JPH10154321A - Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium and their production - Google Patents
Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium and their productionInfo
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- JPH10154321A JPH10154321A JP28144597A JP28144597A JPH10154321A JP H10154321 A JPH10154321 A JP H10154321A JP 28144597 A JP28144597 A JP 28144597A JP 28144597 A JP28144597 A JP 28144597A JP H10154321 A JPH10154321 A JP H10154321A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
記録媒体として使用される磁気記録媒体、その磁気記録
媒体の基板として用いられるガラス基板、及びそれらの
製造方法に関する。The present invention relates to a magnetic recording medium used as a recording medium of a computer or the like, a glass substrate used as a substrate of the magnetic recording medium, and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁気ディスク等の磁気記録媒体用ガラス
基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた
が、磁気ディスクの小型・薄板化と、高密度記録化に伴
い、アルミニウム基板に比べ強度及び平坦性に優れたガ
ラス基板に徐々に置き換わりつつある。2. Description of the Related Art Aluminum substrates have been widely used as glass substrates for magnetic recording media such as magnetic disks. However, as magnetic disks have become smaller and thinner and higher density recording has been required, the strength and strength of aluminum substrates have been reduced. It is gradually being replaced by a glass substrate with excellent flatness.
【０００３】また、磁気ヘッドの方も高密度記録化に伴
って、薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッ
ド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移
してきている。したがって、ガラス基板を用いた磁気記
録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生することが、これから
の大きな潮流となることが予想されている。[0003] In addition, the magnetic head has also been changing from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head) with the increase in recording density. Therefore, it is expected that reproducing a magnetic recording medium using a glass substrate with a magnetoresistive head will be a great trend in the future.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラス基板
を用いた磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生する
際、記録密度の向上を求めてヘッドのフライングハイト
（浮上高さ）を下げると、再生の誤動作、あるいは、再
生が不可能になる現象に遭遇することがあり、問題とな
っている。By the way, when a magnetic recording medium using a glass substrate is reproduced by a magnetoresistive head, if the flying height (flying height) of the head is reduced in order to improve the recording density, the reproduction is not possible. Erroneous operation or a phenomenon in which reproduction becomes impossible, which is a problem.
【０００５】本発明は上記問題点にかんがみてなされた
ものであり、ヘッドのフライングハイトを下げた場合で
あっても、再生の誤動作や再生が不可能になる現象が生
ずることがなく、磁気抵抗型ヘッドによる再生に適した
磁気記録媒体及びその製造方法の提供を第一の目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and does not cause a malfunction of reproduction or a phenomenon that reproduction becomes impossible even when the flying height of the head is lowered. A first object is to provide a magnetic recording medium suitable for reproduction by a mold head and a method for manufacturing the same.
【０００６】また、上記磁気記録媒体の基板として用い
られるガラス基板及びその製造方法の提供を第二の目的
とする。A second object of the present invention is to provide a glass substrate used as a substrate of the magnetic recording medium and a method of manufacturing the same.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明者らは上述した再生の誤動作等の原因を究明し
たところ、磁気ディスク表面にガラス基板上のパーティ
クルによって形成された凸部が、サーマル・アスペリテ
ィ（Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｓｐｅｒｉｔｙ）となって、磁
気抵抗型ヘッドに熱が発生し、ヘッドの抵抗値を変動さ
せ、電磁変換に悪影響を与えていることがその原因であ
ることが判明した。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present inventors have investigated the causes of the above-mentioned malfunction of reproduction, and found that a convex portion formed by particles on a glass substrate on the surface of a magnetic disk. It has been found that the thermal asperity causes heat to be generated in the magnetoresistive head, which changes the resistance value of the head and adversely affects electromagnetic conversion.
【０００８】また、このサーマル・アスペリティは、ヘ
ッドクラッシュを調べるためのグライドテストを通過し
た磁気ディスクでも発生することがある。これは、サー
マル・アスペリティを引き起こすパーティクルとしては
種々考えられるが、ヘッドが浮上する際にヘッドの浮上
に急激な変化を起こさせる（浮上に悪影響を及ぼす）パ
ーティクル（例えば、角張ったパーティクルや、ディス
ク表面に対して比較的急峻な立ち上がりを持ったパーテ
ィクルなど）がその一因として考えられる。[0008] The thermal asperity may also occur on a magnetic disk that has passed a glide test for checking head crash. This can be considered as various particles that cause thermal asperity, but particles that cause a sudden change in the flying of the head when the head floats (has a negative effect on the flying) (for example, angular particles or disk surfaces) For example, particles having a relatively steep rise) can be considered as one of the causes.
【０００９】次に、ガラス基板上にパーティクルが発生
する原因を考察した。その結果、ガラス基板の端面（基
板側面及び面取部）が鏡面になっていないため、ガラス
基板、あるいは、ガラス基板を用いた磁気ディスクを、
ポリカーボネート等からなる収納容器に出し入れする際
に、収納容器の内周面とガラス基板等の端面とが接触
し、端面から発塵したパーティクルがガラス基板あるい
は磁気ディスク表面に付着していることが判った。Next, the cause of generation of particles on the glass substrate was considered. As a result, since the end surface (substrate side surface and chamfered portion) of the glass substrate is not mirrored, the glass substrate or the magnetic disk using the glass substrate
When taking in and out of the storage container made of polycarbonate or the like, it was found that the inner peripheral surface of the storage container came into contact with the end surface of the glass substrate or the like, and particles generated from the end surface adhered to the glass substrate or the surface of the magnetic disk. Was.
