JPH1064417A - Blast grinding apparatus and method of manufacturing gas discharge panel - Google Patents
Blast grinding apparatus and method of manufacturing gas discharge panelInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】噴射ノズルを移動させながらブラスト研削を行
うブラスト研削装置において、噴射ノズルを移動させて
も砥粒噴射流の状態が不均一なものとならないように
し、ブラスト研削の精度の向上を図る。また、そのよう
なブラスト研削を用いて隔壁を形成するガス放電パネル
の製造方法を提供する。
【解決手段】砥粒102 を噴射する噴射部101 と、砥粒10
2 を蓄えるタンク122 と、タンク122 から噴射部101 に
砥粒102 を運搬する経路となる管状部材123 とを一体に
構成し、これを被研削物210 に対向して移動させながら
噴射部101 より砥粒102 を噴射させて被研削物210 のブ
ラスト研削を行うように構成したことを特徴とするブラ
スト研削装置。および、そのブラスト研削装置を用い
て、隔壁(スペーサ)を形成するガス放電パネルの製造
方法。
(57) [Summary] In a blast grinding apparatus for performing blast grinding while moving an injection nozzle, the state of an abrasive jet flow is not made uneven even when the injection nozzle is moved, and blast grinding is performed. Improve accuracy. Further, the present invention provides a method for manufacturing a gas discharge panel in which partition walls are formed by using such blast grinding. An abrasive unit for injecting abrasive grains and an abrasive grain are provided.
2 and a tubular member 123 serving as a path for transporting the abrasive grains 102 from the tank 122 to the jetting unit 101 are integrally formed, and the tubular member 123 is moved from the jetting unit 101 while being opposed to the workpiece 210. A blast grinding apparatus characterized in that blast grinding of an object to be ground 210 is performed by injecting abrasive grains 102. And a method of manufacturing a gas discharge panel in which a partition (spacer) is formed by using the blast grinding device.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ブラスト研削装
置、およびガス放電パネルの製造方法に関し、特に、ガ
ス放電パネルのスペーサ(隔壁を含む)を精度良く形成
するガス放電パネルの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a blast grinding apparatus and a method for manufacturing a gas discharge panel, and more particularly to a method for manufacturing a gas discharge panel for precisely forming spacers (including partition walls) of the gas discharge panel.
【0002】ガス放電パネルには、AC型とDC型の2
種類があり、いずれもカラー表示のできる大型の平面型
表示装置の実現が可能であるため、CRTに代わる表示
デバイスとして注目されている。特に、蛍光体発光を行
うことによりフルカラー表示に適した面放電型のAC型
ガス放電パネルは、ハイビジョンを含むテレビジョン表
示の分野にその用途が拡大されつつある。There are two types of gas discharge panels: AC type and DC type.
There are a variety of types, all of which are capable of realizing a large-sized flat display device capable of color display, and thus have attracted attention as display devices replacing CRTs. In particular, the use of a surface discharge type AC gas discharge panel suitable for full-color display by emitting phosphors is expanding in the field of television display including high definition.
【0003】これらのガス放電パネルは、放電ギャップ
を規定するスペーサ(隔壁を含む)を精度良く形成する
製造方法等の改良が望まれている。[0003] In these gas discharge panels, there is a demand for improvements in a manufacturing method and the like for accurately forming spacers (including partition walls) for defining a discharge gap.
【0004】[0004]
【従来の技術】まず、従来のガス放電パネルの構造を説
明し、次に、そのガス放電パネルの構成要素としてのス
ペーサ(隔壁を含む)をサンドブラストで形成する方法
について説明する。2. Description of the Related Art First, a structure of a conventional gas discharge panel will be described, and then a method of forming a spacer (including a partition) as a component of the gas discharge panel by sand blast will be described.
【0005】図4において、左上に示した外観図は、内
部に放電ガスが封入されたガス放電パネルの外観構造を
示すものである。この外観構造は、AC型およびDC型
のいずれのガス放電パネルにおいてもほぼ同様である。[0005] In Fig. 4, the external view shown at the upper left shows the external structure of a gas discharge panel in which a discharge gas is sealed. This appearance structure is substantially the same in both the AC type and DC type gas discharge panels.
【0006】ここで、例えば、フルカラー表示のできる
AC型のガス放電パネル(以下、PDPと称する)の場
合には、図4の拡大斜視図に示すような内部構造となっ
ている。このPDP1は、マトリクス表示方式の3電極
構造の面放電型PDPと呼ばれる構造のものである。Here, for example, in the case of an AC type gas discharge panel (hereinafter referred to as PDP) capable of full color display, the internal structure is as shown in an enlarged perspective view of FIG. The PDP 1 has a structure called a surface discharge type PDP having a three-electrode structure of a matrix display system.
【0007】前面側(表示面側とも称する)のガラス基
板11の内面には、基板面に沿った面放電を生じさせる
ための直線状の表示電極X,Yが、マトリクス表示のラ
インL毎に一対ずつ配列されている。表示電極X,Y
は、それぞれがITO薄膜からなる幅の広い直線状の透
明電極41と多層構造の金属薄膜(Cr/Cu/Cr)
からなる幅の狭い直線状のバス電極42とから構成され
ている。On the inner surface of the glass substrate 11 on the front side (also referred to as the display surface side), linear display electrodes X and Y for generating a surface discharge along the substrate surface are provided for each line L of the matrix display. They are arranged in pairs. Display electrodes X, Y
Denotes a wide linear electrode 41 made of an ITO thin film and a metal thin film having a multilayer structure (Cr / Cu / Cr).
And a linear bus electrode 42 having a narrow width.
【0008】PDP1では、表示電極X,Yを放電空間
30に対して被覆するように、AC駆動のための誘電体
層(PbO系低融点ガラス層)17が設けられている。
そして、誘電体層17の表面にはMgO(酸化マグネシ
ウム)からなる保護膜18が蒸着されている。In the PDP 1, a dielectric layer (PbO-based low-melting glass layer) 17 for AC driving is provided so as to cover the display electrodes X and Y with respect to the discharge space 30.
