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JPH1054917A - Optical waveguide module - Google Patents

Optical waveguide module

Info

Publication number
JPH1054917A
JPH1054917A JP21147896A JP21147896A JPH1054917A JP H1054917 A JPH1054917 A JP H1054917A JP 21147896 A JP21147896 A JP 21147896A JP 21147896 A JP21147896 A JP 21147896A JP H1054917 A JPH1054917 A JP H1054917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical waveguide
light
groove
substrate
wavelength
Prior art date
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Granted
Application number
JP21147896A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3324936B2 (en
Inventor
Yasuyuki Inoue
靖之 井上
Masahiro Yanagisawa
雅弘 柳澤
Hiroshi Terui
博 照井
Masahiro Okawa
正浩 大川
Naoto Uetsuka
尚登 上塚
Tatsunori Kanetani
達憲 金谷
Taisuke Iwato
泰典 岩藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd, Hitachi Ltd, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Hitachi Cable Ltd
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Publication of JPH1054917A publication Critical patent/JPH1054917A/en
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4246Bidirectionally operating package structures

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a clad mode generated within a laser diode (LD)-optical waveguide coupling part and an optical waveguide element from leakage into optical fibers facing this LD by forming grooves of the direction crossing the optical waveguides on both sides of the optical waveguides and applying light shieldable films on the inside walls of these grooves. SOLUTION: The light of a wavelength (λ2) of 1.3μm emitted from the LD is guided through an LD port 19, a branching part 12b and a filter 13 to a common port 14. At this time, the clad mode is generated in the coupling part of the LD and the optical waveguides 11, the branching part 12a and the branching part 12b of the yshaped waveguides. This clad mode is confined and propagated between a substrate 10 and the air layer in the upper part of the clad layer 21, is reflected and absorbed by the grooves 28 formed with the metallic films 30 and is shut off by a groove side bench 29. The leaking of the clad mode from the LD into the optical fibers 18 of the reflection port 17 is, therefore, suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路型モジュ
ールに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide module.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ファイバ通信、特に光加入者系の普及
のためには光導波路型モジュールの小型化と低価格化と
が重要な課題である。この課題の解決のためにSi基板
上に光導波路を形成し、チップレベルのLD(レーザダ
イオード)、PD(フォトダイオード)を表面実装する
光導波路型モジュールが検討されている(SiO2 /S
iハイブリッド光集積プラットフォームを用いたLDチ
ップ表面実装;1994年信学春季大会C−287参
照)。
2. Description of the Related Art In order to spread optical fiber communications, especially optical subscriber systems, it is important to reduce the size and cost of optical waveguide modules. To solve this problem, an optical waveguide type module in which an optical waveguide is formed on a Si substrate and a chip-level LD (laser diode) and PD (photodiode) are surface-mounted has been studied (SiO 2 / S).
LD chip surface mounting using i-hybrid optical integration platform; see C-287, 1994 IEICE Spring Conference).

【0003】図4はLDを基板上に表面実装した光導波
路型モジュールのプラットフォーム構造の概略図であ
り、図5は図4に示したプラットフォーム構造の光導波
路型モジュールの従来例を示す外観斜視図である。
FIG. 4 is a schematic view of a platform structure of an optical waveguide module in which an LD is surface-mounted on a substrate, and FIG. 5 is an external perspective view showing a conventional example of the optical waveguide module having the platform structure shown in FIG. It is.

【0004】図4に示す光導波路型モジュールのプラッ
トフォーム構造は、コア1、バッファ層2及びクラッド
層3からなる埋め込み型石英系の光導波路とテラス構造
付きSi基板4とを組み合わせたものである。Siベン
チからなるテラス5は半導体素子(LD)6を支持する
と共にヒートシンクとしての機能も有している。
[0004] The platform structure of the optical waveguide module shown in FIG. 4 is a combination of a buried quartz optical waveguide comprising a core 1, a buffer layer 2 and a cladding layer 3 and a Si substrate 4 having a terrace structure. The terrace 5 made of a Si bench supports the semiconductor element (LD) 6 and has a function as a heat sink.

