JPH1098096A - Semiconductor wafer cassette - Google Patents
Semiconductor wafer cassetteInfo
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- JPH1098096A JPH1098096A JP25340696A JP25340696A JPH1098096A JP H1098096 A JPH1098096 A JP H1098096A JP 25340696 A JP25340696 A JP 25340696A JP 25340696 A JP25340696 A JP 25340696A JP H1098096 A JPH1098096 A JP H1098096A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、特に外径がφ30
0ほどある大口径の半導体ウェハを収容して運搬するの
に好適な半導体ウェハ用カセットに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to
The present invention relates to a semiconductor wafer cassette suitable for housing and transporting a semiconductor wafer having a diameter as large as zero.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体ウェハは汚染を極度に嫌うので、
製造工程においては、半導体ウェハ用カセット(以下、
単にカセットと称す)に収納され、周囲から隔絶した状
態で搬送され、その後、各種の化学洗浄、乾燥等が行な
われている。2. Description of the Related Art Semiconductor wafers extremely dislike contamination,
In the manufacturing process, a cassette for semiconductor wafers (hereinafter referred to as
(Hereinafter simply referred to as a cassette) and transported in a state of being isolated from the surroundings. Thereafter, various chemical cleaning, drying, and the like are performed.
【0003】また、半導体ウェハとカセットとの接触面
積は極力小さい方が好ましく、したがって、カセットは
ウェハの周縁部のみの狭い範囲を保持する構造となって
いる。Further, it is preferable that the contact area between the semiconductor wafer and the cassette is as small as possible. Therefore, the cassette has a structure in which a narrow range of only the peripheral portion of the wafer is held.
【0004】ここで、従来の半導体ウェハを搬送するカ
セットは、図10に示したように、カセット本体1の両
側壁2、2の内面2aに所定幅lの溝3が形成されるよ
うに、内方向に向かって突設された複数のウェハ分離用
のリブ4を有し、このリブ4によりウェハW相互を分離
し、それぞれ独立して保持するようになっている。ま
た、カセット本体1を用いてウェハWの運搬等を行なう
場合は、図10の状態、つまりウェハWを立てた状態で
行なっていることが多い。Here, a conventional cassette for transporting semiconductor wafers, as shown in FIG. 10, is formed so that a groove 3 having a predetermined width 1 is formed on inner surfaces 2a of both side walls 2, 2 of the cassette body 1. It has a plurality of wafer separating ribs 4 protruding inward, and the ribs 4 separate the wafers W from each other and hold them independently. When carrying the wafer W using the cassette body 1, the wafer W is often carried out in the state shown in FIG.
【0005】ウェハWはカセット本体1から、図11に
示したような自動出し入れ装置5を用いて自動的に出し
入れされる。このウェハの自動出し入れ装置5では、前
記ウェハWが上下方向に積み重ねられた状態となるよう
にカセット本体1を昇降台6上に立設し、一方のカセッ
ト本体1内のウェハWを搬送体7により一枚ずつ取り出
し、他方の昇降台8上に載置された他方のカセット本体
1まで搬送し、その溝部3内に収納するようにしてい
る。この場合、前記昇降台6、8はウェハを一枚ずつ取
り出す毎に1ピッチ分昇降と下降を行ない、一方のカセ
ット1内のウェハWを他方のカセット1内に全て収容す
ることができる。The wafer W is automatically loaded and unloaded from the cassette body 1 using an automatic loading and unloading device 5 as shown in FIG. In the automatic wafer loading / unloading device 5, the cassette body 1 is erected on the elevating platform 6 so that the wafers W are stacked in the vertical direction, and the wafer W in one cassette body 1 is transferred to the carrier 7 , The sheet is taken out one by one, conveyed to the other cassette main body 1 placed on the other elevating table 8, and stored in the groove 3. In this case, the elevating tables 6 and 8 move up and down by one pitch every time a wafer is taken out one by one, so that all the wafers W in one cassette 1 can be accommodated in the other cassette 1.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年では、
φ300ほどの大口径の半導体ウェハが市場に出始めよ
うとしており、この半導体ウェハの搬送に使用されるウ
ェハ用カセットの仕様も規格化が進められている。However, in recent years,
Semiconductor wafers having a diameter as large as φ300 are about to enter the market, and the specifications of wafer cassettes used for transporting the semiconductor wafers are being standardized.
