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JPH1062735A - Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal display device - Google Patents

Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal display device

Info

Publication number
JPH1062735A
JPH1062735A JP22255796A JP22255796A JPH1062735A JP H1062735 A JPH1062735 A JP H1062735A JP 22255796 A JP22255796 A JP 22255796A JP 22255796 A JP22255796 A JP 22255796A JP H1062735 A JPH1062735 A JP H1062735A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
conductive
liquid crystal
display device
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP22255796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Mochizuki
正志 望月
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP22255796A priority Critical patent/JPH1062735A/en
Publication of JPH1062735A publication Critical patent/JPH1062735A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect a liquid crystal structure from electrostatic destruction, especially to prevent wiring and element from electrostatic destruction, generated by a potential difference between two substrates. SOLUTION: When at least either of a connected pattern 13 or a substrate connection pattern 24 is coated with conductive adhesive 31 and an element substrate and an opposing substrate are normally stuck together, the connection pattern 13 and the substrate connection pattern 24 become conductive with the conductive adhesive 31. Thus, it is possible to make a wiring layer 12 and opposing electrodes 22 have a same potential and prevent elements, wiring lines and the opposing electrodes from destruction and damage caused by electric discharge between both electrodes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法に係り、特に、製造工程中における装置構造の静電
破壊に対する防止技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly to a technique for preventing electrostatic discharge of a device structure during a manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置の製造工程としては概略以
下のようなものが一般的である。まず、2枚の基板のそ
れぞれに配線パターン、画素電極、配向膜等を形成し、
一方の基板にシール材を液晶封入領域を画成するような
形状で塗布し、このシール材を介して2枚の基板を貼り
合わせる。シール材を硬化させて2枚の基板を固着(本
固定)させた後、シール材の一部に形成された液晶注入
口から液晶封入領域に液晶を注入する。
2. Description of the Related Art A general process for manufacturing a liquid crystal display device is generally as follows. First, a wiring pattern, a pixel electrode, an alignment film, etc. are formed on each of the two substrates,
A sealing material is applied to one of the substrates in such a shape as to define a liquid crystal enclosing region, and the two substrates are bonded via the sealing material. After the sealing material is cured and the two substrates are fixed (finally fixed), liquid crystal is injected into a liquid crystal sealing region from a liquid crystal injection port formed in a part of the sealing material.

【0003】特に、上記基板に複数の液晶注入領域を形
成する場合、液晶が注入された後、2枚の基板の液晶注
入領域間を切り離して、一つずつ液晶注入領域を備えた
液晶パネルを形成する。
In particular, when a plurality of liquid crystal injection regions are formed on the substrate, after the liquid crystal is injected, the liquid crystal injection regions of the two substrates are cut off to form a liquid crystal panel having the liquid crystal injection regions one by one. Form.

【0004】上記のような製造工程においては、工程中
に発生した静電気の放電によって配線や電極が損傷を受
けるのを防止するため、基板の帯電を防止するために絶
縁性の高い素材によって搬送その他の処理を行ったり、
帯電が避けられない場合には電荷を逃がすために接地電
位に導電接続されたステージを用いたりする。特に、基
板の一方にTFT(薄膜トランジスタ)素子やMIM
(金属−絶縁体−金属)素子等のアクティブ素子を画素
毎に形成する場合があり、このような場合には、工程中
に発生した静電気によってアクティブ素子が破壊される
場合が多いため、細心の注意が必要である。
In the above-described manufacturing process, wiring and electrodes are prevented from being damaged by electrostatic discharge generated during the process, and a material having high insulating properties is used to prevent the substrate from being charged. Processing,
If charging cannot be avoided, a stage conductively connected to ground potential may be used to release the charge. In particular, a TFT (thin film transistor) element or MIM
In some cases, an active element such as a (metal-insulator-metal) element is formed for each pixel. In such a case, the active element is often destroyed by static electricity generated during the process. Caution must be taken.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶表
示装置は近年、市場ニーズ及び技術革新によって表示品
位の向上、高精細化、大画面化が急激に進んでおり、こ
れに対応して、製造工程における処理の高度化が要請さ
れ、製造中の部品や半製品等の処理品の取り扱いの困難
性も急速に高まりつつある。
However, in recent years, liquid crystal display devices have been rapidly improved in display quality, higher definition, and larger screens due to market needs and technological innovation. The demand for advanced processing is increasing, and the difficulty of handling processed products such as parts and semi-finished products during production is rapidly increasing.

【0006】特に、基板上に形成される配線パターンの
複雑性や、アクティブ素子の小型化が進んでいるため、
製造工程時に発生する静電気による配線の損傷、素子破
壊が大きな問題となっている。そのため、上記のような
対策では静電破壊を完全に防止することは困難であり、
特に、基板貼り合わせ後における基板間の放電によって
アクティブ素子が破壊される場合が多い。
In particular, due to the complexity of wiring patterns formed on a substrate and the miniaturization of active elements,
Damage to wiring and destruction of elements due to static electricity generated during the manufacturing process have become serious problems. Therefore, it is difficult to completely prevent electrostatic breakdown by the above measures,
In particular, the active elements are often destroyed by discharge between the substrates after the substrates are bonded.

【0007】そこで、本発明は上記問題点を解決するも
のであり、その課題は、液晶表示装置の製造工程におい
て、静電破壊から液晶構造を保護し、特に、2枚の基板
間における電位差により発生する配線や素子の静電破壊
を防止することにある。
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to protect a liquid crystal structure from electrostatic destruction in a manufacturing process of a liquid crystal display device. An object of the present invention is to prevent generated electrostatic breakdown of wirings and elements.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明が講じた手段は、画素領域に対応して形成さ
れた電極、配線パターン等から成る導電パターンを形成
して成る第1の基板及び第2の基板とを貼り合わせる貼
り合わせ工程と、相互に貼り合わされた前記第1の基板
及び第2の基板の周縁部を切り離して液晶パネルを形成
するパネル切離工程とを有する液晶表示装置の製造方法
において、前記貼り合わせ工程の前に、前記第1の基板
及び前記第2の基板の前記導電パターンの前記周縁部の
間に導電材を介在させ、前記貼り合わせ工程にて、前記
第1の基板と前記第2の基板の前記導電パターン同士が
前記導電材によって実質的に導電接触するように形成
し、前記パネル切離工程にて、前記第1の基板及び第2
の基板の周縁部とともに前記導電材を切り離すことを特
徴とする。
Means taken by the present invention to solve the above-mentioned problem is that a first pattern is formed by forming a conductive pattern formed of an electrode, a wiring pattern and the like corresponding to a pixel region. A liquid crystal display comprising: a bonding step of bonding a substrate and a second substrate; and a panel separating step of forming a liquid crystal panel by separating peripheral portions of the first substrate and the second substrate bonded to each other. In the method for manufacturing a device, before the bonding step, a conductive material is interposed between the peripheral portions of the conductive patterns of the first substrate and the second substrate, and in the bonding step, The conductive patterns of the first substrate and the second substrate are formed to be substantially conductively contacted by the conductive material, and the first substrate and the second substrate are formed in the panel separating step.
And separating the conductive material together with the peripheral portion of the substrate.

