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JPH1079196A - Ferroelectric storage device - Google Patents

Ferroelectric storage device

Info

Publication number
JPH1079196A
JPH1079196A JP8233399A JP23339996A JPH1079196A JP H1079196 A JPH1079196 A JP H1079196A JP 8233399 A JP8233399 A JP 8233399A JP 23339996 A JP23339996 A JP 23339996A JP H1079196 A JPH1079196 A JP H1079196A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ferroelectric
word line
line
memory cell
bit line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8233399A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takehiro Seki
毅裕 関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP8233399A priority Critical patent/JPH1079196A/en
Publication of JPH1079196A publication Critical patent/JPH1079196A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ferroelectric storage device which can selectively use either one-Tr one-Cap constitution or two-Tr two-Cap constitution correspondingly to the application, can highly reliably operate at a high speed, and can be constituted to have a sufficiently large capacity. SOLUTION: In a ferroelectric storage device, a memory array is constituted by arranging basic memory cells M00-M158 composed of ferroelectric capacitors FC and switching transistors Tr which switch the electrically connecting and disconnecting states between bit lines and the first electrodes of the ferroelectric capacitors and reference basic memory cells RM00-RM158 in a matrix-like state and row decoders 6-9 which activate one word line corresponding to a designated address when one-Tr one-Cap mode is selected and two word lines corresponding to designated addresses when two-Tr two-Cap mode is selected are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、強誘電体の分極反
転を利用した強誘電体記憶装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a ferroelectric memory device utilizing polarization inversion of a ferroelectric.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2に示すようなヒステリシス特性を有
する強誘電体の分極反転を利用した強誘電体不揮発性メ
モリとしては、現在さまざまなものが提案されている
が、その中で代表的なものとして、2つのスイッチング
トランジスタと2つの強誘電体キャパシタにより1ビッ
トを構成するもの(2Tr−2Cap方式という)と、
1つのスイッチングトランジスタと1つの強誘電体キャ
パシタにより1ビットを構成するもの(1Tr−1Ca
p方式)の2種類が提案されている。
2. Description of the Related Art Various types of ferroelectric non-volatile memories utilizing the polarization reversal of a ferroelectric having hysteresis characteristics as shown in FIG. 2 have been proposed at present. In this case, one bit is constituted by two switching transistors and two ferroelectric capacitors (referred to as 2Tr-2Cap method).
One bit is constituted by one switching transistor and one ferroelectric capacitor (1Tr-1Ca)
p type) have been proposed.

【0003】図3は、2Tr−2Cap方式を採用した
不揮発性メモリの基本的な1ビット構成を示す図であ
る。このメモリセルは、図3に示すように、ビット線B
L1,BL2に対しドレインがそれぞれ接続されたnチ
ャネルMOSトランジスタからなるスイッチングトラン
ジスタTr1,Tr2と、スイッチングトランジスタT
r1,Tr2のソースに対し一方の電極が接続された強
誘電体キャパシタFC1,FC2との組み合わせ2組に
よって1ビットが構成されている。各スイッチングトラ
ンジスタTr1,Tr2のゲートが共通のワード線WL
に接続され、強誘電体キャパシタFC1,FC2の他方
の電極(プレート電極)が共通のプレート線PLに接続
されている。そして、ビット線BL1,BL2は図示し
ない書き込みおよび読み出し系回路に接続され、ワード
線WLおよびプレート線PLは図示しない行デコーダに
接続される。
FIG. 3 is a diagram showing a basic 1-bit configuration of a nonvolatile memory employing the 2Tr-2Cap method. This memory cell has a bit line B as shown in FIG.
Switching transistors Tr1 and Tr2 each composed of an n-channel MOS transistor having a drain connected to L1 and BL2, respectively;
One bit is constituted by two combinations of ferroelectric capacitors FC1 and FC2 in which one electrode is connected to the sources of r1 and Tr2. The gates of the switching transistors Tr1 and Tr2 share a common word line WL.
, And the other electrodes (plate electrodes) of the ferroelectric capacitors FC1 and FC2 are connected to a common plate line PL. The bit lines BL1 and BL2 are connected to a write and read circuit (not shown), and the word lines WL and plate lines PL are connected to a row decoder (not shown).

【0004】このような構成を有する2Tr−2Cap
方式では、書き込み動作において2本の対になるビット
線に接続されている強誘電体キャパシタの強誘電体膜を
それぞれ反対方向に分極させ、読み出し動作でその分極
状態を読み出す。以下に 2Tr−2Cap方式を採用
した不揮発性メモリにおけるデータの書き込み、読み出
し動作について、図4および図5のタイミングチャート
を参照しつつ説明する。
[0004] 2Tr-2Cap having such a structure
In the method, the ferroelectric films of the ferroelectric capacitors connected to the two pairs of bit lines in the write operation are polarized in opposite directions, and the polarization state is read in the read operation. Hereinafter, data writing and reading operations in the nonvolatile memory employing the 2Tr-2Cap method will be described with reference to timing charts of FIGS.

【0005】まず、図4を参照しつつ、書き込み動作に
ついて説明する。書き込み時には、まず、図中のT1に
示すように、ビット線BL1に接地GNDレベル「0」
Vを、ビット線BL2に電源電圧VCCを印加し、ワード
線WLに(VCC+1V)を印加する。なお、ワード線W
Lの設定レベルを(VCC+1V)としたのは、スイッチ
ングトランジスタのしきい値電圧VthがVth<1V
であることから、「+1V」してトランジスタによる電
位降下を防ぐためである。これにより、スイッチングト
ランジスタTr1,Tr2が導通状態となり、強誘電体
キャパシタFC1のビット線側電極(一方の電極)に接
地GNDレベル、すなわち「0」Vの電圧が印加され、
強誘電体キャパシタFC2のビット線側電極に電圧VCC
が印加される。このとき、プレート線PLは「0」V
(接地レベル)に保持されている。その結果、強誘電体
キャパシタFC2側でのみビット線側電極からプレート
電極方向に向かう分極状態となる。
First, the write operation will be described with reference to FIG. At the time of writing, first, as shown by T1 in the figure, the ground GND level “0” is applied to the bit line BL1.
V, a power supply voltage V CC is applied to the bit line BL2, and (V CC +1 V) is applied to the word line WL. Note that the word line W
The reason why the set level of L is (V CC +1 V) is that the threshold voltage Vth of the switching transistor is Vth <1 V
Therefore, the voltage is set to “+1 V” to prevent a potential drop due to the transistor. As a result, the switching transistors Tr1 and Tr2 become conductive, and a ground GND level, that is, a voltage of “0” V is applied to the bit line side electrode (one electrode) of the ferroelectric capacitor FC1,
The voltage V CC is applied to the bit line side electrode of the ferroelectric capacitor FC2.
Is applied. At this time, the plate line PL is "0" V
(Ground level). As a result, only the ferroelectric capacitor FC2 has a polarization state from the bit line side electrode toward the plate electrode.

【0006】その後、図中のT2に示すように、プレー
ト線PLに電源電圧VCCを印加し、続いて図中のT3に
示すように、プレート線PLに「0」Vを印加する。す
なわち、プレート線PLに対し、ワード線WLが電源電
圧VCCレベルに保持されている期間に、GND(0V)
→VCC→GND(0V)のパルスを印加する。これによ
り、強誘電体キャパシタFC2の分極状態はビット線側
電極からプレート線側電極方向に向かう状態に保持され
たままで、強誘電体キャパシタFC1において分極が起
こり、プレート電極からビット線側電極方向に向かう分
極状態となる。すなわち、強誘電体キャパシタFC1,
FC2がそれぞれ反対方向に分極し、その状態が図20
に示すヒステリシス曲線におけるD点、B点にそれぞれ
移動し書き込みが終了する。
Thereafter, as shown at T2 in the figure, a power supply voltage V CC is applied to the plate line PL, and subsequently, as shown at T3 in the figure, "0" V is applied to the plate line PL. That is, while the word line WL is held at the power supply voltage V CC level with respect to the plate line PL, GND (0 V)
→ Apply a pulse of V CC → GND (0V). As a result, while the polarization state of the ferroelectric capacitor FC2 is maintained in a direction from the bit line-side electrode toward the plate line-side electrode, polarization occurs in the ferroelectric capacitor FC1, and the polarization state from the plate electrode toward the bit line-side electrode. A polarization state is reached. That is, the ferroelectric capacitors FC1,
FC2 is polarized in the opposite direction.
Move to points D and B in the hysteresis curve shown in FIG.

【0007】次に、読み出し動作について、図5を参照
しつつ説明する。まず、図5中のT1に示すように、ビ
ット線BL1,BL2に「0」Vを印加し、その後オー
プンとする。このときも、ワード線WLには(VCC+1
V)を印加する。次に、図中T2に示すように、プレー
ト線PLの電位を「0」Vから電源電圧VCCまで立ち上
げる。ここで、メモリセルの構成はプレート線PLから
みた場合、強誘電体キャパシタFCとビット線BLの寄
生容量Cbが直列に接続された等価回路により表される
ことから、プレート線PLを接地レベル「0」Vから電
源電圧VCCに立ち上げると強誘電体の分極状態によって
ビット線BLに出力される電位が異なる。
Next, a read operation will be described with reference to FIG. First, as shown by T1 in FIG. 5, "0" V is applied to the bit lines BL1 and BL2, and thereafter, the bit lines are opened. Also at this time, (V CC +1) is applied to the word line WL.
V). Next, as shown in figure T2, raises the potential of the plate line PL from the "0" V to the power supply voltage V CC. Here, when the configuration of the memory cell is viewed from the plate line PL, the ferroelectric capacitor FC and the parasitic capacitance Cb of the bit line BL are represented by an equivalent circuit connected in series. When the voltage rises from 0 "V to the power supply voltage Vcc, the potential output to the bit line BL differs depending on the polarization state of the ferroelectric.

