the direction along the feature line with the intersection as the center. On the other hand, when the feature line is not smooth around the intersection, when the density difference is measured in the direction along the feature line with the intersection as the center,
It is considered that a sudden change occurs. With this in mind,
In the following Examples 3 to 8, by evaluating the magnitude of the density difference occurring around the intersection, the magnitude of the differential absolute value, and the like,
It is determined whether or not the detected intersection is a true irregularity defect.

【0029】(実施例3)図16は本発明の実施例3の
外観検査方法の処理手順を示す流れ図である。本実施例
では、実施例2において求められた交点に濃度測定用ウ
ィンドウ(スティックマスク)を設置する。ここで、ス
ティックマスクとは、図17に示すような棒状のマスク
であり、図中の黒丸●で示した中心部を観測すべき点
(ここでは、特徴ラインと検査ラインの交点)に一致さ
せると共に、図18に示すように、濃度変化を評価すべ
き方向(ここでは、交点における特徴ラインの方向)に
沿って設定される複数対の略対称的に配置されたマスク
a1とb1、a2とb2、a3とb3、a4とb4、…
を含んで構成されている。各マスクの大きさは限定され
るものではなく、任意の大きさで構わないが、比較的発
生頻度の高い凹凸欠陥の大きさを考慮してマスクの大き
さを設定すれば好都合である。
(Embodiment 3) FIG. 16 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to Embodiment 3 of the present invention. In the present embodiment, a density measurement window (stick mask) is installed at the intersection determined in the second embodiment. Here, the stick mask is a bar-shaped mask as shown in FIG. 17, and the center part indicated by a black circle in the figure is coincident with a point to be observed (here, the intersection of the characteristic line and the inspection line). In addition, as shown in FIG. 18, a plurality of pairs of substantially symmetrically arranged masks a1, b1, and a2 set along the direction in which the density change is to be evaluated (here, the direction of the characteristic line at the intersection). b2, a3 and b3, a4 and b4, ...
It is comprised including. The size of each mask is not limited, and may be any size. However, it is convenient if the size of the mask is set in consideration of the size of unevenness defects that occur relatively frequently.

【0030】本実施例では、検査ラインとの交点におけ
る特徴ラインの方向に沿って、スティックマスクを設定
し、設定されたスティックマスク内の(原画像の)濃度
差の総和を求める。求められた濃度差総和と予め設定さ
れたしきい値とを比較し、濃度差の総和がしきい値より
も大きければ不良と判定する。これを数式で示すと、濃
度差の総和は以下の数式により求められる。 S=|a1−b1|+|a2−b2|+|a3−b3|
+|a4−b4|+…
In this embodiment, a stick mask is set along the direction of the characteristic line at the intersection with the inspection line, and the sum of density differences (of the original image) in the set stick mask is determined. The calculated sum of the density differences is compared with a preset threshold value, and if the sum of the density differences is larger than the threshold value, it is determined to be defective. When this is shown by a mathematical formula, the sum of the density differences can be obtained by the following mathematical formula. S = | a1-b1 | + | a2-b2 | + | a3-b3 |
+ | A4-b4 | + ...

【0031】ただし、上式において、a1,b1,…等
は個々のマスクa1,b1,…等で測定された濃度(光
量)を意味する。求められた濃度差総和Sと予め設定さ
れた濃度差総和のしきい値T1を比較することにより、
S>T1が成立すれば不良と判定する。これは、原画像
の特徴ラインが輝度を持っていることを利用している。
良品の場合は、そもそも交点が存在しないので、誤判定
することはない。
In the above equation, a1, b1,..., Etc. mean the densities (light amounts) measured by the individual masks a1, b1,. By comparing the calculated density difference sum S with a preset threshold T1 of the density difference sum,
If S> T1, the result is determined to be defective. This utilizes the fact that characteristic lines of the original image have luminance.
In the case of a non-defective product, there is no intersection in the first place, so there is no erroneous determination.

【0032】(実施例4)本発明の実施例4では、上述
の実施例2の処理手順により欠陥候補部としての交点が
複数個求められた場合に、各交点毎に実施例3の処理を
行う。すなわち、各交点を中心としてそれぞれ特徴ライ
ンに沿って略対称的に配置される複数対のウィンドウを
設定し、対になった各ウィンドウ間の濃度差の総和を各
交点毎に求めて、各交点について求められた濃度差総和
Sを次々に蓄積して行くことにより、濃度差総和Sの積
算値ΣSを求める。この積算値ΣSについて、予め設定
されたしきい値T2と比較し、ΣS>T2が成立すれば
不良と判定する。本実施例によれば、交点の数が多くな
るほど、良品データとの差が拡大するので、それだけ不
良と判定される確率が高くなり、例えば、積算値ΣSを
交点の数で割って平均化して評価するよりは遥かにシビ
アな判定が可能となる。つまり、不良を見逃す可能性を
極小化でき、検査精度の向上を図ることができるもので
ある。
(Embodiment 4) In Embodiment 4 of the present invention, when a plurality of intersections as defect candidate portions are obtained by the processing procedure of Embodiment 2 described above, the processing of Embodiment 3 is performed for each intersection. Do. That is, a plurality of pairs of windows that are arranged substantially symmetrically along the feature line around each intersection are set, and the sum of the density differences between the paired windows is determined for each intersection, and each intersection is determined. Are accumulated one after another to obtain an integrated value ΣS of the density difference sum S. The integrated value ΣS is compared with a preset threshold value T2, and if ΣS> T2 is satisfied, it is determined that the integrated value is defective. According to the present embodiment, as the number of intersections increases, the difference from non-defective data increases, so the probability of being determined to be defective increases accordingly. For example, the integrated value ΣS is divided by the number of intersections and averaged. It is possible to make a much more severe judgment than to evaluate. That is, the possibility of overlooking a defect can be minimized, and the inspection accuracy can be improved.

