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JPH10221370A - Contact probe and its manufacture, and probe apparatus having contact probe - Google Patents

Contact probe and its manufacture, and probe apparatus having contact probe

Info

Publication number
JPH10221370A
JPH10221370A JP9019483A JP1948397A JPH10221370A JP H10221370 A JPH10221370 A JP H10221370A JP 9019483 A JP9019483 A JP 9019483A JP 1948397 A JP1948397 A JP 1948397A JP H10221370 A JPH10221370 A JP H10221370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
film
probe
tip
contact probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9019483A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Tai
晶 戴
Tadashi Nakamura
忠司 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP9019483A priority Critical patent/JPH10221370A/en
Publication of JPH10221370A publication Critical patent/JPH10221370A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve contact accuracy by uniforming tips of contact pins in height without grinding and making the contact pins touch a pad at the same time. SOLUTION: Contact pins 3a are integrally molded with the use of a mask exposure technique in a state with tip parts (tungsten balls in this case) 3T projecting perpendicularly downward from main body parts 3K. Therefore, the tip parts 3T are highly accurate in size and uniform in height, eliminating conventional grinding. When a pad is formed of, e.g. soft gold, it is enough to set a contact probe in parallel to a pad face and carry out overdriving, whereby the tip parts 3T remove only an oxidization film on the pad face and surely touch an undercoat of the pad. Since tips of the pins are not required to be ground and the contact probe is not required to be inclined when arranged, parts, jigs, etc., for fitting the contact probe are simplified in structure as compared with the prior art.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プローブピンやソ
ケットピン等として用いられ、半導体ICチップや液晶
デバイス等の各端子に接触して電気的なテストを行うコ
ンタクトプローブの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a contact probe which is used as a probe pin, a socket pin, or the like, and performs an electrical test by contacting each terminal of a semiconductor IC chip or a liquid crystal device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶表示体)の各端子に接触
させて電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
用いられている。近年、ICチップ等の高集積化および
微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッチ
化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ化
が要望されている。しかしながら、コンタクトピンとし
て用いられていたタングステン針のコンタクトプローブ
では、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチへ
の対応が困難になっていた。
2. Description of the Related Art In general, a contact pin is used to conduct an electrical test by contacting a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip or each terminal of an LCD (liquid crystal display). In recent years, as the integration and miniaturization of IC chips and the like have increased, the pitch of contact pads, which are electrodes, has been reduced, and the pitch of contact pins has been required to be narrower. However, with a tungsten needle contact probe used as a contact pin, it has been difficult to cope with a multi-pin narrow pitch due to the limitation of the diameter of the tungsten needle.

【0003】これに対して、図29に示すように、複数
のパターン配線3が樹脂フィルム2上に形成されこれら
のパターン配線3の各先端が前記樹脂フィルム2から突
出状態に配されてコンタクトピン3aとされるコンタク
トプローブ1の技術が提案されている(例えば、特公平
7−82027号公報)。この技術例では、複数のパタ
ーン配線3の先端をコンタクトピン3aとすることによ
って、多ピン狭ピッチ化を図るものである。
On the other hand, as shown in FIG. 29, a plurality of pattern wirings 3 are formed on a resin film 2 and the tips of these pattern wirings 3 are arranged so as to protrude from the resin film 2 and contact pins are formed. The technology of the contact probe 1 referred to as 3a has been proposed (for example, Japanese Patent Publication No. 7-82027). In this technology example, the tip of the plurality of pattern wirings 3 is used as a contact pin 3a, thereby achieving a narrow pitch of the multi-pin.

【0004】一般に、Al(アルミニウム)合金等で形
成されるICチップ等の各端子(パッド)は、その表面
が空気中で酸化して、アルミニウムの薄い表面酸化膜で
覆われた状態となっている。そのため、パッドの電気テ
ストを行うには、前記アルミニウムの表面酸化膜を剥離
させ、内部のアルミニウムを露出させて、導電性を確保
する必要がある。そこで、前記コンタクトプローブ1に
おいては、コンタクトピン3aをパッドの表面に接触さ
せつつ、オーバードライブをかけることにより、コンタ
クトピン3aの先端部でパッド表面のアルミニウムの表
面酸化膜を擦り取り、内部のアルミニウムを露出させる
ようにしている。この作業は、スクラブ(scrub)と呼
ばれる。
Generally, each terminal (pad) of an IC chip or the like formed of an Al (aluminum) alloy or the like is oxidized in the air to be covered with a thin surface oxide film of aluminum. I have. Therefore, in order to conduct an electrical test on the pad, it is necessary to secure the conductivity by exfoliating the surface oxide film of the aluminum and exposing the aluminum inside. Therefore, in the contact probe 1, the contact pin 3a is brought into contact with the surface of the pad while the overdrive is applied to scrape off the surface oxide film of aluminum on the pad surface at the tip of the contact pin 3a, thereby removing the aluminum inside. Is exposed. This operation is called scrub.

【0005】ところで、前記コンタクトプローブ1の製
造は、以下の工程を経て行われる。 ステンレス板の上面に銅メッキを施す。 この銅層にレジストマスク(マスク)を形成し、フォ
トマスクを介して露光・現像を行う。 レジストマスクされていない部分にニッケルメッキを
施して前記パターン配線3を形成する。 このパターン配線3のうち、前記コンタクトピン3a
とされる先端部を除いた部分の上面に、前記樹脂フィル
ム2を被着させる。 この樹脂フィルム2とパターン配線3と前記銅層とか
らなる部分と、前記ステンレス板とを分離させる。 この樹脂フィルム2とパターン配線3とから部分か
ら、前記銅層を除去して、前記コンタクトプローブ1を
作製する。
The manufacture of the contact probe 1 is performed through the following steps. Copper plating is applied to the upper surface of the stainless steel plate. A resist mask (mask) is formed on the copper layer, and exposure and development are performed via a photomask. The pattern wiring 3 is formed by applying nickel plating to a portion where the resist mask is not provided. Of the pattern wirings 3, the contact pins 3a
The resin film 2 is adhered to the upper surface of the portion excluding the leading end. The portion composed of the resin film 2, the pattern wiring 3, and the copper layer is separated from the stainless steel plate. The copper layer is removed from a part of the resin film 2 and the pattern wiring 3 to manufacture the contact probe 1.

【0006】上記の製造方法によれば、前記コンタクト
ピン3aの下面3bは、平坦に形成される。このため、
前記コンタクトピン3aを、その軸線がパッド面に対し
て平行となるように配設すると、オーバードライブして
も、該パッド面と前記平坦な下面3bとが平行に当接す
るのみであり、アルミニウムの表面酸化膜を良好に擦り
取ることができない。このことから、前記コンタクトピ
ン3aは、図30に示すように、パッド面Paに対して
一定の接触角θを有するように傾斜して配設されてい
た。
According to the above manufacturing method, the lower surface 3b of the contact pin 3a is formed flat. For this reason,
If the contact pins 3a are arranged so that their axes are parallel to the pad surface, even if overdriven, the pad surface and the flat lower surface 3b only abut in parallel, and aluminum The surface oxide film cannot be scraped off satisfactorily. For this reason, as shown in FIG. 30, the contact pins 3a are arranged so as to be inclined so as to have a constant contact angle θ with respect to the pad surface Pa.

【0007】前記接触角θを保持しつつ前記コンタクト
ピン3aを配設するには、前記コンタクトプローブ1を
所定角θ傾斜させて組み込むための各種部品30,50
や治具等が必要とされる。これらの各種部品30,50
や治具等は、コンタクトプローブ1を傾斜させた状態で
組み込む構成であるため、例えば、コンタクトプローブ
1を単に水平に載置させるものに比べて構造が複雑とな
る。さらに、前記接触角θは、スクラブ時にスクラブ距
離(パット表面に沿って皮膜を削り取る長さ)や深さに
大きく影響を与え、該接触角θの如何によっては、スク
ラブ時にコンタクトピン3aの先端部がパッドPからは
み出してしまったり、パッドP自体を傷つけることか
ら、前記部品30,50には、その接触角θの正確さを
確保するに十分な精密さが要求され、加工が困難であ
る。
In order to arrange the contact pins 3a while maintaining the contact angle θ, various parts 30, 50 for assembling the contact probe 1 at a predetermined angle θ.
And jigs are required. These various parts 30, 50
Since the contact probe and the jig are configured to be incorporated in a state where the contact probe 1 is inclined, for example, the structure is more complicated than that in which the contact probe 1 is simply placed horizontally. Further, the contact angle θ greatly affects the scrub distance (the length of shaving the film along the pad surface) and the depth during scrubbing, and depending on the contact angle θ, the tip of the contact pin 3a during scrubbing. The parts 30 and 50 are required to have sufficient precision to ensure the accuracy of the contact angle θ, and are difficult to process because the parts protrude from the pad P or damage the pad P itself.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、スクラブを
行うに際しては、コンタクトピンがパッド表面のアルミ
ニウムの表面酸化膜のみならず、その下のパッド自体
(下地)まで傷つけてしまうことを防止する必要があ
る。スクラブ時にパッドの下地が傷つくのを防止するた
めには、コンタクトピンのパッドに対する接触角を十分
な大きさまで確保することが必要とされる。というの
は、接触角が小さいと、表面のアルミニウムの除去量が
著しく大きくなり、パッド下地にまで影響を及ぼすとい
う理由からである。そこで、図31に示すように、治具
(不図示)を使用して、コンタクトピン3aの先端部3
Tを接触面Pに対して略垂直になるように折り曲げるこ
とが検討されている。
In performing scrubbing, it is necessary to prevent the contact pins from damaging not only the surface oxide film of aluminum on the pad surface but also the pad itself (underlying layer) thereunder. is there. In order to prevent the base of the pad from being damaged during scrubbing, it is necessary to ensure that the contact angle of the contact pin with the pad is sufficiently large. The reason is that when the contact angle is small, the amount of aluminum removed from the surface is significantly increased, which affects the pad base. Therefore, as shown in FIG. 31, a jig (not shown) is used to move the tip 3
Folding T so as to be substantially perpendicular to the contact surface P is being studied.

【0009】しかしながら、コンタクトピンの折り曲げ
た先端部の高さや間隔にはどうしてもばらつきがあるた
め、すなわちピン下端に不揃いが発生するために、チッ
プやLSIチップ等の半導体チップ又は液晶パネルの各
端子に接触させる際に、導通していない状態が生じ、接
触精度が悪い。また、オーバードライブ量を増加させる
と、特にパッドがアルミニウムと比較して軟質な材料
(例えば金)により形成されている場合には、パッド下
地に傷が付くという問題点がある。なお、コンタクトピ
ンの先端を研磨により揃えることができるが、これには
手間や長時間を要し、検査効率が低くなる。さらに、前
記コンタクトピンはその全体に亘って同一の材質により
形成されているが、コンタクトピンの特に先端部が摩耗
しやすく、この摩耗量が規定量を超えたら、コンタクト
プローブ全体を交換しなければならず、ランニングコス
トが嵩むことにもなる。
However, since the height and the interval of the bent tip portions of the contact pins are inevitably varied, that is, irregularities are generated at the lower ends of the pins, the terminals of a semiconductor chip such as a chip or an LSI chip or each terminal of a liquid crystal panel are not provided. At the time of contact, a non-conduction state occurs, resulting in poor contact accuracy. In addition, when the overdrive amount is increased, there is a problem that the pad base is damaged, particularly when the pad is formed of a material (eg, gold) that is softer than aluminum. In addition, although the tips of the contact pins can be made uniform by polishing, this requires time and a long time and lowers the inspection efficiency. Furthermore, although the contact pins are formed of the same material throughout, the contact pins are particularly apt to wear, especially when the amount of wear exceeds a specified amount, the entire contact probe must be replaced. In addition, the running cost increases.