A protective film 18 made of MgO (magnesium oxide) is deposited on the surface of the dielectric layer 17.
【0009】一方、背面側のガラス基板21の内面は、
表示電極X,Yと直交するように一定ピッチでアドレス
電極Aが配列されている。アドレス電極Aは銀ペースト
の焼成によって形成されている。On the other hand, the inner surface of the rear glass substrate 21
The address electrodes A are arranged at a constant pitch so as to be orthogonal to the display electrodes X and Y. The address electrode A is formed by firing silver paste.
【0010】アドレス電極Aの上面全体を覆うように配
設された誘電体層24の上には、高さが約150μmの
直線状の複数の隔壁29が、各アドレス電極Aの間に一
つずつ設けられている。隔壁29の主材料も低融点ガラ
スである。隔壁29によって放電空間30がライン方向
(表示電極X,Yと平行な画素配列方向)に単位発光領
域毎に区画され、且つ放電空間30の間隙寸法が規定さ
れている。なお、この隔壁29は、放電を分離する壁と
しての作用の他に、放電ギャップgを規定するスペーサ
としての作用を併せ持つため、スペーサとも呼ばれる。On the dielectric layer 24 disposed so as to cover the entire upper surface of the address electrode A, a plurality of linear partitions 29 having a height of about 150 μm are provided between each address electrode A. Are provided. The main material of the partition wall 29 is also a low melting point glass. The discharge spaces 30 are partitioned by the partition walls 29 in the line direction (pixel arrangement direction parallel to the display electrodes X and Y) for each unit light emitting region, and the gap size of the discharge spaces 30 is defined. The partition 29 has a function as a spacer for defining a discharge gap g in addition to a function as a wall for separating discharge, and is therefore also referred to as a spacer.
【0011】そして、アドレス電極Aの上部を含めて、
誘電体層24の表面及び隔壁29の側面を被覆するよう
に、フルカラー表示のためのR(赤),G(緑),B
(青)の3原色の蛍光体層28R,28G,28Bが設
けられている。Then, including the upper part of the address electrode A,
R (red), G (green), B for full color display so as to cover the surface of the dielectric layer 24 and the side surfaces of the partition 29.
The phosphor layers 28R, 28G, and 28B of the three primary colors (blue) are provided.
【0012】このように構成されたガス放電パネル1
は、その放電空間30中に、放電時に紫外線を放射して
蛍光体を励起するNe−Xe(NeとXeの混合ガス)
等の放電ガスが数100 torr の圧力で封入されてい
る。The gas discharge panel 1 constructed as described above
Is Ne—Xe (a mixed gas of Ne and Xe) that emits ultraviolet rays during discharge to excite the phosphor in the discharge space 30.
Discharge gas is sealed at a pressure of several hundred torr.
【0013】次に、上記の隔壁29は、スクリーン印刷
法やサンドブラスト法等の技術を用いて形成されてい
る。ここでは、本発明に直接関係するサンドブラスト法
を用いて形成する方法を、図5を参照して説明する。Next, the partition walls 29 are formed by using a technique such as a screen printing method or a sand blast method. Here, a method of forming using a sandblast method, which is directly related to the present invention, will be described with reference to FIG.
【0014】図5において、アドレス電極(図示せず)
と誘電体層(図示せず)とが形成されたガラス基板21
の上には、隔壁を形成する材料からなる「べた膜」29
0が形成されており、べた膜290上には予め耐ブラス
ト性の感光膜が配設されている。この感光膜はフォトプ
ロセスによりパターニングされて隔壁の形状に対応する
帯状のマスク291aを形成している。なお、ここで言
う「べた膜」とは、ある広い面積にわたって一様に形成
された厚膜層のことである。この帯状のマスク291a
を含むべた膜290の全面に、以下に示すようにして研
削微粒子(以下、砥粒と称する)102を噴射し、帯状
のマスク291aの無い部分のべた膜をブラスト研削で
除去する、つまり帯状の溝を形成することにより、帯状
の隔壁パターンを形成する。In FIG. 5, address electrodes (not shown)
Glass substrate 21 on which and a dielectric layer (not shown) are formed
On the top, a “solid film” 29 made of a material forming a partition wall
0 is formed, and a blast-resistant photosensitive film is provided on the solid film 290 in advance. This photosensitive film is patterned by a photo process to form a band-shaped mask 291a corresponding to the shape of the partition. Here, the “solid film” refers to a thick film layer formed uniformly over a certain large area. This strip-shaped mask 291a
Is sprayed on the entire surface of the solid film 290 containing the following as below, and the solid film in a portion without the band-shaped mask 291a is removed by blast grinding, that is, the band-shaped By forming the groove, a strip-shaped partition pattern is formed.
【0015】なお、ここで用いる耐ブラスト性の帯状の
マスク291aが、感光膜からなり、フォトプロセスに
よりパターニングされるものであるため、寸法精度の良
い加工を行うことが可能となるものである。Since the blast-resistant strip-shaped mask 291a used here is made of a photosensitive film and is patterned by a photo process, it is possible to perform processing with high dimensional accuracy.
【0016】図5中の噴射ノズル101の中に高圧空気
流112aが流入し、この高圧空気流112aが砥粒流
111aを引き込むことにより、砥粒102を含む砥粒
噴射流113aとなり、噴射ノズル101から噴射され
る。このようにして噴射された砥粒102がべた膜29
0の表面に衝突し、帯状のマスク291aに対応する部
分のみを残して、べた膜290をブラスト研削にて除去
する。その結果、帯状のマスク291aの直下に帯状の
隔壁29が形成される。A high-pressure air flow 112a flows into the injection nozzle 101 in FIG. 5, and the high-pressure air flow 112a draws in the abrasive flow 111a, thereby forming an abrasive injection flow 113a containing the abrasive 102, and the injection nozzle Injected from 101. The abrasive grains 102 sprayed in this manner are solid films 29.