【0033】(実施例5)本発明の実施例4では、上述
の実施例2の処理手順により欠陥候補部として求められ
た交点に、図17に示すスティックマスクを図18に示
すように設置する。そして、各マスクa1、b1、a
2、b2、a3、b3、a4、b4、…等の持つ微分絶
対値の総和Eを次式により求める。
(Embodiment 5) In Embodiment 4 of the present invention, the stick mask shown in FIG. 17 is set as shown in FIG. 18 at the intersection determined as a candidate defect portion by the processing procedure of Embodiment 2 described above. . Then, each mask a1, b1, a
The sum E of the differential absolute values of 2, b2, a3, b3, a4, b4,...

【0034】E=a1+b1+a2+b2+a3+b3
+a4+b4+… ただし、上式において、a1,b1,…等は個々のマス
クa1,b1,…等で測定された微分絶対値を意味す
る。求められた微分絶対値の総和Eと予め設定された微
分絶対値の総和のしきい値T3とを比較し、S>T3が
成立すれば不良と判定する。
E = a1 + b1 + a2 + b2 + a3 + b3
+ A4 + b4 +... In the above equation, a1, b1,... Mean the absolute differential values measured with the individual masks a1, b1,. The obtained sum E of the differential absolute values is compared with a preset threshold value T3 of the sum of the differential absolute values, and if S> T3 is satisfied, it is determined to be defective.

【0035】(実施例6)本発明の実施例6では、上述
の実施例2の処理手順により欠陥候補部としての交点が
複数個求められた場合に、各交点毎に実施例5の処理を
行う。すなわち、各交点を中心としてそれぞれ特徴ライ
ンに沿って略対称的に配置される複数対のウィンドウを
設定し、各ウィンドウに含まれる画素の微分絶対値の総
和を各交点毎に求めて、各交点について求められた微分
絶対値の総和Eを次々に蓄積して行くことにより、微分
絶対値の総和Eの積算値ΣEを求める。この積算値ΣE
について、予め設定されたしきい値T4と比較し、ΣE
>T4が成立すれば不良と判定する。本実施例において
も、実施例4と同様に、交点の数が多くなるほど、良品
データとの差が拡大するので、それだけ不良と判定され
る確率が高くなり、例えば、積算値ΣEを交点の数で割
って平均化して評価するよりは遥かにシビアな判定が可
能となる。つまり、不良を見逃す可能性を極小化でき、
検査精度の向上を図ることができるものである。
(Embodiment 6) In Embodiment 6 of the present invention, when a plurality of intersections as defect candidate portions are obtained by the processing procedure of Embodiment 2 described above, the processing of Embodiment 5 is performed for each intersection. Do. That is, a plurality of pairs of windows that are arranged substantially symmetrically along the characteristic line around each intersection are set, and the sum of the differential absolute values of the pixels included in each window is obtained for each intersection, and each intersection is determined. Are accumulated one after another to obtain an integrated value ΣE of the total sum E of the differential absolute values. This integrated value ΣE
Is compared with a predetermined threshold value T4, and ΔE
If> T4 is satisfied, it is determined to be defective. Also in the present embodiment, as in the fourth embodiment, as the number of intersections increases, the difference from non-defective data increases, so that the probability of being determined to be bad increases accordingly. It is possible to make a much more severe judgment than to evaluate by dividing by and averaging. In other words, the possibility of overlooking a defect can be minimized,
The inspection accuracy can be improved.

【0036】(実施例7)本発明の実施例7は、上述の
実施例3と実施例5を組み合わせたものであり、欠陥候
補部として求められた交点に図17に示すスティックマ
スクを図18に示すように設定し、スティックマスク内
の各マスクの微分絶対値の総和Eおよび対になるマスク
の濃度差の総和Sを求め、両者の和(E+S)を予め設
定されたしきい値T5と比較し、(E+S)>T5が成
立すれば不良と判定する。本実施例によれば、微分絶対
値の総和Eによる評価又は濃度差の総和Sによる評価の
いずれか一方が何らかの理由により有効でない場合にお
いても、他方の評価により凹凸欠陥の有無を判定できる
から、実施例3又は実施例5を単独で用いる場合より
も、さらに検査精度の向上を図ることができる。
(Embodiment 7) Embodiment 7 of the present invention is a combination of Embodiment 3 and Embodiment 5 described above. The stick mask shown in FIG. And the sum E of the differential absolute values of the respective masks in the stick mask and the sum S of the density differences of the paired masks are obtained, and the sum (E + S) of the two is calculated as a predetermined threshold value T5. In comparison, if (E + S)> T5 is satisfied, it is determined to be defective. According to the present embodiment, even if one of the evaluation based on the sum E of the differential absolute values and the evaluation based on the sum S of the density differences is not effective for some reason, the presence or absence of the unevenness defect can be determined by the other evaluation. The inspection accuracy can be further improved as compared with the case where the third embodiment or the fifth embodiment is used alone.

【0037】(実施例8)本発明の実施例8では、上述
の実施例2の処理手順により欠陥候補部としての交点が
複数個求められた場合に、各交点毎に実施例7の処理
(つまり、実施例3及び実施例5の処理)を行い、微分
絶対値の総和Eおよび濃度差の総和Sの積算値の和(Σ
E+ΣS)を求めて、予め設定されたしきい値T6と比
較し、(ΣE+ΣS)>T6が成立すれば不良と判定す
る。本実施例によれば、実施例7の効果と実施例4及び
6の効果が同時に得られるものであり、交点の数、各交
点の周辺における特徴ラインに沿う方向についての濃度
差、及び微分絶対値を総合的に評価することにより、ほ
ぼ完全に良品と不良品を識別することが可能となる。
(Eighth Embodiment) In the eighth embodiment of the present invention, when a plurality of intersections as defect candidate portions are obtained by the processing procedure of the second embodiment, the processing of the seventh embodiment is performed for each intersection ( That is, the processing of the third and fifth embodiments) is performed, and the sum of the integrated value of the sum E of the differential absolute values and the sum S of the density differences (Σ
E + ΣS) is obtained and compared with a preset threshold value T6. If (ΣE + ΣS)> T6 is satisfied, it is determined to be defective. According to this embodiment, the effects of the seventh embodiment and the effects of the fourth and sixth embodiments can be simultaneously obtained. The number of intersections, the density difference in the direction along the characteristic line around each intersection, and the differential absolute By comprehensively evaluating the values, it is possible to almost completely discriminate between a good product and a defective product.