【0009】この手段によれば、基板の貼り合わせ工程
において導電材により第1の基板の導電パターンと第2
の基板の導電パターンとが実質的に導電接続されるた
め、両基板の導電パターン間に静電気に起因する大きな
電位差が生ずることが防止され、静電気に基づく素子破
壊や静電気の放電に基づく電極や配線パターンの損傷が
防止される。
According to this means, in the substrate bonding step, the conductive pattern on the first substrate and the second conductive pattern are bonded by the conductive material.
The conductive patterns of the two substrates are substantially conductively connected to each other, so that a large potential difference due to static electricity is prevented from being generated between the conductive patterns on both substrates. Pattern damage is prevented.

【0010】なお、上の「前記導電パターン同士が前記
導電材によって実質的に導電接続する」の記載部分にお
ける「実質的に」とは、両基板の導電パターンの間に、
図6に示すような僅かな間隙部22a、22bが形成さ
れていることによって完全には導電接続されていなくて
も、間隙の両側で大きな電位差が生じようとした場合、
放電によって所定値以上の電位差が発生することが妨げ
られるような状況をも含む意味である。
The wording "substantially" in the above description of "the conductive patterns are substantially conductively connected to each other by the conductive material" means that the conductive pattern is formed between the conductive patterns on both substrates.
If a small gap portion 22a, 22b as shown in FIG. 6 is formed, a large potential difference is generated on both sides of the gap even if the gap is not completely conductively connected.
The meaning includes a situation in which the generation of a potential difference equal to or greater than a predetermined value due to the discharge is prevented.

【0011】ここで、前記導電材は、前記第1の基板に
形成された前記導電パターンに前記周縁部において接続
された第1の接続パターンと、前記第2の基板に形成さ
れた前記導電パターンに前記周縁部において接続された
第2の接続パターンとの間を導電接続するように形成す
ることが好ましい。
The conductive material may include a first connection pattern connected to the conductive pattern formed on the first substrate at the peripheral portion, and a conductive pattern formed on the second substrate. It is preferable that a conductive connection be made between the second connection pattern and the second connection pattern connected at the peripheral portion.

【0012】この手段によれば、第1の基板の周縁部に
第1の接続パターンを形成し、第2の基板の周縁部に第
2の接続パターンを形成して、これらの第1及び第2の
接続パターンの間を導電材が導電接続するように形成す
ることによって、確実に両基板の導電パターンを導通さ
せることができる。
According to this means, the first connection pattern is formed on the periphery of the first substrate, and the second connection pattern is formed on the periphery of the second substrate. By forming the conductive material to be conductively connected between the two connection patterns, the conductive patterns on both substrates can be reliably conducted.

【0013】また、前記導電材を、前記第1の基板と前
記第2の基板とを貼り合わせるための液晶封入領域を画
成するシール材に含まれるスペーサ若しくは前記第1の
基板と前記第2の基板との間に分散配置されるスペーサ
と、同等か又はそれよりも大きな径の導電粒子を含むペ
ースト材とすることが好ましい。
[0013] The conductive material may be a spacer included in a sealing material defining a liquid crystal enclosing region for bonding the first substrate and the second substrate, or the first substrate and the second substrate. It is preferable to use a paste material containing conductive particles having a diameter equal to or larger than that of the spacer dispersed between the substrate and the substrate.

【0014】この手段によれば、導電材をペースト材と
することによって塗布等の取扱いが容易になるととも
に、ペースト材にスペーサと同等か又はそれよりも大き
な径の導電性粒子が含まれるため、基板の貼り合わせ時
において導電性粒子を確実に両基板の表面に接触させる
ことができるので、確実な導通を得ることができる。
According to this means, handling such as coating is facilitated by using the conductive material as a paste material, and the paste material contains conductive particles having a diameter equal to or larger than the spacer. Since the conductive particles can be reliably brought into contact with the surfaces of both substrates at the time of bonding the substrates, reliable conduction can be obtained.

【0015】さらに、前記第1の基板と前記第2の基板
とを貼り合わせるための液晶封入領域を画成するシール
材を、基板の貼り合わせ方向にのみ導通する異方性導電
材とし、前記第1の基板の前記導電パターンと、前記第
2の基板の前記導電パターンとを前記シール材の形成領
域において相互に重ならない形状に形成し、前記導電材
を、前記シール材と同材質で同時に配置させることによ
って、前記第1の基板と前記第2の基板の前記周縁部の
間に介在させることが好ましい。
Further, the sealing material defining a liquid crystal enclosing region for bonding the first substrate and the second substrate is an anisotropic conductive material that conducts only in a bonding direction of the substrates. The conductive pattern of the first substrate and the conductive pattern of the second substrate are formed in a shape that does not overlap each other in the formation region of the sealing material, and the conductive material is made of the same material as the sealing material at the same time. By arranging, it is preferable to interpose between the periphery of the first substrate and the peripheral portion of the second substrate.

【0016】この手段によれば、シール材を異方性導電
材としても、両基板の導電パターン同士がシール材の形
成領域において相互に重ならないために、シール材によ
っては導電パターン同士が導電接続されない。一方、導
電材はシール材と同材質で同時に形成できるので、別工
程を必要とせず、製造コストの低減を図ることができ
る。
According to this means, even if the sealing material is an anisotropic conductive material, the conductive patterns on both substrates do not overlap each other in the formation region of the sealing material. Not done. On the other hand, since the conductive material can be formed of the same material as the sealing material at the same time, a separate process is not required, and the manufacturing cost can be reduced.