【0005】光導波路型モジュールは、映像信号(波長
λ1)と通信信号(波長λ2:λ2≠λ1)とを、光導
波路上に挿入された波長λ2の光を透過し、波長λ1の
光を反射する特性を持つフィルタで合分波する方法が検
討されており、図5に示すようなものが用いられてい
る。
The optical waveguide type module transmits a video signal (wavelength λ1) and a communication signal (wavelength λ2: λ2 ≠ λ1) through light having a wavelength λ2 inserted into the optical waveguide and reflects light having a wavelength λ1. A method of multiplexing / demultiplexing with a filter having the following characteristics is being studied, and a method shown in FIG. 5 is used.

【0006】図5に示す光導波路型モジュールは、Si
からなる基板10上にy字型石英ガラス系の単一モード
の光導波路11を形成し、y字型の分岐部12aに、波
長λ2の光を透過し、波長λ1(λ1≠λ2)の光を反
射するフィルタ13を配置したものである。
The optical waveguide module shown in FIG.
A single-mode optical waveguide 11 of y-shaped quartz glass is formed on a substrate 10 made of, and light having a wavelength of λ2 is transmitted through a y-shaped branch portion 12a, and light having a wavelength of λ1 (λ1 ≠ λ2) is transmitted. Is provided with a filter 13 that reflects light.

【0007】次にこのような光導波路型モジュールを伝
搬する光を順をおって説明する。
Next, the light propagating through such an optical waveguide module will be described in order.

【0008】共通ポート14に光ファイバ15から波長
λ1の光と波長λ2の光とを入射すると、波長λ2の光
は光導波路11のコアを通ってフィルタ13を透過し、
分岐部12bで所望の分配比で分岐され、PDポート1
6を通ってPDへ達する。共通ポート14に入射された
波長λ1の光は、光導波路11のコアを通ってフィルタ
13で反射され、反射ポート17へ導波されて光ファイ
バ18に入射される。
When light of wavelength λ1 and light of wavelength λ2 enter the common port 14 from the optical fiber 15, the light of wavelength λ2 passes through the core of the optical waveguide 11, passes through the filter 13, and
The PD 12 is branched at a desired distribution ratio at the branch unit 12b, and the PD port 1
6 to PD. The light of wavelength λ1 incident on the common port 14 is reflected by the filter 13 through the core of the optical waveguide 11, guided to the reflection port 17, and incident on the optical fiber 18.

【0009】一方、LDから波長λ2の光が出射される
と波長λ2の光は、LDポート19、分岐部12b及び
フィルタ13を透過して共通ポート14へ導波される。
On the other hand, when the light having the wavelength λ2 is emitted from the LD, the light having the wavelength λ2 is transmitted to the common port 14 through the LD port 19, the branch portion 12b and the filter 13.

【0010】尚、20はバッファ層、21はクラッド
層、22はPDからの信号電流を取り出すための金属膜
としてのPD用電極、23は斜めカット、24は気密用
蓋、27はLDへの電流を供給するための金属膜として
のLD用電極をそれぞれ示す。
Reference numeral 20 denotes a buffer layer, 21 denotes a cladding layer, 22 denotes a PD electrode as a metal film for extracting a signal current from the PD, 23 denotes an oblique cut, 24 denotes an airtight lid, and 27 denotes an LD. An LD electrode as a metal film for supplying a current is shown.

【0011】次にこのような光導波路型モジュールの製
造工程について説明する。
Next, the manufacturing process of such an optical waveguide module will be described.

【0012】図6は図5に示した光導波路型モジュール
の製造工程図である。
FIG. 6 is a manufacturing process diagram of the optical waveguide module shown in FIG.

【0013】まず、Siからなる基板10を準備する
(図6(a))。
First, a substrate 10 made of Si is prepared (FIG. 6A).

【0014】基板10をエッチングすることによりLD
及びPDをマウントする位置に素子側ベンチ25を形成
する(図6(b))。
By etching the substrate 10, the LD
Then, an element-side bench 25 is formed at a position where the PD is mounted (FIG. 6B).

【0015】素子側ベンチ25を形成した基板10上
に、この素子側ベンチ25が露出するようにバッファ層
20を形成し、バッファ層20及び素子側ベンチ25の
上にコア26及びクラッド層21を形成することにより
石英ガラス系の光導波路11を形成する(図6
(c))。
A buffer layer 20 is formed on the substrate 10 on which the element-side bench 25 is formed so that the element-side bench 25 is exposed, and a core 26 and a cladding layer 21 are formed on the buffer layer 20 and the element-side bench 25. By forming the optical waveguide, a silica glass optical waveguide 11 is formed (FIG. 6).
(C)).