The solid film 290 is removed by blast grinding while colliding with the surface of the mask 0 and leaving only the portion corresponding to the band-shaped mask 291a. As a result, a strip-shaped partition wall 29 is formed immediately below the strip-shaped mask 291a.
【0017】このブラスト研削処理を全面にわたって均
一に行うために、基板21を矢印a3の方向にほぼ一様
に、そして噴射ノズル101を矢印a1,a2の方向に
繰返し移動しながら処理する。ここで、矢印a3の方向
と矢印a1,a2の方向とは、直交する方向となるもの
である。In order to perform the blast grinding uniformly over the entire surface, the substrate 21 is processed while being moved substantially uniformly in the direction of arrow a3, and the injection nozzle 101 is repeatedly moved in the directions of arrows a1 and a2. Here, the direction of arrow a3 and the directions of arrows a1 and a2 are orthogonal to each other.
【0018】この砥粒102としては、平均粒径20μ
m程度のガラスビーズ、Al2 03等が用いられてい
る。図中103は、このブラスト研削によりべた膜29
0が研削されて発生した粉を示している。The abrasive grains 102 have an average particle diameter of 20 μm.
Glass beads of about m, Al 2 O 3 and the like are used. In the figure, reference numeral 103 denotes a solid film 29 obtained by the blast grinding.
0 indicates powder generated by grinding.
【0019】このようにして、帯状の隔壁29をガラス
基板21全体に渡って形成した後、帯状のマスク291
aを除去し、焼成によりこの隔壁29をガラス化するこ
とで、図4に示した隔壁29を完成することができる。After the band-shaped partition 29 is formed over the entire glass substrate 21 in this manner, the band-shaped mask 291 is formed.
By removing a and vitrifying the partition wall 29 by firing, the partition wall 29 shown in FIG. 4 can be completed.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】このように、サンドブ
ラスト法により隔壁29を形成することは、スクリーン
印刷等の他の方法に比べてパターン精度の改善が可能で
あることが元々のねらいであった。しかし、20〜40
型等の特に大型のガス放電パネルの隔壁29を形成する
場合には、その加工精度が場所によりばらつくという問
題が発生する場合があることが明らかになった。As described above, the formation of the partition wall 29 by the sand blast method originally intended to improve the pattern accuracy as compared with other methods such as screen printing. . However, 20-40
In the case of forming a partition wall 29 of a particularly large gas discharge panel such as a mold, it has been clarified that a problem that the processing accuracy varies from place to place may occur.
【0021】この加工精度について、隔壁29が形成さ
れたガラス基板21の断面形状を示す図6を参照して説
明する。サンドブラストにより形成される隔壁の頂面の
幅をL1 、底面の幅をL2とすると、同一基板内で、幅
L1のばらつきは小さいが、幅L2のばらつきが、ブラ
スト研削の条件等により大きくなる場合がある。The processing accuracy will be described with reference to FIG. 6 showing the cross-sectional shape of the glass substrate 21 on which the partition walls 29 are formed. Assuming that the width of the top surface of the partition wall formed by sandblasting is L1 and the width of the bottom surface is L2, the variation in the width L1 is small, but the variation in the width L2 is large due to blast grinding conditions and the like within the same substrate. There is.
【0022】その原因を検討した所、主原因は、ブラス
ト研削用の砥粒102が噴射ノズル101から安定して
噴射されないためであり、この現象はブラスト研削の面
積が大きくなり、しかも隔壁が狭ピッチでその高さが高
いものほど顕著になることが判明した。即ち、大型高解
像度のガス放電パネルの隔壁形成において特に問題とな
るものであると言える。When the cause was examined, the main cause was that the abrasive particles 102 for blast grinding were not stably jetted from the jet nozzle 101, and this phenomenon caused an increase in the area of blast grinding and a narrow partition wall. It was found that the higher the pitch, the higher the height. That is, it can be said that this is particularly problematic in forming the partition walls of a large-sized, high-resolution gas discharge panel.
【0023】例えば、40型程度の大型PDPの隔壁に
おいて、そのピッチが約300μm、高さが約150μ
m、幅L1が100μmの場合に、ブラスト研削の条件
によっては、同一ガラス基板内の幅L2のばらつきが3
0〜50μmに達するものがある。このように大きなば
らつきのある隔壁が形成された場合には、放電特性にば
らつきを生じ、その結果表示不良に繋がるという問題を
発生する。なお、このようなばらつきは、20型以下の
サイズの小型PDPではその程度が小さくなり、余り問
題にならないものであった。For example, in a partition of a large PDP of about 40 type, the pitch is about 300 μm and the height is about 150 μm.
m and the width L1 are 100 μm, the variation of the width L2 within the same glass substrate is 3 depending on the blast grinding conditions.
Some reach 0-50 μm. When the partition walls having such large variations are formed, a problem occurs in that the discharge characteristics vary, which results in display failure. Such a variation is small in a small PDP having a size of 20 inches or less, and is not a problem.
【0024】ここで、主原因と判断した「噴射ノズル1
01から噴射される砥粒噴射流113aの状態」を左右
する要因を検討した結果、砥粒の量、高圧空気の圧
力、符号a3の方向への送り速度、符号a1,a2
の方向への送り速度、等の要因があり、この中で、特に
「符号a1,a2の方向への送り速度の影響」が大き
いものであることを発見するに至った。勿論上記のよう
に、この影響は、ブラスト研削の面積が大きくなり、し
かも隔壁が狭ピッチでその高さが高いものほど顕著なも
のとなる。Here, “injection nozzle 1
As a result of examining the factors affecting the state of the abrasive jet 113a jetted from No. 01, the amount of the abrasive, the pressure of the high-pressure air, the feed speed in the direction of the symbol a3, and the symbols a1, a2
Among these factors, among others, it has been found that the "effect of the feed speed in the directions of the symbols a1 and a2" is particularly large. Of course, as described above, this effect becomes more remarkable as the area of the blast grinding increases and the partition walls have a smaller pitch and a higher height.
