JPH1085740A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH1085740A JPH1085740A JP8261144A JP26114496A JPH1085740A JP H1085740 A JPH1085740 A JP H1085740A JP 8261144 A JP8261144 A JP 8261144A JP 26114496 A JP26114496 A JP 26114496A JP H1085740 A JPH1085740 A JP H1085740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exchange resin
- pure water
- strongly acidic
- acidic cation
- cation exchange
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
膜処理装置の事故時にも微粒子数が少ない超純水を提供
できる超純水製造装置の提供。 【解決手段】 脱塩装置、イオン交換装置、および膜処
理装置を有し、この順に処理水を通す超純水製造装置で
あって、該イオン交換装置に平均粒径が0.55mm以
下の強酸性陽イオン交換樹脂を充填することを特徴とす
る超純水製造装置。
Description
し、特に限定されないが、たとえば電子産業分野におけ
る洗浄用超純水の製造装置に関する。
す。前処理は、凝集ろ過器や活性炭ろ過器等により行わ
れ、脱塩は、2床3塔式イオン交換塔、電気再生式脱塩
装置もしくは再生型混床式イオン交換装置等が用いら
れ、これらの脱塩装置の後段に逆浸透膜装置(RO)が
設置される。脱気装置は溶存酸素を除去する装置であっ
て、真空脱気装置や膜脱気装置や窒素曝気装置等が使用
される。再生型ポリッシャは再生型混床式イオン交換装
置や再生型複床式イオン交換装置であって、複床式のも
のは強塩基性陰イオン交換樹脂層に続き強酸性陽イオン
交換樹脂層の順に通水するものとその逆の順に通水する
ものがある。図4において純水タンクを境にして、前処
理から再生型ポリッシャまでを一次純水製造装置(一次
純水処理系)、紫外線酸化装置から膜処理装置までを二
次純水製造装置(二次純水処理系)と呼称しており、紫
外線酸化装置は一次純水に紫外線を照射することにより
水中の有機物の分解と殺菌を行うものであり、またカー
トリッジポリッシャは残留するイオン成分を除去するも
ので、非再生式の強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰
イオン交換樹脂の混床が用いられる。なお一次純水製造
装置で得られる一次純水を二次純水製造装置でさらに処
理して超純水を得るが、得られる超純水の純度を常に高
純度に保つため、膜処理装置の処理水を純水タンクに循
環しながら、この循環配管の途中に、超純水の使用場所
へ送水する、いわゆるユースポイントが付設されてい
る。最後部に設置されている膜処理装置としては、中空
糸型の限外ろ過膜装置(UF膜)や中空糸型あるいはプ
リーツ型の精密ろ過膜装置等が用いられている。これら
は、半導体デバイス製造工程で直接デバイスの洗浄に用
いる高純度の水を供給する場合には高価な限外ろ過膜装
置を用い、その他製造に用いる器具等の洗浄に用いる水
を供給する場合には、比較的安価な精密ろ過膜装置を用
いるというように使い分けられている。
の一部が切断する現象(一般に「糸切れ現象」と称され
る)が時々起こるが、その際、多量の微粒子が処理水側
に流出するため、使用場所で処理水に接触した仕掛品に