【0016】クラッド層21をエッチングすることによ
り素子側ベンチ25を露出させる(図6(d))。
The element side bench 25 is exposed by etching the cladding layer 21 (FIG. 6D).

【0017】露出した素子側ベンチ25にPD用電極2
2とLD用電極27とを形成すると共にクラッド層21
にもPD用電極22とLD用電極27とを形成する(図
6(e))。
The PD electrode 2 is placed on the exposed element-side bench 25.
2 and the LD electrode 27 and the cladding layer 21.
Also, a PD electrode 22 and an LD electrode 27 are formed (FIG. 6E).

【0018】その後、フィルタ13の配置工程、LD及
びPDアライメント工程等実装工程を経て光導波路型モ
ジュールが形成される。
Thereafter, an optical waveguide type module is formed through a mounting process such as an arrangement process of the filter 13 and an alignment process of the LD and the PD.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板1
0上に形成する石英系光導波路は、LD−光導波路結合
部及び光導波路素子内で生じる波長λ2の光の放射モー
ドが、基板10とクラッド層21上部の空気の層で閉じ
込められ、クラッドモードとなってLDと対向する反射
ポート17に接続された光ファイバ18へ漏れ込んでし
まい、現在の通信システムにおいては、その光通信の品
質に悪影響を与えてしまうという問題があった。
However, the substrate 1
In the silica-based optical waveguide formed on the substrate 0, the radiation mode of light having a wavelength of λ2 generated in the LD-optical waveguide coupling portion and the optical waveguide device is confined by the air layer on the substrate 10 and the cladding layer 21. As a result, it leaks into the optical fiber 18 connected to the reflection port 17 facing the LD, and in the current communication system, there is a problem that the quality of the optical communication is adversely affected.

【0020】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、LD−光導波路結合部及び光導波路素子内で発生す
るクラッドモードが、LDと対向する光ファイバに漏れ
込まない光導波路型モジュールを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problem and provide an optical waveguide module in which a clad mode generated in an LD-optical waveguide coupling portion and an optical waveguide element does not leak into an optical fiber facing the LD. To provide.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、光ファイバに接続するための光導波路を基
板上に形成し、その光導波路に発光素子及び受光素子を
接続した光導波路型モジュールにおいて、光導波路の両
側に光導波路を横切る方向の溝を形成し、その溝の内壁
に遮光性の膜を施したものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides an optical waveguide in which an optical waveguide for connecting to an optical fiber is formed on a substrate, and a light emitting element and a light receiving element are connected to the optical waveguide. In the mold module, grooves are formed on both sides of the optical waveguide in a direction crossing the optical waveguide, and a light-shielding film is formed on the inner wall of the groove.

【0022】上記構成に加え本発明は、基板にSiを用
い、発光素子にレーザダイオードを用い、受光素子にフ
ォトダイオードを用いると共に、基板にレーザダイオー
ド及びフォトダイオードを搭載するための素子側ベンチ
を形成し、かつ溝が形成される位置に溝側ベンチを形成
するのが好ましい。
In addition to the above-described structure, the present invention provides an element-side bench for mounting a laser diode and a photodiode on a substrate while using Si for a substrate, using a laser diode for a light emitting element, using a photodiode for a light receiving element. It is preferable to form a groove bench at a position where the groove is formed.

【0023】上記構成に加え本発明は、レーザダイオー
ドへの電流供給とフォトダイオードからの信号電流を取
り出すための金属膜を素子側ベンチ及びクラッド層に形
成し、かつ、遮光性の膜に金属膜を用いるのが好まし
い。
In addition to the above structure, the present invention provides a metal film for supplying a current to a laser diode and extracting a signal current from a photodiode on an element-side bench and a cladding layer, and a metal film on a light-shielding film. It is preferable to use

【0024】上記構成に加え本発明は、溝を、その深さ
が基板まで達するように形成するのが好ましい。
In the present invention, in addition to the above structure, it is preferable that the groove is formed so that its depth reaches the substrate.

