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JPH10268285A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

Info

Publication number
JPH10268285A
JPH10268285A JP6799797A JP6799797A JPH10268285A JP H10268285 A JPH10268285 A JP H10268285A JP 6799797 A JP6799797 A JP 6799797A JP 6799797 A JP6799797 A JP 6799797A JP H10268285 A JPH10268285 A JP H10268285A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
resin
display device
layer
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6799797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomohiko Hatano
智彦 幡野
Mizuyo Nakajima
瑞世 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP6799797A priority Critical patent/JPH10268285A/en
Publication of JPH10268285A publication Critical patent/JPH10268285A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the adhesive strength of seal resin and to obtain high reliability by allowing the peripheral edge part of the seal resin and a graphic matrix layer to have an area not overlapped with each other in the normal direction of a substrate surface. SOLUTION: Relating to a color filter substrate 1 a BM layer 4 is formed on a glass substrate and the colored layer of red, blue, and green, an overcoat layer of polyimide resin, a transparent electrode of ITO, and an orientation film are formed thereupon in order. The color filter substrate 1 on which the seal resin 9 is printed after being put on a TFT substrate 2 so that its orientation film faces its orientation film, is stuck and heated under a pressure, so that they are brought into contact with each other. Then liquid crystal is injected under a vacuum and the sealing hole is sealed to complete a liquid crystal cell. When the seal resin 9 is applied, the outer peripheral frame part of the BM layer 4 is half coated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はワードプロセッサ
ー、パーソナルコンピュータ、エンジニアリング・ワー
クステーション、PDA(パーソナル・デジタル・アシ
スタント)、カーナビゲーションシステム、液晶テレ
ビ、ビデオなどに用いられる液晶表示装置であり、特に
信頼性に優れた液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used for a word processor, a personal computer, an engineering workstation, a PDA (personal digital assistant), a car navigation system, a liquid crystal television, a video, and the like. The present invention relates to a liquid crystal display device having excellent performance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂ブラックマトリクス(以下樹
脂BMという)からなるカラーフィルターは図1に示す
ように、シール樹脂9とBM層4の周辺額縁部分が、基
板面の法線方向から見て、全て重なるように形成する場
合がほとんどであった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 1, a color filter comprising a resin black matrix (hereinafter referred to as a resin BM) has a sealing resin 9 and a peripheral frame portion of a BM layer 4 when viewed from the normal direction of the substrate surface. In most cases, the layers are formed so as to overlap each other.

【0003】しかしながら、特にBM層4の上にアクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂などからなるオーバーコート層
6が形成されていない場合にはBM層4の外周額縁部分
上の顔料残渣や表面粗度などの影響を受け、接着性を著
しく損ねる場合があった。
However, particularly when the overcoat layer 6 made of an acrylic resin, a polyimide resin or the like is not formed on the BM layer 4, the influence of the pigment residue on the outer frame portion of the BM layer 4, the surface roughness, and the like. In some cases, the adhesiveness was significantly impaired.

【0004】また、局所的にガラス基板3とBM層4と
の密着性が不足する部分が存在するとガラス基板3とB
M層4の界面でシール剥がれを生じやすくなるといった
問題もあった。
If there is a portion where the adhesion between the glass substrate 3 and the BM layer 4 is insufficient locally, the glass substrate 3
There was also a problem that the seal was easily peeled off at the interface of the M layer 4.

【0005】上記の様なシール構成で製造した樹脂BM
を用いた液晶表示装置は、その製造工程でシール剥がれ
を生じて液晶漏れを引き起こし、工程の歩留まりを低下
させる場合がある。また、完成された液晶表示装置を、
高温・高湿・高圧の雰囲気にて一定時間処理する強制劣
化試験にかけると、密着強度の低下したシール部より気
泡が進入して液晶表示装置内に気泡が発生し、その気泡
が表示装置の内部にまで及ぶなどの現象を起こす。さら
に、その気泡が常温常圧下に戻した後も消えない場合が
あり、様々な使用環境で液晶の封止を維持する信頼性に
関わる問題を生じていた。
[0005] The resin BM manufactured with the above-mentioned sealing structure
In a liquid crystal display device using, there is a case where a seal is peeled off in a manufacturing process to cause a liquid crystal leak, thereby lowering a process yield. In addition, the completed liquid crystal display device,
When subjected to a forced deterioration test in which treatment is performed for a certain period of time in a high-temperature, high-humidity, or high-pressure atmosphere, bubbles enter the liquid crystal display device through the seal portion with reduced adhesion strength, and the bubbles are generated in the display device. Phenomenon such as reaching inside. Furthermore, the air bubbles may not disappear even after returning to normal temperature and normal pressure, causing a problem related to the reliability of maintaining the sealing of the liquid crystal in various use environments.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の欠点を解決するため、シール樹脂の密着性を向上さ
せ、高い信頼性を有する液晶表示装置を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art by improving the adhesion of the sealing resin and providing a highly reliable liquid crystal display device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下の構成からなる。
To solve the above-mentioned problems, the present invention has the following arrangement.

【0008】(1)一対の基板の間に液晶が挟持され、
一方の基板上にはマトリクス状に配置された画素電極と
各画素電極を駆動するスイッチング素子が形成され、他
の一方の基板には黒色の樹脂で構成されるブラックマト
リクス層が形成されている液晶表示装置において、前記
液晶表示装置の周辺をシールして液晶を狭持するための
シール樹脂とブラックマトリクス層の周辺額縁部が、基
板面の法線方向において、重ならない領域を有すること
を特徴とする液晶表示装置。
(1) A liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates,
A liquid crystal in which pixel electrodes arranged in a matrix and switching elements for driving each pixel electrode are formed on one substrate, and a black matrix layer made of black resin is formed on the other substrate. In the display device, the sealing resin for sealing the periphery of the liquid crystal display device and holding the liquid crystal and the peripheral frame portion of the black matrix layer have a non-overlapping region in the normal direction of the substrate surface. Liquid crystal display device.

【0009】(2)シール樹脂をブラックマトリクス層
の周辺額縁部の外側に形成したことを特徴とする(1)
に記載の液晶表示装置。
(2) The seal resin is formed outside the peripheral frame portion of the black matrix layer (1).
3. The liquid crystal display device according to 1.