【0017】ここで、前記導電材を、前記シール材に含
まれるスペーサ若しくは前記第1の基板と前記第2の基
板との間に分散配置されるスペーサと、同等か又はそれ
よりも大きな径の導電粒子を含むペースト材とする場合
がある。
Here, the conductive material may be formed of a spacer having a diameter equal to or larger than that of a spacer included in the sealing material or a spacer dispersed between the first substrate and the second substrate. It may be a paste material containing conductive particles.

【0018】また、前記導電材は、前記貼り合わせ工程
において前記第1の基板と前記第2の基板とを仮固定す
るための仮固定用接着剤を兼ねていることが好ましい。
It is preferable that the conductive material also serves as a temporary fixing adhesive for temporarily fixing the first substrate and the second substrate in the bonding step.

【0019】この手段によれば、導電材により両基板を
仮固定することができるので、導電材を形成する別の工
程を必要とせず、製造工程を効率化することができる。
According to this means, the two substrates can be temporarily fixed by the conductive material, so that a separate process for forming the conductive material is not required, and the manufacturing process can be made more efficient.

【0020】また本発明の液晶表示装置は、画素領域に
対応して形成された電極、配線パターン等から成る導電
パターンを形成して成る第1の基板及び第2の基板とを
貼り合わせ、相互に貼り合わされた前記第1の基板及び
第2の基板の周縁部を切り離して液晶パネルを形成する
液晶表示装置において、前記第1の基板及び前記第2の
基板の前記導電パターンの前記周縁部の間に導電材を介
在させ、前記第1の基板と前記第2の基板の前記導電パ
ターン同士が前記導電材によって実質的に導電接触する
ように形成し、その後、前記第1の基板及び第2の基板
の周縁部とともに前記導電材を切り離すことを特徴とす
る。
Further, in the liquid crystal display device of the present invention, a first substrate and a second substrate each having a conductive pattern formed of an electrode, a wiring pattern and the like formed corresponding to a pixel region are bonded to each other, In a liquid crystal display device in which a peripheral portion of the first substrate and the second substrate bonded to each other is separated to form a liquid crystal panel, a peripheral portion of the conductive pattern of the first substrate and the second substrate is formed. A conductive material is interposed between the first substrate and the second substrate so that the conductive patterns of the first substrate and the second substrate are substantially conductively contacted by the conductive material. And separating the conductive material together with the peripheral portion of the substrate.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶表示装置の製造方法の実施形態について説明
する。この実施形態は、MIM素子を画素毎に備えたT
N型アクティブマトリスク方式の透過型液晶表示装置に
本発明を適用した例である。但し、本発明はこのような
タイプの液晶表示装置に限定されるものではなく、電極
や配線層等の導電パターンを備えた基板から成るもので
あれば、各種の液晶表示装置に広く適用できるものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this embodiment, a TIM having an MIM element for each pixel is used.
This is an example in which the present invention is applied to a transmission type liquid crystal display device of an N-type active matrix type. However, the present invention is not limited to such a type of liquid crystal display device, and can be widely applied to various types of liquid crystal display devices as long as the substrate is provided with a conductive pattern such as an electrode or a wiring layer. It is.

【0022】また、以下に説明する実施形態において
は、2つの液晶封入領域に対応する大きさの基板により
基板の貼り合わせ工程を行って大判パネルを形成し、こ
の大判パネル内に2つの液晶封入領域を形成して液晶封
入工程を行い、さらにこの大判パネルからパネル切離工
程によって2つの液晶パネルを分離する製造工程につい
て本発明を適用している。
In the embodiment described below, a large-size panel is formed by performing a substrate bonding process using substrates of a size corresponding to two liquid-crystal-filled regions, and two liquid-crystal-filled portions are formed in the large-size panel. The present invention is applied to a manufacturing process in which a region is formed, a liquid crystal sealing process is performed, and two liquid crystal panels are separated from the large format panel by a panel separating process.

【0023】しかしながら、大判パネルに幾つの液晶封
入領域を形成して、幾つの液晶パネルを形成するように
してもよく、例えば、大判パネルに単一の液晶封入領域
を形成し、大判パネルの周縁部のみをパネル切離工程に
て切断除去して、単一の液晶パネルを形成するようにし
てもよい。
However, a number of liquid crystal enclosing regions may be formed on a large format panel to form a number of liquid crystal panels. For example, a single liquid crystal enclosing region may be formed on a large format panel and the periphery of the large format panel may be formed. Only a portion may be cut and removed in the panel separating step to form a single liquid crystal panel.

【0024】図1は本実施形態における素子基板10の
平面構造の概略を示すものである。素子基板10の表面
上には2つの液晶封入予定領域11,11が設定され、
この液晶封入予定領域11の内側に、多数の図示しない
画素領域が構成されている。この画素領域は、液晶封入
予定領域11の内部に並列に伸びた配線層12に沿って
複数配列されている。
FIG. 1 schematically shows a planar structure of an element substrate 10 in this embodiment. On the surface of the element substrate 10, two liquid crystal encapsulation scheduled areas 11, 11 are set,
A large number of pixel regions (not shown) are formed inside the liquid crystal sealing planned region 11. The plurality of pixel regions are arranged along the wiring layer 12 extending in parallel inside the liquid crystal filling planned region 11.

【0025】上記画素領域内には、配線層12に接続さ
れたMIM素子と、該MIM素子に接続されたITO
(インジウムスズ酸化物)からなる透明な画素電極とが
形成されている。MIM素子は、例えばTaから成る配
線層12の表面を陽極酸化して酸化Taから成る絶縁膜
を形成し、この絶縁膜の上からCr等の金属から成る電
極層を形成することによって構成される。
In the pixel area, the MIM element connected to the wiring layer 12 and the ITO connected to the MIM element are provided.
A transparent pixel electrode made of (indium tin oxide) is formed. The MIM element is formed by, for example, anodizing the surface of a wiring layer 12 made of Ta to form an insulating film made of Ta oxide, and forming an electrode layer made of a metal such as Cr on the insulating film. .

