JPH1092735A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH1092735A JPH1092735A JP26550196A JP26550196A JPH1092735A JP H1092735 A JPH1092735 A JP H1092735A JP 26550196 A JP26550196 A JP 26550196A JP 26550196 A JP26550196 A JP 26550196A JP H1092735 A JPH1092735 A JP H1092735A
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- gas
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感光基板の位置計測精度を向上させること。
【解決手段】 感光基板（４２）の第１の方向の位置を
計測する第１の干渉計（６１，６３，６８，７２）と、
感光基板（４２）の第１の方向と直交する第２の方向の
位置を計測する第２の干渉計（６２，６４，７０，７
２）と、所定の温度に温度調整された気体を感光基板
（４２）側に対して供給する気体供給手段（７４）とを
備える。そして、気体供給手段（７４）から供給される
気体の一部を第１の干渉計の光路を含む感光基板（４
２）周辺全体に導く第１の気体ガイド手段（７６）と、
気体供給手段（７４）から供給される気体の一部を第２
の干渉計の光路付近に独立して導く第２の気体ガイド手
段（７８）とを備える。
計測する第１の干渉計（６１，６３，６８，７２）と、
感光基板（４２）の第１の方向と直交する第２の方向の
位置を計測する第２の干渉計（６２，６４，７０，７
２）と、所定の温度に温度調整された気体を感光基板
（４２）側に対して供給する気体供給手段（７４）とを
備える。そして、気体供給手段（７４）から供給される
気体の一部を第１の干渉計の光路を含む感光基板（４
２）周辺全体に導く第１の気体ガイド手段（７６）と、
気体供給手段（７４）から供給される気体の一部を第２
の干渉計の光路付近に独立して導く第２の気体ガイド手
段（７８）とを備える。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマスクに形成された
パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に転写す
る露光装置に関し、特に、感光基板の位置を計測する干
渉計付近の空調機構の改良に関する。
パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に転写す
る露光装置に関し、特に、感光基板の位置を計測する干
渉計付近の空調機構の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、露光装置においては、マスク上
のパターンを感光基板上の所定の位置に正確に露光する
ために、干渉計を用いて感光基板の位置を計測してい
る。干渉計を用いた計測において、干渉計光路付近の温
度差によって空気揺らぎが発生すると、計測された値に
誤差が生じることになる。すなわち、計測精度を高く維
持するためには、計測用の光の光路付近の空気の屈折率
揺らぎを防ぐことが重要となる。
のパターンを感光基板上の所定の位置に正確に露光する
ために、干渉計を用いて感光基板の位置を計測してい
る。干渉計を用いた計測において、干渉計光路付近の温
度差によって空気揺らぎが発生すると、計測された値に
誤差が生じることになる。すなわち、計測精度を高く維
持するためには、計測用の光の光路付近の空気の屈折率
揺らぎを防ぐことが重要となる。
【０００３】図５及び図６は、従来の露光装置における
基板ステージ周辺の空調機構の構成を示す。この露光装
置は、マスク（図示せず）上に形成されたパターンを部
材１０に支持された投影レンズ１２によって感光基板１
４上に転写するようになっている。感光基板１４は、図
５及び図６の左右方向（Ｘ軸方向）に移動可能なＸステ
ージ１６上に載置されている。また、Ｘステージ１６
は、Ｘ軸と垂直なＹ軸方向（図５の上下方向）に移動可
能なＹステージ１８上に載置されており、Ｘステージ１
６及びＹステージ１８は図示しない駆動系によって駆動
される。投影レンズ１２の外周部には、Ｘ方向及びＹ方
向に反射面を有する固定鏡２０，２２が設置されてい
る。また、Ｘステージ１６上には、Ｘ方向及びＹ方向に
反射面を有する移動鏡２４，２６が設置されている。
基板ステージ周辺の空調機構の構成を示す。この露光装
置は、マスク（図示せず）上に形成されたパターンを部
材１０に支持された投影レンズ１２によって感光基板１
４上に転写するようになっている。感光基板１４は、図
５及び図６の左右方向（Ｘ軸方向）に移動可能なＸステ
ージ１６上に載置されている。また、Ｘステージ１６
は、Ｘ軸と垂直なＹ軸方向（図５の上下方向）に移動可
能なＹステージ１８上に載置されており、Ｘステージ１
６及びＹステージ１８は図示しない駆動系によって駆動
される。投影レンズ１２の外周部には、Ｘ方向及びＹ方
向に反射面を有する固定鏡２０，２２が設置されてい
