JPH10287676A - Production of hexaazaisowurtzitane derivative - Google Patents
Production of hexaazaisowurtzitane derivativeInfo
- Publication number
- JPH10287676A JPH10287676A JP11360097A JP11360097A JPH10287676A JP H10287676 A JPH10287676 A JP H10287676A JP 11360097 A JP11360097 A JP 11360097A JP 11360097 A JP11360097 A JP 11360097A JP H10287676 A JPH10287676 A JP H10287676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic solvent
- producing
- liquid chromatography
- derivative
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、従来の火薬組成物
の高性能化をはかるために利用されるヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンの前駆体であるヘキサアザイソウ
ルチタン誘導体の製造方法に関する。[0001] The present invention relates to a method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative which is a precursor of hexanitrohexaazaisowurtzitane used for improving the performance of conventional explosive compositions.
【0002】[0002]
【従来の技術】高性能化火薬原料であるヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンの製造方法として、ヘキサキス
(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンをアシル
化剤存在下で還元的脱アリールメチルし、テトラアシル
ビス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタン、ペ
ンタアシルアリールメチルヘキサアザイソウルチタン、
ヘキサアシルヘキサアザイソウルチタン等のアリールメ
チル基、アシル基、水素原子等を有するヘキサアザイソ
ウルチタン誘導体を前駆体とする報告がある(The
Militarily Critical Techn
ologiesList, Office of th
e Under Secretaryof Defen
se for Acquisition,12−22,
October(1992)、Tetrahedron
Vol. 51,No16、4711ー4722(199
5)、PCT−JP96−00189)。2. Description of the Related Art As a method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane, which is a high-performance explosive material, hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane is subjected to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent to obtain tetraacyl. Bis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane, pentaacylarylmethylhexaazaisowurtzitane,
There is a report that a precursor is a hexaazaisowurtzitane derivative having an arylmethyl group, an acyl group, a hydrogen atom, or the like, such as hexaacylhexaazaisowurtzitanium (The)
Military Critical Techn
logosList, Office of the
e Under Secretary of Defen
se for Acquisition, 12-22,
October (1992), Tetrahedron
Vol. 51, No. 16, 4711-4722 (199)
5), PCT-JP96-00189).
【0003】これらのヘキサアザイソウルチタン誘導体
類を製造するためのヘキサキス(アリールメチル)ヘキ
サアザイソウルチタンの製造法としては、種々のアリー
ルメチルアミンとグリオキサールを縮合させることで得
られる(J.Org.Chem.,vol.55,14
59−1466(1990))。この文献に記載されて
いる製造方法による精製は、アセトニトリルによって再
結晶しているが、詳細な精製方法、分析方法及び純度の
記載はなく、再結晶によって精製されたものとはいえな
い。アセトニトリルへの液体クロマトグラフィーで検出
される副生成物成分の溶解度は低く、極めて希薄な条件
でなければ精製できない。副生成物成分は、還元的脱ア
リールメチル反応を阻害する。A process for producing hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane for producing these hexaazaisowurtzitane derivatives can be obtained by condensing various arylmethylamines and glyoxal (J. Org.Chem., Vol.
59-1466 (1990)). Purification by the production method described in this document recrystallizes with acetonitrile, but there is no detailed description of the purification method, analysis method, and purity, and it cannot be said that the product was purified by recrystallization. The solubility of a by-product component detected by liquid chromatography in acetonitrile is low, and purification can be performed only under extremely dilute conditions. The by-product component inhibits the reductive dearylmethyl reaction.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘキ
サベンジルヘキサアザイソウルチタンをアシル化剤の存
在下、還元的脱アリールメチル反応する際に反応阻害す
る、ベンジルアミンとグリオキサールによって得られる
ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンに含まれる副
生成物成分を除去することによって、ヘキサアザイソウ
ルチタン誘導体を高収率で製造する方法を提供するもの
である。The object of the present invention is achieved by benzylamine and glyoxal, which inhibit the reaction of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium in the reductive dearylmethyl reaction in the presence of an acylating agent. An object of the present invention is to provide a method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative in high yield by removing a by-product component contained in hexabenzylhexaazaisowurtzitanium.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】発明者らは、還元的脱ア
リールメチル反応を阻害する、粗ヘキサベンジルヘキサ
アザイソウルチタンに含まれる副生成物成分を、有機溶
媒によって除去し、副生成物成分を含まない高純度のヘ
キサベンジルヘキサアザイソウルチタンを製造し得るこ
と見出し、また、該化合物をアシル化剤の存在下、脱ア
リールメチルすることにより、アシル基を有するヘキサ
アザイソウルチタン誘導体を高収率で製造することに成
功し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems The present inventors remove an by-product component contained in crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium, which inhibits a reductive dearylmethyl reaction, with an organic solvent, and removes the by-product component. It has been found that high-purity hexabenzylhexaazaisowurtitanium containing no component can be produced, and the compound is dearylmethylated in the presence of an acylating agent to obtain a hexaazaisowurtzitanium derivative having an acyl group. Was successfully produced in high yield, and the present invention was completed.
【0006】すなわち、本発明は、ベンジルアミンとグ
リオキサールの縮合反応で得られた下記一般式(1)で
表されるヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンの製
造において副生成する液体クロマトグラフィーで検出さ
れる副生成物成分を含む副生成物成分を、有機溶媒によ
って除去精製することによって、純度の高いヘキサベン
ジルヘキサアザイソウルチタンを得る方法であり、さら
にこれをアシル化剤の存在下、還元的脱アリールメチル
し、高収率で下記一般式(2)で表されるアシル基を有
するヘキサアザイソウルチタン誘導体を製造する方法を
提供するものである。That is, the present invention is detected by liquid chromatography which is a by-product in the production of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium represented by the following general formula (1) obtained by the condensation reaction of benzylamine and glyoxal. This is a method of obtaining highly pure hexabenzylhexaazaisowurtzitane by removing and purifying by-product components including by-product components with an organic solvent, and further subjecting this to reductive deprotection in the presence of an acylating agent. The present invention provides a method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group represented by the following general formula (2) in a high yield by arylmethylation.
【0007】WB6 (1) [式中、Bはベンジル基、Wは次の式(3)に示すヘキ
サアザイソウルチタン残基をあらわす。] WAn Bm H(6-n-m) (2) [式中、nは4〜6の整数、mは0〜2の整数、Aは炭
素数1〜10のアシル基、Bはベンジル基、Hは水素原
子、Wは次の式(3)で表わされるヘキサアザイソウル
チタン残基を表わす。]WB 6 (1) [wherein B represents a benzyl group, and W represents a hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (3). WA n B m H (6-nm) (2) wherein n is an integer of 4 to 6, m is an integer of 0 to 2, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, B is a benzyl group, H represents a hydrogen atom, and W represents a hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (3). ]
【0008】[0008]
【化3】 Embedded image
【0009】一般式(2)中、アシル基としてはは炭素
数1〜10のアシル基であればどのようなものでも用い
ることができる。通常、ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサノイ
ル、2−フェニルアセチル、トリフルオロアセチル、ペ
ンタフルオロプロピオニルなどが用いられ、好ましくは
炭素数1〜5のアシル基、例えば、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、トリフルオロ
アセチルなどが用いられ、さらに好ましくは炭素数1〜
4のアシル基、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、トリフルオロアセチルなどが用いられ
る。 もっとも好ましい例としては、アセチルである。In the general formula (2), as the acyl group, any acyl group having 1 to 10 carbon atoms can be used. Usually, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, 2-phenylacetyl, trifluoroacetyl, pentafluoropropionyl and the like are used, preferably an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, formyl, acetyl, Propionyl, butyryl, valeryl, trifluoroacetyl, and the like are used, and more preferably, they have 1 to 1 carbon atoms.