【0026】素子基板10上の導電パターンを構成する
複数の配線層12は、それぞれ液晶封入予定領域11の
外部(周縁部)にまで伸び、その先端部にて一本の接続
パターン13に導電接続されている。この接続パターン
13は、配線層12の表面を陽極酸化する際に、陽極酸
化電圧を印加するための給電ラインでもある。
A plurality of wiring layers 12 constituting a conductive pattern on the element substrate 10 each extend to the outside (peripheral portion) of the liquid crystal encapsulating area 11, and are conductively connected to one connection pattern 13 at the tip. Have been. The connection pattern 13 is also a power supply line for applying an anodic oxidation voltage when anodizing the surface of the wiring layer 12.

【0027】図2は本実施形態における対向基板20の
平面構造の概略を示すものである。対向基板20の表面
上には、上記素子基板10の液晶封入予定領域11と対
応する液晶封入予定領域21,21が2つ設定されてお
り、その内部にITOから成る複数のストライプ状の対
向電極22が形成されている。この対向電極22は、上
記素子基板10上の図示しない画素電極と対向し、その
間に配置される液晶層に所定の駆動電圧を印加するため
のものである。
FIG. 2 schematically shows a planar structure of the counter substrate 20 in this embodiment. On the surface of the counter substrate 20, two liquid crystal sealing regions 21 and 21 corresponding to the liquid crystal sealing region 11 of the element substrate 10 are set, and a plurality of stripe-like counter electrodes made of ITO are formed therein. 22 are formed. The counter electrode 22 faces a pixel electrode (not shown) on the element substrate 10 and applies a predetermined drive voltage to a liquid crystal layer disposed therebetween.

【0028】対向電極22は、液晶封入予定領域21の
外(周縁部)において、液晶封入予定領域21毎に設け
られた接続パターンである領域接続パターン23,23
に接続される。さらに、この2本の領域接続パターン2
3は一本の基板接続パターン24に接続されている。こ
れらの領域接続パターン23及び基板接続パターン24
は、対向基板20上の対向電極間の放電を防止するため
の静電気対策用の引き回しラインでもある。
The counter electrode 22 is provided outside the liquid crystal encapsulation area 21 (peripheral edge) with the area connection patterns 23, 23 which are connection patterns provided for each liquid crystal encapsulation area 21.
Connected to. Further, the two area connection patterns 2
3 is connected to one board connection pattern 24. These region connection patterns 23 and substrate connection patterns 24
Is also a wiring for preventing static electricity between the opposing electrodes on the opposing substrate 20.

【0029】なお、素子基板10及び対向基板20の表
面上には、適宜ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール
等から成る配向膜が形成され、所定方向にラビング処理
される場合がある。また。カラー液晶表示装置の場合に
は、対向基板20の表面上(対向電極22の上層又は下
層)にカラーフィルタが形成される。
Note that an alignment film made of polyimide resin, polyvinyl alcohol, or the like is appropriately formed on the surfaces of the element substrate 10 and the counter substrate 20, and rubbing may be performed in a predetermined direction. Also. In the case of a color liquid crystal display device, a color filter is formed on the surface of the counter substrate 20 (the upper layer or the lower layer of the counter electrode 22).

【0030】図1に示す素子基板10と、図2に示す対
向基板20との少なくともいずれか一方に、図示しない
シール材を液晶封入予定領域11,21の境界部分に沿
って塗布し、このシール材によって両基板を貼り合わせ
る。図3には、上記素子基板10と対向基板20とを貼
り合わせた状態を示す。シール材30は、液晶封入予定
領域11,21に沿って延長するように塗布され、その
一部が液晶注入口30aとなる開口部になるように形成
され、このシール材30によって液晶封入領域が画成さ
れる。
A sealing material (not shown) is applied to at least one of the element substrate 10 shown in FIG. 1 and the counter substrate 20 shown in FIG. The two substrates are bonded together by a material. FIG. 3 shows a state where the element substrate 10 and the counter substrate 20 are attached to each other. The sealing material 30 is applied so as to extend along the liquid crystal filling regions 11 and 21, and a part thereof is formed to be an opening serving as a liquid crystal injection port 30 a. Is defined.

【0031】本実施形態においては、図1に示すよう
に、接続パターン13上であって、かつ、素子基板10
の隅部に位置する領域14と、図2に示すように、基板
接続パターン24上であって、かつ、対向基板20の隅
部に位置する領域25とのいずれか少なくとも一方に、
図3に示す導電接着剤31を塗布する。上記領域14と
領域25とは素子基板10と対向基板20とを正規に貼
り合わせた状態で相互に対向するように予め設定されて
いる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, on the connection pattern 13 and on the element substrate 10
2, and at least one of a region 25 located on the substrate connection pattern 24 and at a corner of the opposing substrate 20 as shown in FIG.
The conductive adhesive 31 shown in FIG. 3 is applied. The region 14 and the region 25 are set in advance so as to face each other in a state where the element substrate 10 and the counter substrate 20 are properly bonded.

【0032】上記導電接着剤31は、接続パターン13
と基板接続パターン24との間を導通させるため、両基
板を貼り合わせることによって、配線層12と、対向電
極22とをほぼ同電位とすることができる。したがっ
て、両基板間における放電による素子破壊や、配線ライ
ンや対向電極の損傷等を防止することができる。
The conductive adhesive 31 is applied to the connection pattern 13
The wiring layer 12 and the opposing electrode 22 can be set to substantially the same potential by bonding the two substrates to each other so as to conduct between the substrate connection pattern 24. Therefore, it is possible to prevent element destruction due to discharge between the two substrates, damage to wiring lines and counter electrodes, and the like.