【００１０】そこで、本発明者らは、従来、ガラス基板
の強度の観点からしか考察されていなかったガラス基板
の端面（例えば、特開平７−２３０６２１号公報）に対
し、全く異なる観点であるサーマル・アスペリティを引
き起こすパーティクルの発生防止の観点からガラス基板
の端面を考察した。その結果、化学エッチングを施した
状態ではガラス基板の端面（基板側面及び面取部）は、
なし地状態の面（光沢のない面）になっており、ガラス
基板の端面を化学エッチングによって処理する等の従来
行われていた端面処理レベルでは不十分であり、サーマ
ル・アスペリティを引き起こすパーティクルが発生しな
いようなレベルまで、機械研磨等により端面を精密研磨
して、端面を従来にないレベルの鏡面とする必要がある
こと見出し本第一発明を完成するに至った。なお、化学
エッチングを施すと、ガラス基板の内周端面と外周端面
との間で芯ずれを起こしやすいという問題があり、この
面においてもガラス基板の端面に化学エッチングを施す
ことには問題がある。また、ガラス基板の側面と面取部
（連接面）とが交差する部位、及びガラス基板の主表面
と面取部（連接面）とが交差する部位が角張っており、
この角張った部位と収納容器とが擦れてパーティクルが
発生することが判った。この認識に基づいて、上述した
パーティクルが発生しないように角張った部位を曲面に
する必要があること見出し本第二発明を完成するに至っ
た。The inventors of the present invention have proposed a completely different viewpoint from the viewpoint of the end face of a glass substrate (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-230621), which has been considered only from the viewpoint of the strength of the glass substrate.・ The end face of the glass substrate was considered from the viewpoint of preventing generation of particles causing asperity. As a result, the end surface (substrate side surface and chamfered portion) of the glass substrate in the state where the chemical etching is performed is
The surface is in a plain state (matte surface), and the level of edge processing that has been conventionally performed, such as processing the edge of a glass substrate by chemical etching, is insufficient, and particles that cause thermal asperity are generated. It has been found that the end face needs to be precisely polished by mechanical polishing or the like to a level that does not cause the end face to have an unprecedented level of mirror surface, and the present invention has been completed. When chemical etching is performed, there is a problem that misalignment easily occurs between the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the glass substrate, and there is a problem in performing chemical etching on the end surface of the glass substrate also on this surface. . In addition, a portion where the side surface of the glass substrate intersects with the chamfered portion (joining surface) and a portion where the main surface of the glass substrate intersects with the chamfered portion (joining surface) are angular,
It was found that the angular portion and the storage container were rubbed against each other to generate particles. Based on this recognition, the inventors have found that it is necessary to make the angular portion a curved surface so that the above-mentioned particles are not generated, and have completed the second invention of the present invention.
【００１１】すなわち、本第一発明の磁気記録媒体用ガ
ラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取
部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面が、鏡面で
ある構成としてある。That is, the glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is configured such that at least one surface of the chamfered portion and the side wall portion is a mirror surface in the glass substrate for a magnetic recording medium.
【００１２】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａが、１
μｍ未満の鏡面である構成としてある。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness Ra of 1
The mirror surface is smaller than μm.
【００１３】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａが、
０．００１〜０．５μｍの範囲の鏡面である構成として
ある。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness Ra.
The mirror surface is in the range of 0.001 to 0.5 μm.
【００１４】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａが、
０．００１〜０．１μｍの範囲の鏡面である構成として
ある。Further, in the glass substrate for a magnetic recording medium of the first invention, the glass substrate for a magnetic recording medium has a surface roughness Ra of at least one of a chamfered portion and a side wall portion.
The mirror surface is in the range of 0.001 to 0.1 μm.
【００１５】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、Ｒｍａ
ｘ：０．０１〜４μｍの範囲の鏡面である構成としてあ
る。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness Rma.
x: Mirror surface in the range of 0.01 to 4 μm.
【００１６】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、Ｒｍａ
ｘ：０．０１〜２μｍの範囲の鏡面である構成としてあ
る。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness of Rma.
x: Mirror surface in the range of 0.01 to 2 μm.
【００１７】また、本第一発明の磁気記録媒体用ガラス
基板は、磁気記録媒体用ガラス基板において、面取部及
び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、Ｒｍａ
ｘ：０．０１〜１μｍの範囲の鏡面である構成としてあ
る。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness of Rma.
x: Mirror surface in the range of 0.01 to 1 μm.
【００１８】本第二発明の磁気記録媒体用ガラス基板
は、磁性層を含む薄膜を形成するガラス基板の主表面と
ガラス基板の側面との間に面取りによる面取部を設けた
磁気記録媒体用ガラス基板であって、ガラス基板の側面
と面取部との間、及びガラス基板の主表面と面取部との
間のうちの少なくとも一方に、半径０．２〜１０ｍｍの
曲面を介在させたことを特徴とする構成としてある。A glass substrate for a magnetic recording medium according to the second aspect of the present invention is a glass substrate for a magnetic recording medium having a chamfered portion formed by chamfering between a main surface of a glass substrate on which a thin film including a magnetic layer is formed and a side surface of the glass substrate. A glass substrate, wherein a curved surface having a radius of 0.2 to 10 mm was interposed between at least one of a side surface and a chamfered portion of the glass substrate and between a main surface of the glass substrate and a chamfered portion. This is a configuration characterized by the following.