【0025】さらに、この現象を追求した所、「符号
a1,a2の方向への送り速度の影響」は、砥粒の通過
するゴム管(図7の111)の状態(即ち、サンドブラ
スト装置としての構成)に依存するものであることが分
かった。この内容を、図7を参照して説明する。Furthermore, pursuing this phenomenon, "the effect of the feed speed in the directions of the signs a1 and a2" is based on the condition of the rubber tube (111 in FIG. 7) through which the abrasive grains pass (that is, as a sandblasting device). Configuration). This will be described with reference to FIG.
【0026】噴射ノズル101は、アーム116により
移動台116aに固定され、その移動台116aが駆動
軸117上をスライドすることにより、被研削基板21
0の上を左右(矢印131の方向)に移動する。この駆
動軸117は、歯車118を介してモータ119により
駆動され、嵌合した移動台116aをスライドさせるよ
うに回転する。タンク121に蓄えられた砥粒102
は、ゴム管111の中を通り、符号112の管から噴射
ノズル101内に導入された高圧空気により吸引され、
砥粒噴射流113aとなって被研削基板210の上に噴
射される。この被研削基板210は、符号a31(紙面
の上向方向)または符号a32(紙面の下向方向)の方
向に移動し、噴射ノズル101の左右(矢印131の方
向)の移動と併せて、被研削面全体のブラスト研削が行
われる。The injection nozzle 101 is fixed to a moving table 116a by an arm 116, and the moving table 116a slides on a drive shaft 117 to thereby rotate the substrate 21 to be ground.
It moves left and right (in the direction of arrow 131) on 0. The drive shaft 117 is driven by a motor 119 via a gear 118, and rotates so as to slide the fitted moving base 116a. Abrasive grains 102 stored in tank 121
Is sucked by the high-pressure air introduced into the injection nozzle 101 from the tube denoted by reference numeral 112 through the rubber tube 111,
The abrasive particles are jetted onto the substrate 210 as an abrasive jet 113a. The substrate 210 to be ground moves in the direction of the symbol a31 (upward direction on the paper) or the symbol a32 (downward direction on the paper). Blast grinding is performed on the entire grinding surface.
【0027】ここで、噴射ノズル101が左右(矢印1
31の方向)に移動する場合、ゴム管111も一緒に
(矢印132aに示すように)移動することになる。こ
のように、ゴム管111が左右に振られる場合、そのゴ
ム管111の中を高速で走行する砥粒102は、その走
行状態に影響を受ける。即ち、ゴム管111が伸縮し、
高圧空気の圧力損失や流量変動等が発生するために、砥
粒噴射流113aの状態が不均一なものとなる。その結
果、隔壁29の加工精度が場所によりばらつくという問
題が発生することになる。この問題は、ガス放電パネル
が大型でかつ高精細なものになるほど顕著なものとな
る。Here, the injection nozzle 101 moves left and right (arrow 1).
31), the rubber tube 111 also moves (as indicated by arrow 132a). As described above, when the rubber pipe 111 is swung right and left, the abrasive grains 102 running at a high speed in the rubber pipe 111 are affected by the running state. That is, the rubber tube 111 expands and contracts,
Since the pressure loss and the flow rate fluctuation of the high-pressure air occur, the state of the abrasive jet 113a becomes uneven. As a result, there arises a problem that the processing accuracy of the partition wall 29 varies from place to place. This problem becomes more pronounced as the gas discharge panel becomes larger and higher definition.
【0028】本発明は、この問題を解決し、噴射ノズル
が移動しても砥粒噴射流の状態が不均一なものとならな
いブラスト研削を行う装置、および、そのようなブラス
ト研削を用いて隔壁を形成するガス放電パネルの製造方
法の提供を目的とする。The present invention solves this problem, and provides an apparatus for performing blast grinding in which the state of an abrasive jet flow does not become uneven even when an injection nozzle moves, and a partition wall using such blast grinding. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a gas discharge panel for forming a gas discharge panel.
【0029】[0029]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1乃至2記載のブラスト研削装置は、砥粒
を噴射する噴射部と、砥粒を蓄える(第1の)タンク
と、(第1の)タンクから噴射部に砥粒を運搬する経路
となる管状部材とを備え、噴射部は、移動しながら砥粒
を噴射して被研削物のブラスト研削を行うものであり、
(第1の)タンクと管状部材とは、噴射部と共に移動す
るものである。さらに、このブラスト研削装置は、移動
側の(第1の)タンクに供給するための砥粒を蓄える固
定側の第2のタンクと、第2のタンクから(第1の)タ
ンクに砥粒を運搬する経路となる第2の管状部材とを備
えているものである。In order to solve the above-mentioned problems, a blast grinding apparatus according to claims 1 and 2 includes an injection unit for injecting abrasive grains, and a (first) tank for storing abrasive grains. , A tubular member serving as a path for transporting the abrasive grains from the (first) tank to the ejecting section, wherein the ejecting section ejects the abrasive grains while moving to perform blast grinding of the workpiece.
The (first) tank and the tubular member are those that move with the jet. Further, the blast grinding apparatus includes a fixed-side second tank for storing abrasive grains to be supplied to a moving-side (first) tank, and abrasive grains from the second tank to the (first) tank. And a second tubular member serving as a transport route.