【0038】(実施例9)図19は本発明の実施例9の
外観検査方法の処理手順を示す流れ図である。本実施例
では、実施例2において説明した微分方向値のデータを
利用して良否判定を行うものであり、実施例3〜8とは
評価の手法が全く異なる。すなわち、本実施例では、画
像処理により抽出された特徴ラインの微分方向値を求
め、被検査物が良品である場合の微分方向値の変化パタ
ーンを予め良品パターンとして記憶しておいて、測定対
象となる被検査物の微分方向値の変化パターンを良品パ
ターンと比較し、微分方向値の連続性における相違点の
有無を検出することにより凹凸欠陥を検出するものであ
る。
(Embodiment 9) FIG. 19 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to Embodiment 9 of the present invention. In the present embodiment, the pass / fail judgment is performed using the data of the differential direction value described in the second embodiment, and the evaluation method is completely different from the third to eighth embodiments. That is, in the present embodiment, the differential direction value of the feature line extracted by the image processing is obtained, and the change pattern of the differential direction value when the inspection object is a non-defective product is stored in advance as a non-defective product pattern. The change pattern of the differential direction value of the inspection object is compared with a non-defective pattern, and the presence / absence of a difference in the continuity of the differential direction value is detected to detect a concave / convex defect.

【0039】上述のように、図2に示す画像処理装置で
は、濃度の変化方向を微分方向値画像として格納する機
能を有している。微分方向値は、濃度変化方向として0
〜Fまでの16方向の値を持っている。濃度変化方向と
微分方向値の関係を図20に示す。図21に示すレーザ
ライン光特徴画像(良品の場合)では、微分方向値は図
中に記入したようになる。同図において、背景は黒で、
レーザライン光の輝度のある部分を白とする。微分方向
値は、黒から白に変化する方向を示すと定義する。良品
の場合、図21に示すように、特徴ラインの周辺の微分
方向値は上側でA〜E、下側で2〜6までの連続値を示
している。しかし、不良が存在する場合、図22に示す
ように、微分方向値の連続性が崩れてしまう特徴があ
る。その特徴を利用して、レーザライン光特徴画像上に
現れる凹凸欠陥のみを抽出することができる。
As described above, the image processing apparatus shown in FIG. 2 has a function of storing the density change direction as a differential direction value image. The differential direction value is 0 as the density change direction.
It has values in 16 directions from F to F. FIG. 20 shows the relationship between the density change direction and the differential direction value. In the laser line light characteristic image (in the case of a non-defective product) shown in FIG. 21, the differential direction values are as shown in the figure. In the figure, the background is black,
A portion having the brightness of the laser line light is white. The differential direction value is defined to indicate a direction in which black changes to white. In the case of a non-defective product, as shown in FIG. 21, the differential direction values around the characteristic line indicate continuous values from A to E on the upper side and 2 to 6 on the lower side. However, when there is a defect, as shown in FIG. 22, there is a characteristic that the continuity of the differential direction value is lost. By utilizing the feature, only the concave / convex defect appearing on the laser line light feature image can be extracted.

【0040】すなわち、良品の場合、上側の微分方向値
パターンが図23(a)に示すように画像の左からA−
B−C−D−Eと変化している。この変化パターンを予
め良品パターンとして記憶しておき、検査時に特徴画像
上を探索して得た変化パターンと比較する。不良が存在
する場合、微分方向値のパターンは図23(b)に示す
ように画像の左からA−B−C−A−B−C−D−E−
C−D−Eと変化するので、良品パターンとの相違点を
求めることにより良否判定を行うことができる。例え
ば、Cの次は必ずDが来ると仮定して、このルールに反
する場合には不良と判定することにより、簡単に検査を
行うことができる。
In other words, in the case of a non-defective product, the upper differential direction value pattern is A-A from the left of the image as shown in FIG.
It changes to BCDE. This change pattern is stored in advance as a non-defective pattern, and is compared with a change pattern obtained by searching a feature image during inspection. If there is a defect, the pattern of the differential direction value is ABCCABDCEDE from the left of the image as shown in FIG.
Since it is changed to C-D-E, it is possible to determine the acceptability by obtaining the difference from the non-defective pattern. For example, it is assumed that D always comes after C, and when this rule is violated, it is determined that the device is defective, so that the inspection can be easily performed.

【0041】(実施例10)図24は本発明の実施例1
0の外観検査方法の処理手順を示す流れ図である。本実
施例においても、実施例2において説明した微分方向値
のデータを利用して良否判定を行うものであるが、実施
例9では微分方向値の変化パターンを利用したのに対し
て、本実施例では、微分方向値の変化パターンの長さ
(全長)を利用している点が異なる。すなわち、良品パ
ターンが図25(a)に示す長さである場合に、凹凸欠
陥が存在すると、微分方向値のパターンは図25(b)
に示すように長くなる。この特徴を利用して、微分方向
値のパターンの全長を比較することにより、良否判定を
行うことができる。これは、良品画像の場合、被検査物
を回転させて撮像した場合、同一波形が得られることを
利用している。また、上述の実施例9で説明した微分方
向値の変化パターンの比較と、本実施例による変化パタ
ーンの全長の比較を併用することにより、安定した検査
が可能となる。
(Embodiment 10) FIG. 24 shows Embodiment 1 of the present invention.
11 is a flowchart showing a processing procedure of a visual inspection method of No. 0; In this embodiment, the pass / fail judgment is made by using the data of the differential direction value described in the second embodiment. In the ninth embodiment, the change pattern of the differential direction value is used. The example is different in that the length (full length) of the change pattern of the differential direction value is used. That is, in the case where the non-defective pattern has the length shown in FIG. 25A and the unevenness defect exists, the pattern of the differential direction value is changed as shown in FIG.
It becomes longer as shown. By utilizing this feature, the quality can be determined by comparing the total lengths of the patterns of the differential direction values. This is based on the fact that, in the case of a non-defective image, the same waveform can be obtained when the inspection object is rotated and imaged. Further, by using the comparison of the change pattern of the differential direction value described in the ninth embodiment and the comparison of the total length of the change pattern according to the present embodiment together, a stable inspection can be performed.