【００１９】さらに、本発明の磁気記録媒体用ガラス基
板は、上記本第一又は第二発明の磁気記録媒体用ガラス
基板であって、表面粗さＲａが２ｎｍ以下の主表面を持
つ構成としてある。Further, the glass substrate for a magnetic recording medium according to the present invention is the glass substrate for a magnetic recording medium according to the first or second aspect of the present invention, and has a main surface having a surface roughness Ra of 2 nm or less. .
【００２０】また、本発明の磁気記録媒体は、上記本第
一又は第二発明の磁気記録媒体用ガラス基板上に、少な
くとも磁性層を形成した構成、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲ
ヘッド）又は大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対
応の磁気記録媒体である構成、あるいは、磁性層が、Ｃ
ｏＰｔ系の磁性層である構成としてある。The magnetic recording medium of the present invention has a structure in which at least a magnetic layer is formed on the glass substrate for a magnetic recording medium of the first or second invention, and a magnetoresistive head (MR).
Head) or a magnetic recording medium corresponding to a large magnetoresistive head (GMR head), or the magnetic layer
The structure is an oPt-based magnetic layer.
【００２１】さらに、本第一発明の磁気記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法は、サーマル・アスペリティを引き起
こすパーティクルの発生を防止するためガラス基板の端
面を鏡面研磨又は機械研磨する構成としてある。Further, the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention is configured such that the end surface of the glass substrate is mirror-polished or mechanically polished in order to prevent generation of particles that cause thermal asperity.
【００２２】また、本第二発明の磁気記録媒体用ガラス
基板の製造方法は、サーマル・アスペリティを引き起こ
すパーティクルの発生を防止するためにガラス基板の側
面と面取部とが交差する部位、及びガラス基板の主表面
と面取部とが交差する部位のうちの少なくとも一方を研
磨して曲面にすることを特徴とする構成としてある。Further, the method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to the second aspect of the present invention is a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, comprising the steps of: At least one of the intersections of the main surface of the substrate and the chamfered portion is polished to a curved surface.
【００２３】さらに、本発明の磁気記録媒体用ガラス基
板の製造方法は、上記製造方法において、研磨が、研磨
剤、固定砥粒、遊離砥粒、スラリーから選ばれた少なく
とも一種と、研磨ブラシ、研磨パッド、砥石から選ばれ
た一種とによって行われる構成としてある。Further, in the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention, the polishing method according to the above-mentioned method, wherein the polishing is performed by using at least one selected from an abrasive, fixed abrasive, free abrasive, and slurry; This is a configuration performed by a polishing pad and a kind selected from a grindstone.
【００２４】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、上記製造方法によって製造された磁気記録媒体用ガ
ラス基板上に、少なくとも磁性層を形成する構成として
ある。Further, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention has a configuration in which at least a magnetic layer is formed on a glass substrate for a magnetic recording medium manufactured by the above-described manufacturing method.
【００２５】[0025]
【作用】本第一発明では、ガラス基板の端面を従来にな
いレベルの鏡面としているので、サーマル・アスペリテ
ィの原因となるパーティクルが発生することがなく、サ
ーマル・アスペリティによる再生機能の低下を防止する
ことができる。特に、磁気抵抗型ヘッドで再生を行う磁
気記録媒体にとって必要不可欠の技術である。According to the first aspect of the present invention, since the end surface of the glass substrate is a mirror surface of an unprecedented level, particles which cause thermal asperity are not generated, and the deterioration of the reproducing function due to thermal asperity is prevented. be able to. In particular, it is an indispensable technique for a magnetic recording medium that performs reproduction with a magnetoresistive head.
【００２６】本第二発明では、ガラス基板の端面部分に
おける面取部の両端の角張った部位を曲面としてあるの
で、サーマル・アスペリティの原因となるパーティクル
が発生することがなく、サーマル・アスペリティによる
再生機能の低下を防止することができる。特に、磁気抵
抗型ヘッドで再生を行う磁気記録媒体にとって必要不可
欠の技術である。In the second aspect of the present invention, since the corners at both ends of the chamfered portion at the end surface of the glass substrate are curved, particles causing thermal asperity are not generated, and reproduction by thermal asperity is prevented. It is possible to prevent the function from lowering. In particular, it is an indispensable technique for a magnetic recording medium that performs reproduction with a magnetoresistive head.
【００２７】本第一及び第二発明では、サーマル・アス
ペリティの原因となるパーティクルが発生することがな
いので、ガラス基板上に磁性層等を形成して磁気記録媒
体を製造する際にガラス基板の主表面にサーマル・アス
ペリティの原因となるパーティクルによって形成される
凸部が発生せず、より高いレベルでヘッドクラッシュを
防止できる。According to the first and second aspects of the present invention, since particles which cause thermal asperity are not generated, a magnetic layer or the like is formed on a glass substrate to manufacture a magnetic recording medium. There is no projection formed by particles that cause thermal asperity on the main surface, so that a higher level of head crash can be prevented.
【００２８】同様に、磁気記録媒体の記録・再生面にお
いてもサーマル・アスペリティの原因となるパーティク
ルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベル
でヘッドクラッシュを防止できる。Similarly, on the recording / reproducing surface of the magnetic recording medium, there is no projection formed by particles that cause thermal asperity, and a head crash can be prevented at a higher level.
【００２９】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【００３０】まず、本第一発明について説明する。本第
一発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、ガラス基板の面
取部及び側壁部（側面部）のうちの少なくとも一方の面
の表面粗さが所定の値の鏡面であることを特徴とする。First, the first invention of the present invention will be described. The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first aspect of the invention is characterized in that at least one of the chamfered portion and the side wall (side surface) of the glass substrate is a mirror surface having a predetermined surface roughness. .