【0030】第1のタンクと第1の管状部材とが、噴射
部と共に移動するものであるため、噴射部が移動するこ
との影響で第1の管状部材が変形するようなことがな
く、従って砥粒噴射流が不均一になることはない。さら
に、固定側の第2のタンクを備えているため、このタン
クに多量の砥粒を蓄えることができる。従って、第1の
タンクは、少量の容量のものでよいため、噴射部と共に
移動する部分を小型軽量のものとすることができ、しか
も、第1のタンクに多量の砥粒を蓄えたり、逆に、頻繁
に追加供給作業をするというような必要のないものにで
きる。Since the first tank and the first tubular member move together with the injection section, the first tubular member does not deform due to the movement of the injection section. The abrasive jet does not become non-uniform. Further, since the fixed second tank is provided, a large amount of abrasive grains can be stored in this tank. Therefore, since the first tank may have a small capacity, the portion that moves together with the injection unit can be made small and lightweight, and a large amount of abrasive grains can be stored in the first tank, In addition, it is not necessary to frequently perform additional supply work.
【0031】さらに、請求項3記載のガス放電パネルの
製造方法は、ガス放電パネルの少なくとも一方の基板の
内面に設けられた放電部を仕切るための隔壁をブラスト
研削法により形成するに際し、隔壁形成面上に隔壁材料
膜と隔壁形状に対応した開口部パターンを有する耐ブラ
スト膜とを積層した基板を第1の方向に移動させ、砥粒
の噴射部と、砥粒を少なくともガス放電パネル1枚分の
隔壁形成に必要な量蓄えるタンクと、タンクから砥粒を
運搬する経路となる管状部材とを一体化したブラスト研
削装置を、第1の方向と直交する第2の方向に基板の被
研削面上を移動させながら噴射部より砥粒を噴射させ、
基板上の隔壁材料膜を部分的に研削除去して耐ブラスト
膜下に隔壁を形成するものである。Further, according to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a gas discharge panel, wherein a partition for partitioning a discharge portion provided on an inner surface of at least one substrate of the gas discharge panel is formed by blast grinding. A substrate in which a partition wall material film and a blast resistant film having an opening pattern corresponding to the partition shape are laminated on a surface is moved in a first direction, and an abrasive particle jetting unit and at least one gas discharge panel are used for the abrasive particles. A blast grinding device that integrates a tank for storing an amount necessary for forming a partition wall and a tubular member serving as a path for transporting abrasive grains from the tank is formed by grinding a substrate in a second direction orthogonal to the first direction. Inject abrasive grains from the injection unit while moving on the surface,
The partition material film on the substrate is partially ground and removed to form a partition under the blast-resistant film.
【0032】砥粒の噴射部が、砥粒を蓄えるタンクと、
タンクから砥粒を運搬する経路となる管状部材と共に、
被研削面上を移動しながら砥粒を噴射することで隔壁を
形成するため、砥粒の噴射部の移動により砥粒噴射流が
不均一になることがなく、従ってガス放電パネルの隔壁
を精度良く形成することができる。[0032] A tank for storing abrasive grains, wherein the abrasive grain jetting section stores:
Along with a tubular member that serves as a path for transporting abrasive grains from the tank,
Since the partition walls are formed by ejecting the abrasive grains while moving on the surface to be ground, the abrasive grain jet flow does not become uneven due to the movement of the abrasive grain ejecting portion, and therefore, the partition walls of the gas discharge panel can be accurately adjusted. It can be formed well.
【0033】[0033]
〔第1実施形態〕本発明を適用してブラスト研削装置を
構成したものを、第1実施形態として、図1を参照して
説明する。[First Embodiment] A blast grinding apparatus according to the present invention will be described as a first embodiment with reference to FIG.
【0034】図中210が被研削基板であり、噴射ノズ
ル101から噴射される砥粒(砥粒噴射流113a)に
よりブラスト研削が行われる。噴射ノズル101は、ア
ーム116により移動台116aに固定され、その移動
台116aが駆動軸117上をスライドすることによ
り、被研削基板210の上を左右(矢印131aの方
向)に移動する。この駆動軸117は、歯車118を介
してモータ119により駆動され、嵌合した移動台11
6aをスライドさせるように回転する。符号112の管
から供給された高圧空気は、噴射ノズル101内で砥粒
102を吸引し合体(合流)して、砥粒噴射流113a
となって噴射ノズル101から噴出する。In the figure, reference numeral 210 denotes a substrate to be ground, and blast grinding is performed by abrasive grains (abrasive abrasive jet 113a) injected from the injection nozzle 101. The injection nozzle 101 is fixed to a moving table 116 a by an arm 116, and the moving table 116 a slides on a drive shaft 117 to move left and right (in the direction of the arrow 131 a) on the substrate 210 to be ground. The drive shaft 117 is driven by a motor 119 via a gear 118 to
6a is rotated so as to slide. The high-pressure air supplied from the tube denoted by reference numeral 112 sucks the abrasive grains 102 in the spray nozzle 101 to unite (merge) the abrasive grains 102 into the abrasive grain jet stream 113a.
And jets from the jet nozzle 101.
【0035】これらの構成は、図7に示された従来の構
成と同等であるが、この移動台116aに、可動タンク
122が固定され、さらにこの可動タンク122と噴射
ノズル101の間が結合管123で結合されて砥粒10
2を供給される部分が従来の構成と異なる。このように
構成することにより、噴射ノズル101が左右(矢印1
31aの方向)に移動してブラスト研削を行うに際し、
可動タンク122と結合管123とは、噴射ノズル10
1と一体化して移動することができる。従って、結合管
123はその移動時に変形することがないため、砥粒噴
射流113aの状態(噴射圧力・速度や噴射量等)に影
響を与えることはない。均一な砥粒噴射流113aによ
る均一なブラスト研削を行うことができる。These structures are the same as the conventional structure shown in FIG. 7, except that a movable tank 122 is fixed to the movable table 116a, and a connecting pipe is provided between the movable tank 122 and the injection nozzle 101. Abrasive grains 10 combined at 123
2 is different from the conventional configuration. With this configuration, the injection nozzle 101 can be moved left and right (arrow 1).