【0007】それによると、この種の半導体ウェハを搬
送する場合は、今までの半導体ウェハWを搬送する場合
と異なって、図11に示したように、カセット本体1は
ウェハWを出し入れする開口部9を横にした状態のまま
搬送するように規定されており、その場合、ウェハWは
そのままの姿勢、ななわち、水平状態で搬送される。According to this, when carrying this kind of semiconductor wafer, unlike the conventional case of carrying a semiconductor wafer W, as shown in FIG. 11, the cassette body 1 has an opening through which the wafer W is taken in and out. It is defined that the wafer W is transported with the unit 9 laid down. In this case, the wafer W is transported in the same posture, that is, in a horizontal state.
【0008】しかしながら、φ300もあるウェハWを
開口部9を横にして水平状態でのみ搬送すると、搬送の
発進時、停止時等に、カセット本体1の開口部9からウ
ェハWが飛び出してしまうことも考えられる。However, when a wafer W having a diameter of 300 is conveyed only in a horizontal state with the opening 9 laid sideways, the wafer W jumps out of the opening 9 of the cassette body 1 when the conveyance starts or stops. Is also conceivable.
【0009】しかも、このような半導体ウェハWを従来
のようなカセット本体1に保持させると、半導体ウェハ
Wとカセット本体1との接触面積が大きくなり、接触し
た部分の摩擦によってウェハWの表面に傷が付く恐れが
あった。Further, when such a semiconductor wafer W is held in the cassette body 1 as in the prior art, the contact area between the semiconductor wafer W and the cassette body 1 increases, and the friction of the contacted portion causes the surface of the wafer W to adhere to the surface of the wafer W. There was a risk of being scratched.
【0010】本発明はこのような実情に鑑み、特にφ3
00ほどの大口径の半導体ウェハをカセット本体に収容
する場合に、ウェハの周縁部とカセット本体との接触面
積を極力小さくして保持することができ、また搬送の停
止時等におけるウェハの飛び出しを防止し、さらには、
1つのウェハが所定の溝から脱落してしまっても、下位
に収容されたウェハが傷付くことのない半導体ウェハ用
カセットを提供することを目的としている。The present invention has been made in view of such circumstances, and in particular, φ3
When a semiconductor wafer having a large diameter of about 00 is accommodated in the cassette main body, the contact area between the peripheral portion of the wafer and the cassette main body can be kept as small as possible, and the wafer can be prevented from popping out when the transfer is stopped. To prevent and even
It is an object of the present invention to provide a semiconductor wafer cassette in which even if one wafer falls off from a predetermined groove, a wafer stored in a lower part is not damaged.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明では、一枚の半導
体ウェハの下面を例えば4カ所に設けたリブで保持する
ようにしており、さらに、このうちの先端側の2カ所の
リブから半導体ウェハが外れてしまったときに直ぐに係
止できるように、脱落防止用の他のリブを前記2カ所の
リブの近傍に設けている。According to the present invention, the lower surface of one semiconductor wafer is held by, for example, ribs provided at four locations. Other ribs for preventing falling off are provided near the two ribs so that the wafer can be locked immediately when the wafer comes off.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の半導体ウェハを保持する
リブは両側壁に各1つずつと、ウェハを出し入れする開
口部の反対側の奥壁柱に2つを設けている。また、奥壁
柱の2つのリブから半導体ウェハの周縁部が外れてしま
った場合に、その脱落した周縁部が他のウェハに衝突す
るより前に脱落防止用のリブに係止されるように、この
脱落防止用のリブを形成する位置を定める必要がある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A rib for holding a semiconductor wafer according to the present invention is provided on each side wall, one on each side wall, and two on a back wall column opposite to the opening for taking in and out the wafer. Also, when the peripheral edge of the semiconductor wafer is detached from the two ribs of the back wall pillar, the dropped peripheral edge is locked by the rib for preventing falling off before colliding with another wafer. It is necessary to determine the position where the rib for preventing the falling off is formed.
【0013】[0013]
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例に
ついて説明する。図1は本発明の一実施例による半導体
ウェハ用カセット10を示したものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a semiconductor wafer cassette 10 according to one embodiment of the present invention.