【0033】この場合、導電接着剤31を、素子基板1
0と対向基板20との間の仮固定用接着剤としても兼用
することが好ましい。基板の貼り合わせ工程は、シール
材を介して両基板を正しい位置関係に貼り合わせた状態
とし(仮固定)、次に、正確な基板間ギャップを出すよ
うに加圧して、シール材30を硬化させる(本固定)よ
うにするのが一般的である。このとき、導電接着剤31
を仮固定用接着剤として兼用することによって、従来の
製造工程と同様の工程にて製造を行うことが可能にな
る。
In this case, the conductive adhesive 31 is applied to the element substrate 1
It is preferable that the adhesive also serves as a temporary fixing adhesive between the substrate and the counter substrate 20. In the substrate bonding step, the two substrates are bonded together in a correct positional relationship via a sealing material (temporary fixation), and then pressurized so as to obtain an accurate gap between the substrates, thereby curing the sealing material 30. In general, it is fixed (fixed). At this time, the conductive adhesive 31
Can also be used as a temporary fixing adhesive, thereby making it possible to perform manufacturing in a process similar to a conventional manufacturing process.

【0034】仮固定用接着剤としては、基板の液晶封入
領域の外側、特に、基板の隅部に複数箇所設けることが
望ましいので、導電接着剤31も、両基板間の導通に寄
与するものもしないものも、基板の隅部(例えば4か
所)に塗布形成することが好ましい。
It is desirable to provide a plurality of temporary fixing adhesives outside the liquid crystal sealing region of the substrate, particularly at a plurality of corners of the substrate. It is preferable that those not to be formed be applied to the corners (for example, four places) of the substrate.

【0035】上記導電接着剤31としては、仮固定用の
光硬化性の接着剤に導電性粒子を添加したものが好まし
い。例えば、導電性粒子として、樹脂ボールにNiメッ
キ、Auメッキ、Agメッキ等を施したものを0.01
〜10wt%、好ましくは0.1〜1wt%程度添加し
たものが望ましい。導電性粒子としては、その他の金属
粒子、導電性樹脂等をも用いることができる。
As the conductive adhesive 31, it is preferable to use a temporary fixing photo-curable adhesive obtained by adding conductive particles. For example, conductive particles obtained by subjecting a resin ball to Ni plating, Au plating, Ag plating, or the like may be used as a conductive particle.
It is desirable to add about 10 to 10 wt%, preferably about 0.1 to 1 wt%. As the conductive particles, other metal particles, conductive resins, and the like can also be used.

【0036】導電接着剤31のように接着機能を果たす
ことは必ずしも要求されない場合もあり、単なる導電材
を両基板の間に介在するように配置してもよい。この場
合、導電材はペースト状であることが取扱上好ましく、
各種の導電性ペーストを用いることができる。
It may not always be required to perform the bonding function like the conductive adhesive 31, and a mere conductive material may be disposed so as to be interposed between the two substrates. In this case, it is preferable in handling that the conductive material is in the form of a paste,
Various conductive pastes can be used.

【0037】このような金属被覆樹脂粒子その他の導電
性粒子は、シール材30に添加されるスペーサとしての
グラスファイバーの有効径とほぼ同様の径を備えるか、
或いはそれ以上の径を備えたものが導通を確実に得るた
めに好ましい。
The metal-coated resin particles and other conductive particles have a diameter substantially equal to the effective diameter of the glass fiber as a spacer added to the sealing material 30.
Alternatively, a member having a diameter larger than that is preferable in order to reliably obtain conduction.

【0038】図4には、素子基板10と対向基板20と
をシール材30を介して貼り合わせた状態を示す。この
図に示すように、シール材30の内部にはグラスファイ
バー32が混入されてスペーサとして用いられる場合が
あり、この場合には導電接着剤31の内部に含有される
導電性粒子33を、グラスファイバー32の有効径(基
板間においてスペーサとして機能した場合の基板間隔を
規定する径)とほぼ同様の径とするか、或いは、それよ
りも多少大きな径とすることが、導電接着剤31の導電
状態を確実に得るために要求されるのである。
FIG. 4 shows a state in which the element substrate 10 and the opposing substrate 20 are bonded together with a sealing material 30 interposed therebetween. As shown in this figure, a glass fiber 32 may be mixed into the sealing material 30 to be used as a spacer. In this case, the conductive particles 33 contained in the conductive adhesive 31 are removed by glass. The diameter of the conductive adhesive 31 should be approximately the same as the effective diameter of the fiber 32 (the diameter defining the substrate spacing when functioning as a spacer between the substrates) or slightly larger than that. It is required to ensure the status.

【0039】この場合、仮にシール材30内にグラスフ
ァイバー32が混入されていてもいなくても、液晶パネ
ルの液晶封入領域内にはスペーサが多数分散配置される
場合があり、この場合には、グラスファイバー32の有
効径の代わりに、基板間のスペーサの径を基準として上
記と同様に導電性粒子33の径を決定すればよい。
In this case, even if the glass fiber 32 is not mixed in the sealing material 30, a large number of spacers may be dispersed in the liquid crystal sealing region of the liquid crystal panel. In this case, Instead of the effective diameter of the glass fiber 32, the diameter of the conductive particles 33 may be determined based on the diameter of the spacer between the substrates in the same manner as described above.

【0040】なお、上記実施形態において、図1に示す
接続パターン13は、MIM素子を形成する際に必要な
絶縁膜を形成するための陽極酸化処理をする場合に用い
る給電ラインであり、図2に示す領域接続パターン23
及び基板接続パターン24は対向基板20上の配線及び
電極間の静電気対策上形成された放電防止ラインであ
り、これらの導電体はいずれも基板上に被着される他の
金属層の形成工程において同時に形成することができ
る。
In the above embodiment, the connection pattern 13 shown in FIG. 1 is a power supply line used for performing an anodic oxidation treatment for forming an insulating film necessary for forming an MIM element. Area connection pattern 23 shown in FIG.
And the substrate connection pattern 24 is a discharge prevention line formed as a countermeasure against static electricity between the wiring and the electrodes on the counter substrate 20, and these conductors are used in the process of forming another metal layer to be deposited on the substrate. It can be formed simultaneously.