【0008】つまり、強誘電体キャパシタFC2の分極
状態は、図2に示すヒステリシス曲線においてB点から
C点に向かって移動し分極反転する。これに対して、強
誘電体キャパシタFC1の分極状態は、D点からC点に
向かって移動し分極反転しない。したがって、分極反転
する強誘電体キャパシタFC2は分極反転しない強誘電
体キャパシタFC1に比べて分極の変化に伴う電荷量の
移動が大きく、ビット線BL2はビット線BL1に比べ
て電位が上昇する。このビット線電位の差をビット線B
L1,BL2が接続される図示しない差動型のセンスア
ンプを駆動して電位の大小によりVCCと0vにそれぞれ
ラッチすることにより読み出しを行う。そして、図中の
T3に示すように、最後に再びプレート線PLに「0」
Vを印加することにより、分極反転してしまった強誘電
体キャパシタFC2を元の分極状態に戻す。これによ
り、読み出しの一連の動作が完了する。
That is, the polarization state of the ferroelectric capacitor FC2 moves from point B to point C in the hysteresis curve shown in FIG. On the other hand, the polarization state of the ferroelectric capacitor FC1 moves from the point D to the point C and does not reverse the polarization. Accordingly, the amount of charge movement accompanying the change in polarization is larger in the ferroelectric capacitor FC2 whose polarization is inverted than in the ferroelectric capacitor FC1 whose polarization is not inverted, and the potential of the bit line BL2 is higher than that of the bit line BL1. The difference between the bit line potentials is referred to as bit line B.
Reading is performed by driving a differential sense amplifier (not shown) to which L1 and BL2 are connected and latching them at V CC and 0 V, respectively, depending on the magnitude of the potential. Finally, as shown by T3 in the figure, "0" is again applied to the plate line PL again.
By applying V, the ferroelectric capacitor FC2 whose polarization has been inverted is returned to the original polarization state. Thus, a series of read operations is completed.

【0009】以上のように、2Tr−2Cap方式を採
用した不揮発性メモリにおける読み出し動作は、プレー
ト線電位を上げてデータをラッチする動作と、その後プ
レート線PLの電位を下げてデータの再書き込みを行う
動作との2サイクルにより構成されている。
As described above, the read operation in the non-volatile memory adopting the 2Tr-2Cap method involves an operation of latching data by increasing the potential of the plate line and a subsequent operation of rewriting data by decreasing the potential of the plate line PL. The operation is performed in two cycles.

【0010】また、図6は、1Tr−1Cap方式を採
用した不揮発性メモリの基本的な1ビット構成を示す図
である。このメモリセルMCは、図6に示すように、ビ
ット線BL1に対しドレインが接続されたnチャネルM
OSトランジスタからなるスイッチングトランジスタT
r1と、スイッチングトランジスタTr1のソースに対
し一方の電極が接続された強誘電体キャパシタFC1に
よって1ビットが構成されており、スイッチングトラン
ジスタTr1のゲートがワード線WLに接続され、強誘
電体キャパシタFC1の他方の電極(プレート電極)が
プレート線PLに接続されている。そして、この1Tr
−1Cap方式を採用した不揮発性メモリには、リファ
レンス用のビット線BL2にドレインが接続されたリフ
ァレンス用スイッチングトランジスタRTr1と、スイ
ッチングトランジスタRTr1のソースに対し一方の電
極が接続されたリファレンス用強誘電体キャパシタRF
C1によって構成されるリファレンスセルRMCが設け
られ、スイッチングトランジスタRTr1のゲートがリ
ファレンス用ワード線RWLに接続され、強誘電体キャ
パシタRFC1の他方の電極がリファレンス用プレート
線RPLに接続されている。リファレンスセルRMCの
強誘電体キャパシタRFC1は分極反転しないように通
常の誘電体として用い、リファレンス用プレート線RP
Lに電圧VCCを印加した時のビット線電位の変化が、メ
モリセルMCの分極反転、非分極反転時のビット線電位
変化の中間にくるようにキャパシタ面積を設定する。
FIG. 6 is a diagram showing a basic 1-bit configuration of a nonvolatile memory adopting the 1Tr-1Cap method. As shown in FIG. 6, this memory cell MC has an n-channel M having a drain connected to bit line BL1.
Switching transistor T composed of OS transistor
r1 and a ferroelectric capacitor FC1 having one electrode connected to the source of the switching transistor Tr1 constitute one bit. The gate of the switching transistor Tr1 is connected to the word line WL, and the ferroelectric capacitor FC1 is connected to the word line WL. The other electrode (plate electrode) is connected to the plate line PL. And this 1Tr
The non-volatile memory employing the -1Cap method includes a reference switching transistor RTr1 having a drain connected to a reference bit line BL2, and a reference ferroelectric material having one electrode connected to the source of the switching transistor RTr1. Capacitor RF
A reference cell RMC constituted by C1 is provided, the gate of the switching transistor RTr1 is connected to the reference word line RWL, and the other electrode of the ferroelectric capacitor RFC1 is connected to the reference plate line RPL. The ferroelectric capacitor RFC1 of the reference cell RMC is used as a normal dielectric to prevent polarization inversion, and the reference plate line RP
The capacitor area is set so that the change in the bit line potential when the voltage V CC is applied to L is intermediate between the change in the bit line potential when the polarization of the memory cell MC is reversed and the non-polarization is reversed.

【0011】次に、1Tr−1Cap方式を採用した不
揮発性メモリにおけるデータの書き込み、読み出し動作
について、図7および図8のタイミングチャートを参照
しつつ説明する。
Next, data writing and reading operations in the nonvolatile memory adopting the 1Tr-1Cap method will be described with reference to timing charts of FIGS.

【0012】この、1Tr−1Capの方式の場合にお
いても、基本的には上述した2Tr−2Cap方式と同
様な方法により書き込み、読み出しを行う。この場合異
なるのは、通常のメモリセルが接続された各ビット線と
リファレンスセルに接続されたビット線との間で電位の
差を検出することである。
In the 1Tr-1Cap method, writing and reading are basically performed in the same manner as in the 2Tr-2Cap method. The difference in this case is that a potential difference is detected between each bit line connected to a normal memory cell and a bit line connected to a reference cell.

【0013】データ書き込みは、図7に示すような各線
の電圧制御が行われて、1つの強誘電体キャパシタの分
極状態を、図2のヒステリシス曲線における状態0(S
tate0)のD点または状態1(State1)のB
点に設定することにより1ビットの書き込みを行う。
In data writing, voltage control of each line as shown in FIG. 7 is performed, and the polarization state of one ferroelectric capacitor is changed to the state 0 (S) in the hysteresis curve of FIG.
point D in state 0) or B in state 1
Writing 1 bit is performed by setting a point.

【0014】読み出しでは、図8に示すように、通常の
ワード線WL、プレート線PLの他に、リファレンスセ
ル用のワード線RWL、プレート線RPLを駆動し、リ
ファレンスセルRMCが接続されたビット線BL2の電
位とメモリセルが接続されたビット線BL1の分極状態
に応じた電位との差を検出する。したがって、リファレ
ンスセルRMCは分極反転させずに使用されるため、再
書き込み動作に入らないように、リファレンス用ワード
線RWLはリファレンス用プレート線RPLよりも早い
タイミングで立ち下がるように設定される。
In a read operation, as shown in FIG. 8, a word line RWL and a plate line RPL for a reference cell are driven in addition to a normal word line WL and a plate line PL, and a bit line connected to the reference cell RMC is driven. The difference between the potential of BL2 and the potential corresponding to the polarization state of bit line BL1 to which the memory cell is connected is detected. Therefore, since the reference cell RMC is used without reversing the polarization, the reference word line RWL is set to fall earlier than the reference plate line RPL so as not to enter the rewrite operation.

【0015】なお、1Tr−1Cap方式を採用した不
揮発性メモリにおける読み出し動作は、プレート線電位
の検出と、メモリセルMCへのデータの再書き込みを行
う動作との2サイクルにより構成されている。
The read operation in the non-volatile memory employing the 1Tr-1Cap method is composed of two cycles of detecting the plate line potential and rewriting data to the memory cells MC.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、スイ
ッチングトランジスタと強誘電体キャパシタからなるメ
モリセルを有する強誘電体メモリは、1ビットのデータ
を記憶するために、2つのトランジスタと2つのキャパ
シタで1つのメモリセルを構成し(2Tr−2Cap構
成)、差動で動作させていた。これは均一な強誘電体薄
膜を作製することが困難であり、DRAMのような1T
r−1Capでメモリセルを構成し動作させるために
は、読み出し時に充分なビット線電位のマージンが確保
できなかったためである。すなわち、2Tr−2Cap
でメモリセルを構成し、差動動作させることで、読み出
し時のビット線電位にばらつきによる読み出し不良を低
減していた。
As described above, a ferroelectric memory having a memory cell composed of a switching transistor and a ferroelectric capacitor has two transistors and two capacitors for storing 1-bit data. To form one memory cell (2Tr-2Cap configuration) and operate differentially. This is because it is difficult to produce a uniform ferroelectric thin film, and 1T
This is because a sufficient margin of the bit line potential could not be secured at the time of reading in order to configure and operate the memory cell with r-1Cap. That is, 2Tr-2Cap
Thus, a memory cell is configured by the above and differential operation is performed, thereby reducing read failure due to variation in bit line potential at the time of read.