【0014】このウェハ用カセット10は、フッ素樹
脂、あるいはABS樹脂などの耐薬品性に優れた合成樹
脂あるいは汎用の合成樹脂からなり、インジェクション
成形、または組み立てなどによって形成される。The wafer cassette 10 is made of a synthetic resin having excellent chemical resistance such as fluororesin or ABS resin or a general-purpose synthetic resin, and is formed by injection molding or assembly.
【0015】このウェハ用カセット10は、上下に対向
して配置される一対の天板11および底板12の間に、
円弧状の側壁13、14および四角い枠状体15が立設
されて、カセット本体16が形成されている。カセット
本体16の前面部には、ウェハWを水平方向に出し入れ
するための開口部17が形成され、後方部、すなわち枠
状体15の両側には、光センサの光路となる開口18、
19が形成されている。また、ウェハ自動出し入れ装置
のアームのためのスペースを確保するために、枠状体1
5の中央に略矩形の開口15aが形成されている。The wafer cassette 10 is provided between a pair of a top plate 11 and a bottom plate 12 which are arranged vertically.
The arc-shaped side walls 13 and 14 and the square frame 15 are erected to form a cassette body 16. An opening 17 for taking in and out the wafer W in the horizontal direction is formed in the front part of the cassette body 16, and an opening 18 serving as an optical path of an optical sensor is provided in a rear part, that is, on both sides of the frame 15.
19 are formed. Further, in order to secure a space for an arm of the automatic wafer loading / unloading apparatus, the frame-shaped body 1 is provided.
5, a substantially rectangular opening 15a is formed at the center.
【0016】両側壁13、14の開口部17近傍の各内
面には、図2ないし図4に示したように、それぞれ所定
幅lの溝20が形成されるように、複数のウェハ分離用
のリブ21が上下方向に一列に突設されている。As shown in FIGS. 2 to 4, a plurality of wafer separating wafers 20 are formed on the inner surfaces of the side walls 13 and 14 near the opening 17 so as to form grooves 20 having a predetermined width l. The ribs 21 are provided in a line in the vertical direction.
【0017】このウェハ分離用のリブ21は、径内方が
径外方に比べて高くなるようにαだけ上向き傾斜で形成
されている。したがって、このような傾斜を設けること
により、このリブ21上に例えば角が尖っている未処理
ウェハを保持するような場合であっても、ウェハの周端
面よりやや径中央よりの部分にリブが接触するようにな
るので、ウェハの角部によってカセットが削れてしまう
ことがなく、パーティクルの発生が防止される。また、
ウェハに傷がつくことも防止される。The wafer separating rib 21 is formed to be inclined upward by α so that the inside of the diameter is higher than the outside of the diameter. Therefore, by providing such an inclination, even when, for example, an unprocessed wafer having a sharp corner is held on the rib 21, the rib is provided at a portion slightly larger than the center of the diameter from the peripheral end surface of the wafer. Since the cassettes come into contact with each other, the cassette is not scraped by the corners of the wafer, and the generation of particles is prevented. Also,
Scratching of the wafer is also prevented.
【0018】また、リブ21には、上面に略円弧状の段
部22が形成されている。段部22を構成する上段面2
3は、図2および図3に示したように、開口部17に近
づく程、その幅Mが広く形成されている。したがって、
溝20内でリブ21の上方からウェハWが案内される
と、ウェハWの周縁部は円弧状の段部22に当接される
ことになり、開口部17側への飛び出しが防止される。
一方、段部22を構成する下段面24には、膨出部25
が形成されており、これにより、ウェハ下面との接触面
積が小さくされている。なお、段部22の上段面23
は、膨出部25より高くなっている必要がある。The rib 21 has a substantially arc-shaped step 22 formed on the upper surface thereof. Upper step surface 2 constituting step section 22
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the width of M3 is increased as it approaches the opening 17. Therefore,
When the wafer W is guided from above the rib 21 in the groove 20, the peripheral edge of the wafer W comes into contact with the arc-shaped step portion 22, and is prevented from jumping out to the opening 17 side.
On the other hand, the lower step surface 24 constituting the step section 22 has a bulge 25
Are formed, thereby reducing the contact area with the lower surface of the wafer. The upper surface 23 of the step 22
Needs to be higher than the bulging portion 25.