【0010】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、研磨が不要であるとともに、各コンタクトピンの
先端の高さを揃えて、オーバードライブの際に各コンタ
クトピンが同時にパッドに接触して、接触精度が高く、
かつコンタクトピンの先端部の摩耗を低減してランニン
グコストが低減するコンタクトプローブおよびその製造
方法、並びにプローブ装置を提供することを目的として
いる。
The present invention has been made in view of the above circumstances, does not require polishing, and the height of the tip of each contact pin is made uniform so that each contact pin simultaneously contacts the pad during overdrive. And the contact accuracy is high
It is another object of the present invention to provide a contact probe in which the running cost is reduced by reducing the wear of the tip of the contact pin, a method of manufacturing the same, and a probe device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のコンタクトプローブは、複数のパターン配線
がフィルム上に形成されこれらのパターン配線の各先端
が前記フィルムから突出状態に配されてコンタクトピン
とされるコンタクトプローブであって、前記コンタクト
ピンは、その本体部に対して先端部が下方へ垂直に突出
した状態で一体成形されたものであり、かつ前記先端部
は前記本体部よりも硬くかつ導電性の材料で形成されて
いることを特徴とするものである。また、前記先端部は
その下端に向けて断面積が漸次小さくなる形状とされて
いる。さらに、前記先端部はタングステン製のボールま
たは針である。そして、前記フィルムには、金属フィル
ムが直接張り付けられて設けられているものや、前記金
属フィルムには、第2のフィルムが直接張り付けられて
設けられているものとすることができる。
In order to achieve the above object, a contact probe according to the present invention comprises a plurality of pattern wirings formed on a film, and the tips of these pattern wirings are arranged so as to protrude from the film. A contact probe serving as a contact pin, wherein the contact pin is integrally formed with a tip portion of the contact pin protruding vertically downward with respect to a main body portion thereof, and the tip end portion is larger than the main body portion. It is characterized by being formed of a hard and conductive material. The tip has a shape whose cross-sectional area gradually decreases toward its lower end. Further, the tip is a tungsten ball or needle. The film may be provided with a metal film directly attached thereto, or the metal film may be provided with a second film directly attached thereon.

【0012】本発明のコンタクトプローブの製造方法
は、基板層の上に、コンタクトピンの先端部に被着又は
結合する材質からなる第1の金属層を形成する金属層形
成工程と、第1の金属層の上に第1のマスクを施して、
この第1のマスクに、前記コンタクトピンの先端部を挿
入するための開口部を形成する第1のパターン形成工程
と、 前記コンタクトピンの本体部よりも硬くかつ導電
性の材料からなる先端部を前記開口部に挿入して、前記
第1の金属層に押付ける先端部挿入工程と、第1の金属
層の上に第2のマスクを施して、この第2のマスクに、
前記コンタクトピンの本体部を形成するための開口部
を、その一端部が前記第1のマスクの前記開口部に重な
るように形成する第2のパターン形成工程と、前記第1
のマスクの各開口部および第2のマスクの各開口部に、
コンタクトピンに供される第2の金属層をメッキ処理に
より形成するメッキ処理工程と、第2のマスクを除いた
第2の金属層の上に前記コンタクトピンに供される部分
以外をカバーするフィルムを被着する被着工程と、前記
フィルムと前記第2の金属層からなる部分から、前記基
板層と前記第1の金属層と第1のマスクからなる部分を
分離する分離工程と、を備えていることを特徴とするも
のである。また、前記先端部はボールまたは針である。
さらに、前記第1のマスクの各開口部に第2の金属層を
形成する工程を、前記先端部挿入工程後に行ってもよ
い。そして、前記ボールまたは針の表面を予め粗く加工
しておく。
The method for manufacturing a contact probe according to the present invention includes a metal layer forming step of forming a first metal layer made of a material to be attached to or bonded to a tip of a contact pin on a substrate layer; Applying a first mask on the metal layer,
A first pattern forming step of forming an opening for inserting the tip of the contact pin into the first mask; and a tip made of a conductive material harder than the main body of the contact pin. Inserting a tip into the opening and pressing against the first metal layer; applying a second mask on the first metal layer;
A second pattern forming step of forming an opening for forming a main body of the contact pin so that one end thereof overlaps the opening of the first mask;
In each opening of the mask and each opening of the second mask,
A plating step of forming a second metal layer provided for the contact pins by plating, and a film covering a portion other than the portion provided for the contact pins on the second metal layer excluding the second mask And a separating step of separating a portion consisting of the substrate layer, the first metal layer and the first mask from a portion consisting of the film and the second metal layer. It is characterized by having. The tip is a ball or a needle.
Furthermore, the step of forming a second metal layer in each opening of the first mask may be performed after the step of inserting the tip. Then, the surface of the ball or the needle is roughened in advance.

【0013】本発明のプローブ装置は、上記コンタクト
プローブをパターン配線の各基端に接続される端子を有
する回路に接続してなるプローブ装置であって、このプ
ローブ装置は、前記フィルム上に配されて該フィルムか
ら前記コンタクトピンよりも短く突出する強弾性フィル
ムと、この強弾性フィルムと前記コンタクトプローブと
を挟持するコンタクトプローブ挟持体とを備えているこ
とを特徴とするものである。また、前記フィルムは、前
記強弾性フィルムが前記コンタクトピンを押圧するとき
に緩衝材となるように前記強弾性フィルムよりも先端側
に長く形成されている。
[0013] The probe device of the present invention is a probe device in which the contact probe is connected to a circuit having terminals connected to respective base ends of the pattern wiring, and the probe device is provided on the film. A ferroelastic film protruding from the film shorter than the contact pins, and a contact probe holding body for holding the ferroelastic film and the contact probe. Further, the film is formed to be longer on the tip side than the ferroelastic film so that the ferroelastic film acts as a buffer when the contact pin is pressed.

【0014】本発明の作用としては、例えばマスク露光
技術を用いて、コンタクトピンをその先端部が本体部の
下面より垂直に突出した状態で一体成形するので、従来
のような折り曲げ加工を行わず、各コンタクトピンの先
端部の寸法を高精度にして、先端部の高さを均一に揃え
ることができ、従来のような研磨が不要になる。また、
パッドがアルミニウムよりも軟質な材料(例えば金)に
より形成されている場合、コンタクトピンをパッド面に
対して平行に配設しても、スクラブを行わずに、オーバ
ードライブをかけるだけで、各コンタクトピンの先端部
の下面がパッドの酸化膜のみを取り除き、下地に傷を付
けることなく確実に接触する。このように、コンタクト
プローブを傾斜配置させる必要がないことから、従来に
比べて、コンタクトプローブを組み込むための部品や治
具等の構造が単純化され、加工が容易となる。さらに、
コンタクトピンの先端部は本体部よりも硬い材料により
形成されているので、この先端部の耐摩耗性が向上し
て、コンタクトピン全体の寿命が延びるとともに、パッ
ドに食い込みやすくなる。そして、前記先端部はその下
端に向けて断面積が漸次小さくなる形状とされているの
で、例えばコンタクトピンをパッド面に対して平行に配
設した場合であっても、オーバードライブ時に前記先端
部は、局部的針圧が高く、パッドに対して食いつき易
く、その結果、アルミニウムの表面酸化膜を良好に破る
ことができる。
According to the operation of the present invention, the contact pins are integrally formed by using, for example, a mask exposure technique in a state where the contact pins are vertically projected from the lower surface of the main body, so that the conventional bending process is not performed. In addition, the dimensions of the tips of the contact pins can be made highly accurate, and the heights of the tips can be made uniform, eliminating the need for conventional polishing. Also,
When the pad is made of a material softer than aluminum (for example, gold), even if the contact pins are arranged in parallel to the pad surface, each contact can be formed only by overdriving without scrubbing. The lower surface of the tip of the pin removes only the oxide film of the pad and makes sure contact with the base without damaging it. As described above, since it is not necessary to arrange the contact probe obliquely, the structure of components, jigs, and the like for incorporating the contact probe is simplified, and the processing is facilitated. further,
Since the tip portion of the contact pin is formed of a material harder than the main body portion, the wear resistance of the tip portion is improved, the service life of the contact pin as a whole is extended, and the contact pin is more likely to bite into the pad. Since the tip has a shape in which the cross-sectional area gradually decreases toward the lower end thereof, even when, for example, a contact pin is arranged in parallel to the pad surface, the tip is overdriven. Has a high local stylus pressure and easily bites against the pad, so that the surface oxide film of aluminum can be satisfactorily broken.

【0015】本発明の製造方法により作製されたコンタ
クトプローブは、コンタクトピンをパッド面に対して平
行に配設可能であるため、フィルム先端部から各パッド
までの距離が異なるパッド群に対しても、フィルム先端
部からの各コンタクトピンの突出量をそれぞれのパッド
距離に応じて変えて形成することにより、全てのパッド
に対応することができる。しかも、その場合、各コンタ
クトピンの各パッドに対する接触角を同一にすることが
できる。
In the contact probe manufactured by the manufacturing method of the present invention, the contact pins can be arranged in parallel to the pad surface. By forming the contact pins protruding from the front end of the film in accordance with the respective pad distances, it is possible to cover all pads. Moreover, in that case, the contact angle of each contact pin with respect to each pad can be made equal.

【0016】このコンタクトプローブでは、前記フィル
ムが、例えば水分を吸収して伸張し易い樹脂フィルム等
であっても、該フィルムには、金属フィルムが直接張り
付けられて設けられているため、該金属フィルムにより
前記フィルムの伸びが抑制される。したがって、フィル
ムの伸びによってコンタクトピンのピッチがずれること
がなく、各パッドとの確実なコンタクトをとることがで
きる。
In this contact probe, even if the film is, for example, a resin film which easily absorbs moisture and stretches, a metal film is directly attached to the film. Thereby, the elongation of the film is suppressed. Therefore, the pitch of the contact pins does not shift due to the extension of the film, and reliable contact with each pad can be obtained.

【0017】このコンタクトプローブでは、前記金属フ
ィルムに第2のフィルムが直接張り付けられて設けられ
ているため、各種部品によるコンタクトプローブの組み
込み時の締付けに対して緩衝材となるという作用効果が
得られる。したがって、組み込み時に配線パターンに与
えるダメージを軽減させることができる。また、LCD
用のものにあっては、金属フィルムとTABICの端子
とのショートを防止することができる。
In this contact probe, since the second film is directly adhered to the metal film, an effect is obtained that it acts as a buffer against tightening when the contact probe is assembled by various components. . Therefore, it is possible to reduce damage to the wiring pattern at the time of assembling. Also, LCD
In such a case, a short circuit between the metal film and the terminal of the TABIC can be prevented.

【0018】このプローブ装置では、前記強弾性フィル
ムが設けられ、該強弾性フィルムがコンタクトピンの先
端を上方から押さえるため、ピン先端が上方に湾曲した
ものが存在しても、パッドに確実に接触させることがで
き、各ピンに均一な接触圧が得られるところから接触不
良による測定ミスをなくすことができる。この場合、前
記凸部を形成したコンタクトピンを、例えばパッド面に
対して平行に配設した場合には該コンタクトピンとパッ
ド面との間に角度が無い分、特に、前記ピン先端が上方
に湾曲したものが存在していると、オーバードライブし
てもコンタクトが不確実となることが考えられるが、本
プローブ装置では、その危惧がない。
In this probe device, the ferroelastic film is provided, and the ferroelastic film presses the tip of the contact pin from above, so that even if the tip of the pin is curved upward, it can reliably contact the pad. And a uniform contact pressure can be obtained for each pin, so that measurement errors due to poor contact can be eliminated. In this case, when the contact pin having the convex portion is disposed, for example, in parallel with the pad surface, there is no angle between the contact pin and the pad surface. If there is such a thing, it is conceivable that the contact will be uncertain even if overdriven, but this probe apparatus does not have the fear.