る。また、Ｘステージ１６上には、Ｘ方向及びＹ方向に
反射面を有する移動鏡２４，２６が設置されている。
【０００４】固定鏡２０，２２及び移動鏡２４，２６に
は、ビームスプリッタ２８，３０を介して、干渉計（光
源）３２から射出される計測用のレーザ光が入射するよ
うになっている。すなわち、干渉計３２から射出された
レーザ光の一方は、ビームスプリッタ２８において２つ
の光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡２０と移動
鏡２４に入射する。また、干渉計３２から射出されたレ
ーザ光の他方は、ビームスプリッタ３０において２つの
光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡２２と移動鏡
２６に入射する。そして、固定鏡２０と移動鏡２４で反
射したレーザ光は、再びビームスプリッタ２８において
合成され、Ｘ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計３
２に戻る。また、同様にして、固定鏡２２と移動鏡２６
で反射したレーザ光は、ビームスプリッタ３０において
合成され、Ｙ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計３
２に戻る。干渉計３２においては、Ｘ，Ｙ両方向の検出
光の干渉状態からＸステージ１６、すなわち感光基板１
４の水平２次元方向位置を計測する。
は、ビームスプリッタ２８，３０を介して、干渉計（光
源）３２から射出される計測用のレーザ光が入射するよ
うになっている。すなわち、干渉計３２から射出された
レーザ光の一方は、ビームスプリッタ２８において２つ
の光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡２０と移動
鏡２４に入射する。また、干渉計３２から射出されたレ
ーザ光の他方は、ビームスプリッタ３０において２つの
光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡２２と移動鏡
２６に入射する。そして、固定鏡２０と移動鏡２４で反
射したレーザ光は、再びビームスプリッタ２８において
合成され、Ｘ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計３
２に戻る。また、同様にして、固定鏡２２と移動鏡２６
で反射したレーザ光は、ビームスプリッタ３０において
合成され、Ｙ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計３
２に戻る。干渉計３２においては、Ｘ，Ｙ両方向の検出
光の干渉状態からＸステージ１６、すなわち感光基板１
４の水平２次元方向位置を計測する。
【０００５】次に、上記のような構成の露光装置の空調
系の構成について説明する。ビームスプリッタ２８の後
方には、空気吹き出し部３４が備えられ、温度調整され
た空気を感光基板１４側に供給するようになっている。
空気吹き出し部３４から送り出された空気は、整流板３
６によって感光基板１４の周辺に送り込まれるようにな
っている。整流板３６は、空気の上流から下流に向かっ
て傾斜しており、空気吹き出し部３４から送り出された
空気を、主に、干渉計３２の光路付近に導くようになっ
ている。感光基板１４周辺に送り込まれた空気は、排気
部３８から外部に排出されるようになっている。
系の構成について説明する。ビームスプリッタ２８の後
方には、空気吹き出し部３４が備えられ、温度調整され
た空気を感光基板１４側に供給するようになっている。
空気吹き出し部３４から送り出された空気は、整流板３
６によって感光基板１４の周辺に送り込まれるようにな
っている。整流板３６は、空気の上流から下流に向かっ
て傾斜しており、空気吹き出し部３４から送り出された
空気を、主に、干渉計３２の光路付近に導くようになっ
ている。感光基板１４周辺に送り込まれた空気は、排気
部３８から外部に排出されるようになっている。
【０００６】以上のように、図５及び図６に示す従来の
露光装置においては、整流板３６を用い、温度調整され
た空気を干渉計の光路周辺に導いているため、計測用の
レーザ光の光路付近の空気の屈折率揺らぎを防ぐことが
でき、干渉計３２による精度向上に寄与する。
露光装置においては、整流板３６を用い、温度調整され
た空気を干渉計の光路周辺に導いているため、計測用の
レーザ光の光路付近の空気の屈折率揺らぎを防ぐことが
でき、干渉計３２による精度向上に寄与する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、感光基
板の位置合わせ精度に対する要求が更に高まった現在に
おいては、上記のような従来の露光装置では不十分であ
った。すなわち、図５及び図６に示すような従来の露光
装置においては、整流板３６を用いて温度調整された空
気がＸ軸方向の位置を計測するための固定鏡２０と移動
鏡２４の周辺には供給されるものの、Ｙ軸方向の位置を
計測するための固定鏡２２と移動鏡２６の周辺には十分
に供給されない。このため、Ｙ軸方向の干渉計光路で数
ナノオーダの空気揺らぎが発生し、比較的大きな計測誤
差を生じる。その結果、露光装置全体としては、マスク