An acyl group of 4, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, trifluoroacetyl and the like are used. The most preferred example is acetyl.
【0010】本発明による製造方法によれば、ヘキサア
ザイソウルチタン誘導体の製造において、ベンジルアミ
ンとグリオキサールの縮合反応によって得られるヘキサ
ベンジルヘキサアザイソウルチタンであれば、どのよう
な酸触媒をもちいて合成されたヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタンを使用してもよい。本発明で使用され
るグリオキサールとベンジルアミンから合成されたヘキ
サベンジルヘキサアザイソウルチタンは、グリオキサー
ルとベンジルアミンの縮合反応によって得られたヘキサ
ベンジルヘキサアザイソウルチタンであればどのような
方法で合成されたものであっても良い。According to the production method of the present invention, any acid catalyst may be used in the production of the hexaazaisowurtzitane derivative as long as it is hexabenzylhexaazaisowurtzitane obtained by the condensation reaction of benzylamine and glyoxal. May be used. Hexabenzylhexaazaisowurtitanium synthesized from glyoxal and benzylamine used in the present invention can be synthesized by any method as long as it is hexabenzylhexaazaisowurtzitanium obtained by a condensation reaction of glyoxal and benzylamine. It may be done.
【0011】グリオキサールとベンジルアミンの縮合反
応に使用される溶媒は、反応に悪影響を与えない溶媒で
あればどのような溶媒であっても良い。好ましい例とし
ては、アセトニトリル、ポロピオニトリル、ブチロニト
リルなどのニトリル類、メタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノールなどのアルコール類、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、N−メチル−
2−ピロリドン、N,N−ジエチルニペコタミドのよう
なアミド類、水などが使用できる。これらは単独で使用
されても良いし、2種類以上の混合溶媒であっても良
い。さらに好ましくは、アセトニトリル、プロピオニト
リル、ブチロニトリルなどのニトリル類、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル類、水、これらは単独で使用されても良いし、2種類
以上の混合溶媒であっても良い。最も好ましい例はアセ
トニトリルと水の混合溶媒である。The solvent used in the condensation reaction between glyoxal and benzylamine may be any solvent that does not adversely affect the reaction. Preferred examples include nitriles such as acetonitrile, polopionitrile, butyronitrile, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide,
1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-
Amides such as 2-pyrrolidone, N, N-diethylnipecotamide, water and the like can be used. These may be used alone or as a mixture of two or more solvents. More preferably, acetonitrile, propionitrile, nitriles such as butyronitrile, methanol,
Alcohols such as ethanol, propanol and butanol, water, and the like may be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds. The most preferred example is a mixed solvent of acetonitrile and water.
【0012】グリオキサールとベンジルアミンの縮合反
応に使用されるグリオキザールは、水溶液とされたグリ
オキサールでもよいし、100%グリオキサールであっ
てもよい。水溶液の場合には、重量比で表して10〜1
00%の範囲のものが使用できるが、好ましくは10〜
90%、工業的に製造しようとした場合には、20〜6
0%の範囲が好ましい。グリオキサールの純度は、水溶
液の場合には水を覗いた成分のうちグリオキサール含有
量が80%以上、好ましくは90%以上、さらに好まし
くは95%以上のものである。The glyoxal used in the condensation reaction between glyoxal and benzylamine may be glyoxal in an aqueous solution or 100% glyoxal. In the case of an aqueous solution, the weight ratio is 10 to 1
A range of 00% can be used, but preferably 10 to
90%, 20 to 6 in the case of industrial production
A range of 0% is preferred. The glyoxal has a purity of 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably 95% or more of the components in the case of an aqueous solution, out of the water.
【0013】グリオキサールとベンジルアミンの縮合反
応に使用されるグリオキサールの濃度は、溶媒に対する
重量比で表して0.001〜0.5、好ましくは0.0
05〜0.4、さらに好ましくは0.005〜0.2の
範囲である。グリオキサールとベンジルアミンの縮合反
応に使用されるベンジルアミンは、純度90%以上、好
ましくは95%以上、さらに好ましくは99%以上のベ
ンジルアミンである。グリオキサールとベンジルアミン
の縮合反応に使用されるベンジルアミンの濃度は、グリ
オキサールのモル比で表して0.1〜100、好ましく
は0.5〜50、さらに好ましくは1〜10の範囲であ
る。The concentration of glyoxal used in the condensation reaction of glyoxal and benzylamine is expressed as a weight ratio to the solvent, from 0.001 to 0.5, preferably from 0.01 to 0.5.
The range is from 0.05 to 0.4, and more preferably from 0.005 to 0.2. The benzylamine used in the condensation reaction between glyoxal and benzylamine is benzylamine having a purity of 90% or more, preferably 95% or more, and more preferably 99% or more. The concentration of benzylamine used in the condensation reaction of glyoxal and benzylamine is in the range of 0.1 to 100, preferably 0.5 to 50, and more preferably 1 to 10 in terms of the molar ratio of glyoxal.
【0014】グリオキサールとベンジルアミンの縮合反
応に使用される酸触媒は、ブレンステッド酸であればど
のような酸であっても良いが、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸などのカルボン酸、硫酸、硝酸などの鉱酸等だ
使用できる。好ましい例としては、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸である。グリオキサールとベンジルアミンの縮合
反応に使用される酸触媒の濃度は、グリアキサールに対
するモル比で表して、0.0001〜10、好ましくは
0.001〜1、さらに好ましくは0.1〜0.5の範
囲である。グリオキサールとベンジルアミンの縮合反応
の反応温度は、溶媒の凝固点から沸点の間の温度であれ
ばどのような温度であってもよいが、好ましくは例とし
ては−10〜30℃の範囲である。一般式(2)におい
て、n、mの数によっては位置異性体が存在するが、ど
のような異性体であってもよい。The acid catalyst used in the condensation reaction of glyoxal and benzylamine may be any acid as long as it is a Bronsted acid, but carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid, sulfuric acid, Mineral acids such as nitric acid can be used. Preferred examples are formic acid, acetic acid and propionic acid. The concentration of the acid catalyst used in the condensation reaction of glyoxal and benzylamine is represented by a molar ratio to gliaxal and is 0.0001 to 10, preferably 0.001 to 1, more preferably 0.1 to 0.5. Range. The reaction temperature of the condensation reaction between glyoxal and benzylamine may be any temperature as long as it is between the freezing point and the boiling point of the solvent, but is preferably in the range of -10 to 30 ° C. In the general formula (2), there are positional isomers depending on the number of n and m, but any isomer may be used.
【0015】ベンジルアミンとグリオキサールの縮合反
応によって得られた粗ヘキサベンジルヘキサアザイソウ
ルチタンに含まれ、還元的脱アリールメチル反応を阻害
する成分は、液体クロマトグラフィーによって検出され
る副生成物であるか、または液体クロマトグラフィーに
よって検出されない副生成物であるが、本発明による製
造方法によれば、液体クロマトグラフィーで検出される
副生成物成分を除去すると同時に、液体クロマトグラフ
ィーで検出されない副生成物をも除去できるため、本発
明による製造方法では、極めて純度の高いヘキサベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンを製造することができ、さ
らにこれよりアシル基を含むヘキサアザイソウルチタン
誘導体を高収率で得ることができる。The component contained in crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium obtained by the condensation reaction of benzylamine and glyoxal, which inhibits the reductive dearylmethyl reaction, is a by-product detected by liquid chromatography. Or by-products that are not detected by liquid chromatography, but according to the production method of the present invention, by-products that are not detected by liquid chromatography while removing by-product components detected by liquid chromatography In the production method according to the present invention, hexabenzylhexaazaisowurtzitanium of extremely high purity can be produced, and further, a hexaazaisowurtzitanium derivative containing an acyl group can be obtained in a high yield. be able to.