【0019】側壁13、14の開口部17より枠状体1
5に近接する内面には、各々脱落防止用のリブ26、2
6が所定のピッチで縦方向に一列に形成されている。こ
のリブ26も図5に示したように、傾斜角αの上向き傾
斜で形成されている。The frame 1 is opened from the openings 17 of the side walls 13 and 14.
5 are provided with ribs 26, 2 for preventing falling off, respectively.
6 are formed in a line in the vertical direction at a predetermined pitch. As shown in FIG. 5, the rib 26 is also formed so as to have an upward inclination angle α.
【0020】図6に示したように、この脱落防止用のリ
ブ26は、前記ウェハ分離用のリブ21と同じ数だけ形
成されているが、それぞれ対応する前記ウェハ分離用ウ
ェハ21に比べて若干低い位置に形成され、この間に段
差dが確保されている。As shown in FIG. 6, the ribs 26 for preventing falling off are formed in the same number as the ribs 21 for separating the wafer, but are slightly different from the corresponding wafers 21 for separating the wafer. It is formed at a low position, and a step d is secured between them.
【0021】図7にも示したように、カセット本体16
の背面側に形成された枠状体15は、2本平行に立設さ
れた奥壁柱31、32と、これを上下で連結する水平板
部33、34とから構成されている。この奥壁柱31、
32には、前記側壁13、14に形成されたウェハ分離
用リブ21と同一高さにウェハ分離用リブ33が形成さ
れている。また、このリブ33は、中央部が両端部に比
べて膨出して形成されている。これらのリブ33によ
り、前記溝20と同一ピッチの溝35が縦方向に一列に
形成されている。このような奥壁柱31、32が具備さ
れることにより、ウェハWが開口部17から所定距離挿
入されると、それ以上の進入が規制される。As shown in FIG.
The frame-shaped body 15 formed on the back side of the rear wall is composed of two rear wall columns 31 and 32 erected in parallel, and horizontal plate parts 33 and 34 connecting the vertical wall columns 31 and 32 vertically. This back wall column 31,
32, a wafer separating rib 33 is formed at the same height as the wafer separating rib 21 formed on the side walls 13 and 14. Further, the rib 33 is formed so that the center portion swells as compared with both end portions. With these ribs 33, grooves 35 having the same pitch as the grooves 20 are formed in a line in the vertical direction. By providing such back wall columns 31 and 32, when the wafer W is inserted a predetermined distance from the opening 17, further entry is restricted.
【0022】本実施例のウェハ用カセット10は、上記
のように形成されているが、以下に図8および図9を参
照しながらその作用について説明する。今、このウェハ
用カセット10は、ウェハWの搬送用として使用され、
ウェハWが自動出し入れ装置等で挿入された後、搬送ベ
ルト上に載置されて、自動的に搬送される。口径φ30
0の半導体ウェハWは、図8の右方すなわち開口部17
側から隣接する2つのリブ21間の溝20の中央部付近
を通って図の左方側に挿入される。このとき、ウェハW
は上下のウェハ分離用リブ21から離反した状態で奥壁
柱31、32すなわち枠状体15に近づくように自動出
し入れ装置等で挿入される。そして、ウェハWが開口部
17から所定距離内部に挿入されると、ウェハWの先端
周縁部Waは図7においてリブ33の上に差し掛かり、
ここで、ウェハWは出し入れ装置から離反され、少しの
距離下方に移動する。すると、ウェハWは、二点鎖線で
示すように、片側二点がリブ33、21により保持され
る。すなわち、両側が計4つのリブで保持されることに
なる。このとき、ウェハWは多少撓んだとしても脱落防
止用のリブ26と何ら接触することはない。The wafer cassette 10 of this embodiment is formed as described above, and its operation will be described below with reference to FIGS. Now, the wafer cassette 10 is used for transporting the wafer W,
After the wafer W is inserted by an automatic loading / unloading device or the like, the wafer W is placed on a transport belt and transported automatically. Diameter φ30
The semiconductor wafer W of FIG.
It is inserted on the left side of the figure through the vicinity of the center of the groove 20 between two adjacent ribs 21 from the side. At this time, the wafer W
Are inserted by an automatic insertion / removal device or the like so as to approach the back wall columns 31 and 32, that is, the frame 15, while being separated from the upper and lower wafer separation ribs 21. When the wafer W is inserted into the inside of the predetermined distance from the opening 17, the peripheral edge Wa of the front end of the wafer W approaches the rib 33 in FIG.