多大な損害を与えてしまう。精密ろ過膜装置の場合に
は、利用のされ方から言って厳しい水質は要求されない
ものの、ろ過サイズ以下の微粒子があまりにも多量に存
在する水で洗浄した器具を半導体デバイス製造に用いる
と、器具からの発塵によって製造歩留まりが低下するこ
とが懸念される。精密ろ過膜装置においても中空糸型の
場合は糸切れ、プリーツ型の場合は破損が生じた場合、
微粒子除去能力は著しく低下し、半導体デバイスの製造
ラインの汚染等、多大な損害を与えることは言うまでも
ない。このような膜処理装置に事故が発生した際の生産
設備の汚染を少なくするために、膜処理装置の入口にお
ける微粒子数を少なくすることが求められている。ま
た、従来の超純水製造装置の中段に適宜設置されている
逆浸透膜装置は、TOCや微量イオンの除去の他に微粒
子を除去することを役割としている。ところが、逆浸透
膜装置により十分に原水由来の微粒子を除去したとして
も、その後段に設置されているイオン交換装置からの微
粒子発生が問題となっている。
を低減し、膜処理装置の事故時にも微粒子数が少ない超
純水を提供できる超純水製造装置に関する。
口水中の微粒子が充分に低減された状況にあっては、イ
オン交換装置出口水中の微粒子は主に強塩基性陰イオン
交換樹脂から発生する微粒子が漏洩したものであること
を見いだした。本発明者はこの新規な課題の発見に基づ
き、この課題を解決すべく検討を重ねた結果、この強塩
基性陰イオン交換樹脂から発生した微粒子は強酸性陽イ
オン交換樹脂で吸着可能であること、さらに強酸性陽イ
オン交換樹脂の粒径を所定以下に小さくすることによっ
て出口水に含まれる微粒子数を著しく低減することが可
能であることを見いだし本発明を完成した。
よび膜処理装置を有し、この順に処理水を通す超純水製
造装置であって、該イオン交換装置に平均粒径が0.5
5mm以下の強酸性陽イオン交換樹脂を充填することを
特徴とする超純水製造装置に関する。
交換樹脂装置やイオン交換膜とイオン交換樹脂を用いた
電気再生式脱塩装置等の従来知られた装置を用いること
ができるが、特にこれに限定されるものではない。一次
純水処理系にあっては逆浸透膜と組み合わせて用いる種
々のものを挙げることができ、混床式(MB)、複床式
(2B3T等)などが例示される。二次純水処理系にあ
っては一般に非再生型のものが用いられる場合が多い。
本発明におけるイオン交換装置は、脱塩装置の後段に設
置されるものであり、前段の脱塩装置の処理水に残留す
る微量のイオン成分を除去するために設置され、通常ポ
リッシャと呼称されるもので、陰イオン交換樹脂単床と
陽イオン交換樹脂単床をこの順あるいはこの逆の順に配
置した2塔式ポリッシャ、陽イオン交換樹脂と陰イオン
交換樹脂の混床を用いる混床式ポリッシャ、またこの混
床の後段に強酸性陽イオン交換樹脂の単床を配置した2
塔式ポリッシャ、あるいは1塔内に上層に強塩基性陰イ
オン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂の混床を配置
し、下層に強酸性陽イオン交換樹脂を配置して上層から
下層に通水する積層ポリッシャなどが例示される。なお
これらのイオン交換装置を一次純水処理系に設置する場
合は再生型とし、二次純水処理系に設置する場合は非再
生型であるカートリッジポリッシャとされることが多
い。「膜処理装置」とは、膜により微粒子を除去する装
置をいい、たとえば限外ろ過膜装置や精密ろ過膜装置が
ある。
積の50体積%が残留するふるい目開きの大きさで与え
られる粒径をいう。本発明においては前記イオン交換装
置に充填する強酸性陽イオン交換樹脂の平均粒径を0.