【0025】上記構成に加え本発明は、光導波路をy字
型導波路に形成し、y字型の分岐部に波長λ2の光を透
過すると共に波長λ2と異なる波長λ1の光を反射する
フィルタを配置し、フィルタによって反射される光の出
射側光導波路端面と分岐部との間に少なくとも一つの溝
を形成するのが好ましい。
In addition to the above configuration, the present invention provides a filter in which an optical waveguide is formed as a y-shaped waveguide, and a light having a wavelength of λ2 is transmitted to a y-shaped branch portion and a light of a wavelength λ1 different from the wavelength λ2 is reflected. And it is preferable to form at least one groove between the end face of the optical waveguide on the emission side of the light reflected by the filter and the branch portion.

【0026】上記構成によって、LD−光導波路結合部
及び光導波路素子内で生じる波長λ2の光の放射モード
が、Si基板とクラッド層上部の空気の層で閉じ込めら
れ、クラッドモードとなっても、遮光性の膜が施された
溝で反射又は吸収されるので、クラッドモードがLDと
対向する光ファイバへの漏れ込みが抑制される。
According to the above configuration, even if the radiation mode of light of wavelength λ2 generated in the LD-optical waveguide coupling portion and the optical waveguide element is confined by the Si substrate and the air layer above the cladding layer, the mode becomes Since the light is reflected or absorbed by the groove provided with the light-shielding film, the cladding mode is prevented from leaking into the optical fiber facing the LD.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0028】図1は本発明の光導波路型モジュールの一
実施の形態を示す外観斜視図であり、図2(a)は図1
のA−A線断面図、図2(b)は図1のB−B線断面
図、図2(c)は図1のC−C線断面図である。尚、図
5に示した従来例と同様の部材には共通の符号を用い
た。
FIG. 1 is an external perspective view showing an embodiment of the optical waveguide module according to the present invention, and FIG.
2A is a sectional view taken along line AA, FIG. 2B is a sectional view taken along line BB in FIG. 1, and FIG. 2C is a sectional view taken along line CC in FIG. Note that the same members as those in the conventional example shown in FIG.

【0029】光導波路型モジュールは、Si単結晶から
なる基板10上にバッファ層20を形成し、バッファ層
20の上にクラッド層21及び後述するコア26(図2
(a))を形成することにより石英系の光導波路11が
形成され、さらに基板10上にLD及び、PDを配置
し、LD及びPDを気密用蓋24で覆い、PD用電極2
2及びLD用電極27を形成し、光導波路11を横切る
ようにフィルタ13を配置し、かつ、光導波路11の両
側のクラッド層21に光導波路11を横切る方向の溝2
8を形成したものである(図では溝28が2組形成され
ているがこれに限定されるものではない)。
In the optical waveguide type module, a buffer layer 20 is formed on a substrate 10 made of Si single crystal, and a cladding layer 21 and a core 26 described later (FIG. 2) are formed on the buffer layer 20.
By forming (a)), a silica-based optical waveguide 11 is formed. Further, an LD and a PD are arranged on the substrate 10, and the LD and the PD are covered with a hermetic lid 24, and the PD electrode 2 is formed.
2 and the LD electrode 27 are formed, the filter 13 is disposed so as to cross the optical waveguide 11, and the groove 2 in the direction crossing the optical waveguide 11 is formed in the cladding layers 21 on both sides of the optical waveguide 11.
8 (two sets of grooves 28 are formed in the figure, but the present invention is not limited to this).

【0030】LDのマウント部はガラスエッチングによ
って基板10が露出しているので、LDの発光時の熱が
効率的に放出される。光導波路11の端面の斜めカット
23は、光導波路11の端面からLDへの戻り光及び光
導波路11の端面からの反射減衰量を低減するためのも
のである。
Since the substrate 10 is exposed in the mount portion of the LD by the glass etching, heat at the time of light emission of the LD is efficiently released. The oblique cut 23 of the end face of the optical waveguide 11 is for reducing the return light from the end face of the optical waveguide 11 to the LD and the return loss from the end face of the optical waveguide 11.