【0010】(3)シール樹脂とブラックマトリクス層
が一部重なる領域を有することを特徴とする請求項1に
記載の液晶表示装置。
(3) The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device has a region where the sealing resin and the black matrix layer partially overlap.

【0011】(4)ブラックマトリクス層の周辺額縁部
にスリットを形成したことを特徴とする(1)に記載の
液晶表示装置。
(4) The liquid crystal display device according to (1), wherein a slit is formed in a peripheral frame portion of the black matrix layer.

【0012】(5)該シール樹脂と該ブラックマトリク
ス層を形成した前記各基板との間にオーバーコート膜、
透明電極、配向膜の少なくとも1つが存在することを特
徴とする(1)〜(4)に記載の液晶表示装置。
(5) an overcoat film between the seal resin and each of the substrates on which the black matrix layer is formed;
The liquid crystal display device according to any one of (1) to (4), wherein at least one of a transparent electrode and an alignment film is present.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0014】本発明にもちいる一対の基板は、マトリッ
クス状に配置された画素電極と各画素電極を駆動するス
イッチング素子が形成された透明電極基板と、黒色の樹
脂で構成されるBM層が形成されているフィルター基板
からなる。
The pair of substrates used in the present invention include a transparent electrode substrate on which pixel electrodes arranged in a matrix and switching elements for driving each pixel electrode are formed, and a BM layer made of black resin. Consisting of a filter substrate.

【0015】本発明で用いられる透明基板は、石英ガラ
ス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面
をシリカコートしたソーダライムガラスなどの無機ガラ
ス類、有機プラスチックのフィルムまたはシートなどが
好ましく用いられるが、特に限定されない。
As the transparent substrate used in the present invention, quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, inorganic glass such as soda lime glass having a silica-coated surface, and organic plastic films or sheets are preferably used. Is not particularly limited.

【0016】透明電極基板としては、ITO(Indi
um Tin Oxyde)膜などの透明電極が透明基
板上にパターン化されて設けられる。透明電極基板上に
は、透明電極以外に、薄膜トランジスタ(TFT)素子
や薄膜ダイオード(TFD)素子、および走査線、信号
線などを設け、TFT液晶表示装置やTFD液晶表示装
置を作成することができる。透明電極を有するフィルタ
ー基板および透明電極基板上には配向膜が設けられ、ラ
ビングなどによる配向処理が施される。
As the transparent electrode substrate, ITO (Indi) is used.
A transparent electrode such as a um Tin Oxide film is provided in a pattern on a transparent substrate. On a transparent electrode substrate, in addition to a transparent electrode, a thin film transistor (TFT) element, a thin film diode (TFD) element, a scanning line, a signal line, and the like are provided, so that a TFT liquid crystal display device or a TFD liquid crystal display device can be manufactured. . An alignment film is provided on the filter substrate having a transparent electrode and the transparent electrode substrate, and an alignment process such as rubbing is performed.

【0017】フィルター基板上に形成されるBMは、各
画素間に配列された遮光領域を示し、主に液晶表示装置
の表示コントラストを向上させるために設けられてい
る。
The BM formed on the filter substrate indicates a light shielding area arranged between the pixels, and is provided mainly for improving the display contrast of the liquid crystal display device.

【0018】樹脂BMに用いられる樹脂としては、特に
限定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ゼラチンなどの感光性また
は非感光性の材料が好ましく用いられる。BM用樹脂
は、画素や保護膜に用いられる樹脂よりも高い耐熱性を
有する樹脂が好ましく、また、樹脂BM形成後の工程で
使用される有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましいことか
らポリイミド系樹脂が特に好ましく用いられる。
The resin used for the resin BM is not particularly limited, but may be a photosensitive or non-photosensitive resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, and gelatin. Is preferably used. The BM resin is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the pixel and the protective film, and a polyimide resin because a resin having resistance to an organic solvent used in a process after the formation of the resin BM is preferable. Is particularly preferably used.

【0019】BM用の遮光剤としては、カーボンブラッ
ク、酸化チタン、四酸化鉄などの金属酸化物粉、金属硫
化物粉、金属粉の他に、赤、青、緑色の顔料の混合物な
どを用いることができる。この中でも、特にカーボンブ
ラックは遮光性が優れており、特に好ましい。分散のよ
い粒径の小さいカーボンブラックは主として茶系統の色
調を呈するので、カーボンブラックに対する補色の顔料
を混合させて無彩色にするのが好ましい。
As a light-shielding agent for BM, a mixture of red, blue, and green pigments in addition to metal oxide powders such as carbon black, titanium oxide, and iron tetroxide, metal sulfide powders and metal powders are used. be able to. Among them, carbon black is particularly preferable because of its excellent light shielding properties. Since carbon black having a good dispersion and a small particle diameter mainly exhibits a brownish color tone, it is preferable to mix a pigment of a complementary color to the carbon black to obtain an achromatic color.

【0020】BM用の樹脂がポリイミドの場合、黒色ペ
ースト溶媒としては、通常、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミドなどのアミド系極性溶媒、γ−ブチロラク
トンなどのラクトン系極性溶媒などが好適に使用され
る。
When the resin for BM is polyimide, the black paste solvent is usually an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, γ- Lactone-based polar solvents such as butyrolactone are preferably used.

【0021】カーボンブラックやカーボンブラックに対
して補色の顔料等の遮光剤を分散させる方法として、例
えば、ポリイミド前駆体溶液中に遮光剤や分散剤等を混
合させた後、三本ロール、サンドグラインダー、ボール
ミルなどの分散機中で分散させる方法などがあるが、こ
の方法に特に限定されない。また、カーボンブラックの
分散性向上、あるいは塗布性やレベリング性向上のため
に種々の添加剤が加えられていてもよい。
As a method of dispersing a light-shielding agent such as a complementary color pigment or the like in carbon black or carbon black, for example, after mixing a light-shielding agent or a dispersant in a polyimide precursor solution, a three-roll mill, a sand grinder or the like is used. And a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, but the method is not particularly limited. In addition, various additives may be added for improving the dispersibility of carbon black, or for improving applicability and leveling property.