（不図示）と感光基板１４との相対的なアライメント精
度が低下するという不都合がある。
板の位置合わせ精度に対する要求が更に高まった現在に
おいては、上記のような従来の露光装置では不十分であ
った。すなわち、図５及び図６に示すような従来の露光
装置においては、整流板３６を用いて温度調整された空
気がＸ軸方向の位置を計測するための固定鏡２０と移動
鏡２４の周辺には供給されるものの、Ｙ軸方向の位置を
計測するための固定鏡２２と移動鏡２６の周辺には十分
に供給されない。このため、Ｙ軸方向の干渉計光路で数
ナノオーダの空気揺らぎが発生し、比較的大きな計測誤
差を生じる。その結果、露光装置全体としては、マスク
（不図示）と感光基板１４との相対的なアライメント精
度が低下するという不都合がある。
【０００８】本発明は上記のような状況に鑑みて成され
たものであり、感光基板の位置計測精度の高い露光装置
を提供することを目的とする。
たものであり、感光基板の位置計測精度の高い露光装置
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の露光装置は、感光基板（４２）の第１の方
向の位置を計測する第１の干渉計（６１，６３，６８，
７２）と；感光基板（４２）の第１の方向と直交する第
２の方向の位置を計測する第２の干渉計（６２，６４，
７０，７２）と；所定の温度に温度調整された気体を感
光基板（４２）側に対して供給する気体供給手段（７
４）と；気体供給手段（７４）から供給される気体の一
部を第１の干渉計の光路を含む感光基板（４２）周辺全
体に導く第１の気体ガイド手段（７６）と；気体供給手
段（７４）から供給される気体の一部を第２の干渉計の
光路付近に独立して導く第２の気体ガイド手段（７８）
とを備えている。
に、本発明の露光装置は、感光基板（４２）の第１の方
向の位置を計測する第１の干渉計（６１，６３，６８，
７２）と；感光基板（４２）の第１の方向と直交する第
２の方向の位置を計測する第２の干渉計（６２，６４，
７０，７２）と；所定の温度に温度調整された気体を感
光基板（４２）側に対して供給する気体供給手段（７
４）と；気体供給手段（７４）から供給される気体の一
部を第１の干渉計の光路を含む感光基板（４２）周辺全
体に導く第１の気体ガイド手段（７６）と；気体供給手
段（７４）から供給される気体の一部を第２の干渉計の
光路付近に独立して導く第２の気体ガイド手段（７８）
とを備えている。
【００１０】上記のような露光装置において、第１の気
体ガイド手段（７６）としては、気体を第１の干渉計の
光路を含む感光基板（４２）周辺全体に導く整流板（８
０，８２）を有する構成とすることが出来る。また、第
２の気体ガイド手段（７８）としては、気体の一部を第
２の干渉計の光路付近に導く断熱性のダクト（８３，８
４）とすることが望ましい。
体ガイド手段（７６）としては、気体を第１の干渉計の
光路を含む感光基板（４２）周辺全体に導く整流板（８
０，８２）を有する構成とすることが出来る。また、第
２の気体ガイド手段（７８）としては、気体の一部を第
２の干渉計の光路付近に導く断熱性のダクト（８３，８
４）とすることが望ましい。
【００１１】また、断熱性のダクト（７８）は、気体を
略水平に導く筒状の本体部（８３）と、当該本体部（８
３）によって導かれた気体を第２の干渉計の光路側に対
して上方より送り込む傾斜部（８４）とで構成すること
が出来る。また、断熱性のダクト（７８）の吹き出し口
（８６）を第２の干渉計の光路に沿って配置することが
望ましい。
略水平に導く筒状の本体部（８３）と、当該本体部（８
３）によって導かれた気体を第２の干渉計の光路側に対
して上方より送り込む傾斜部（８４）とで構成すること
が出来る。また、断熱性のダクト（７８）の吹き出し口
（８６）を第２の干渉計の光路に沿って配置することが
望ましい。
【００１２】上記露光装置は、感光基板（４２）を載置
する基板ステージ（５７）と、当該基板ステージ（５
７）に設置された第１及び第２の移動鏡（６３，６４）
と、投影光学系（４６）に設置された第１及び第２の固
定鏡（６１，６２）と、投影光学系（４６）の外周部全
体を覆う投影光学系保持部材（６５）とを更に備え、第
１の干渉計（６８，７２）は、第１の移動鏡（６３）と
第１の固定鏡（６１）に対して計測用の光を投射し、こ
れら第１の移動鏡（６３）と第１の固定鏡（６１）で反
射した光を合成し、当該合成した光の干渉状態に基づい
て、基板ステージ（５７）の第１の方向（Ｘ軸方向）の
位置を計測するように構成し、第２の干渉計（７０，７
２）は、第２の移動鏡（６４）と第２の固定鏡（６２）
に対して計測用の光を投射し、これら第２の移動鏡（６
４）と第２の固定鏡（６２）で反射した光を合成し、当
該合成した光の干渉状態に基づいて、基板ステージ（５
７）の第２の方向（Ｙ軸方向）の位置を計測するように
構成し、断熱性のダクト（７８）は、当該ダクト（７
８）によって導かれる気体が第２の固定鏡（６２）の反
射面付近にまで達するように、投影光学系保持部材（６
５）の一部に入り込んだ状態で設置することが望まし
い。
する基板ステージ（５７）と、当該基板ステージ（５
７）に設置された第１及び第２の移動鏡（６３，６４）
と、投影光学系（４６）に設置された第１及び第２の固