When performing blast grinding by moving to the direction of 31a),
The movable tank 122 and the connecting pipe 123 are connected to the injection nozzle 10
1 and can be moved integrally. Therefore, since the coupling pipe 123 is not deformed during the movement, it does not affect the state of the abrasive grain jet stream 113a (eg, the jet pressure / velocity and the jet quantity). It is possible to perform uniform blast grinding with the uniform abrasive jet 113a.
【0036】ここで、結合管123は、固定された構成
となっているため、ゴム管のように弾性を有するもので
ある必要がない。従って、この結合管123は、ゴムの
ような弾性体の他に、プラスチックや金属(Al、ステ
ンレス等)で構成することもできる。Here, since the connecting tube 123 has a fixed configuration, it is not necessary to have elasticity like a rubber tube. Therefore, the coupling tube 123 can be made of plastic or metal (Al, stainless steel, etc.) in addition to an elastic body such as rubber.
【0037】さらに、この可動タンク122は、ゴム管
124により固定の大型タンク125に接続されてい
る。この大型タンク125内に多量の砥粒102が蓄え
られ、ゴム管124を介して可動タンク122に供給さ
れるため、この構成における可動タンク122は、一種
のバッファ用のタンクであり小型のものでよい。これに
より、可動部分を小型軽量化することができ、移動時の
動作を高精度化できるため加工精度の向上にも役立つも
のとなる。Further, the movable tank 122 is connected to a fixed large tank 125 by a rubber tube 124. Since a large amount of abrasive grains 102 are stored in the large tank 125 and supplied to the movable tank 122 through the rubber tube 124, the movable tank 122 in this configuration is a kind of buffer tank and a small one. Good. This makes it possible to reduce the size and weight of the movable part and to increase the accuracy of the movement during the movement, which is also useful for improving the processing accuracy.
【0038】この構成で、ゴム管124は可動タンク1
22の移動の影響で移動し変形を起こすことがあり、そ
のためにその中を走行する砥粒102の状態がある程度
不均一なものとなることがある。しかし、この砥粒10
2は、バッファとしての可動タンク122の中に一時蓄
えられるため、その後、結合管123を通り噴射ノズル
101に向かって走行する時点では均一なものとなり、
ゴム管124の変形の悪影響を受けるものとはならな
い。その結果、噴射ノズル101は均一な砥粒噴射流1
13aを形成することができる。In this configuration, the rubber tube 124 is connected to the movable tank 1
In some cases, the abrasive grains 102 may move and deform under the influence of the movement of the abrasive grains 22, and the state of the abrasive grains 102 traveling therethrough may be somewhat uneven. However, this abrasive 10
2 is temporarily stored in the movable tank 122 as a buffer, and thereafter becomes uniform when traveling toward the injection nozzle 101 through the coupling pipe 123,
The deformation of the rubber tube 124 is not adversely affected. As a result, the injection nozzle 101 is provided with a uniform abrasive jet 1
13a can be formed.
【0039】この砥粒噴射流113aとしては、例え
ば、2〜3 Kg/cm2 の圧力で、200〜250 g/minの
流量で噴射するものを用いている。また、この噴射ノズ
ル101を複数本(5本前後)用いて、ブラスト研削の
速度や面内均一性の改善を図ることもできる。As the abrasive jet 113a, for example, a jet which jets at a pressure of 2-3 kg / cm 2 at a flow rate of 200-250 g / min is used. In addition, by using a plurality of (about five) injection nozzles 101, it is possible to improve the blast grinding speed and the in-plane uniformity.
【0040】他方、この可動タンク122の大きさを、
必要数量(例えば1〜数枚分)の被研削基板210をブ
ラスト研削するに足る砥粒102を蓄え得る大きさにし
た場合には、研削中に大型タンク125よりの砥粒補給
を停止したり、ゴム管124と大型タンク125を用い
ない構成(この場合、可動タンクを交換可能なカセット
形式に構成できる)とすることができる。On the other hand, the size of the movable tank 122 is
When the necessary amount (for example, one to several pieces) of the substrate 210 to be ground is set to a size capable of storing the abrasive particles 102 sufficient for blast grinding, supply of the abrasive particles from the large tank 125 may be stopped during grinding. In this case, a configuration in which the rubber tube 124 and the large tank 125 are not used (in this case, the movable tank can be configured in a replaceable cassette type) can be adopted.
【0041】また、砥粒102の噴射によりブラスト研
削が行われる際、被研削基板210が研削された粉(以
下、研削粉103と称する)を発生し、この研削粉10
3はブラスト研削槽105の下部に砥粒と混じって落下
する。この研削粉103と砥粒102とは、管127a
を介して、分離槽126に導入される。この分離槽12
6においては、一種の遠心分離の方法で、重い砥粒10
2と、軽い研削粉103(通常は砥粒102より軽い)
とを分離している。分離された砥粒102は、大型タン
ク125内に戻されて再利用され、分離された研削粉1
03は、符号127dの矢印に示されるように、管12
7bを介して排出される。Further, when blast grinding is performed by spraying the abrasive grains 102, powder (hereinafter, referred to as grinding powder 103) from which the substrate 210 is ground is generated.
3 falls to the lower part of the blast grinding tank 105 mixed with abrasive grains. The grinding powder 103 and the abrasive grains 102 form a pipe 127a.
Through the separation tank 126. This separation tank 12
In 6, a kind of centrifugal separation is used to remove heavy abrasive grains 10
2, light grinding powder 103 (usually lighter than abrasive 102)
And are separated. The separated abrasive particles 102 are returned to the large tank 125 and reused, and the separated abrasive powder 1
03 is the tube 12 as indicated by the arrow 127d.