【0022】樹脂BMの製法としては、黒色ペーストを
透明基板上に塗布・乾燥した後に、パターニングを行
う。黒色ペーストを塗布する方法としては、ディップ
法、ロールコータ法、スピナー法、ダイコーティング
法、ワイヤーバーによる方法などが好適に用いられ、こ
の後、オーブンやホットプレートを用いて加熱乾燥(セ
ミキュア)を行う。セミキュア条件は、使用する樹脂、
溶媒、ペースト塗布量により異なるが、通常50〜20
0℃で1〜60分加熱することが好ましい。
As a method for producing the resin BM, a black paste is applied on a transparent substrate, dried, and then patterned. As a method for applying the black paste, a dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a method using a wire bar, and the like are suitably used. After that, heat drying (semi-curing) using an oven or a hot plate is performed. Do. The semi-cure condition depends on the resin used,
Although it depends on the solvent and the amount of paste applied, usually 50 to 20
It is preferable to heat at 0 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0023】このようにして得られた黒色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にポジ
型フォトレジストの被膜を形成した後に、また、樹脂が
感光性の樹脂である場合には、そのままかあるいは酸素
遮断膜を形成した後に、露光・現像を行う。必要に応じ
て、ポジ型フォトレジストまたは酸素遮断膜を除去し、
また、加熱乾燥(本キュア)する。本キュア条件は、ポ
リイミド前駆体からポリイミド系樹脂を得る場合には、
塗布量により若干異なるが、通常200〜300℃で1
〜60分加熱するのが好ましい。以上のプロセスによ
り、透明基板上にBMが形成される。
In the case where the resin is a non-photosensitive resin, the black paste coating thus obtained is formed after a positive photoresist coating is formed thereon, and then the resin is a photosensitive resin. In some cases, exposure and development are performed as they are or after forming an oxygen barrier film. If necessary, remove the positive photoresist or oxygen barrier film,
Further, it is heated and dried (this cure). The curing conditions are as follows when obtaining a polyimide resin from a polyimide precursor.
It varies slightly depending on the amount of coating,
Heating for up to 60 minutes is preferred. Through the above process, the BM is formed on the transparent substrate.

【0024】本発明の液晶表示装置をカラー液晶表示装
置として用いる場合は、該BM層を設けた基板の上に、
カラーフィルタを構成する。
When the liquid crystal display device of the present invention is used as a color liquid crystal display device, a liquid crystal display device is provided on a substrate provided with the BM layer.
Construct a color filter.

【0025】このカラーフィルターの着色層は、赤色
(R)、緑色(G)、青色(B)の3原色が選ばれる。
一般には、これらの3原色を含んだ要素を1単位として
カラー表示の絵素とすることができる。着色層として
は、その屈折率が透明基板の屈折率よりも高いものであ
れば特に制限なく、例えば着色剤により着色された樹脂
が好適に用いられる。
For the color layer of this color filter, three primary colors of red (R), green (G) and blue (B) are selected.
Generally, a picture element for color display can be formed by using an element including these three primary colors as one unit. The coloring layer is not particularly limited as long as its refractive index is higher than that of the transparent substrate. For example, a resin colored with a coloring agent is preferably used.

【0026】着色層に用いられる着色剤としては特に制
限はなく、有機顔料、無機顔料、染料などを好適に用い
ることができ、さらには、紫外線吸収剤、分散剤、レベ
リング剤などの種々の添加剤を添加しても良い。有機顔
料としては、フタロシアニン系、アジレーキ系、縮合ア
ゾ系、キナクリドン系、アントラキノン系、ペリレン
系、ペリノン系が好適に用いられる。
The colorant used in the color layer is not particularly limited, and organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be suitably used. Further, various additives such as an ultraviolet absorber, a dispersant, and a leveling agent can be used. An agent may be added. As the organic pigment, phthalocyanine-based, aziraki-based, condensed azo-based, quinacridone-based, anthraquinone-based, perylene-based, and perinone-based pigments are preferably used.

【0027】着色層に用いられる樹脂としては、エポキ
シ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹
脂、ゼラチンなどの感光性または非感光性の材料が好ま
しく用いられ、着色剤をこれらの樹脂中に分散あるいは
溶解させて着色することが好ましい。感光性の樹脂とし
ては、光分解型樹脂、光架橋型樹脂、光重合型樹脂など
のタイプがあり、特に、エチレン不飽和結合を有するモ
ノマ、オリゴマまたはポリマと紫外線によりラジカルを
発生する開始剤とを含む感光性組成物、感光性ポリアミ
ック酸組成物などが好適に用いられる。
The resin used for the colored layer is preferably a photosensitive or non-photosensitive material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, and gelatin. It is preferable to disperse or dissolve the colorant in these resins for coloring. As the photosensitive resin, there are types such as a photodecomposable resin, a photocrosslinkable resin, and a photopolymerizable resin, and particularly, a monomer, an oligomer or a polymer having an ethylenically unsaturated bond and an initiator which generates a radical by ultraviolet rays. A photosensitive composition containing, a photosensitive polyamic acid composition and the like are suitably used.

【0028】非感光性の樹脂としては、上記の各種ポリ
マなどで現像処理が可能なものが好ましく用いられる
が、透明電導膜の成膜工程や液晶表示装置の製造工程で
かかる熱に耐えられるような耐熱性を有する樹脂が好ま
しく、また、液晶表示装置の製造工程で使用される有機
溶剤への耐性を持つ樹脂が好ましいことから、ポリイミ
ド系樹脂が特に好ましく用いられる。
As the non-photosensitive resin, those which can be developed with the above-mentioned various polymers are preferably used. However, the non-photosensitive resin should be able to withstand the heat in the process of forming the transparent conductive film and the process of manufacturing the liquid crystal display device. A resin having excellent heat resistance is preferable, and a resin having resistance to an organic solvent used in a manufacturing process of a liquid crystal display device is preferable. Therefore, a polyimide resin is particularly preferably used.

【0029】着色層を形成する方法としては、着色ペー
ストを樹脂BMを形成した基板上に塗布・乾燥した後
に、パターニングを行う。着色剤を分散または溶解させ
着色ペーストを得る方法としては、溶媒中に樹脂と着色
剤を混合させた後、3本ロール、サンドグラインダー、
ボールミル等の分散機中で分散させる方法などがある
が、これらの方法に特に限定されない。
As a method of forming a colored layer, a colored paste is applied to a substrate on which the resin BM is formed, dried, and then patterned. As a method of obtaining a colored paste by dispersing or dissolving a colorant, a resin and a colorant are mixed in a solvent, and then, three rolls, a sand grinder,
Although there is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, there is no particular limitation to these methods.