【0041】特に、対向基板20の表面上に形成される
対向電極22と領域接続パターン23との間は、図6
(a)に示すように完全に導電接続されていなくても、
図6(b)又は図6(c)に示す間隙部22a,22b
のように、危険な電位差が生じたときに、放電して電荷
を逃がすように構成されていればよい。したがって、両
基板の間の導通状態は、静電気に起因する破壊や損傷が
発生しない程度に電位差を抑えることができるものであ
ればよい。
In particular, the space between the counter electrode 22 formed on the surface of the counter substrate 20 and the region connection pattern 23 is shown in FIG.
Even if they are not completely conductively connected as shown in FIG.
The gaps 22a and 22b shown in FIG. 6B or FIG.
It is sufficient that the battery is discharged to release the electric charge when a dangerous potential difference is generated as in the above. Therefore, the conduction state between the two substrates may be any as long as the potential difference can be suppressed to the extent that destruction or damage due to static electricity does not occur.

【0042】次に、図5を参照して上記実施形態とは若
干異なる実施形態について説明する。この実施形態にお
いても、素子基板10と対向基板20に関する基本的な
構造は上記の実施形態と全く同様である。
Next, an embodiment slightly different from the above embodiment will be described with reference to FIG. Also in this embodiment, the basic structure of the element substrate 10 and the counter substrate 20 is exactly the same as that of the above embodiment.

【0043】この実施形態においては、上記シール材3
0とは異なり、異方性導電材からなるシール材40を用
いて液晶封入領域を画成し、素子基板10と対向基板2
0とを貼り合わせている。また、導電接着剤41は、シ
ール材40と同一材料で同一工程にて塗布形成され、両
基板の仮固定のためにシール材よりも一足先に光硬化さ
れる。
In this embodiment, the sealing material 3
0, the liquid crystal sealed region is defined by using a sealing material 40 made of an anisotropic conductive material, and the element substrate 10 and the opposing substrate 2
0 is pasted. The conductive adhesive 41 is formed by applying the same material and the same material as the sealing material 40 in the same step, and is light-cured one step ahead of the sealing material for temporarily fixing the two substrates.

【0044】なお、導電接着剤41は、基板間隔を均一
にするためのダミーシールの一部又は全部として形成す
ることもできる。基板間隔を均一にするためには、ダミ
ーシールをパネルの外側に連続して、或いは所定の間隔
を以て複数形成する必要があるが、このダミーシールと
導電材とを兼用させることによって、静電気対策と基板
間隔の均一化対策とを同時に施すことが可能になる。
The conductive adhesive 41 can be formed as part or all of a dummy seal for uniforming the distance between the substrates. In order to make the spacing between the substrates uniform, it is necessary to form a plurality of dummy seals continuously outside the panel or at predetermined intervals. It is possible to simultaneously take measures to make the substrate spacing uniform.

【0045】ここで、シール材40及び導電接着剤41
は、図4の導電接着剤31のように導電性粒子33を所
定量含有したもので構成することができる。ここで、シ
ール材40及び導電接着剤41の内部には、導電性粒子
の他に、図4に示すグラスファイバー32を混入しても
よい。なお、このグラスファイバー32の表面にメッキ
等により導電性を付与し、導電性粒子を不要としてもよ
い。
Here, the sealing material 40 and the conductive adhesive 41
Can be configured by containing a predetermined amount of conductive particles 33 like the conductive adhesive 31 in FIG. Here, the glass fiber 32 shown in FIG. 4 may be mixed into the sealing material 40 and the conductive adhesive 41 in addition to the conductive particles. The surface of the glass fiber 32 may be provided with conductivity by plating or the like, so that conductive particles are not required.

【0046】この実施形態では、素子基板10と対向基
板20の表面上の導電性材料が交差するのは導電性接着
剤41の配置された領域のみであり、液晶封入領域を取
り巻くシール材40の形成領域では、配線層12が交差
する場所と、対向電極22が交差する場所とが相互に重
ならないように構成されているので、シール材40が異
方性導電材で構成されていても、シール材40によって
両基板の導電パターン構造同士が導通することはない。
In this embodiment, the conductive material on the surface of the element substrate 10 and the surface of the counter substrate 20 intersect only in the region where the conductive adhesive 41 is disposed, and the sealing material 40 surrounding the liquid crystal sealing region. In the formation region, the location where the wiring layer 12 intersects and the location where the counter electrode 22 intersects are configured so as not to overlap with each other. Therefore, even if the sealing material 40 is formed of an anisotropic conductive material, The conductive material structure of both substrates is not electrically connected by the sealing material 40.

【0047】上記のように構成した導電材(導電接着剤
31及び41)により素子基板10と対向基板20との
間の電位差の発生が抑制され、静電気による素子破壊、
配線の損傷、画素電極や対向電極の損傷を防止すること
ができる。この効果を発揮するための、接続パターン1
3、領域接続パターン23、基板接続パターン24、導
電接着剤31及び41は最終的にパネル切離工程におい
て切断され、除去される。しかし、切断除去されるまで
は、両基板間の電位差を解消し、両基板の表面構造を有
効に保護することができる。
The conductive material (conductive adhesives 31 and 41) configured as described above suppresses the generation of a potential difference between the element substrate 10 and the opposing substrate 20, and the element is damaged by static electricity.
Damage to the wiring and damage to the pixel electrode and the counter electrode can be prevented. Connection pattern 1 for exhibiting this effect
3. The region connection pattern 23, the substrate connection pattern 24, and the conductive adhesives 31 and 41 are finally cut and removed in the panel separating step. However, until the substrate is cut and removed, the potential difference between the two substrates can be eliminated, and the surface structures of the two substrates can be effectively protected.

【0048】上記のように複数の液晶パネルを大判パネ
ルの形状で製造する場合には、その大判パネルの状態で
両基板間の導通をとり、静電気による事故を防止でき
る。液晶パネル毎に分離するパネル切離工程では、同時
に、接続パターン13、領域接続パターン23、基板接
続パターン24、導電接着剤31及び41を除去すれば
よい。
When a plurality of liquid crystal panels are manufactured in the form of a large-format panel as described above, conduction between the two substrates is maintained in the state of the large-format panel, thereby preventing an accident due to static electricity. In the panel separating step for separating each liquid crystal panel, the connection pattern 13, the area connection pattern 23, the substrate connection pattern 24, and the conductive adhesives 31 and 41 may be removed at the same time.