【0042】(実施例11)図26は本発明の実施例1
1の外観検査方法の処理手順を示す流れ図である。本実
施例においても、実施例2において説明した微分方向値
のデータを利用して良否判定を行うものであり、微分方
向値の変化パターン上に設定した基準位置における微分
方向値と、この基準位置から予め設定された画素離れた
位置での微分方向値とを比較することにより凹凸欠陥を
検出することを特徴とする。すなわち、実施例2で説明
した特徴画像上を追跡しながら基準点と予め設定された
画素離れた位置の微分方向値を求める。良品の場合、微
分方向値は連続して大きくなるか、小さくなるか、ある
いは同じ値を示すことを利用して、求められた2つの微
分方向値を比較して良品パターンと違う変化(例えば、
大きくなるはずなのに小さくなる方向に変化)をしてい
るかチェックする。良品パターンと違うパターンであれ
ば不良と判定する。
(Embodiment 11) FIG. 26 shows Embodiment 1 of the present invention.
4 is a flowchart showing a processing procedure of the first visual inspection method. In this embodiment as well, the pass / fail judgment is made using the data of the differential direction value described in the second embodiment, and the differential direction value at the reference position set on the change pattern of the differential direction value and this reference position In this case, the irregularity defect is detected by comparing the differential direction value at a position away from the pixel by a preset value. That is, the differential direction value at a position apart from the reference point by a predetermined pixel is obtained while tracking the characteristic image described in the second embodiment. In the case of a non-defective product, using the fact that the differential direction value continuously increases, decreases, or shows the same value, the obtained two differential direction values are compared, and a change different from the non-defective pattern (for example,
Change in the direction of becoming smaller, although it should be larger). If the pattern is different from the non-defective pattern, it is determined to be defective.

【0043】具体的な検査方法を図27に例示する。特
徴画像の左側から1画素ずつ追跡し、そこから予め設定
された画素分だけ先の画素の持つ微分方向値と比較す
る。通常であれば同じ値であるか、大きい値(画像によ
っては小さくなる場合もある)を有するはずである。そ
こで、基準位置の画素の微分方向値と、この基準位置か
ら予め設定された画素離れた画素の微分方向値を比較
し、基準位置の微分方向値よりも大きいか、あるいは、
同じであれば良品と判定する。なお、基準位置の微分方
向値よりも大きい場合には、その範囲を設定できるよう
にしておくと良い。例えば、微分方向値がA〜Eまでで
あれば良品と判定する。
FIG. 27 illustrates a specific inspection method. The pixel is tracked one by one from the left side of the feature image, and is compared with the differential direction value of the preceding pixel by a predetermined number of pixels from there. Normally, it should have the same value or a large value (it may be smaller depending on the image). Therefore, the differential direction value of the pixel at the reference position is compared with the differential direction value of the pixel separated from the reference position by a predetermined pixel, and is larger than the differential direction value of the reference position, or
If they are the same, it is determined to be good. When the value is larger than the differential direction value of the reference position, it is preferable that the range can be set. For example, if the differential direction value is A to E, it is determined to be good.

【0044】(実施例12)本発明の実施例12はノイ
ズの除去に関するものであり、請求項12に対応してい
る。被検査物の表面に、ごみなどの異物が付着している
場合、微分方向値のパターンが乱れることがある。例え
ば、微分方向値の良品パターンが特徴画像の左から、図
28(a)に示すとおりである場合に、不良画像につい
ての微分方向値のパターンが図28(b)に示すように
なることがある。この例のように、ごみなどの影響によ
り1〜2画素にわたって微分方向値が乱れる場合には、
微分方向値の連続性からすると、不良と判定されるが、
凹凸欠陥の特徴は大きさが(検査光学系にもよるが)例
えば10〜20画素の大きさを持っているものとして設
計されている場合、微分方向値の連続性と欠陥候補部の
幅を予め検査パラメータとして記憶しておくことにより
1画素(分解能400ミクロン)程度のノイズは除去す
ることが可能となる。つまり、欠陥候補部の画素数をし
きい値と比較し、欠陥候補部の画素数がしきい値よりも
大きければ不良と判定するが、しきい値よりも小さい場
合にはノイズとして除去する。
(Twelfth Embodiment) A twelfth embodiment of the present invention relates to the removal of noise, and corresponds to the twelfth embodiment. When foreign matter such as dust adheres to the surface of the inspection object, the pattern of the differential direction values may be disturbed. For example, when the non-defective pattern of the differential direction value is as shown in FIG. 28A from the left of the feature image, the pattern of the differential direction value for the defective image may be as shown in FIG. 28B. is there. As in this example, when the differential direction value is disturbed over one or two pixels due to the influence of dust or the like,
Judging from the continuity of the differential direction value, it is determined to be defective,
When the feature of the irregularity defect is designed to have a size of 10 to 20 pixels (depending on the inspection optical system), for example, the continuity of the differential direction value and the width of the defect candidate portion are reduced. By storing as inspection parameters in advance, noise of about one pixel (resolution of 400 microns) can be removed. That is, the number of pixels in the defect candidate portion is compared with the threshold value, and if the number of pixels in the defect candidate portion is larger than the threshold value, it is determined that the pixel is defective.