【００３１】本第一発明の目的を達成するためにはガラ
ス基板の面取部及び／又は側壁部（以下、端面という）
の表面粗さＲａは、Ｒａ：１μｍ未満、好ましくは、Ｒ
ａ：０．００１〜０．５μｍ、さらに好ましくは、Ｒ
ａ：０．００１〜０．１μｍ、より以上に好ましくは、
Ｒａ：０．００１〜０．０５μｍである。同様に、端面
の表面粗さＲｍａｘは、Ｒｍａｘ：０．０１〜４μｍ、
好ましくは、Ｒｍａｘ：０．０１〜２μｍ、さらに好ま
しくは、Ｒｍａｘ：０．０１〜１μｍ、より以上に好ま
しくは、Ｒｍａｘ：０．０１〜０．５μｍである。な
お、ガラス基板の面取部又は側壁部のいずれか一方の表
面粗さが上記範囲の鏡面であれば、その面に基づくサー
マル・アスペリティの原因となるパーティクルの発生を
抑制できる。特に、本第一発明では、面取部を形成した
後に、この面取部に上述したような鏡面加工を施すこと
により、ガラス基板を収納容器に出し入れする際、ガラ
ス基板が斜めになって容器と接触するときに発生するパ
ーティクルを効果的に抑えることができる。また、通常
の面取り加工を施した状態ではその面取部の表面が粗れ
ておりパーティクル発生の原因となる傾向が側壁部に比
べ大きいので、面取部に鏡面加工を施すことは、パーテ
ィクルの発生を抑制するのに効果的である。なお、サー
マル・アスペリティの原因となるパーティクルの発生を
より完全に抑制するためには、面取部及び側壁部の両方
の表面粗さが所定の値の鏡面であることが好ましい。同
様に、表面粗さＲａ及びＲｍａｘの両方が所定の範囲で
あることが好ましい。本第一発明でいう「ガラス基板の
端面」には内周端面と外周端面とが含まれる。サーマル
・アスペリティの原因となるパーティクルの発生をより
完全に抑制するためには、ガラス基板の内周端面と外周
端面の両方の表面粗さが所定の値の鏡面であることが好
ましい。なお、ガラス基板の主表面（磁性薄膜等が形成
される面）についても、サーマル・アスペリティによる
弊害を考慮して、表面粗さＲａを２ｎｍ以下にすること
が好ましい。In order to achieve the object of the first invention, a chamfered portion and / or a side wall portion (hereinafter, referred to as an end surface) of the glass substrate are required.
Has a surface roughness Ra of less than 1 μm, preferably R
a: 0.001 to 0.5 μm, more preferably R
a: 0.001 to 0.1 μm, more preferably,
Ra: 0.001 to 0.05 μm. Similarly, the surface roughness Rmax of the end face is Rmax: 0.01 to 4 μm,
Preferably, Rmax: 0.01 to 2 μm, more preferably, Rmax: 0.01 to 1 μm, and even more preferably, Rmax: 0.01 to 0.5 μm. In addition, if the surface roughness of either the chamfered portion or the side wall portion of the glass substrate is a mirror surface within the above range, it is possible to suppress the generation of particles that cause thermal asperity based on the surface. In particular, in the first aspect of the present invention, after forming the chamfered portion, by performing the above-described mirror finishing on the chamfered portion, when the glass substrate is taken in and out of the storage container, the glass substrate is inclined and the container is inclined. Particles generated when contacting the surface can be effectively suppressed. In addition, when the normal chamfering is performed, the surface of the chamfered portion is rough and the tendency to generate particles is larger than that of the side wall portion. It is effective in suppressing the occurrence. In order to more completely suppress the generation of particles that cause thermal asperity, it is preferable that the surface roughness of both the chamfered portion and the side wall portion is a mirror surface having a predetermined value. Similarly, it is preferable that both the surface roughness Ra and Rmax are within a predetermined range. The “end surface of the glass substrate” in the first invention includes the inner end surface and the outer end surface. In order to more completely suppress the generation of particles that cause thermal asperity, it is preferable that the surface roughness of both the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the glass substrate is a mirror surface having a predetermined value. The main surface of the glass substrate (the surface on which the magnetic thin film or the like is formed) is also preferably set to have a surface roughness Ra of 2 nm or less in consideration of the adverse effects of thermal asperity.
【００３２】ガラス基板の端面の表面粗さを上記範囲の
鏡面とすることにより、サーマル・アスペリティの原因
となるパーティクルが発生することがなく、サーマル・
アスペリティによる再生機能の低下を防止することがで
きる。特に、磁気抵抗型ヘッドで再生を行う磁気記録媒
体にとって効果が著しい。By making the surface roughness of the end surface of the glass substrate a mirror surface within the above range, particles which cause thermal asperity are not generated, and the thermal
It is possible to prevent a decrease in the reproduction function due to asperity. In particular, the effect is remarkable for a magnetic recording medium that performs reproduction with a magnetoresistive head.
【００３３】次に、本第二発明について説明する。本第
二発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、図２に示すよう
に、ガラス基板１の側壁部（側面）２と面取部（連接
面）３との間、又はガラス基板１の主表面４と面取部
（連接面）３との間、すなわち、ガラス基板の端面部分
５における角張った部位６の少なくとも一方に、半径
０．２〜１０ｍｍの曲面７を介在させたことを特徴とす
る。なお、本第二発明でいう「ガラス基板の端面部分に
おける角張った部位」には内周端面及び外周端面におけ
る角張った部位が含まれる。Next, the second invention of the present invention will be described. As shown in FIG. 2, the glass substrate for a magnetic recording medium according to the second aspect of the present invention is provided between the side wall (side surface) 2 and the chamfered portion (connecting surface) 3 of the glass substrate 1 or the main surface of the glass substrate 1. A curved surface 7 having a radius of 0.2 to 10 mm is interposed between 4 and the chamfered portion (connecting surface) 3, that is, at least one of the angular portions 6 in the end surface portion 5 of the glass substrate. . In the second invention, the “angular portion on the end surface portion of the glass substrate” includes the angular portions on the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface.