【0019】前記フィルムが前記強弾性フィルムよりも
先端側に長く形成されて該強弾性フィルムがコンタクト
ピンを押圧するときに緩衝材となるため、繰り返しオー
バードライブをかけても、強弾性フィルムとの摩擦によ
りコンタクトピンが歪んで湾曲すること等がなく、パッ
ドに対して安定した接触を保つことができる。この場
合、コンタクトピンを、例えばパッド面に対して平行に
配設した場合には該コンタクトピンとパッド面との間に
角度が無い分、特に、前記ピンに湾曲したもの等が存在
していると、オーバードライブしてもコンタクトが不確
実となることが考えられるが、本プローブ装置では、そ
の危惧がない。
Since the film is formed longer on the distal end side than the ferroelastic film and serves as a cushioning material when the ferroelastic film presses the contact pin, even if overdrive is repeatedly performed, the ferroelastic film may be in contact with the ferroelastic film. The contact pin is not distorted and bent due to friction, and stable contact with the pad can be maintained. In this case, when the contact pins are arranged, for example, in parallel to the pad surface, there is no angle between the contact pins and the pad surface. Although it is conceivable that the contact may become uncertain even if the overdrive is performed, there is no danger with the present probe apparatus.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について図
面を参照して説明する。以下、本発明に係るコンタクト
プローブの製造方法の第1の実施形態を図1乃至図13
を参照しながら説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a first embodiment of a method for manufacturing a contact probe according to the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0021】本実施形態のコンタクトプローブ1の基本
構成は、前記図29に示したとおり、ポリイミド樹脂フ
ィルム2の片面に金属で形成されるパターン配線3を張
り付けた構造となっており、前記樹脂フィルム2の端部
から前記パターン配線3の先端が突出してコンタクトピ
ン3aとされている。ここで、本実施形態の特徴は、図
9に示すように、コンタクトピン3aの先端部(本例で
はタングステン製のボール)3Tが本体部3Kに対して
下方へ垂直に突出している点である。
As shown in FIG. 29, the basic structure of the contact probe 1 of this embodiment has a structure in which a pattern wiring 3 made of metal is attached to one surface of a polyimide resin film 2. The end of the pattern wiring 3 protrudes from the end of the second pattern wiring 2 to form a contact pin 3a. Here, a feature of the present embodiment is that, as shown in FIG. 9, a tip portion (a tungsten ball in this example) 3T of the contact pin 3a projects vertically downward with respect to the main body 3K. .

【0022】次に、図1乃至図9を参照して、前記コン
タクトプローブ1の作製工程について工程順に説明す
る。
Next, with reference to FIGS. 1 to 9, the steps of manufacturing the contact probe 1 will be described in the order of steps.

【0023】〔支持金属板および金属層形成工程〕先
ず、図1に示すように、ステンレス製の支持金属板(基
板層)5上に、Cu(銅)メッキによりベースメタル層
(第1の金属層)6を形成する。このベースメタル層6
は、支持金属板5の上面に均一の厚さで形成する。
[Support Metal Plate and Metal Layer Forming Step] First, as shown in FIG. 1, a support metal plate (substrate layer) 5 made of stainless steel is plated with Cu (copper) to form a base metal layer (first metal layer). Layer 6 is formed. This base metal layer 6
Is formed on the upper surface of the supporting metal plate 5 with a uniform thickness.

【0024】〔第1のパターン形成工程、第1の露光工
程〕次に、このベースメタル層6の上に、第1のフォト
レジスト層(第1のマスク)7を形成した後、写真製版
技術を用いて、第1のフォトレジスト層7上に、光を透
過させない部分8aを複数有する所定のパターンの第1
のフォトマスク8を施す。これら光を透過させない部分
8a(図1では5つ図示されているが、これに限らな
い)は等間隔に配置され、コンタクトピン3aの先端部
3Tを形成するためのものである。
[First Pattern Forming Step, First Exposure Step] Next, a first photoresist layer (first mask) 7 is formed on the base metal layer 6 and then photolithography is performed. Is used to form a first pattern of a predetermined pattern having a plurality of portions 8a that do not transmit light on the first photoresist layer 7.
Is applied. These portions 8a that do not transmit light (five in FIG. 1 are shown, but not limited thereto) are arranged at equal intervals to form the tip 3T of the contact pin 3a.

【0025】ここで、露光し、図2に示すように、第1
のフォトレジスト層7を現像し、第1のフォトレジスト
層7の、光を透過させない部分8aで覆われている部分
に開口部7aをそれぞれ形成する。この後、第1のフォ
トマスク8を除去する。
Here, exposure is performed, and as shown in FIG.
Is developed, and openings 7a are formed in portions of the first photoresist layer 7 which are covered with the portions 8a that do not transmit light. Thereafter, the first photomask 8 is removed.

【0026】本実施形態においては、第1のフォトレジ
スト層7をネガ型フォトレジストによって形成している
が、ポジ型フォトレジストを採用して所望の開口部7a
を形成しても構わない。また、本実施形態においては、
前記第1のフォトレジスト層7が、本願請求項にいう
「第1のマスク」に相当する。但し、本願請求項の「第
1のマスク」とは、本実施形態の第1のフォトレジスト
層7のように、第1のフォトマスク8を用いた露光・現
像工程を経て開口部7aが形成されるものに限定される
わけではない。例えば、メッキ処理される箇所に予め孔
が形成された(すなわち、予め、図2の符号7で示す状
態に形成されている)フィルム等でもよい。本願請求項
において、このようなフィルム等を「第1のマスク」と
して用いる場合には、本実施形態におけるパターン形成
工程は不要である。後述する第2のマスク9についても
同様である。この開口部7aを形成する位置は、その後
の工程でNiまたはNi合金層N(第2の金属層)によ
り形成されるコンタクトピン3aの、パッド(測定対象
物)Pに対する先端部(接触部)3Tに相当する位置と
する。
In the present embodiment, the first photoresist layer 7 is formed of a negative photoresist, but the desired opening 7a is formed by employing a positive photoresist.
May be formed. In the present embodiment,
The first photoresist layer 7 corresponds to a “first mask” in the present invention. However, the “first mask” in the claims of the present application means that the opening 7 a is formed through an exposure / development process using the first photomask 8 like the first photoresist layer 7 of the present embodiment. It is not limited to what is done. For example, a film or the like in which holes are formed in advance in a portion to be plated (that is, formed in advance in a state indicated by reference numeral 7 in FIG. 2) may be used. In the claims of the present application, when such a film or the like is used as the “first mask”, the pattern forming step in the present embodiment is unnecessary. The same applies to a second mask 9 described later. The position where the opening 7a is formed depends on the tip (contact portion) of the contact pin 3a formed by the Ni or Ni alloy layer N (second metal layer) with respect to the pad (measurement target) P in a subsequent step. The position corresponds to 3T.

【0027】〔先端部挿入工程〕そして、図3(a)に
示すように、Cuハーフエッチングを行うことにより、
ベースメタル層6の、第1のフォトレジスト層7の開口
部7aと対応する部分を一部除去して、凹部6aを形成
する。図3(b)に示すように、タングステン製のボー
ルBを各開口部7aに挿入して、前記凹部6aに押付け
る。このボールBの大きさは開口部7aにきつく嵌める
ように設定され、表面が粗くなっている。ボールBの材
質はタングステンに限らず、コンタクトピン3aの本体
部3Kの材質よりも硬く(摩耗度が小さい)かつ導電性
の材料であればよい。図3(c)に示すように、各開口
部7aに、コンタクトピン3aに供される第2の金属層
1をメッキ処理により形成する。ここで、第2の金属
層N1はボールBの下方に回り込むことはなく、また、
前記ボールBの表面粗さは粗く設定されているので、ボ
ールBはベースメタル層6に安定に支持されるととも
に、ボールBと第2の金属層N1との接着強度は高い。
なお、このメッキ処理工程は、後述する第2のフォトレ
ジスト層9が本例のようにフィルムからなり、この第2
のレジスト層9が開口部7a内に入り込まない場合に
は、必ずしも行わなくてもよい。また、図3(b)のボ
ール挿入工程を行う代わりに、図3(d)に示すよう
に、タングステン製の針Hをベースメタル層6に差し込
み、これをコンタクトピンの先端部としてもよい。
[Tip Inserting Step] Then, as shown in FIG. 3A, by performing Cu half etching,
A portion of the base metal layer 6 corresponding to the opening 7a of the first photoresist layer 7 is partially removed to form a recess 6a. As shown in FIG. 3B, a tungsten ball B is inserted into each opening 7a and pressed against the recess 6a. The size of the ball B is set so as to fit tightly into the opening 7a, and the surface is rough. The material of the ball B is not limited to tungsten, but may be any material as long as it is harder (has a smaller degree of wear) than the material of the main body 3K of the contact pin 3a and is conductive. As shown in FIG. 3 (c), the openings 7a, a second metal layer N 1 to be subjected to the contact pin 3a is formed by plating. Here, the second metal layer N 1 does not go under the ball B, and
Since the surface roughness of the ball B is set roughly, the ball B along with being stably supported on the base metal layer 6, the adhesive strength between the metal layer N 1 of the ball B and the second is high.
In this plating step, a second photoresist layer 9 described later is formed of a film as in the present embodiment.
When the resist layer 9 does not enter the opening 7a, it is not always necessary to perform the process. Further, instead of performing the ball inserting step of FIG. 3B, a needle H made of tungsten may be inserted into the base metal layer 6 as shown in FIG.

【0028】〔第2のパターン形成工程、第2の露光工
程〕図4(a),(b)に示すように、前記第1のフォ
トレジスト層7の上に第2のフォトレジスト層(第2の
マスク)9を形成し、さらに、写真製版技術を用いて、
第2のフォトレジスト層9上に、光を透過させない部分
10aを複数有する所定のパターンの第2のフォトマス
ク10bを施す。これら光を透過させない部分10a
は、互いに等間隔で平行に延びており、コンタクトピン
3aの本体部3Kを形成するためのものである。なお、
光を透過させない部分10aの一端部は前記第1のフォ
トレジスト層7の開口部7aと重なる位置に形成されて
いる。この後、露光することにより、図5(a),
(b)に示すように、第2のフォトレジスト層9の、前
記光を透過させない部分10aで覆われている部分に開
口部(溝)9aをそれぞれ形成し、第2のフォトマスク
10aを除去する。各開口部9はその一端部が第1のフ
ォトレジスト層7の開口部7aと重なる位置に形成され
ている。
[Second Pattern Forming Step, Second Exposure Step] As shown in FIGS. 4A and 4B, a second photoresist layer (the second photoresist layer) is formed on the first photoresist layer 7. 2) and 9 using photolithography.
On the second photoresist layer 9, a second photomask 10b having a predetermined pattern and having a plurality of portions 10a that do not transmit light is applied. These portions 10a that do not transmit light
Extend in parallel at equal intervals to form a main body 3K of the contact pin 3a. In addition,
One end of the portion 10a through which light does not pass is formed at a position overlapping the opening 7a of the first photoresist layer 7. Then, by exposing, FIG.
As shown in (b), openings (grooves) 9a are formed in portions of the second photoresist layer 9 which are covered with the portions 10a that do not transmit light, and the second photomask 10a is removed. I do. Each opening 9 is formed at a position where one end thereof overlaps with the opening 7 a of the first photoresist layer 7.

【0029】〔電解メッキ工程〕図6に示すように、第
2のフォトレジスト層9の各開口部9aに、コンタクト
ピン3aに供される第2の金属層Nをメッキ処理により
形成する。すなわち、各開口部9aに前記パターン配線
3となるNiまたはNi合金層Nをメッキ処理により形
成する。これにより、NiまたはNi合金層Nによりな
るパターン配線3(コンタクトピン3a)は、その本体
部3Kより先端部3T(ボールB)が下方へ垂直に突出
して、この先端部3Tはパッドに対する接触部となる。
その後、図7に示すように、第2のフォトレジスト層9
を除去する。
[Electroplating Step] As shown in FIG. 6, a second metal layer N provided for the contact pins 3a is formed in each opening 9a of the second photoresist layer 9 by plating. That is, a Ni or Ni alloy layer N serving as the pattern wiring 3 is formed in each opening 9a by plating. As a result, in the pattern wiring 3 (contact pin 3a) made of the Ni or Ni alloy layer N, the tip 3T (ball B) projects vertically downward from the main body 3K, and the tip 3T is in contact with the pad. Becomes
Thereafter, as shown in FIG. 7, a second photoresist layer 9 is formed.
Is removed.