【0049】ただし、本発明に関しては、上述のように
複数の液晶パネルを大判パネルの形状で製造する場合に
限らず、単一の液晶パネル毎に製造する場合であって
も、最終的にパネル周縁部を切断するパネル切離工程を
設けさえすれば、同様に上記方法を適用できるものであ
る。
However, the present invention is not limited to the case where a plurality of liquid crystal panels are manufactured in the form of a large-sized panel as described above, and even if the plurality of liquid crystal panels are manufactured for each single liquid crystal panel, the panel is finally manufactured. The above method can be similarly applied as long as a panel separating step of cutting the peripheral portion is provided.

【0050】なお、大判パネルから複数の液晶パネルを
製造する方法には上記の他に様々なものが有る。例え
ば、縦横に複数の液晶封入領域が並んだ大判パネルを貼
り合わせた後に、1次のブレーク工程(パネル切離工
程)を実施して、短冊型の中判パネルに分割し、液晶を
注入した後、さらに中判パネルを2次のブレーク工程に
てコマ切れ状に分割して液晶パネルを形成する方法もあ
る。このように複数回のパネル切離工程を有する製造方
法においても、接続パターンに工夫をこらすことによっ
て、最終のパネル切離工程の直前までパネル構造を静電
気から保護することができる。
There are various methods for manufacturing a plurality of liquid crystal panels from a large format panel in addition to the above. For example, after laminating a large-sized panel in which a plurality of liquid crystal enclosing areas are lined up vertically and horizontally, a primary break process (panel separating process) is performed to divide into a rectangular medium-sized panel, and liquid crystal is injected. Thereafter, there is a method in which the liquid crystal panel is formed by further dividing the medium-size panel into pieces in a secondary break step. Even in the manufacturing method having a plurality of panel separation steps as described above, by devising the connection pattern, the panel structure can be protected from static electricity until immediately before the final panel separation step.

【0051】ただし、上述の場合、複数のパネル切離工
程が存在しても、いずれかの工程前までに静電気から保
護できるようになってさえいれば、本発明の範疇に含ま
れることとなるものである。
However, in the case described above, even if a plurality of panel separation steps are present, they are included in the scope of the present invention as long as they can be protected from static electricity before any of the steps. Things.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

【0053】請求項1によれば、基板の貼り合わせ工程
において導電材により第1の基板の導電パターンと第2
の基板の導電パターンとが実質的に導電接続されるた
め、両基板の導電パターン間に静電気に起因する大きな
電位差が生ずることが防止され、静電気に基づく素子破
壊や静電気の放電に基づく電極や配線パターンの損傷が
防止される。
According to the first aspect, in the substrate bonding step, the conductive pattern of the first substrate is connected to the second pattern by the conductive material.
The conductive patterns of the two substrates are substantially conductively connected to each other, so that a large potential difference due to static electricity is prevented from being generated between the conductive patterns on both substrates. Pattern damage is prevented.

【0054】請求項2によれば、第1の基板の周縁部に
第1の接続パターンを形成し、第2の基板の周縁部に第
2の接続パターンを形成して、これらの第1及び第2の
接続パターンの間を導電材が導電接続するように形成す
ることによって、確実に両基板の導電パターンを導通さ
せることができる。
According to the second aspect, the first connection pattern is formed on the peripheral portion of the first substrate, and the second connection pattern is formed on the peripheral portion of the second substrate. By forming the conductive material to be conductively connected between the second connection patterns, the conductive patterns on both substrates can be reliably conducted.

【0055】請求項3又は請求項5によれば、導電材を
ペースト材とすることによって塗布等の取扱いが容易に
なるとともに、ペースト材にスペーサと同等か又はそれ
よりも大きな径の導電性粒子が含まれるため、基板の貼
り合わせ時において導電性粒子を確実に両基板の表面に
接触させることができるので、確実な導通を得ることが
できる。
According to the third or fifth aspect, by using a conductive material as a paste material, handling such as application is facilitated, and the conductive material having a diameter equal to or larger than that of the spacer is added to the paste material. Therefore, the conductive particles can be reliably brought into contact with the surfaces of both substrates at the time of bonding the substrates, so that reliable conduction can be obtained.

【0056】請求項4によれば、シール材を異方性導電
材としても、両基板の導電パターン同士がシール材の形
成領域において相互に重ならないために、シール材によ
っては導電パターン同士が導電接続されない。一方、導
電材はシール材と同材質で同時に形成できるので、別工
程を必要とせず、製造コストの低減を図ることができ
る。
According to the fourth aspect, even if the sealing material is an anisotropic conductive material, the conductive patterns on both substrates do not overlap each other in the sealing material forming region. Not connected. On the other hand, since the conductive material can be formed of the same material as the sealing material at the same time, a separate process is not required, and the manufacturing cost can be reduced.

【0057】請求項6によれば、導電材により両基板を
仮固定することができるので、導電材を形成する別の工
程を必要とせず、製造工程を効率化することができる。
According to the sixth aspect, the two substrates can be temporarily fixed by the conductive material, so that another step of forming the conductive material is not required, and the manufacturing process can be made more efficient.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の実施形
態を説明するための素子基板の概略平面構造を示す概略
平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a schematic plan structure of an element substrate for describing an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】同実施形態における対向基板の概略平面構造を
示す概略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing a schematic plan structure of a counter substrate in the embodiment.

【図3】図1に示す素子基板と図2に示す対向基板とを
重ね合わせた状態を示す概略平面透視図である。
FIG. 3 is a schematic plan perspective view showing a state in which the element substrate shown in FIG. 1 and the counter substrate shown in FIG. 2 are overlaid;

【図4】同実施形態における素子基板と対向基板との間
のシール材と導電接着剤の配置断面を示す概略断面図で
ある。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an arrangement section of a sealing material and a conductive adhesive between an element substrate and a counter substrate in the same embodiment.

【図5】別の実施形態における素子基板と対向基板とを
重ね合わせた状態を示す概略平面透視図である。
FIG. 5 is a schematic plan perspective view showing a state in which an element substrate and a counter substrate in another embodiment are overlaid.