55mm以下とするものであり、好ましくは0.2〜
0.5mmの範囲とする。平均粒径が大きすぎると微粒
子除去効果が得られない。微粒子除去効果は粒径の小さ
いほど大きいが、あまりに粒径が小さすぎると通水時の
圧力損失が増大し、より高性能の送水ポンプが必要とな
るため、上記の粒径範囲が好ましい。また強酸性陽イオ
ン交換樹脂の粒径分布としては、そのばらつき範囲を表
す指標である均一係数が1.0〜1.6程度、好ましく
は1.0〜1.3であるものが用いられる。均一係数が
1.6を越えると圧力損失が増大する傾向が大きくなっ
て好ましくない。均一係数はできるだけ1.0に近似す
ることが好ましいが分級等の負担増を考慮すれば1.1
程度以上で十分有効に用いることができる。なお、本発
明における強酸性陽イオン交換樹脂の平均粒径および、
粒径分布は、Naイオン形の樹脂についてのものであ
る。
測定は、次のようにして行われる。まず対象とする強酸
性陽イオン交換樹脂約1リットルをカラムに充填し、水
で逆洗して樹脂層内の気泡を除き、次いで水酸化ナトリ
ウム溶液(1N)1.5リットルをSV4前後の流速で
通薬し、引き続いて1リットル/リットル−樹脂の純水
を同じ流速で流し押し出しを行った後、純水をSV10
で20分間通水して洗浄する。以上の操作によってイオ
ン形をNa形とした強酸性陽イオン交換樹脂を十分に混
合して約100ml採取し、JIS Z 8801(標
準網ふるい)の目開き1400μm、1180μm、1
000μm、850μm、600μm、425μm、3
55μm、300μm、250μm、212μm、を用
いて次のようにしてふるい分け操作を行う。すなわち、
受皿の上に上記ふるいを下にいくほど目開きの細かくな
るようにして順次重ね、採取した強酸性陽イオン交換樹
脂を最上部のふるい内に入れる。最上部のふるいに純水
を約2分間緩やかに注いだ後、最上部のふるい(例えば
1400μm)を洗浄して取出し、白の皿の上に置く。
この平皿上に水を注いでふるいの深さの約1/2が浸る
ようにする。そしてふるいに静かに上下運動及び水平動
を与えて、ふるい分けする。ふるい面を通過する樹脂粒
が約10個以下になるまで上記ふるい分けを行い、通過
した試料樹脂について次の目の大きさのふるいを用いて
同じようにふるい分けを行う。それぞれのふるいに残留
した試料樹脂の湿潤体積をメスシリンダ等で測定し、表
1に示した記録表に記録する。次いで対数確率グラフの
縦軸をふるい目開き、横軸をふるい残留物百分率累計と
し、各点をプロットして各点をできるだけ満足して通る
直線を引く。この直線について、全体積の50体積%が
残留するふるい目開きの大きさで与えられる粒径を平均
粒径とする。また、残留体積百分率累計値が90%と4
0%に対応するふるい目開きの値をグラフ上で検出し、
40%に対応するふるい目開きと90%に対応する目開
きとの比を均一係数とする。
リッシャで平均粒径が0.55mm以下の強酸性陽イオ
ン交換樹脂と組み合わせて用いる強塩基性陰イオン交換
樹脂の粒径は特に限定されるものではなく、任意の粒径
のものが使用できる。本発明はさらに、その一態様とし
て、原水から懸濁物質を除去した後、イオン性物質及び
非イオン性物質を除去して一次純水を得る一次純水処理
系と、一次純水を処理する二次純水処理系とを有する超
純水製造装置において、一次純水処理系または二次純水
処理系が平均粒径が0.55mm以下の強酸性陽イオン
交換樹脂を充填したイオン交換装置に続き、最後部に膜
処理装置を有する装置を提供する。
製造装置において、カートリッジポリッシャは強塩基性
陰イオン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂との混床、
次いで強酸性陽イオン交換樹脂の単床の順で通水する積
層または2塔のカートリッジポリッシャであって、少な
くとも該強酸性陽イオン交換樹脂単床に、平均粒径0.