定鏡（６１，６２）と、投影光学系（４６）の外周部全
体を覆う投影光学系保持部材（６５）とを更に備え、第
１の干渉計（６８，７２）は、第１の移動鏡（６３）と
第１の固定鏡（６１）に対して計測用の光を投射し、こ
れら第１の移動鏡（６３）と第１の固定鏡（６１）で反
射した光を合成し、当該合成した光の干渉状態に基づい
て、基板ステージ（５７）の第１の方向（Ｘ軸方向）の
位置を計測するように構成し、第２の干渉計（７０，７
２）は、第２の移動鏡（６４）と第２の固定鏡（６２）
に対して計測用の光を投射し、これら第２の移動鏡（６
４）と第２の固定鏡（６２）で反射した光を合成し、当
該合成した光の干渉状態に基づいて、基板ステージ（５
７）の第２の方向（Ｙ軸方向）の位置を計測するように
構成し、断熱性のダクト（７８）は、当該ダクト（７
８）によって導かれる気体が第２の固定鏡（６２）の反
射面付近にまで達するように、投影光学系保持部材（６
５）の一部に入り込んだ状態で設置することが望まし
い。
【００１３】
【作用及び効果】上記のような構成の本発明の露光装置
によれば、第１及び第２の方向の干渉計光路に対して、
温度調整された空気が十分に供給されるため、当該光路
付近の空気の屈折率揺らぎを良好に防ぐことができ、干
渉計（７２）による計測精度の向上を図ることができ
る。その結果、露光装置全体としては、マスク（４０）
と感光基板（４２）との相対的なアライメント精度が向
上するという効果がある。特に、第２の気体ガイド手段
として、断熱性のダクトを用いれば、周囲の温度による
影響を受けることなく、温度調整された気体をそのまま
の状態で第２の干渉計光路まで導くことが可能となる。
また、本発明の更に具体的態様において、断熱性のダク
ト（７８）を投影光学系保持部材（６５）の一部に入り
込んだ状態で設置することにより、当該ダクト（７８）
によって導かれる気体が第２の固定鏡（６２）の反射面
付近にまで達するようになる。これにより、第２の干渉
計の光路全体に対して温度調整された気体が供給される
ことになり、当該光路での空気揺らぎを最小限に抑える
ことが出来る。
によれば、第１及び第２の方向の干渉計光路に対して、
温度調整された空気が十分に供給されるため、当該光路
付近の空気の屈折率揺らぎを良好に防ぐことができ、干
渉計（７２）による計測精度の向上を図ることができ
る。その結果、露光装置全体としては、マスク（４０）
と感光基板（４２）との相対的なアライメント精度が向
上するという効果がある。特に、第２の気体ガイド手段
として、断熱性のダクトを用いれば、周囲の温度による
影響を受けることなく、温度調整された気体をそのまま
の状態で第２の干渉計光路まで導くことが可能となる。
また、本発明の更に具体的態様において、断熱性のダク
ト（７８）を投影光学系保持部材（６５）の一部に入り
込んだ状態で設置することにより、当該ダクト（７８）
によって導かれる気体が第２の固定鏡（６２）の反射面
付近にまで達するようになる。これにより、第２の干渉
計の光路全体に対して温度調整された気体が供給される
ことになり、当該光路での空気揺らぎを最小限に抑える
ことが出来る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を以下
に示す実施例に基づいて説明する。
に示す実施例に基づいて説明する。
【００１５】
【実施例】図１は、本実施例の投影露光装置の全体構成
を示す。この露光装置は、マスク４０に形成されたパタ
ーンをフォトレジストが塗布された感光基板４２上に投
影露光するものであり、感光基板４２上のレジスト層を
感光する波長（露光波長）の照明光ＩＬを射出する露光
用の照明系４４と、マスク４０のパターンを感光基板４
２上に結像させる投影光学系４６とを備えている。照明
系４４は、例えば、ｇ線,ｉ線あるいは紫外線パルス光
（ＫｒＦエキシマレーザ等）などの光を発生する超高圧
水銀ランプ,エキシマレーザ等の光源と、当該光源から
射出した照明光ＩＬの一様化及びスペクトルの低減化等
を施すフライアイレンズと、メインコンデンサレンズ等
から構成される。
を示す。この露光装置は、マスク４０に形成されたパタ
ーンをフォトレジストが塗布された感光基板４２上に投
影露光するものであり、感光基板４２上のレジスト層を
感光する波長（露光波長）の照明光ＩＬを射出する露光
用の照明系４４と、マスク４０のパターンを感光基板４
２上に結像させる投影光学系４６とを備えている。照明
系４４は、例えば、ｇ線,ｉ線あるいは紫外線パルス光
（ＫｒＦエキシマレーザ等）などの光を発生する超高圧
水銀ランプ,エキシマレーザ等の光源と、当該光源から
射出した照明光ＩＬの一様化及びスペクトルの低減化等
を施すフライアイレンズと、メインコンデンサレンズ等
から構成される。
【００１６】本実施例の露光装置において、マスク４０
はマスクステージ４８上のマスクホルダ５０に吸着固定
され、駆動系５２によって少なくともＸＹの二次元平面
（紙面に垂直な面）内で移動可能となっていえる。マス
クステージ４８上には、移動鏡５４が設置されており、
干渉計５６によって当該ステージ４８の位置を計測する
ようになっている。すなわち、干渉計５６から射出され
たレーザ光を移動鏡５４に対して照射し、当該移動鏡５