【0017】近年、成膜技術の進歩により強誘電体膜の
膜質が向上し、1つのメモリセルを1つのスイッチング
トランジスタと1つの強誘電体キャパシタで構成(1T
r−1Cap構成)することが可能になってきた。
In recent years, the film quality of the ferroelectric film has been improved due to the progress of the film forming technology, and one memory cell is composed of one switching transistor and one ferroelectric capacitor (1T).
r-1Cap configuration).

【0018】しかし、1Tr−1Cap構成で動作させ
るためには、読み出し時にローレベルのデータとハイレ
ベルのデータのしきい値を与えるための基準電位を発生
させてやる必要があり、そのためにリファレンスが必要
となる。リファレンスセルは、通常のメモリセルとは異
なる動作(強誘電体膜の疲労を軽減するために、分極反
転をさせない)をさせるために、1Tr−1Cap方式
での動作は2Tr−2Cap方式よりも制御が複雑にな
る。さらに、読み出し時のビット線電圧も、差動で読み
出す2Tr−2Cap方式よりも小さくなるために、動
作スピードは1Tr−1Cap方式のほうが2Tr−2
Cap方式よりも遅くなる。
However, in order to operate in the 1Tr-1Cap configuration, it is necessary to generate a reference potential for giving low-level data and high-level data threshold values at the time of reading. Required. In the reference cell, the operation in the 1Tr-1Cap method is controlled more than that in the 2Tr-2Cap method in order to perform an operation different from that of a normal memory cell (in order to reduce the fatigue of the ferroelectric film and not to cause polarization inversion). Becomes complicated. Further, since the bit line voltage at the time of reading is also smaller than that of the 2Tr-2Cap method for reading differentially, the operation speed is 2Tr-2 for the 1Tr-1Cap method.
It is slower than the Cap method.

【0019】このように、1Tr−1Cap構成はメモ
リセル面積を小さくでき、大容量化には向いているが、
信頼性、高速動作という点ではまだ問題がある。したが
って、信頼性性やスピードよりも容量に重点を置く用途
には1Tr−1Cap構成が、信頼性や高速動作に重点
を置く用途には2Tr−2Cap構成が向いており、1
つのチップでこれら両方の要求を満たすことが望まれ
る。
As described above, the 1Tr-1Cap structure can reduce the memory cell area and is suitable for increasing the capacity.
There are still problems in terms of reliability and high-speed operation. Therefore, the 1Tr-1Cap configuration is suitable for applications that focus on capacity rather than reliability and speed, and the 2Tr-2Cap configuration is suitable for applications that focus on reliability and high-speed operation.
It is desirable that one chip satisfy both of these requirements.

【0020】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、用途に応じて1Tr−1Cap
構成または2Tr−2Cap構成のいずれかを選択して
使い分けでき、高信頼性、高速動作が可能で、また容量
的にも満足できる構成が可能な強誘電体記憶装置を提供
することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and its object is to provide 1Tr-1Cap according to the application.
It is an object of the present invention to provide a ferroelectric memory device that can select and use either the configuration or the 2Tr-2Cap configuration, can operate with high reliability and at high speed, and has a configuration that is satisfactory in terms of capacity.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、第1および第2の電極への印加電圧に応
じた強誘電体の分極方向によって2値のデータを記憶す
る強誘電体キャパシタと、ワード線のレベルに応じてビ
ット線と上記強誘電体キャパシタの第1の電極との電気
的な導通、非導通状態を切り換えるスイッチングトラン
ジスタとからなる基本メモリセルが行列状に配列されて
メモリセルアレイが構成され、少なくとも2つの動作モ
ードを有する強誘電体記憶装置であって、第1の動作モ
ード時にはアドレス指定に応じた1本のワード線を活性
化させ、第2の動作モード時にはアドレス指定に応じた
2本のワード線を活性化させる第1の回路と、第1の動
作モード時には上記第1の回路により選択されたワード
線に接続され、少なくともアドレス指定された基本メモ
リセルにおける強誘電体キャパシタの第2の電極に所定
レベルの電圧を所定のタイミングで印加し、第2の動作
モード時には上記第1の回路により選択された2本のワ
ード線にそれぞれ接続され、少なくともアドレス指定さ
れた基本メモリセルにおける強誘電体キャパシタの各第
2の電極に所定レベルの電圧を所定のタイミングで印加
する第2の回路とを有する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a ferroelectric memory for storing binary data according to a polarization direction of a ferroelectric substance according to a voltage applied to first and second electrodes. A basic memory cell comprising a body capacitor and a switching transistor for switching electrical conduction and non-conduction between a bit line and a first electrode of the ferroelectric capacitor according to the level of a word line is arranged in a matrix. A ferroelectric memory device having at least two operation modes, wherein one word line corresponding to an address is activated in a first operation mode, and a ferroelectric memory device is activated in a second operation mode. A first circuit for activating two word lines in accordance with the address designation and a word line selected by the first circuit in the first operation mode, and A voltage of a predetermined level is applied at a predetermined timing to the second electrode of the ferroelectric capacitor in the addressed basic memory cell, and the two words selected by the first circuit in the second operation mode A second circuit connected to each of the lines and applying a voltage of a predetermined level at a predetermined timing to each second electrode of the ferroelectric capacitor in at least the addressed basic memory cell.

【0022】本発明の強誘電体記憶装置によれば、第1
の動作モード時には、第1の回路により1本のワード線
が選択されて活性化され、ビット線に接続されたスイッ
チングトランジスタと、スイッチングトランジスタに直
列接続された強誘電体キャパシタによって1ビットが構
成され、強誘電体の分極の方向によって2値のデータを
記憶する1Tr−1Cap構成が実現される。また、第
2の動作モード時には、第1の回路により2本のワード
線が選択されて活性化され、ビット線に接続されたスイ
ッチングトランジスタと、スイッチングトランジスタに
直列接続された強誘電体キャパシタとの組み合わせ2組
によって1ビットが構成され、それぞれの強誘電体キャ
パシタは異なる方向に分極され、その分極の方向により
2値のデータを記憶する2Tr−2Cap構成が実現さ
れる。
According to the ferroelectric memory device of the present invention, the first
In the operation mode, one word line is selected and activated by the first circuit, and one bit is constituted by a switching transistor connected to the bit line and a ferroelectric capacitor connected in series to the switching transistor. A 1Tr-1Cap configuration that stores binary data according to the direction of polarization of the ferroelectric is realized. In the second operation mode, two word lines are selected and activated by the first circuit, and the switching transistor connected to the bit line and the ferroelectric capacitor connected in series to the switching transistor are connected. One combination of two sets constitutes one bit, each ferroelectric capacitor is polarized in a different direction, and a 2Tr-2Cap configuration that stores binary data according to the direction of the polarization is realized.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る強誘電体記
憶装置の一実施形態を示す回路図である。この強誘電体
記憶装置は、メモリセルアレイ1、センスアンプ群2、
カラムゲート群3、カラムデコーダ4、プレート線ドラ
イバ5、アドレスバッファ6、プリロウデコーダ7、ワ
ード線デコーダ8、リファレンスワード線デコーダ9、
ワード線ドライバ10、およびワード線ブースト回路1
1により構成されている。また、図11において、WL
0〜WL15はワード線、RWL0,RWL1はリファ
レンスワード線、BL0L,BL0R、BL1L,BL
1R、〜、BL7L,BL7R、BL8L,BL8Rは
ビット線、PL0〜PL7はプレート線、RPLはリフ
ァレンスプレート線をそれぞれ示している。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a ferroelectric memory device according to the present invention. This ferroelectric memory device includes a memory cell array 1, a sense amplifier group 2,
Column gate group 3, column decoder 4, plate line driver 5, address buffer 6, pre-row decoder 7, word line decoder 8, reference word line decoder 9,
Word line driver 10 and word line boost circuit 1
1. In FIG. 11, WL
0 to WL15 are word lines, RWL0 and RWL1 are reference word lines, BL0L, BL0R, BL1L, BL
1R,..., BL7L, BL7R, BL8L, BL8R indicate bit lines, PL0 to PL7 indicate plate lines, and RPL indicates a reference plate line.