【0030】〔フィルム被着工程〕次に、図8に示すよ
うに、前記NiまたはNi合金層Nの上であって、図2
9に示した前記パターン配線3の先端、すなわち、コン
タクトピン3aとなる部分以外に、前記樹脂フィルム2
を接着剤2aにより接着する。この樹脂フィルム2は、
ポリイミド樹脂PIに金属フィルム(銅箔)500が一
体に設けられた二層テープである。このフィルム被着工
程の前までに、二層テープのうちの銅面500に、銅エ
ッチングの後、用途により金メッキを施して、グラウン
ド面を形成しておき、このフィルム被着工程では、二層
テープのうちの樹脂面PIを接着剤2aを介して前記N
iまたはNi合金層Nに被着させる。なお、金属フィル
ム500は、銅箔に加えて、Ni、Ni合金等でもよ
い。
[Film Adhering Step] Next, as shown in FIG.
In addition to the tip of the pattern wiring 3 shown in FIG.
Are adhered by the adhesive 2a. This resin film 2
This is a two-layer tape in which a metal film (copper foil) 500 is integrally provided on a polyimide resin PI. Before this film attaching step, the copper surface 500 of the two-layer tape is copper-etched and then gold-plated depending on the use to form a ground plane. The resin surface PI of the tape is bonded to the N by an adhesive 2a.
It is deposited on the i or Ni alloy layer N. The metal film 500 may be made of Ni, Ni alloy or the like in addition to the copper foil.

【0031】〔分離工程〕そして、図9(a),(b)
に示すように、樹脂フィルム2とパターン配線3とベー
スメタル層6とからなる部分から、支持金属板5を分離
させた後、Cuエッチングを経て、樹脂フィルム2にパ
ターン配線3のみを接着させた状態とする。
[Separation Step] FIGS. 9A and 9B
As shown in the figure, after separating the supporting metal plate 5 from the portion composed of the resin film 2, the pattern wiring 3, and the base metal layer 6, only the pattern wiring 3 was bonded to the resin film 2 through Cu etching. State.

【0032】〔金コーティング工程〕次に、露出状態の
パターン配線3に、Auメッキを施し、表面にAuメッ
キ層Aを形成する。このとき、樹脂フィルム2から突出
状態とされた前記コンタクトピン3aでは、全周に亙る
表面全体にAu層Aが形成される。
[Gold Coating Step] Next, Au plating is applied to the exposed pattern wiring 3 to form an Au plating layer A on the surface. At this time, the Au layer A is formed on the entire surface of the contact pins 3a protruding from the resin film 2 over the entire circumference.

【0033】以上の工程により、図11および図12に
示すような、樹脂フィルム2にパターン配線3を接着さ
せたコンタクトプローブ1が作製される。
Through the above steps, the contact probe 1 in which the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2 as shown in FIGS. 11 and 12 is manufactured.

【0034】図11は、前記コンタクトプローブ1をI
Cプローブとして所定形状に切り出したものを示す図で
あり、図12は図11のC−C線断面図である。図11
および図12に示すように、樹脂フィルム2には、パタ
ーン配線3から得られた信号を引き出し用配線10を介
してプリント基板20(図10参照)に伝えるための窓
11が設けられている。
FIG. 11 shows that the contact probe 1 is
FIG. 12 is a diagram showing a C probe cut out into a predetermined shape, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 11. FIG.
As shown in FIG. 12 and FIG. 12, the resin film 2 is provided with a window 11 for transmitting a signal obtained from the pattern wiring 3 to a printed board 20 (see FIG. 10) via a lead wiring 10.

【0035】図12に示すように、前記金属フィルム5
00は、コンタクトピン3aの近傍まで設けられ、コン
タクトピン3aは、金属フィルム500の先端部からの
突出量Lが5mm以下とされている。この金属フィルム
500は、グラウンドとして用いることができ、それに
より、プローブ装置(プローブカード)70の先端近く
までインピーダンスマッチングをとる設計が可能とな
り、高周波域でのテストを行う場合にも反射雑音による
悪影響を防ぐことができる。
As shown in FIG.
00 is provided up to the vicinity of the contact pin 3a, and the contact pin 3a has an amount of protrusion L from the tip of the metal film 500 of 5 mm or less. The metal film 500 can be used as a ground, thereby enabling impedance matching to be performed near the tip of the probe device (probe card) 70, and adversely affected by reflection noise even when performing a test in a high frequency range. Can be prevented.

【0036】また、樹脂フィルム2(ポリイミド樹脂P
I)に張り付けられた金属フィルム500には、さらに
以下の利点がある。すなわち、金属フィルム500が無
い場合、樹脂フィルム2は、ポリイミド樹脂からなって
いるため、水分を吸収して伸びが生じ、図13に示すよ
うに、コンタクトピン3a,3a間の間隔tが変化する
ことがあった。そのため、コンタクトピン3aがパッド
の所定位置に接触することができず、正確な電気テスト
を行うことができないという問題があった。本実施形態
では、樹脂フィルム2に金属フィルム500を張り付け
ることにより、湿度が変化しても前記間隔tの変化を少
なくし、コンタクトピン3aをパッドの所定位置に確実
に接触させるようになっている。
The resin film 2 (polyimide resin P
The metal film 500 attached to I) has the following advantages. That is, when there is no metal film 500, since the resin film 2 is made of a polyimide resin, it absorbs moisture and elongates, and as shown in FIG. 13, the interval t between the contact pins 3a changes. There was something. Therefore, there is a problem that the contact pin 3a cannot contact a predetermined position of the pad and an accurate electrical test cannot be performed. In the present embodiment, by attaching the metal film 500 to the resin film 2, the change in the interval t is reduced even if the humidity changes, so that the contact pin 3a can be reliably brought into contact with a predetermined position of the pad. I have.

【0037】図10に示すように、前記コンタクトピン
3aには、そのパッドに対する接触部に前記先端部3T
が形成されるため、例えば、コンタクトプローブ1をパ
ッド面Paに対して平行に配設した場合であっても、オ
ーバードライブをかけるだけで、該先端部3Tがパッド
Pに対して確実に接触する。このことから、コンタクト
プローブ1を傾斜配設させる必要があった従来に比べ
て、コンタクトプローブ1を組み込むための部品31や
治具等の構造が単純化され、加工が容易となる。具体的
には、コンタクトプローブ1を例えば部品31に接着さ
せる等の単純な構成によっても、組み込むことが可能と
なる。
As shown in FIG. 10, the contact pin 3a has a tip 3T at a contact portion with the pad.
Is formed, for example, even when the contact probe 1 is arranged in parallel to the pad surface Pa, the tip portion 3T reliably contacts the pad P only by applying overdrive. . This simplifies the structure of components 31 and jigs for incorporating the contact probe 1 and simplifies the processing, as compared with the related art in which the contact probe 1 has to be disposed obliquely. Specifically, it is possible to incorporate the contact probe 1 by a simple configuration such as bonding the contact probe 1 to the component 31, for example.

【0038】上記のように構成されたプローブ装置70
を用いて、ICチップのプローブテスト等を行う場合
は、プローブ装置70をプローバーに装着するとともに
テスターに電気的に接続し、所定の電気信号をパターン
配線3のコンタクトピン3aからウェーハ上のICチッ
プに送ることによって、該ICチップからの出力信号が
コンタクトピン3aから基板を通してテスターに伝送さ
れ、ICチップの電気的特性が測定される。
The probe device 70 configured as described above
When a probe test or the like of an IC chip is performed using the IC chip, the probe device 70 is mounted on a prober and electrically connected to a tester, and a predetermined electric signal is transmitted from the contact pin 3a of the pattern wiring 3 to the IC chip on the wafer. , The output signal from the IC chip is transmitted from the contact pin 3a to the tester through the substrate, and the electrical characteristics of the IC chip are measured.

【0039】この場合、コンタクトピン3aをその先端
部3Tが本体部3Kの下面より垂直に突出状態で一体成
形するので、各先端部3Tの寸法を高精度にして、各先
端部3Tの高さを揃えることができ、従来のような手間
や時間のかかる研磨が不要になる。また、コンタクトピ
ン3aの先端部3Tの高さや間隔が均一になるので、チ
ップやLSIチップ等の半導体チップ又は液晶パネルの
各端子に接触させる際に、オーバードライブ量が少なく
ても、確実に導通して、接触精度が高い。さらに、パッ
ドがアルミニウムよりも軟質な材料(例えば金)により
形成されている場合、コンタクトピン3aをパッド面に
対して平行に配設しても、スクラブを行わずに、オーバ
ードライブをかけるだけで、下地に傷を付けることなく
確実に接触する。このように、コンタクトプローブを傾
斜配置させる必要がないことから、従来に比べて、コン
タクトプローブを組み込むための部品や治具等の構造が
単純化され、加工が容易となる。そして、コンタクトプ
ローブをパッド面に対して平行に配設しても、オーバー
ドライブ量を増加させることにより、針圧を高くでき
て、パッドに対して食い込むため、良好なコンタクトを
得ることができる。すなわち、パッドがアルミニウム等
の比較的硬い材質で形成されている場合には、オーバー
ドライブ時に針圧を高くすることにより、アルミニウム
の酸化膜のみを除去することができる。コンタクトピン
3aの先端部3Tは本体部3Kよりも硬い材料(本例で
はタングステン)により形成されているので、この先端
部3Tの耐摩耗性が向上して、コンタクトピン3a全体
の寿命が延びるとともに、パッドに食い込みやすくな
る。前記先端部3Tはその下端に向けて断面積が漸次小
さくなる形状とされているので、例えばコンタクトピン
3aをパッド面Paに対して平行に配設した場合であっ
ても、オーバードライブ時に前記先端部3Tは、局部的
針圧が高く、パッドPに対して食いつき易く、その結
果、アルミニウムの表面酸化膜を良好に破ることができ
る。
In this case, since the contact pin 3a is integrally formed with its distal end 3T projecting vertically from the lower surface of the main body 3K, the dimensions of each distal end 3T are made highly accurate, and the height of each distal end 3T is increased. And the need for time-consuming and time-consuming polishing as in the prior art is not required. In addition, since the height and the interval of the tip 3T of the contact pin 3a are uniform, even when the overdrive amount is small, conduction is ensured even when the terminal is brought into contact with a semiconductor chip such as a chip or LSI chip or a terminal of a liquid crystal panel. And the contact accuracy is high. Further, when the pad is formed of a material softer than aluminum (for example, gold), even if the contact pins 3a are arranged in parallel to the pad surface, only overdrive is performed without scrubbing. , Making sure contact without damaging the substrate. As described above, since it is not necessary to arrange the contact probe obliquely, the structure of components, jigs, and the like for incorporating the contact probe is simplified, and the processing is facilitated. Even if the contact probe is arranged in parallel to the pad surface, the needle pressure can be increased by increasing the amount of overdrive, and the contact probe cuts into the pad, so that a good contact can be obtained. That is, when the pad is formed of a relatively hard material such as aluminum, only the aluminum oxide film can be removed by increasing the stylus pressure during overdrive. Since the tip 3T of the contact pin 3a is formed of a material (tungsten in this example) harder than the body 3K, the wear resistance of the tip 3T is improved, and the life of the contact pin 3a as a whole is extended. , It becomes easier to cut into the pad. Since the tip portion 3T is shaped so that the cross-sectional area gradually decreases toward the lower end thereof, even when the contact pins 3a are arranged in parallel to the pad surface Pa, the tip portion 3T may be overdriven. The portion 3T has a high local stylus pressure and easily bites the pad P. As a result, the surface oxide film of aluminum can be satisfactorily broken.