【0016】上記した液体クロマトグラフィーで検出さ
れる副生成物成分とは、次の表1に示される分析条件で
検出されるヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタン以
外の成分である。ここで記載している液体クロマトグラ
フィーの分析条件は全て表1に示した条件で測定したも
のである。本発明で示される液体クロマトグラフィーの
分析例を図1に示す。図1において、保持時間2.4分
のピークがヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンで
あり、保持時間2.2分のピークが液体クロマトグラフ
ィーで検出される主な副生成物である。The by-product components detected by the liquid chromatography described above are components other than hexabenzylhexaazaisowurtzitane detected under the analysis conditions shown in Table 1 below. The analysis conditions of the liquid chromatography described here were all measured under the conditions shown in Table 1. FIG. 1 shows an example of analysis by liquid chromatography according to the present invention. In FIG. 1, the peak at a retention time of 2.4 minutes is hexabenzylhexaazaisowurtzitane, and the peak at a retention time of 2.2 minutes is a main by-product detected by liquid chromatography.
【0017】[0017]
【表1】 [Table 1]
【0018】上記した保持時間は、液体クロマトグラフ
ィー分析で一般的に知られているように、厳密なもので
はない。通常、液体クロマトグラフィー分析では、分析
カラムのコンデショニング、分析カラムの劣化の度合
い、及び使用する機器、使用環境によって保持時間が多
少変動することが知られている。本発明で示す液体クロ
マトグラフィー分析で検出される副生成物とは、表1で
示した液体クロマトグラフィー分析条件で、ヘキサベン
ジルヘキサアザイソウルチタンの保持時間より短い時間
で検出される成分であり、本発明者らの実験によれば、
図1に示したようなチャートが得られ、この図では、液
体クロマトグラフィーで検出される副生成物とは保持時
間2.2分の成分をいう。The above retention times are not critical, as is generally known in liquid chromatography analysis. Generally, in liquid chromatography analysis, it is known that the retention time varies somewhat depending on the conditioning of the analytical column, the degree of deterioration of the analytical column, the equipment used, and the use environment. By-products detected by liquid chromatography analysis according to the present invention are components detected in a shorter time than the retention time of hexabenzylhexaazaisowurtitanium under the liquid chromatography analysis conditions shown in Table 1. According to our experiments,
A chart as shown in FIG. 1 is obtained. In this figure, by-products detected by liquid chromatography are components having a retention time of 2.2 minutes.
【0019】前記、液体クロマトグラフィーで検出され
る副生成物の構造については不明であるし、どのように
して還元的脱アリールメチル反応を阻害するのかについ
ても明らかになってはいないが、本発明による副生成物
を除去精製した高純度のヘキサベンジルヘキサアザイソ
ウルチタンを使用すれば、アシル化剤存在下での還元的
脱アリールメチル反応は、再現性よく短時間で反応が進
行し、高収率でアシル基を含むヘキサアザイソウルチタ
ン誘導体を得ることができる。The structure of the by-product detected by the liquid chromatography is unknown, and it is not clear how the reductive dearylmethyl reaction is inhibited. By using high-purity hexabenzylhexaazaisowurtzitanium, which has been purified by removing the by-products of the reductive dearylmethyl reaction in the presence of the acylating agent, the reaction proceeds in a short time with good reproducibility, A hexaazaisowurtzitane derivative containing an acyl group can be obtained in a yield.
【0020】先の従来の技術の項で述べた如く、ベンジ
ルアミンとグリオキサールの縮合反応による粗ヘキサベ
ンジルヘキサアザイソウルチタンの製造方法は種々のア
リールアミンについて文献に記載されている(J.Or
g.Chem.,vol.55,1459−1466
(1990))。この文献によれば、粗ヘキサベンジル
ヘキサアザイソウルチタンを冷アセトニトリルに懸濁さ
せ、濾過したのち、アセトニトリルによって再結晶をお
こなっているが、濃度及び晶析温度の記載はなく、不純
物を除去する条件を特定できていない。本発明者らは、
前記文献に記載された方法によって粗ヘキサベンジルヘ
キサアザイソウルチタンを得た後、例えば、粗ヘキサベ
ンジルヘキサアザイソウルチタン16.68gを1lの
アセトニトリルを使用して再結晶したところ、この方法
によって得られたアセトニトリル再結晶ヘキサベンジル
ヘキサアザイソウルチタンは、重量比で0〜15%の副
生成物を含んでいた。この方法によって得られたアセト
ニトリル再結晶ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタ
ンを使用して、アシル化剤存在下、Pd触媒によって還
元的脱アリールメチル反応によるアシル基を有するヘキ
サアザイソウルチタン誘導体の製造を試みたが、精製条
件によって反応に要する時間が極めて大きい範囲で変動
し、長時間を必要とする場合には、ヘキサベンジルヘキ
サアザイソウルチタンがアシル化後に副成する酸性プロ
トンによって骨核分解を起こし、アシル基を有するヘキ
サアザイソウルチタン誘導体は極めて低い収率でしか得
られなかった。As described in the prior art section, a method for producing crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium by the condensation reaction of benzylamine and glyoxal has been described in the literature for various arylamines (J. Or.).
g. Chem. , Vol. 55,1459-1466
(1990)). According to this document, crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane is suspended in cold acetonitrile, filtered, and then recrystallized with acetonitrile, but the concentration and crystallization temperature are not described, and impurities are removed. Conditions cannot be specified. We have:
After obtaining crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane by the method described in the above literature, for example, 16.68 g of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane was recrystallized using 1 l of acetonitrile. The obtained acetonitrile recrystallized hexabenzylhexaazaisowurtzitanium contained 0 to 15% by weight of a by-product. Acetonitrile recrystallized hexabenzylhexaazaisowurtzitanium obtained by this method was used to produce a hexaazaisowurtzitanium derivative having an acyl group by a reductive dearylmethyl reaction with a Pd catalyst in the presence of an acylating agent. Although the time required for the reaction fluctuated within an extremely large range depending on the purification conditions, and a long time was required, hexabenzylhexaazaisowurtzitanium decomposed the bone nucleus by acidic protons produced as a by-product after acylation. The hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group was obtained only in an extremely low yield.
【0021】本発明による製造方法では、アシル化剤存
在下、還元的脱アリールメチル反応を阻害する、液体ク
ロマトグラフィーで検出されるヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタン以外の副生成物を、この副生成物成分
の溶解度を越えない濃度で粗ヘキサベンジルヘキサアザ
イソウルチタンを再結晶することによって、極めて純度
の高いヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンを取り
出すことができ、アシル化剤存在下、還元的脱アリール
メチル反応によって極めて短時間で再現よくアシル基を
有するヘキサアザイソウルチタン誘導体を高い収率で得
ることができる。In the production method according to the present invention, by-products other than hexabenzylhexaazaisowurtzitanium, which inhibit reductive dearylmethyl reaction in the presence of an acylating agent and are detected by liquid chromatography, By recrystallizing the crude hexabenzylhexaazaisowurtitanium at a concentration that does not exceed the solubility of the product components, it is possible to extract hexabenzylhexaazaisowurtzitanium of extremely high purity, By the arylmethyl reaction, a hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group can be obtained in a very short time and with good reproducibility in a high yield.