It is discharged via 7b.
【0042】ブロック図的に示した図1の構成を、さら
に具体的に図示したものが図2である。図2において、
図1と同一の部分は同一の符号を使用して示した。図2
は、主要部分であるブラスト研削槽105の内部に関し
ては図1とほぼ同等の構成を示しているが、図1の分離
槽126の内部構成を一層詳しく図示したものである。
ブラスト研削槽105から分離槽126内に導入された
研削粉103と砥粒102とは、遠心分離により、下側
に砥粒102、上側に研削粉103に分けられ、砥粒1
02はそのまま大型タンク125に導入される。そし
て、研削粉103は次のフィルタ槽128に導入され、
フィルタ128aで濾された清浄な空気が矢印131a
として送出され、残った研削粉103はフィルタ槽12
8の下方から排出され廃棄物箱132に集められて廃棄
処理される。FIG. 2 shows the configuration of FIG. 1 shown in a block diagram more specifically. In FIG.
1 are denoted by the same reference numerals. FIG.
1 shows a configuration substantially the same as that of FIG. 1 with respect to the inside of the blast grinding tank 105 as a main part, but shows the internal configuration of the separation tank 126 of FIG. 1 in more detail.
The grinding powder 103 and the abrasive 102 introduced from the blast grinding tank 105 into the separation tank 126 are separated into the abrasive 102 on the lower side and the abrasive 103 on the upper side by centrifugal separation.
02 is directly introduced into the large tank 125. Then, the grinding powder 103 is introduced into the next filter tank 128,
The clean air filtered by the filter 128a is indicated by an arrow 131a.
And the remaining grinding powder 103 is removed from the filter tank 12.
8 and collected in a waste box 132 for disposal.
【0043】〔第2実施形態〕本発明を適用して、ガス
放電パネルの隔壁を形成する方法を、第2実施形態とし
て、図3を参照して説明する。この隔壁は、図4に示し
たガス放電パネル1の隔壁29に相当するものである。Second Embodiment A method for forming a partition of a gas discharge panel by applying the present invention will be described as a second embodiment with reference to FIG. This partition corresponds to the partition 29 of the gas discharge panel 1 shown in FIG.
【0044】(a) アドレス電極Aと誘電体層24とが形
成された基板21の上に、スクリーン印刷により、隔壁
を形成するガラス材料を含むペーストをべた膜290と
して印刷し、乾燥させる。この印刷と乾燥は、通常複数
回行い、約160μmの厚さに積層したべた膜290を
形成する。(A) A paste containing a glass material forming a partition is printed as a solid film 290 by screen printing on the substrate 21 on which the address electrodes A and the dielectric layer 24 are formed, and dried. This printing and drying are usually performed a plurality of times to form a solid film 290 laminated to a thickness of about 160 μm.
【0045】さらに、このべた膜290の上に耐ブラス
ト性の感光膜291を形成する。この感光膜としては、
通常ドライフィルムを用いる。 (b) この感光膜291を隔壁に対応したパターンに感光
させ、現像処理を施して、形成すべき隔壁の頂面に相当
する部分に感光膜291aをマスク材として残す。Further, a blast-resistant photosensitive film 291 is formed on the solid film 290. As this photosensitive film,
Usually, a dry film is used. (b) The photosensitive film 291 is exposed to a pattern corresponding to the partition walls, and is subjected to a development process, so that the photosensitive film 291a is left as a mask material on a portion corresponding to the top surface of the partition wall to be formed.
【0046】(c) このようにパターニングされた感光膜
291aを有し、隔壁形成材料からなるべた膜290
に、砥粒を噴射してブラスト研削を施す。図中の矢印1
13aは、砥粒がその矢印の方向に噴射されていること
を示している。破線290aで示した曲面は、べた膜2
90がこの砥粒の噴射によりブラスト研削されている途
中の形状を示したものである。(C) A solid film 290 having the photosensitive film 291a patterned in this way and made of a partition wall forming material
Then, blast grinding is performed by spraying abrasive grains. Arrow 1 in the figure
13a indicates that the abrasive grains are being sprayed in the direction of the arrow. The curved surface indicated by the broken line 290a is the solid film 2
Numeral 90 indicates a shape in the middle of blast grinding by the injection of the abrasive grains.
【0047】(d) 砥粒を用いたブラスト研削が完了した
後、感光膜で形成されたマスク291aを剥離し、洗浄
処理を行うことにより、隔壁29の形成が完了する。な
お、この工程の後、この基板211を約560°Cの温
度で焼成し隔壁部をガラス化する処理を行う。これによ
り、隔壁29を備えた基板211の形成を完了する。(D) After the blast grinding using the abrasive grains is completed, the mask 291a formed of the photosensitive film is peeled off, and a cleaning process is performed to complete the formation of the partition wall 29. After this step, a process of firing the substrate 211 at a temperature of about 560 ° C. to vitrify the partition wall is performed. Thus, the formation of the substrate 211 having the partition wall 29 is completed.
【0048】なお、この実施形態においては、隔壁29
をブラスト研削により形成する例を説明したが、本発明
はこのような構造の隔壁に限定されるものではない。例
えば、ガス放電パネルの一対の基板間に点状に配設され
て、放電ギャップを規定するためのスペーサの形成に対
しても同様に適用することができ、同様の作用・効果を
得ることが可能である。また、このようなスペーサの他
に、ガス放電パネルの中の他の構造物で、基板から盛り
上がるように構成されるものに関しても同様である。In this embodiment, the partition 29
Is described by blast grinding, but the present invention is not limited to the partition having such a structure. For example, the present invention can be similarly applied to formation of a spacer for defining a discharge gap, which is disposed in a point shape between a pair of substrates of a gas discharge panel, and can obtain the same operation and effect. It is possible. The same applies to other structures in the gas discharge panel other than such spacers, which are configured to protrude from the substrate.