【００３４】本第二発明の目的を達成するためには上記
曲面は、好ましくは、半径０．２〜２ｍｍ、さらに好ま
しくは、半径０．２〜１ｍｍである。In order to achieve the object of the second invention, the curved surface preferably has a radius of 0.2 to 2 mm, more preferably 0.2 to 1 mm.
【００３５】上記曲面部分の表面粗さＲａは、Ｒａ：１
μｍ未満、好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．５μ
ｍ、さらに好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．１μ
ｍ、より以上に好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．０
５μｍである。同様に、曲面部分の表面粗さＲｍａｘ
は、Ｒｍａｘ：０．０１〜４μｍ、好ましくは、Ｒｍａ
ｘ：０．０１〜２μｍ、さらに好ましくは、Ｒｍａｘ：
０．０１〜１μｍ、より以上に好ましくは、Ｒｍａｘ：
０．０１〜０．５μｍである。The surface roughness Ra of the curved surface portion is Ra: 1.
less than μm, preferably Ra: 0.001 to 0.5 μm
m, more preferably Ra: 0.001 to 0.1 μm
m, more preferably, Ra: 0.001 to 0.0
5 μm. Similarly, the surface roughness Rmax of the curved surface portion
Is Rmax: 0.01 to 4 μm, preferably Rmax
x: 0.01 to 2 μm, more preferably Rmax:
0.01 to 1 μm, more preferably Rmax:
It is 0.01 to 0.5 μm.
【００３６】なお、サーマル・アスペリティの原因とな
るパーティクルの発生を完全に防止するには、ガラス基
板の側壁部及び面取部の表面粗さＲａは、Ｒａ：１μｍ
未満、好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．５μｍ、さ
らに好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．１μｍ、より
以上に好ましくは、Ｒａ：０．００１〜０．０５μｍで
ある。同様に、側壁部及び面取部の表面粗さＲｍａｘ
は、Ｒｍａｘ：０．０１〜４μｍ、好ましくは、Ｒｍａ
ｘ：０．０１〜２μｍ、さらに好ましくは、Ｒｍａｘ：
０．０１〜１μｍ、より以上に好ましくは、Ｒｍａｘ：
０．０１〜０．５μｍとする必要がある。また、ガラス
基板の主表面（磁性薄膜等が形成される面）について
も、サーマル・アスペリティによる弊害を考慮して、表
面粗さＲａを２ｎｍ以下にすることが好ましい。In order to completely prevent the generation of particles that cause thermal asperity, the surface roughness Ra of the side wall portion and the chamfered portion of the glass substrate is Ra: 1 μm
Less, preferably Ra: 0.001 to 0.5 μm, more preferably Ra: 0.001 to 0.1 μm, and even more preferably Ra: 0.001 to 0.05 μm. Similarly, the surface roughness Rmax of the side wall portion and the chamfered portion
Is Rmax: 0.01 to 4 μm, preferably Rmax
x: 0.01 to 2 μm, more preferably Rmax:
0.01 to 1 μm, more preferably Rmax:
It is necessary to be 0.01 to 0.5 μm. Also, the main surface (the surface on which the magnetic thin film or the like is formed) of the glass substrate is preferably made to have a surface roughness Ra of 2 nm or less in consideration of the adverse effects of thermal asperity.
【００３７】ガラス基板の端面部分における角張った部
位を曲面とすることにより、この角張った部位に起因し
て、サーマル・アスペリティの原因となるパーティクル
がほとんど発生することがなく、サーマル・アスペリテ
ィによる再生機能の低下を防止することができる。特
に、磁気抵抗型ヘッドで再生を行う磁気記録媒体にとっ
て効果が著しい。By forming the angular portion at the end surface of the glass substrate into a curved surface, particles which cause thermal asperity hardly occur due to the angular portion, and the reproduction function by thermal asperity is reduced. Can be prevented from decreasing. In particular, the effect is remarkable for a magnetic recording medium that performs reproduction with a magnetoresistive head.
【００３８】上記本第一発明及び第二発明において、ガ
ラス基板の端面（面取部及び側壁部）の表面粗さを上記
範囲の鏡面とするには、あるいは、ガラス基板の端面部
分における角張った部位を曲面とするには、例えば、研
磨剤、固定砥粒、遊離砥粒、スラリー等を使用した、研
磨ブラシ、軟質ポリシャや硬質ポリシャ等の研磨パッ
ド、砥石等による研磨などを適宜組み合わせた機械研磨
（物理的、力学的研磨）による鏡面研磨等を端面部分又
は角張った部位に施す。なお、これらの機械研磨は、必
要な表面粗さの鏡面を得るため、異なる種類の機械研
磨、あるいは、ポリシャや研磨剤の種類や粒径等を異と
する機械研磨等を適宜組み合わせて実施できる。ガラス
基板の端面部分における角張った部位の研磨と、ガラス
基板の側壁部及び面取部の研磨は、研磨方法やその条件
等を選択することで同時に行うことができ、あるいは、
別々に行うこともできる。In the first and second aspects of the present invention, in order to make the surface roughness of the end surface (chamfered portion and side wall portion) of the glass substrate into a mirror surface within the above range, or to make the end surface portion of the glass substrate angular. In order to make the part a curved surface, for example, a polishing brush, a polishing pad such as a soft polisher or a hard polisher using an abrasive, a fixed abrasive, a loose abrasive, a slurry, etc. Mirror polishing or the like by polishing (physical or mechanical polishing) is performed on the end face portion or the angular portion. Note that these mechanical polishings can be performed by appropriately combining different types of mechanical polishing, or mechanical polishing using different types or particle sizes of polishers or abrasives, in order to obtain a mirror surface having a required surface roughness. . Polishing of the angular portion at the end face portion of the glass substrate and polishing of the side wall portion and the chamfered portion of the glass substrate can be performed simultaneously by selecting a polishing method and conditions thereof, or
It can be done separately.