【0031】光導波路11は、y字型に形成されてお
り、分岐部12aには波長(λ2)1.3μmの光を透
過し、波長(λ2)1.55μmの光を反射する短波長
域透過型の誘電体多層膜構造のフィルタ13が配置され
ている。反射ポート17側の光導波路11の端面とy字
型光導波路の分岐部12aとの間と、y字型光導波路の
分岐部12aと分岐部12bとの間には幅約300μm
の溝28が形成されており、この溝28の内壁には両電
極22,27と同じ材質からなる金属膜30が蒸着され
ている。
The optical waveguide 11 is formed in a y-shape, and a short wavelength region that transmits light having a wavelength (λ2) of 1.3 μm and reflects light having a wavelength (λ2) of 1.55 μm to the branch portion 12a. A filter 13 having a transmission type dielectric multilayer structure is arranged. The width between the end surface of the optical waveguide 11 on the reflection port 17 side and the branch portion 12a of the y-shaped optical waveguide and the width between the branch portions 12a and 12b of the y-shaped optical waveguide are about 300 μm.
The metal film 30 made of the same material as the electrodes 22 and 27 is deposited on the inner wall of the groove 28.

【0032】このような光導波路型モジュールの製造工
程について図3(a)〜図3(e)を参照して説明す
る。図3(a)〜図3(e)は図1に示した光導波路型
モジュールの製造工程図である。
The manufacturing steps of such an optical waveguide module will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (e). 3A to 3E are manufacturing process diagrams of the optical waveguide module shown in FIG.

【0033】まず、Siからなる基板10を準備する
(図3(a))。
First, a substrate 10 made of Si is prepared (FIG. 3A).

【0034】基板10をエッチングすることによりLD
及びPDをマウントする位置に素子側ベンチ25を形成
すると共に、溝28を形成する位置に溝側ベンチ29を
形成する(図3(b))。
The LD is formed by etching the substrate 10.
Then, an element-side bench 25 is formed at a position where a PD is to be mounted, and a groove-side bench 29 is formed at a position where a groove 28 is to be formed (FIG. 3B).

【0035】両ベンチ25,29を形成した基板10上
に両ベンチ25,29が露出するようにバッファ層20
を形成し、バッファ層20及び素子側ベンチ25の上に
コア26及びクラッド層21からなる石英ガラス系の光
導波路11を形成する(図3(c))。
The buffer layer 20 is exposed on the substrate 10 on which the benches 25 and 29 are formed so that the benches 25 and 29 are exposed.
Is formed, and a silica glass optical waveguide 11 composed of a core 26 and a cladding layer 21 is formed on the buffer layer 20 and the element-side bench 25 (FIG. 3C).

【0036】クラッド層21をエッチングすることによ
り両ベンチ25,29を露出させる(図3(d))。
The benches 25 and 29 are exposed by etching the cladding layer 21 (FIG. 3D).

【0037】クラッド層21及び露出した素子側ベンチ
25にPD用電極22とLD用電極27とを形成し、溝
28の内壁に遮光性膜としての金属膜30を蒸着により
形成する(図3(e))。
A PD electrode 22 and an LD electrode 27 are formed on the cladding layer 21 and the exposed element-side bench 25, and a metal film 30 as a light-shielding film is formed on the inner wall of the groove 28 by vapor deposition (FIG. 3 ( e)).

【0038】その後、フィルタ13の配置工程、LD及
びPDアライメント工程等実装工程を経て光導波路型モ
ジュールが形成される。
After that, an optical waveguide module is formed through a mounting process such as a process of disposing the filter 13 and an alignment process of the LD and PD.

【0039】このような光導波路型モジュールが動作す
ると、LDから出射される波長(λ2)1.3μmの光
は、LDポート19、分岐部12b、フィルタ13を透
過して共通ポート14へと導波される。このとき、LD
と光導波路11との結合部、分岐部12a及びy字型導
波路の分岐部12bにおいてクラッドモードが生じる。
このクラッドモードは、基板10とクラッド層21の上
部の空気層との間に閉じ込められて伝搬するが、金属膜
30が施された溝28で反射又は吸収され、かつ溝側ベ
ンチ29で遮断される。このため、LDからのクラッド
モードが反射ポート17の光ファイバ18へ漏れ込むの
を抑えることができる。本実施の形態では、LDからの
波長(λ2)1.3μmの光の反射ポート側の光ファイ
バへの漏れ込み損失が55dBであり、溝のない従来の
光導波路型モジュールの漏れ込み損失40dBに比べて
15dB改善された。
When such an optical waveguide module is operated, light having a wavelength (λ2) of 1.3 μm emitted from the LD passes through the LD port 19, the branch portion 12b, and the filter 13, and is guided to the common port 14. Waved. At this time, LD
A cladding mode is generated at the junction between the optical waveguide 11 and the branch 12a and the branch 12b of the y-shaped waveguide.
This cladding mode is confined and propagated between the substrate 10 and the air layer above the cladding layer 21, but is reflected or absorbed by the groove 28 provided with the metal film 30 and cut off by the groove side bench 29. You. Therefore, it is possible to suppress the cladding mode from the LD from leaking into the optical fiber 18 of the reflection port 17. In this embodiment, the leakage loss of 1.3 μm wavelength (λ2) light from the LD into the optical fiber on the reflection port side is 55 dB, which is 40 dB less than the leakage loss of the conventional optical waveguide type module having no groove. This is improved by 15 dB.