【0024】メモリセルアレイ1は、NMOSトランジ
スタからなるスイッチングトランジスタTrと強誘電体
キャパシタFCとからなる1Tr−1Cap構成をとる
基本メモリセルM00〜M158 が行列状、たとえば16行
8列の行列状に配列されている。基本メモリセルM00〜
M158 の配列領域に隣接して、リファレンス用スイッチ
ングトランジスタRTrと強誘電体キャパシタRFCと
からなる1Tr−1Cap構成をとるリファレンス基本
メモリセルRM00〜RM18が2行2列の行列状に配列さ
れている。
In the memory cell array 1, basic memory cells M00 to M158 having a 1Tr-1Cap configuration including a switching transistor Tr formed of an NMOS transistor and a ferroelectric capacitor FC are arranged in a matrix, for example, a matrix of 16 rows and 8 columns. Have been. Basic memory cell M00 ~
Adjacent to the array area of M158, reference basic memory cells RM00 to RM18 having a 1Tr-1Cap configuration including a reference switching transistor RTr and a ferroelectric capacitor RFC are arranged in a matrix of 2 rows and 2 columns.

【0025】そして、互いに隣接する2行、具体的には
1行目と2行目、3行目と4行目、、…、15行目と1
6行目の基本メモリセルの強誘電体キャパシタFCのプ
レート電極が共通のプレート線PL0〜PL7にそれぞ
れ接続されている。同様に、リファレンス基本メモリセ
ルRM00〜RM08の強誘電体キャパシタRFCのプレー
ト電極と残りの行のリファレンス基本メモリセルRM10
〜RM18の強誘電体キャパシタRFCのプレート電極と
は共通のリファレンスプレート線RPLに接続されてい
る。
Then, two rows adjacent to each other, specifically, the first row and the second row, the third row and the fourth row,.
The plate electrodes of the ferroelectric capacitors FC of the basic memory cells in the sixth row are connected to common plate lines PL0 to PL7, respectively. Similarly, the plate electrodes of the ferroelectric capacitors RFC of the reference basic memory cells RM00 to RM08 and the reference basic memory cells RM10 of the remaining rows
RM18 to the plate electrodes of the ferroelectric capacitors RFC are connected to a common reference plate line RPL.

【0026】また、1行目と2行目、3行目と4行目、
…、15行目と16行目の同一列に配列された基本メモ
リセルのスイッチングトランジスタTrのドレインは、
折り返し(Folded)ビット線方式をとるセンスア
ンプ21〜28にそれぞれ接続された対をなすビット線
BL0L,BL0R、BL1L,BL1R、〜、BL7
L,BL7R、BL8L,BL8Rに接続されている。
The first and second lines, the third and fourth lines,
.., The drains of the switching transistors Tr of the basic memory cells arranged in the same column
A pair of bit lines BL0L, BL0R, BL1L, BL1R,..., BL7 respectively connected to sense amplifiers 21 to 28 employing a folded bit line method.
L, BL7R, BL8L, BL8R.

【0027】具体的には、図1において、1列目の奇数
行の基本メモリセルM00,M02,〜,M140 およびリフ
ァレンス基本メモリセルRM10のスイッチングトランジ
スタTrのドレインがビット線BL0Lに共通に接続さ
れ、1列目の偶数行の基本メモリセルM01,M03,〜,
M150 およびリファレンス基本メモリセルRM00のスイ
ッチングトランジスタTrのドレインがビット線BL0
Rに共通に接続されている。2列目の奇数行の基本メモ
リセルM01,M22,〜,M141 およびリファレンス基本
メモリセルRM11のスイッチングトランジスタTrのド
レインがビット線BL1Lに共通に接続され、2列目の
偶数行の基本メモリセルM11,M32,〜,M151 および
リファレンス基本メモリセルRM01のスイッチングトラ
ンジスタTrのドレインがビット線BL1Rに共通に接
続されている。以下同様にして、8列目の奇数行の基本
メモリセルM08,M28,〜,M148 およびリファレンス
基本メモリセルRM18のスイッチングトランジスタTr
のドレインがビット線BL8Lに共通に接続され、8列
目の偶数行の基本メモリセルM18,M38,〜,M158 お
よびリファレンス基本メモリセルRM08のスイッチング
トランジスタTrのドレインがビット線BL8Rに共通
に接続されている。
More specifically, in FIG. 1, the drains of the switching transistors Tr of the basic memory cells M00, M02,..., M140 in the odd-numbered rows of the first column and the reference basic memory cell RM10 are commonly connected to the bit line BL0L. , Basic memory cells M01, M03,.
M150 and the drain of the switching transistor Tr of the reference basic memory cell RM00 are connected to the bit line BL0.
R is commonly connected. The drains of the switching transistors Tr of the odd-numbered basic memory cells M01, M22,..., M141 in the second column and the reference basic memory cell RM11 are commonly connected to the bit line BL1L, and the even-numbered basic memory cells M11 in the second column are connected. , M32,..., M151 and the drain of the switching transistor Tr of the reference basic memory cell RM01 are commonly connected to the bit line BL1R. Similarly, the switching transistors Tr of the basic memory cells M08, M28,.
Are commonly connected to the bit line BL8L, and the drains of the switching transistors Tr of the basic memory cells M18, M38,..., M158 and the reference basic memory cell RM08 in the even-numbered row in the eighth column are commonly connected to the bit line BL8R. ing.

【0028】さらに、同一行に配列された基本メモリセ
ルのスイッチングトランジスタTrのゲートはワード線
ドライバ10に接続された共通のワード線WL0〜WL
15、およびリファレンスワード線RWL0,RWL1
にそれぞれ接続されている。
Further, the gates of the switching transistors Tr of the basic memory cells arranged in the same row are connected to the common word lines WL0 to WL connected to the word line driver 10.
15, and reference word lines RWL0, RWL1
Connected to each other.

【0029】この強誘電体記憶装置では、1Tr−1C
ap構成による動作と2Tr−2Cap構成による動作
とを選択的にとることが可能である。1Tr−1Cap
構成で動作する場合には、メモリセルアレイ1に配列さ
れた基本メモリセルM00〜M158 の全てが1記憶セルと
して用いられるとともに、リファレンス基本メモリセル
RM00〜RM18が用いられる。一方、2Tr−2Cap
構成で動作する場合には、1行目と2行目、3行目と4
行目、…、15行目と16行目の同一列に配列された2
つの基本メモリセルが一組として用いられる。たとえ
ば、基本メモリセルM00とM10、M08とM18、M148 と
M158 の如くである。この2Tr−2Cap場合、リフ
ァレンス基本メモリセルRM00〜RM18は用いられな
い。すなわち、リファレンスワード線RWL0,RWL
1は活性化されない。
In this ferroelectric memory device, 1Tr-1C
The operation by the ap configuration and the operation by the 2Tr-2Cap configuration can be selectively taken. 1Tr-1Cap
When operating with the configuration, all of the basic memory cells M00 to M158 arranged in the memory cell array 1 are used as one storage cell, and the reference basic memory cells RM00 to RM18 are used. On the other hand, 2Tr-2Cap
When operating with the configuration, the first and second rows, the third and fourth rows
Row, ..., 2 arranged in the same column of the 15th and 16th rows
One basic memory cell is used as one set. For example, basic memory cells M00 and M10, M08 and M18, and M148 and M158. In the case of 2Tr-2Cap, the reference basic memory cells RM00 to RM18 are not used. That is, the reference word lines RWL0, RWL
1 is not activated.

【0030】また、各プレート線PL0〜PL7、およ
びリファレンスプレート線RPLはプレートドライバ5
の出力に並列に接続され、プレートドライバ5により一
括的にドライブされる。
Each of the plate lines PL0 to PL7 and the reference plate line RPL are connected to the plate driver 5.
Are connected in parallel with each other and driven collectively by the plate driver 5.

【0031】センスアンプ21には、上述したようにビ
ット線BL0L,BL0Rが接続され、2本の出力ライ
ンには、NMOSトランジスタからなるカラムゲート3
1L,31Rが設けられている。センスアンプ22に
は、ビット線BL1L,BL1Rが接続され、2本の出
力ラインには、NMOSトランジスタからなるカラムゲ
ート32L,32Rが設けられている。同様に、センス
アンプ27には、ビット線BL7L,BL7Rが接続さ
れ、2本の出力ラインには、NMOSトランジスタから
なるカラムゲート37L,37Rが設けられており、セ
ンスアンプ28には、ビット線BL8L,BL8Rが接
続され、2本の出力ラインには、NMOSトランジスタ
からなるカラムゲート38L,38Rが設けられてい
る。そして、対をなすカラムゲート31Lと31R、3
2Lと32R、〜、37Lと37R、38Lと38Rの
ゲート電極にはそれぞれ、カラムデコーダ4の出力制御
信号S41、S42、〜、S47、S48が供給され
る。
The bit lines BL0L and BL0R are connected to the sense amplifier 21 as described above, and the two output lines are connected to the column gates 3 made of NMOS transistors.
1L and 31R are provided. The sense amplifier 22 is connected to bit lines BL1L and BL1R, and the two output lines are provided with column gates 32L and 32R composed of NMOS transistors. Similarly, the sense amplifier 27 is connected to bit lines BL7L and BL7R, the two output lines are provided with column gates 37L and 37R made of NMOS transistors, and the sense amplifier 28 is connected to the bit line BL8L. , BL8R, and two output lines are provided with column gates 38L, 38R made of NMOS transistors. Then, the paired column gates 31L and 31R, 3
Output control signals S41, S42,..., S47, S48 of the column decoder 4 are supplied to the gate electrodes of 2L and 32R,..., 37L and 37R, and 38L and 38R, respectively.