【0045】(実施例13)図29は本発明の実施例1
3のシステム構成図である。CCDカメラ4で撮像され
た画像に対して画像処理部60で前処理を施し、画像メ
モリ部7Aに転送する。転送された画像をもとにレーザ
ライン光特徴画像を抽出する。抽出された特徴画像をさ
らに画像メモリ部7Bに転送し、蓄積して行く。被検査
物を180度回転させて得られるすべての画像の蓄積を
完了した後、その蓄積された多重特徴画像に対して演算
CPU80を用いて、実施例2〜10の処理を行うこと
により欠陥部を抽出する。
Embodiment 13 FIG. 29 shows Embodiment 1 of the present invention.
3 is a system configuration diagram of FIG. The image captured by the CCD camera 4 is subjected to preprocessing by the image processing unit 60, and is transferred to the image memory unit 7A. A laser line light characteristic image is extracted based on the transferred image. The extracted characteristic images are further transferred to the image memory unit 7B and accumulated. After completing the accumulation of all the images obtained by rotating the object to be inspected by 180 degrees, the processing of the second to tenth embodiments is performed on the accumulated multiple feature images by using the arithmetic CPU 80 to obtain the defective portion. Is extracted.

【0046】欠陥部が存在する場合について、被検査物
を0度から180度まで回転させることにより得られる
特徴画像の例を図30に示す。この場合において、蓄積
された多重特徴画像の例を図31に示す。このように、
複数の特徴画像を蓄積し重ね合わせることにより、欠陥
部を強調することが可能となり、検出精度を向上させる
ことができる。
FIG. 30 shows an example of a characteristic image obtained by rotating the object to be inspected from 0 to 180 degrees when there is a defective portion. In this case, an example of the stored multiple feature image is shown in FIG. in this way,
By accumulating and superimposing a plurality of characteristic images, it is possible to emphasize a defective portion, and it is possible to improve detection accuracy.

【0047】また、各特徴画像を蓄積する方法について
は、レーザライン光はドーム形状の被検査物を回転させ
てもスクリーンに映されている画像の位置は変動しない
ので、画像メモリ部の同じ座標の濃度を積算して行けば
良い。なお、スクリーンに映されている画像の位置が被
検査物の回転に伴って、多少変動する場合には、各画像
間で特徴画像の両端を合わせる処理を施せば良い。
Regarding the method of accumulating each characteristic image, the position of the image projected on the screen does not change even if the dome-shaped inspection object is rotated by the laser line light. What is necessary is just to integrate the concentrations of. If the position of the image displayed on the screen fluctuates slightly with the rotation of the inspection object, a process of matching both ends of the characteristic image between the images may be performed.

【0048】[0048]

【発明の効果】請求項1〜13の発明によれば、ドーム
形状の被検査物の表面にレーザ光をライン状に照射し、
その反射光をスクリーンに投影して得られる特徴ライン
上に現れる凹凸欠陥部の特徴を認識して被検査物の良否
判定を行うようにしたので、ドーム形状の被検査物の表
面に発生する凹凸欠陥を外観検査により判定することが
できるという効果がある。
According to the first to thirteenth aspects of the present invention, the surface of the dome-shaped inspection object is irradiated with a laser beam in a linear manner.
Since the reflected light is projected on the screen and the characteristics of the irregularities appearing on the characteristic line are recognized and the quality of the inspected object is determined, the irregularities generated on the surface of the dome-shaped inspected object are determined. There is an effect that defects can be determined by visual inspection.

【0049】請求項2の発明によれば、画像処理により
得られた特徴ラインをずらすことにより略同形状の検査
ラインを作成し、特徴ラインと検査ラインの交点を求め
ることにより、欠陥候補部を検出するようにしたから、
特徴ライン上の急激な変化を評価すべきエリアを交点の
近傍にのみ限定することができ、検査速度の向上が可能
となる。
According to the second aspect of the present invention, an inspection line having substantially the same shape is created by shifting the characteristic line obtained by the image processing, and the intersection of the characteristic line and the inspection line is obtained, thereby forming the defect candidate portion. Because it was detected,
An area where a rapid change on the feature line should be evaluated can be limited only to the vicinity of the intersection, and the inspection speed can be improved.

【0050】請求項3、5又は7の発明によれば、欠陥
候補部として検出された交点の近傍に評価用のウィンド
ウを設定し、濃度差や微分絶対値の大きさを基準値と比
較することにより凹凸欠陥を判定するようにしたから、
真の凹凸欠陥か否かを確実に判定することができる。請
求項4、6又は8の発明によれば、交点が複数存在する
場合に、それぞれの交点にマスクを設定し、各マスク毎
の微分絶対値の総和や濃度差の総和を求めると共に、各
交点毎に求められたデータを加算することにより、良品
のデータとの差を大きくすることができ、検査精度の向
上を図ることができる。
According to the third, fifth or seventh aspect of the present invention, an evaluation window is set in the vicinity of the intersection detected as a defect candidate portion, and the density difference and the magnitude of the differential absolute value are compared with the reference value. As a result, the irregularity defect was determined by
It is possible to reliably determine whether or not it is a true irregularity defect. According to the invention of claim 4, 6 or 8, when there are a plurality of intersections, a mask is set at each intersection, and the sum of the differential absolute values and the sum of the density differences for each mask are obtained. By adding the data obtained every time, the difference from the data of the non-defective product can be increased, and the inspection accuracy can be improved.

【0051】請求項9の発明によれば、画像処理により
抽出された特徴ラインの微分方向値を求め、被検査物が
良品である場合の微分方向値の変化パターンを予め良品
パターンとして記憶し、測定対象となる被検査物の微分
方向値の変化パターンを良品パターンと比較し、相違点
を検出することにより凹凸欠陥を検出するものであるか
ら、特徴ラインの拡大や縮小といった高度な画像処理を
行うことなく、数値データのパターンを比較するだけで
欠陥の有無を検出でき、処理装置の負担が小さくて済む
という利点がある。
According to the ninth aspect of the present invention, a differential direction value of the characteristic line extracted by the image processing is obtained, and a change pattern of the differential direction value when the inspection object is a non-defective product is stored as a non-defective pattern in advance. Since the pattern of change in the differential direction of the test object to be measured is compared with a non-defective pattern, and the difference is detected to detect unevenness defects, advanced image processing such as enlargement or reduction of feature lines is performed. There is an advantage that the presence / absence of a defect can be detected only by comparing the patterns of the numerical data without performing, and the load on the processing device can be reduced.