【００３９】ここで、軟質ポリシャとしては、例えば、
スウェード、ベロアを素材とするもの等が挙げられ、硬
質ポリシャとしては、例えば、硬質ベロア、ウレタン発
砲、ピッチ含浸スウェード等が挙げられる。また、研磨
剤として、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、アルミナ（γ−
Ａｌ2Ｏ3）、べんがら（Ｆｅ2Ｏ3）、酸化クロム（Ｃｒ
2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン
（ＴｉＯ2）などが挙げられる。Here, as the soft polisher, for example,
Suedes and velours are used as materials. Examples of the hard polisher include hard velours, urethane foam, and pitch impregnated suede. Cerium oxide (CeO 2 ), alumina (γ-
Al 2 O 3 ), bran (Fe 2 O 3 ), chromium oxide (Cr
2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ) and the like.
【００４０】ガラス基板の端面部分（角張った部位、側
壁部及び面取部）の機械研磨による鏡面研磨は、ガラス
基板の研削、研磨工程のいずれの工程の後に行ってもよ
く、あるいは、各工程の後に行ってもよい。研削、研磨
の工程は、通常、大きく分けて、（１）荒ずり（粗研
削）、（２）砂掛け（精研削、ラッピング）、（３）第
一研磨（ポリッシュ）、（４）第二研磨（ファイナル研
磨、ポリッシュ）の各工程からなる。なお、研削する前
の面の状態によって、（１）荒ずり、（２）砂掛け、
（３）第一研磨の何れか又は全ての工程を除いても良
い。また、高精密プレスによってガラス基板を製造した
場合にあっては、研削、研磨をしなくても良い。The mirror polishing by mechanical polishing of the end surface portion (angular portion, side wall portion and chamfered portion) of the glass substrate may be performed after any of the steps of grinding and polishing the glass substrate. May be performed after. The steps of grinding and polishing are generally roughly divided into (1) roughing (coarse grinding), (2) sanding (fine grinding, lapping), (3) first polishing (polishing), and (4) second polishing. It consists of each step of polishing (final polishing, polishing). Depending on the condition of the surface before grinding, (1) roughing, (2) sanding,
(3) Any or all of the first polishing steps may be omitted. Further, when a glass substrate is manufactured by a high precision press, grinding and polishing need not be performed.
【００４１】ガラス基板の端面部分（角張った部位、側
壁部及び面取部）の機械研磨による鏡面研磨工程は、例
えば、荒ずり（粗研削）工程後に行う以外に、砂掛け
（精研削、ラッピング）工程後、あるいは、第一研磨
（ポリッシュ）又は第二研磨（ファイナル研磨、ポリッ
シュ）工程後に行ってもよい。ラッピング工程の前にガ
ラス基板端面の鏡面加工を行うと、ラッピング工程の際
に、ラップの砂によりガラス基板端面が若干粗くなるこ
とがある。The mirror polishing step by mechanical polishing of the end face portion (angular portion, side wall portion and chamfered portion) of the glass substrate is carried out, for example, by sanding (fine grinding, lapping) in addition to being performed after the rough grinding (rough grinding) process. ), Or after the first polishing (polishing) or the second polishing (final polishing, polishing). If the mirror surface processing of the glass substrate end surface is performed before the lapping process, the glass substrate end surface may be slightly roughened due to sand of the lap during the lapping process.
【００４２】ガラス基板の種類、サイズ、厚さ等は特に
制限されない。ガラス基板の材質としては、例えば、ア
ルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダ
アルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラ
ス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリ
ケートガラス、又は、結晶化ガラス等のガラスセラミッ
クなどが挙げられる。The type, size, thickness and the like of the glass substrate are not particularly limited. Examples of the material of the glass substrate include aluminosilicate glass, soda lime glass, soda aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, borosilicate glass, quartz glass, chain silicate glass, and glass ceramics such as crystallized glass. Can be
【００４３】アルミノシリケートガラスとしては、Ｓｉ
Ｏ2：６２〜７５重量％、Ａｌ2Ｏ3：５〜１５重量％、
Ｌｉ2Ｏ：４〜１０重量％、Ｎａ2Ｏ：４〜１２重量％、
ＺｒＯ2：５．５〜１５重量％を主成分として含有する
とともに、Ｎａ2Ｏ／ＺｒＯ2の重量比が０．５〜２．
０、Ａｌ2Ｏ3／ＺｒＯ2の重量比が０．４〜２．５であ
る化学強化用ガラス等が好ましい。また、ＺｒＯ2の未
溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすた
めには、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、Ｚｎ
Ｏ2を０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、ＬｉＯ2を
７〜１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％含有する化学強化用
ガラス等を使用することが好ましい。このような組成の
アルミノシリケートガラス等は、化学強化することによ
って、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌ
ープ硬度にも優れる。As the aluminosilicate glass, Si
O 2 : 62 to 75% by weight, Al 2 O 3 : 5 to 15% by weight,
Li 2 O: 4 to 10% by weight, Na 2 O: 4 to 12% by weight,
ZrO 2: 5.5 to 15 with containing by weight% as the main component, the weight ratio of Na 2 O / ZrO 2 is 0.5 to 2.