【0032】アドレスバッファ6は、インバータ601
〜616、およびPMOSトランジスタとNMOSトラ
ンジスタのソース・ドレイン同士を接続してなる転送ゲ
ート617〜624により構成され、書き込み、読み出
しをする番地情報ADD0〜ADD3をクロック信号C
LKおよび反転クロック信号/CLKに応じてラッチ
し、プリロウデコーダ7に出力する。
The address buffer 6 includes an inverter 601
To 616, and transfer gates 617 to 624 connecting the sources and drains of the PMOS transistor and the NMOS transistor. The address information ADD0 to ADD3 for writing and reading is transmitted by the clock signal C.
Latched in accordance with LK and inverted clock signal / CLK, and output to pre-row decoder 7.

【0033】アドレスバッファ6において、インバータ
601の入力端子が番地情報ADD0の入力ラインに接
続され、出力端子が転送ゲート617を介してインバー
タ606の入力端子に接続されている。インバータ60
6の出力端子はインバータ605および613の入力端
子に接続されている。そして、インバータ605の出力
端子が転送ゲート618を介して転送ゲート617とイ
ンバータ606の入力端子との接続点に接続されてお
り、インバータ605,606および転送ゲート618
によりラッチ回路が構成される。インバータ602の入
力端子が番地情報ADD1の入力ラインに接続され、出
力端子が転送ゲート619を介してインバータ608の
入力端子に接続されている。インバータ608の出力端
子はインバータ607および614の入力端子に接続さ
れている。そして、インバータ607の出力端子が転送
ゲート620を介して転送ゲート619とインバータ6
08の入力端子との接続点に接続されており、インバー
タ607,608および転送ゲート620によりラッチ
回路が構成される。インバータ603の入力端子が番地
情報ADD2の入力ラインに接続され、出力端子が転送
ゲート621を介してインバータ610の入力端子に接
続されている。インバータ610の出力端子はインバー
タ609および615の入力端子に接続されている。そ
して、インバータ609の出力端子が転送ゲート622
を介して転送ゲート621とインバータ610の入力端
子との接続点に接続されており、インバータ609,6
10および転送ゲート622によりラッチ回路が構成さ
れる。インバータ604の入力端子が番地情報ADD3
の入力ラインに接続され、出力端子が転送ゲート623
を介してインバータ612の入力端子に接続されてい
る。インバータ612の出力端子はインバータ611お
よび616の入力端子に接続されている。そして、イン
バータ611の出力端子が転送ゲート624を介して転
送ゲート623とインバータ612の入力端子との接続
点に接続されており、インバータ611,612および
転送ゲート624によりラッチ回路が構成される。
In the address buffer 6, the input terminal of the inverter 601 is connected to the input line of the address information ADD0, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter 606 via the transfer gate 617. Inverter 60
The output terminal 6 is connected to the input terminals of the inverters 605 and 613. The output terminal of the inverter 605 is connected to the connection point between the transfer gate 617 and the input terminal of the inverter 606 via the transfer gate 618, and the inverter 605, 606 and the transfer gate 618 are connected.
Constitutes a latch circuit. The input terminal of the inverter 602 is connected to the input line of the address information ADD1, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter 608 via the transfer gate 619. The output terminal of inverter 608 is connected to the input terminals of inverters 607 and 614. The output terminal of the inverter 607 is connected to the transfer gate 619 and the inverter 6 via the transfer gate 620.
A latch circuit is formed by the inverter 607, 608 and the transfer gate 620. The input terminal of the inverter 603 is connected to the input line of the address information ADD2, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter 610 via the transfer gate 621. The output terminal of inverter 610 is connected to the input terminals of inverters 609 and 615. The output terminal of the inverter 609 is connected to the transfer gate 622.
Is connected to a connection point between the transfer gate 621 and the input terminal of the inverter 610 through the inverters 609 and 6.
10 and the transfer gate 622 form a latch circuit. The input terminal of the inverter 604 is the address information ADD3
Of the transfer gate 623
Through to the input terminal of the inverter 612. The output terminal of inverter 612 is connected to the input terminals of inverters 611 and 616. The output terminal of the inverter 611 is connected to the connection point between the transfer gate 623 and the input terminal of the inverter 612 via the transfer gate 624, and the inverter 611, 612 and the transfer gate 624 form a latch circuit.

【0034】プリロウデコーダ7は、インバータ701
〜720、2入力NORゲート721,722、および
2入力NANDゲート723〜730により構成され、
1Tr−1Capモードか2Tr−2Capモードのい
ずれのモードで動作するかを示すモード信号MD1、並
びにアドレスバッファ6の出力に基づいて駆動すべきワ
ード線およびリファレンスワード線をデコードし、その
結果をワード線デコーダ8およびリファレンスワード線
デコーダ9に出力する。
The pre-row decoder 7 includes an inverter 701
720, two-input NOR gates 721 and 722, and two-input NAND gates 723 to 730,
A word line and a reference word line to be driven are decoded based on a mode signal MD1 indicating which mode of operation, 1Tr-1Cap mode or 2Tr-2Cap mode, and the output of the address buffer 6, and the result is converted to a word line. Output to the decoder 8 and the reference word line decoder 9.

【0035】プリロウデコーダ7において、インバータ
701の入力端子がアドレスバッファ6のインバータ6
13の出力端子に接続され、出力端子がNORゲート7
22の一方の入力端子に接続されている。NORゲート
722の他方の入力端子がモード信号MD1の入力ライ
ンに接続され、出力端子がインバータ709の入力端子
に接続されている。インバータ709の出力端子がNA
NDゲート724,726の一方の入力端子に接続され
ている。NORゲート721の一方の入力端子がモード
信号MD1の入力ラインに接続され、他方の入力端子が
アドレスバッファ6のインバータ613の出力端子に接
続され、出力端子がインバータ708の入力端子に接続
されている。そして、インバータ708の出力端子がN
ANDゲート723,725の一方の入力端子に接続さ
れている。
In the pre-row decoder 7, the input terminal of the inverter 701 is connected to the inverter 6 of the address buffer 6.
13 is connected to the output terminal of the NOR gate 7
22 is connected to one input terminal. The other input terminal of the NOR gate 722 is connected to the input line of the mode signal MD1, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter 709. The output terminal of inverter 709 is NA
It is connected to one input terminal of ND gates 724, 726. One input terminal of the NOR gate 721 is connected to the input line of the mode signal MD1, the other input terminal is connected to the output terminal of the inverter 613 of the address buffer 6, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter 708. . The output terminal of the inverter 708 is N
It is connected to one input terminal of AND gates 723 and 725.

【0036】また、インバータ702,705,71
0、インバータ703,706,711、およひインバ
ータ704,707,712は直列に接続されている。
そして、インバータ702の入力端子がアドレスバッフ
ァ6のインバータ614の出力端子に接続され、インバ
ータ705の出力端子とインバータ710の入力端子と
の接続点がNANDゲート723,724の他方の入力
端子に接続されている。インバータ710の出力端子が
NANDゲート725,726の他方の入力端子に接続
されている。インバータ703の入力端子がアドレスバ
ッファ6のインバータ615の出力端子に接続され、イ
ンバータ706の出力端子とインバータ711の入力端
子との接続点がNANDゲート727,728の一方の
入力端子に接続されている。インバータ711の出力端
子がNANDゲート728,730の一方の入力端子に
接続されている。インバータ704の入力端子がアドレ
スバッファ6のインバータ616の出力端子に接続さ
れ、インバータ707の出力端子とインバータ712の
入力端子との接続点がNANDゲート727,729の
他方の入力端子に接続されている。インバータ711の
出力端子がNANDゲート728,730の他方の入力
端子に接続されている。さらに、NANDゲート723
〜730の出力端子はそれぞれインバータ713〜72
0の入力端子に接続されている。
The inverters 702, 705, 71
0, inverters 703, 706, 711 and inverters 704, 707, 712 are connected in series.
The input terminal of the inverter 702 is connected to the output terminal of the inverter 614 of the address buffer 6, and the connection point between the output terminal of the inverter 705 and the input terminal of the inverter 710 is connected to the other input terminals of the NAND gates 723 and 724. ing. The output terminal of the inverter 710 is connected to the other input terminals of the NAND gates 725 and 726. The input terminal of the inverter 703 is connected to the output terminal of the inverter 615 of the address buffer 6, and the connection point between the output terminal of the inverter 706 and the input terminal of the inverter 711 is connected to one input terminal of the NAND gates 727 and 728. . An output terminal of the inverter 711 is connected to one input terminal of the NAND gates 728 and 730. The input terminal of the inverter 704 is connected to the output terminal of the inverter 616 of the address buffer 6, and the connection point between the output terminal of the inverter 707 and the input terminal of the inverter 712 is connected to the other input terminals of the NAND gates 727 and 729. . The output terminal of the inverter 711 is connected to the other input terminal of the NAND gates 728 and 730. Further, the NAND gate 723
730 to 730 are output terminals of inverters 713 to 72, respectively.
0 is connected to the input terminal.

【0037】ワード線デコーダ8は、3入力NANDゲ
ート801〜816、およびNANDゲート801〜8
16の出力端子に対して直列に接続されたインバータ8
17〜832により構成され、プリロウデコーダ7の出
力およびワード制御信号CTLWLに基づいて、アドレス
指定され、動作モードに応じたワード線を駆動すべき信
号をワード線ドライバ10に出力する。
The word line decoder 8 has three input NAND gates 801 to 816 and NAND gates 801 to 8
Inverter 8 connected in series to 16 output terminals
17 to 832, and outputs to the word line driver 10 a signal to be addressed and to drive a word line according to the operation mode, based on the output of the pre-row decoder 7 and the word control signal CTLWL.