55mm以下の強酸性陽イオン交換樹脂が使用される。
強塩基性陰イオン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂と
の混床に通水し、次いで強酸性陽イオン交換樹脂の単床
の順で通水する場合、混床で使用する強酸性陽イオン交
換樹脂としては任意の粒径のものが使用できる。
粒子リークが減少し生産設備の汚染が少なくなると共
に、正常運転時の膜処理設備のロードが減少するという
効果が得られる。さらに、本発明の好ましい態様におい
ては、膜処理設備の故障時にも5個/ミリリットル(5
000個/リットル)以下という要求性能を満足するこ
とができる。
た。図1においては、原水は既知の除濁手段などからな
る前処理装置で前処理された後、一次純水処理系で一次
純水処理され、純水タンクに貯留される。この純水タン
クに貯留された一次純水は次いで紫外線酸化装置、カー
トリッジポリッシャ、限外ろ過膜装置からなる二次純水
処理系に送られる。紫外線酸化装置は水中にラジカルを
発生させて有機物を酸化分解するための波長185nm
付近の紫外線を照射可能な低圧水銀ランプを内包したも
のであり、この紫外線酸化装置の処理水が次いでカート
リッジポリッシャ、限外ろ過膜装置に順次通水されて二
次純水処理され、使用場所(ユースポイント)に送水さ
れる。なお、二次純水の一部は循環経路により純水タン
クに戻される。図1に示した本発明の実施形態における
カートリッジポリッシャは、強酸性陽イオン交換樹脂と
強塩基性陰イオン交換樹脂の混床であって、この混床に
用いる強酸性陽イオン交換樹脂に平均粒径が0.55m
m以下のものを用いる。
理された後、2B3Tの複床式脱塩装置、RO装置(逆
浸透膜装置)、真空脱気装置の順に通水され、次いで再
生型混床式イオン交換装置に送られる。その後処理水は
精密ろ過膜装置で処理された後使用場所に送られるか、
または純水タンクに送られる。純水タンクに送られた純
水はさらに2次純水系で処理され、一部は循環経路によ
り純水タンクに戻される。なお図2において前処理装置
から再生型混床式イオン交換装置までが一次純水処理系
であり、また二次処理系は図1に示したものと同じもの
が用いられる。図2に示した本発明の実施形態において
は、再生型混床式イオン交換装置に用いる強酸性陽イオ
ン交換樹脂に平均粒径0.55mm以下のものを用いる
か、あるいは二次純水処理系のカートリッジポリッシャ
に用いる強酸性陽イオン交換樹脂に平均粒径0.55m
m以下のものを用いる。なお本発明の目的を達成するう
えには再生型混床式イオン交換装置とカートリッジポリ
ッシャに用いられる強酸性陽イオン交換樹脂それぞれに
平均粒径0.55mm以下のものを用いることが好まし
い。
理された後、2B3Tの複床式脱塩装置、RO装置、真
空脱気装置の順に通水され、次いで再生型複床式イオン
交換装置に送られる。この複床式イオン交換装置は強塩
基性陰イオン交換樹脂(AER)に通水した後に強酸性
陽イオン交換樹脂(CER)に通水させる2塔式が使用
される。その後処理水は純水タンクに送られる。純水タ
ンクに送られた純水はさらに精密ろ過装置を経て使用場
所に送られ、一部が循環経路により純水タンクに戻され
るフロー、または紫外線酸化装置、AERとCERの混
床に通水した後CERの単床に通水する2塔式のカート
リッジポリッシャ、限外ろ過膜装置を経て使用場所に送
られ、一部が循環経路により純水タンクに戻されるフロ
ーのいずれかにより使用場所に供給される。そしてカー
トリッジポリッシャのCER単床、および/または再生
型複床式イオン交換装置の強酸性陽イオン交換樹脂(C
ER)として、平均粒径0.55mm以下の強酸性陽イ
オン交換樹脂が用いられる。
シャ、図2に示した再生型混床式イオン交換装置および
/またはカートリッジポリッシャ、図3に示した2塔式
カートリッジポリッシャのCER単床にそれぞれに平均
粒径0.55mm以下の強酸性陽イオン交換樹脂を用い
ているので、処理水の微粒子を低減させることができ
る。以下に発明の効果を明確とするために実施例を説明
する。
再生(水酸化ナトリウム通薬)済みのアンバーライトI
RA−402BL(水酸化物イオン型)を、強酸性陽イ
オン交換樹脂(CER)として平均粒径0.65mmの
アンバーライトIR−124(Naイオン型)を、所定
の方法で再生(塩酸通薬)し、使用した。AERとCE
Rのそれぞれ単独の場合と、両者の混床、およびAER
層に通水した後CERに通水した場合について、表2に
示したSVで通水し、その流出水の0.05ミクロン以
上の微粒子の放出数を測定した。なお流入水として比抵
抗率18M・Ωcm、0.05ミクロン以上の微粒子が
50個/リットルの超純水を用いた。以上の結果から、
微粒子はAERから生じ、かつ発生した微粒子はCER
により除去できることがわかる。
るい分けにより平均粒径を調整したアンバーライトIR
−124(Naイオン型)を所定の方法で再生(塩酸通
薬)して使用した。いずれの粒径においても、均一係数
は1.3であった。これらの平均粒径を調整したH型の
アンバーライトIR−124とOH型のアンバーライト
IRA−402BLとを組合せ、両イオン交換樹脂を混
床としたもの、アンバーライトIRA−402BLとI
RA−124とをこの順で配置した複床式としたもの、
およびアンバーライトIR−124の単床に、流入水と
して比抵抗率18M・Ωcm、0.05ミクロン以上の
微粒子が50個/リットルの超純水を通水し、その流出
水の0.05ミクロン以上の微粒子を測定して表3に示
した。表3に見られる通り、CERの平均粒径を小さく
することにより、AERから生じる微粒子の除去能力が
向上する。
5mm以下の強酸性陽イオン交換樹脂を用いることによ
り、微粒子の少ない超純水を供給することができる。
示す図である。
示す図である。
示す図である。
る。
Claims (9)