【0052】請求項10の発明によれば、特徴ラインの
全長を凹凸欠陥判定のための基準として用いるようにし
たから、特に請求項9による変化パターンの照合と併用
すれば、検査の精度や効率を改善することができる。請
求項11の発明によれば、画像処理により抽出された特
徴ラインの微分方向値を求め、微分方向値の変化パター
ン上に設定した基準位置における微分方向値と、この基
準位置から予め設定された画素離れた位置での微分方向
値とを比較することにより凹凸欠陥を検出するものであ
るから、良品のパターンを予め記憶させておく必要が無
いという利点がある。
According to the tenth aspect of the present invention, the entire length of the characteristic line is used as a criterion for determining unevenness defects. Can be improved. According to the eleventh aspect, the differential direction value of the characteristic line extracted by the image processing is obtained, and the differential direction value at the reference position set on the change pattern of the differential direction value, and the differential direction value set in advance from this reference position are determined. Since the unevenness defect is detected by comparing the value with the differential direction value at a position apart from the pixel, there is an advantage that it is not necessary to previously store a non-defective pattern.

【0053】請求項12の発明によれば、求められた被
検査物表面の特徴ラインの微分方向値のパターン上にご
みなどによるパターンの乱れがあっても検査精度を保ち
ながら凹凸欠陥を検出できる。請求項13の発明によれ
ば、求められた特徴ラインを各検査画面毎に求め、重ね
合わせることにより欠陥部分の強調を図るようにしたの
で、さらに検査精度を上げることができる。
According to the twelfth aspect of the present invention, even if the pattern of the differential direction value of the characteristic line on the surface of the object to be inspected is disturbed due to dust or the like, the irregularity defect can be detected while maintaining the inspection accuracy. . According to the thirteenth aspect, the obtained characteristic line is obtained for each inspection screen, and the defect portion is emphasized by superimposing, so that the inspection accuracy can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の外観検査方法を実施するための検査光
学系の外観を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of an inspection optical system for performing an appearance inspection method of the present invention.

【図2】本発明の外観検査方法を実施するための画像処
理系のブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram of an image processing system for implementing the appearance inspection method of the present invention.

【図3】本発明の外観検査方法によりスクリーンを撮像
して得られる原画像の一例を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of an original image obtained by imaging a screen by the appearance inspection method of the present invention.

【図4】本発明の外観検査方法で用いる局所並列ウィン
ドウの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a local parallel window used in the appearance inspection method of the present invention.

【図5】本発明の外観検査方法で用いる微分絶対値画像
の一例を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of a differential absolute value image used in the appearance inspection method of the present invention.

【図6】本発明の外観検査方法で用いるエッジ延長処理
の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of edge extension processing used in the appearance inspection method of the present invention.

【図7】本発明における被検査物が良品の場合の投影像
を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a projected image in a case where the inspection object according to the present invention is a non-defective product.

【図8】本発明における被検査物が不良品の場合の投影
像を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing a projected image when an object to be inspected is a defective product in the present invention.

【図9】本発明における被検査物の表面での反射光路を
示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a reflected light path on the surface of the inspection object in the present invention.

【図10】本発明の実施例1の外観検査方法の処理手順
を示す流れ図である。
FIG. 10 is a flowchart illustrating a processing procedure of an appearance inspection method according to the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施例2の外観検査方法の処理手順
を示す流れ図である。
FIG. 11 is a flowchart illustrating a processing procedure of an appearance inspection method according to a second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施例2における検査ラインの作成
方法を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a method for creating an inspection line according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施例2における位相をずらす前の
検査ラインと特徴ラインの関係を示す説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a relationship between an inspection line and a feature line before shifting the phase according to the second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施例2における位相をずらした後
の検査ラインと特徴ラインの関係を示す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating a relationship between an inspection line and a feature line after a phase shift according to the second embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施例2における検査ラインと特徴
ラインの交点を示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing an intersection of an inspection line and a feature line in Embodiment 2 of the present invention.

【図16】本発明の実施例3の外観検査方法の処理手順
を示す流れ図である。
FIG. 16 is a flowchart illustrating a processing procedure of an appearance inspection method according to a third embodiment of the present invention.

【図17】本発明の実施例3に用いるスティックマスク
を示す説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram showing a stick mask used in Embodiment 3 of the present invention.

【図18】本発明の実施例3に用いるスティックマスク
の検査ライン上への配置を示す説明図である。
FIG. 18 is an explanatory diagram showing an arrangement of a stick mask used in Embodiment 3 of the present invention on an inspection line.

【図19】本発明の実施例9の外観検査方法の処理手順
を示す流れ図である。
FIG. 19 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to a ninth embodiment of the present invention.

【図20】本発明の実施例9で用いる微分方向値と濃度
変化方向の関係を示す説明図である。
FIG. 20 is an explanatory diagram showing a relationship between a differential direction value and a density change direction used in Embodiment 9 of the present invention.

【図21】本発明の実施例9で用いる微分方向値を良品
に対する特徴画像上に記入して示した説明図である。
FIG. 21 is an explanatory diagram in which differential direction values used in a ninth embodiment of the present invention are written and shown on a feature image for a non-defective product.

【図22】本発明の実施例9で用いる微分方向値を不良
品に対する特徴画像上に記入して示した説明図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram showing a differential direction value used in the ninth embodiment of the present invention written on a feature image for a defective product.

【図23】本発明の実施例9で用いる微分方向値の連続
性を良品の場合と不良品の場合についてそれぞれ示す説
明図である。
FIG. 23 is an explanatory diagram showing the continuity of the differential direction value used in the ninth embodiment of the present invention for a good product and a defective product.