４で反射した光に基づいて、マスクステージ４８の移動
量を計測する。
はマスクステージ４８上のマスクホルダ５０に吸着固定
され、駆動系５２によって少なくともＸＹの二次元平面
（紙面に垂直な面）内で移動可能となっていえる。マス
クステージ４８上には、移動鏡５４が設置されており、
干渉計５６によって当該ステージ４８の位置を計測する
ようになっている。すなわち、干渉計５６から射出され
たレーザ光を移動鏡５４に対して照射し、当該移動鏡５
４で反射した光に基づいて、マスクステージ４８の移動
量を計測する。
【００１７】感光基板４２は、図の左右方向（Ｘ軸方
向）に移動可能なＸステージ５７上に載置され、Ｘステ
ージ５７は、Ｘ軸と垂直なＹ軸方向に移動可能なＹステ
ージ５８上に載置されている。Ｘステージ５７及びＹス
テージ５８は、それぞれ駆動系５９，６０によって駆動
される。投影レンズ４６の下端外周部には、Ｘ方向及び
Ｙ方向に反射面を有する固定鏡６１，６２（図２参照）
が設置されている。一方、Ｘステージ５７上には、Ｘ方
向及びＹ方向に反射面を有する移動鏡６３，６４が設置
されている。
向）に移動可能なＸステージ５７上に載置され、Ｘステ
ージ５７は、Ｘ軸と垂直なＹ軸方向に移動可能なＹステ
ージ５８上に載置されている。Ｘステージ５７及びＹス
テージ５８は、それぞれ駆動系５９，６０によって駆動
される。投影レンズ４６の下端外周部には、Ｘ方向及び
Ｙ方向に反射面を有する固定鏡６１，６２（図２参照）
が設置されている。一方、Ｘステージ５７上には、Ｘ方
向及びＹ方向に反射面を有する移動鏡６３，６４が設置
されている。
【００１８】図２及び図３は、上記投影露光装置の基板
ステージ（５７，５８）周辺の構成を示す。図におい
て、投影レンズ４６は保持部材６５を介して架台６６に
固定されている。架台６６の脚の下には定盤（図示せ
ず）が設けられ、その上にＹステージ５８が設置され
る。また、架台６６の脚の後方には密閉板が設置され、
また前方には感光基板４２の搬送用の開口部を有する密
閉板が設置されている。従って、図２及び図３に示した
部分の構成は、基本的には外部から遮断された状態とな
っている。
ステージ（５７，５８）周辺の構成を示す。図におい
て、投影レンズ４６は保持部材６５を介して架台６６に
固定されている。架台６６の脚の下には定盤（図示せ
ず）が設けられ、その上にＹステージ５８が設置され
る。また、架台６６の脚の後方には密閉板が設置され、
また前方には感光基板４２の搬送用の開口部を有する密
閉板が設置されている。従って、図２及び図３に示した
部分の構成は、基本的には外部から遮断された状態とな
っている。
【００１９】固定鏡６１，６２及び移動鏡６３，６４に
は、ビームスプリッタ６８，７０を介して、干渉計（光
源）７２から射出される計測用のレーザ光が入射するよ
うになっている。すなわち、干渉計７２から射出された
レーザ光の一方は、ビームスプリッタ６８において２つ
の光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡６１と移動
鏡６３に入射する。また、干渉計７２から射出されたレ
ーザ光の他方は、ビームスプリッタ７０において２つの
光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡６２と移動鏡
６４に入射する。そして、固定鏡６１と移動鏡６３とで
反射したレーザ光は、再びビームスプリッタ６８におい
て合成され、Ｘ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計
７２に戻る。また、同様にして、固定鏡６２と移動鏡６
４とで反射したレーザ光は、ビームスプリッタ７０にお
いて合成され、Ｙ軸方向の検出光（干渉光）として干渉
計７２に戻る。干渉計７２においては、Ｘ，Ｙ両方向の
検出光の干渉状態からＸステージ５７、すなわち感光基
板４２の水平２次元方向位置を計測する。
は、ビームスプリッタ６８，７０を介して、干渉計（光
源）７２から射出される計測用のレーザ光が入射するよ
うになっている。すなわち、干渉計７２から射出された
レーザ光の一方は、ビームスプリッタ６８において２つ
の光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡６１と移動
鏡６３に入射する。また、干渉計７２から射出されたレ
ーザ光の他方は、ビームスプリッタ７０において２つの
光束に分割され、それぞれの光束が固定鏡６２と移動鏡
６４に入射する。そして、固定鏡６１と移動鏡６３とで
反射したレーザ光は、再びビームスプリッタ６８におい
て合成され、Ｘ軸方向の検出光（干渉光）として干渉計
７２に戻る。また、同様にして、固定鏡６２と移動鏡６
４とで反射したレーザ光は、ビームスプリッタ７０にお
いて合成され、Ｙ軸方向の検出光（干渉光）として干渉
計７２に戻る。干渉計７２においては、Ｘ，Ｙ両方向の
検出光の干渉状態からＸステージ５７、すなわち感光基
板４２の水平２次元方向位置を計測する。
【００２０】ビームスプリッタ６８のＸ側後方には、不
図示のＨＥＰＡ（High EfficiencyParticulate Air）を
通過した温度調整された空気を基板ステージ（５７，５