- 【請求項1】 脱塩装置、イオン交換装置、および膜処
理装置を有し、この順に処理水を通す超純水製造装置で
あって、該イオン交換装置に平均粒径が0.55mm以
下の強酸性陽イオン交換樹脂を充填することを特徴とす
る超純水製造装置。 - 【請求項2】 強酸性陽イオン交換樹脂の均一係数が
1.0〜1.6である請求項1記載の超純水製造装置。 - 【請求項3】 原水から懸濁物質を除去した後、イオン
性物質及び非イオン性物質を除去して一次純水を得る一
次純水処理系と、一次純水を処理する二次純水処理系と
を有する超純水製造装置において、 二次純水処理系が平均粒径が0.55mm以下の強酸性
陽イオン交換樹脂を充填したイオン交換装置に続き、最
後部に膜処理装置を有することを特徴とする超純水製造
装置。 - 【請求項4】 原水から懸濁物質を除去した後、イオン
性物質及び非イオン性物質を除去して一次純水を得る一
次純水処理系と、一次純水を処理する二次純水処理系と
を有する超純水製造装置において、 一次純水処理系が平均粒径が0.55mm以下の強酸性
陽イオン交換樹脂を充填したイオン交換装置に続き、最
後部に膜処理装置を有することを特徴とする超純水製造
装置。 - 【請求項5】 イオン交換装置がカートリッジポリッシ
ャである、請求項1ないし3のいずれか1項に記載する
超純水製造装置。 - 【請求項6】 イオン交換装置が再生型混床式ポリッシ
ャである、請求項1、2、または4項に記載する超純水
製造装置。 - 【請求項7】 イオン交換装置が強塩基性陰イオン交換
樹脂層に続き前記強酸性陽イオン交換樹脂層の順に通水
する、再生型複床式ポリッシャである請求項6記載の超
純水製造装置。 - 【請求項8】 カートリッジポリッシャが強塩基性陰イ
オン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂との混床であ
る、請求項5記載の超純水製造装置。 - 【請求項9】 カートリッジポリッシャが強塩基性陰イ
オン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂との混床、次い
で強酸性陽イオン交換樹脂の単床の順で通水する積層ま
たは2塔のカートリッジポリッシャであって、少なくと
も該強酸性陽イオン交換樹脂単床に、平均粒径0.55
mm以下の強酸性陽イオン交換樹脂を用いることを特徴
とする請求項5記載の超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26114496A JP3732903B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26114496A JP3732903B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1085740A true JPH1085740A (ja) | 1998-04-07 |
JP3732903B2 JP3732903B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=17357718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26114496A Expired - Fee Related JP3732903B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3732903B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005011803A (ja) * | 2003-05-23 | 2005-01-13 | Toyo Roki Mfg Co Ltd | 燃料電池用イオン除去フィルタ及びその製造方法 |
JP2008073686A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-04-03 | Everpure Llc | 色移り(colorthrow)を減らしていることを特徴とするろ過システム及び方法 |
WO2010008055A1 (ja) * | 2008-07-17 | 2010-01-21 | 三菱化学株式会社 | 排水の処理方法および処理装置 |
WO2016098891A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
CN109890766A (zh) * | 2016-11-18 | 2019-06-14 | 奥加诺株式会社 | 水处理方法及装置 |
CN111867985A (zh) * | 2018-03-13 | 2020-10-30 | 奥加诺株式会社 | 水处理管理装置和水质监测方法 |
JP2022036290A (ja) * | 2020-06-23 | 2022-03-04 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、純水製造装置、超純水製造装置及び水処理方法 |
-
1996
- 1996-09-11 JP JP26114496A patent/JP3732903B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005011803A (ja) * | 2003-05-23 | 2005-01-13 | Toyo Roki Mfg Co Ltd | 燃料電池用イオン除去フィルタ及びその製造方法 |
JP2008073686A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-04-03 | Everpure Llc | 色移り(colorthrow)を減らしていることを特徴とするろ過システム及び方法 |