【0030】着色ペーストを塗布する方法としては、黒
色ペーストの場合と同様、ディップ法、ロールコータ
法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーに
よる方法などが好適に用いられ、この後、オーブンやホ
ットプレートを用いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。
セミキュア条件は、使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布
量により異なるが通常60〜200℃で1〜60分加熱
することが好ましい。
As a method for applying the colored paste, a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a method using a wire bar, and the like are preferably used, as in the case of the black paste. Heat drying (semi-cure) is performed using a plate.
The semi-curing conditions vary depending on the resin used, the solvent, and the amount of the paste applied, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0031】このようにして得られた着色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にポジ
型フォトレジストの被膜を形成した後に、また、樹脂が
感光性の樹脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮
断膜を形成した後に、露光・現像を行う。必要に応じ
て、ポジ型フォトレジストまたは酸素遮断膜を除去し、
再び、加熱乾燥(本キュア)する。本キュア条件は、樹
脂により異なるが、ポリイミド前駆体からポリイミド系
樹脂を得る場合には、通常200〜300℃で1〜60
分加熱するのが一般的である。以上のプロセスにより、
BMを形成した基板上にパターニングされた着色層が形
成される。
In the case where the resin is a non-photosensitive resin, the colored paste film thus obtained is formed after a positive photoresist film is formed thereon, and then the resin is a photosensitive resin. In some cases, exposure and development are performed as they are or after forming an oxygen barrier film. If necessary, remove the positive photoresist or oxygen barrier film,
Again, heat and dry (this cure). The curing conditions are different depending on the resin. However, when a polyimide resin is obtained from a polyimide precursor, it is usually 200 to 300 ° C. and 1 to 60.
It is common to heat for a minute. Through the above process,
A patterned colored layer is formed on the substrate on which the BM has been formed.

【0032】このあと、必要に応じて、該赤、緑、青色
の微細パターン上に保護膜及び平滑性向上の目的で着色
剤を含まない塗料を塗布して、200〜350℃程度に
加熱焼成して得られるオーバーコート膜を形成してもよ
い。また更に、透明電極、配向膜が適宜設けられる場合
がある。
Then, if necessary, a protective film and a paint containing no coloring agent are applied on the red, green and blue fine patterns for the purpose of improving smoothness, and then heated and fired at about 200 to 350 ° C. May be formed. Further, a transparent electrode and an alignment film may be appropriately provided.

【0033】着色層、オーバーコート層を設ける場合、
その膜厚は特に制限されないが、着色層の場合は0.5
〜3.0μm、オーバーコート層の場合には0.05〜
2.0μmが望ましい。オーバーコート層の塗膜を形成
するための塗料の塗布方法はスピナー等の回転塗布法、
ディップ塗布法、カーテンフロー塗布法、ロールコータ
法などが用いられる。塗膜の加熱方法としては、ホット
プレート、熱風オーブン等がある。
When a coloring layer and an overcoat layer are provided,
The film thickness is not particularly limited, but is 0.5
To 3.0 μm, 0.05 to overcoat layer
2.0 μm is desirable. The coating method of the paint for forming the coating film of the overcoat layer is a spin coating method such as a spinner,
A dip coating method, a curtain flow coating method, a roll coater method, or the like is used. As a method of heating the coating film, there are a hot plate, a hot air oven and the like.

【0034】これら1対の基板の間にプラスチックビー
ズをスペーサーとして散布した後にシール剤を用いてフ
ィルター基板および透明電極板を貼り合わせ、シール部
に設けられた注入口から液晶を注入した後に、注入口を
封止する。なお、BM層及び着色層の積層によりスペー
サーをフィルター基板上に形成した場合には、プラスチ
ックビーズの散布工程は省略される。この上に偏光板を
基板の外側に貼り合わせた後にICドライバーなどを実
装することにより液晶表示装置のモジュールが完成す
る。
After spraying plastic beads as a spacer between the pair of substrates, the filter substrate and the transparent electrode plate are bonded together using a sealant, and liquid crystal is injected from an injection port provided in the seal portion. Seal the inlet. When the spacer is formed on the filter substrate by laminating the BM layer and the coloring layer, the step of dispersing the plastic beads is omitted. After attaching a polarizing plate to the outside of the substrate thereon and mounting an IC driver or the like, a module of the liquid crystal display device is completed.

【0035】使用するシール樹脂は特に制限されないが
エポキシ樹脂からなるシール剤を使用することが一般的
である。例えば、三井東圧化学(株)製のストラクトボ
ンド、四国化成工業(株)製のFCハードなどがある。
The sealing resin used is not particularly limited, but it is common to use a sealing agent made of an epoxy resin. For example, there are Struct Bond manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc., and FC Hardware manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.

【0036】シール樹脂を塗布する方法はシール樹脂を
ディスペンサ−であらかじめ指定した位置にディスペン
スする方法と、スクリーン印刷で印刷する方法等があ
る。
The method of applying the seal resin includes a method of dispensing the seal resin at a position designated in advance by a dispenser, a method of printing by screen printing, and the like.

【0037】前記シール部の密着性が不足する原因とし
ては、シール樹脂とBM層の外周額縁部との密着性が不
足する場合、BM層とガラス基板の密着性が不足する場
合、およびシール樹脂自身あるいはBM自身の密着性が
不足する場合など様々である。
The cause of the insufficient adhesion of the sealing portion is that the adhesion between the sealing resin and the outer peripheral frame of the BM layer is insufficient, the adhesion between the BM layer and the glass substrate is insufficient, and that the sealing resin is insufficient. There are various cases such as when the adhesion of the BM itself or the BM itself is insufficient.

【0038】このなかで、シール樹脂とBM層の外周額
縁部との密着性、BM層とガラス基板の密着性、および
BM自身の密着性などが不足しているときに、シール樹
脂とBMの外周額縁部分が基板面を法線方向から見たと
きに完全に重なっている位置関係にあると、液晶セルの
シール部の強度は極端に低下することになる。
Among these, when the adhesion between the sealing resin and the outer peripheral frame of the BM layer, the adhesion between the BM layer and the glass substrate, and the adhesion between the BM itself and the like are insufficient, the sealing resin and the BM can be used. If the outer peripheral frame portion is in a position where the substrate surface is completely overlapped when viewed from the normal direction, the strength of the sealing portion of the liquid crystal cell will be extremely reduced.

【0039】そこで、シール樹脂の位置を、基板の法線
方向から見て、全部または一部がBM層の外周額縁部分
に直接か重ならない構成とすることにより、シール樹脂
がガラス基板に直接接触する部分の強固な密着性により
シール部分全体の密着性を改善することが出来る。
In view of this, the position of the sealing resin is such that the whole or a part thereof does not directly or overlap the outer peripheral frame of the BM layer when viewed from the normal direction of the substrate. Due to the strong adhesion of the part to be sealed, the adhesion of the entire sealing part can be improved.

【0040】さらに、シール樹脂とBM層が形成された
基板との間に、オーバーコート膜、透明電極、配向膜の
少なくとも1つで構成されている部分が設けられている
場合において、シール樹脂の位置を基板の法線方向から
見て、全部または一部がBM層の外周額縁部分に直接重
ならない構成とした場合も、シール樹脂がガラス基板に
BMを介さず位置する部分で、ガラス基板に直接接触す
る部分で強固な密着性を得られる時と同様に、シール部
分全体の密着性を改善することが出来る。
Further, when a portion composed of at least one of an overcoat film, a transparent electrode, and an alignment film is provided between the seal resin and the substrate on which the BM layer is formed, When the position is viewed from the normal direction of the substrate, even if the whole or part does not directly overlap the outer peripheral frame portion of the BM layer, the sealing resin is located on the glass substrate without the BM, and In the same manner as when strong contact can be obtained at a portion in direct contact, it is possible to improve the adherence of the entire sealing portion.

【0041】ここで、シール樹脂とBM層の位置を基板
の法線方向から見て、全部または一部がBM層の外周額
縁部分に直接重ならない構成とする方法として、シール
樹脂を額縁部分に半分掛かる様に塗布する方法、シール
樹脂を額縁部分の外周に塗布する方法、額縁部にスリッ
トを入れてその上にシール樹脂を塗布する方法などがあ
るが、特にこれらに限定されない。
Here, when the position of the sealing resin and the BM layer is viewed from the normal direction of the substrate, the whole or a part does not directly overlap the outer peripheral frame portion of the BM layer. There are a method of applying the seal resin halfway, a method of applying the seal resin to the outer periphery of the frame portion, a method of forming a slit in the frame portion and applying the seal resin thereon, and the like, but not particularly limited thereto.

【0042】この様なシール樹脂とBM層外周額縁部の
構成の液晶表示装置はその製造工程でシール剥がれによ
る歩留まりの低下を少なくできる。また、高温・高湿・
高圧の雰囲気にて一定時間処理する強制劣化試験などの
信頼性試験にかけてもパネル内に気泡を発生しない様
な、長期信頼性に優れた液晶表示装置を提供することが
出来る。
In the liquid crystal display device having such a configuration of the seal resin and the outer peripheral frame portion of the BM layer, a decrease in yield due to peeling of the seal in the manufacturing process can be reduced. In addition, high temperature, high humidity,
It is possible to provide a liquid crystal display device which is excellent in long-term reliability such that bubbles are not generated in a panel even when subjected to a reliability test such as a forced deterioration test in which treatment is performed for a certain time in a high-pressure atmosphere.

【0043】[0043]

【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいてさらに
詳細に説明するが、本発明の効力はこれらに限定される
ものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings, but the effects of the present invention are not limited thereto.

【0044】また、信頼性評価として実施した高温・高
湿・高圧の雰囲気にて一定時間処理する強制劣化試験は
PCT試験(プレッシャー・クッカー・テスト)といわ
れる方法で実施し、これは121℃、2.1atm、1
00%の飽和水蒸気雰囲気にて処理し、処理時間ごとの
気泡の発生量および、液晶の漏れを評価した。
Further, the forced deterioration test, which is performed for a certain period of time in a high-temperature, high-humidity, high-pressure atmosphere for reliability evaluation, is performed by a method called a PCT test (pressure cooker test). 2.1atm, 1
The treatment was performed in a 00% saturated steam atmosphere, and the amount of generated bubbles and the leakage of liquid crystal at each treatment time were evaluated.

【0045】実施例1 図2に本発明の実施例1におけるカラーフィルタ基板上
のBM層、表示領域とシール樹脂の構成を示す。カラー
フィルタ基板1はガラス基板3の上にBM層4が形成さ
れ、その上に赤、青、緑からなる着色層5、ポリイミド
樹脂からなるオーバーコート層膜6、ITOからなる透
明電極7、配向膜8を順に形成して構成されている。シ
ール樹脂は基板面を法線方向から見たときに、およそ半
分がBM層4の外周額縁部に重なる位置に形成されてい
る。
Embodiment 1 FIG. 2 shows a configuration of a BM layer, a display area, and a sealing resin on a color filter substrate in Embodiment 1 of the present invention. In the color filter substrate 1, a BM layer 4 is formed on a glass substrate 3, on which a colored layer 5 made of red, blue, and green, an overcoat layer film 6 made of a polyimide resin, a transparent electrode 7 made of ITO, The film 8 is formed in order. When the substrate surface is viewed from the normal direction, approximately half of the sealing resin is formed at a position overlapping the outer peripheral frame of the BM layer 4.

【0046】シール樹脂が印刷されたカラーフィルタ基
板1はTFT基板2と配向膜8同士が相対する様に重ね
合わせ後、貼り合わされ、加圧下で加熱する事で密着さ
れる。この後に真空下で液晶を注入後、注入孔を封孔し
液晶セルが完成する。
The color filter substrate 1 on which the sealing resin is printed is laminated so that the TFT substrate 2 and the alignment film 8 are opposed to each other, then adhered, and adhered by heating under pressure. Thereafter, after injecting the liquid crystal under vacuum, the injection hole is sealed to complete the liquid crystal cell.

【0047】本実施例におけるカラーフィルタの製造方
法を下記する。
A method of manufacturing a color filter according to this embodiment will be described below.

【0048】ガラス基板(コーニング製、1737材)
にポリイミド前駆体であるポリアミック酸のN−メチル
−2−ピロリドン/ブチルセロソルブ溶液にカーボンブ
ラックを分散させた塗液を仕上がり膜厚が1.2μmに
なるようにカーテンフローコータで塗布し、ホットプレ
ートで130℃、10分間乾燥し、黒色の樹脂塗膜を形
成した。この後、ポジ型フォトレジスト(シプレー社
製、SRCー100)をリバースロールコータで塗布、
ホットプレートで100℃5分間プリベイクし、超高圧
水銀灯を用いて100mj/cm2 紫外線照射してマ
スク露光した後、2.25%のテトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド水溶液を用いて、フォトレジストの現像
と樹脂塗膜のエッチングを同時に行い、パターンを形
成、メチルセロソルブアセテートでレジスト剥離し、ホ
ットプレートで300℃、10分加熱することでイミド
化させ、BM層を形成した。
Glass substrate (Corning, 1737 material)
A coating solution obtained by dispersing carbon black in an N-methyl-2-pyrrolidone / butyl cellosolve solution of a polyamic acid, which is a polyimide precursor, is applied by a curtain flow coater so that the finished film thickness is 1.2 μm, and is applied by a hot plate. After drying at 130 ° C. for 10 minutes, a black resin coating film was formed. Thereafter, a positive type photoresist (SRC-100 manufactured by Shipley Co., Ltd.) was applied using a reverse roll coater.
Prebake on a hot plate at 100 ° C for 5 minutes, irradiate with 100mj / cm2 ultraviolet rays using an ultra-high pressure mercury lamp and expose the mask, and then use 2.25% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide to develop photoresist and apply resin. The film was simultaneously etched to form a pattern, the resist was peeled off with methyl cellosolve acetate, and imidized by heating at 300 ° C. for 10 minutes on a hot plate to form a BM layer.

【0049】つぎに、ジアントラキノン系の赤色顔料を
分散させたポリアミック酸のN−メチル−2−ピロリド
ン/ブチルセロソルブ溶液を該BM層の上に仕上がり膜
厚が1.2μmになるようにカーテンフローコーターで
塗布し、ホットプレートで130℃、10分乾燥、赤色
の樹脂塗膜を形成した。この後、ポジ型フォトレジスト
(シプレー社製、SRCー100)をリバースロールコ
ータで塗布、ホットプレートで100℃5分間プリベイ
クし、超高圧水銀灯を用いて100mj/cm2 紫外
線照射してマスク露光した後、 2.25%のテトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、フォト
レジストの現像と樹脂塗膜のエッチングを同時に行い、
パターンを形成、メチルセロソルブアセテートでレジス
ト剥離し、ホットプレートで300℃、10分加熱する
ことでイミド化させ、赤色着色層を形成した。
Next, a N-methyl-2-pyrrolidone / butyl cellosolve solution of polyamic acid in which a dianthraquinone red pigment is dispersed is applied onto the BM layer so as to have a finished film thickness of 1.2 μm. And dried on a hot plate at 130 ° C. for 10 minutes to form a red resin coating film. Thereafter, a positive photoresist (SRC-100, manufactured by Shipley Co.) was applied by a reverse roll coater, prebaked on a hot plate at 100 ° C. for 5 minutes, and irradiated with ultraviolet rays at 100 mj / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp. Using a 2.25% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide to simultaneously develop the photoresist and etch the resin coating,
A pattern was formed, the resist was stripped with methyl cellosolve acetate, and imidized by heating at 300 ° C. for 10 minutes on a hot plate to form a red colored layer.

【0050】次に、フタロシアニングリーン系顔料を分
散させたポリアミック酸のN−メチル−2−ピロリドン
/ブチルセロソルブ溶液をBM上に赤色着色層を形成し
た基板に同様な方法で塗布、パターン加工し、緑色着色
層を形成した。さらにフタロシアニンブルー系顔料を分
散させたポリアミック酸のN−メチル−2−ピロリドン
/ブチルセロソルブ溶液をBM上に赤、緑の着色層を形
成した基板に同様の方法で塗布、パターン加工し、青色
着色層を形成した。
Next, an N-methyl-2-pyrrolidone / butyl cellosolve solution of a polyamic acid in which a phthalocyanine green pigment is dispersed is applied and patterned in the same manner as described above on a substrate having a red colored layer formed on a BM. A colored layer was formed. Further, an N-methyl-2-pyrrolidone / butyl cellosolve solution of polyamic acid in which a phthalocyanine blue pigment is dispersed is applied and patterned in the same manner on a substrate having a red and green colored layer formed on a BM, and a blue colored layer is formed. Was formed.

【0051】BM層の上に赤、緑、青の着色層を形成し
た該基板に、ポリアミック酸のN−メチル−2−ピロリ
ドン/ブチルセロソルブ溶液をスピナンコーターで仕上
がり膜厚が1.0μmになる様に塗布し、ホットプレー
トで150℃、3分乾燥後、同じくホットプレートで3
00℃、10分で加熱しオーバーコート層を形成し、こ
の後、ITOをスパッタ法により膜厚が1400Åにな
る様にマスク成膜し、カラーフィルタ基板とした。
A N-methyl-2-pyrrolidone / butyl cellosolve solution of polyamic acid is applied to the substrate having a red, green and blue colored layer formed on the BM layer by a spinan coater to a final thickness of 1.0 μm. And dried on a hot plate at 150 ° C for 3 minutes.
The coating was heated at 00 ° C. for 10 minutes to form an overcoat layer. Thereafter, ITO was formed into a mask by sputtering to a thickness of 1400 ° to obtain a color filter substrate.

【0052】次に本実施例における液晶表示装置の製造
方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to this embodiment will be described.

【0053】カラーフィルター基板は中性洗剤で洗浄し
た後、ポリイミド樹脂からなる配向膜を印刷法により仕
上がり膜厚が0.07μmになる様に塗布し、ホットプ
レートで250℃、10分間焼成した。この後、カラー
フィルタ基板をラビング処理し、シール剤をディスペン
ス法により塗布、ホットプレートで90℃、10分間焼
成する。シール剤をディスペンスする際には、シール樹
脂がBM層の外周額縁部に半掛けになる様に塗布した。
After the color filter substrate was washed with a neutral detergent, an orientation film made of a polyimide resin was applied by a printing method so as to have a finished film thickness of 0.07 μm, and baked on a hot plate at 250 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the color filter substrate is subjected to a rubbing treatment, a sealant is applied by a dispense method, and baked on a hot plate at 90 ° C. for 10 minutes. When dispensing the sealant, the seal resin was applied so as to cover the outer peripheral frame of the BM layer in half.

【0054】一方、コーニング製ガラス基板1737材
にTFTアレイを形成した基板も同様に洗浄した後、配
向膜を塗布、焼成する。その後、スペーサーを散布し、
前記カラーフィルター基板と重ね合わせ、オーブン中で
加圧しながら160℃で90分間焼成、樹脂を硬化させ
る。このセルを150℃、10-3torrで真空アニールし
た後、一度窒素雰囲気下で常圧に戻し、再度真空雰囲気
において液晶注入した。液晶注入はセルをチャンバーに
入れて室温で10-3torrまで減圧した後、液晶注入孔を
液晶槽に漬け、窒素を用いて常圧に戻して行った。液晶
注入後、UV硬化樹脂を用いて液晶注入孔を封孔した。
このパネルをNI転移点以上の温度に加熱して液晶を再
配向させた。
On the other hand, a substrate in which a TFT array is formed on a Corning glass substrate 1737 is similarly washed, and then an alignment film is applied and baked. After that, spray the spacer,
The resin is superposed on the color filter substrate and baked at 160 ° C. for 90 minutes while pressurizing in an oven to cure the resin. After vacuum annealing the cell at 150 ° C. and 10 −3 torr, the pressure was once returned to normal pressure in a nitrogen atmosphere, and liquid crystal was injected again in the vacuum atmosphere. The liquid crystal injection was performed by putting the cell in a chamber and reducing the pressure to 10 -3 torr at room temperature, immersing the liquid crystal injection hole in the liquid crystal tank, and returning the pressure to normal pressure using nitrogen. After injecting the liquid crystal, the liquid crystal injection hole was sealed using a UV curable resin.
The panel was heated to a temperature equal to or higher than the NI transition point to reorient the liquid crystal.

【0055】次に、偏光板をセルの2枚のガラス基板に
貼り付け、オートクレーブ中で温度50℃、圧力5kg
f/cm2の条件で処理して、セルを完成させた。この
後、液晶セルを観察したところ、液晶の漏れやセル内の
気泡は認められなかった。
Next, a polarizing plate was attached to the two glass substrates of the cell, and the temperature was 50 ° C. and the pressure was 5 kg in an autoclave.
The cell was completed under the condition of f / cm 2. Thereafter, when the liquid crystal cell was observed, no leakage of liquid crystal or bubbles in the cell was observed.

【0056】以上の様にして作成したセル3個を、PC
T試験にかけた結果50時間経過した後にも気泡の発生
は認められなかった。
The three cells created as described above are
As a result of the T test, no bubbles were observed even after 50 hours had passed.

【0057】実施例2 次に、本発明の他の実施例を図3に示す。シール樹脂は
基板面を法線方向から見たときに、BM層の外周額縁部
の更に外側に位置され、BM層の額縁部に全く重ならな
い様に形成されている。
Embodiment 2 Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG. When the substrate surface is viewed from the normal direction, the sealing resin is located further outside the outer peripheral frame of the BM layer, and is formed so as not to overlap the frame of the BM layer at all.

【0058】シール樹脂のカラーフィルタ基板への塗布
はスクリーン印刷法や直接基板に塗布する方法で行われ
る。シール樹脂の塗布位置は、スクリーン印刷法の場合
には印刷に用いるスクリーン版のパターンにより、また
直接ディスペンスする場合にはディスペンス位置の設定
により決定される。本実施例におけるカラーフィルタ基
板の製造方法および液晶表示装置の製造方法は実施例1
で記したものと同じで、シール位置の変更はセルの製造
時に前記シール樹脂塗布位置をBM外周額縁部のさらに
外側に設定することで実施した。
The application of the sealing resin to the color filter substrate is performed by a screen printing method or a method of directly applying the sealing resin to the substrate. The application position of the seal resin is determined by the pattern of the screen plate used for printing in the case of the screen printing method, or by setting the dispense position in the case of directly dispensing. The method for manufacturing a color filter substrate and the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present embodiment are described in Embodiment 1.
In the same manner as described above, the sealing position was changed by setting the sealing resin application position further outside the BM outer peripheral frame portion at the time of manufacturing the cell.

【0059】実施例3 次に、本発明の他の実施例を図4に基づいて説明する。
本実施例では基板2のBM層の外周額縁部にスリットを
入れることで、シール樹脂を基板面の法線方向から見た
ときに、BM層と重ならない領域を作成している。スリ
ットの作成は、カラーフィルタの製造時にBMの加工時
のマスク露光に外周額縁部にスリットの入ったフォトマ
スクを用いることでおこなった。この時、スリットの幅
は0.5mmでおこなった。本実施例におけるカラーフ
ィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法は
実施例1で記したものと同じである。
Embodiment 3 Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In this embodiment, a slit is formed in the outer peripheral frame of the BM layer of the substrate 2 to create a region that does not overlap with the BM layer when the sealing resin is viewed from the normal direction of the substrate surface. The slits were formed by using a photomask having a slit in the outer peripheral frame for mask exposure during BM processing during the production of the color filter. At this time, the slit width was 0.5 mm. The method for manufacturing the color filter substrate and the method for manufacturing the liquid crystal display device in this embodiment are the same as those described in the first embodiment.

【0060】比較例1 実施例1と同様な方法で作成したカラーフィルタを用
い、シール樹脂が基板面を法線方向から見たときに、B
M層の外周額縁部に全部重なるように塗布した以外は全
て実施例1と同様にして作成した液晶セル10個を同条
件のPCT試験にて評価した結果、セル内に10時間後
に4個、30時間後に5個、50時間後には7個の気泡
が発生した。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Using a color filter prepared in the same manner as in Example 1, when the sealing resin is viewed from the normal direction to the substrate surface, B
Ten liquid crystal cells prepared in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal cell was applied so as to completely overlap the outer peripheral frame portion of the M layer were evaluated by a PCT test under the same conditions. Five bubbles were generated after 30 hours, and seven bubbles were generated after 50 hours.

【0061】実施例4 比較例1で用いたカラーフィルタのBMの外周額縁部の
外周部分約2mmをカッターナイフで削り、洗浄後比較
例1と同じ方法、および条件で液晶表示装置を作成し
た。この方法で製造した液晶表示装置のシール樹脂は、
基板面を法線方向から見たときにBM層の外周額縁部の
削った箇所に位置し、シール樹脂が外周額縁部に重なら
ない構成となっている。この液晶表示装置3個を比較例
1と同条件のPCT試験にて評価した結果、30時間後
においても気泡の発生はなかった。
Example 4 The outer peripheral portion of the outer peripheral frame of the color filter used in Comparative Example 1 was cut off with a cutter knife, and a liquid crystal display device was prepared in the same manner and under the same conditions as in Comparative Example 1. The sealing resin of the liquid crystal display device manufactured by this method is:
When the substrate surface is viewed from the normal direction, it is located at a position where the outer peripheral frame of the BM layer is shaved, and the sealing resin does not overlap the outer peripheral frame. As a result of evaluation of the three liquid crystal display devices by a PCT test under the same conditions as in Comparative Example 1, no bubbles were generated even after 30 hours.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば液
晶表示装置の周辺のシール構造を強固に強化でき、液晶
表示装置の製造工程でシール剥がれの発生を大きく抑え
ることが出来る。また、この液晶表示装置をPCT試験
などの信頼性試験に供した場合にもシール部から気泡が
進入して表示部に気泡が発生することを抑えることがで
き、非常に高い信頼性を持つ液晶表示装置を容易に提供
することが出来る。
As described above, according to the present invention, the sealing structure around the liquid crystal display device can be strongly strengthened, and the occurrence of peeling of the seal in the manufacturing process of the liquid crystal display device can be greatly suppressed. In addition, even when this liquid crystal display device is subjected to a reliability test such as a PCT test, it is possible to prevent bubbles from entering the seal portion and generating bubbles in the display portion, and the liquid crystal display device has extremely high reliability. A display device can be easily provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の液晶表示装置の断面図FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【図2】本発明の実施例1における液晶表示装置の断面
FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例2における液晶表示装置の断面
FIG. 3 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例3における液晶表示装置の断面
FIG. 4 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・カラーフィルタ基板 2・・・TFT基板 3・・・ガラス基板 4・・・BM層 5・・・着色層 51・・・R層 52・・・G層 53・・・B層 6・・・オーバーコート層 7・・・透明電極 8・・・配向膜 9・・・シール樹脂 10・・・TFTアレイ 11・・・スペーサー 12・・・液晶層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter substrate 2 ... TFT substrate 3 ... Glass substrate 4 ... BM layer 5 ... Coloring layer 51 ... R layer 52 ... G layer 53 ... B layer 6 ... overcoat layer 7 ... transparent electrode 8 ... alignment film 9 ... sealing resin 10 ... TFT array 11 ... spacer 12 ... liquid crystal layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一対の基板の間に液晶が挟持され、一方の
基板上にはマトリクス状に配置された画素電極と各画素
電極を駆動するスイッチング素子が形成され、他の一方
の基板には黒色の樹脂で構成されるブラックマトリクス
層が形成されている液晶表示装置において、前記液晶表
示装置の周辺をシールして液晶を狭持するためのシール
樹脂とブラックマトリクス層の周辺額縁部が、基板面の
法線方向において、重ならない領域を有することを特徴
とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates. Pixel electrodes arranged in a matrix and switching elements for driving each pixel electrode are formed on one substrate, and the other substrate is formed on one substrate. In a liquid crystal display device in which a black matrix layer composed of a black resin is formed, a sealing resin for sealing around the liquid crystal display device and holding a liquid crystal and a peripheral frame portion of the black matrix layer are formed on a substrate. A liquid crystal display device having a non-overlapping region in a direction normal to a surface.
【請求項2】シール樹脂をブラックマトリクス層の周辺
額縁部の外側に形成したことを特徴とする請求項1に記
載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the sealing resin is formed outside the peripheral frame portion of the black matrix layer.
【請求項3】シール樹脂とブラックマトリクス層が一部
重なる領域を有することを特徴とする請求項1に記載の
液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device has a region where the sealing resin and the black matrix layer partially overlap.
【請求項4】ブラックマトリクス層の周辺額縁部にスリ
ットを形成したことを特徴とする請求項1に記載の液晶
表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a slit is formed in a peripheral frame portion of the black matrix layer.
【請求項5】該シール樹脂と該ブラックマトリクス層を
形成した前記各基板との間にオーバーコート膜、透明電
極、配向膜の少なくとも1つが存在することを特徴とす
る請求項1〜4に記載の液晶表示装置。
5. The method according to claim 1, wherein at least one of an overcoat film, a transparent electrode, and an alignment film exists between the sealing resin and each of the substrates on which the black matrix layer is formed. Liquid crystal display device.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002148607A (en) * 2000-11-13 2002-05-22 Casio Comput Co Ltd Method for manufacturing film liquid crystal display panel
JP2004252418A (en) * 2002-12-27 2004-09-09 Sharp Corp Manufacturing method of color filter substrate, color filter substrate and display device
KR100494699B1 (en) * 2001-12-04 2005-06-13 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 a method for manufacturing of color filter of LCD
US7426007B2 (en) 2003-04-15 2008-09-16 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel having seal pattern support member
JP2009069806A (en) * 2007-08-22 2009-04-02 Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display panel, electronic apparatus equipped with liquid crystal display panel, and method for manufacturing liquid crystal display panel
US7796217B2 (en) 2004-09-09 2010-09-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel, method of inspecting the same, and inspection apparatus used for the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002148607A (en) * 2000-11-13 2002-05-22 Casio Comput Co Ltd Method for manufacturing film liquid crystal display panel
KR100494699B1 (en) * 2001-12-04 2005-06-13 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 a method for manufacturing of color filter of LCD
JP2004252418A (en) * 2002-12-27 2004-09-09 Sharp Corp Manufacturing method of color filter substrate, color filter substrate and display device
US7426007B2 (en) 2003-04-15 2008-09-16 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel having seal pattern support member
US7796217B2 (en) 2004-09-09 2010-09-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel, method of inspecting the same, and inspection apparatus used for the same
JP2009069806A (en) * 2007-08-22 2009-04-02 Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display panel, electronic apparatus equipped with liquid crystal display panel, and method for manufacturing liquid crystal display panel

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