８）側に供給する空気吹き出し部７４が備えられてい
る。空気吹き出し部７４から送出される空気は、整流板
７６と断熱ダクト７８によってそれぞれ所定の位置に導
かれるようになっている。
図示のＨＥＰＡ（High EfficiencyParticulate Air）を
通過した温度調整された空気を基板ステージ（５７，５
８）側に供給する空気吹き出し部７４が備えられてい
る。空気吹き出し部７４から送出される空気は、整流板
７６と断熱ダクト７８によってそれぞれ所定の位置に導
かれるようになっている。
【００２１】図４は、空気吹き出し部７４から供給され
る温度調整された空気を、Ｘ軸用の干渉計光路を含む基
板ステージ（５７，５８）全体にガイドする整流板７６
と、Ｙ軸用の干渉計光路近傍にガイドする断熱ダクト７
８の構成（形状）を示す。整流板７６は、空気吹き出し
部７４から送り出された直後の空気を固定鏡６１，６２
の反射面の高さまで斜めに降下させる傾斜部８０と、傾
斜部に８０によって導かれた空気をＸＹ平面に略水平、
且つＸ軸に略平行に導く平板部８２とから構成されてい
る。平板部８２の端部は、固定鏡５６の反射面まで達す
るように配慮されており、ビームスプリッタ６８と固定
鏡６１及び移動鏡６３との間のレーザ光の光路に対し
て、温度調整された空気が十分に流し込まれるようにな
っている。
る温度調整された空気を、Ｘ軸用の干渉計光路を含む基
板ステージ（５７，５８）全体にガイドする整流板７６
と、Ｙ軸用の干渉計光路近傍にガイドする断熱ダクト７
８の構成（形状）を示す。整流板７６は、空気吹き出し
部７４から送り出された直後の空気を固定鏡６１，６２
の反射面の高さまで斜めに降下させる傾斜部８０と、傾
斜部に８０によって導かれた空気をＸＹ平面に略水平、
且つＸ軸に略平行に導く平板部８２とから構成されてい
る。平板部８２の端部は、固定鏡５６の反射面まで達す
るように配慮されており、ビームスプリッタ６８と固定
鏡６１及び移動鏡６３との間のレーザ光の光路に対し
て、温度調整された空気が十分に流し込まれるようにな
っている。
【００２２】断熱ダクト７８は、断熱性の材質によって
筒状に整形され、空気吹き出し部７４から送り出された
直後の空気の一部をＸＹ平面に略水平に導く角筒状の本
体部８３と、本体部８３によって導かれた空気を下方に
導く傾斜部８４とを備えている。傾斜部８４は、投影レ
ンズ４６を保持する保持部材６５の一部に入り込むよう
な状態で設置され、これによって固定鏡６２の反射面ま
で温度調整された空気が十分に導かれるようになってい
る。傾斜部８４の下方先端部には、気体を下方に送風す
る吹き出し口８６が形成され、固定鏡６２及び移動鏡６
４とビームスプリッタ７０の間のレーザ光の光路に対し
て、略垂直上方から当該空気を直接送り込むようになっ
ている。吹き出し口８６は、その長手方向が、固定鏡６
２及び移動鏡６４とビームスプリッタ７０間のレーザ光
の光路に平行になるように配置されている。
筒状に整形され、空気吹き出し部７４から送り出された
直後の空気の一部をＸＹ平面に略水平に導く角筒状の本
体部８３と、本体部８３によって導かれた空気を下方に
導く傾斜部８４とを備えている。傾斜部８４は、投影レ
ンズ４６を保持する保持部材６５の一部に入り込むよう
な状態で設置され、これによって固定鏡６２の反射面ま
で温度調整された空気が十分に導かれるようになってい
る。傾斜部８４の下方先端部には、気体を下方に送風す
る吹き出し口８６が形成され、固定鏡６２及び移動鏡６
４とビームスプリッタ７０の間のレーザ光の光路に対し
て、略垂直上方から当該空気を直接送り込むようになっ
ている。吹き出し口８６は、その長手方向が、固定鏡６
２及び移動鏡６４とビームスプリッタ７０間のレーザ光
の光路に平行になるように配置されている。
【００２３】上記のような構成の露光装置において、空
気吹き出し部７４から供給される温度調整された空気の
一部は、整流板７６によってＸ軸方向の干渉計光路（固
定鏡５６及び移動鏡６０とビームスプリッタ６８との
間）の周辺に導かれる。また、空気吹き出し部７４から
供給される空気の他の一部は、断熱ダクト７８によって
Ｙ軸方向の干渉計光路（固定鏡５８及び移動鏡６２とビ
ームスプリッタ７０との間）の周辺に独立して導かれ
る。そして、このように基板ステージ（５７，５８）周
辺を通過した空気は、排気部８８から外部に排出され
る。
気吹き出し部７４から供給される温度調整された空気の
一部は、整流板７６によってＸ軸方向の干渉計光路（固
定鏡５６及び移動鏡６０とビームスプリッタ６８との
間）の周辺に導かれる。また、空気吹き出し部７４から
供給される空気の他の一部は、断熱ダクト７８によって
Ｙ軸方向の干渉計光路（固定鏡５８及び移動鏡６２とビ
ームスプリッタ７０との間）の周辺に独立して導かれ
る。そして、このように基板ステージ（５７，５８）周
辺を通過した空気は、排気部８８から外部に排出され
る。
【００２４】上記のように本実施例によれば、Ｘ軸及び
Ｙ軸の両方向の干渉計光路に対して、温度調整された空
気が十分に供給されるため、当該光路付近の空気の屈折
率揺らぎを良好に防ぐことができ、干渉計７２による計
測精度の向上を図ることができる。その結果、露光装置
全体としては、マスク４０と感光基板４２との相対的な
アライメント精度が向上するという効果がある。