【0040】さらに、上記従来の製造方法により作製さ
れたコンタクトプローブは、図30に示すように、その
下面3bが平坦であったため、良好なコンタクトを得る
ためにはスクラブが必要で、コンタクトピン3aを傾斜
させて配設する必要があったが、当該従来の、コンタク
トピン3aを斜め下方に突出させる構成によれば、フィ
ルム先端部2kから各パッドPまでの距離が等しく配列
された(例えば平面視してフィルム先端部2kと平行な
直線状に配列された)パッドP群には対応できるもの
の、フィルム先端部2kから各パッドP,P2までの距
離が異なる(例えば平面視千鳥格子状に配列された)パ
ッドP,P2群に対しては対応できなかった。
Further, since the lower surface 3b of the contact probe manufactured by the above-mentioned conventional manufacturing method is flat as shown in FIG. 30, a scrub is required to obtain a good contact, and the contact pin 3a However, according to the conventional configuration in which the contact pins 3a protrude obliquely downward, the distances from the film tip 2k to the pads P are equally arranged (for example, a plane). Although it can correspond to the pad P group which is arranged in a straight line parallel to the film tip 2k when viewed, the distances from the film tip 2k to the pads P and P2 are different (for example, in a staggered lattice shape in plan view). It was not possible to respond to the pads P and P2 (arranged).

【0041】というのは、コンタクトピン3aはフィル
ム先端部2kからフィルム面2eに沿って(フィルム面
2eと平行に)突出するため、フィルム2(コンタクト
プローブ1)を傾斜させて配設する従来の構成において
は、フィルム先端部2kから各パッドPまでの距離が等
しければ、各コンタクトピン3aと各パッドPとの接触
角θを一定にできるが、前記距離が異なると、それらの
全パッドP,P2‥に対して各コンタクトピン3a‥を
接触させる構成は構造上困難であり、ましてやその場合
に、各パッドP,P2‥との接触角θを一定に保つこと
はできないからである。
Since the contact pins 3a protrude from the film tip 2k along the film surface 2e (parallel to the film surface 2e), the conventional arrangement in which the film 2 (contact probe 1) is disposed at an angle is provided. In the configuration, if the distance from the film tip 2k to each pad P is equal, the contact angle θ between each contact pin 3a and each pad P can be constant, but if the distance is different, all the pads P, This is because the structure in which each contact pin 3a # is brought into contact with P2 # is structurally difficult, and in that case, the contact angle θ with each pad P, P2 # cannot be kept constant.

【0042】これに対して、本実施形態の製造方法によ
り作製されたコンタクトプローブ1は、図10に示すよ
うに、コンタクトピン3aをパッド面Paに対して平行
に配設可能であるため、フィルム先端部2kから各パッ
ドP,P2までの距離が異なるパッドP,P2群に対して
も、フィルム先端部2kからの各コンタクトピン3a,
3a2の突出量をそれぞれのパッドP,P2距離に応じて
変えて形成することにより、全てのパッドP,P2‥に
対応することができる。しかも、その場合、各コンタク
トピン3a,3a2の各パッドP,P2に対する接触角を
同一(本実施形態では垂直)にすることができる。
On the other hand, in the contact probe 1 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, as shown in FIG. 10, since the contact pins 3a can be arranged in parallel to the pad surface Pa, Even for the pads P and P2 having different distances from the leading end 2k to the pads P and P2, the contact pins 3a and
By forming the protrusion amount of 3a2 in accordance with the distance between the pads P and P2, all the pads P and P2 # can be handled. Moreover, in this case, the contact angles of the respective contact pins 3a, 3a2 with respect to the respective pads P, P2 can be made the same (vertical in the present embodiment).

【0043】なお、第1の実施形態においては、コンタ
クトプローブ1をプローブカードであるプローブ装置7
0に適用したが、他の測定用治具等に採用しても構わな
い。例えば、ICチップを内側に保持して保護し、IC
チップのバーンインテスト用装置等に搭載されるICチ
ップテスト用ソケット等に適用してもよい。また、コン
タクトプローブを水平状態になるように配置したが、こ
れに限らず、図30および図31に示したように斜めに
配置して、スクラブを行ってもよい。
In the first embodiment, the contact probe 1 is connected to the probe device 7 which is a probe card.
Although it was applied to 0, it may be adopted for other measuring jigs and the like. For example, an IC chip is held inside to protect
The present invention may be applied to an IC chip test socket or the like mounted on a chip burn-in test device or the like. Although the contact probes are arranged in a horizontal state, the present invention is not limited to this. Scrubbing may be performed with the contact probes arranged obliquely as shown in FIGS.

【0044】次に、図14乃至図19を参照して、第2
の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実
施形態においてICプローブ用の所定形状に切り出した
コンタクトプローブ1(図11参照)を、それに代えて
LCD用プローブの所定形状に切り出して使用するもの
である。LCD用プローブに切り出されたコンタクトプ
ローブは、図14乃至16に符号200で示され、符号
201は樹脂フィルムである。
Next, referring to FIG. 14 to FIG.
An embodiment will be described. In the present embodiment, the contact probe 1 (see FIG. 11) cut out into a predetermined shape for an IC probe in the first embodiment is cut out into a predetermined shape of an LCD probe and used instead. The contact probe cut into the LCD probe is indicated by reference numeral 200 in FIGS. 14 to 16, and reference numeral 201 is a resin film.

【0045】図17に示すように、LCD用プローブ装
置(プローブ装置)100は、コンタクトプローブ挟持
体110と、このコンタクトプローブ挟持体110を額
縁状フレーム120に固定してなる構造を有しており
(実際には複数個のコンタクトプローブ挟持体110が
取り付けられるがここでは1つのみを図示した)、この
コンタクトプローブ挟持体110から突出したコンタク
トピン3aの先端がLCD(液晶表示体)90の端子
(図示せず)に接触するようになっている。
As shown in FIG. 17, an LCD probe device (probe device) 100 has a structure in which a contact probe holding member 110 and the contact probe holding member 110 are fixed to a frame frame 120. (A plurality of contact probe holding bodies 110 are actually attached, but only one is shown here.) The ends of the contact pins 3 a protruding from the contact probe holding body 110 are connected to terminals of an LCD (liquid crystal display) 90. (Not shown).

【0046】図16に示すように、コンタクトプローブ
挟持体110は、トップクランプ111とボトムクラン
プ115とを備えている。トップクランプ111は、コ
ンタクトピン3aの先端を押さえる第1の突起112、
ドライバーICであるTABIC(回路)300側の端
子301を押さえる第2の突起113およびリードを押
さえる第3の突起114を有している。
As shown in FIG. 16, the contact probe holding body 110 has a top clamp 111 and a bottom clamp 115. The top clamp 111 includes a first projection 112 for holding the tip of the contact pin 3a,
It has a second projection 113 for holding the terminal 301 on the TABIC (circuit) 300 side, which is a driver IC, and a third projection 114 for holding the lead.

【0047】コンタクトプローブ200をボトムクラン
プ115の上に載置し、さらにTABIC300の端子
301がコンタクトプローブ200の樹脂フィルム20
1,201間に位置するように載置する。その後、トッ
プクランプ111を第1の突起112が樹脂フィルム2
01の上でかつ第1の突起113が端子301に接触す
るように乗せボルトにより組み立てる。
The contact probe 200 is placed on the bottom clamp 115, and the terminal 301 of the TABIC 300 is connected to the resin film 20 of the contact probe 200.
It is placed so as to be located between 1,201. After that, the first protrusion 112 is attached to the top clamp 111 by the resin film 2.
The first projection 113 and the first projection 113 are assembled with bolts so as to contact the terminals 301.

【0048】図18に示すように、コンタクトプローブ
200を組み込み、ボルト130によりトップクランプ
111とボトムクランプ115を組み合わせることによ
り、コンタクトプローブ挟持体110が作製される。
As shown in FIG. 18, a contact probe holding body 110 is manufactured by incorporating a contact probe 200 and combining a top clamp 111 and a bottom clamp 115 with bolts 130.

【0049】LCD用プローブ装置100を用いたLC
D90の電気的テストは、LCD用プローブ装置100
のコンタクトピン3aの先端をLCD90の端子(図示
せず)に接触させた状態で、TABIC300を駆動さ
せて種々のテスト用信号を送り、該信号に反応してコン
タクトピン3aから得られた信号をTABIC300を
通して外部に取り出すことにより行われる。なお、LC
D90の場合は、ON−OFFのみがテストされるた
め、前記ICのテストに比べて、高周波特性は特に問題
とされない。
LC using LCD probe device 100
The electrical test of the D90 is performed by using the LCD probe device 100.
While the tip of the contact pin 3a is in contact with the terminal (not shown) of the LCD 90, the TABIC 300 is driven to send various test signals, and a signal obtained from the contact pin 3a in response to the signal is transmitted. This is performed by taking out the device through the TABIC 300. Note that LC
In the case of D90, since only ON-OFF is tested, the high-frequency characteristics are not particularly problematic as compared with the IC test.

【0050】上記LCD用プローブ装置100において
も、例えば、図19に示すように、コンタクトプローブ
200をLCD90の端子面に対して平行に配設した場
合であっても、オーバードライブをかけるだけで、先端
部3Tが端子に対して確実に接触する。このことから、
従来に比べて、コンタクトプローブ200を組み込むた
めの部品(例えば、ボトムクランプ115)や治具等の
構造が単純化され、加工が容易となる。コンタクトプロ
ーブ200を組み込むに際しては、例えば部品(例え
ば、トップクランプ111)に接着させる等の単純な構
成で行うことが可能となる。
In the above-described LCD probe device 100, for example, as shown in FIG. 19, even when the contact probe 200 is arranged in parallel to the terminal surface of the LCD 90, only the overdrive is applied. The tip 3T surely contacts the terminal. From this,
Compared with the related art, the structure such as a component (for example, the bottom clamp 115) for incorporating the contact probe 200 and a jig is simplified, and processing is facilitated. When the contact probe 200 is incorporated, it can be performed with a simple configuration such as bonding to a component (for example, the top clamp 111).

【0051】次に、図20乃至図22を参照して、第3
の実施の形態について説明する。図20に示すように、
上記第2の実施の形態において説明した、コンタクトプ
ローブ200におけるコンタクトピン3aは、その先端
が正常な先端Sの他に、上方に湾曲した先端S1や下方
に湾曲した先端S2が生じることがあった。この場合、
図21に示すように、上記樹脂フィルム201を第1の
突起112およびボトムクランプ115で挟持してコン
タクトピン3aをLCD90の端子に押しつけても、正
常な先端S1および下方に湾曲した先端S2は、LCD
90の端子に接触するが、上方に湾曲した先端S1は、
仮に接触したとしても十分な接触圧が得られないことが
あった。このことから、コンタクトピン3aのLCD9
0に対する接触不良が発生し正確な電気テストが行えな
いことがあった。また、テスト時に所望の接触圧を得る
ためにコンタクトピン3aの押し付け量を増減させる
が、大きな接触圧を得るためには大きな押し付け量が必
要となるものの、針の形状からその量には限度があり、
大きな接触圧を得られないことがあった。
Next, referring to FIG. 20 to FIG.
An embodiment will be described. As shown in FIG.
The contact pin 3a of the contact probe 200 described in the second embodiment may have an upwardly curved distal end S1 or a downwardly curved distal end S2 in addition to the normal distal end S. . in this case,
As shown in FIG. 21, even when the resin film 201 is sandwiched between the first protrusion 112 and the bottom clamp 115 and the contact pin 3a is pressed against the terminal of the LCD 90, the normal tip S1 and the tip S2 curved downward are LCD
The tip S1 that contacts the terminal 90, but is curved upward,
Even if the contact is made, a sufficient contact pressure may not be obtained. From this, the LCD 9 of the contact pin 3a
In some cases, an electrical test could not be performed accurately due to a contact failure with respect to 0. In addition, the pressing amount of the contact pin 3a is increased or decreased in order to obtain a desired contact pressure at the time of the test, but a large pressing amount is required to obtain a large contact pressure, but the amount is limited due to the shape of the needle. Yes,
In some cases, a large contact pressure could not be obtained.