Here, the wafer W is separated from the loading / unloading device and moves downward by a small distance. Then, as shown by a two-dot chain line, the wafer W is held at two points on one side by the ribs 33 and 21. That is, both sides are held by a total of four ribs. At this time, even if the wafer W is slightly bent, it does not come into contact with the rib 26 for preventing falling off.
【0023】このように、一枚のウェハWの周縁部が4
つのリブ21、33で保持された状態では、ウェハWと
リブとの接触面積が小さく、また、リブ21、33は内
方に向かって上向きに傾斜しているので、特に周端縁部
が尖っている未処理ウェハを収納したときでもウェハカ
セットが削られることもなく、多数のウェハWを縦方向
に整然と収容することができる。As described above, the peripheral portion of one wafer W is 4
In the state of being held by the two ribs 21 and 33, the contact area between the wafer W and the ribs is small, and since the ribs 21 and 33 are inclined inward and upward, the peripheral edge is particularly sharp. Even when the unprocessed wafers are stored, a large number of wafers W can be stored neatly in the vertical direction without cutting the wafer cassette.
【0024】ここで、ウェハWを収容したカセット本体
10は、開口部17を横方向すなわち水平方向にして搬
送ベルト等の搬送系により搬送されるが、搬送の発進
時、停止時等には、大きな速度変化により比較的大きな
振動が生じ、ウェハWの挿入側先端Waが先端のリブ3
3から外れ易くなる。あるいは、挿入側後端がカセット
本体16から一部、飛び出してしまう恐れがあるが、本
実施例によれば、先端周縁部Waは脱落防止用のリブ2
6に直ちに当接し係止されるので、ウェハWが下方に脱
落することが防止される。したがって、図9に示したよ
うに、姿勢を崩したウェハWが下方に位置する他のウェ
ハWに衝突することが防止される。Here, the cassette body 10 containing the wafer W is transported by a transport system such as a transport belt with the opening 17 in the horizontal direction, that is, in the horizontal direction. A relatively large vibration occurs due to a large speed change, and the front end Wa of the insertion side of the wafer W is
3 easily comes off. Alternatively, the rear end on the insertion side may partly protrude from the cassette body 16, but according to the present embodiment, the distal end peripheral edge Wa is provided with a rib 2 for preventing falling off.
6, the wafer W is prevented from falling down. Therefore, as shown in FIG. 9, it is possible to prevent the wafer W whose posture has been lost from colliding with another wafer W located below.
【0025】本実施例によれば、ウェハWの下面は常に
4つのリブにより点接触で保持され、他の部分は何ら接
触されていないので、ベルトコンベアなどの振動が加わ
っても、擦れ傷などができることはない。According to the present embodiment, the lower surface of the wafer W is always held in point contact by the four ribs, and the other portions are not in contact at all. There is nothing you can do.
【0026】また、ウェハWを水平方向から挿入する場
合に、先端周縁部Waがリブ21間の溝lにより案内さ
れるので、段違いに挿入されてしまうこともない。な
お、上記実施例では、2本の奥壁柱31、32の同じ高
さに、一つずつリブ33を形成しているが、枠状体15
に3つの奥壁柱を設ける場合は、それぞれにリブを設
け、3つのリブとして形成しても良く、あるいは中央の
奥壁柱には形成しなくても良い。このように、枠状体1
5にリブをいくつ設けるかは実施例に限定されない。When the wafer W is inserted in the horizontal direction, the peripheral edge Wa is guided by the groove 1 between the ribs 21, so that the wafer W is not inserted stepwise. In the above embodiment, the ribs 33 are formed one by one at the same height of the two back wall columns 31 and 32.
When three back wall pillars are provided, ribs may be provided for each of them, and may be formed as three ribs, or may not be formed on the center back wall pillar. Thus, the frame 1
The number of ribs provided in 5 is not limited to the embodiment.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導
体ウェハ用カセットでは、ウェハの下面が両側壁に設け
たウェハ分離用リブと、奥壁柱に設けたウェハ分離用の
リブのみで保持されているので、接触面積を小さくする
ことができる。As described above, in the semiconductor wafer cassette according to the present invention, the lower surface of the wafer is held only by the wafer separating rib provided on the both side walls and the wafer separating rib provided on the back wall column. As a result, the contact area can be reduced.