【図24】本発明の実施例10の外観検査方法の処理手
順を示す流れ図である。
FIG. 24 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to a tenth embodiment of the present invention.

【図25】本発明の実施例10で用いる微分方向値のパ
ターンの長さを良品の場合と不良品の場合についてそれ
ぞれ示す説明図である。
FIG. 25 is an explanatory diagram showing the length of the pattern of the differential direction value used in the tenth embodiment of the present invention for a non-defective product and a defective product, respectively.

【図26】本発明の実施例11の外観検査方法の処理手
順を示す流れ図である。
FIG. 26 is a flowchart showing a processing procedure of an appearance inspection method according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図27】本発明の実施例11の外観検査方法の具体的
な検査事例を例示する説明図である。
FIG. 27 is an explanatory diagram illustrating a specific inspection example of the appearance inspection method according to the eleventh embodiment of the present invention.

【図28】本発明の実施例12の外観検査方法の説明図
である。
FIG. 28 is an explanatory diagram of an appearance inspection method according to Example 12 of the present invention.

【図29】本発明の実施例13のシステム構成図であ
る。
FIG. 29 is a system configuration diagram of a thirteenth embodiment of the present invention.

【図30】本発明の実施例13において、表面に欠陥部
を有する被検査物を0度から180度まで回転させて得
られる特徴画像の一例を示す説明図である。
FIG. 30 is an explanatory diagram showing an example of a characteristic image obtained by rotating an inspection object having a defect portion on its surface from 0 ° to 180 ° in Example 13 of the present invention.

【図31】本発明の実施例13に用いる多重特徴画像の
一例を示す説明図である。
FIG. 31 is an explanatory diagram illustrating an example of a multiple feature image used in Embodiment 13 of the present invention.

【符合の説明】[Description of sign]

1 被検査物 2 ライン光源 3 スクリーン 4 CCDカメラ L 投影像 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection object 2 Line light source 3 Screen 4 CCD camera L Projection image