0, Al 2 O 3 / weight ratio of ZrO 2 of glass for chemical strengthening is 0.4 to 2.5 is preferred. In order to eliminate projections on the glass substrate surface caused by undissolved ZrO 2 , 57% to 74% of SiO 2 , Zn
O 2 and 0 to 2.8%, the Al 2 O 3 3 to 15% of LiO 2 7 to 16% it is preferred to use chemical strengthening glass containing Na 2 O 4~14%. The aluminosilicate glass or the like having such a composition increases the transverse rupture strength by chemical strengthening, has a deep compressive stress layer, and is excellent in Knoop hardness.
【００４４】本第一及び第二発明では、耐衝撃性や耐振
動性等の向上を目的として、ガラス基板の表面に低温イ
オン交換法による化学強化処理を施すことができる。こ
こで、化学強化方法としては、従来より公知の化学強化
法であれば特に制限されないが、例えば、ガラス転移点
の観点から転移温度を超えない領域でイオン交換を行う
低温型化学強化などが好ましい。化学強化に用いるアル
カリ溶融塩としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、
あるいは、それらを混合した硝酸塩などが挙げられる。In the first and second aspects of the present invention, the surface of the glass substrate can be subjected to chemical strengthening treatment by a low-temperature ion exchange method for the purpose of improving impact resistance, vibration resistance and the like. Here, the chemical strengthening method is not particularly limited as long as it is a conventionally known chemical strengthening method. For example, low-temperature chemical strengthening in which ion exchange is performed in a region not exceeding a transition temperature from the viewpoint of a glass transition point is preferable. . As alkali molten salts used for chemical strengthening, potassium nitrate, sodium nitrate,
Alternatively, a nitrate mixed with them and the like can be mentioned.
【００４５】上記本第一及び第二発明の磁気記録媒体用
ガラス基板は、ガラス基板端面から発生する微細なパー
ティクルを嫌う光磁気ディスク用のガラス基板や、光デ
ィスクなどの電子光学用ディスク基板としても利用でき
る。The glass substrate for a magnetic recording medium according to the first and second aspects of the present invention can be used as a glass substrate for a magneto-optical disk that does not like fine particles generated from the end face of the glass substrate, or a disk substrate for an electro-optical disk such as an optical disk. Available.
【００４６】次に、本発明の磁気記録媒体について説明
する。Next, the magnetic recording medium of the present invention will be described.
【００４７】本発明の磁気記録媒体は、上記本第一及び
第二発明の磁気記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも
磁性層を形成したものである。The magnetic recording medium of the present invention is obtained by forming at least a magnetic layer on the glass substrate for a magnetic recording medium of the first and second inventions.
【００４８】本発明の磁気記録媒体では、ガラス基板の
端面部分（角張った部位、側壁部及び面取部）からサー
マル・アスペリティの原因となるパーティクルが発生す
ることがないので、ガラス基板上に磁性層等を形成して
磁気記録媒体を製造する際にガラス基板の主表面にサー
マル・アスペリティの原因となるパーティクルによって
形成される凸部が発生せず、より高いレベルでヘッドク
ラッシュを防止できる。特に、磁気抵抗型ヘッドによっ
て再生を行う磁気記録媒体にとって、磁気抵抗型ヘッド
の機能を十分に引き出すことができる。また、磁気抵抗
型ヘッドに好適に使用することができるＣｏＰｔ系等の
磁気記録媒体としてもその性能を十分に引き出すことが
できる。In the magnetic recording medium of the present invention, particles which cause thermal asperity are not generated from the end face portion (angular portion, side wall portion and chamfered portion) of the glass substrate, so that the magnetic recording medium is not formed on the glass substrate. When a magnetic recording medium is manufactured by forming a layer or the like, a convex portion formed by particles causing thermal asperity does not occur on the main surface of the glass substrate, and head crash can be prevented at a higher level. In particular, the function of the magnetoresistive head can be fully exploited for a magnetic recording medium that performs reproduction with the magnetoresistive head. In addition, the performance of a CoPt-based magnetic recording medium or the like that can be suitably used for a magnetoresistive head can be sufficiently brought out.
【００４９】同様に、磁気記録媒体の記録・再生面にお
いてもサーマル・アスペリティの原因となるパーティク
ルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベル
でヘッドクラッシュを防止できる。Similarly, on the recording / reproducing surface of the magnetic recording medium, there is no projection formed by particles that cause thermal asperity, and it is possible to prevent a head crash at a higher level.
【００５０】また、サーマル・アスペリティの原因とな
るパーティクルによって、磁性層等の膜に欠陥が発生し
エラーの原因となるということもない。Further, there is no possibility that a particle such as a thermal asperity causes a defect in a film such as a magnetic layer to cause an error.
【００５１】磁気記録媒体は、通常、磁気ディスク用ガ
ラス基板上に、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次
積層して製造する。The magnetic recording medium is usually manufactured by sequentially laminating an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer on a glass substrate for a magnetic disk.