Ｙ軸の両方向の干渉計光路に対して、温度調整された空
気が十分に供給されるため、当該光路付近の空気の屈折
率揺らぎを良好に防ぐことができ、干渉計７２による計
測精度の向上を図ることができる。その結果、露光装置
全体としては、マスク４０と感光基板４２との相対的な
アライメント精度が向上するという効果がある。
【００２５】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想とし
ての要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想とし
ての要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【図１】図１は、本発明の実施例にかかる露光装置の構
成を示す構成図（正面図）である。
成を示す構成図（正面図）である。
【図２】図２は、実施例の露光装置における基板ステー
ジ周辺の構成を示す平面図である。
ジ周辺の構成を示す平面図である。
【図３】図３は、実施例の露光装置における基板ステー
ジ周辺の構成を示す正面図である。
ジ周辺の構成を示す正面図である。
【図４】図４は、実施例の要部である空調機構の一部の
構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
【図５】図５は、従来の露光装置における基板ステージ
周辺の構成を示す平面図である。
周辺の構成を示す平面図である。
【図６】図６は、従来の露光装置における基板ステージ
周辺の構成を示す正面図である。
周辺の構成を示す正面図である。
４０・・・マスク ４２・・・感光基板 ４４・・・照明系 ４６・・・投影レンズ ５７・・・Ｘステージ ５８・・・Ｙステージ ６５・・・保持部材 ６１，６２・・・固定鏡 ６３，６４・・・移動鏡 ６８，７０・・・ビームスプリッタ ７２・・・干渉計 ７４・・・空気吹き出し部 ７６・・・整流板 ７８・・・断熱ダクト ８０・・・傾斜部 ８２・・・平坦部 ８３・・・（ダクト）本体部 ８４・・・傾斜部 ８６・・・吹き出し口 ８８・・・排気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｈ
Claims (6)
- 【請求項１】マスクに形成されたパターンの像を投影光
学系を介して感光基板上に転写する露光装置において、 前記感光基板の第１の方向の位置を計測する第１の干渉
計と；前記感光基板の前記第１の方向と直交する第２の
方向の位置を計測する第２の干渉計と；所定の温度に温
度調整された気体を前記感光基板側に対して供給する気
体供給手段と；前記気体供給手段から供給される前記気
体の一部を前記第１の干渉計の光路を含む前記感光基板
周辺全体に導く第１の気体ガイド手段と；前記気体供給
手段から供給される前記気体の一部を前記第２の干渉計
の光路付近に独立して導く第２の気体ガイド手段とを備
えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記第１の気体ガイド手段は、前記気体を
前記第１の干渉計の光路を含む前記感光基板周辺全体に
導く整流板を有することを特徴とする請求項１に記載の
露光装置。 - 【請求項３】前記第２の気体ガイド手段は、前記気体の
一部を前記第２の干渉計の光路付近に導く断熱性のダク
トであることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光
装置。 - 【請求項４】前記断熱性のダクトは、前記気体を略水平
に導く筒状の本体部と、当該本体部によって導かれた前
記気体を前記第２の干渉計の光路側に対して上方より送
り込む傾斜部とを有することを特徴とする請求項３に記
載の露光装置。 - 【請求項５】前記断熱性のダクトの吹き出し口が前記第
２の干渉計の光路に沿って配置されていることを特徴と
する請求項３又は４に記載の露光装置。 - 【請求項６】前記感光基板を載置する基板ステージと、
当該基板ステージに設置された第１及び第２の移動鏡
と、前記投影光学系に設置された第１及び第２の固定鏡
と、前記投影光学系の外周部全体を覆う投影光学系保持
部材とを更に備え、 前記第１の干渉計は、前記第１の移動鏡と前記第１の固
定鏡に対して計測用の光を投射し、これら第１の移動鏡
と第１の固定鏡で反射した光を合成し、当該合成した光
の干渉状態に基づいて、前記基板ステージの前記第１の
方向の位置を計測するように構成され、 前記第２の干渉計は、前記第２の移動鏡と前記第２の固
定鏡に対して計測用の光を投射し、これら第２の移動鏡
と第２の固定鏡で反射した光を合成し、当該合成した光
の干渉状態に基づいて、前記基板ステージの前記第２の
方向の位置を計測するように構成され、 前記断熱性のダクトは、当該ダクトによって導かれる前
記気体が前記第２の固定鏡の反射面付近にまで達するよ
うに、前記投影光学系保持部材の一部に入り込んだ状態
で設置されていることを特徴とする請求項３、４又は５