【0052】そこで、第3の実施の形態では、図20乃
至図22に示すように、コンタクトピン3aの上方に湾
曲した先端S1と下方に湾曲した先端S2とを正常な先
端Sと整列させるため、樹脂フィルム201の上部に有
機または無機材料からなる強弾性フィルム400を、コ
ンタクトピン3aが突出する側の樹脂フィルム201
に、該コンタクトピン3aよりも短く突出するように重
ね合わせ、その状態でコンタクトプローブ200および
強弾性フィルム400を、トップクランプ111の第1
の突起112とボトムクランプ115とで挟持してなる
コンタクトプローブ挟持体110を採用した。この場
合、強弾性フィルム400は、その先端側が下方に向け
て折曲され、上方に湾曲した先端S1を押圧するように
なっている。
Therefore, in the third embodiment, as shown in FIGS. 20 to 22, the tip S1 curved upward and the tip S2 curved downward of the contact pin 3a are aligned with the normal tip S. A ferroelastic film 400 made of an organic or inorganic material is provided on the resin film 201, and the resin film 201 on the side from which the contact pins 3a protrude.
The contact probe 200 and the ferroelastic film 400 are then overlapped with each other so as to protrude shorter than the contact pins 3a.
The contact probe holding body 110 sandwiched between the protrusion 112 and the bottom clamp 115 is employed. In this case, the distal end side of the ferroelastic film 400 is bent downward to press the upwardly curved distal end S1.

【0053】なお、強弾性フィルム400は、有機材料
であれば、ポリエチレンテレフタレートなどからなり、
無機材料であれば、セラミックス、特にアルミナ製フィ
ルムからなることが好ましい。また、本実施形態のよう
にコンタクトピン3aをLCD90の端子面に平行に配
設する場合には、上方に湾曲した先端S1を適宜押圧で
きるように、前記強弾性フィルム400の先端側を下方
に向けて折曲させるが、コンタクトピン3aを前記端子
面に対して傾斜させて配設する場合には、強弾性フィル
ム400を折曲しなくても前記先端S1を押圧すること
ができる。
The ferroelastic film 400 is made of an organic material such as polyethylene terephthalate.
As long as the material is an inorganic material, it is preferable that the material is made of ceramics, particularly an alumina film. When the contact pins 3a are arranged in parallel with the terminal surface of the LCD 90 as in the present embodiment, the tip side of the ferroelastic film 400 is turned downward so that the tip S1 curved upward can be appropriately pressed. When the contact pins 3a are arranged to be inclined with respect to the terminal surface, the tip S1 can be pressed without bending the ferroelastic film 400.

【0054】このコンタクトプローブ挟持体110を額
縁状フレーム120(図17参照)に固定し、コンタク
トピン3aをLCD90の端子に押し当てると、強弾性
フィルム400がコンタクトピン3aを上方から押さ
え、前記上方に湾曲した先端S1であってもLCD90
の端子に確実に接触する。これにより、各コンタクトピ
ン3aに均一な接触圧が得られ、接触不良による測定ミ
スをなくすことができる。
When the contact probe holding body 110 is fixed to the frame-shaped frame 120 (see FIG. 17) and the contact pins 3a are pressed against the terminals of the LCD 90, the ferroelastic film 400 presses the contact pins 3a from above. Even if the tip S1 is curved, the LCD 90
Make sure to contact the terminal of Thereby, a uniform contact pressure is obtained for each contact pin 3a, and measurement errors due to poor contact can be eliminated.

【0055】さらに、強弾性フィルム400からのコン
タクトピン3aの突出量を変化させることにより、コン
タクトピン3aを押しつけたときにコンタクトピン3a
を上から押さえるタイミングを変えることが可能とな
り、所望の押しつけ量で所望の接触圧を得ることができ
る。
Further, by changing the amount of protrusion of the contact pin 3a from the ferroelastic film 400, the contact pin 3a is pressed when the contact pin 3a is pressed.
Can be changed at the time of pressing from above, and a desired contact pressure can be obtained with a desired pressing amount.

【0056】上記第3の実施形態におけるLCD用プロ
ーブ装置100の場合、コンタクトピン3aを、図22
に示すように、例えば端子面に対して平行に配設した場
合には該コンタクトピン3aと端子面との間に角度が無
い分、特に、前記ピン先端が上方に湾曲したものS1が
存在していると、オーバードライブしてもコンタクトが
不確実となることが考えられるが、本プローブ装置10
0では、その危惧がない。
In the case of the LCD probe device 100 according to the third embodiment, the contact pin 3a is
As shown in the figure, for example, when the contact pins 3a are arranged in parallel to the terminal surface, there is no angle between the contact pin 3a and the terminal surface. In this case, the contact may be uncertain even if the overdrive is performed.
At 0, there is no fear.

【0057】次に、図23および図24を参照して、第
4の実施形態について説明する。図23に示すように、
樹脂フィルム201の上に金属フィルム500を張り付
け、その上にさらに第2の樹脂フィルム202を張り付
ける構成を採用するとともに、図24に示すように、こ
の第2の樹脂フィルム202の上に強弾性フィルム40
0を設けたものである。ここで、第2の樹脂フィルム2
02を設けたのは、コンタクトプローブ200とTAB
IC300の端子301とを接続させるべく、トップク
ランプ111の突起113で端子301を押さえたとき
に、金属フィルム500とTABIC300の端子30
1とのショートを防ぐためである。また、第2の樹脂フ
ィルム202を設けることで、金属フィルム500の表
面が覆われることになり、大気中での酸化の進行を有効
に抑えることができる。
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIG.
A configuration in which a metal film 500 is adhered on the resin film 201 and a second resin film 202 is further adhered on the metal film 500 is adopted, and as shown in FIG. Film 40
0 is provided. Here, the second resin film 2
02 is provided by contact probe 200 and TAB
When the terminal 301 is pressed by the protrusion 113 of the top clamp 111 to connect the terminal 301 of the IC 300, the metal film 500 and the terminal 30 of the TABIC 300 are pressed.
This is to prevent a short circuit with 1. In addition, by providing the second resin film 202, the surface of the metal film 500 is covered, and the progress of oxidation in the atmosphere can be effectively suppressed.

【0058】次に、図25および図26を参照して、第
5の実施形態について説明する。上述した実施形態で
は、強弾性フィルム400がコンタクトピン3aに押圧
接触しており、繰り返しの使用により強弾性フィルム4
00とコンタクトピン3aの摩擦が繰り返され、これに
よる歪みが蓄積されると、コンタクトピン3aが左右に
曲がり、接触点がずれることがあった。
Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIGS. In the embodiment described above, the ferroelastic film 400 is in pressure contact with the contact pins 3a, and the ferroelastic film 4
When the friction between the contact pin 3a and the contact pin 3a is repeated, and the distortion caused by the friction is accumulated, the contact pin 3a may bend right and left, and the contact point may be shifted.

【0059】そこで、第5の実施形態では、図25に示
すように、前記樹脂フィルム201を従来よりも幅広な
フィルム201aとするとともに、コンタクトピン3a
の金属フィルム500からの突出長さをX1、幅広樹脂
フィルム201aの金属フィルム500からの突出長さ
をX2とすると、X1>X2とする構成を採用した。そ
して、図26に示すように、前記強弾性フィルム400
を幅広樹脂フィルム201aよりも短く突出するように
重ねて使用すると、強弾性フィルム400は、柔らかい
幅広樹脂フィルム201aに接触し、コンタクトピン3
aとは直接接触しないため、コンタクトピン3aが左右
に曲がることが防止できる。
Therefore, in the fifth embodiment, as shown in FIG. 25, the resin film 201 is formed into a wider film 201a than the conventional one and the contact pins 3a are formed.
X1> X2, where X1 is the protruding length from the metal film 500 and X2 is the protruding length of the wide resin film 201a from the metal film 500. Then, as shown in FIG.
Are used so as to project shorter than the wide resin film 201a, the ferroelastic film 400 comes into contact with the soft wide resin film 201a and the contact pins 3
Since the contact pin 3a does not directly contact the contact pin 3a, the contact pin 3a can be prevented from bending left and right.

【0060】上記第5実施形態におけるLCD用プロー
ブ装置100では、前記幅広フィルム201aが前記強
弾性フィルム400よりも先端側に長く形成されて該強
弾性フィルム400がコンタクトピン3aを押圧すると
きに緩衝材となるため、繰り返しオーバードライブをか
けても、強弾性フィルム400との摩擦によりコンタク
トピン3aが歪んで湾曲すること等がなく、端子に対し
て安定した接触を保つことができる。この場合、図26
に示すように、コンタクトピン3aを、例えば端子面に
対して平行に配設した場合には該コンタクトピン3aと
端子面との間に角度が無い分、特に、前記ピン3aに湾
曲したもの等が存在していると、オーバードライブして
もコンタクトが不確実となることが考えられるが、本プ
ローブ装置100では、その危惧がない。
In the LCD probe device 100 according to the fifth embodiment, the wide film 201a is formed longer on the tip side than the ferroelastic film 400 so that the ferroelastic film 400 cushions when pressing the contact pin 3a. As a result, even if overdrive is repeatedly applied, the contact pins 3a are not distorted and bent due to friction with the ferroelastic film 400, and stable contact with the terminal can be maintained. In this case, FIG.
As shown in the figure, when the contact pin 3a is arranged in parallel with the terminal surface, for example, there is no angle between the contact pin 3a and the terminal surface, and in particular, the pin 3a is curved. Is present, it is conceivable that the contact will be uncertain even if overdriven, but in the present probe apparatus 100, there is no danger.