【0022】本発明の製造方法は、液体クロマトグラフ
ィーで検出される粗ヘキサベンジルヘキサアザイソウル
チタン中の副生成物成分を、晶析温度における副生成物
の有機溶媒にたいする溶解度を越えない濃度から再結晶
することによって取り出される極めて純度の高いヘキサ
ベンジルヘキサアザイソウルチタンを得ることができ、
さらにこれを、アシル化剤の存在下、還元的脱アリール
メチルし高い収率でアシル基を有するヘキサアザイソウ
ルチタンを得る製造方法である。The production method of the present invention is intended to reduce the by-product component in crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium detected by liquid chromatography from a concentration that does not exceed the solubility of the by-product in the organic solvent at the crystallization temperature. It is possible to obtain extremely high-purity hexabenzylhexaazaisowurtzitanium which is taken out by recrystallization,
Further, this is a process for producing an acyl group-containing hexaazaisowurtzitanium in a high yield by reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent.
【0023】この製造方法で使用される溶媒は、1種類
以上の有機溶媒の組み合わせからなり、次の一般式
(4)であらわされる溶解度比Pの値が0.1〜20で
ある溶媒であればどのような有機溶媒の組み合わせでも
かまわない。 P=H/I (4) [式中、Hは有機溶媒に溶解するヘキサベンジルヘキサ
アザイソウルチタンの溶解度(g/l)、Iは有機溶媒
に溶解する液体クロマトグラフィー分析で検出される不
純物成分の溶解度(g/l)を表わす。]The solvent used in this production method is a combination of one or more organic solvents, and is a solvent having a solubility ratio P of 0.1 to 20 represented by the following general formula (4). Any combination of organic solvents may be used. P = H / I (4) wherein H is the solubility (g / l) of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium dissolved in the organic solvent, and I is the impurity detected by liquid chromatography analysis dissolved in the organic solvent. Indicates the solubility (g / l) of the component. ]
【0024】上記した溶解度は、一般的な方法で測定さ
れるが、液体クロマトグラフィーで検出される副生成物
成分を含む副生成物の溶解度の測定は困難である。本発
明者らの方法によれば、液体クロマトグラフィーで検出
される副生成物成分を含む副生成物の溶解量は、液体ク
ロマトグラフィーで検出される副生成物成分の溶解量か
ら計算することができる。すなわち、粗ヘキサベンジル
ヘキサアザイソウルチタンを一定量の有機溶媒に過剰量
添加し、恒温槽で一定温度に保ちながら攪拌したのち、
溶解しなかった固形分を取り除き、透明な溶液のみを
得、液体クロマトグラフィー分析を行う。液体クロマト
グラフィー分析によって、この溶液中に含まれるヘキサ
ベンジルヘキサアザイソウルチタンの溶解量が算出され
る。さらに、透明な溶液をロータリーエバポレーターを
使用して有機溶媒を留去すれば透明な溶液中に溶解して
いた固体成分のみが得られ、この固体成分の重量から先
に算出ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンの溶解
量を引くことによって、透明な溶液中に含まれるヘキサ
ベンジルヘキサアザイソウルチタン以外の副生成物の溶
解量が算出できる。この溶解量は、先に述べた透明な溶
液の液体クロマトグラフィー分析で検出される副生成物
成分の液体クロマトグラフィー分析での検出面積と良い
比例関係にあった。従って、液体クロマトグラフィー
で、液体クロマトグラフィーで検出される副生成物成分
を分析すれば、同時に、液体クロマトグラフィーで検出
される副生成物成分と液体クロマトグラフィーで検出さ
れない副生成物の溶解量を算出することが可能となっ
た。The above-mentioned solubility is measured by a general method, but it is difficult to measure the solubility of a by-product containing a by-product component detected by liquid chromatography. According to the method of the present inventors, the dissolved amount of by-products including by-product components detected by liquid chromatography can be calculated from the dissolved amount of by-product components detected by liquid chromatography. it can. That is, an excessive amount of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane is added to a certain amount of an organic solvent, and the mixture is stirred while being kept at a constant temperature in a thermostat,
The undissolved solids are removed to obtain only a clear solution, and liquid chromatography analysis is performed. The amount of hexabenzylhexaazaisowurtzitane dissolved in this solution is calculated by liquid chromatography analysis. Further, if the organic solvent is distilled off from the transparent solution using a rotary evaporator, only the solid component dissolved in the transparent solution is obtained, and the hexabenzylhexaazaisomer is calculated from the weight of the solid component. By subtracting the amount of titanium dissolved, the amount of by-products other than hexabenzylhexaazaisowurtzitane contained in the transparent solution can be calculated. This dissolved amount had a good proportional relationship with the detection area of the by-product component detected by the liquid chromatography analysis of the transparent solution described above by the liquid chromatography analysis. Therefore, if the by-product component detected by liquid chromatography is analyzed by liquid chromatography, the amount of by-product component detected by liquid chromatography and the amount of by-product not detected by liquid chromatography are dissolved at the same time. It became possible to calculate.
【0025】本発明では、上記した方法によって、有機
溶媒に溶解する液体クロマトグラフィー分析で検出され
る副生成物成分を含む副生成物の溶解度を求めた。本発
明でいう有機溶媒に溶解する液体クロマトグラフィー分
析で検出される副生成物成分を含む副生成物の溶解度
は、全て上記方法によって求めた溶解度をいう。前記溶
媒としては、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水
素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテルのようなエーテル類、
アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルの
ようなニトリル類、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2
−イミダゾリドン、N−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジエチルニペコタミドのようなアミド類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノールのよ
うなアルコール類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸メチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオ
ン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、
酪酸ブチルのようなエステル類、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化
炭化水素類などがあげられる。これらの溶媒は単独また
は二種以上を混合して使用してもよい。In the present invention, the solubility of a by-product containing a by-product component detected by liquid chromatography analysis in an organic solvent was determined by the above-described method. In the present invention, the solubility of by-products including by-product components detected by liquid chromatography analysis dissolved in an organic solvent refers to the solubility determined by the above method. As the solvent, toluene, aromatic hydrocarbons such as benzene, tetrahydrofuran, diethyl ether, dipropyl ether, ethers such as dibutyl ether,
Nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, N, N-dimethylacetamide;
N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2
-Imidazolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N,
Amides such as N-diethylnipecotamide, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, ethyl formate, ethyl acetate, methyl acetate, methyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, propion Methyl acid,
Ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate,
Esters such as butyl butyrate, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
【0026】粗結晶からの精製収率をあげようと思え
ば、前記式(4)で表した溶解度比Pの値が小さな有機
溶媒を使用するのが好ましい。好ましい例としては、ア
ルコール類、ニトリル類、エステル類、アミド類であ
り、これらの溶媒は単独または二種類以上を混合して使
用してもよい。さらに好ましくは、エタノールと酢酸エ
チル、エタノールとN,N−ジメチルアセトアミド、ア
セトニトリルと酢酸エチル、アセトニトリルとN,N−
ジメチルアセトアミドの組み合わせであり、もっとも好
ましいのはエタノールと酢酸エチルの混合溶媒である。
各温度、各有機溶媒に対するヘキサベンジルヘキサアザ
イソウルチタンの溶解度と不純物成分の溶解度を表2に
示した。In order to increase the purification yield from the crude crystals, it is preferable to use an organic solvent having a small value of the solubility ratio P represented by the formula (4). Preferred examples include alcohols, nitriles, esters, and amides, and these solvents may be used alone or as a mixture of two or more. More preferably, ethanol and ethyl acetate, ethanol and N, N-dimethylacetamide, acetonitrile and ethyl acetate, acetonitrile and N, N-
A combination of dimethylacetamide is most preferable, and a mixed solvent of ethanol and ethyl acetate is most preferable.
Table 2 shows the solubility of hexabenzylhexaazaisowurtzitane and the solubility of impurity components in each temperature and each organic solvent.
【0027】[0027]
【表2】 [Table 2]
【0028】再結晶の方法としては、一般的な再結晶方
法から晶析できる。たとえば有機溶媒の沸点を超えない
温度まで加温し、粗結晶を溶解した後、冷却して晶析す
る方法や、混合溶媒を使用する場合には良溶媒に溶解
し、貧溶媒を徐々に添加して晶析する方法も使用でき
る。加温する場合は、ヘキサベンジルヘキサアザイソウ
ルチタンの熱分解による収率の低下をまねく恐れがある
ため、130℃を超えない温度で溶解させることが好ま
しい。いずれの方法においても粗結晶を一度溶解させた
のち、晶析させることにより高純度のヘキサベンジルヘ
キサアザイソウルチタンを得ることができる。As a recrystallization method, crystallization can be performed by a general recrystallization method. For example, by heating to a temperature not exceeding the boiling point of the organic solvent, dissolving the crude crystals, and then cooling and crystallizing, or when using a mixed solvent, dissolve in a good solvent and gradually add a poor solvent. A crystallization method can also be used. In the case of heating, it is preferable to dissolve at a temperature not exceeding 130 ° C., because there is a risk of lowering the yield due to thermal decomposition of hexabenzylhexaazaisowurtzitane. In either method, high-purity hexabenzylhexaazaisowurtzitanium can be obtained by dissolving the crude crystal once and then crystallization.
【0029】再結晶の濃度は、晶析させる温度におい
て、液体クロマトグラフィーで検出される副生成物成分
が十分溶解し得る濃度から再結晶されなければならな
い。文献(J.Org.Chem.,vol.55,1
459−1466(1990))に記載された方法によ
って得られる粗結晶中には、本発明者らが追試した結
果、重量比で表して、0〜15%の不純物が含まれてい
る。すなわち、この量を十分溶解させうる温度と溶媒量
を選択しなければならない。The concentration of the recrystallization must be such that the by-product component detected by liquid chromatography can be sufficiently dissolved at the crystallization temperature. Literature (J. Org. Chem., Vol. 55, 1)
The crude crystal obtained by the method described in No. 459-1466 (1990)) contains 0-15% of impurities expressed in terms of weight ratio as a result of additional tests by the present inventors. That is, it is necessary to select a temperature and an amount of the solvent that can sufficiently dissolve this amount.
【0030】結晶の析出は1時間から数日の間で完結す
る。この間、液を攪拌してもよいし、静置してもかまわ
ない。静置した場合には比較的大きな針状結晶が得ら
れ、攪拌した場合には細かい結晶が得られる場合が多
い。通常、2〜3時間でほとんどの場合は晶析されるヘ
キサベンジルヘキサアザイソウルチタンの収率は変化し
ないが、結晶化晶析中は、液温を一定に保持することが
収率、純度の再現性において極めて重要である。この時
の液温は、有機溶媒の凝固点以上であり、一定に保持さ
れる温度であることが必要である。The precipitation of the crystals is completed between one hour and several days. During this time, the liquid may be stirred or left standing. When left to stand, relatively large acicular crystals are obtained, and when stirred, fine crystals are often obtained. Usually, the yield of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium crystallized in most cases within a few hours does not change, but during crystallization and crystallization, it is necessary to keep the liquid temperature constant to obtain the yield and purity. Is extremely important in the reproducibility of The liquid temperature at this time must be equal to or higher than the freezing point of the organic solvent and kept constant.
【0031】結晶の析出の終了後の懸濁液からの結晶の
取り出し方は、一般的な方法により取り出すことができ
る。例えば、遠心分離による方法や、吸引濾過による方
法、加圧濾過による方法など、どのような方法によって
もよい。前記のように精製されたヘキサベンジルヘキサ
アザイソウルチタンは、アシル化剤存在下での還元的脱
アリールメチル反応による、アシル基を有するヘキサア
ザイソウルチタン誘導体の製造に供される。After the precipitation of the crystals, the crystals can be taken out of the suspension by a general method. For example, any method such as a method by centrifugation, a method by suction filtration, and a method by pressure filtration may be used. The hexabenzylhexaazaisowurtzitanium purified as described above is subjected to the production of a hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group by a reductive dearylmethyl reaction in the presence of an acylating agent.
【0032】アシル化剤存在下での還元的脱アリールメ
チル反応の工程で使用される溶媒としては、ヘキサベン
ジルヘキサアザイソウルチタンを溶解する溶媒であっ
て、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればいかなる溶
媒を使用してもよい。好ましい溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素
類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、N−メチル−
2−ピロリドン、N,N−ジエチルニペコタミドのよう
なアミド類、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノー
ル、オクタノールのようなアルコール類、ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン
酸プロピル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エ
チル、酪酸プロピル、酪酸ブチルのようなエステル類が
使用できる。さらに好ましくは、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミドである。これ
らの溶媒は、単独で使用してもよいし、2種類以上混合
して使用してもよい。The solvent used in the step of the reductive dearylmethyl reaction in the presence of the acylating agent is a solvent that dissolves hexabenzylhexaazaisowurtzitane and that does not adversely affect the reaction. Any solvent may be used as long as it is used. Preferred solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and ethylbenzene, ethers such as tetrahydrofuran, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide,
1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-
Amides such as 2-pyrrolidone, N, N-diethylnipecotamide, methanol, ethanol, propanol,
Alcohols such as butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, ethyl formate,
Ethyl acetate, methyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as methyl propionate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate, and butyl butyrate can be used. More preferred are N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.
【0033】アシル化剤存在下での還元的脱アリールメ
チル工程でのヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタン
の濃度は、溶媒に対して重量比で表せば、通常0.00
1〜1、好ましくは0.005〜0.3、さらに好まし
くは0.01〜0.2の範囲である。アシル化剤存在下
での還元的脱アリールメチル反応の工程で使用される還
元剤は、通常、水素、ギ酸が用いられる。好ましくは水
素である。前記還元剤の用いられる量は、ヘキサベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンのアリールメチル基に対す
るモル比で表現して1.0〜1000、好ましくは1.
0〜100、さらに好ましくは1.0〜50の範囲で使
用される。還元剤として水素を使用する場合には、水素
分圧で表現して0.01〜1000、好ましくは、0.
1〜30、さらに好ましくは、0.1〜15kgf/c
m2 の範囲で使用される。水素以外に、窒素、アルゴ
ン、ヘリウムなどの不活性ガスが存在していてもよい。The concentration of hexabenzylhexaazaisowurtzitane in the reductive dearylmethylation step in the presence of the acylating agent is usually 0.00% in terms of the weight ratio to the solvent.
It is in the range of 1-1, preferably 0.005-0.3, more preferably 0.01-0.2. As the reducing agent used in the step of the reductive dearylmethyl reaction in the presence of the acylating agent, hydrogen and formic acid are usually used. Preferably it is hydrogen. The amount of the reducing agent to be used is expressed in a molar ratio to the arylmethyl group of hexabenzylhexaazaisowurtitanium of 1.0 to 1000, preferably 1.
It is used in the range of 0 to 100, more preferably 1.0 to 50. When hydrogen is used as the reducing agent, 0.01 to 1000, preferably 0.1 to 1000, expressed as hydrogen partial pressure.
1 to 30, more preferably 0.1 to 15 kgf / c
It is used in the range of m 2. In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.
【0034】アシル化剤存在下での還元的脱アリールメ
チル反応の工程で使用される還元触媒は、ヘキサベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンのアリールメチル基を還元
的脱アリールメチルする触媒であれば、どのようなもの
でも使用できるが、通常、白金族に属する金属、また
は、その誘導体が用いられ、好ましくは、Pd(OA
c)2 、Pd(OAc)2 、Pd(NO3 )2 、Pd
O、PdCl2 、Pd3 Pb1 、Pd3 Te1 などのP
d化合物、Pd合金及びPd金属;RuCl3 などのR
u化合物、Ru合金およびRu金属などが用いられ、さ
らに好ましくは、Pd(OAc)2 、PdCl2 などの
Pd化合物、Pd合金およびPd金属が使用される。The reduction catalyst used in the step of the reductive dearylmethyl reaction in the presence of the acylating agent may be any catalyst capable of reductive dearylmethylation of the arylmethyl group of hexabenzylhexaazaisowurtzitane. Such a material can be used, but usually a metal belonging to the platinum group or a derivative thereof is used. Preferably, Pd (OA
c) 2 , Pd (OAc) 2 , Pd (NO 3 ) 2 , Pd
P such as O, PdCl 2 , Pd 3 Pb 1 , Pd 3 Te 1
d compounds, Pd alloys and Pd metals; R such as RuCl 3
A u compound, a Ru alloy, a Ru metal and the like are used, and more preferably, a Pd compound such as Pd (OAc) 2 and PdCl 2 , a Pd alloy and a Pd metal are used.
【0035】これらの触媒は、そのまま使用するか、あ
るいは、活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミ
ナ、ゼオライト、活性白土、ジルコニア、チタニア、イ
オン交換樹脂、などの各種担体に担持させて使用するこ
ともできる。触媒を担持させて使用する場合には、これ
らの担体をシリル化やアシル化などの処理をおこなうこ
とで、表面酸点を不活性化してもよいし、逆に表面酸点
を増やす活性化処理をしてもよいし、あるいは、NaO
Hなどのアルカリ性の物質を吸着させることによって短
体表面の酸性度を変化させることもできる。不均一系還
元触媒を使用する場合には、固定床で使用してもよい
し、流動床で使用してもよい。These catalysts can be used as they are, or can be used by being supported on various carriers such as activated carbon, silica, alumina, silica-alumina, zeolite, activated clay, zirconia, titania, and ion exchange resins. it can. When a catalyst is used, the surface acid sites may be deactivated by performing a treatment such as silylation or acylation on these carriers, or an activation treatment for increasing the surface acid sites. Or NaO
By adsorbing an alkaline substance such as H, the acidity of the surface of the short body can be changed. When a heterogeneous reduction catalyst is used, it may be used in a fixed bed or in a fluidized bed.
【0036】アシル化剤存在下での還元的脱アリールメ
チル反応の工程で使用されるアシル化剤は、2級アミン
をアシル化し、N−アシル結合を生成するものであれば
どのようなものでも使用できるが、通常、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水ギ酸、無水酪酸、酢酸−ギ酸混合
物の無水物などのカルボン酸無水物、N−アセトキシコ
ハク酸イミド、N−プロピオニルコハク酸イミド、N−
(2−フェニルアセトキシ)コハク酸イミドなどのN−
ヒドロキシコハク酸イミドのカルボン酸エステル、アセ
チルイミダゾール、プロピオニルイミダゾールなどのア
シルイミダゾールなどがあげられる。これらのアシル化
剤のうち、好ましくは、無水酢酸、、無水プロピオン
酸、酢酸−ギ酸混合物の無水物などのカルボン酸無水物
が使用される。さらに好ましくは、無水酢酸である。The acylating agent used in the step of the reductive dearylmethylation reaction in the presence of the acylating agent is any one that can acylate a secondary amine to form an N-acyl bond. Usually, acetic anhydride, propionic anhydride, formic anhydride, butyric anhydride, carboxylic anhydrides such as anhydrides of acetic acid-formic acid mixture, N-acetoxysuccinimide, N-propionylsuccinimide, N-
N- such as (2-phenylacetoxy) succinimide
Examples thereof include carboxylic acid esters of hydroxysuccinimide, acylimidazoles such as acetylimidazole and propionylimidazole. Among these acylating agents, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and an anhydride of an acetic acid-formic acid mixture are preferably used. More preferably, it is acetic anhydride.
【0037】前記アシル化剤の量は、その反応性、反応
方法によっても異なるが、ヘキサベンジルヘキサアザイ
ソウルチタンのアリールメチル基に対するモル比で表現
して、通常、0.67〜100,好ましくは0.67〜
10、さらに好ましくは0.67〜3の範囲である。ア
シル化剤存在下での還元的脱アリールメチル反応工程の
反応温度は、通常、使用する溶媒の凝固点〜200℃、
好ましくは、30〜180℃、さらに好ましくは、40
℃〜165℃の範囲である。The amount of the acylating agent varies depending on its reactivity and reaction method, but it is usually from 0.67 to 100, preferably from 0.67 to 100, expressed as a molar ratio to the arylmethyl group of hexabenzylhexaazaisowurtitanium. Is 0.67 ~
10, more preferably in the range of 0.67 to 3. The reaction temperature of the reductive dearylmethyl reaction step in the presence of the acylating agent is usually the freezing point of the solvent used to 200 ° C.
Preferably, it is 30 to 180 ° C, more preferably 40 to 180 ° C.
C. to 165.degree.
【0038】本発明のアシル基を有するヘキサアザイソ
ウルチタンの製造方法は、グリオキサールとベンジルア
ミンから得られる粗ヘキサベンジルヘキサアザイソウル
チタンに含まれる脱アリールメチル反応を阻害する副生
成物を、溶解度比Pが0.1〜20の範囲にある有機溶
媒をもちいることによって除去した高純度のヘキサベン
ジルヘキサアザイソウルチタンを使用することで、アシ
ル化剤存在下、還元的脱アリールメチル反応が短時間で
再現よくおこなうことができ、かつ、工業的に有利なア
シル基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体を生産
することができる。The process for producing hexaazaisowurtzitanium having an acyl group according to the present invention comprises the steps of: removing a by-product that inhibits a dearylmethyl reaction contained in crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium obtained from glyoxal and benzylamine; By using high-purity hexabenzylhexaazaisowurtzitane which has been removed by using an organic solvent having a solubility ratio P in the range of 0.1 to 20, the reductive dearylmethyl reaction can be carried out in the presence of an acylating agent. Can be carried out in a short time with good reproducibility, and an industrially advantageous hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group can be produced.
【0039】[0039]
【発明の実施の形態】以下に、実施例などを用いて本発
明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例など
により何ら限定されるものではない。 〈粗ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンの合成〉
冷却管、滴下ロート、温度計、攪拌棒をそなえた3lセ
パラブルフラスコに、アセトニトリル1.1l、蒸留水
100ml、ベンジルアミン120ml(1.1mo
l)、90%ギ酸4.6ml(0.11mol)をい
れ、恒温槽をもちいて、内温を0℃に保つ。40%グリ
オキサール水溶液57ml(0.50mol)を滴下ロ
ートにいれ、1時間かけてゆっくり滴下する。滴下終了
後、攪拌しながら室温まで放温する。その後、室温で2
0時間攪拌する。黄色の溶液から白色の固体が析出す
る。この白色固体を吸引濾過し、500mlのあらかじ
め0℃に冷却したアセトニトリルで洗浄する。このとき
に黄色の液は洗い流され、白色の針状結晶が得られる。
得られた白色結晶を5lのアセトニトリルから再結晶す
る。粗ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンの白色
針状結晶106gを得る(収率 90%程度)。液体ク
ロマトグラフィーによる純度は96.2%であった。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. <Synthesis of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane>
In a 3 l separable flask equipped with a cooling tube, a dropping funnel, a thermometer, and a stirring rod, 1.1 l of acetonitrile, 100 ml of distilled water, and 120 ml of benzylamine (1.1 mol)
1) 4.6 ml (0.11 mol) of 90% formic acid is added, and the internal temperature is kept at 0 ° C. using a thermostat. 57 ml (0.50 mol) of a 40% aqueous glyoxal solution is placed in a dropping funnel and slowly dropped over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture is allowed to warm to room temperature with stirring. Then at room temperature 2
Stir for 0 hours. A white solid precipitates out of the yellow solution. The white solid is filtered off with suction and washed with 500 ml of acetonitrile previously cooled to 0.degree. At this time, the yellow liquid is washed away, and white needle-like crystals are obtained.
The white crystals obtained are recrystallized from 5 l of acetonitrile. 106 g of white needle crystals of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane are obtained (yield: about 90%). The purity by liquid chromatography was 96.2%.
【0040】[0040]
【比較例1】2lビーカーに粗ヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタン(純度96.2%)16.58g、ア
セトニトリル1lを入れ、攪拌子で攪拌しながら恒温槽
で90℃に保ち、粗結晶をすべて溶解させる。溶解後、
恒温槽を20℃に下げ、4時間攪拌しながら結晶を晶析
させる。吸引濾過し、結晶を乾燥させ、白色結晶を得
る。得られた白色結晶は、収量15.18gであり、純
度97.2%であった。Comparative Example 1 16.58 g of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane (purity: 96.2%) and 1 l of acetonitrile were placed in a 2 l beaker, and kept at 90 ° C. in a thermostat while stirring with a stirrer to remove all the crude crystals. Allow to dissolve. After dissolution,
The temperature of the thermostat is lowered to 20 ° C., and the crystals are crystallized while stirring for 4 hours. Filter with suction and dry the crystals to obtain white crystals. The obtained white crystals had a yield of 15.18 g and a purity of 97.2%.
【0041】[0041]
【実施例1】2lビーカーに粗ヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタン(純度96.2%)3.9g、アセト
ニトリル1lを入れ、攪拌子で攪拌しながら恒温槽で9
0℃に保ち、粗結晶をすべて溶解させる。溶解後、恒温
槽を20℃に下げ、4時間攪拌しながら結晶を晶析させ
る。吸引濾過し、結晶を乾燥させ、白色結晶を得る。得
られた白色結晶は、収量2.8gであり、純度100%
であった。EXAMPLE 1 3.9 g of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane (purity: 96.2%) and 1 liter of acetonitrile were placed in a 2 liter beaker, and stirred in a thermostat while stirring with a stirrer.
Keep at 0 ° C. to dissolve all crude crystals. After dissolution, the temperature of the thermostat is lowered to 20 ° C., and the crystals are crystallized while stirring for 4 hours. Filter with suction and dry the crystals to obtain white crystals. The obtained white crystals had a yield of 2.8 g and a purity of 100%.
Met.
【0042】[0042]
【実施例2】2lビーカーに粗ヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタン(純度96.2%)50g、酢酸エチ
ル1lを入れ、攪拌子で攪拌しながら恒温槽で60℃に
保ち、粗結晶をすべて溶解させる。溶解後、恒温槽を1
5℃に下げ、4時間攪拌しながら結晶を晶析させる。吸
引濾過し、結晶を乾燥させ、白色結晶を得る。得られた
白色結晶は、収量23.3gであり、純度100%であ
った。Example 2 50 g of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium (purity 96.2%) and 1 l of ethyl acetate were placed in a 2 l beaker, and the mixture was kept at 60 ° C. in a thermostat while stirring with a stirrer to dissolve all the crude crystals. Let it. After melting, add 1
The temperature is lowered to 5 ° C., and the crystals are crystallized while stirring for 4 hours. Filter with suction and dry the crystals to obtain white crystals. The obtained white crystals had a yield of 23.3 g and a purity of 100%.
【0043】[0043]
【実施例3】2lビーカーに粗ヘキサベンジルヘキサア
ザイソウルチタン(純度96.2%)25g、酢酸エチ
ル500ml、エタノール500mlを入れ、攪拌子で
攪拌しながら恒温槽で60℃に保ち、粗結晶をすべて溶
解させる。溶解後、恒温槽を15℃に下げ、4時間攪拌
しながら結晶を晶析させる。吸引濾過し、結晶を乾燥さ
せ、白色結晶を得る。得られた白色結晶は、収量20.
0gであり、純度100%であった。 〈テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチタン
の製造例〉Example 3 25 g of crude hexabenzylhexaazaisowurtzitane (purity 96.2%), 500 ml of ethyl acetate and 500 ml of ethanol were placed in a 2 l beaker, and the mixture was kept at 60 ° C. in a thermostat while stirring with a stirrer. Is completely dissolved. After dissolution, the temperature of the thermostat is lowered to 15 ° C., and the crystals are crystallized while stirring for 4 hours. Filter with suction and dry the crystals to obtain white crystals. The obtained white crystals had a yield of 20.
0 g and 100% purity. <Production example of tetraacetyldibenzylhexaazaisosoul titanium>
【0044】[0044]
【比較例2】100mlオートクレーブに、比較例1で
製造したヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタン2.
1g、10%Pd−C(Pdが2価の状態で活性炭に担
持された触媒)3.15g、無水酢酸1.84g、N,
N−ジメチルアセトアミド30mlを入れ、オートクレ
ーブに蓋をする。オートクレーブ内を窒素置換した後、
水素置換し、水素圧力が1.1kgf/cm2 になるよ
うに調節する。700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開
始し、反応温度が60℃になるように昇温を開始する。
反応中、オートクレーブの内圧が1.1kgf/cm2
で維持されるように連続的に水素を補給する。反応時間
4時間で反応を停止し、反応液を取り出し、触媒を濾別
した。テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチ
タンの収率は、10.5%であった。Comparative Example 2 In a 100 ml autoclave, hexabenzylhexaazaisowurtzitane prepared in Comparative Example 1 was used.
1 g, 10% Pd-C (a catalyst in which Pd is supported on activated carbon in a divalent state) 3.15 g, acetic anhydride 1.84 g, N,
Add 30 ml of N-dimethylacetamide and cover the autoclave. After purging the autoclave with nitrogen,
It is replaced with hydrogen and adjusted so that the hydrogen pressure becomes 1.1 kgf / cm 2 . Stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and heating is started so that the reaction temperature becomes 60 ° C.
During the reaction, the internal pressure of the autoclave is 1.1 kgf / cm 2
Replenish hydrogen continuously so that it is maintained at. The reaction was stopped after a reaction time of 4 hours, the reaction solution was taken out, and the catalyst was separated by filtration. The yield of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane was 10.5%.
【0045】[0045]
【実施例4】実施例3で得られたヘキサベンジルヘキサ
アザイソウルチタンを使用したほかは比較製造例と同じ
操作をおこなった。テトラアセチルジベンジルヘキサア
ザイソウルチタンの収率は55%であり、ペンタアセチ
ルベンジルヘキサアザイソウルチタンの収率は9%であ
った。Example 4 The same operation as in Comparative Production Example was performed except that the hexabenzylhexaazaisowurtzitanium obtained in Example 3 was used. The yield of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium was 55%, and the yield of pentaacetylbenzylhexaazaisowurtzitanium was 9%.
【0046】[0046]
【発明の効果】本発明のヘキサベンジルヘキサアザイソ
ウルチタンの精製法によって高純度のヘキサベンジルヘ
キサアザイソウルチタンを得るこができ、これらを使用
することでアシル基を有するヘキサアザイソウルチタン
を製造するためのアシル化剤存在下、脱アリールメチル
反応を工業的に有利におこなうことができる。According to the method for purifying hexabenzylhexaazaisowurtzitane of the present invention, high-purity hexabenzylhexaazaisowurtzitanium can be obtained, and by using these, hexaazaisowurtzitane having an acyl group can be obtained. Can be industrially advantageously carried out in the presence of an acylating agent for the production of
【図1】本発明で示される液体クロマトグラフィーの分
析例の図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of analysis by liquid chromatography shown in the present invention.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 児玉 保 静岡県富士市鮫島2番地の1 旭化成工業 株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Tamotsu Kodama 1 at 2 Samejima, Fuji City, Shizuoka Prefecture Asahi Kasei Corporation
Claims (8)
成された下記一般式(1)で表わされる粗ヘキサベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンから副生成物成分を、除去
精製することを特徴とするヘキサアザイソウルチタン誘
導体の製造方法。 WB6 (1) [式中、Bはベンジル基、Wは次の式(3)で表わされ
るヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] 【化1】 1. A hexaazaisowurtzitane characterized by removing and purifying by-product components from crude hexabenzylhexaazaisowurtzitanium represented by the following general formula (1) synthesized from glyoxal and benzylamine. A method for producing a derivative. WB 6 (1) [wherein, B represents a benzyl group, and W represents a hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (3). ]
ーで検出されるヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタ
ン以外の成分であることを特徴とする請求項1記載のヘ
キサアザイソウルチタン誘導体の製造方法。2. The method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative according to claim 1, wherein the by-product component is a component other than hexabenzylhexaazaisowurtzitane detected by liquid chromatography.
ーで検出される副生成物成分を含む副生成物であること
を特徴とする請求項1記載のヘキサアザイソウルチタン
誘導体の製造方法。3. The method for producing a hexaazaisowurtzitanium derivative according to claim 1, wherein the by-product component is a by-product containing a by-product component detected by liquid chromatography.
る溶解度比Pの値が0.1〜20である1種類以上の有
機溶媒の組み合わせによっておこなわれることを特徴と
する請求項1記載のヘキサアザイソウルチタン誘導体の
製造方法。 P=H/I (4) [式中、Hは有機溶媒に溶解するヘキサベンジルヘキサ
アザイソウルチタンの溶解度(g/l)、Iは有機溶媒
に溶解する液体クロマトグラフィー分析で検出される不
純物成分の溶解度(g/l)を表わす。]4. The method according to claim 1, wherein the removal and purification is performed by a combination of at least one organic solvent having a solubility ratio P represented by the following formula (4) having a value of 0.1 to 20. A method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative as described above. P = H / I (4) wherein H is the solubility (g / l) of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium dissolved in the organic solvent, and I is the impurity detected by liquid chromatography analysis dissolved in the organic solvent. Indicates the solubility (g / l) of the component. ]
ル類、ニトリル類、アミド類、エステル類、アルコール
類の内から選ばれる1種類以上の組み合わせからなる有
機溶媒であることを特徴とする請求項4記載のヘキサア
ザイソウルチタン誘導体の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is an organic solvent composed of at least one selected from aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, amides, esters, and alcohols. A method for producing the hexaazaisowurtzitane derivative according to claim 4.
ールを含む有機溶媒の組み合わせであることを特徴とす
る請求項4記載のヘキサアザイソウルチタン誘導体の製
造方法。6. The method according to claim 4, wherein the organic solvent is a combination of an organic solvent containing ethyl acetate and ethyl alcohol.
の有機溶媒に溶解する溶解度を越えない濃度で使用する
ことを特徴とする請求項4記載のヘキサアザイソウルチ
タン誘導体の製造方法。7. The process for producing a hexaazaisowurtzitane derivative according to claim 4, wherein the organic solvent is used in a concentration that does not exceed the solubility of the by-product component in the organic solvent at the crystallization temperature. Method.
ザイソウルチタンを、アシル化剤存在下、還元的脱アリ
ールメチルすることを特徴とする下記一般式(2)で表
されるアシル基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導
体の製造方法。 WAn Bm H(6-n-m) (2) [式中、nは4〜6の整数、mは0〜2の整数、Aは炭
素数1〜10のアシル基、Bはベンジル基、Hは水素原
子、Wは次の式(3)で表わされるヘキサアザイソウル
チタン残基を表わす。] 【化2】 8. An acyl group represented by the following general formula (2), wherein the hexabenzylhexaazaisowurtzitanium according to claim 1 is subjected to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent. A method for producing a hexaazaisoulitanium derivative. WA n B m H (6-nm) (2) [wherein, n is an integer of 4 to 6, m is an integer of 0 to 2, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, B is a benzyl group, H Represents a hydrogen atom, and W represents a hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (3). ]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11360097A JPH10287676A (en) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | Production of hexaazaisowurtzitane derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11360097A JPH10287676A (en) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | Production of hexaazaisowurtzitane derivative |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10287676A true JPH10287676A (en) | 1998-10-27 |
Family
ID=14616330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11360097A Pending JPH10287676A (en) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | Production of hexaazaisowurtzitane derivative |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10287676A (en) |
-
1997
- 1997-04-16 JP JP11360097A patent/JPH10287676A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008239629A (en) | Novel polymorph of venlafaxine hydrochloride and method for preparing it | |
RU2065852C1 (en) | Process for preparing 1-(3-chlorophenyl)-4-methyl-7,8- dimethoxy-5h-2,3-benxodiazepine | |
JP2003506425A (en) | Method for producing nitroxyalkyl ester of naproxen | |
JP2005507858A (en) | How to produce zaleplon | |
US7776852B2 (en) | Process for producing highly pure midazolam and salts thereof | |
KR20230004622A (en) | Synthesis of monoacylglycerol lipase inhibitors | |
EP1873152B1 (en) | Novel purification process of moxonidine | |
JPH10287676A (en) | Production of hexaazaisowurtzitane derivative | |
WO2008038143A2 (en) | Novel solid forms of rimonabant and synthetic processes for their preparation | |
JP4514017B2 (en) | Method for producing epinastine hydrochloride | |
JPH10287677A (en) | Production of hexaazaisowurtzitane derivative | |
CA2276320C (en) | L-tartrate of trans-(-)-4-(4-fluorophenyl)-3-hydroxymethylpiperidine compound and process for preparing the same | |
JP3241741B2 (en) | "Method for producing 3- (7-amidino-2-naphthyl) -2-phenylpropionic acid derivative" | |
EP0483754B1 (en) | Novel process for producing 6-(3-dimethylaminopropionyl)forskolin | |
JP4014329B2 (en) | Purification method of quinoline derivatives | |
JP2717995B2 (en) | Production method of 1,2,3-triazole | |
JP2926482B2 (en) | Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group | |
JPH04217979A (en) | Preparation of octahydropyrazolo- (3,4-g)quinoline | |
WO1999019328A1 (en) | Method for acylating hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane | |
EP3656768A1 (en) | Beraprost-314d crystals and methods for preparation thereof | |
JPH03190847A (en) | Purification of 3,4-dichloronitrobenzene | |
JP2976018B2 (en) | Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group | |
JP3387579B2 (en) | Method for producing 2-oxaindane derivative | |
EA010830B1 (en) | Process for the synthesis of n- [3-(3-cyanopyrazolo [1,5a] pyrimidin-7-yl)-phenyl]-n-ethyl-acetamide | |
EA044645B1 (en) | METHOD FOR OBTAINING APIXABAN |