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ドーム形状の被検査物の表面にレーザ
光をライン状に照射し、その反射光をスクリーンに投影
して得られる特徴ライン上に現れる凹凸欠陥部の特徴を
認識して被検査物の良否判定を行うことを特徴とする外
観検査方法。
1. A method of irradiating a laser beam in a line on the surface of a dome-shaped inspection object, and recognizing a characteristic of a concave / convex defect portion appearing on a characteristic line obtained by projecting a reflected light on a screen. A visual inspection method characterized by determining the quality of an object.
【請求項2】 請求項1において、スクリーンに投影
された特徴ラインを含む画像を撮像し、画像処理により
略アーチ状の曲線として特徴ラインを抽出し、抽出され
た特徴ラインをアーチの長手方向と略垂直な方向に若干
平行移動させるかあるいは相似形となるように拡大縮小
して移動させると共に、アーチの長手方向に沿って若干
平行移動させることにより検査ラインを作成し、検査ラ
インと元の特徴ラインとの交点を求めることにより欠陥
候補部の検出を行うことを特徴とする外観検査方法。
2. The method according to claim 1, wherein an image including the characteristic line projected on the screen is captured, and the characteristic line is extracted as a substantially arched curve by image processing. Create an inspection line by slightly translating it in a substantially vertical direction or moving it in a scaled and similar manner, and slightly translating it along the longitudinal direction of the arch to create an inspection line and the original features. An appearance inspection method, wherein a defect candidate portion is detected by finding an intersection with a line.
【請求項3】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点を中心として特徴ラインに沿って略対称
的に配置される複数対のウィンドウを設定し、対になっ
た各ウィンドウ間の濃度差の総和を求めて、予め設定さ
れた基準値と比較することにより、特徴ライン上の凹凸
欠陥検出を行うことを特徴とする外観検査方法。
3. The method according to claim 2, wherein a plurality of pairs of windows arranged substantially symmetrically along the characteristic line with respect to the intersection determined as the defect candidate portion are set, and the density between the paired windows is set. An appearance inspection method, wherein a sum of differences is obtained and compared with a preset reference value to detect unevenness defects on a feature line.
【請求項4】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点が複数個存在する場合に、各交点を中心
としてそれぞれ特徴ラインに沿って略対称的に配置され
る複数対のウィンドウを設定し、対になった各ウィンド
ウ間の濃度差の総和を各交点毎に求めてすべてを加算
し、予め設定された基準値と比較することにより、特徴
ライン上の凹凸欠陥検出を行うことを特徴とする外観検
査方法。
4. A method according to claim 2, wherein when there are a plurality of intersections obtained as defect candidate portions, a plurality of pairs of windows are set substantially symmetrically along the characteristic line with respect to each intersection. Then, the sum of the density differences between each paired windows is obtained for each intersection, all of them are added, and the sum is compared with a preset reference value to detect unevenness defects on the feature line. Appearance inspection method.
【請求項5】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点を中心として特徴ラインに沿って略対称
的に配置される複数対のウィンドウを設定し、各ウィン
ドウに含まれる画素の微分絶対値の総和を求め、予め設
定された基準値と比較することにより特徴ライン上の凹
凸欠陥検出を行うことを特徴とする外観検査方法。
5. A method according to claim 2, wherein a plurality of pairs of windows arranged substantially symmetrically along the characteristic line with respect to the intersection determined as the defect candidate portion are set, and a differential absolute value of a pixel included in each window is set. An appearance inspection method characterized in that unevenness defects on a feature line are detected by calculating the sum of the values and comparing the sum with a preset reference value.
【請求項6】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点が複数個存在する場合に、各交点を中心
としてそれぞれ特徴ラインに沿って略対称的に配置され
る複数対のウィンドウを設定し、各ウィンドウに含まれ
る画素の微分絶対値の総和を各交点毎に求めてすべてを
加算したものを、予め設定された基準値と比較すること
により特徴ライン上の凹凸欠陥検出を行うことを特徴と
する外観検査方法。
6. A method according to claim 2, wherein when there are a plurality of intersections determined as defect candidate portions, a plurality of pairs of windows are set substantially symmetrically along the characteristic line with each intersection as a center. Then, the sum of the differential absolute values of the pixels included in each window is obtained for each intersection, and the sum of all the sums is compared with a preset reference value to detect unevenness defects on the feature line. Features a visual inspection method.
【請求項7】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点を中心として特徴ラインに沿って略対称
的に配置される複数対のウィンドウを設定し、対になっ
た各ウィンドウ間の濃度差の総和及び各ウィンドウに含
まれる画素の微分絶対値の総和を求めて、両者の和を予
め設定された基準値と比較することにより、特徴ライン
上の凹凸欠陥検出を行うことを特徴とする外観検査方
法。
7. A method according to claim 2, wherein a plurality of pairs of windows arranged substantially symmetrically along the characteristic line with respect to the intersection determined as the defect candidate portion are set, and the density between each pair of windows is set. Finding the sum of the differences and the sum of the differential absolute values of the pixels included in each window, and comparing the sum with a preset reference value, detects irregularities on the feature line. Appearance inspection method.
【請求項8】 請求項2において、欠陥候補部として
求められた交点が複数個存在する場合に、各交点を中心
としてそれぞれ特徴ラインに沿って略対称的に配置され
る複数対のウィンドウを設定し、対になった各ウィンド
ウ間の濃度差の総和を各交点毎に求めてすべてを加算
し、各ウィンドウに含まれる画素の微分絶対値の総和を
各交点毎に求めてすべてを加算し、両加算値の和を予め
設定された基準値と比較することにより特徴ライン上の
凹凸欠陥検出を行うことを特徴とする外観検査方法。
8. A method according to claim 2, wherein when there are a plurality of intersections determined as defect candidate portions, a plurality of pairs of windows are arranged substantially symmetrically along the characteristic line with each intersection as a center. Then, the sum of the density differences between each pair of windows is obtained for each intersection, and all are added.The sum of the differential absolute values of the pixels included in each window is obtained for each intersection, and all are added. An appearance inspection method characterized by detecting unevenness defects on a feature line by comparing the sum of both addition values with a preset reference value.
【請求項9】 請求項1において、スクリーンに投影
された特徴ラインを含む画像を撮像し、画像処理により
略アーチ状の曲線として特徴ラインを抽出し、抽出され
た特徴ラインの微分方向値を求め、被検査物が良品であ
る場合の微分方向値の変化パターンを予め良品パターン
として記憶し、測定対象となる被検査物の微分方向値の
変化パターンを良品パターンと比較し、相違点を検出す
ることにより凹凸欠陥を検出することを特徴とする外観
検査方法。
9. The method according to claim 1, wherein an image including the characteristic line projected on the screen is captured, the characteristic line is extracted as a substantially arched curve by image processing, and a differential direction value of the extracted characteristic line is obtained. The change pattern of the differential direction value when the test object is a good product is stored in advance as a good product pattern, and the change pattern of the differential direction value of the test object to be measured is compared with the good product pattern to detect a difference. An appearance inspection method characterized by detecting unevenness defects by using the method.
【請求項10】 請求項1において、スクリーンに投
影された特徴ラインを含む画像を撮像し、画像処理によ
り略アーチ状の曲線として特徴ラインを抽出し、抽出さ
れた特徴ラインの全長を求め、被検査物が良品である場
合の特徴ラインの全長を予め記憶し、測定対象となる被
検査物の特徴ラインの全長と比較することにより凹凸欠
陥を検出することを特徴とする外観検査方法。
10. The method according to claim 1, wherein an image including the characteristic line projected on the screen is captured, the characteristic line is extracted as a substantially arched curve by image processing, and the total length of the extracted characteristic line is obtained. An appearance inspection method characterized by storing in advance the entire length of a characteristic line when the inspection object is a non-defective product, and detecting an irregularity defect by comparing with the entire length of the characteristic line of the inspection object to be measured.
【請求項11】 請求項1において、スクリーンに投
影された特徴ラインを含む画像を撮像し、画像処理によ
り略アーチ状の曲線として特徴ラインを抽出し、抽出さ
れた特徴ラインの微分方向値を求め、微分方向値の変化
パターン上に設定した基準位置における微分方向値と、
この基準位置から予め設定された画素離れた位置での微
分方向値とを比較することにより凹凸欠陥を検出するこ
とを特徴とする外観検査方法。
11. The method according to claim 1, wherein an image including the characteristic line projected on the screen is captured, the characteristic line is extracted as a substantially arched curve by image processing, and a differential direction value of the extracted characteristic line is obtained. , The differential direction value at the reference position set on the differential direction value change pattern,
An appearance inspection method characterized by detecting a concave / convex defect by comparing with a differential direction value at a position apart from the reference position by a preset pixel.
【請求項12】 請求項9又は11において、微分方
向値の変化パターン上に所定画素数以下の乱れがある場
合に、ノイズとして除去することを特徴とする外観検査
方法。
12. The visual inspection method according to claim 9, wherein when there is a disturbance of a predetermined number of pixels or less on the change pattern of the differential direction value, the disturbance is removed as noise.
【請求項13】 請求項1において、スクリーンに投
影された特徴ラインを含む画像を撮像し、画像処理によ
り略アーチ状の曲線として特徴ラインを抽出し、被検査
物を回転させながら各撮像画面毎に抽出された特徴ライ
ンを重ね合わせることにより欠陥部分を強調し、重ね合
わせにより得られた多重特徴ラインに基づいて凹凸欠陥
を検出することを特徴とする外観検査方法。
13. The imaging method according to claim 1, wherein an image including the characteristic line projected on the screen is captured, and the characteristic line is extracted as a substantially arch-shaped curve by image processing. A feature inspection method for emphasizing a defective portion by superimposing the extracted feature lines and detecting an uneven defect based on the multiple feature lines obtained by the superimposition.
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