【0028】また、このウェハ分離用のリブの他に脱落
防止用のリブが形成されているので、ウェハ先端部がウ
ェハ分離用の2つのリブから脱落してしまった場合であ
っても、下方のウェハに衝突する以前に脱落防止用のリ
ブと当接し、それ以上下方に落下するのを防止するの
で、他のウェハが破損されたりすることはない。Further, since ribs for preventing falling off are formed in addition to the ribs for separating the wafer, even if the front end of the wafer falls off from the two ribs for separating the wafer, the lowering rib is provided. Before it collides with one of the wafers, it comes into contact with a rib for preventing falling off and prevents the wafer from dropping further downward, so that other wafers are not damaged.
【0029】また、カセット本体の両側壁に形成された
ウェハ分離用のリブには、半導体ウェハの周縁部が当接
しストッパ片となる略円弧状の段部が形成されているの
で、このウェハが搬送の途中でカセット本体から飛び出
してしまうことを防止できる。Further, the wafer separating ribs formed on both side walls of the cassette main body are formed with substantially arc-shaped steps which abut against the periphery of the semiconductor wafer and serve as stopper pieces. It can be prevented from jumping out of the cassette main body during the transportation.
【0030】また、カセット本体の両側壁に形成された
ウェハ分離用のリブは、半導体ウェハの下面が点接触し
て保持されるように、その上面が膨出して形成されてい
るのでウェハとリブとの接触面積を小さくすることがで
きるとともに、例え、未処理ウェハを搬送するような場
合であっても、角ばった未処理ウェハの周端縁によって
削られてしまうことがなく、これにより、パーティクル
の発生を防止できる。また、半導体ウェハが、搬送途中
にこすれて傷がつくことを防止できる。The wafer separating ribs formed on both side walls of the cassette main body are formed so that the upper surface is bulged so that the lower surface of the semiconductor wafer is held in point contact with the wafer. The contact area with the unprocessed wafer can be reduced, and even if the unprocessed wafer is carried, even if the unprocessed wafer is conveyed, it is not cut off by the peripheral edge of the square unprocessed wafer. Can be prevented. Further, it is possible to prevent the semiconductor wafer from being rubbed and damaged during transportation.
【図1】図1は本発明の一実施例に係る半導体ウェハ用
カセットを天板を外した状態で示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor wafer cassette according to an embodiment of the present invention with a top plate removed.
【図2】図2は同実施例に係る半導体ウェハ用カセット
の側壁部を拡大して示す破断斜視図である。FIG. 2 is an enlarged cutaway perspective view showing a side wall portion of the semiconductor wafer cassette according to the embodiment.
【図3】図3は図2に示した側壁部の水平断面図であ
る。FIG. 3 is a horizontal sectional view of a side wall shown in FIG. 2;
【図4】図4は図2に示した側壁部の縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a side wall portion shown in FIG. 2;
【図5】図5は図1に示した半導体ウェハ用カセットの
他の部分の縦断面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of another portion of the semiconductor wafer cassette shown in FIG. 1;
【図6】図6は図2に示した側壁部の正面図である。FIG. 6 is a front view of a side wall portion shown in FIG. 2;
【図7】図7(a)は図1に示した半導体ウェハ用カセ
ットの奥壁柱の正面図,図7(b)は同奥壁柱の側面図
である。7A is a front view of a back wall pillar of the semiconductor wafer cassette shown in FIG. 1, and FIG. 7B is a side view of the back wall pillar.
【図8】図8は同実施例のウェハ用カセットにウェハを
実際に挿入する際の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view when a wafer is actually inserted into the wafer cassette of the embodiment.
【図9】図9は同実施例によるウェハ用カセットにウェ
ハが挿入された状態から先端部が脱落したときの状態を
示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing a state where the leading end has dropped from a state where the wafer is inserted into the wafer cassette according to the embodiment.
【図10】図10は従来のウェハ用カセットの斜視図で
ある。FIG. 10 is a perspective view of a conventional wafer cassette.
【図11】図11は従来のウェハ用カセットにウェハを
挿入する自動出し入れ装置の概略図である。FIG. 11 is a schematic view of a conventional automatic loading / unloading apparatus for inserting a wafer into a wafer cassette.