に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26550196A JPH1092735A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26550196A JPH1092735A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092735A true JPH1092735A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17418055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26550196A Pending JPH1092735A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092735A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006028188A1 (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-16 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8988650B2 (en) | 2010-08-24 | 2015-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| JP2017120340A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN110030949A (zh) * | 2019-05-06 | 2019-07-19 | 苏州慧利仪器有限责任公司 | 空气隔离装置以及激光干涉检测设备 |
| US10488759B2 (en) | 2005-05-03 | 2019-11-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10495981B2 (en) | 2005-03-04 | 2019-12-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2021124634A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP26550196A patent/JPH1092735A/ja active Pending
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JPWO2006028188A1 (ja) * | 2004-09-10 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
| WO2006028188A1 (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-16 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
| US10495980B2 (en) | 2005-03-04 | 2019-12-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10495981B2 (en) | 2005-03-04 | 2019-12-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10488759B2 (en) | 2005-05-03 | 2019-11-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9891542B2 (en) | 2010-08-24 | 2018-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10216102B2 (en) | 2010-08-24 | 2019-02-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9529277B2 (en) | 2010-08-24 | 2016-12-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8988650B2 (en) | 2010-08-24 | 2015-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10620553B2 (en) | 2010-08-24 | 2020-04-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2017120340A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| CN110030949A (zh) * | 2019-05-06 | 2019-07-19 | 苏州慧利仪器有限责任公司 | 空气隔离装置以及激光干涉检测设备 |
| JP2021124634A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
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