【0049】[0049]
【発明の効果】請求項1及び2記載の発明によれば、砥
粒を蓄えるタンクと、そのタンクから噴射ノズルに砥粒
を供給する経路となる管とが、噴射ノズルと一体化して
移動する構成となっているため、均一な砥粒の噴射を行
うことができ、従って、均一なブラスト研削を行うこと
のできるブラスト研削装置を実現できる。According to the first and second aspects of the present invention, the tank storing the abrasive grains and the pipe serving as a path for supplying the abrasive grains from the tank to the injection nozzle move integrally with the injection nozzle. With this configuration, uniform blasting can be performed, and therefore, a blast grinding apparatus that can perform uniform blast grinding can be realized.
【0050】請求項3記載の発明によれば、ガス放電パ
ネルの隔壁をブラスト研削で形成するに際し、上記のブ
ラスト研削装置を用いて行うことにより、均一性の良い
隔壁を形成することができる。According to the third aspect of the present invention, when forming the partition walls of the gas discharge panel by blast grinding, the above-mentioned blast grinding apparatus is used, whereby the partition walls having good uniformity can be formed.
【図1】 第1実施形態を示す図FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment.
【図2】 ブラスト研削装置の構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a blast grinding device.
【図3】 第2実施形態を示す図FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment.
【図4】 ガス放電パネルの構造を示す図FIG. 4 is a diagram showing a structure of a gas discharge panel.
【図5】 ブラスト研削により隔壁を形成する方法を示
す図FIG. 5 is a view showing a method of forming a partition by blast grinding.
【図6】 隔壁が形成されたガラス基板の断面形状を示
す図FIG. 6 is a diagram showing a cross-sectional shape of a glass substrate on which partition walls are formed.
【図7】 従来のブラスト研削装置を示す図FIG. 7 is a diagram showing a conventional blast grinding device.
1 ガス放電パネル 11 ガラス基板 21 ガラス基板、基板 24 誘電体層 29 隔壁 101 噴射ノズル、噴射部 102 砥粒、研削微粒子 103 研削粉 105 ブラスト研削槽 111 ゴム管 112 管 113a 砥粒噴射流 116 アーム 116a 移動台 117 駆動軸 118 歯車 119 モータ 121 タンク 122 タンク、可動タンク 123 結合管、管状部材 124 ゴム管 125 大型(固定)タンク 126 分離槽 128 フィルタ槽 211 基板 290 べた膜 291 感光膜 291a マスク、感光膜 A アドレス電極 1 Gas Discharge Panel 11 Glass Substrate 21 Glass Substrate, Substrate 24 Dielectric Layer 29 Partition 101 Injection Nozzle, Injection Unit 102 Abrasive Grains, Grinding Fine Particles 103 Grinding Powder 105 Blast Grinding Tank 111 Rubber Tube 112 Tube 113a Abrasive Grain Flow 116 Arm 116a Moving table 117 Drive shaft 118 Gear 119 Motor 121 Tank 122 Tank, Movable tank 123 Connecting pipe, Tubular member 124 Rubber pipe 125 Large (fixed) tank 126 Separation tank 128 Filter tank 211 Substrate 290 Solid film 291 Photosensitive film 291a Mask, photosensitive film A address electrode
Claims (3)
るタンクと、該タンクから該噴射部に砥粒を運搬する経
路となる管状部材とを一体に構成し、これを被研削物に
対向して移動させながら該噴射部より砥粒を噴射させて
該被研削物のブラスト研削を行うように構成したことを
特徴とするブラスト研削装置。An injection unit for injecting abrasive grains, a tank for storing the abrasive grains, and a tubular member serving as a path for transporting the abrasive grains from the tank to the injection unit are integrally formed, and this is ground. A blast grinding apparatus characterized in that blast grinding is performed by blasting the object to be ground by injecting abrasive grains from the injection unit while moving the object in opposition to the object.
る固定された第2のタンクと、第2のタンクから前記タ
ンクに該砥粒を運搬する経路となる第2の管状部材と
を、さらに備えている請求項1記載のブラスト研削装
置。2. A fixed second tank for storing abrasive grains to be supplied to the tank, and a second tubular member serving as a path for transporting the abrasive grains from the second tank to the tank, The blast grinding device according to claim 1, further comprising:
の内面に設けられた放電部を仕切るための隔壁を、ブラ
スト研削法により形成するガス放電パネルの製造方法で
あって、 隔壁形成面上に隔壁材料膜と隔壁形状に対応した開口パ
ターンを有する耐ブラスト膜とを積層した基板を第1の
方向に移動させ、 砥粒の噴射部と、該砥粒を少なくともガス放電パネル1
枚分の隔壁形成に必要な量蓄えるタンクと、該タンクか
ら砥粒を運搬する経路となる管状部材とを一体化したブ
ラスト研削装置を、前記第1の方向と直交する第2の方
向に該基板の被研削面上を移動させながら該噴射部より
砥粒を噴射させ、 該基板上の隔壁材料膜を部分的に研削除去して該耐ブラ
スト膜下に隔壁を形成することを特徴とするガス放電パ
ネルの製造方法。3. A method for manufacturing a gas discharge panel, wherein a partition for partitioning a discharge portion provided on an inner surface of at least one substrate of the gas discharge panel is formed by a blast grinding method. A substrate in which a material film and a blast-resistant film having an opening pattern corresponding to the shape of the partition wall are laminated is moved in a first direction.
A blast grinding device that integrates a tank for storing an amount necessary for forming the number of partition walls and a tubular member serving as a path for transporting abrasive grains from the tank in a second direction orthogonal to the first direction. Abrasive grains are ejected from the ejecting portion while being moved on the surface to be ground of the substrate, and the partition material film on the substrate is partially ground and removed to form the partition under the blast-resistant film. Manufacturing method of gas discharge panel.
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