WO2010008055A1 (ja) * | 2008-07-17 | 2010-01-21 | 三菱化学株式会社 | 排水の処理方法および処理装置 |
WO2016098891A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
JP2016117001A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
CN107001075A (zh) * | 2014-12-19 | 2017-08-01 | 栗田工业株式会社 | 超纯水制造装置以及超纯水制造方法 |
US10526226B2 (en) | 2014-12-19 | 2020-01-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Ultrapure water production apparatus and ultrapure water production method |
CN109890766A (zh) * | 2016-11-18 | 2019-06-14 | 奥加诺株式会社 | 水处理方法及装置 |
CN111867985A (zh) * | 2018-03-13 | 2020-10-30 | 奥加诺株式会社 | 水处理管理装置和水质监测方法 |
US11932555B2 (en) | 2018-03-13 | 2024-03-19 | Organo Corporation | Water treatment management apparatus and water quality monitoring method |
JP2022036290A (ja) * | 2020-06-23 | 2022-03-04 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、純水製造装置、超純水製造装置及び水処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3732903B2 (ja) | 2006-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5649520B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH0790219B2 (ja) | 純水製造装置及び製造方法 | |
JP6907514B2 (ja) | 超純水製造システム及び超純水製造方法 | |
JP2015136685A (ja) | 被処理水の処理装置、純水の製造装置および被処理水の処理方法 | |
JP3732903B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2733573B2 (ja) | 超純水の製造方法及び装置 | |
JPH10216721A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2005246126A (ja) | 純水又は超純水の製造装置及び製造方法 | |
JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2018038943A (ja) | 非再生型イオン交換樹脂の洗浄装置及び超純水製造システム | |
JP3231606B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2009112944A (ja) | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 | |
JP2950621B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
JP5135654B2 (ja) | 二次純水製造装置 | |
JP3928484B2 (ja) | 機能水の回収方法 | |
JP2003145148A (ja) | 超純水供給装置及び超純水供給方法 | |
JP6417734B2 (ja) | 超純水製造方法 | |
JP3340831B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP4760648B2 (ja) | 純水製造装置 | |
JP2742976B2 (ja) | 混床式イオン交換装置並びにこの混床式イオン交換装置を使用した純水及び超純水の製造方法 | |
JP3322178B2 (ja) | 排水処理装置 | |
JP6783281B2 (ja) | 限外ろ過膜の製造方法、限外ろ過膜装置、超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
JP2742975B2 (ja) | イオン交換装置の再生方法 | |
JPH074592B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
JP7305960B2 (ja) | 超純水製造装置の運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050920 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051014 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111021 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121021 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131021 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |