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JPH10284339A - Metallized film capacitor - Google Patents

Metallized film capacitor

Info

Publication number
JPH10284339A
JPH10284339A JP9368397A JP9368397A JPH10284339A JP H10284339 A JPH10284339 A JP H10284339A JP 9368397 A JP9368397 A JP 9368397A JP 9368397 A JP9368397 A JP 9368397A JP H10284339 A JPH10284339 A JP H10284339A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
capacitor
particles
less
particle size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9368397A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiki Sato
嘉記 佐藤
Yoshio Meguro
義男 目黒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Diafoil Co Ltd
Original Assignee
Diafoil Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Diafoil Co Ltd filed Critical Diafoil Co Ltd
Priority to JP9368397A priority Critical patent/JPH10284339A/en
Publication of JPH10284339A publication Critical patent/JPH10284339A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a matellized film capacitor capable of preventing incidence of damage generated in the film manufacturing process and thermal deterioration generated during evaporation and improving dielectric strength and durability of the laminated capacitor manufactured by processing a coated film hardened by an activated energy beam irradiation of a deposited film as a dielectric. SOLUTION: A thermoplastic resin film having a maximum height (Rmax) of its surface 1.5 μm or less and its thickness of 0.3 to 3.0 μm contains 0.01 to 5.0 weight % of a particle A having an average particle size (d50) of 0.3 to 2.0 μm and a particle-size distribution (d25/d75) of 2.0 or less, and has a metal evaporated layer on both its sides. The capacitor is made by laminating films having dielectric layer hardened by irradiation of at least one surface of the metal evaporated layers with an activated energy beam.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属化フィルムコ
ンデンサに関する。詳しくは、本発明は、極めて薄いフ
ィルムを用いた金属化フィルムコンデンサであって、当
該コンデンサは、活性エネルギー線により硬化する塗布
層を誘電体として形成して得られるものであり、コンデ
ンサ製造時に、蒸着工程でのフィルムの熱負け等のトラ
ブルを防止し、かつフィルム、塗布層共に高度な耐電圧
特性、耐久性を与えることのできる金属化フィルムコン
デンサに関するものである。
[0001] The present invention relates to a metallized film capacitor. Specifically, the present invention is a metallized film capacitor using an extremely thin film, the capacitor is obtained by forming a coating layer cured by active energy rays as a dielectric, The present invention relates to a metallized film capacitor capable of preventing troubles such as heat loss of a film in a vapor deposition step and giving high withstand voltage characteristics and durability to both a film and a coating layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器等の発達に伴い、それに
使用されるコンデンサへの要求特性も一段と厳しくなっ
ている。かかる要求特性として良好な電気特性、耐久
性、小型化、および低価格等が挙げられる。かかる要求
に対応するため、近年極めて薄いフィルムに蒸着を施
し、塗布により誘電体を形成して積層構造の素子形成す
る、いわゆる積層コンデンサが用いられている。かかる
コンデンサに使用されるフィルムは、極めて薄いことに
加え、高度な要求特性を満足しなければならない。すな
わち、例えば3μm以下の薄いフィルムの場合は、取扱
い性や加工時の走行性を良好とし、傷の発生等による特
性低下を防止するため、フィルム表面の粗度を適当な範
囲に調節することが必要となる。一方、取扱い性を向上
するためフィルムに多量の粒子を含有させたり、大きな
粒子を含有させると電気的特性、耐久性に悪影響を及ぼ
すようになる。したがって、かかる電気的特性への悪影
響がなく、かつ取扱い性の優れたフィルムが、これから
の電子機器に用いる小型コンデンサの誘電体として要求
されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of electronic devices and the like, required characteristics of capacitors used therein have become more severe. Such required characteristics include good electrical characteristics, durability, miniaturization, low cost, and the like. In order to meet such a demand, a so-called multilayer capacitor has recently been used in which an extremely thin film is subjected to vapor deposition, and a dielectric is formed by coating to form an element having a multilayer structure. The film used for such a capacitor must satisfy extremely high required characteristics in addition to being extremely thin. That is, for example, in the case of a thin film having a thickness of 3 μm or less, the roughness of the film surface may be adjusted to an appropriate range in order to improve the handleability and the running property during processing and prevent deterioration in characteristics due to scratches or the like. Required. On the other hand, if the film contains a large amount of particles or contains large particles in order to improve the handleability, the electrical properties and durability will be adversely affected. Therefore, a film that does not adversely affect the electrical characteristics and has excellent handleability is demanded as a dielectric for a small capacitor used in future electronic devices.

【0003】特に向上の要求が強い電気的特性として耐
電圧特性や絶縁抵抗特性が挙げられ、常温から高温まで
広い温度範囲で高度な特性を有することが必要である。
フィルムの厚みが薄い場合は、特に良好な耐電圧特性
と、絶縁抵抗が要求される。耐電圧特性に悪影響を与え
る因子としてフィルム中に存在する異物や、厚み斑等が
挙げられる。フィルムの取扱い性を向上させるため、フ
ィルム中に微粒子を添加する方法が採用されるが、かか
る微粒子に含まれる凝集物や粗大粒子等の異物が耐電圧
特性に影響する。さらに、フィルム表面の粗大突起やフ
ィルムの厚み斑が原因で、塗布誘電体層の均一性が低下
し、その耐電圧特性の低下を引き起こしてしまうことが
ある。これらの観点から、フィルムの表面は極めて均
一、かつ特定の突起形状を有する状態に保たれていなけ
ればならない。
[0003] Particularly, electrical characteristics that are strongly required to be improved include withstand voltage characteristics and insulation resistance characteristics, and it is necessary to have advanced characteristics in a wide temperature range from normal temperature to high temperature.
When the film is thin, particularly good withstand voltage characteristics and insulation resistance are required. Factors that have an adverse effect on the withstand voltage characteristics include foreign substances present in the film and uneven thickness. In order to improve the handleability of the film, a method of adding fine particles to the film is employed. However, foreign substances such as aggregates and coarse particles contained in the fine particles affect the withstand voltage characteristics. Furthermore, due to coarse protrusions on the film surface and uneven thickness of the film, the uniformity of the applied dielectric layer may be reduced, and the withstand voltage characteristics may be reduced. From these viewpoints, the surface of the film must be kept extremely uniform and have a specific projection shape.

【0004】また近年は、特に環境汚染や自然破壊を防
止する観点から、有害性の有機溶剤の使用を避けること
が望まれている。上記した塗布誘電体層を設ける際に
も、有機溶剤を使用すると、回収できずに揮散したり、
漏洩する等の懸念から、有機溶剤使用量が少ないか、好
ましくは全く使用しない方法が望まれるようになってき
た。 かかる状況下、例えば特開平7−26193号公
報に記載されているような紫外線照射により硬化させる
誘電体用塗料を用いたコンデンサが提案されている。
従来行われていた溶剤含有塗料を用いた方法では、薄い
乾燥膜厚とする場合でも、塗布時は溶剤を含有している
ため塗布厚みは比較的厚くできること、塗布時の塗料の
粘度を溶剤量により適度に調整できることから、乾燥時
の塗布厚みを均一にすることができた。しかしながら、
活性エネルギー線照射により硬化させる塗料の場合は、
塗布厚みに対して硬化後の厚みがあまり薄くならないた
め、極めて薄い塗布が必要であること、塗料の粘度が低
いものが多いこと等の理由で、塗布層厚みの均一性を向
上することが難しくなる。近年はコンデンサの小型化が
望まれているため、フィルムも塗布層も極めて薄くする
ことが必要であり、かかる厚みの均一性を高度に満足す
る必要がある。特にフィルム表面の突起状の部分付近の
塗布層の厚みが薄くなり、塗布誘電体の耐電圧が低下す
る問題が起こりやすく、フィルム表面に大きな突起が存
在しない特定の形状を保つことが必要である。
In recent years, it has been desired to avoid using harmful organic solvents, particularly from the viewpoint of preventing environmental pollution and natural destruction. Even when providing the above-mentioned applied dielectric layer, if an organic solvent is used, it cannot be recovered and volatilizes,
Due to concerns such as leakage, a method that uses a small amount of organic solvent or preferably uses no organic solvent has come to be desired. Under such circumstances, for example, a capacitor using a dielectric coating material that is cured by irradiation with ultraviolet rays as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-26193 has been proposed.
In the conventional method using a solvent-containing paint, even when a thin dry film thickness is used, since the solvent is contained at the time of application, the applied thickness can be made relatively thick, and the viscosity of the paint at the time of application is determined by the amount of the solvent. Thus, the coating thickness at the time of drying could be made uniform. However,
In the case of a paint that is cured by irradiation with active energy rays,
It is difficult to improve the uniformity of the thickness of the coating layer because the thickness after curing does not become too thin with respect to the coating thickness, so that an extremely thin coating is required, and the viscosity of the paint is often low. Become. In recent years, since miniaturization of capacitors has been desired, it is necessary to make both the film and the coating layer extremely thin, and it is necessary to highly satisfy such uniformity of the thickness. In particular, the thickness of the coating layer near the protruding portion on the film surface becomes thin, and the problem that the withstand voltage of the coating dielectric decreases tends to occur. It is necessary to maintain a specific shape in which no large protrusion exists on the film surface. .

【0005】従来、かかる特殊な塗料を用いるコンデン
サに関して、上記した問題点を同時に解決し、耐電圧特
性を始めとする電気特性を高度に満足できるフィルムは
得られていなかった。二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの
中でもポリエステルフィルムは、機械的性質、耐熱性、
電気的特性、耐薬品性等、各種の特性を高度にバランス
良く有し、コストパフォーマンスの点で優れるため、コ
ンデンサ用として使用されている。ポリエステルフィル
ムは種々の用途で、表面形状の設計に関しさまざまな改
良が行われているが、本願発明の如き特殊な用途で、上
記した問題をすべて解決できるフィルムは知られておら
ず、更なる特性向上が強く望まれている。
Heretofore, with respect to a capacitor using such a special paint, the above-mentioned problems have been solved at the same time, and a film capable of highly satisfying electric characteristics such as withstand voltage characteristics has not been obtained. Polyester film among the biaxially oriented thermoplastic resin films has mechanical properties, heat resistance,
Since it has various characteristics such as electrical characteristics and chemical resistance in a highly balanced manner and is excellent in cost performance, it is used for capacitors. Various improvements have been made on the design of the surface shape of the polyester film in various applications.However, a film capable of solving all of the above-mentioned problems in a special application such as the present invention has not been known, and further characteristics have been known. Improvement is strongly desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、蒸着
フィルムに、活性エネルギー線照射硬化性の塗布層を誘
電体として設けて得る積層コンデンサにおいて、フィル
ム製造工程での傷発生や蒸着工程でのフィルムの熱負け
等のトラブルを防止し、かつ得られたコンデンサの耐電
圧特性、耐久性を高度に満足することのできる金属化フ
ィルムコンデンサを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a laminated capacitor obtained by providing an active energy ray irradiation-curable coating layer as a dielectric on a vapor-deposited film. Another object of the present invention is to provide a metallized film capacitor which can prevent troubles such as heat loss of a film and can highly satisfy the withstand voltage characteristics and durability of the obtained capacitor.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み鋭意検討を行った結果、特定の粒子を含有するこ
とにより表面形状が設計された熱可塑性樹脂フィルムを
用いれば、極めて薄いフィルムとして製造した場合で
も、フィルム製造時の傷発生やフィルム加工時のフィル
ム熱負け等のトラブルを防止でき、かつ活性エネルギー
線照射により硬化する塗布層を誘電体として設ける場合
に、特に塗布層厚み均一性が低下することによる耐電圧
特性や耐久性の低下を防止でき、良好な電気的特性の積
層コンデンサが得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in view of the above problems, and as a result, if a thermoplastic resin film containing specific particles and having a designed surface shape is used, it will be extremely thin. Even when it is manufactured as a film, it is possible to prevent troubles such as generation of scratches at the time of film production and loss of the film at the time of film processing. The inventors have found that a reduction in withstand voltage characteristics and durability due to a decrease in uniformity can be prevented, and that a multilayer capacitor having good electrical characteristics can be obtained. Thus, the present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明の要旨は、平均粒径(d
50)が0.3〜2.0μmでかつ粒度分布値(d25/d
75)が2.0以下の粒子Aを0.01〜5.0重量%含
有し、フィルム表面の最大高さ(Rmax)が1.5μ
m以下、厚みが0.3〜3.0μmである熱可塑性樹脂
フィルムの両面に金属蒸着層を有し、当該金属蒸着層の
少なくとも一方の表面に活性エネルギー線照射により硬
化する誘電体層を有するフィルムを積層して得られる金
属化フィルムコンデンサに存する。
That is, the gist of the present invention is that the average particle size (d
50) is 0.3 to 2.0 μm and the particle size distribution value (d25 / d
75) contains 0.01 to 5.0% by weight of particles A having a particle size of 2.0 or less, and has a maximum film surface height (Rmax) of 1.5 μm.
m or less, having a metal-deposited layer on both surfaces of a thermoplastic resin film having a thickness of 0.3 to 3.0 μm, and having at least one surface of the metal-deposited layer having a dielectric layer which is cured by irradiation with active energy rays. A metallized film capacitor obtained by laminating films.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるフィルムを構成する熱可塑性樹脂の例と
して、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリエーテルエーテルケトン等の樹脂が挙げられ
る。中でも電気特性と機械的特性が良好で、比較的安価
である点からポリエステルが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Examples of the thermoplastic resin constituting the film in the present invention include resins such as polyester, polypropylene, polymethylpentene, polycarbonate, polyphenylene sulfide, and polyether ether ketone. Among them, polyester is preferred because it has good electrical and mechanical properties and is relatively inexpensive.

【0010】ここで言うポリエステルとは、芳香族ジカ
ルボン酸成分と、グリコール成分とからなるポリエステ
ルを指し、特に繰り返し単位の80%以上がエチレンテ
レフタレート単位またはエチレン−2,6−ナフタレー
ト単位または1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート単位を有するポリエステルが好適である。ま
た、かかるポリエステルは他の第三成分が共重合されて
いてもよい。芳香族ジカルボン酸成分としては、テレフ
タル酸および2,6−ナフタレンジカルボン酸以外に、
例えば、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、オキシカル
ボン酸(例えば、p−オキシエトキシ安息香酸等)等を
用いることができる。グリコール成分としては、エチレ
ングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール以
外に、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネ
オペンチルグリコール等の一種または二種以上を用いる
ことができる。また、これらのポリエステルの混合物で
あってもよい。
[0010] The polyester as used herein refers to a polyester comprising an aromatic dicarboxylic acid component and a glycol component. In particular, 80% or more of the repeating units are ethylene terephthalate units or ethylene-2,6-naphthalate units or 1,4. Polyesters having cyclohexylene dimethylene terephthalate units are preferred. Further, such a polyester may have another third component copolymerized. As the aromatic dicarboxylic acid component, in addition to terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid,
For example, isophthalic acid, phthalic acid, adipic acid, sebacic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, oxycarboxylic acid (eg, p-oxyethoxybenzoic acid, etc.) can be used. As the glycol component, in addition to ethylene glycol and 1,4-cyclohexanedimethanol, for example, one or more of diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, butanediol, neopentyl glycol, and the like can be used. Further, a mixture of these polyesters may be used.

【0011】かかるポリエステルの極限粘度は、通常
0.45以上、好ましくは0.50〜1.0、さらに好
ましくは0.52〜0.80の範囲である。極限粘度が
0.45未満ではフィルム製造時の生産性が低下した
り、フィルムの機械的強度が低下したりすることがあ
る。一方、ポリマーの溶融押出安定性の点から、極限粘
度は1.0を超えないことが好ましい。
The intrinsic viscosity of the polyester is usually 0.45 or more, preferably 0.50 to 1.0, more preferably 0.52 to 0.80. If the intrinsic viscosity is less than 0.45, the productivity during the production of the film may decrease, or the mechanical strength of the film may decrease. On the other hand, from the viewpoint of melt extrusion stability of the polymer, the intrinsic viscosity preferably does not exceed 1.0.

【0012】また、本発明の熱可塑性樹脂は、フィルム
の絶縁抵抗特性を高度に満足するため、溶融時の体積固
有抵抗値(ρ値)が、5.0×108 Ω・cmを超える
ことが好ましい。ここでいうρ値は、フィルムを溶融し
て、その温度を押出成形温度に保ち、電極を挿入して測
定した抵抗値である。例えば、ポリエチレンテレフタレ
ートの場合は、285℃にて測定する。ρ値が5.0×
108 Ω・cm以下の場合は、フィルムの絶縁抵抗特性
が、特に80℃以上の温度範囲で低下する傾向がある。
ポリエステルの場合、ρ値を上記範囲とするために、ポ
リエステル製造時に添加する触媒金属の量を少なくす
る、あるいは金属の活性を低下させるために、リン酸、
あるいはリン酸エステル等のリン化合物を添加する方法
が用いられる。リン化合物の添加量[P]は、エステル
化またはエステル交換反応触媒の金属量[M]に対し、
モル比として[P]/[M]が0.8〜2.0の範囲と
なるように選択すればよい。
Further, the thermoplastic resin of the present invention has a volume resistivity (ρ value) of more than 5.0 × 10 8 Ω · cm at the time of melting in order to satisfy the insulation resistance characteristics of the film to a high degree. Is preferred. The ρ value here is a resistance value measured by melting the film, keeping the temperature at the extrusion molding temperature, and inserting an electrode. For example, in the case of polyethylene terephthalate, the measurement is performed at 285 ° C. ρ value is 5.0 ×
In the case of 10 8 Ω · cm or less, the insulation resistance characteristic of the film tends to decrease particularly in a temperature range of 80 ° C. or more.
In the case of polyester, phosphoric acid is used to reduce the amount of the catalyst metal added during the production of the polyester, or to reduce the activity of the metal, in order to keep the ρ value in the above range.
Alternatively, a method of adding a phosphorus compound such as a phosphoric ester is used. The addition amount [P] of the phosphorus compound is based on the metal amount [M] of the esterification or transesterification catalyst,
The molar ratio may be selected so that [P] / [M] is in the range of 0.8 to 2.0.

【0013】ポリエステルの製造時は反応触媒として金
属成分を使用し、それがポリエステル中に含有されるた
め、かかるρ値の上限は、通常1.0×1010Ω・cm
程度である。本発明においては、フィルムに滑り性を与
えて取扱い性を向上する目的や、フィルム製造時のキズ
の発生防止を目的として、フィルムに粒子を含有させ、
フィルム表面に適度な突起を形成させるが、本発明の特
徴は、かかる粒子として特定の粒子を用いることにあ
る。すなわち、本発明者らの知るところによると、特定
の粒子を含有させた場合に、フィルム取扱い性と電気特
性とが同時に向上される。すなわち、平均粒径(d50)
が0.3〜2.0μm、粒度分布値(d25/d75)が
2.0以下の粒子Aを0.01〜5.0重量%含有させ
た場合に、高度な特性が得られる。
During the production of a polyester, a metal component is used as a reaction catalyst, which is contained in the polyester. Therefore, the upper limit of the ρ value is usually 1.0 × 10 10 Ω · cm.
It is about. In the present invention, for the purpose of improving the handleability by giving the film a slippery, for the purpose of preventing the occurrence of scratches during film production, containing particles in the film,
Moderate protrusions are formed on the film surface, and the feature of the present invention is that specific particles are used as such particles. That is, according to the knowledge of the present inventors, when specific particles are contained, the film handling properties and the electrical properties are simultaneously improved. That is, the average particle size (d50)
When particles A having a particle size distribution of 0.3 to 2.0 μm and a particle size distribution value (d25 / d75) of 2.0 or less are contained in an amount of 0.01 to 5.0% by weight, high properties can be obtained.

【0014】粒子Aの平均粒径が上記した範囲より大き
い場合は、フィルム自身の絶縁抵抗低下や、粒子のフィ
ルム表面からの脱落による絶縁欠陥の発生、フィルム粗
面化により塗布層の厚み均一性が低下して、塗布誘電体
層の絶縁抵抗特性が低下する等の問題が発生するように
なるため好ましくない。平均粒径は好ましくは1.7μ
m以下、さらに好ましくは1.5μm以下が望ましい。
When the average particle diameter of the particles A is larger than the above range, the insulation resistance of the film itself is reduced, insulation defects occur due to the particles falling off the film surface, and the uniformity of the thickness of the coating layer is caused by roughening of the film. And the problems such as a decrease in the insulation resistance characteristics of the applied dielectric layer occur, which is not preferable. The average particle size is preferably 1.7μ
m, more preferably 1.5 μm or less.

【0015】粒子Aの粒度分布値が上記した範囲より大
きいと、粗大粒子を含有するようになり、平均粒径が大
きすぎる場合と同様の問題を発生させてしまう。粒度分
布値は好ましくは1.8以下、さらに好ましくは1.7
以下である。粒度分布値の下限は、粒子製造効率、コス
ト等の点から通常1.1、好ましくは1.2である。一
方、粒子Aの平均粒径が0.3μm未満の場合は、フィ
ルムの走行性を向上させる効果が不十分になることに加
え、フィルムに傷が発生する等の理由で絶縁抵抗特性が
低下する問題が生ずるようになる。該粒子の平均粒径
は、好ましくは0.4μm以上、さらに好ましくは0.
5μm以上である。
If the particle size distribution value of the particles A is larger than the above range, coarse particles will be contained, causing the same problem as when the average particle size is too large. The particle size distribution value is preferably 1.8 or less, more preferably 1.7.
It is as follows. The lower limit of the particle size distribution value is usually 1.1, preferably 1.2, from the viewpoint of particle production efficiency, cost and the like. On the other hand, when the average particle diameter of the particles A is less than 0.3 μm, the effect of improving the running property of the film becomes insufficient, and the insulation resistance characteristic is lowered due to, for example, scratching of the film. Problems arise. The average particle size of the particles is preferably 0.4 μm or more, more preferably 0.1 μm.
5 μm or more.

【0016】粒子Aの含有量に関しては、上記した範囲
未満の場合は、フィルム表面の突起が不足して滑り性が
不十分となる。一方、含有量が多すぎると、粒子の脱落
が起こりやすくなったり、粒子が凝集して粗大突起を形
成し、絶縁欠陥等の問題が生ずるようになる。粒子Aの
含有量は、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ま
しくは0.1重量%以上であり、また、2.0重量%以
下が好ましく、1.0重量%以下がさらに好ましく、
0.8重量%以下が特に好ましい。
If the content of the particles A is less than the above range, the protrusions on the film surface are insufficient, and the slipperiness is insufficient. On the other hand, if the content is too large, the particles easily fall off or the particles aggregate to form coarse projections, which causes problems such as insulation defects. The content of the particles A is preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and preferably 2.0% by weight or less, more preferably 1.0% by weight or less,
0.8% by weight or less is particularly preferred.

【0017】また、上記した要件を満たす粒子に加え、
平均粒径0.5μm未満、粒径分布値3.0以下の粒子
Bを、2.0重量%以下、好ましくは1.0重量%以下
の範囲で含有させることができる。かかる平均粒径の小
さい粒子を同時に含有させることにより、フィルム製造
工程や加工工程での表面の傷発生を防止することがで
き、コンデンサの絶縁抵抗特性の低下を防止することが
できる。かかる粒子の平均粒径は、さらに好ましくは
0.4μm未満、特に好ましくは0.3μm未満であ
る。一方、平均粒径が0.1μm未満では、傷防止の効
果が小さくなる傾向がある。かかる小粒子として、凝集
形態や連鎖状の粒子を使用する場合であっても、後述す
る方法で測定した平均粒径が上記した範囲であれば使用
できる。
In addition to the particles satisfying the above requirements,
Particles B having an average particle size of less than 0.5 μm and a particle size distribution value of 3.0 or less can be contained in a range of 2.0% by weight or less, preferably 1.0% by weight or less. By simultaneously containing such particles having a small average particle size, it is possible to prevent the occurrence of surface flaws in the film manufacturing process and the processing process, and to prevent the deterioration of the insulation resistance characteristics of the capacitor. The average particle size of such particles is more preferably less than 0.4 μm, particularly preferably less than 0.3 μm. On the other hand, if the average particle size is less than 0.1 μm, the effect of preventing scratches tends to decrease. Even when aggregated or chain-like particles are used as such small particles, they can be used as long as the average particle diameter measured by the method described later is in the above range.

【0018】本発明において使用できる粒子の例として
は、炭酸カルシウム、シリカ、リン酸カルシウム、カオ
リン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウ
ム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、
硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ
酸カルシウム等の有機粒子、およびポリエステルの場
合、重合時に生成させる析出粒子を挙げることができ
る。
Examples of the particles usable in the present invention include calcium carbonate, silica, calcium phosphate, kaolin, talc, titanium dioxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite,
In the case of inorganic particles such as molybdenum sulfide, crosslinked polymer particles, organic particles such as calcium oxalate, and polyester, precipitated particles formed during polymerization can be mentioned.

【0019】本願発明においては、上記した平均粒径
0.3〜2.0μmおよび粒径分布値2.0以下の要件
を満たす粒子Aとして、炭酸カルシウム、シュウ酸カル
シウムを特に好ましく使用する。かかる粒子の場合、粒
子の脱落が起こりにくく、かつ良好な電気特性を与える
ことができる。一方、実質的に球状のシリカ粒子や、球
状の架橋高分子粒子を、平均粒径0.3〜2.0μmお
よび粒径分布値2.0以下の要件を満たす粒子Aとして
含有させることは好ましくない。ここで言う実質的に球
状の粒子とは、例えば特開昭63−317533号公報
に記載されているような球状のシリカ粒子や、特開昭6
3−178144号公報や特開昭63−191838号
公報に記載されているような球状の架橋高分子粒子を指
し、粒子が特定の長径と短径の比を有しているものや特
定範囲の体積形状係数を有するものを指す。かかる球状
の粒子は、フィルム製造工程やコンデンサ製造工程でフ
ィルムから脱落して、工程内を汚したり、絶縁欠陥の原
因となったりする問題が発生することがあり、好ましく
ない。特に球状のシリカ粒子は、脱落による工程内汚染
により、蒸着の生産性を著しく低下させること、コンデ
ンサ製造時に積層工程で圧力がかかったときに塗布誘電
体層にダメージを与え、耐電圧特性を低下させる等の問
題点があるため好ましくない。
In the present invention, calcium carbonate and calcium oxalate are particularly preferably used as the particles A satisfying the above-mentioned requirements of an average particle size of 0.3 to 2.0 μm and a particle size distribution value of 2.0 or less. In the case of such particles, the particles do not easily fall off and good electrical characteristics can be provided. On the other hand, it is preferable to contain substantially spherical silica particles or spherical crosslinked polymer particles as particles A satisfying the requirements of an average particle size of 0.3 to 2.0 μm and a particle size distribution value of 2.0 or less. Absent. The substantially spherical particles referred to here include, for example, spherical silica particles as described in JP-A-63-317533 and JP-A-6-317533.
The term refers to spherical crosslinked polymer particles as described in JP-A-3-178144 and JP-A-63-191838, in which the particles have a specific ratio of major axis to minor axis or a specific range. It refers to those having a volume shape factor. Such spherical particles are not preferred because they may fall off the film in the film manufacturing process or the capacitor manufacturing process, causing problems such as fouling the process and causing insulation defects. In particular, spherical silica particles significantly reduce deposition productivity due to contamination in the process due to falling off, and damage the coated dielectric layer when pressure is applied in the lamination process during capacitor manufacturing, and lower withstand voltage characteristics It is not preferable because there are problems such as causing

【0020】ただし、本発明の要件を満たす粒子を含有
させ、それに加えて、粒子Aの平均粒径よりも小さい粒
径の球状粒子を含有させることはできる。この場合で
も、球状粒子の粒径は0.5μm未満が好ましく、0.
3μm未満がさらに好ましい。また、球状粒子の含有量
は1.0重量%以下が好ましく、0.5重量%以下がさ
らに好ましい。
However, it is possible to contain particles satisfying the requirements of the present invention and, in addition, spherical particles having a particle diameter smaller than the average particle diameter of the particles A. Also in this case, the diameter of the spherical particles is preferably less than 0.5 μm,
More preferably, it is less than 3 μm. Further, the content of the spherical particles is preferably 1.0% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less.

【0021】また、平均粒径0.5μm未満、粒径分布
3.0以下の要件を満たす粒子Bとして、本願発明にお
いては、実質的に球形ではない、微細シリカ粒子あるい
は架橋高分子粒子が好ましい。かかる粒子は、電気的特
性に優れるため、フィルムの絶縁抵抗、耐電圧特性を良
好にすることができる。粒子を含む熱可塑性樹脂の製造
に際して、粒子は樹脂の製造中に添加しても樹脂に直接
添加してもよい。特にポリエステルの場合、合成反応中
に添加する場合は、粒子をエチレングリコール等に分散
させたスラリーとして、ポリエステル合成の任意の段階
で添加する方法が好ましい。一方、樹脂に直接添加する
場合は、乾燥した粒子として、または、水あるいは沸点
が200℃以下の有機溶媒中に分散したスラリーとし
て、2軸混練押出機を用いて樹脂に添加混合する方法が
好ましい。なお、添加する粒子は、必要に応じ、こと前
に解砕、分散、分級、濾過等の処理を施しておいてもよ
い。
As the particles B satisfying the requirements of an average particle diameter of less than 0.5 μm and a particle diameter distribution of 3.0 or less, in the present invention, fine silica particles or crosslinked polymer particles which are not substantially spherical are preferable. . Such particles are excellent in electrical characteristics, and thus can improve the insulation resistance and withstand voltage characteristics of the film. In producing a thermoplastic resin containing particles, the particles may be added during the production of the resin or may be directly added to the resin. Particularly, in the case of adding polyester during the synthesis reaction, a method of adding the slurry as a slurry in which particles are dispersed in ethylene glycol or the like at an arbitrary stage of polyester synthesis is preferable. On the other hand, when it is directly added to the resin, a method of adding and mixing the resin as a dried particle or a slurry dispersed in water or an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower using a twin-screw kneading extruder is preferable. . The particles to be added may be subjected to a process such as crushing, dispersion, classification, and filtration, if necessary, beforehand.

【0022】粒子の含有量を調節する方法としては、上
記した方法で高濃度に粒子を含有するマスター原料を作
っておき、それを製膜時に、実質的に粒子を含有しない
原料で希釈して粒子含有量を調節する方法が有効であ
る。また、上記の突起形成剤以外の添加剤として、必要
に応じて、帯電防止剤、安定剤、潤滑剤、ブロッキング
防止剤、酸化防止剤、着色剤などを、コンデンサ特性を
悪化させない範囲内で含有していてもよい。
As a method of adjusting the content of particles, a master material containing particles at a high concentration is prepared in the above-described manner, and is diluted with a material substantially free of particles during film formation. A method of adjusting the particle content is effective. In addition, as additives other than the above-mentioned projection-forming agent, if necessary, an antistatic agent, a stabilizer, a lubricant, an anti-blocking agent, an antioxidant, a coloring agent, etc. are contained within a range that does not deteriorate the capacitor characteristics. It may be.

【0023】本発明のフィルムは上記した要件を満たす
ことにより優れた電気特性を有するコンデンサを与える
が、フィルムの厚みは0.3〜3.0μmという極めて
薄いものの場合にその効果を発揮する。すなわち、本願
発明のフィルムの表面特性の効果が発揮されるのは、誘
電体層として薄い塗布層をフィルム表面に塗布する工法
のコンデンサの場合である。厚いフィルムの場合にはか
かる用途にはあまり用いられず、また、塗布層を厚くし
て絶縁特性を向上する対策が採用できるため、本願発明
の如き平坦な表面とする必要性は低い。一方、フィルム
厚みが0.3μm未満の薄いフィルムは、強度や厚みム
ラの問題からフィルム製造の生産性が極めて悪く、実用
できる範囲ではない。フィルム厚みは、好ましくは0.
5〜2.5μm、さらに好ましくは1.0〜2.5μm
の場合、本発明の効果がより高度に発揮され、しかもコ
ンデンサの小型化への寄与が大きくなる。
The film of the present invention provides a capacitor having excellent electrical characteristics by satisfying the above requirements, but exhibits an effect when the film is as thin as 0.3 to 3.0 μm. That is, the effect of the surface characteristics of the film of the present invention is exerted in the case of a capacitor formed by applying a thin coating layer as a dielectric layer to the film surface. In the case of a thick film, it is rarely used for such a purpose, and a measure for improving the insulating properties by increasing the thickness of the coating layer can be adopted. Therefore, the necessity of forming a flat surface as in the present invention is low. On the other hand, a thin film having a film thickness of less than 0.3 μm has extremely poor film production productivity due to problems of strength and thickness unevenness, and is not in a practically usable range. The thickness of the film is preferably 0,1.
5 to 2.5 μm, more preferably 1.0 to 2.5 μm
In the case of (1), the effect of the present invention is exhibited to a higher degree, and the contribution to miniaturization of the capacitor is increased.

【0024】本発明のフィルムは、最終的に得られる特
性が本発明の用件を満足する限り、多層構造となってい
ても構わない。また、目的とするフィルムと剥離可能な
ポリマー層と、本発明の樹脂層とを共押出法等により積
層したフィルムを製造し、二軸配向フィルムとした後で
剥離する方法を用いてもよい。本発明のフィルムは、蒸
着金属との接着性を高めるため、フィルムと蒸着層との
間に易接着性の塗布層を設けてもよい。塗布層を構成す
る成分としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチ
レン、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリアリ
レート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン
などの樹脂およびこれらの樹脂の共重合体などを挙げる
ことができる。かかる樹脂の一種または二種以上の樹脂
を同時に含有してもよく、また必要に応じて微粒子等の
突起形成剤、帯電防止剤、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブ
ロッキング防止剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、塗布
性改良剤などを、コンデンサ特性を悪化させない範囲内
で含有していてもよい。
The film of the present invention may have a multilayer structure as long as the properties finally obtained satisfy the requirements of the present invention. Alternatively, a method may be used in which a film is produced by laminating a target film, a peelable polymer layer and the resin layer of the present invention by a coextrusion method or the like, and a biaxially oriented film is peeled off. The film of the present invention may be provided with an easily adhesive coating layer between the film and the vapor-deposited layer in order to enhance the adhesion to the vapor-deposited metal. Examples of the components constituting the coating layer include resins such as polyester, polyamide, polystyrene, polyacrylate, polycarbonate, polyarylate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, and polyurethane, and copolymers of these resins. Can be mentioned. One or two or more such resins may be simultaneously contained, and, if necessary, a projection forming agent such as fine particles, an antistatic agent, a stabilizer, a lubricant, a crosslinking agent, a blocking inhibitor, an antioxidant. , An antifoaming agent, a thickening agent, a coating improver, and the like may be contained within a range that does not deteriorate the capacitor characteristics.

【0025】上述の塗布液をフィルムに塗布する方法と
しては原崎勇次著、槙書店、1979年発行、「コーテ
ィング方式」に示されるリバースロールコーター、グラ
ビアコーター、ロッドコーター、エアドクターコーター
あるいはこれら以外の塗布装置を用いることができる。
塗布層は、フィルム製造工程内で設けてもよいし、フィ
ルム製造後に塗布してもよい。特に塗布厚みの均一性
や、生産効率の点で、フィルム製造工程内で塗布する方
法が好ましい。
As a method of applying the above-mentioned coating solution to a film, a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater or the like other than those described in “Coating System”, written by Yuji Harazaki, Maki Shoten, 1979, is used. A coating device can be used.
The coating layer may be provided in the film manufacturing process, or may be applied after the film is manufactured. In particular, from the viewpoint of uniformity of the coating thickness and production efficiency, a coating method in the film manufacturing process is preferable.

【0026】フィルム製造工程内で塗布する方法として
は、未延伸フィルムに塗布液を塗布し、逐次あるいは、
同時に二軸延伸する方法、一軸延伸されたフィルムに塗
布し、さらに先の一軸延伸方向と直角の方向に延伸する
方法、あるいは二軸延伸フィルムに塗布し、さらに横お
よび/または縦方向に延伸する方法などがある。塗布層
の厚さは、通常0.005〜0.2μmの範囲であり、
好ましくは0.01〜0.1μmの範囲である。塗布層
の厚さは、コンデンサ小型化の要請からも薄くすること
が好ましい。特に塗布層厚みが0.2μmを超えると電
気的特性を悪化させることがある。一方、塗布層の厚み
が0.005μm未満の場合には、塗布ムラや塗布ヌケ
が生じやすくなる傾向がある。
As a method of applying in the film manufacturing process, a coating solution is applied to an unstretched film, and sequentially or
Simultaneous biaxial stretching, coating on a uniaxially stretched film, and further stretching in a direction perpendicular to the uniaxial stretching direction, or applying to a biaxially stretched film and further stretching in the transverse and / or longitudinal directions There are methods. The thickness of the coating layer is usually in the range of 0.005 to 0.2 μm,
Preferably it is in the range of 0.01 to 0.1 μm. It is preferable that the thickness of the coating layer be reduced in view of a demand for miniaturization of the capacitor. In particular, when the thickness of the coating layer exceeds 0.2 μm, the electrical characteristics may be deteriorated. On the other hand, when the thickness of the coating layer is less than 0.005 μm, there is a tendency that coating unevenness and coating slippage tend to occur.

【0027】かくして得られた本発明のフィルムの表面
の最大高さ(Rmax)は1.5μm以下であり、好ま
しくは1.3μm以下、さらに好ましくは1.1μm以
下である。Rmaxが1.5μmを超えると、表面が粗
れすぎてフィルム自身の耐電圧特性が低下したり、コン
デンサの耐湿熱特性が悪化する問題や、塗布誘電体層の
厚み均一性が低下して、塗布誘電体層の絶縁抵抗特性や
耐電圧特性が低下する問題が発生することがある。すな
わち、本願発明の如き活性エネルギー線照射により硬化
させる塗布層を設ける場合は、塗布液の状態では粘度が
低く、塗布後に硬化する前の段階で表面のレベリングが
起こってしまう。従って、塗布表面の形状はフィルム表
面の形状があまり反映されず、その結果フィルム表面に
存在する突起の部分は塗布層が薄いことになってしま
う。かかる塗布厚みの不均一さにより、塗布誘電体層の
耐電圧特性、絶縁抵抗特性は大きく低下する。塗布厚み
が薄く、2.0μm以下、さらには1.5μm以下の場
合は、塗布誘電体層の表面にフィルム表面の蒸着層が出
てしまい、積層してコンデンサを作成しようとしても容
易に短絡を起こし、実質的にコンデンサが形成されない
ことがある。本願発明の特定の表面形状を有するフィル
ムの効果は、塗布誘電体層の厚みが3.0μm以下の場
合により有利に発揮される。
The maximum height (Rmax) of the surface of the film of the present invention thus obtained is 1.5 μm or less, preferably 1.3 μm or less, more preferably 1.1 μm or less. When Rmax exceeds 1.5 μm, the surface is too rough, and the withstand voltage characteristics of the film itself are reduced, and the moisture and heat resistance characteristics of the capacitor are deteriorated, and the thickness uniformity of the applied dielectric layer is reduced. A problem may occur that the insulation resistance characteristics and the withstand voltage characteristics of the applied dielectric layer are reduced. That is, when a coating layer that is cured by irradiation with active energy rays as in the present invention is provided, the viscosity of the coating liquid is low, and leveling of the surface occurs after the coating and before curing. Therefore, the shape of the coating surface does not reflect much the shape of the film surface, and as a result, the projection layer existing on the film surface has a thin coating layer. Due to such unevenness of the applied thickness, the withstand voltage characteristics and the insulation resistance characteristics of the applied dielectric layer are greatly reduced. If the coating thickness is thin, 2.0 μm or less, and even 1.5 μm or less, the deposited layer on the film surface will appear on the surface of the applied dielectric layer, and even if it is attempted to make a capacitor by laminating, a short circuit will easily occur. And the capacitor may not be formed substantially. The effect of the film having a specific surface shape of the present invention is more advantageously exhibited when the thickness of the applied dielectric layer is 3.0 μm or less.

【0028】一方、Rmaxの下限は、フィルムの取り
扱い性、巻き特性等を満足させるため通常0.3μm、
好ましくは0.5μmとする。また、フィルム表面の最
大突起高さに加え、中心線平均粗さ(Ra)が好ましく
は0.020〜0.20μm、さらに好ましくは0.0
30〜0.12μmの範囲である場合、フィルム取り扱
い性が良好となり、傷発生によるコンデンサ絶縁特性低
下を防止することができる。
On the other hand, the lower limit of Rmax is usually 0.3 μm in order to satisfy the handling properties and winding characteristics of the film.
Preferably, it is 0.5 μm. In addition to the maximum projection height on the film surface, the center line average roughness (Ra) is preferably 0.020 to 0.20 μm, and more preferably 0.02 to 0.20 μm.
When the thickness is in the range of 30 to 0.12 μm, the film can be easily handled, and the deterioration of the capacitor insulation characteristics due to scratches can be prevented.

【0029】さらに、本発明のフィルムの表面の形状に
ついて、三次元粗度計を用いて後述する方法で測定した
突起数に関して、フィルム表面の高さ0.1μm以上の
突起数が1000個/mm2 以上、好ましくは1500
個/mm2 以上、高さ1.2μm以上の突起数が50個
/mm2 以下、好ましくは30個/mm2 以下である場
合、取り扱い性と電気特性を高度に満足することができ
るため好ましい。高さ0.1μm以上の突起数が100
0個/mm2 未満の場合は、フィルムの取り扱い性、加
工時の走行性が不良となり、傷発生等によるコンデンサ
絶縁特性が低下する傾向がある。一方、高さ1.2μm
以上の突起数が50個/mm2 を超える場合は、Rma
xが大きすぎる場合と同様に、塗布誘電体層の耐電圧特
性、絶縁抵抗特性が低下する場合がある。
Further, regarding the shape of the surface of the film of the present invention, the number of protrusions having a height of 0.1 μm or more on the film surface was 1000 / mm with respect to the number of protrusions measured by a method described later using a three-dimensional roughness meter. 2 or more, preferably 1500
Pieces / mm 2 or more, the height 1.2μm or more protrusions number 50 / mm 2 or less, preferably because it is when it is 30 / mm 2 or less, to satisfy highly handling properties and electrical properties . 100 protrusions with a height of 0.1 μm or more
If the number is less than 0 pieces / mm 2 , the handleability of the film and the running property during processing become poor, and the capacitor insulation properties tend to be reduced due to scratches and the like. On the other hand, height 1.2 μm
If the number of protrusions exceeds 50 / mm 2 , Rma
Similarly to the case where x is too large, the withstand voltage characteristic and the insulation resistance characteristic of the applied dielectric layer may be reduced.

【0030】かかるフィルムの表面特性に加え、フィル
ムの長手方向のヤング率が4.5GPa以上、好ましく
は5.0GPa以上である場合、電気特性および蒸着時
の取扱い性がさらに高度となる。すなわち、フィルムに
金属蒸着を行う工程では、フィルムを巻出し、一定の張
力をかけて走行させながら蒸着する。したがって、かか
る張力に対して十分な強度、すなわち高ヤング率を持っ
ていなければ、フィルムは張力に耐えられず、しかも蒸
着による熱により大きなダメージを受けることになる。
本発明者らの知るところによれば、かかるダメージを受
けた場合、蒸着フィルムの耐熱寸法安定性が低下するた
め、コンデンサ製造時の歩留まりが低下したり、得られ
たコンデンサの電気的特性が低下してしまう傾向があ
る。フィルムの長手方向のヤング率が本発明の範囲にあ
るならば、かかる電気特性が高度に満足されるのであ
る。
When the Young's modulus in the longitudinal direction of the film is 4.5 GPa or more, preferably 5.0 GPa or more, in addition to the surface characteristics of the film, the electrical characteristics and the handling property during vapor deposition are further enhanced. That is, in the step of performing metal vapor deposition on a film, the film is unwound and vapor-deposited while running under a certain tension. Therefore, if the film does not have sufficient strength against the tension, that is, does not have a high Young's modulus, the film cannot withstand the tension, and will be greatly damaged by heat generated by vapor deposition.
According to the knowledge of the present inventors, when such damage is caused, the heat-resistant dimensional stability of the vapor-deposited film is reduced, so that the yield at the time of manufacturing the capacitor is reduced or the electrical characteristics of the obtained capacitor are reduced. Tend to do so. If the Young's modulus of the film in the longitudinal direction is within the range of the present invention, such electric properties are highly satisfied.

【0031】また、本発明のフィルムは、180℃で3
分間処理した後の長手方向の収縮率が5.0%以下であ
ることが好ましく、4.0%以下がさらに好ましい。か
かる長手方向の熱収縮率が大き過ぎる場合は、コンデン
サ製造時の熱を受ける工程でフィルムが寸法変化を起こ
し、生産性が悪化したり、コンデンサの寿命が短縮され
てしまう等の問題が起こる。一方、同熱収縮率は好まし
くは1.0%以上、さらには2.0%以上であることが
望ましい。かかる熱収縮率が小さすぎると、蒸着工程で
フィルムと冷却キャンとの密着が不十分になり、熱ダメ
ージを受けやすくなったり、フィルムを積層してコンデ
ンサとする際に、フィルム間の密着を高める効果が得ら
れ難くなる傾向がある。一方、同条件での幅方向の収縮
率は、長手方向の収縮率よりも小さいことが好ましく、
かつ2%未満であることが好ましい。
Further, the film of the present invention has a viscosity of 3 ° C. at 180 ° C.
The shrinkage in the longitudinal direction after the treatment for 5 minutes is preferably 5.0% or less, more preferably 4.0% or less. If the heat shrinkage in the longitudinal direction is too large, the film undergoes dimensional change in the step of receiving heat during the production of the capacitor, causing problems such as a decrease in productivity and a reduction in the life of the capacitor. On the other hand, the heat shrinkage is preferably 1.0% or more, more preferably 2.0% or more. If the heat shrinkage is too small, the adhesion between the film and the cooling can becomes insufficient in the vapor deposition step, and the film becomes susceptible to thermal damage. The effect tends to be difficult to obtain. On the other hand, the shrinkage rate in the width direction under the same conditions is preferably smaller than the shrinkage rate in the longitudinal direction,
And less than 2%.

【0032】次に、本発明で用いるフィルムの製造法
を、本発明の最も好ましい実施態様である、ポリエステ
ルフィルムに関して具体的に説明する。まず、ポリエス
テル原料を押出装置に供給し、ポリエステルの融点以上
の温度で溶融押出してスリット状のダイから溶融シート
として押し出す。次に、溶融シートを、回転冷却ドラム
上でガラス転移温度以下の温度になるように急冷固化
し、実質的に非晶状態の未配向シートを得る。この場
合、シートの平面性を向上させるため、シートと回転冷
却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、本発明に
おいては静電印加密着法および/または液体塗布密着法
が好ましく採用される。 本発明においてはこのように
して得られたシートを二軸方向に延伸してフィルム化す
るが、その延伸および熱処理条件を適切な範囲とするこ
とにより本発明のフィルムの特徴である配向とヤング率
を達成させることができる。二軸延伸条件について具体
的に述べると、前記未延伸シートをまず第一軸方向にそ
の複屈折率(Δn)が通常0.08以上、好ましくは
0.09以上となるように延伸する。延伸温度範囲は7
0〜150℃、延伸倍率は2.5〜6倍の範囲とし、温
度と倍率を適宜組み合わせることにより、所望の複屈折
率となるようにする。延伸は一段階または二段階以上で
行うことができる。次に第二軸方向、すなわち第一軸方
向と直交する方向に一軸配向フィルムを一旦ガラス転移
点以下に冷却するか、または冷却することなく、例えば
80〜150℃の温度範囲に予熱して、さらに同温度範
囲で2.5〜5倍、好ましくは3.0〜4.5倍に延伸
を行い、二軸に配向したフィルムを得る。
Next, the method for producing the film used in the present invention will be specifically described with respect to a polyester film which is the most preferred embodiment of the present invention. First, a polyester raw material is supplied to an extruder, melt-extruded at a temperature equal to or higher than the melting point of the polyester, and extruded as a molten sheet from a slit die. Next, the molten sheet is quenched and solidified on a rotary cooling drum so as to have a temperature equal to or lower than the glass transition temperature, thereby obtaining a substantially amorphous unoriented sheet. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is preferable to increase the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum. In the present invention, the electrostatic application adhesion method and / or the liquid application adhesion method are preferably employed. In the present invention, the sheet obtained in this way is stretched biaxially to form a film, and the orientation and Young's modulus, which are the characteristics of the film of the present invention, are obtained by adjusting the stretching and heat treatment conditions to appropriate ranges. Can be achieved. Specifically, the biaxial stretching conditions are as follows. The unstretched sheet is first stretched in the first axial direction so that the birefringence (Δn) is usually 0.08 or more, preferably 0.09 or more. The stretching temperature range is 7
The stretching magnification is in the range of 2.5 to 6 times at 0 to 150 ° C., and the desired birefringence is obtained by appropriately combining the temperature and the magnification. Stretching can be performed in one step or two or more steps. Next, the second axis direction, that is, once cooled the uniaxially oriented film in the direction perpendicular to the first axis direction below the glass transition temperature, or without cooling, for example, preheated to a temperature range of 80 to 150 ° C., Further, the film is stretched 2.5 to 5 times, preferably 3.0 to 4.5 times in the same temperature range to obtain a biaxially oriented film.

【0033】なお、第一軸方向の延伸を2段階以上で行
うことは、良好な厚さ均一性を達成できるので好まし
い。また、横延伸した後、さらに長手方向に再延伸する
方法も可能であるが、いずれにしても長手方向の総合延
伸倍率を3.5倍以上とすることが好適である。かくし
て得られたフィルムを、20%以内の伸長、制限収縮、
または定長下で1秒〜5分間熱処理する。この際、熱処
理工程内または熱処理後に長手方向または横方向、ある
いは両方向に再延伸を行ってもよい。
It is preferable that stretching in the first axial direction is performed in two or more steps, because good thickness uniformity can be achieved. In addition, a method of further stretching in the longitudinal direction after the transverse stretching is possible, but in any case, it is preferable to set the total stretching ratio in the longitudinal direction to 3.5 times or more. Elongation, limited shrinkage within 20%,
Alternatively, heat treatment is performed at a constant length for 1 second to 5 minutes. At this time, re-stretching may be performed in the longitudinal direction, the lateral direction, or both directions during or after the heat treatment step.

【0034】本発明においては、ポリエステルフィルム
の場合、密度を1.4050g/cm3 未満、さらには
1.4030g/cm3 未満とすることが望ましく、か
かる特性を満足するため、上記した熱処理工程の温度を
適宜選択する。熱処理温度は、延伸条件にもよるが、好
ましくは180〜250℃、さらに好ましくは200〜
240℃の範囲である。熱処理温度が250℃を超える
と、フィルム密度が高くなりすぎて高度な電気的特性が
得られなくなることがある。一方、熱処理温度が180
℃未満では、フィルムの熱収縮率が大きくなって、コン
デンサ製造時に熱を受ける工程で寸法変化を起こし、コ
ンデンサの生産性を悪化させたり、耐電圧等のコンデン
サ特性が低下する等の問題が生ずることがある。
[0034] In the present invention, when the polyester film is less than the density of 1.4050g / cm 3, more desirably to less than 1.4030g / cm 3, in order to satisfy such characteristics, the heat treatment step described above The temperature is appropriately selected. The heat treatment temperature depends on the stretching conditions, but is preferably 180 to 250 ° C, more preferably 200 to 250 ° C.
It is in the range of 240 ° C. If the heat treatment temperature exceeds 250 ° C., the film density becomes too high, and high electrical characteristics may not be obtained. On the other hand, when the heat treatment temperature is 180
If the temperature is lower than ℃, the heat shrinkage of the film becomes large, causing dimensional change in the step of receiving heat during the production of the capacitor, causing problems such as deterioration of the productivity of the capacitor and deterioration of the capacitor characteristics such as withstand voltage. Sometimes.

【0035】本発明のフィルムを用いてコンデンサを製
造する際、金属蒸着により電極を形成する。蒸着する金
属として、アルミニウム、パラジウム、亜鉛、ニッケ
ル、金、銀、銅、インジウム、錫、クロム、チタン等が
挙げられ、特に好ましい金属はアルミニウムである。な
お、上記の金属には金属の酸化物も含まれる。複数種類
の金属を、混合または積層状に蒸着しても良い。
When manufacturing a capacitor using the film of the present invention, electrodes are formed by metal evaporation. Examples of the metal to be deposited include aluminum, palladium, zinc, nickel, gold, silver, copper, indium, tin, chromium, titanium, and the like, and a particularly preferred metal is aluminum. The above-mentioned metals include metal oxides. A plurality of types of metals may be mixed or deposited in a stacked state.

【0036】金属蒸着膜の厚さは1〜200nmの範囲
が好ましく、蒸着の方法は、一般的には真空蒸着法であ
るが、エレクトロプレーティング法、スパッタリング法
等の方法によってもよい。なお、金属蒸着層はフィルム
の両面に設ける。また、金属蒸着後に蒸着金属層の表面
処理や他の樹脂による被覆処理を行ってもよい。このよ
うにして得られた金属蒸着フィルムの片面または両面
に、例えば塗布により誘電体層を形成するが、本発明に
おいては当該誘電体層を活性エネルギー線照射により硬
化する樹脂層として形成させることを特徴とする。かか
る方法によるならば、塗布液に含有する溶剤の量を少量
にするか、全く溶剤を使用しないで塗布が可能になるた
め、溶剤の揮散による塗布誘電体層のピンホール発生が
起こらなくなるため、耐電圧特性低下の問題が防止され
る。また、塗布時の溶剤乾燥や、揮散した溶剤の回収等
の工程が省略できるようになるため、生産性の向上が可
能となる。しかも溶剤の揮散や漏洩による環境汚染、自
然破壊の問題に対する改善も可能となる。
The thickness of the metal deposited film is preferably in the range of 1 to 200 nm. The method of vapor deposition is generally a vacuum deposition method, but may be a method such as an electroplating method or a sputtering method. The metal deposition layers are provided on both sides of the film. After the metal deposition, a surface treatment of the deposited metal layer or a coating treatment with another resin may be performed. On one or both sides of the metal-deposited film thus obtained, a dielectric layer is formed by, for example, application.In the present invention, the dielectric layer is formed as a resin layer which is cured by irradiation with active energy rays. Features. According to this method, the amount of the solvent contained in the coating solution is reduced or the coating can be performed without using any solvent, so that the pinhole generation of the coating dielectric layer due to the evaporation of the solvent does not occur. The problem of withstand voltage characteristic deterioration is prevented. In addition, since steps such as drying of the solvent at the time of coating and recovery of the evaporated solvent can be omitted, productivity can be improved. In addition, it is possible to improve the problem of environmental pollution and natural destruction due to evaporation and leakage of the solvent.

【0037】以下に本発明で用いる活性エネルギー線に
より硬化する塗布層について説明する。本発明におい
て、活性エネルギー線硬化させて誘電体とする樹脂層と
しては、公知のものが使用できるが、通常、反応性オリ
ゴマー、反応性モノマー、重合開始剤、重合開始助剤、
その他の添加剤等からなる。反応性オリゴマーとして
は、代表的には、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリ
ロイル基またはメタアクリロイル基が結合されたオリゴ
マーが挙げられる。その他に、ポリエステル(メタ)ア
クリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレ
ート、シリコーン(メタ)アクリレート、ポリブタジエ
ン(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに、メラ
ミン、イソシアヌール酸、環状ホスファゼン等の剛直な
骨格にアクリロイル基またはメタアクリロイル基が結合
したオリゴマーが挙げられる。
The coating layer cured by the active energy ray used in the present invention will be described below. In the present invention, known resin layers can be used as the resin layer that is cured by active energy rays to form a dielectric, and is usually a reactive oligomer, a reactive monomer, a polymerization initiator, a polymerization initiation aid,
It consists of other additives and the like. The reactive oligomer typically includes an oligomer having a reactive acryloyl group or methacryloyl group bonded to an acrylic resin skeleton. Other examples include polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and polybutadiene (meth) acrylate. Further, an oligomer in which an acryloyl group or a methacryloyl group is bonded to a rigid skeleton such as melamine, isocyanuric acid, and cyclic phosphazene is exemplified.

【0038】反応性モノマーは、不飽和二重結合として
例えば(メタ)アクリロイル基、ビニル基などをもつモ
ノマーであり、単官能性または多官能性の化合物であ
る。反応性モノマーは、塗布剤の媒体として塗布工程で
の溶剤の機能を担うこともできるため、反応性希釈剤と
も呼ばれる。かかる反応性モノマーの具体例としては、
単官能モノマーとして、スチレン、N−ビニルピロリド
ン等のビニル化合物、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブト
キシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、n−ヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、n
−デシルアクリレート、イソボニルアクリレート、ジシ
クロヘキシルアクリレート、ジシクロヘキシニロキシエ
チルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、グ
リシジル(メタ)アクリレート、テトラフロロプロピル
アクリレート等の単官能アクリレートが挙げられる。
The reactive monomer is a monomer having, for example, a (meth) acryloyl group or a vinyl group as an unsaturated double bond, and is a monofunctional or polyfunctional compound. The reactive monomer is also called a reactive diluent because it can also serve as a solvent in the coating step as a medium for the coating agent. Specific examples of such a reactive monomer include:
As monofunctional monomers, vinyl compounds such as styrene and N-vinylpyrrolidone, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, butoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n
Monofunctional acrylates such as decyl acrylate, isobonyl acrylate, dicyclohexyl acrylate, dicyclohexynyloxyethyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, glycidyl (meth) acrylate and tetrafluoropropyl acrylate;

【0039】多官能モノマーとして、プロピレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ビスフェノールAジエトキシジアクリレート、ヒド
ロキシピバリル酸ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオ
キシプロピルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
As polyfunctional monomers, propylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate,
1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, bisphenol A diethoxy diacrylate, neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate, hydroxypropyl di (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate , Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) Rate, (meth) acryloyloxy propyl triethoxysilane, and (meth) acryloyloxy propyl trimethoxy silane.

【0040】また、環状構造の脂肪族基を含有する単官
能性または多官能性アクリル化合物を、反応性モノマー
として含有する場合、塗布層のガラス転移温度が高くな
るため電気特性が良好になることに加え、低収縮性であ
ることから薄いフィルムに塗布する際にシワの発生を防
止できるようになるため好ましい。環状構造の脂肪族基
の例として、シクロヘキシル基、イソボニル基、テトラ
ヒドロフルフリール基、ジシクロペンテニル基、アダマ
ンチル基、水添ビスフェノールA等が挙げられる。
Further, when a monofunctional or polyfunctional acrylic compound containing an aliphatic group having a cyclic structure is contained as a reactive monomer, the glass transition temperature of the coating layer is increased, so that the electrical characteristics are improved. In addition, the low shrinkage property is preferable because wrinkles can be prevented from being formed when applied to a thin film. Examples of the aliphatic group having a cyclic structure include a cyclohexyl group, an isobonyl group, a tetrahydrofurfuryl group, a dicyclopentenyl group, an adamantyl group, and hydrogenated bisphenol A.

【0041】重合開始剤としては、例えば2,2−エト
キシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル、p−クロロベンゾフェノン、
p−メトキシベンゾフェノン、ミヒラ−ケトン、アセト
フェノン、2−クロロチオキサントン、アントラキノ
ン、フェニルジスルフイド、2−メチル−[4−(メチ
ルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン等が挙げられる。
Examples of the polymerization initiator include 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, dibenzoyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, p-chlorobenzophenone,
Examples include p-methoxybenzophenone, Michler's ketone, acetophenone, 2-chlorothioxanthone, anthraquinone, phenyldisulphide, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, and the like.

【0042】重合開始助剤としては、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、2−ジメチルアミノエタノ
ール等の3級アミン系、トリフェニルホスフィン等のア
ルキルホスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエ
ーテル系などが挙げられる。改質剤としては、塗布性改
良剤、消泡剤、増粘剤、無機系粒子、有機系粒子、潤滑
剤、有機高分子、染料、顔料、安定剤などが挙げられ
る。これらは活性エネルギー線による反応を阻害しない
範囲で活性エネルギー線硬化樹脂層の組成物として配合
され、活性エネルギー線硬化樹脂層の特性を用途に応じ
て改良することができる。活性エネルギー線硬化樹脂層
の組成物には、塗工時の作業性向上、塗工厚さのコント
ロールのため、少量の有機溶剤を配合することができ
る。
Examples of the polymerization initiator include tertiary amines such as triethylamine, triethanolamine and 2-dimethylaminoethanol, alkylphosphines such as triphenylphosphine, and thioethers such as β-thiodiglycol. . Examples of the modifier include a coating improver, an antifoaming agent, a thickener, an inorganic particle, an organic particle, a lubricant, an organic polymer, a dye, a pigment, and a stabilizer. These are blended as a composition of the active energy ray-curable resin layer within a range that does not inhibit the reaction by the active energy ray, and the properties of the active energy ray-curable resin layer can be improved according to the application. A small amount of an organic solvent can be added to the composition of the active energy ray-curable resin layer in order to improve workability during coating and control the coating thickness.

【0043】活性エネルギー線硬化樹脂層の形成は、硬
化用樹脂組成物を前記の塗布層の表面に塗布した後に活
性エネルギー線を照射して架橋硬化させることにより行
う。活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、電
子線、X線、α線、β線、γ線を使用することができ
る。通常、活性エネルギー線の照射は、塗布層側から行
うが、フイルムとの密着性を高めるため、フイルム面側
から行う場合もある。
The active energy ray-curable resin layer is formed by applying the curing resin composition to the surface of the coating layer and then irradiating with an active energy ray to crosslink and cure. As the active energy rays, ultraviolet rays, visible rays, electron beams, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays can be used. Usually, the irradiation of the active energy ray is performed from the coating layer side, but may be performed from the film surface side in order to enhance the adhesion to the film.

【0044】活性エネルギー線硬化塗布誘電体層の厚さ
は、0.2〜3.0μmの範囲である場合に、本発明の
効果が顕著に得られる。厚さが0.2μm未満の場合
は、厚みの均一性が不十分になりやすく、塗布誘電体層
の耐電圧特性が低下したり、コンデンサ製造時に短絡し
て生産性が低下することがある。一方3.0μmを超え
る場合は、小型コンデンサの製造が難しくなるし、また
塗布層の硬化収縮がによりフイルムにシワが発生するこ
とがある。
When the thickness of the active energy ray-cured dielectric layer is in the range of 0.2 to 3.0 μm, the effect of the present invention is remarkably obtained. When the thickness is less than 0.2 μm, the uniformity of the thickness tends to be insufficient, and the withstand voltage characteristics of the applied dielectric layer may be reduced, or the productivity may be reduced due to a short circuit at the time of manufacturing the capacitor. On the other hand, if it exceeds 3.0 μm, it becomes difficult to produce a small capacitor, and the film may be wrinkled due to curing shrinkage of the coating layer.

【0045】塗布誘電体層は、ストライプ状にマージン
部を形成して設けられるが、かかる構造とするために、
塗布時に適宜マスキング処理を行う等の方法を採用す
る。かくして得られた塗布誘電体層を有する蒸着フィル
ムを、多数枚積層してコンデンサ素子を作成するが、そ
の工程については公知の方法を採用できる。したがっ
て、例えば、積層、メタリコン、電圧処理、両端面封
止、外装形成などの工程を経てコンデンサとすることが
できるが、もちろんこれらに限定されるわけではない。
The coating dielectric layer is provided by forming a margin portion in a stripe shape.
A method such as appropriately performing a masking treatment at the time of coating is adopted. A capacitor element is formed by laminating a large number of vapor-deposited films having the thus-obtained coated dielectric layer, and a known method can be employed for the process. Therefore, for example, a capacitor can be obtained through processes such as lamination, metallikon, voltage treatment, sealing of both end faces, and formation of an exterior, but of course, the capacitor is not limited to these.

【0046】[0046]

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例中の評価方法は下記のとおりである。実施例および比
較例中、「部」とあるのは「重量部」を示す。 (1)ポリマーの極限粘度 [η] (dl/g) ポリマー1gをフェノール/テトラクロロエタン=50
/50(重量比)の混合溶媒100mlに溶解し、30
℃で測定した。 (2)粒子の平均粒径(d50)(μm)および粒度分布
値(d25/d75) 島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置(SA−CP
3型)で測定した等価球形分布において大粒子側から積
算した積算体積分率50%の粒径を平均粒径(d50)と
した。また、積算体積分率25%、および75%の値を
それぞれd25、d75とし、その比の値(d25/d75)を
粒径分布値とした。粒径分布値が小さいほど粒子の粒径
分布がシャープであることを示す。 (3)ポリマー溶融時の比抵抗(Ω・cm) フィルムを285℃にて溶融し、系内を減圧にする等の
方法で気泡を除去した。同温度に保ったポリマー中に、
ステンレス製の1cm2の面積を有する電極を2本5m
mの間隔で固定して挿入した。電極間に100Vの電圧
をかけ、流れた電流値から比抵抗値を算出した。電流値
は記録計に記録し、電圧をかけ始めてから1秒後の値を
読みとった。 (4)最大高さ(Rmax)および中心線平均粗さ(R
a)(μm) (株)小坂研究所製表面粗さ測定機(SE−3F)を用
いて次のようにして求めた。すなわち、フィルム断面曲
線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の
部分を抜きとり、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦
倍率の方向をy軸として粗さ曲線y=f(x)で表した
とき、次式で与えられた値を中心線平均粗さ(Ra)と
し、〔μm〕で表した。
The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. In addition, the evaluation method in an Example is as follows. In Examples and Comparative Examples, “parts” means “parts by weight”. (1) Intrinsic viscosity of polymer [η] (dl / g) 1 g of polymer is phenol / tetrachloroethane = 50
/ 50 (weight ratio) in 100 ml of a mixed solvent.
Measured in ° C. (2) Average particle size of particles (d50) (μm) and particle size distribution value (d25 / d75) Centrifugal sedimentation type particle size distribution analyzer (SA-CP, manufactured by Shimadzu Corporation)
The average particle diameter (d50) was the particle diameter at 50% of the integrated volume fraction integrated from the large particle side in the equivalent spherical distribution measured by type 3). The values of the integrated volume fractions of 25% and 75% were d25 and d75, respectively, and the ratio value (d25 / d75) was taken as the particle size distribution value. The smaller the particle size distribution value, the sharper the particle size distribution of the particles. (3) Specific resistance at the time of polymer melting (Ω · cm) The film was melted at 285 ° C., and air bubbles were removed by a method such as reducing the pressure in the system. In the polymer kept at the same temperature,
Two 5m stainless steel electrodes with an area of 1cm2
It was fixed and inserted at intervals of m. A voltage of 100 V was applied between the electrodes, and the specific resistance was calculated from the value of the flowing current. The current value was recorded on a recorder, and the value one second after the voltage was applied was read. (4) Maximum height (Rmax) and center line average roughness (R
a) (μm) It was determined as follows using a surface roughness measuring instrument (SE-3F) manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. That is, a portion of the reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-sectional curve in the direction of the center line, and the center line of the extracted portion is the x-axis, and the direction of the vertical magnification is the y-axis. When represented by f (x), the value given by the following equation was defined as the center line average roughness (Ra) and represented by [μm].

【0047】最大高さ(Rmax)は、上記で得られた
フィルム断面曲線の抜き取り部分の、平均線に平行な2
直線で抜き取り部分を挟んだ時、この2直線の間隔を断
面曲線の縦倍率の方向に測定した値を最大高さ(Rma
x)とし、〔μm〕で表した。 最大高さ、中心線平均
粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求
め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分のそれぞ
れの値の平均値で表した。なお、触針の先端半径は2μ
m、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mm
とした。
The maximum height (Rmax) is 2 parallel to the average line of the extracted portion of the film cross-sectional curve obtained above.
When the sampled portion is sandwiched by straight lines, the value obtained by measuring the distance between these two straight lines in the direction of the longitudinal magnification of the sectional curve is the maximum height (Rma).
x) and expressed in [μm]. The maximum height and the center line average roughness were obtained by obtaining ten cross-sectional curves from the surface of the sample film, and expressing the average values of the values of the extracted portions obtained from these cross-sectional curves. The tip radius of the stylus is 2μ.
m, the load is 30 mg, and the cutoff value is 0.08 mm
And

【0048】[0048]

【数1】 (5)表面突起個数 (株)小坂研究所製三次元表面粗さ測定機(SE−3A
K)を用い、触針の先端半径5μm、針圧30mg、測
定長0.5mm、サンプリングピッチ1.0μm、カッ
トオフ0.25mm、縦倍率20000倍、横倍率20
0倍、走査本数500本の条件で突起高さと突起数を測
定した。ここで言う突起高さ(X,μm)は、突起個数
が最大となる点の高さを0レベルとし、このレベルから
の高さをもって突起高さとし、各突起高さにおける突起
数(Y,個/mm2)の関係を図式化し、分布曲線とし
て表わした。
(Equation 1) (5) Number of surface protrusions Three-dimensional surface roughness tester (SE-3A) manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.
Using K), the tip radius of the stylus is 5 μm, the stylus pressure is 30 mg, the measurement length is 0.5 mm, the sampling pitch is 1.0 μm, the cutoff is 0.25 mm, the vertical magnification is 20,000 times, and the horizontal magnification is 20.
The projection height and the number of projections were measured under the condition of 0 times and 500 scanning lines. Here, the projection height (X, μm) is defined as the height of the point where the number of projections is the maximum, and the height from this level is defined as the projection height. The number of projections (Y, / Mm2) is graphically represented as a distribution curve.

【0049】突起高さ0.5μm以上、および1.0μ
m以上の突起は、上記方法による突起高さが0.5μm
および1.0μmを越えた突起に対応する突起数のそれ
ぞれの総数をもって表わす。測定は、フィルム長手方向
に3点、それと直角方向に3点、計6点行い、その平均
値を測定値とした。なお、測定フィルムは、平滑なガラ
ス製サンプル台にセットされるが、フィルムとガラスと
の間には液体、空気等を存在させずにガラスに密着させ
るものとする。 (6)フィルム厚み(μm) フィルムの厚みは重量法により求めた。すなわち、10
cm×10cmの正方形に切り出したフィルム100枚
の合計重量を測定し、フィルムの密度を用いて算出し
た。なお、フィルムの密度はn−ヘプタン/四塩化炭素
による密度勾配管を用いて、25℃にて測定した。 (7)収縮率(%) フィルムを無張力状態で、180℃に保ったオーブン中
で3分間熱処理し、その熱処理前後のフィルムの長さを
測定することにより次式にて計算した。
Projection height of 0.5 μm or more and 1.0 μm
m or more, the projection height by the above method is 0.5 μm
And the total number of protrusions corresponding to protrusions exceeding 1.0 μm. The measurement was performed at three points in the longitudinal direction of the film and three points in the direction perpendicular to the longitudinal direction, for a total of six points, and the average value was used as the measured value. Note that the measurement film is set on a smooth glass sample table, but is adhered to the glass without any liquid, air, or the like between the film and the glass. (6) Film thickness (μm) The thickness of the film was determined by a gravimetric method. That is, 10
The total weight of 100 pieces of the film cut into a square of cm × 10 cm was measured, and calculated using the density of the film. In addition, the density of the film was measured at 25 degreeC using the density gradient tube by n-heptane / carbon tetrachloride. (7) Shrinkage (%) The film was heat-treated in an oven maintained at 180 ° C. for 3 minutes in a non-tension state, and the length of the film before and after the heat treatment was measured.

【0050】[0050]

【数2】 (上記式中、L0は熱処理前のフィルム長(mm)、L
1は熱処理後のフィルム長(mm)を意味する) 測定は、長手方向、幅方向それぞれ10点ずつ行い、そ
の平均値を求めた。 (8)ヤング率(GPa) (株)インテスコ製 引張試験機インテスコモデル20
01型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節さ
れた室内において測定した。すなわち、長さ300m
m、幅25mmの試料フィルムを、10%/分のひずみ
速度で引張り、引張応力−ひずみ曲線の初めの直線部分
を用いて次の式によって計算する。
(Equation 2) (In the above formula, L0 is the film length (mm) before heat treatment, L
1 means the film length (mm) after the heat treatment.) The measurement was performed at 10 points each in the longitudinal direction and the width direction, and the average value was obtained. (8) Young's modulus (GPa) Tensile tester Intesco Model 20 manufactured by Intesco Corporation
The measurement was performed in a room adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH using a Model 01. That is, length 300m
The sample film having a width of 25 mm and a width of 25 mm is pulled at a strain rate of 10% / min, and is calculated by the following equation using the first straight line portion of the tensile stress-strain curve.

【0051】[0051]

【数3】E=Δσ/Δε (上記式中、Eは引張弾性率、Δσは直線上の2点間の
元の平均断面積による応力差、Δεは同じ2点間のひず
み差である) (9)電気的特性評価 (コンデンサの製造)以下のようにしてコンデンサを製
造して評価した。すなわち、フィルム両面に、抵抗加熱
型金属蒸着装置を用い、真空室の圧力を10-4Torr
以下としてアルミニウムを40nmの厚みに蒸着した。
その際、フィルムの長手方向にマ−ジン部を有するスト
ライプ状に蒸着した。得られた蒸着ポリエステルフィル
ムの片面に活性エネルギー線照射硬化性塗布剤を塗工
し、フィルムを冷却しながら窒素下で紫外線照射を行っ
て硬化させ、誘電体膜を形成した。該フィルムを複数枚
積層し、その両面にポリエステルフィルムの表面にポリ
フェニレンオキサイド膜を有するカバーフィルムを設け
てコンデンサ素子部を成した。このコンデンサ素子部の
両端面にメタリコン層を形成した後、所定の長さに切断
してコンデンサ条を成した。得られたコンデンサ条のメ
タリコン電極にはんだメッキを施し、条方向と直角方向
に鋸刃を用いて切断し、さらに各コンデンサ素子にリー
ド付け、電圧処理、エポキシ外装処理を施して、コンデ
ンサを作成した。 (i)耐電圧特性 10kV直流耐電圧試験機を用い、23℃、50%RH
の雰囲気下にて、100V/秒の昇圧速度で上昇させ、
コンデンサが短絡し、コンデンサとしての機能をた持た
なくなった時の電圧を読み取った。測定は、110個の
コンデンサについて行い、数値の大きい方から5点、小
さい方から5点を除外して、100点の値の平均値を算
出した。 (ii)絶縁抵抗特性 (静電容量の測定)横河ヒューレットパッカード社製の
LCRメータ4284A(商品名)を用い、得られたコ
ンデンサの静電容量C[F]を測定した。測定は23
℃、50%RHの雰囲気下で行った。 (絶縁抵抗値の測定)横河ヒューレットパッカード社製
の高抵抗計4329A(商品名)を用い、得られたコン
デンサの電極間に100Vの直流電圧を印加し、コンデ
ンサの抵抗値R[Ω]を測定した。電圧印加は1分間行
い、その間電流値をレコーダーに記録した。電流値は電
圧印加直後に最大値を示した後低下するが、その最大値
を測定値Rとした。測定は23℃、および130℃にて
行った。コンデンサの絶縁抵抗の評価は、C×R(CR
値)[Ω・F]にて行った。CR値が大きい方が絶縁抵
抗が良好であることを示す。
E = Δσ / Δε (where E is the tensile modulus, Δσ is the stress difference due to the original average cross-sectional area between two points on the straight line, and Δε is the strain difference between the same two points) (9) Evaluation of electrical characteristics (Manufacture of capacitor) A capacitor was manufactured and evaluated as follows. That is, using a resistance heating type metal vapor deposition apparatus on both surfaces of the film, the pressure in the vacuum chamber was set to 10 -4 Torr
Aluminum was deposited to a thickness of 40 nm as follows.
At this time, vapor deposition was performed in a stripe shape having a margin portion in the longitudinal direction of the film. One surface of the obtained vapor-deposited polyester film was coated with an active energy ray-curable coating agent, and the film was cured by irradiating ultraviolet rays under nitrogen while cooling the film to form a dielectric film. A plurality of the films were laminated, and a cover film having a polyphenylene oxide film on the surface of a polyester film was provided on both surfaces thereof to form a capacitor element portion. After forming a metallikon layer on both end surfaces of the capacitor element portion, the capacitor element portion was cut to a predetermined length to form a capacitor strip. Metallicon electrodes of the obtained capacitor strips were subjected to solder plating, cut with a saw blade in a direction perpendicular to the strip direction, further leaded to each capacitor element, subjected to voltage treatment, epoxy exterior treatment, to prepare a capacitor. . (I) Withstand voltage characteristics Using a 10 kV DC withstand voltage tester, 23 ° C., 50% RH
Under an atmosphere of 100 V / sec at a boost rate,
The voltage was read when the capacitor was short-circuited and no longer functioned as a capacitor. The measurement was performed for 110 capacitors, and the average of the values at 100 points was calculated excluding 5 points from the larger value and 5 points from the smaller value. (Ii) Insulation Resistance Characteristics (Measurement of Capacitance) Using a LCR meter 4284A (trade name) manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company, the capacitance C [F] of the obtained capacitor was measured. Measurement is 23
C. and 50% RH. (Measurement of insulation resistance value) Using a high resistance meter 4329A (trade name) manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company, a DC voltage of 100 V was applied between the electrodes of the obtained capacitor, and the resistance value R [Ω] of the capacitor was measured. It was measured. The voltage application was performed for 1 minute, and the current value was recorded on the recorder during that time. The current value showed a maximum value immediately after voltage application and then decreased. The maximum value was defined as a measured value R. The measurement was performed at 23 ° C and 130 ° C. The evaluation of the insulation resistance of the capacitor is C × R (CR
Value) [Ω · F]. Larger CR values indicate better insulation resistance.

【0052】実施例1 ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール
60部および酢酸カルシウム1水塩0.09部を反応器
にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエ
ステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して2
30℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了し
た。
Example 1 100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of calcium acetate monohydrate were placed in a reactor, heated and heated, and methanol was distilled off to carry out a transesterification reaction. 4 hours, 2
The temperature was raised to 30 ° C. to substantially complete the transesterification reaction.

【0053】次いで、粒径1.2μm、粒径分布値1.
6の炭酸カルシウム粒子1.0部をエチレングリコール
スラリーとして添加した。スラリー添加後、さらにリン
酸0.06部、三酸化アンチモン0.04部を加え、徐
々に反応系を減圧とし、温度を高めて重縮合反応を4時
間行い、極限粘度0.66のポリエステル(a)を得
た。
Next, the particle size was 1.2 μm, and the particle size distribution value was 1.
1.0 part of calcium carbonate particles of No. 6 was added as an ethylene glycol slurry. After the addition of the slurry, 0.06 parts of phosphoric acid and 0.04 parts of antimony trioxide were further added, and the reaction system was gradually reduced in pressure, the temperature was increased, and the polycondensation reaction was performed for 4 hours. a) was obtained.

【0054】同様にして、平均粒径0.20μm、粒径
分布値1.9のシリカ粒子を0.6重量%含有する極限
粘度0.66のポリエステル(b)を得た。また、粒子
を含有しないこと以外は同様にして極限粘度0.66の
ポリエステル(c)を得た。ポリエステル(a)30部
とポリエステル(b)60部とポリエステル(c)10
部とを混合した原料を常法により乾燥して押出機に供給
し、290℃で溶融してシート状に押出し、静電印加密
着法を用いて冷却ロール上で急冷し、無定形シートとし
た。得られたシートを、ロール延伸法を用いて縦方向に
84℃で2.9倍延伸した後、さらに70℃で1.5倍
延伸した。次いでフィルムをテンターに導いて、横方向
に110℃で4.1倍延伸し、225℃で熱処理を行
い、さらに200℃のゾーンで3%の横方向弛緩処理を
行って、フィルムの厚み2.0μmの二軸延伸ポリエス
テルフィルムを得た。中心線平均粗さ(Ra)は0.0
63μm であった。
Similarly, polyester (b) having an intrinsic viscosity of 0.66 and containing 0.6% by weight of silica particles having an average particle size of 0.20 μm and a particle size distribution value of 1.9 was obtained. Also, a polyester (c) having an intrinsic viscosity of 0.66 was obtained in the same manner except that no particles were contained. 30 parts of polyester (a), 60 parts of polyester (b) and 10 parts of polyester (c)
The raw material obtained by mixing the components is dried by a conventional method, supplied to an extruder, melted at 290 ° C., extruded into a sheet, and quenched on a cooling roll using an electrostatic contact method to form an amorphous sheet. . The obtained sheet was stretched 2.9 times in the longitudinal direction at 84 ° C. using the roll stretching method, and further stretched 1.5 times at 70 ° C. Next, the film was guided to a tenter, stretched 4.1 times in the transverse direction at 110 ° C., heat-treated at 225 ° C., and further subjected to a 3% transverse relaxation treatment in a 200 ° C. zone. A 0 μm biaxially stretched polyester film was obtained. Center line average roughness (Ra) is 0.0
63 μm.

【0055】得られたフィルムに蒸着を行い、さらに活
性エネルギー線硬化性塗布剤として、イソボニルアクリ
レート40部、ジシクロペンタニルジアクリレート30
部、1,9−ノナンメチレンジアクリレート27部およ
び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン3部か
らなる組成物を用い、塗布誘電体層を形成した。該層の
厚みは平均1.5μmであった。該フィルムを積層して
得られた金属蒸着フィルムコンデンサは、下記表1に示
すとおり、耐電圧特性に優れ、絶縁抵抗特性に優れる金
属蒸着ポリエステルフィルムコンデンサであった。
The obtained film was vapor-deposited, and 40 parts of isobonyl acrylate and 30 parts of dicyclopentanyl diacrylate were used as active energy ray-curable coating agents.
, A coated dielectric layer was formed using a composition comprising 27 parts of 1,9-nonanemethylene diacrylate and 3 parts of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone. The thickness of the layer was 1.5 μm on average. As shown in Table 1 below, the metal-deposited film capacitor obtained by laminating the films was a metal-deposited polyester film capacitor having excellent withstand voltage characteristics and excellent insulation resistance characteristics.

【0056】実施例2〜5および比較例1〜4 実施例1と同様にして粒子を含有するポリエステルを製
造し、製膜条件は実施例と同様にして厚み2.0μmの
ポリエステルフィルムを得た。なお、フィルム中に含有
する粒子の平均粒径、粒径分布、および含有量は表1に
示した通りである。 ただし、比較例3は、フィルムの
取り扱い性が著しく劣るため、フィルムを良好なロール
状で得ることができなかった。従って少量のフィルムを
得て特性測定は行ったが、コンデンサを作成して評価す
ることはできなかった。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 Polyester containing particles was produced in the same manner as in Example 1, and a film having a thickness of 2.0 μm was obtained in the same manner as in Example. . The average particle size, particle size distribution, and content of the particles contained in the film are as shown in Table 1. However, in Comparative Example 3, the film could not be obtained in the form of a good roll because the handleability of the film was extremely poor. Therefore, although a small amount of film was obtained and the characteristics were measured, it was not possible to prepare and evaluate a capacitor.

【0057】実施例6 実施例1において、フィルム延伸条件を次のように変更
した。すなわち、ロール延伸法による縦方向の延伸を、
まず85℃にて2.4倍、次いで75℃にて1.2倍と
し、テンターで110℃にて4.5倍横延伸し、さらに
245℃で熱処理を行いつつ、横方向に3%の弛緩処理
を行って、厚み2.0μmの二軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。さらに実施例1における活性エネルギー線
硬化性塗布剤を、シクロヘキシルアクリレート40部、
ジシクロペンタニルジアクリレート37部、1,9−ノ
ナンメチレンジアクリレート20部および1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン3部からなる組成物を
用いたこと以外は実施例1と同様にして、コンデンサを
作成した。
Example 6 In Example 1, the film stretching conditions were changed as follows. That is, the longitudinal stretching by the roll stretching method,
First, the film was stretched 2.4 times at 85 ° C., then 1.2 times at 75 ° C., and then stretched 4.5 times at 110 ° C. with a tenter. By performing a relaxation treatment, a biaxially oriented polyester film having a thickness of 2.0 μm was obtained. Further, the active energy ray-curable coating composition in Example 1 was added with 40 parts of cyclohexyl acrylate,
A capacitor was prepared in the same manner as in Example 1, except that a composition comprising 37 parts of dicyclopentanyl diacrylate, 20 parts of 1,9-nonanemethylene diacrylate and 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was used. .

【0058】実施例7 実施例1において、ポリエステル製造時、エステル交換
反応後に加えるリン酸の添加量を0.035部としたこ
と以外は実施例1と同様にして得たポリエステル原料を
用いて、製膜条件は実施例1と同様にして厚み1.8μ
mの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。さらに実施
例1における活性エネルギー線硬化性塗布剤を、ブトキ
シヒドロキシプロピルアクリレート30部、ヒドロキシ
プロピルジメタクリレート77部および1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン3部からなる組成物を用
いたこと以外は実施例1と同様にして、コンデンサを作
成した。
Example 7 A polyester raw material obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of phosphoric acid added after the transesterification reaction was changed to 0.035 parts during the production of polyester was used. The conditions for film formation were 1.8 μm in the same manner as in Example 1.
m biaxially oriented polyester film was obtained. Example 1 was the same as Example 1 except that the active energy ray-curable coating composition in Example 1 was a composition comprising 30 parts of butoxyhydroxypropyl acrylate, 77 parts of hydroxypropyl dimethacrylate and 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. Similarly, a capacitor was prepared.

【0059】比較例5 原料およびフィルム製造条件は実施例1と同様にして、
原料押出量を変更してフィルム厚み4.0μmの二軸延
伸フィルムを得た。該フィルムを用いてコンデンサを作
成したが、実施例の場合と同等の容量にしようとすると
コンデンサ自体が大きくなってしまい、実用に共するこ
とはできず、本発明の効果を発揮できなかった。
Comparative Example 5 Raw materials and film production conditions were the same as in Example 1.
By changing the raw material extrusion amount, a biaxially stretched film having a film thickness of 4.0 μm was obtained. A capacitor was made using the film. However, if it was attempted to obtain a capacity equivalent to that of the example, the capacitor itself became large, and the capacitor could not be used practically, and the effect of the present invention could not be exhibited.

【0060】比較例6 原料およびフィルム製造条件は実施例1と同様にして、
原料押出量を変更してフィルム厚み0.2μmの二軸延
伸フィルムを得ようとしたが、フィルム厚みが薄すぎる
ため破断やテンタークリップ抜けが頻発し、著しく生産
性が悪く、評価の対象となるフィルムは得られなかっ
た。
Comparative Example 6 The raw materials and film production conditions were the same as in Example 1.
It was attempted to obtain a biaxially stretched film having a film thickness of 0.2 μm by changing the raw material extrusion amount, but the film thickness was too thin, and frequent breakage and removal of the tenter clip frequently occurred. No film was obtained.

【0061】実施例および比較例で得られたポリエステ
ルとそのフィルム物性およびそれらを用いて作成した蒸
着コンデンサの特性評価結果を下記表1および2に示
す。 比較例7 実施例1において、塗布誘電体を形成する樹脂をポリフ
ェニレンオキサイドとし、常法による塗膜形成を行って
コンデンサを作成した。なお、塗膜はフィルムの片面に
形成し、厚みも実施例1と同等とした。得られたコンデ
ンサの多くは、すでに短絡しており、短絡が無かったも
のでも耐電圧特性が低下していた。
Tables 1 and 2 below show the polyesters obtained in the Examples and Comparative Examples, the physical properties of the films thereof, and the characteristics evaluation results of the vapor deposition capacitors prepared using them. Comparative Example 7 In Example 1, a resin for forming a coating dielectric was polyphenylene oxide, and a film was formed by a conventional method to prepare a capacitor. The coating film was formed on one side of the film, and the thickness was the same as in Example 1. Many of the obtained capacitors were already short-circuited, and even if there was no short-circuit, the withstand voltage characteristics were degraded.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】[0064]

【表3】 [Table 3]

【0065】[0065]

【表4】 [Table 4]

【0066】[0066]

【表5】 [Table 5]

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明のフィルムを用い、活性エネルギ
ー線硬化性塗布剤を用いて誘電体を形成させて得られる
金属蒸着フィルムコンデンサは、耐電圧特性、絶縁抵抗
特性に優れ、かつ該方法は溶剤使用量が少ない、または
溶剤不使用のため、環境汚染や自然破壊の問題を防止す
ることができるため、その工業的価値は高い。
The metal-deposited film capacitor obtained by using the film of the present invention to form a dielectric using an active energy ray-curable coating agent has excellent withstand voltage characteristics and insulation resistance characteristics. Since the amount of the solvent used is small or the solvent is not used, problems of environmental pollution and natural destruction can be prevented, so that its industrial value is high.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平均粒径(d50)が0.3〜2.0μm
でかつ粒度分布値(d25/d75)が2.0以下の粒子A
を0.01〜5.0重量%含有し、フィルム表面の最大
高さ(Rmax)が1.5μm以下、厚みが0.3〜
3.0μmである熱可塑性樹脂フィルムの両面に金属蒸
着層を有し、当該金属蒸着層の少なくとも一方の表面に
活性エネルギー線照射により硬化する誘電体層を有する
フィルムを積層して得られる金属化フィルムコンデン
サ。
An average particle size (d50) of 0.3 to 2.0 μm.
A having a particle size distribution value (d25 / d75) of 2.0 or less
Is contained in an amount of 0.01 to 5.0% by weight, the maximum height (Rmax) of the film surface is 1.5 μm or less, and the thickness is 0.3 to 0.3%.
Metallization obtained by laminating a film having a metal deposited layer on both sides of a thermoplastic resin film having a thickness of 3.0 μm and a dielectric layer cured on at least one surface of the metal deposited layer by irradiation with active energy rays. Film capacitor.
【請求項2】 熱可塑性樹脂フィルム中に平均粒径(d
50)が0.5μm未満でかつ粒度分布値が3.0以下の
粒子Bを0.1〜2重量%含有することを特徴とする請
求項1に記載の金属化フィルムコンデンサ。
2. An average particle diameter (d) in a thermoplastic resin film.
The metallized film capacitor according to claim 1, wherein the metallized film capacitor contains 0.1 to 2% by weight of particles B having a particle size distribution value of less than 0.5 µm and a particle size distribution value of 3.0 or less.
【請求項3】 熱可塑性樹脂フィルムを180℃で3分
間処理した後のフィルム長手方向の収縮率が1.0〜
5.0%であることを特徴とする請求項1または2に記
載の金属化フィルムコンデンサ。
3. The shrinkage in the longitudinal direction of the thermoplastic resin film after treating at 180 ° C. for 3 minutes is 1.0 to 1.0.
The metallized film capacitor according to claim 1 or 2, wherein the content is 5.0%.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284164A (en) * 2000-01-27 2001-10-12 Mitsubishi Polyester Film Copp Biaxially oriented polyester film for capacitor
JP2002154187A (en) * 2000-09-05 2002-05-28 Toray Ind Inc Polypropylene film and film capacitor

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