【0040】以上において本発明によれば、光導波路の
両側に光導波路を横切る方向の溝を形成し、その溝の内
壁に遮光性の膜を施すことにより、光導波路を伝搬する
クラッドモードがブロックされ、光の漏れ込みの少ない
光導波路型モジュールが得られ、これにより高アイソレ
ーションを得ることができる。
As described above, according to the present invention, a groove extending in a direction crossing the optical waveguide is formed on both sides of the optical waveguide, and a light-shielding film is formed on the inner wall of the groove, so that the cladding mode propagating through the optical waveguide is blocked. As a result, an optical waveguide module with less light leakage can be obtained, whereby high isolation can be obtained.

【0041】尚、本実施の形態では金属膜を蒸着によっ
て形成したが、これに限定されるものではなく、溝に光
を吸収する材料を挿入してもよい。また、溝に灰色系の
シリコーン樹脂を施したところ、LDからの波長(λ
2)1.3μmの光の反射ポート側の光ファイバへの漏
れ込み損失が55dBであった。このように溝に施す遮
光性の膜は反射材、吸収材のいずれでもよい。さらに、
本実施の形態では光の波長を1.3μm及び1.55μ
mの場合で説明したが、これに限定されるものではな
い。
In this embodiment, the metal film is formed by vapor deposition. However, the present invention is not limited to this, and a material that absorbs light may be inserted into the groove. When a gray silicone resin was applied to the groove, the wavelength (λ)
2) The leakage loss of 1.3 μm light into the optical fiber on the reflection port side was 55 dB. As described above, the light-shielding film applied to the groove may be either a reflecting material or an absorbing material. further,
In the present embodiment, the light wavelengths are 1.3 μm and 1.55 μm.
Although the case of m has been described, the present invention is not limited to this.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
In summary, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited.

【0043】光導波路型モジュールの光導波路の両側に
光導波路を横切る方向の溝を形成し、その溝の内壁に遮
光性の膜を施したので、LD−光導波路結合部及び光導
波路素子内で発生するクラッドモードが、LDと対向す
る光ファイバに漏れ込まない光導波路型モジュールを実
現することができる。
A groove is formed on both sides of the optical waveguide of the optical waveguide module in a direction crossing the optical waveguide, and a light-shielding film is formed on the inner wall of the groove. An optical waveguide module in which the generated clad mode does not leak into the optical fiber facing the LD can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光導波路型モジュールの一実施の形態
を示す外観斜視図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing one embodiment of an optical waveguide module of the present invention.

【図2】(a)は図1のA−A線断面図、(b)は図1
のB−B線断面図、(c)は図1のC−C線断面図であ
る。
2A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1, and FIG.
1 is a sectional view taken along line BB of FIG. 1, and FIG. 2C is a sectional view taken along line CC of FIG.

【図3】(a)〜(e)は図1に示した光導波路型モジ
ュールの製造工程図である。
FIGS. 3A to 3E are manufacturing process diagrams of the optical waveguide module shown in FIG.

【図4】LDを基板上に表面実装した光導波路型モジュ
ールのプラットフォーム構造の概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of a platform structure of an optical waveguide module in which an LD is surface-mounted on a substrate.

【図5】図4に示したプラットフォーム構造の光導波路
型モジュールの従来例を示す外観斜視図である。
5 is an external perspective view showing a conventional example of the optical waveguide module having the platform structure shown in FIG.