【図6】対向基板に形成された対向電極と導電接続ライ
ンとの間の種々の導電パターンの例を示す拡大平面図
(a),(b)及び(c)である。
FIG. 6 is enlarged plan views (a), (b) and (c) showing examples of various conductive patterns between a counter electrode formed on a counter substrate and a conductive connection line.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 素子基板 11,21 液晶封入予定領域 12 配線層 13 接続パターン 14,25 領域 20 対向基板 22 対向電極 23 領域接続パターン 24 基板接続パターン 30 シール材 31,41 導電接着剤 33 導電性粒子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Element board 11 and 21 Area to be filled with liquid crystal 12 Wiring layer 13 Connection pattern 14 and 25 Area 20 Counter substrate 22 Counter electrode 23 Area connection pattern 24 Board connection pattern 30 Seal material 31 and 41 Conductive adhesive 33 Conductive particles

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 画素領域に対応して形成された電極、配
線パターン等から成る導電パターンを形成して成る第1
の基板及び第2の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程
と、相互に貼り合わされた前記第1の基板及び第2の基
板の周縁部を切り離して液晶パネルを形成するパネル切
離工程とを有する液晶表示装置の製造方法において、 前記貼り合わせ工程の前に、前記第1の基板及び前記第
2の基板の前記導電パターンの前記周縁部の間に導電材
を介在させ、 前記貼り合わせ工程にて、前記第1の基板と前記第2の
基板の前記導電パターン同士が前記導電材によって実質
的に導電接触するように形成し、 前記パネル切離工程にて、前記第1の基板及び第2の基
板の周縁部とともに前記導電材を切り離すことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
A first conductive pattern comprising an electrode, a wiring pattern and the like formed corresponding to the pixel region;
Comprising: a bonding step of bonding a first substrate and a second substrate to each other; and a panel separating step of forming a liquid crystal panel by separating peripheral portions of the first and second substrates bonded to each other. In the method for manufacturing a display device, before the bonding step, a conductive material is interposed between the peripheral portions of the conductive patterns of the first substrate and the second substrate; The conductive patterns of the first substrate and the second substrate are formed so as to be substantially conductively contacted by the conductive material. In the panel separating step, the first substrate and the second substrate are formed. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising separating the conductive material together with the peripheral portion of the liquid crystal display device.
【請求項2】 請求項1において、前記導電材は、前記
第1の基板に形成された前記導電パターンに前記周縁部
において接続された第1の接続パターンと、前記第2の
基板に形成された前記導電パターンに前記周縁部におい
て接続された第2の接続パターンとの間を導電接続する
ように形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein the conductive material is formed on a first connection pattern connected to the conductive pattern formed on the first substrate at the peripheral portion, and on the second substrate. Forming a conductive connection between the conductive pattern and a second connection pattern connected at the peripheral portion.
【請求項3】 請求項1又は請求項2のいずれか1項に
おいて、前記導電材を、前記第1の基板と前記第2の基
板とを貼り合わせるための液晶封入領域を画成するシー
ル材に含まれるスペーサ若しくは前記第1の基板と前記
第2の基板との間に分散配置されるスペーサと、同等か
又はそれよりも大きな径の導電粒子を含むペースト材と
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. A sealing material according to claim 1, wherein said conductive material defines a liquid crystal enclosing region for bonding said first substrate and said second substrate. A paste material containing conductive particles having a diameter equal to or larger than that of the spacer included in the first substrate or the spacer dispersed between the first substrate and the second substrate. A method for manufacturing a display device.
【請求項4】 請求項1において、前記第1の基板と前
記第2の基板とを貼り合わせるための液晶封入領域を画
成するシール材を、基板の貼り合わせ方向にのみ導通す
る異方性導電材とし、前記第1の基板の前記導電パター
ンと、前記第2の基板の前記導電パターンとを前記シー
ル材の形成領域において相互に重ならない形状に形成
し、前記導電材を、前記シール材と同材質で同時に配置
することによって、前記第1の基板と前記第2の基板の
前記周縁部の間に介在させることを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。
4. The anisotropic structure according to claim 1, wherein a sealing material defining a liquid crystal enclosing region for bonding the first substrate and the second substrate is conducted only in a bonding direction of the substrates. A conductive material, wherein the conductive pattern of the first substrate and the conductive pattern of the second substrate are formed so as not to overlap with each other in a region where the sealant is formed; A method for manufacturing a liquid crystal display device, characterized by interposing between the peripheral portions of the first substrate and the second substrate by arranging the same material at the same time.
【請求項5】 請求項4において、前記導電材を、前記
シール材に含まれるスペーサ若しくは前記第1の基板と
前記第2の基板との間に分散配置されるスペーサと、同
等か又はそれよりも大きな径の導電粒子を含むペースト
材とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the conductive material is equal to or larger than a spacer included in the sealing material or a spacer dispersed between the first substrate and the second substrate. A paste material containing conductive particles having a large diameter.
【請求項6】 請求項1において、前記導電材は、前記
貼り合わせ工程において前記第1の基板と前記第2の基
板とを仮固定するための仮固定用接着剤を兼ねているこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the conductive material also serves as a temporary fixing adhesive for temporarily fixing the first substrate and the second substrate in the bonding step. Manufacturing method of a liquid crystal display device.
【請求項7】 画素領域に対応して形成された電極、配
線パターン等から成る導電パターンを形成して成る第1
の基板及び第2の基板とを貼り合わせ、相互に貼り合わ
された前記第1の基板及び第2の基板の周縁部を切り離
して液晶パネルを形成する液晶表示装置において、 前記第1の基板及び前記第2の基板の前記導電パターン
の前記周縁部の間に導電材を介在させ、前記第1の基板
と前記第2の基板の前記導電パターン同士が前記導電材
によって実質的に導電接触するように形成し、その後、
前記第1の基板及び第2の基板の周縁部とともに前記導
電材を切り離すことを特徴とする液晶表示装置。
7. A first pattern formed by forming a conductive pattern including an electrode, a wiring pattern, and the like formed corresponding to a pixel region.
A liquid crystal display device that forms a liquid crystal panel by bonding the first substrate and the second substrate, which are bonded to each other, and separating peripheral portions of the first substrate and the second substrate that are bonded to each other. A conductive material is interposed between the peripheral portions of the conductive pattern of the second substrate so that the conductive patterns of the first substrate and the second substrate are substantially conductively contacted by the conductive material. Form, then
A liquid crystal display device characterized in that the conductive material is cut off along with the peripheral portions of the first substrate and the second substrate.
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