【0061】次に、図27および図28を参照して、第
6の実施の形態について説明する。金属フィルム500
の上に第2の樹脂フィルム202を張り付け、その場
合、コンタクトピン3aの金属フィルム500からの突
出長さをX1、幅広樹脂フィルム201aの金属フィル
ム500からの突出長さをX2とすると、X1>X2の
関係になるように構成する。そして、図28に示すよう
に、第2の樹脂フィルム202の上に設ける強弾性フィ
ルム400は、幅広樹脂フィルム201aよりも短く突
出するように重ねるようにしてもよい。
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIGS. Metal film 500
In this case, if the length of the contact pins 3a protruding from the metal film 500 is X1, and the length of the wide resin film 201a protruding from the metal film 500 is X2, X1> It is configured so as to have a relationship of X2. Then, as shown in FIG. 28, the ferroelastic film 400 provided on the second resin film 202 may be overlapped so as to project shorter than the wide resin film 201a.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明は、以上説明したとおりに構成さ
れているので、以下に記載するような効果を奏する。本
発明のコンタクトプローブおよびその製造方法は、コン
タクトピンをその先端部が本体部の下面より垂直に突出
した状態で一体成形するので、前記先端部の寸法を高精
度にして、先端部の高さを各ピンにおいて揃えることが
でき、従来のような研磨が不要になる。結果的に、接触
精度が向上し、オーバードライブ量が少なくて済む。ま
た、パッドがアルミニウムと比較して軟質な材料(例え
ば金)により形成されている場合、コンタクトプローブ
をパッド面に対して平行に配設し、オーバードライブを
かけるだけで、コンタクトピンの先端部がパッドに接触
し、下地に傷を付けることなく良好な導電性を確保する
ことができる。このことから、従来に比べて、コンタク
トプローブを組み込むための部品や治具等の構造が単純
化され、加工を容易にすることができる。さらに、コン
タクトピンの先端部の下面が平面であっても、オーバー
ドライブ量を増加させることにより、針圧を高くでき
て、パッドに対して食い込むため、良好なコンタクトを
得ることができる。コンタクトピンの先端部は本体部よ
りも硬い材料で形成されているので、この先端部の耐摩
耗性が向上して、コンタクトピン全体の寿命が延びる。
そして、前記先端部はその下端に向けて断面積が漸次小
さくなる形状とされているので、例えばコンタクトピン
をパッド面に対して平行に配設した場合であっても、オ
ーバードライブ時に前記先端部は、局部的針圧が高く、
パッドに対して食いつき易く、その結果、アルミニウム
の表面酸化膜を良好に破ることができる。第1の金属層
の厚さにより、コンタクトピンの先端部の高さを容易に
調整できる。ボールまたは針の表面を予め粗くすること
により、ボール(または針)はベースメタル層に安定に
支持されるとともに、ボール(または針)と第2の金属
層との接着強度が高くなる。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. In the contact probe and the method of manufacturing the same according to the present invention, since the contact pin is integrally formed with its tip end vertically protruding from the lower surface of the main body, the dimension of the tip is made highly accurate, and the height of the tip is increased Can be aligned at each pin, and the conventional polishing is not required. As a result, the contact accuracy is improved and the amount of overdrive is reduced. When the pad is made of a material softer than aluminum (for example, gold), the contact probe is arranged in parallel to the pad surface, and only the overdrive is applied. Good conductivity can be ensured without contacting the pad and damaging the base. This simplifies the structure of components, jigs, and the like for incorporating the contact probe as compared with the related art, and facilitates processing. Further, even if the lower surface of the tip portion of the contact pin is flat, the needle pressure can be increased by increasing the overdrive amount, and the contact pin bites into the pad, so that a good contact can be obtained. Since the tip of the contact pin is formed of a material harder than the body, the wear resistance of the tip is improved, and the life of the entire contact pin is extended.
Since the tip has a shape in which the cross-sectional area gradually decreases toward the lower end thereof, even when, for example, a contact pin is arranged in parallel to the pad surface, the tip is overdriven. Has high local stylus pressure,
It is easy to bite against the pad, and as a result, the surface oxide film of aluminum can be broken well. The height of the tip of the contact pin can be easily adjusted by the thickness of the first metal layer. By roughening the surface of the ball or the needle in advance, the ball (or the needle) is stably supported by the base metal layer, and the bonding strength between the ball (or the needle) and the second metal layer is increased.

【0063】また、前記フィルムには、金属フィルムが
直接張り付けられて設けられているため、前記フィルム
が、例えば水分を吸収して伸張し易い樹脂フィルム等で
あっても、該金属フィルムにより前記フィルムの伸びが
抑制される。したがって、フィルムの伸びによってコン
タクトピンのピッチがずれることがなく、各パッドとの
確実なコンタクトをとることができる。
Further, since a metal film is directly attached to the film, even if the film is, for example, a resin film which easily absorbs moisture and stretches, the metal film is used for the film. Is suppressed. Therefore, the pitch of the contact pins does not shift due to the extension of the film, and reliable contact with each pad can be obtained.

【0064】さらに、前記金属フィルムに、第2のフィ
ルムが直接張り付けられて設けられているため、各種部
品によるコンタクトプローブの組み込み時の締付けに対
して緩衝材となるという効果が得られる。したがって、
組み込み時に配線パターンに与えるダメージを軽減させ
ることができる。また、LCD用のものにあっては、金
属フィルムとTABICの端子とのショートを防止する
ことができる。
Further, since the second film is provided directly on the metal film, the second film can serve as a cushioning material against tightening when the contact probe is assembled by various components. Therefore,
Damage to the wiring pattern during assembling can be reduced. Further, in the case of the LCD, it is possible to prevent a short circuit between the metal film and the terminal of the TABIC.

【0065】本発明のプローブ装置によれば、強弾性フ
ィルムがコンタクトピンの先端を上方から押さえるた
め、ピン先端が上方に湾曲したものが存在しても、パッ
ドに確実に接触させることができ、各ピンに均一な接触
圧が得られるところから接触不良による測定ミスをなく
すことができる。この場合、コンタクトピンを、例えば
パッド面に対して平行に配設した場合には該コンタクト
ピンとパッド面との間に角度が無い分、特に、前記ピン
先端が上方に湾曲したものが存在していると、オーバー
ドライブしてもコンタクトが不確実となることが考えら
れるが、本プローブ装置では、その虞がない。
According to the probe device of the present invention, since the ferroelastic film presses the tip of the contact pin from above, even if the pin tip is curved upward, it can be reliably brought into contact with the pad. Since a uniform contact pressure is obtained for each pin, measurement errors due to poor contact can be eliminated. In this case, when the contact pins are arranged, for example, in parallel to the pad surface, there is no angle between the contact pins and the pad surface, and in particular, there are those in which the pin tips are curved upward. In such a case, the contact may be uncertain even if the overdrive is performed. However, in the present probe apparatus, there is no danger.

【0066】また、前記フィルムが前記強弾性フィルム
よりも先端側に長く形成されて該強弾性フィルムがコン
タクトピンを押圧するときに緩衝材となるため、繰り返
しオーバードライブをかけても、強弾性フィルムとの摩
擦によりコンタクトピンが歪んで湾曲すること等がな
く、パッドに対して安定した接触を保つことができる。
この場合、コンタクトピンを、例えばパッド面に対して
平行に配設した場合には該コンタクトピンとパッド面と
の間に角度が無い分、特に、前記ピンに湾曲したもの等
が存在していると、オーバードライブしてもコンタクト
が不確実となることが考えられるが、本プローブ装置で
は、その虞がない。
Further, since the film is formed longer on the distal end side than the ferroelastic film and serves as a buffer when the contact pin is pressed, the ferroelastic film can be repeatedly applied even if overdrive is applied. The contact pin is not distorted and curved due to friction with the pad, and stable contact with the pad can be maintained.
In this case, when the contact pins are arranged, for example, in parallel to the pad surface, there is no angle between the contact pins and the pad surface. Although it is conceivable that the contact becomes uncertain even if the overdrive is performed, there is no danger in the present probe device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るコンタクトプローブの製造方法
の第1の実施形態における第1の露光工程等を示す要部
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a main part showing a first exposure step and the like in a first embodiment of a method for manufacturing a contact probe according to the present invention.

【図2】 (a)は本発明に係るコンタクトプローブの
製造方法の第1の実施形態における第1の露光工程後の
斜視図、(b)は(a)のX−X線断面図である。
2A is a perspective view after a first exposure step in a first embodiment of a method for manufacturing a contact probe according to the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. .

【図3】 本発明に係るコンタクトプローブの製造方法
の第1の実施形態におけるボール挿入工程を示し、
(a)はハーフエッチング工程、(b)はボール押し込
み工程、(c)はメッキ処理工程を示し、(d)はボー
ルに代えて針を用いた場合を示す図である。
FIG. 3 shows a ball inserting step in the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention,
(A) shows a half etching step, (b) shows a ball pushing step, (c) shows a plating step, and (d) shows a case where a needle is used instead of a ball.

【図4】 (a)は本発明に係るコンタクトプローブの
製造方法の第1の実施形態における第2の露光工程前を
示す斜視図、(b)は(a)のY−Y線断面図である。
FIG. 4A is a perspective view showing a state before a second exposure step in the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention, and FIG. 4B is a sectional view taken along line YY of FIG. is there.

【図5】 (a)は本発明に係るコンタクトプローブの
製造方法の第1の実施形態における第2の露光工程後を
示す斜視図、(b)は(a)のZ−Z線断面図である。
FIG. 5A is a perspective view showing a state after a second exposure step in the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line ZZ of FIG. is there.

【図6】 本発明に係るコンタクトプローブの製造方法
の第1の実施形態における電解メッキ工程後の断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view after an electrolytic plating step in the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention.

【図7】 図6の状態から第2のフォトレジスト層9を
除去した状態を示す断面図である。
7 is a cross-sectional view showing a state where the second photoresist layer 9 has been removed from the state of FIG.

【図8】 は本発明に係るコンタクトプローブの製造方
法の第1の実施形態におけるフィルム接着工程後の断面
図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view after a film bonding step in the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention.

【図9】 (a)は本発明に係るコンタクトプローブの
製造方法の第1の実施形態における最終段階の要部概略
斜視図であり、(b)は断面図である。
9A is a schematic perspective view of a main part at a final stage in a first embodiment of a method for manufacturing a contact probe according to the present invention, and FIG. 9B is a cross-sectional view.

【図10】 本発明に係るコンタクトプローブの製造方
法の第1の実施形態により製造されたコンタクトプロー
ブを組み込んだプローブ装置の一例を示す側面図であ
る。
FIG. 10 is a side view showing an example of a probe device incorporating the contact probe manufactured according to the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention.

【図11】 本発明に係るコンタクトプローブの製造方
法の第1の実施形態により製造されたコンタクトプロー
ブを示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a contact probe manufactured according to the first embodiment of the method for manufacturing a contact probe according to the present invention.

【図12】 図11のC−C線断面図である。FIG. 12 is a sectional view taken along line CC of FIG. 11;

【図13】 本発明に係るコンタクトプローブの第1の
実施形態において金属フィルムを説明するための正面図
である。
FIG. 13 is a front view for explaining a metal film in the first embodiment of the contact probe according to the present invention.

【図14】 本発明に係るプローブ装置の第2の実施形
態におけるコンタクトプローブを示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a contact probe in a second embodiment of the probe device according to the present invention.

【図15】 図14のA−A線断面図である。FIG. 15 is a sectional view taken along line AA of FIG. 14;

【図16】 本発明に係るプローブ装置の第2の実施形
態におけるコンタクトプローブ挟持体を示す分解斜視図
である。
FIG. 16 is an exploded perspective view showing a contact probe holding body in a second embodiment of the probe device according to the present invention.

【図17】 本発明に係るプローブ装置の第2の実施形
態におけるプローブ装置を示す斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view showing a probe device according to a second embodiment of the probe device according to the present invention.

【図18】 本発明に係るプローブ装置の第2の実施形
態におけるコンタクトプローブ挟持体を示す斜視図であ
る。
FIG. 18 is a perspective view showing a contact probe holding body in a probe device according to a second embodiment of the present invention.

【図19】 図17のB−B線断面図である。FIG. 19 is a sectional view taken along line BB of FIG. 17;

【図20】 本発明に係るプローブ装置の第3の実施形
態に関してコンタクトプローブの従来の欠点を示す側面
図である。
FIG. 20 is a side view showing a conventional drawback of a contact probe with respect to the third embodiment of the probe device according to the present invention.

【図21】 本発明に係るプローブ装置の第3の実施形
態に関してプローブ装置の従来の欠点を示す側面図であ
る。
FIG. 21 is a side view showing a conventional disadvantage of the probe device with respect to the third embodiment of the probe device according to the present invention.

【図22】 本発明に係るプローブ装置の第3の実施形
態におけるプローブ装置を示す側面図である。
FIG. 22 is a side view showing a probe device according to a third embodiment of the probe device according to the present invention.

【図23】 本発明に係るコンタクトプローブの第4の
実施形態におけるコンタクトプローブを示す側面図であ
る。
FIG. 23 is a side view showing a contact probe in a fourth embodiment of the contact probe according to the present invention.