【0038】NANDゲート801〜816の第1の入
力端子はワード制御信号CTLWLの入力ラインに共通に
接続されている。NANDゲート801〜804の第2
の入力端子がプリロウデコーダ7のインバータ717の
出力端子に共通に接続され、NANDゲート805〜8
08(図示せず)の第2の入力端子がプリロウデコーダ
7のインバータ718の出力端子に接続され、NAND
ゲート809〜812(図示せず)の第2の入力端子が
プリロウデコーダ7のインバータ719の出力端子に接
続され、NANDゲート813〜816(図示せず)の
第2の入力端子がプリロウデコーダ7のインバータ72
0の出力端子に接続されている。そして、NANDゲー
ト801,805,809,813の第3の入力端子が
プリロウデコーダ7のインバータ713の出力端子に接
続され、NANDゲート802,806,810,81
4の第3の入力端子がプリロウデコーダ7のインバータ
714の出力端子に接続され、NANDゲート803,
807,811,815の第3の入力端子がプリロウデ
コーダ7のインバータ715の出力端子に接続され、N
ANDゲート804,808,812,816の第3の
入力端子がプリロウデコーダ7のインバータ716の出
力端子に接続されている。
The first input terminals of the NAND gates 801 to 816 are commonly connected to an input line of the word control signal CTLWL. Second of NAND gates 801 to 804
Are commonly connected to the output terminal of the inverter 717 of the pre-row decoder 7, and the NAND gates 805-8
08 (not shown) is connected to the output terminal of the inverter 718 of the pre-row decoder 7,
The second input terminals of the gates 809 to 812 (not shown) are connected to the output terminal of the inverter 719 of the pre-row decoder 7, and the second input terminals of the NAND gates 813 to 816 (not shown) are connected to the pre-row decoder. 7 inverters 72
0 output terminal. Then, the third input terminals of the NAND gates 801, 805, 809, 813 are connected to the output terminal of the inverter 713 of the pre-row decoder 7, and the NAND gates 802, 806, 810, 81
4 is connected to the output terminal of the inverter 714 of the pre-row decoder 7, and the NAND gate 803
The third input terminals of 807, 811, 815 are connected to the output terminal of the inverter 715 of the pre-row decoder 7,
The third input terminals of the AND gates 804, 808, 812, 816 are connected to the output terminal of the inverter 716 of the pre-row decoder 7.

【0039】リファレンスワード線デコーダ9は、4入
力NANDゲート901,902、およびNANDゲー
ト901,902の出力端子に対して直列に接続された
インバータ903,904により構成され、プリロウデ
コーダ7の出力、リファレンスワード制御信号CTLRW
L およびモード線MD1 に基づいて、アドレス指定され
たリファレンスワード線RWL0,RWL1を駆動すべ
き信号をワード線ドライバ10に出力する。
The reference word line decoder 9 comprises four input NAND gates 901 and 902 and inverters 903 and 904 connected in series to the output terminals of the NAND gates 901 and 902. Reference word control signal CTLRW
Based on L and the mode line MD1, a signal to drive the addressed reference word lines RWL0 and RWL1 is output to the word line driver 10.

【0040】NANDゲート901,902の第1の入
力端子はモード信号MD1 の入力ラインに共通に接続さ
れ、第2の入力端子はリファレンスワード制御信号CT
LRWL の入力ラインに共通に接続されている。NAND
ゲート901の第3の入力端子がプリロウデコーダ7の
インバータ716の出力端子に接続され、第4の入力端
子がインバータ714の出力端子に接続されている。そ
して、NANDゲート901の第3の入力端子がプリロ
ウデコーダ7のインバータ715の出力端子に接続さ
れ、第4の入力端子がインバータ713の出力端子に接
続されている。
The first input terminals of the NAND gates 901 and 902 are commonly connected to the input line of the mode signal MD1, and the second input terminal is connected to the reference word control signal CT.
Commonly connected to LRWL input line. NAND
The third input terminal of the gate 901 is connected to the output terminal of the inverter 716 of the pre-row decoder 7, and the fourth input terminal is connected to the output terminal of the inverter 714. The third input terminal of the NAND gate 901 is connected to the output terminal of the inverter 715 of the pre-row decoder 7, and the fourth input terminal is connected to the output terminal of the inverter 713.

【0041】ワード線ドライバ10は、ワード線デコー
ダ8のインバー817〜832の出力およびリファレン
スワード線デコーダのインバータ903,904の出力
に接続され、各インバータの出力がハイレベルのとき
に、ワード線WL0〜WL15、リファレンスワード線
RWL0,RWL1のレベルを接地レベルから電源電圧
CCレベル、あるいは(VCC+α)レベルとなるように
駆動するドライバ101〜118により構成されてい
る。具体的には、ドライバ101〜116の出力端子に
ワード線WL0〜WL16が接続され、ドライバ117
の出力端子にリファレンスワード線RWL1が接続さ
れ、ドライバ118の出力端子にリファレンスワード線
RWL0が接続されている。
The word line driver 10 is connected to the outputs of the inverters 817 to 832 of the word line decoder 8 and the outputs of the inverters 903 and 904 of the reference word line decoder. When the output of each inverter is at a high level, the word line WL0 ~WL15, is constituted by a reference word line RWL0, RWL1-level power supply voltage V CC level from the ground level of or (V CC + alpha) is driven so that the level driver, 101 to 118. Specifically, the word lines WL0 to WL16 are connected to the output terminals of the drivers 101 to 116, and the driver 117
Is connected to a reference word line RWL1 and the output terminal of the driver 118 is connected to a reference word line RWL0.

【0042】次に、上記構成による動作を説明する。1
Tr−1Cap構成を選択する場合には、モード信号M
D1が接地レベルでプリロウデコーダ7のNORゲート
721に入力される。これにより、NORゲート721
はインバータとして動作する。このため、ロウアドレス
の最下位ビット(ADD0)が入力されるプリデコーダ
も、他のプリデコーダと同様に動作する。
Next, the operation of the above configuration will be described. 1
When selecting the Tr-1Cap configuration, the mode signal M
D1 is input to the NOR gate 721 of the pre-row decoder 7 at the ground level. Thereby, the NOR gate 721
Operates as an inverter. Therefore, the predecoder to which the least significant bit (ADD0) of the row address is input operates similarly to the other predecoders.

【0043】たとえば、4ビットのロウアドレスとして
For example, as a 4-bit row address

〔0000〕が入力された場合、プリロウデコーダ7の
インバータ713,717の出力がハイレベルとなる。
このとき、ワード制御信号CTLWLがハイレベルでロウ
デコーダ8に供給されている。したがって、ロウデコー
ダ8においては、NANDゲート801の出力のみハイ
レベルとなり、インバータ817の出力のみがハイレベ
ルとなる。その結果、ワード線ドライバ10によりワー
ド線WL0が所定レベルにドライブ(選択)される。
When [0000] is input, the outputs of the inverters 713 and 717 of the pre-row decoder 7 become high level.
At this time, the word control signal CTLWL is supplied to the row decoder 8 at a high level. Therefore, in the row decoder 8, only the output of the NAND gate 801 goes high, and only the output of the inverter 817 goes high. As a result, the word line WL0 is driven (selected) to the predetermined level by the word line driver 10.

【0044】また同時に、読み出し時にはリファレンス
ワード制御信号CTLRWL がハイレベルでリファレンス
ワード線デコーダ9に入力される。その結果、この場合
NORゲート901の出力がハイレベルとなり、NOR
ゲート902の出力がローレベルとなり、リファレンス
ワード線RWL0が所定のレベルにドライブされる。
At the same time, at the time of reading, the reference word control signal CTLRWL is input to the reference word line decoder 9 at a high level. As a result, in this case, the output of the NOR gate 901 becomes high level,
The output of gate 902 goes low, and reference word line RWL0 is driven to a predetermined level.

【0045】その後、プレート線ドライバ5によりセル
プレートが所定レベルにドライブされて、ビット線対の
一方のビット線BL0L,BL1L,〜 ,BL8Lに
はメモリセルM10〜M18のデータが、他方のビット線B
L0R,BL1R,〜 ,BL8Rにはリファレンスセ
ルRM00〜RM08からの参照電位が出力される。そし
て、ビット線対の出力された電位差がセンスアンプ21
〜28で増幅され、カラムデコーダ4で導通制御された
カラムゲート31L,31R、〜38L,38Rを通し
てデータが出力される。以上のようにして、1Tr−1
Cap動作が実現される。
Thereafter, the cell plate is driven to a predetermined level by the plate line driver 5, and one of the bit lines BL0L, BL1L,..., BL8L of the bit line pair receives the data of the memory cells M10 to M18 and the other bit line. B
Reference potentials from reference cells RM00 to RM08 are output to L0R, BL1R,..., BL8R. Then, the output potential difference of the bit line pair is
Data is output through the column gates 31L, 31R and -38L, 38R, which are amplified by .about.28 and controlled in conduction by the column decoder 4. As described above, 1Tr-1
Cap operation is realized.