13,14 側壁 15 枠状体 16 カセット本体 17 開口部 20 溝 21,26 ウェハ分離用リブ 22 段部 31,32 奥壁柱 33 脱落防止用リブ 13, 14 Side wall 15 Frame-like body 16 Cassette body 17 Opening 20 Groove 21, 26 Wafer separating rib 22 Step 31, 32 Back wall post 33 Rib for preventing falling off
Claims (3)
の開口部を前面部に形成したカセット本体の両側壁の内
面に、縦方向に所定幅の溝が形成されるように複数のウ
ェハ分離用のリブを具備し、前記開口部から前記溝内に
水平状態に収容された半導体ウェハを搬送する半導体ウ
ェハ用カセットであって、 前記複数のウェハ分離用のリブを、前記カセット本体の
両側壁の各内面に、それぞれ縦方向に一列に形成すると
ともに、前記開口部と対向する前記半導体ウェハの先端
周縁部が当接して該半導体ウェハのそれ以上の進入を規
制する位置に設けられた奥壁柱に、複数のウェハ分離用
のリブを所定距離離して縦方向に形成し、さらに前記両
側壁のウェハ分離用のリブと前記奥壁柱のウェハ分離用
のリブとの間に、これらのリブより所定高さ低くなるよ
うに脱落防止用のリブを形成し、前記両側壁に形成した
ウェハ分離用のリブと前記奥壁柱に形成したウェハ分離
用のリブとで一枚の前記半導体ウェハの下面を保持する
とともに、この半導体ウェハの一部が前記開口部から外
方に一部はみ出したときに、この半導体ウェハが前記脱
落防止用のリブと前記両側壁に形成した前記ウェハ分離
用のリブとにより保持されるようにしたことを特徴とす
る半導体ウェハ用カセット。1. A plurality of wafer separating means for forming a groove of a predetermined width in a vertical direction on an inner surface of both side walls of a cassette body having an opening for inserting a semiconductor wafer in a horizontal direction formed in a front part thereof. A semiconductor wafer cassette for transporting a semiconductor wafer housed horizontally in the groove from the opening, wherein the plurality of wafer separating ribs are formed on both side walls of the cassette body. A back wall column formed on each inner surface in a line in the vertical direction, and provided at a position where the peripheral edge of the front end of the semiconductor wafer opposed to the opening abuts to restrict further entry of the semiconductor wafer. A plurality of wafer separating ribs are formed in the vertical direction at a predetermined distance from each other, and between the wafer separating ribs on the both side walls and the wafer separating rib on the back wall column, Prescribed height low A rib for preventing falling off is formed so that a lower surface of the semiconductor wafer is held by a rib for separating the wafer formed on the both side walls and a rib for separating the wafer formed on the back wall column. When a part of the semiconductor wafer protrudes outward from the opening, the semiconductor wafer is held by the drop-off preventing ribs and the wafer separating ribs formed on the both side walls. A cassette for semiconductor wafers, characterized in that:
ウェハ分離用のリブには、半導体ウェハの周縁部が当接
しストッパ片となる略円弧状の段部が形成されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェハ用カセッ
ト。2. The wafer separating ribs formed on both side walls of the cassette main body are formed with substantially arc-shaped steps which abut against the periphery of the semiconductor wafer and serve as stopper pieces. The cassette for a semiconductor wafer according to claim 1.
に形成されたウェハ分離用のリブは、半導体ウェハの下
面が点接触して保持されるように、その上面が膨出して
形成されていることを特徴とする請求項1および請求項
2に記載の半導体ウェハ用カセット。3. The wafer separating ribs formed on both side walls and the back wall pillar of the cassette body are formed such that their upper surfaces are bulged so that the lower surfaces of the semiconductor wafers are held in point contact. The cassette for a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the cassette is provided.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25340696A JPH1098096A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Semiconductor wafer cassette |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25340696A JPH1098096A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Semiconductor wafer cassette |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1098096A true JPH1098096A (en) | 1998-04-14 |
Family
ID=17250947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25340696A Withdrawn JPH1098096A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Semiconductor wafer cassette |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1098096A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG81942A1 (en) * | 1997-10-20 | 2001-07-24 | Fluoroware Inc | Wafer carrier with minimal contact |
-
1996
- 1996-09-25 JP JP25340696A patent/JPH1098096A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG81942A1 (en) * | 1997-10-20 | 2001-07-24 | Fluoroware Inc | Wafer carrier with minimal contact |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |