JPH10258249A - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 超親水化することによって、付着した処理液
を短時間で洗浄除去することができ、装置の稼働率を向
上させることができる。 【解決手段】 スピンチャック１により支持された基板
Ｗの周囲を囲い、基板Ｗから周囲に飛散した現像液を下
方に案内する案内傾斜面４ｂ₂ と、案内傾斜面４ｂ₂ に
より下方に案内された現像液を回収する排液ゾーン４ａ
₁ とを有する飛散防止カップ４を備えた回転式基板処理
装置において、案内傾斜面４ｂ₂ に超親水性層Ｓを形成
した。超親水性層Ｓは接触角が小さくなっているので、
現像液は薄膜状に拡がって付着する。付着した現像液と
案内傾斜面４ｂ₂ との界面には洗浄液が極めて容易に入
り込み、現像液を容易に離脱させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】半導体ウエハ、フォトマスク
用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディ
スク用の基板（以下、単に基板と称する）などに対して
現像液、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂、シリカ系
被膜形成材とも呼ばれるSOG(Spin On Glass,）液などの
処理液を吐出して回転自在の基板に対して処理を施す技
術に係り、特に、飛散防止カップや待機ポットに付着し
た処理液を洗浄除去する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の回転式基板処理装置とし
て、例えば、所定のパターンが露光されたフォトレジス
ト被膜を表面に有する基板を回転させ、その表面に現像
液を供給して現像処理を施す回転式基板現像装置が挙げ
られる。この装置の概略構成について図７を参照して以
下に説明する。

【０００３】スピンチャック１は、表面にフォトレジス
ト被膜が形成されている基板Ｗを水平姿勢で吸着支持す
るものであり、軸芯Ｐ回りで基板Ｗを回転駆動するもの
である。スピンチャック１によって吸着支持された基板
Ｗの表面には、処理液供給ノズル５の先端部から現像液
Ｄが供給される。スピンチャック１の周囲には、基板Ｗ
の表面に供給された現像液Ｄがその周囲に飛散すること
を防止するとともに、飛散した現像液Ｄを回収するため
の飛散防止カップ７が配備されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、図８に示すように、飛散防止カップ７
の内面、特に基板Ｗの周縁部の側方にあたり、周囲に飛
散した現像液Ｄを飛散防止カップ７内の下方に案内する
案内傾斜面には大量の現像液Ｄが飛散してくるので、溶
解したフォトレジスト液を含む現像液Ｄが著しく付着す
る。この付着した現像液Ｄは、基板Ｗを順次に処理する
につれて次第に堆積してゆき、案内傾斜面を含む飛散防
止カップ７の内面に付着堆積することになる。このよう
に現像液Ｄが飛散防止カップ７の内面に付着すると、こ
れが乾燥してパーティクルとなり、飛散防止カップ７内
を浮遊して基板Ｗを汚染するという問題点がある。

【０００５】したがって、このような問題が生じないよ
うに、飛散防止カップ７を定期的に洗浄する必要があ
る。特に、現像液Ｄが重金属類を含むものである場合に
は、その汚染による悪影響は深刻な問題である。付着し
ている現像液Ｄの具体的な洗浄除去の手法としては、飛
散防止カップ７を装置から取り外した後、溶剤などの洗
浄液によって洗浄除去したり、あるいは飛散防止カップ
７の内面に洗浄液を吐出する洗浄機構を配備しておい
て、これを用いて飛散防止カップ７を取り外すことな
く、付着堆積している現像液Ｄを洗浄除去するものがあ
る。

【０００６】しかしながら、洗浄処理を定期的に行う関
係上、付着して一定期間を経過した現像液Ｄの、飛散防
止カップ７内面への付着力は強固なものとなっているの
で、パーティクルが生じない程度の清浄な状態にまで洗
浄するためには長時間を要する。その結果、現像処理を
停止した状態で行う洗浄処理によって、装置の稼働率が
大幅に低下することになる。

【０００７】また、未処理の基板Ｗを飛散防止カップ７
内に搬入したり、処理済みの基板Ｗを飛散防止カップ７
外に搬出したりする際には、処理液供給ノズル５が基板
Ｗおよび図示しない搬送機構と干渉しないように待機位
置にまで移動する。このときにはその先端部に貯留して
いる現像液の乾燥防止などのために、待機ポットにその
先端部を収納するようになっている。

【０００８】しかしながら、その待機ポット内におい
て、処理液供給ノズル５の先端部から現像液が漏れ出た
場合には、待機ポットの内面にその漏れ出た現像液が付
着堆積することになる。このように待機ポットの内面に
現像液が付着堆積すると、やはり乾燥した際にパーティ
クルを生じ、パーティクルが処理液供給ノズル５の先端
部に付着して処理液供給ノズル５を供給位置に移動した
際に基板Ｗを汚染するという問題がある。したがって、
このような不都合を回避するために、定期的に待機ポッ
トを取り外してその内面を洗浄液で洗浄する必要がある
が、上述したように付着力が強くなっているので、洗浄
に長時間を要して装置の稼働率低下を招く。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、飛散防止カップを超親水化することに
よって、その内面に付着した処理液を短時間で洗浄除去
することができ、装置の稼働率を向上させることができ
る回転式基板処理装置を提供することを目的とする。

【００１０】また、本発明のもう一つの目的は、待機ポ
ットを超親水化することによって、その内面に付着した
処理液を短時間で洗浄除去することができ、装置の稼働
率を向上させることができる回転式基板処理装置を提供
することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板処理装置は、回転支持
手段により支持された基板の周囲を囲い、基板から周囲
に飛散した処理液を下方に案内する案内傾斜面と、案内
傾斜面により下方に案内された処理液を回収する排液ゾ
ーンとを有する飛散防止カップを備えた回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップのうち少なくとも前
記案内傾斜面を超親水性材料で形成したことを特徴とす
るものである。

【００１２】また、請求項２に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置において、
さらに前記排液ゾーンを超親水性材料で形成したことを
特徴とするものである。

【００１３】また、請求項３に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１または請求項２に記載の回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップと前記回転支持手段
との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整える整流
部材をさらに備えるとともに、この整流部材を超親水性
材料で形成したことを特徴とするものである。

【００１４】また、請求項４に記載の回転式基板処理装
置は、回転支持手段により支持された基板の上方にあた
る処理液の供給位置と、基板から側方に離れた待機位置
とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前記待機位
置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れる待機ポ
ットとを備えた回転式基板処理装置において、前記待機
ポットの少なくとも内面を超親水性材料で形成したこと
を特徴とするものである。

【００１５】また、請求項５に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１または請求項４に記載の回転式基板処理
装置において、前記超親水性材料は、接触角が１０°以
下のものであることを特徴とするものである。

【００１６】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、回転支持手段により支持された基板から
周囲に飛散した処理液は、飛散防止カップの案内傾斜面
で最も多く受け止められて下方に案内され、排液ゾーン
で回収される。つまり、飛散防止カップのうち最も多く
の処理液が付着堆積しやすく、かつ強固に付着する部分
が案内傾斜面であるが、その部分を超親水性材料で形成
しておくことにより、案内傾斜面は接触角が極めて小さ
くなり、付着した処理液が極めて馴染みやすい状態とな
っている。したがって、案内傾斜面に付着した処理液は
特定部位に集中することなく拡がって薄膜状になる。さ
らに、親水化によって案内傾斜面が処理液よりも水溶液
に極めて馴染みやすくなっているので、飛散防止カップ
の洗浄時に、処理液と案内傾斜面との界面に洗浄液が入
り込みやすくなる。したがって、案内傾斜面に付着した
処理液を容易に離脱させることができる。

【００１７】また、請求項２に記載の発明によれば、案
内傾斜面で下方に案内された処理液は排液ゾーンに滞留
するが、排液ゾーンが超親水性材料で形成されているの
で、排液ゾーンは接触角が極めて小さくなり、付着した
処理液が極めて馴染みやすい状態となっている。したが
って、案内傾斜面により排液ゾーンに案内されて滞留し
ている処理液は特定部位に集中することなく拡がって薄
膜状になる。さらに、親水化によって排液ゾーンが処理
液よりも水溶液に極めて馴染みやすくなっているので、
飛散防止カップの洗浄時に、処理液と排液ゾーンとの界
面にも洗浄液が入り込みやすくなる。したがって、排液
ゾーンに滞留した処理液を容易に離脱させることができ
る。

【００１８】また、請求項３に記載の発明によれば、基
板が回転支持手段により回転駆動された場合にその周囲
の気流が乱れることに起因して処理が不均一になること
があるが、飛散防止カップと回転支持手段との間に整流
部材を備えることによりこのような不都合を抑制するこ
とができる。その一方で、飛散した処理液やその霧状の
ミストが整流部材に付着すると、それらが乾燥してパー
ティクルとなって浮遊し、基板を汚染する恐れがある。
そこで、この整流部材を超親水性材料で形成することに
より、気流の乱れに起因する処理不均一を抑制しつつ
も、飛散した処理液やミストが整流部材に付着しても、
飛散防止カップの洗浄時に、処理液と整流部材との界面
に洗浄液が入り込みやすくなる。したがって、整流部材
に付着した処理液やミストを容易に離脱させることがで
きる。

【００１９】また、請求項４に記載の発明の作用は次の
とおりである。すなわち、処理液供給手段は処理液を供
給する際には基板の上方にあたる供給位置にその先端部
を移動し、基板の搬送時には待機位置に配設された待機
ポットにその先端部を移動する。その先端部が待機ポッ
トに受け入れられている際に処理液が漏れ出たとして
も、少なくとも待機ポットの内面は超親水性材料で形成
されているので、待機ポットの洗浄時に、付着している
処理液と待機ポット内面との界面に洗浄液が入り込みや
すくなる。したがって、待機ポット内面に付着した処理
液を容易に離脱させることができる。

【００２０】また、請求項５に記載の発明によれば、先
端部を形成する材料として一般的に使用されているPTFE
（ポリテトラフルオロエチレン）や PTCFE（ポリクロロ
トリフルオロエチレン）などのフッ素樹脂は、その接触
角が約１１０°と非常に大きく親水性の低いものであ
る。接触角が１０°以下になると水が全く弾かなくなる
ので、超親水性材料として接触角が１０°以下のものを
採用することにより、親水性を極めて高くすることがで
きる。よって、付着した処理液が非常に薄い膜状に拡が
るとともに、処理液と各部材の表面との界面に非常に洗
浄液が入り込みやすくなる。

【００２１】なお、このように接触角が１０°以下の超
親水性材料としては、酸化チタン(TiO₂)光触媒に特殊な
組成を組み合わせた薄膜（以下、単に酸化チタン光触媒
薄膜と称する）が例示され、この被膜を部材表面に被着
した後に、紫外線を照射すると上記のような極めて小さ
な接触角を有する先端部を得ることができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明の回転式基板処理装
置の一例である回転式基板現像装置の概略構成を示す縦
断面図である。

【００２３】図中、符号１は、基板Ｗを水平姿勢で吸着
支持するスピンチャックであり、基板Ｗの表面に被着さ
れているフォトレジスト被膜には所定のパターンが露光
されている。このスピンチャック１は、図示しない駆動
手段の回転軸に連動連結されており、軸芯Ｐ周りで回転
される。なお、スピンチャック１が本発明における回転
支持手段に相当する。

【００２４】上記のスピンチャック１の周囲には、基板
Ｗに対して供給される現像液などが飛散することを防止
するための飛散防止カップ４が配設されている。この飛
散防止カップ４は、下カップ４ａと、上部に開口４ｂ₁
を有し、下カップ４ａの上部内周面に着脱自在に嵌め込
まれた上カップ４ｂと、回転中心から周縁に向かう下向
きの傾斜面４ｃ₁ を有する整流部材４ｃとから構成され
ている。なお、整流部材４ｃは、下カップ４ａの中心側
底面に着脱自在に嵌め込まれている。

【００２５】下カップ４ａは、底面周辺部に環状の排液
ゾーン４ａ₁ が形成されており、上カップ４ｂの下部内
周面に形成された案内傾斜面４ｂ₂ によって下方に案内
された、溶解したフォトレジスト被膜を含む現像液など
を一旦受け止める。この排液ゾーン４ａ₁ に滞留してい
る現像液などは、排液ゾーン４ａ₁ の一部位に形成され
た排液口を通して回収され、廃液として処理されるよう
になっている。さらに、整流部材４ｃの下面と下カップ
４ａの底面中心側の間には、環状の排気ゾーン４ａ₂ が
形成されている。開口４ｂ₁ を通って基板Ｗの周縁を流
下した気流は、現像液などのミストを乗せて、整流部材
４ｃによって整流された後、この排気ゾーン４ａ₂ の一
部位に形成された排気口を通して排気されるようになっ
ている。なお、この装置では、整流部材４ｃにより基板
Ｗの周縁を流下する気流を整流するので、気流の乱れに
起因する処理不均一が防止でき、基板Ｗの全面にわたっ
て均一に現像処理を施すことができる。

【００２６】上述した下カップ４ａの排液ゾーン４ａ₁
を含む内面と、上カップ４ｂの案内傾斜面４ｂ₂ を含む
内面と、整流部材４ｃの傾斜面４ｃ₁ には、図中に点線
で示すように超親水性層Ｓが形成されている。この実施
例では、超親水性層Ｓを形成するために上記各部の表面
に超親水性材料を薄膜状に被着してある。なお、接触角
が１０°以下になると水が全く弾かなくなるので、上記
の超親水性材料としては接触角が１０°以下のものが好
ましい。このような材料としては、例えば、酸化チタン
(TiO₂)光触媒薄膜があり、この被膜を上記各部の表面に
被着した後に、紫外線を照射することによって超親水化
を図ることができ、接触角がほぼ０°の超親水性層Ｓを
得ることができる。

【００２７】なお、超親水性層Ｓに対して紫外線を照射
した時刻は図示しない入力手段を介してオペレータによ
り入力されており、その時刻が『照射時刻』として制御
部２０に記憶されている。

【００２８】処理液供給ノズル５は、その先端部が軸芯
Ｐの上方にあたる『供給位置』と、図中に二点鎖線で示
す基板Ｗの側方にあたる『待機位置』との間を移動機構
６によって移動可能に構成されている。この処理液供給
ノズル５は供給配管を介して供給ポンプ７に連通接続さ
れており、供給ポンプ７によって処理液タンク８に貯留
されている現像液が処理液として送り込まれる。なお、
上記の処理液供給ノズル５と、供給ポンプ７と、処理液
タンク８とは本発明の処理液供給手段に相当するもので
ある。

【００２９】上述した上カップ４ｂには、主としてその
内周面に形成された案内傾斜面４ｂ ₂ に対して洗浄液を
流下させるための洗浄液貯留部１０が形成されている。
この洗浄液貯留部１０は、平面視環状に形成されている
とともに、案内傾斜面４ｂ₂に開口した多数の供給孔１
０ａを有する。上カップ４ｂの外側面の一部位には洗浄
液貯留部１０に連通した供給管１０ｂが突設されてお
り、この供給管１０ｂから、洗浄液タンク１２に貯留さ
れている洗浄液が供給ポンプ１３によって洗浄液貯留部
１０に圧送されるようになっている。なお、供給ポンプ
１３の送り出し側には、後述する制御部２０によって切
り換え動作される三方弁１４が配設されており、洗浄液
貯留部１０または『待機位置』に配設された待機ポット
１５のいずれか一方に洗浄液が供給されるようになって
いる。

【００３０】待機ポット１５は、処理液供給ノズル５の
先端部を収納して、その内部に貯留している現像液の固
化を防止したり、先端部の外周面などに付着している現
像液を洗浄除去するためのものである。その上面には、
処理液供給ノズル５の先端部を受け入れ可能な大きさを
有する挿抜孔１５ａが形成されているとともに、挿抜孔
１５ａの直下付近には、排液口１５ｂに向かって傾斜し
た傾斜面１５ｃが形成されている。さらに、挿抜孔１５
ａから待機ポット１５内部に突出した処理液供給ノズル
５の先端部付近の側壁には、洗浄液タンク１２からの洗
浄液をその先端部に向けて噴射するための洗浄ノズル１
６が配設されている。なお、待機ポット１５の排液口１
５ｂを含む内面には、飛散防止カップ４と同様に超親水
性層Ｓが形成されている。

【００３１】上述したスピンチャック１の回転数および
回転時間と、移動機構６による処理液供給ノズル５の移
動と、供給ポンプ７による現像液の供給量および供給時
間と、洗浄液を圧送する供給ポンプ１３による洗浄液の
供給量および供給時間と、三方弁１４による洗浄液の供
給先切り換えなどは、ＣＰＵやメモリを内蔵した制御部
２０によって統括制御される。

【００３２】また、制御部２０は、上述した超親水性層
Ｓに紫外線を照射して超親水化を図った時点（上述した
照射時刻）からの経過時間をタイマ２１により参照でき
るようになっている。そして、予め制御部２０に記憶さ
れている『再親水化処理時間』と経過時間とが一致した
場合には、レシピーの内容などを表示するモニタ２２に
その旨を出力してオペレータに対して報知するととも
に、装置の動作を一時的に停止するようになっている。
経過時間が再親水化処理時間に達した場合には、後述す
る『紫外線照射処理』を行うようになっている。なお、
上記の再親水化処理時間は、超親水性層Ｓを構成してい
る材料により異なるが、例えば、数十時間程度である。

【００３３】上記のような紫外線照射処理を必要とする
理由は、次のとおりである。上述したように本実施例に
おける超親水性層Ｓは、酸化チタン光触媒薄膜に紫外線
を照射して形成されているが、時間が経過するにつれて
次第に接触角が大きくなって親水性が劣化してゆく。そ
こで、例えば、数十時間ごとに定期的に超親水性層Ｓに
対して一定量の紫外線を照射し、接触角を再びほぼ０°
にして超親水化を図るためである。なお、当然のことな
がら、超親水性層Ｓを形成する超親水性材料の接触角が
経時的に劣化しない場合には、上記の紫外線照射処理を
考慮する必要はない。

【００３４】次に、図２および図３を参照して上記のよ
うに構成された装置の動作について説明する。なお、図
２は基板Ｗの現像処理を示し、図３は飛散防止カップ４
の洗浄処理を示す図である。

【００３５】「現像処理」まず、スピンチャック１と飛
散防止カップ４とを相対昇降し、図１中に二点鎖線で示
すようにスピンチャック１を開口４ｂ₁ から上方に突出
させる。この状態で、図示しない搬送機構が未処理の基
板Ｗをスピンチャック１に載置する。なお、このとき処
理液供給ノズル５は待機位置にある。

【００３６】スピンチャック１が基板Ｗを吸着支持する
とともに、処理液供給ノズル５が移動機構６によって移
動され、その先端部が軸芯Ｐの上方にあたる供給位置に
移動される。次に、スピンチャック１の回転を開始する
ことにより基板Ｗを水平面内で回転駆動し、その回転数
が一定の低速回転に到達した時点で、供給ポンプ７を駆
動して現像液Ｄの供給を開始する。

【００３７】このように現像液Ｄが基板Ｗに供給される
と、現像液Ｄはフォトレジスト被膜の一部を溶解しつつ
基板Ｗの回転中心付近から周縁部に向けて次第に拡がっ
てゆく。そして、周縁部に達した現像液Ｄは飛散し、飛
散防止カップ４の案内傾斜面４ｂ₂ によってその大部分
が受け止められるとともに、その一部が排液ゾーン４ａ
₁ に案内され、また飛散して霧状になった現像液Ｄ（ミ
スト）の一部が気流とともに流下する際に傾斜面４ｃ₁
に付着する。案内傾斜面４ｂ₂ と、排液ゾーン４ａ
₁ と、傾斜面４ｃ₁ を含む飛散防止カップ４の内面は超
親水性層Ｓによって接触角がほぼ０°となっており、そ
れらの表面が現像液Ｄと極めて馴染みやすくなっている
ので、現像液Ｄは各部材の特定部位に集中的に付着堆積
することがなく薄い膜状になって拡がって付着する。

【００３８】このようにして現像液Ｄの供給を開始して
一定時間が経過した後に、その供給を停止する。そし
て、リンス処理を経て、スピンチャック１を高速回転に
切り換えて所定時間だけこれを保持することにより基板
Ｗの乾燥を行う。基板Ｗの乾燥後、回転を停止して基板
Ｗに対する現像処理が完了する。これにより基板Ｗ表面
のフォトレジスト被膜には、凹凸を有する所定のパター
ンが形成される。

【００３９】なお、上記のようにして一枚の基板Ｗに対
する現像処理が行われ、順次に基板Ｗが処理されてゆ
く。しかし、上述したように飛散防止カップ４内には、
飛散した現像液Ｄが薄膜状に付着して堆積してゆくの
で、定期的に飛散防止カップ４を洗浄処理する必要があ
る。

【００４０】「洗浄処理」図示しない入力手段を介して
オペレータが洗浄処理を指示すると、制御部２０は飛散
防止カップ４内から基板Ｗを搬出した後、図３に示すよ
うにスピンチャック１を飛散防止カップ４内に収容した
状態にする。そして、三方弁１４を洗浄液貯留部１０側
に切り換えるとともに、供給ポンプ１３を駆動して洗浄
液タンク１２内の洗浄液を低い圧力で送り込む。すると
案内傾斜面４ｂ₂ に形成された多数の供給孔１０ａから
洗浄液Ｃが滲み出して案内傾斜面４ｂ₂ を流下する。流
下する洗浄液Ｃは超親水性層Ｓの作用により、付着して
いる現像液Ｄと案内傾斜面４ｂ₂ との界面に極めて容易
に入り込む。したがって、付着している現像液Ｄは容易
に付着面から浮いて離脱し、洗浄液Ｃとともに排液ゾー
ン４ａ₁ に流下する。この排液ゾーン４ａ₁ にも現像液
Ｄが付着しているが、やはり洗浄液Ｃがその界面に容易
に入り込んで離脱する。

【００４１】次いで、供給ポンプ１３を駆動して洗浄液
タンク１２内の洗浄液を「高い圧力」で洗浄液貯留部１
０に送り込む。すると多数の供給孔１０ａから洗浄液Ｃ
が勢い良く噴出し（図３中の点線矢印）、整流部材４ｃ
の傾斜面４ｃ₁ に達する。すると超親水性層Ｓの作用に
より、傾斜面４ｃ₁ に付着している現像液Ｄが容易に離
脱して排液ゾーン４ａ₁ に流入する。

【００４２】上記のようにして飛散防止カップ４の洗浄
処理が行われるが、洗浄液Ｃは超親水性層Ｓの作用によ
り付着している現像液Ｄの界面に極めて容易に入り込む
ので、付着してから時間が経過している現像液Ｄをも容
易に離脱させることができる。また、付着している現像
液Ｄは超親水性層Ｓの作用で薄膜状になっているので、
短時間の洗浄によりパーティクルの生じることのない清
浄な状態にすることができる。よって、定期的に行われ
る「洗浄処理」に要する時間を短縮化することができ、
装置の稼働率を向上させることができる。また、現像液
Ｄは薄膜状に付着するので、洗浄効率が高められ、定期
的に行う洗浄処理の回数を少なくすることも可能であ
る。

【００４３】なお、洗浄液タンク１２と、供給ポンプ１
３と、三方弁１４と、洗浄液貯留部１０とにより飛散防
止カップ４を洗浄するようにしたが、飛散防止カップ４
を装置から取り外して洗浄液に浸漬するなどして洗浄す
るようにしてもよい。この場合でも、洗浄液が容易に付
着面に入り込むので洗浄時間を短縮化できる。

【００４４】また、上述した「現像処理」を順次に行う
際には、基板Ｗに対する現像液の供給が完了した時点で
処理液供給ノズル５が待機位置に移動する。この状態で
は、図４に示すように、その先端部が待機ポット１５の
挿抜孔１５ａに挿入された状態である。このとき、先端
部の内部に貯留している現像液Ｄ（図中の二点鎖線）が
待機ポット１５内に落下することがある。落下した現像
液Ｄは、先端部直下の傾斜面１５ｃに付着するが、超親
水性層Ｓの作用により薄膜状に拡がって付着する。この
ように現像液Ｄが待機ポット１５内に付着堆積して乾燥
するとパーティクルを生じる原因となるので、上述した
飛散防止カップ４と同様に定期的に洗浄する必要があ
る。なお、定期的に待機ポット１５を洗浄するのではな
く、供給位置で現像液を供給し終えた処理液供給ノズル
５が待機位置に戻る度に、以下のように洗浄処理を行う
ようにしてもよい。

【００４５】「待機ポットの洗浄処理」オペレータが図
示しない入力手段を介して待機ポット１５の洗浄処理を
指示すると、制御部２０は三方弁１４を洗浄ノズル１６
側に切り換えるとともに、供給ポンプ１３を駆動して洗
浄液タンク１２内の洗浄液を圧送する。すると、図５に
示すように洗浄ノズル１６から洗浄液Ｃが噴出し、処理
液供給ノズル５の先端部外周面に付着している恐れのあ
る現像液を洗浄除去するとともに、多量の洗浄液Ｃが傾
斜面１５ｃに降り注ぐ。傾斜面１５ｃを流下する洗浄液
Ｃは超親水性層Ｓの作用により、付着している現像液Ｄ
と傾斜面１５ｃとの界面に極めて容易に入り込む。した
がって、付着している現像液Ｄは容易に傾斜面１５ｃか
ら浮いて離脱し、洗浄液Ｃとともに排液口１５ｂに流れ
込む。この排液口１５ｂにも現像液Ｄが付着している
が、やはり洗浄液Ｃがその界面に容易に入り込むことに
より離脱する。

【００４６】上記のようにして待機ポット１５の洗浄処
理が行われるが、洗浄液Ｃが現像液Ｄの界面に極めて容
易に入り込むので、付着してから時間が経過し、強固に
付着している現像液Ｄをも容易に離脱させることができ
る。また、現像液Ｄは薄膜状になっているので、短時間
の洗浄により清浄な状態にすることができる。よって、
定期的に行われる「待機ポットの洗浄処理」に要する時
間を短縮化することができ、装置の稼働率を向上させる
ことができる。

【００４７】なお、洗浄液タンク１２と、供給ポンプ１
３と、三方弁１４と、洗浄ノズル１６とにより待機ポッ
ト１５を洗浄するようにしたが、待機ポット１５を装置
から取り外して洗浄液に浸漬するなどしても短時間の洗
浄で清浄化することが可能である。

【００４８】「紫外線照射処理」なお、上述した「現像
処理」を繰り返し、定期的に「洗浄処理」および「待機
ポットの洗浄処理」を行ってゆくうちに『照射時刻』か
らの経過時間が『再親水化処理時間』に達した場合に
は、制御部２０がオペレータにその旨を報知する。これ
とともに処理液供給ノズル５を、待機ポット１５から側
方に離れた位置にまで移動した状態で装置を停止させ
る。

【００４９】オペレータは、装置から飛散防止カップ４
を取り外すとともに、その下カップ４ａから整流部材４
ｃを取り外す。さらに、待機ポット１５を取り外す。そ
して、各部材に形成されている超親水性層Ｓに十分な量
の紫外線を照射する。例えば、水銀ランプを含む紫外線
照射装置により強力な紫外線を短時間照射したり、また
は蛍光灯によって照らされているクリーンルーム内に数
日間放置して、微弱な紫外線を長時間照射する。

【００５０】この処理により、経時変化により次第に接
触角が大きくなって親水性が低下してきた超親水性層Ｓ
を再び超親水化する。この処理を定期的に行うことによ
り、上述した洗浄時の効果を長期間にわたって維持する
ことができ、装置の稼働率を同様に維持することが可能
である。

【００５１】なお、上述した実施例では、「紫外線照射
処理」を手動にて行うようにしたが、制御部２０が再親
水化処理時間を検出するとともに自動的にその処理を行
うようにしてもよい。

【００５２】例えば、水銀ランプを含む紫外線照射部か
らの紫外線を光ファイバーで導き、処理液供給ノズル５
と同様の形状を有して、その先端部から周囲に紫外線を
放射する構造の紫外線照射用ノズルを配備し、移動機構
６を介して紫外線照射用ノズルを待機ポット１５の挿抜
口１５ａに一定時間だけ挿入して十分な量の紫外線を超
親水性層Ｓに照射するようにしてもよい。さらに、上記
光ファイバーからの紫外線を下方および側方に向けて照
射する紫外線照射部材を配備し、移動機構６によりスピ
ンチャック１にその部材を取り付けて回転駆動し、飛散
防止カップ４内の超親水性層Ｓにムラなく紫外線を照射
するようにしてもよい。このように「紫外線照射処理」
を自動化することにより、人為的なミスが介在して親水
性が劣化したまま現像処理を行ってしまうような事態を
回避することができる。よって、洗浄効果を低下させ、
稼働率を低下させるような不都合が防止でき、長期間に
わたって洗浄効果を維持しつつ稼働率を維持できる。

【００５３】なお、上述した超親水性層Ｓの形成箇所の
他に、図６に示す箇所に超親水性層Ｓを形成するように
してもよい。すなわち、飛散防止カップ４は、排気ゾー
ン４ａ₂ を形成する整流部材４ｃの裏面および下カップ
４ａの底面中心側にも超親水性層Ｓを形成する。これに
より霧状の現像液Ｄ（ミスト）が付着しやすい箇所の洗
浄時間をも短縮化できる。

【００５４】また、待機カップ１５は、その上面にも超
親水性層Ｓを形成する。これにより、処理液供給ノズル
５が待機位置に移動する際に、その先端部から現像液が
落下して付着しても容易に除去することができる。

【００５５】なお、本発明は、排液ゾーン４ａ₁ と整流
部材４ｃに超親水性層Ｓを形成しなくても、飛散した現
像液が最も顕著に付着する飛散防止カップ４の案内傾斜
面４ｂ₂ にさえ超親水性層Ｓを形成しておけば、従来に
比較して洗浄効率を高めて洗浄時間を短縮化することが
できる。

【００５６】また、超親水性層Ｓを形成することなく、
各々の部材を超親水性材料で一体的に形成するようにし
てもよい。

【００５７】また、上記の実施例では、回転式基板現像
装置を例に採って説明したが、本発明はこの装置に限定
されるものではなく、例えば、塗布液を処理液として基
板に供給してフォトレジスト被膜を形成する回転式基板
塗布装置であっても適用可能である。

【００５８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、最も多くの処理液が付着堆積
しやすく、かつ強固に付着する飛散防止カップの案内傾
斜面を超親水性材料で形成しておくことにより、処理液
が極めて馴染みやすい状態にすることができ、案内傾斜
面に付着する処理液を薄膜状に拡げることができる。さ
らに、処理液と案内傾斜面との界面に洗浄液が入り込み
やすく、案内傾斜面に付着した処理液を容易に離脱させ
ることができて洗浄効率を大きく向上させることができ
る。したがって、付着した処理液を短時間の洗浄処理で
除去することができ、装置の稼働率を向上させることが
できる。

【００５９】また、処理液の付着状態が飛散防止カップ
内面で薄膜状にほぼ均一になるので、定期的な洗浄回数
を少なくしても短時間の洗浄で清浄な状態にすることが
できる。

【００６０】また、請求項２に記載の発明によれば、案
内傾斜面で下方に案内されて排液ゾーンに滞留した処理
液をも容易に離脱させることができ、洗浄効率をさらに
向上させることができる。したがって、付着した処理液
をより短時間の洗浄処理で除去することができ、装置の
稼働率をさらに高めることができる。

【００６１】また、請求項３に記載の発明によれば、整
流部材に付着した処理液やミストを容易に離脱させるこ
とができる。したがって、気流の乱れに起因する処理不
均一を防止しつつも、洗浄効率を高めて装置の稼働率を
より向上させることができる。

【００６２】また、請求項４に記載の発明によれば、待
機ポットの内面に付着した処理液を容易に離脱させるこ
とができるので、待機ポットの洗浄を短時間で行うこと
ができ、装置の稼働率を向上させることができる。

【００６３】また、請求項５に記載の発明によれば、接
触角が１０°以下の超親水性材料を採用することで各部
材の親水性を極めて高くできるので、付着した処理液と
各部材との界面に洗浄液が極めて入りやすくなる。した
がって、より効果的に洗浄効率を向上させることができ
て、さらに短時間の洗浄で残渣を生じることなく付着し
た処理液をほぼ完全に除去することができる。その結
果、装置の稼働率をさらに高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る回転式基板現像装置の概略構成を
示す縦断面図である。

【図２】現像処理の説明に供する図である。

【図３】洗浄処理の説明に供する図である。

【図４】処理液供給ノズルが待機中にある状態を説明す
る図である。

【図５】待機ポットの洗浄処理の説明に供する図であ
る。

【図６】変形例を示す縦断面図である。

【図７】従来装置の概略構成を示す図である。

【図８】従来装置に生じる問題の説明に供する図であ
る。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 Ｓ … 超親水性層 Ｄ … 現像液 Ｃ … 洗浄液 １ … スピンチャック（回転支持手段） ４ … 飛散防止カップ ４ａ … 下カップ ４ａ₁ … 排液ゾーン ４ｂ … 上カップ ４ｂ₂ … 案内傾斜面 ４ｃ … 整流部材 ４ｃ₁ … 傾斜面 ５ … 処理液供給ノズル（処理液供給手段） ７ … 供給ポンプ（処理液供給手段） ８ … 処理液タンク（処理液供給手段） １０ … 洗浄液貯留部 １５ … 待機ポット １６ … 洗浄ノズル

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転支持手段により支持された基板の周
   囲を囲い、基板から周囲に飛散した処理液を下方に案内
   する案内傾斜面と、案内傾斜面により下方に案内された
   処理液を回収する排液ゾーンとを有する飛散防止カップ
   を備えた回転式基板処理装置において、 前記飛散防止カップのうち少なくとも前記案内傾斜面を
   超親水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
   理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板処理装置に
   おいて、さらに前記排液ゾーンを超親水性材料で形成し
   たことを特徴とする回転式基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の回転式
   基板処理装置において、前記飛散防止カップと前記回転
   支持手段との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整
   える整流部材をさらに備えるとともに、この整流部材を
   超親水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
   理装置。
4. 【請求項４】 回転支持手段により支持された基板の上
   方にあたる処理液の供給位置と、基板から側方に離れた
   待機位置とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前
   記待機位置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れ
   る待機ポットとを備えた回転式基板処理装置において、 前記待機ポットの少なくとも内面を超親水性材料で形成
   したことを特徴とする回転式基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１または請求項４に記載の回転式
   基板処理装置において、前記超親水性材料は、接触角が
   １０°以下のものであることを特徴とする回転式基板処
   理装置。