【0046】一方、2Tr−2Cap構成を選択する場
合には、モード信号MD1が電源電圧VDDレベルでプリ
ロウデコーダ7のNORゲート721に入力される。こ
れにより、NORゲート721の出力は、ロウアドレス
の最下位ビット(ADD0)によらず常にローレベルを
出力する。
On the other hand, when the 2Tr-2Cap configuration is selected, the mode signal MD1 is input to the NOR gate 721 of the pre-row decoder 7 at the power supply voltage VDD level. As a result, the output of the NOR gate 721 always outputs a low level regardless of the least significant bit (ADD0) of the row address.

【0047】したがって、たとえば、4ビットのロウア
ドレスとして
Therefore, for example, as a 4-bit row address

〔0000〕が入力された場合、プリロウ
デコーダ7のインバータ713,714,717の出力
がハイレベルとなる。このとき、ワード制御信号CTL
WLがハイレベルでロウデコーダ8に供給されている。し
たがって、ロウデコーダ8においては、NANDゲート
801および892の出力のみハイレベルとなり、イン
バータ817,818の出力のみがハイレベルとなる。
その結果、ワード線ドライバ10によりワード線WL0
およびWL1の2本が同時に所定レベルにドライブ(選
択)される。このとき同時に選択されるワード線はセル
プレートを共通とするメモリセルに接続されるワード線
でなければならない。
When [0000] is input, the outputs of the inverters 713, 714, and 717 of the pre-row decoder 7 become high level. At this time, the word control signal CTL
WL is supplied to the row decoder 8 at a high level. Therefore, in the row decoder 8, only the outputs of the NAND gates 801 and 892 go high, and only the outputs of the inverters 817 and 818 go high.
As a result, the word line driver 10 controls the word line WL0.
And WL1 are simultaneously driven (selected) to a predetermined level. At this time, the word lines selected at the same time must be word lines connected to memory cells having a common cell plate.

【0048】その後、プレート線ドライバ5によりセル
プレートが所定レベルにドライブされて、2本のワード
線WL0,WL1とカラムデコーダ4で選択された1対
のメモリセル、たとえばM00,M10からビット線対BL
0L,BL0Rに差動データが出力される。なお、この
2Tr−2Cap動作の場合、リファレンスセルを動作
させる必要がないため、モード信号MD1によりリファ
レンスワード線デコーダ9がディセイブル状態に制御さ
れる。
Thereafter, the cell plate is driven to a predetermined level by the plate line driver 5, and a pair of memory cells selected by the two word lines WL0, WL1 and the column decoder 4, for example, a bit line pair from M00, M10. BL
The differential data is output to 0L and BL0R. In the case of the 2Tr-2Cap operation, since the reference cell does not need to be operated, the reference word line decoder 9 is controlled to the disabled state by the mode signal MD1.

【0049】2Tr−2Cap構成の場合には、ビット
線対に差動でデータが出力されるため、1Tr−1Ca
p構成の場合に比べビット線対間の電位差が大きくと
れ、そのため高速/安定動作が可能となる。一方、メモ
リ容量は1Tr−1Cap構成の1/2となる。したが
って、用途に応じて、高信頼性や高速性を重要視する場
合は2Tr−2Cap構成を、容量を重要視する場合は
1Tr−1Cap構成を容易に選択することができる。
In the 2Tr-2Cap configuration, since data is differentially output to the bit line pair, 1Tr-1Cap
The potential difference between the pair of bit lines can be made larger than in the case of the p configuration, so that high-speed / stable operation is possible. On the other hand, the memory capacity is の of the 1Tr-1Cap configuration. Therefore, depending on the application, the 2Tr-2Cap configuration can be easily selected when importance is placed on high reliability and high speed, and the 1Tr-1Cap configuration can be easily selected when importance is placed on capacity.

【0050】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、書き込み、読み出しをする番地情報ADD0〜AD
D3をクロック信号CLKおよび反転クロック信号/C
LKに応じてラッチし、プリロウデコーダ7に出力する
アドレスバッファ6と、1Tr−1Capモードか2T
r−2Capモードのいずれのモードで動作するかを示
すモード信号MD1、並びにアドレスバッファ6の出力
に基づいて駆動すべきワード線およびリファレンスワー
ド線をデコードし、その結果をワード線デコーダ8およ
びリファレンスワード線デコーダ9に出力するプリロウ
デコーダ7と、プリロウデコーダ7の出力およびワード
制御信号CTLWLに基づいて、アドレス指定され、動作
モードに応じたワード線を駆動すべき信号をワード線ド
ライバ10に出力するワード線デコーダ8と、プリロウ
デコーダ7の出力、リファレンスワード制御信号CTL
RWL およびモード線MD1 に基づいて、アドレス指定さ
れたリファレンスワード線RWL0,RWL1を駆動す
べき信号をワード線ドライバ10に出力するリファレン
スワード線デコーダ9と、ワード線デコーダ8のインバ
ー817〜832の出力およびリファレンスワード線デ
コーダのインバータ903,904の出力に接続され、
各インバータの出力がハイレベルのときに、ワード線W
L0〜WL15、リファレンスワード線RWL0,RW
L1のレベルを接地レベルから電源電圧VCCレベル、あ
るいは(VCC+α)レベルとなるように駆動するワード
線ドライバ10とを設けたので、外部信号であるモード
信号MD1のレベルを電源電圧VDDレベルまたは接地レ
ベルに切り換えることにより、用途に応じて、高信頼性
や高速性を重要視する場合は2Tr−2Cap構成を、
容量を重要視する場合は1Tr−1Cap構成を容易に
選択することができる。また、いわゆる外部の1Tr−
1Cap/2Tr−2Cap切り替え端子を電源電圧V
DDまたは接地レベルのいずれかに固定するだけで、内部
で自動的にモードが切り替わるため、コントロールが容
易となるという利点がある。また、2Tr−2Cap構
成の場合には、ビット線対に差動でデータが出力される
ため、1Tr−1Cap構成の場合に比べビット線対間
の電位差が大きくとれ、そのため高速/安定動作が可能
で、メモリ容量は1Tr−1Cap構成の場合、2Tr
−2Cap構成時の2倍となる。
As described above, according to the present embodiment, the address information ADD0-AD for writing and reading is used.
D3 is a clock signal CLK and an inverted clock signal / C
Address buffer 6 which latches in accordance with LK and outputs it to pre-row decoder 7, 1Tr-1Cap mode or 2T
A word line to be driven and a reference word line are decoded based on a mode signal MD1 indicating which mode of the r-2Cap mode is to be operated, and an output of the address buffer 6, and the results are decoded into a word line decoder 8 and a reference word. A pre-row decoder 7 that outputs to the line decoder 9, and a signal to be addressed and to drive a word line corresponding to an operation mode is output to the word line driver 10 based on the output of the pre-row decoder 7 and the word control signal CTLWL. And the output of the pre-row decoder 7 and the reference word control signal CTL.
A reference word line decoder 9 for outputting a signal to drive the addressed reference word lines RWL0 and RWL1 to the word line driver 10 based on the RWL and the mode line MD1, and outputs of the invers 817 to 832 of the word line decoder 8. And the outputs of the inverters 903 and 904 of the reference word line decoder,
When the output of each inverter is at a high level, the word line W
L0 to WL15, reference word lines RWL0, RW
L1 power supply voltage V CC level the level from the ground level, or is provided with the word line driver 10 for driving so as to (V CC + alpha) level, the level of the mode signal MD1 is an external signal supply voltage V DD By switching to the ground or ground level, the 2Tr-2Cap configuration can be used if high reliability or high speed is important, depending on the application.
When capacity is important, the 1Tr-1Cap configuration can be easily selected. In addition, a so-called external 1Tr-
The 1Cap / 2Tr-2Cap switching terminal is connected to the power supply voltage V
By simply fixing to either DD or ground level, the mode is automatically switched internally, which has the advantage that control is easy. In the case of the 2Tr-2Cap configuration, data is differentially output to the bit line pair, so that the potential difference between the bit line pairs can be made larger than in the case of the 1Tr-1Cap configuration, thereby enabling high-speed / stable operation. In the case of a 1Tr-1Cap configuration, the memory capacity is 2Tr.
2 times that of the 2Cap configuration.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
用途に応じて、高信頼性や高速性を重要視する場合は2
Tr−2Cap構成を、容量を重要視する場合は1Tr
−1Cap構成を容易に選択することができる。2Tr
−2Cap構成の場合には、ビット線対に差動でデータ
が出力されるため、1Tr−1Cap構成の場合に比べ
ビット線対間の電位差が大きくとれ、そのため高速/安
定動作が可能となる。一方、メモリ容量は1Tr−1C
ap構成の場合、2Tr−2Cap構成時の2倍とな
る。また、たとえば外部の1Tr−Cap、2Tr−2
Cap切り替え端子をハイレベル、ローレベルのいずれ
かに固定するだけで、内部で自動的にモードが切り替わ
るため、コントロールが容易となるという利点がある。
As described above, according to the present invention,
If high reliability or high speed is important for the application, 2
When the capacity is important for the Tr-2Cap configuration, 1Tr
-1Cap configuration can be easily selected. 2Tr
In the case of the -2Cap configuration, data is differentially output to the bit line pair, so that the potential difference between the bit line pairs can be made larger than in the case of the 1Tr-1Cap configuration, thereby enabling high-speed / stable operation. On the other hand, the memory capacity is 1Tr-1C
In the case of the ap configuration, it is twice that in the 2Tr-2Cap configuration. Also, for example, external 1Tr-Cap, 2Tr-2
Simply fixing the Cap switching terminal to one of the high level and the low level automatically switches the mode internally, thereby providing an advantage that control becomes easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係り強誘電体記憶装置の一実施形態を
示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a ferroelectric memory device according to the present invention.