【図24】 本発明に係るプローブ装置の第4の実施形
態におけるプローブ装置を示す側面図である。
FIG. 24 is a side view showing a probe device in a fourth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図25】 本発明に係るプローブ装置の第5の実施形
態におけるコンタクトプローブを示す側面図である。
FIG. 25 is a side view showing a contact probe in a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図26】 本発明に係るプローブ装置の第5の実施形
態におけるプローブ装置を示す側面図である。
FIG. 26 is a side view showing a probe device according to a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図27】 本発明に係るプローブ装置の第6の実施形
態におけるコンタクトプローブを示す側面図である。
FIG. 27 is a side view showing a contact probe in a sixth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図28】 本発明に係るプローブ装置の第6の実施形
態におけるプローブ装置を示す側面図である。
FIG. 28 is a side view showing a probe device in a sixth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図29】 従来のコンタクトプローブを示す要部斜視
図である。
FIG. 29 is a perspective view of a main part showing a conventional contact probe.

【図30】 従来のコンタクトプローブを組み込んだプ
ローブ装置の一例を示す側面図である。
FIG. 30 is a side view showing an example of a probe device incorporating a conventional contact probe.

【図31】 従来のコンタクトプローブにおいてコンタ
クトピンの先端を折り曲げた例を示す図である。
FIG. 31 is a view showing an example in which the tip of a contact pin is bent in a conventional contact probe.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンタクトプローブ 2 フィルム(樹脂フィルム) 2a 接着剤 2e フィルム面 2k フィルム先端部 3 パターン配線 3a,3a2 コンタクトピン 3b 下面 3K 本体部 3T 先端部(接触部) 5 基板層(支持金属板) 6 第1の金属層(ベースメタル層) 6a 開口部 7 第1のフォトレジスト層(第1のマ
スク) 7a マスクされていない部分(開口部) 8a 第1のフォトマスク 9 第2のフォトレジスト層(第2のマ
スク) 9a 開口部 10 引き出し用配線 10b 第2のフォトマスク 11 窓 20 基板(プリント基板) 30,31,50 部品 70 プローブ装置(プローブカード) 90 LCD 100 プローブ装置 110 コンタクトプローブ挟持体 111 トップクランプ 112 第1の突起 113 第2の突起 114 第3の突起 115 ボトムクランプ 120 額縁状フレーム 130 ボルト 200 コンタクトプローブ 201 フィルム 201a フィルム(幅広フィルム) 202 第2のフィルム 300 回路(TABIC) 301 端子 400 強弾性フィルム 500 金属フィルム N 第2の金属層(NiまたはNi合金
層) P,P2 パッド Pa パッド面 S,S1,S2 先端 θ 接触角
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Contact probe 2 Film (resin film) 2a Adhesive 2e Film surface 2k Film tip 3 Pattern wiring 3a, 3a2 Contact pin 3b Lower surface 3K Body 3T Tip (contact part) 5 Substrate layer (support metal plate) 6 First Metal layer (base metal layer) 6a opening 7 first photoresist layer (first mask) 7a unmasked portion (opening) 8a first photomask 9 second photoresist layer (second 9a opening 10 lead-out wiring 10b second photomask 11 window 20 substrate (printed circuit board) 30, 31, 50 component 70 probe device (probe card) 90 LCD 100 probe device 110 contact probe holding body 111 top clamp 112 first protrusion 113 second protrusion 114 third Start 115 Bottom clamp 120 Picture frame 130 Bolt 200 Contact probe 201 Film 201a Film (wide film) 202 Second film 300 Circuit (TABIC) 301 Terminal 400 Strong elastic film 500 Metal film N Second metal layer (Ni or Ni) Alloy layer) P, P2 Pad Pa Pad surface S, S1, S2 Tip θ Contact angle

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のパターン配線(3)がフィルム
(2,201,201a)上に形成されこれらのパター
ン配線(3)の各先端が前記フィルム(2,201,2
01a)から突出状態に配されてコンタクトピン(3
a)とされるコンタクトプローブ(1,200)であっ
て、 前記コンタクトピン(3a)は、その本体部(3K)に
対して先端部(3T)が下方へ垂直に突出した状態で一
体成形されたものであり、かつ前記先端部(3T)は前
記本体部(3K)よりも硬くかつ導電性の材料で形成さ
れていることを特徴とするコンタクトプローブ。
1. A plurality of pattern wirings (3) are formed on a film (2, 201, 201a), and the tips of these pattern wirings (3) are connected to the film (2, 201, 201a).
01a) and the contact pins (3
a) a contact probe (1, 200), wherein the contact pin (3a) is integrally formed with its tip (3T) vertically projecting downward with respect to its main body (3K). A contact probe, wherein the tip (3T) is made of a conductive material that is harder than the main body (3K).
【請求項2】 前記先端部(3T)はその下端に向けて
断面積が漸次小さくなる形状とされている請求項1に記
載のコンタクトプローブ。
2. The contact probe according to claim 1, wherein the tip portion (3T) has a shape whose sectional area gradually decreases toward a lower end thereof.
【請求項3】 前記先端部(3T)にタングステン製の
ボールまたは針を含む請求項1または請求項2に記載の
コンタクトプローブ。
3. The contact probe according to claim 1, wherein the tip (3T) includes a ball or needle made of tungsten.
【請求項4】 前記フィルム(2,201,201a)
には、金属フィルム(500)が直接張り付けられて設
けられている請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記
載のコンタクトプローブ。
4. The film (2, 201, 201a)
The contact probe according to any one of claims 1 to 3, wherein a metal film (500) is directly attached to the contact probe.
【請求項5】 前記金属フィルム(500)には、第2
のフィルム(202)が直接張り付けられて設けられて
いる請求項4に記載のコンタクトプローブ。
5. The metal film (500) has a second
The contact probe according to claim 4, wherein the film (202) is directly attached.
【請求項6】 基板層(5)の上に、コンタクトピン
(3a)の先端部(3T)に被着又は結合する材質から
なる第1の金属層(6)を形成する金属層形成工程と、 第1の金属層(6)の上に第1のマスク(7)を施し
て、この第1のマスク(7)に、前記コンタクトピン
(3a)の先端部(3T)を挿入するための開口部(7
a)を形成する第1のパターン形成工程と、 前記コンタクトピン(3a)の本体部(3K)よりも硬
くかつ導電性の材料からなる先端部(3T)を前記開口
部(7a)に挿入して、前記第1の金属層(6)に押付
ける先端部挿入工程と、 第1の金属層(6)の上に第2のマスク(9)を施し
て、この第2のマスク(9)に、前記コンタクトピン
(3a)の本体部(3K)を形成するための開口部(9
a)を、その一端部が前記第1のマスク(7)の前記開
口部(7a)に重なるように形成する第2のパターン形
成工程と、 前記第1のマスク(7)の各開口部(7a)および第2
のマスク(9)の各開口部(9a)に、コンタクトピン
(3a)に供される第2の金属層(N1,N)をメッキ
処理により形成するメッキ処理工程と、 第2のマスク(9)を除いた第2の金属層(N)の上に
前記コンタクトピン(3a)に供される部分以外をカバ
ーするフィルム(2,201,201a)を被着する被
着工程と、 前記フィルム(2,201,201a)と前記第2の金
属層(N)からなる部分から、前記基板層(5)と前記
第1の金属層(6)と第1のマスク(7)からなる部分
を分離する分離工程と、を備えていることを特徴とする
コンタクトプローブの製造方法。
6. A metal layer forming step of forming, on a substrate layer (5), a first metal layer (6) made of a material to be attached to or bonded to a tip portion (3T) of a contact pin (3a). A first mask (7) is applied on the first metal layer (6), and the tip (3T) of the contact pin (3a) is inserted into the first mask (7). Opening (7
a) forming a first pattern forming step, and inserting a tip (3T) made of a conductive material harder than the main body (3K) of the contact pin (3a) into the opening (7a). A tip insertion step of pressing against the first metal layer (6); and applying a second mask (9) on the first metal layer (6) to form a second mask (9). An opening (9) for forming a main body (3K) of the contact pin (3a) is formed.
a) forming one end of the first mask (7) so as to overlap the opening (7a) of the first mask (7); and each opening (1) of the first mask (7). 7a) and the second
A plating process of forming a second metal layer (N 1 , N) to be provided to the contact pin (3a) by plating in each opening (9a) of the mask (9); An application step of applying a film (2, 201, 201a) covering a portion other than a portion provided for the contact pin (3a) on the second metal layer (N) excluding 9); (2, 201, 201a) and the portion composed of the second metal layer (N) from the portion composed of the substrate layer (5), the first metal layer (6) and the first mask (7) A method for manufacturing a contact probe, comprising: a separating step of separating.
【請求項7】 前記先端部(3T)はボール(B)また
は針である請求項6に記載のコンタクトプローブの製造
方法。
7. The method according to claim 6, wherein the tip (3T) is a ball (B) or a needle.
【請求項8】 前記第1のマスク(7)の各開口部(7
a)に第2の金属層(N1)を形成する工程を、前記先
端部挿入工程後に行う請求項6または請求項7に記載の
コンタクトプローブの製造方法。
8. Each opening (7) of said first mask (7).
The method for manufacturing a contact probe according to claim 6 or 7, wherein the step of forming a second metal layer (N 1 ) on a) is performed after the step of inserting the distal end portion.
【請求項9】 前記先端部(3T)の表面を予め粗く加
工しておく請求項6乃至請求項8のいずれか1項に記載
のコンタクトプローブの製造方法。
9. The method for manufacturing a contact probe according to claim 6, wherein a surface of said tip portion (3T) is roughened in advance.
【請求項10】 請求項1乃至請求項5のいずれか1項
に記載のコンタクトプローブ(200)をパターン配線
(3)の各基端に接続される端子(301)を有する回
路(300)に接続してなるプローブ装置(100)で
あって、 このプローブ装置(100)は、前記フィルム(20
1,201a)上に配されて該フィルム(201,20
1a)から前記コンタクトピン(3a)よりも短く突出
する強弾性フィルム(400)と、 この強弾性フィルム(400)と前記コンタクトプロー
ブ(200)とを挟持するコンタクトプローブ挟持体
(110)とを備えていることを特徴とするプローブ装
置。
10. A circuit (300) having a terminal (301) connected to each base end of a pattern wiring (3) by using the contact probe (200) according to any one of claims 1 to 5. A probe device (100) connected to the film (20);
, 201a) and the film (201,20).
1a) a ferroelastic film (400) projecting shorter than the contact pin (3a), and a contact probe holding body (110) for holding the ferroelastic film (400) and the contact probe (200). A probe device.
【請求項11】 請求項6乃至請求項9のいずれか1項
に記載の製造方法により製造されたコンタクトプローブ
(200)をパターン配線(3)の各基端に接続される
端子(301)を有する回路(300)に接続してなる
プローブ装置(100)であって、 このプローブ装置(100)は、前記フィルム(20
1,201a)上に配されて該フィルム(201,20
1a)から前記コンタクトピン(3a)よりも短く突出
する強弾性フィルム(400)と、 この強弾性フィルム(400)と前記コンタクトプロー
ブ(200)とを挟持するコンタクトプローブ挟持体
(110)とを備えていることを特徴とするプローブ装
置。
11. A terminal (301) connected to each base end of a pattern wiring (3) using a contact probe (200) manufactured by the manufacturing method according to claim 6. A probe device (100) connected to a circuit (300) having the film (20).
, 201a) and the film (201,20).
1a) a ferroelastic film (400) projecting shorter than the contact pin (3a), and a contact probe holding body (110) for holding the ferroelastic film (400) and the contact probe (200). A probe device.
【請求項12】 請求項10または請求項11に記載の
プローブ装置(100)において、前記フィルム(20
1a)は、前記強弾性フィルム(400)が前記コンタ
クトピン(3a)を押圧するときに緩衝材となるように
前記強弾性フィルム(400)よりも先端側に長く形成
されていることを特徴とするプローブ装置。
12. The probe device (100) according to claim 10, wherein the film (20) is provided.
1a) is characterized in that the ferroelastic film (400) is formed longer on the tip side than the ferroelastic film (400) so as to serve as a buffer when pressing the contact pin (3a). Probe device.
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