【図6】図5に示した光導波路型モジュールの製造工程
図である。
FIG. 6 is a manufacturing process diagram of the optical waveguide module shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板 18 光ファイバ 21 クラッド層 30 遮光性膜(金属膜) LD レーザダイオード PD フォトダイオード Reference Signs List 10 substrate 18 optical fiber 21 cladding layer 30 light-shielding film (metal film) LD laser diode PD photodiode

フロントページの続き (72)発明者 柳澤 雅弘 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 照井 博 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 大川 正浩 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日立 電線株式会社オプトロシステム研究所内 (72)発明者 上塚 尚登 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日立 電線株式会社オプトロシステム研究所内 (72)発明者 金谷 達憲 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所情報通信事業部内 (72)発明者 岩藤 泰典 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所情報通信事業部内Continuing on the front page (72) Inventor Masahiro Yanagisawa 3-19-2 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Japan Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Hiroshi Terui 3-2-1-2, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Telephone Co., Ltd. (72) Inventor Masahiro Okawa 5-1-1 Hidaka-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Cable Co., Ltd. Opto-System Laboratories (72) Inventor Naoto Uezuka 5-chome, Hidaka-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1-1 Hitachi Cable Co., Ltd. Optro System Research Laboratories (72) Inventor Tatsunori Kanaya 216 Totsuka-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Pref. Hitachi, Ltd. Information and Communication Division (72) Inventor Yasunori Iwato Yokohama-shi, Kanagawa 216 Totsuka-cho, Totsuka-ku, Hitachi, Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光ファイバに接続するための光導波路を
基板上に形成し、その光導波路に発光素子及び受光素子
を接続した光導波路型モジュールにおいて、上記光導波
路の両側に光導波路を横切る方向の溝を形成し、その溝
の内壁に遮光性の膜を施したことを特徴とする光導波路
型モジュール。
1. An optical waveguide module in which an optical waveguide for connecting to an optical fiber is formed on a substrate, and a light emitting element and a light receiving element are connected to the optical waveguide, and a direction crossing the optical waveguide on both sides of the optical waveguide. An optical waveguide module comprising: a groove; and a light-shielding film provided on an inner wall of the groove.
【請求項2】 上記基板にSiを用い、上記発光素子に
レーザダイオードを用い、上記受光素子にフォトダイオ
ードを用いると共に、上記基板にレーザダイオード及び
フォトダイオードを搭載するための素子側ベンチを形成
し、かつ上記溝が形成される位置に溝側ベンチを形成し
た請求項1に記載の光導波路型モジュール。
2. An element-side bench for mounting a laser diode and a photodiode on the substrate while using Si for the substrate, using a laser diode for the light emitting element, using a photodiode for the light receiving element. The optical waveguide module according to claim 1, wherein a groove bench is formed at a position where the groove is formed.
【請求項3】 上記レーザダイオードへの電流供給と上
記フォトダイオードからの信号電流を取り出すための金
属膜を上記素子側ベンチ及びクラッド層に形成し、か
つ、上記遮光性の膜に金属膜を用いた請求項1又は2に
記載の光導波路型モジュール。
3. A metal film for supplying a current to the laser diode and extracting a signal current from the photodiode is formed on the element-side bench and the cladding layer, and a metal film is used as the light-shielding film. The optical waveguide module according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 上記溝を、その深さが基板まで達するよ
うに形成した請求項1から3のいずれかに記載の光導波
路型モジュール。
4. The optical waveguide module according to claim 1, wherein said groove is formed so that its depth reaches the substrate.
【請求項5】 上記光導波路をy字型導波路に形成し、
y字型の分岐部に波長λ2の光を透過すると共に波長λ
2と異なる波長λ1の光を反射するフィルタを配置し、
上記フィルタによって反射される光の出射側光導波路端
面と上記分岐部との間に少なくとも一つの溝を形成した
請求項1から4のいずれかに記載の光導波路型モジュー
ル。
5. The optical waveguide is formed as a y-shaped waveguide,
The light having the wavelength λ2 is transmitted through the y-shaped branch portion and the wavelength λ
A filter that reflects light of wavelength λ1 different from 2 is arranged,
The optical waveguide module according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one groove is formed between an end surface of the optical waveguide on the emission side of the light reflected by the filter and the branch portion.
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