【図2】強誘電体キャパシタのヒステリシス特性を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a hysteresis characteristic of a ferroelectric capacitor.

【図3】2Tr−2Cap方式を採用した不揮発性メモ
リの基本的な1ビット構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a basic 1-bit configuration of a nonvolatile memory employing a 2Tr-2Cap method.

【図4】2Tr−2Cap方式を採用した強誘電体不揮
発性メモリの書き込み時における各端子に印加される電
位のタイミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart of a potential applied to each terminal at the time of writing in a ferroelectric nonvolatile memory employing a 2Tr-2Cap method.

【図5】2Tr−2Cap方式を採用した強誘電体不揮
発性メモリの読み出し時における各端子に印加される電
位のタイミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart of a potential applied to each terminal when reading out a ferroelectric nonvolatile memory employing the 2Tr-2Cap method.

【図6】1Tr−1Cap方式を採用した不揮発性メモ
リの基本的な1ビット構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a basic 1-bit configuration of a nonvolatile memory employing a 1Tr-1Cap method.

【図7】1Tr−1Cap方式を採用した強誘電体不揮
発性メモリの書き込み時における各端子に印加される電
位のタイミングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart of the potential applied to each terminal at the time of writing in the ferroelectric nonvolatile memory employing the 1Tr-1Cap method.

【図8】1Tr−1Cap方式を採用した強誘電体不揮
発性メモリの読み出し時における各端子に印加される電
位のタイミングチャートである。
FIG. 8 is a timing chart of a potential applied to each terminal when reading out a ferroelectric nonvolatile memory employing the 1Tr-1Cap method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、2…センスアンプ群、3…カラ
ムゲート群、4…カラムデコーダ、5…プレート線ドラ
イバ、6…アドレスバッファ、7…プリロウデコーダ、
8…ワード線デコーダ、9…リファレンスワード線デコ
ーダ、10…ワード線ドライバ、11…ワード線ブース
ト回路11、WL0〜WL15…ワード線、RWL0,
RWL1…リファレンスワード線、BL0L,BL0
R、BL1L,BL1R、BL7L,BL7R、BL8
L,BL8R…ビット線、PL0〜PL7…プレート
線、RPL…リファレンスプレート線、Tr…スイッチ
ングトランジスタ、RTr…リファレンス用スイッチン
グトランジスタ、FC…強誘電体キャパシタ、RFC…
リファレンス用強誘電体キャパシタ、M00〜M158 …基
本メモリセル、RM00〜RM18…リファレンス基本メモ
リセル。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... memory cell array, 2 ... sense amplifier group, 3 ... column gate group, 4 ... column decoder, 5 ... plate line driver, 6 ... address buffer, 7 ... pre-row decoder,
8 Word line decoder, 9 Reference word line decoder, 10 Word line driver, 11 Word line boost circuit 11, WL0 to WL15 Word line, RWL0,
RWL1: Reference word line, BL0L, BL0
R, BL1L, BL1R, BL7L, BL7R, BL8
L, BL8R: bit line, PL0 to PL7: plate line, RPL: reference plate line, Tr: switching transistor, RTr: switching transistor for reference, FC: ferroelectric capacitor, RFC ...
Reference ferroelectric capacitors, M00 to M158 ... basic memory cells, RM00 to RM18 ... reference basic memory cells.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1および第2の電極への印加電圧に応
じた強誘電体の分極方向によって2値のデータを記憶す
る強誘電体キャパシタと、ワード線のレベルに応じてビ
ット線と上記強誘電体キャパシタの第1の電極との電気
的な導通、非導通状態を切り換えるスイッチングトラン
ジスタとからなる基本メモリセルが行列状に配列されて
メモリセルアレイが構成され、少なくとも2つの動作モ
ードを有する強誘電体記憶装置であって、 第1の動作モード時にはアドレス指定に応じた1本のワ
ード線を活性化させ、第2の動作モード時にはアドレス
指定に応じた2本のワード線を活性化させる第1の回路
と、 第1の動作モード時には上記第1の回路により活性化さ
れたワード線に接続され、少なくともアドレス指定され
た基本メモリセルにおける強誘電体キャパシタの第2の
電極に所定レベルの電圧を所定のタイミングで印加し、
第2の動作モード時には上記第1の回路により活性化さ
れた2本のワード線にそれぞれ接続され、少なくともア
ドレス指定された基本メモリセルにおける強誘電体キャ
パシタの各第2の電極に所定レベルの電圧を所定のタイ
ミングで印加する第2の回路とを有する強誘電体記憶装
置。
1. A ferroelectric capacitor for storing binary data according to a polarization direction of a ferroelectric according to a voltage applied to first and second electrodes, and a bit line according to a word line level. A memory cell array is formed by arranging basic memory cells each including a switching transistor that switches between an electrically conductive state and a non-conductive state with a first electrode of a ferroelectric capacitor, and forms a memory cell array. A dielectric memory device, comprising: activating one word line according to an address designation in a first operation mode, and activating two word lines according to an address designation in a second operation mode. In the first operation mode, at least one of the basic memory cells connected to the word line activated by the first circuit and addressed. A predetermined level of voltage is applied at a predetermined timing to the second electrode of the dielectric capacitor,
In the second operation mode, a predetermined level of voltage is applied to at least each second electrode of the ferroelectric capacitor in the addressed basic memory cell, which is connected to each of the two word lines activated by the first circuit. And a second circuit for applying the same at a predetermined timing.
【請求項2】 上記第1の回路は、外部信号によって1
本のワード線を選択するか2本のワード線を選択するか
を切り換える請求項1記載の強誘電体記憶装置。
2. The first circuit according to claim 1, wherein the first circuit is connected to an external signal.
2. The ferroelectric memory device according to claim 1, wherein switching between selecting one word line and selecting two word lines is performed.
【請求項3】 上記メモリセルアレイは、対をなす2本
のビット線の電位差によりデータの読み出し、書き込み
を行う折り返しビット線方式に基づく構成を有する請求
項1記載の強誘電体記憶装置。
3. The ferroelectric memory device according to claim 1, wherein said memory cell array has a structure based on a folded bit line system in which data is read and written by a potential difference between two paired bit lines.
【請求項4】 同一列の偶数行の基本メモリセルのスイ
ッチングトランジスタは第1のビット線に接続され、奇
数行の基本メモリセルのスイッチングトランジスタは第
2のビット線に接続され、互いの隣接する偶数行と奇数
行の基本メモリセルの強誘電体キャパシタの第2の電極
が共通のプレート線に接続され、 上記第2の回路は、上記プレート線に所定電圧を印加す
る請求項3記載の強誘電体記憶装置。
4. The switching transistor of an even-numbered basic memory cell in the same column is connected to a first bit line, and the switching transistor of an odd-numbered basic memory cell is connected to a second bit line. 4. The ferroelectric memory according to claim 3, wherein the second electrodes of the ferroelectric capacitors of the even-numbered and odd-numbered basic memory cells are connected to a common plate line, and wherein the second circuit applies a predetermined voltage to the plate line. Dielectric storage device.
【請求項5】 第1および第2の電極への印加電圧に応
じた強誘電体の分極方向によって2値のデータを記憶す
る強誘電体キャパシタと、リファレンスワード線のレベ
ルに応じてビット線と上記強誘電体キャパシタの第1の
電極との電気的な導通、非導通状態を切り換えるスイッ
チングトランジスタとからなり、選択された基本メモリ
セルが接続されたビット線と対をなすビット線に接続さ
れるリファレンス基本メモリセルと、 第1の動作モード時に上記リファレンスワード線を活性
化させ、第2の動作モード時には非活性化状態に保持す
る第3の回路とを有する請求項3記載の強誘電体記憶装
置。
5. A ferroelectric capacitor for storing binary data according to a polarization direction of a ferroelectric according to a voltage applied to first and second electrodes, and a bit line according to a level of a reference word line. A switching transistor for switching between an electrically conductive state and a non-conductive state with the first electrode of the ferroelectric capacitor, the selected basic memory cell being connected to a bit line paired with the connected bit line; 4. The ferroelectric memory according to claim 3, comprising: a reference basic memory cell; and a third circuit that activates the reference word line in a first operation mode and holds the reference word line in an inactive state in a second operation mode. apparatus.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853595B2 (en) 2001-11-28 2005-02-08 Fujitsu Limited Semiconductor memory device
US7599207B2 (en) 2006-03-02 2009-10-06 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor memory device
JP2018526760A (en) * 2015-06-02 2018-09-13 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 Extending ferroelectric memory for firmware updates

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853595B2 (en) 2001-11-28 2005-02-08 Fujitsu Limited Semiconductor memory device
US7599207B2 (en) 2006-03-02 2009-10-06 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor memory device
JP2018526760A (en) * 2015-06-02 2018-09-13 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 Extending ferroelectric memory for firmware updates

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