【００５２】磁気記録媒体は、通常、所定の平坦度、表
面粗さを有し、必要に応じ表面の化学強化処理を施した
磁気ディスク用ガラス基板上に、下地層、磁性層、保護
層、潤滑層を順次積層して製造する。The magnetic recording medium usually has a predetermined flatness and surface roughness, and has an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, It is manufactured by sequentially laminating a lubricating layer.
【００５３】本発明の磁気記録媒体における下地層は、
磁性層に応じて選択される。The underlayer in the magnetic recording medium of the present invention comprises:
It is selected according to the magnetic layer.
【００５４】下地層としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔ
ａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌなどの非磁性金属から選ば
れる少なくとも一種以上の材料からなる下地層等が挙げ
られる。Ｃｏを主成分とする磁性層の場合には、磁気特
性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好
ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種
の層を積層した複数層構造とすることもできる。例え
ば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、Ｃｒ
Ｖ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃ
ｒ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＶ、Ａｌ／ＣｒＶ／ＣｒＶ等の多
層下地層等が挙げられる。As the underlayer, for example, Cr, Mo, T
a, an underlayer made of at least one material selected from nonmagnetic metals such as Ti, W, V, B, and Al. In the case of a magnetic layer containing Co as a main component, it is preferable to use Cr alone or a Cr alloy from the viewpoint of improving magnetic properties. The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure in which the same or different layers are stacked. For example, Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, Cr
V / CrV, Al / Cr / CrMo, Al / Cr / C
r, a multilayer base layer of Al / Cr / CrV, Al / CrV / CrV and the like.
【００５５】本発明の磁気記録媒体における磁性層の材
料は特に制限されない。The material of the magnetic layer in the magnetic recording medium of the present invention is not particularly limited.
【００５６】磁性層としては、例えば、Ｃｏを主成分と
するＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、Ｃ
ｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉ
ＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴａＰｔ、Ｃｏ
ＣｒＰｔＳｉＯなどの磁性薄膜が挙げられる。磁性層
は、磁性膜を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、Ｃｒ
Ｖなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例
えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＴａＰｔなど）として
もよい。As the magnetic layer, for example, CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, C
oCrTa, CoPtCr, CoNiPt, CoNi
CrPt, CoNiCrTa, CoCrTaPt, Co
A magnetic thin film such as CrPtSiO may be used. The magnetic layer is made of a non-magnetic film (for example, Cr, CrMo, Cr).
V, etc. to reduce noise (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoC
rTaPt / CrMo / CoCrTaPt).
【００５７】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は大型
磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層として
は、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれら
の不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれ
る。As a magnetic layer corresponding to a magnetoresistive head (MR head) or a large magnetoresistive head (GMR head), Y, Si, rare earth elements, Hf, G
An impurity element selected from e, Sn, and Zn, or an element containing an oxide of these impurity elements is also included.
【００５８】また、磁性層としては、上記の他、フェラ
イト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる
非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の
磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであって
もよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記
録形式であってもよい。As the magnetic layer, in addition to the above, magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, and CoNiPt are dispersed in a non-magnetic film made of ferrite, iron-rare earth, SiO 2 , BN, or the like. It may be a granular structure or the like. Further, the magnetic layer may have any of an inner surface type and a perpendicular type recording format.
【００５９】本発明の磁気記録媒体における保護層は特
に制限されない。The protective layer in the magnetic recording medium of the present invention is not particularly limited.
【００６０】保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃｒ合
金膜、カーボン膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げら
れる。これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにイ
ンライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、
これらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一
又は異種の膜からなる多層構成としてもよい。Examples of the protective layer include a Cr film, a Cr alloy film, a carbon film, a zirconia film, and a silica film. These protective films can be continuously formed with an underlayer, a magnetic layer, and the like by an in-line type sputtering apparatus. Also,
These protective films may have a single-layer structure or a multilayer structure composed of the same or different films.
【００６１】本発明では、上記保護層上に、あるいは上
記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例え
ば、上記保護層に替えて、Ｃｒ膜の上にテトラアルコキ
シランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダ
ルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）膜を形成してもよい。In the present invention, another protective layer may be formed on the above protective layer or in place of the above protective layer. For example, instead of the above-mentioned protective layer, colloidal silica fine particles are dispersed and applied to a Cr film after diluting tetraalkoxylan with an alcohol-based solvent, and then fired to form a silicon oxide (SiO 2 ) film. It may be formed.
【００６２】本発明の磁気記録媒体における潤滑層は特
に制限されない。The lubricating layer in the magnetic recording medium of the present invention is not particularly limited.
【００６３】潤滑層は、例えば、液体潤滑剤であるパー
フロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶
媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート
法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処理を
行って形成する。The lubricating layer is prepared, for example, by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a solvent such as Freon, and applying the diluted solution to the medium surface by dipping, spin coating, or spraying. It is formed by performing heat treatment.
【００６４】[0064]
【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。EXAMPLES The present invention will be described below more specifically based on examples.
【００６５】まず、本第一発明にかかる実施例について
説明する。実施例１ First, an embodiment according to the first invention of the present invention will be described. Example 1
【００６６】（１）荒ずり工程 まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研
削砥石で直径９６ｍｍφ、厚さ３ｍｍの円盤状に切り出
したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、
比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径９６
ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍに成形した。この場合、ダウン
ドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型
を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス体を
得てもよい。(1) Roughing Step First, a glass substrate made of aluminosilicate glass having a diameter of 96 mmφ and a thickness of 3 mm cut out from a sheet glass formed by a down-draw method with a grinding wheel is used.
Grinding with a relatively rough diamond wheel
It was molded to a diameter of 1.5 mm and a thickness of 1.5 mm. In this case, instead of the downdraw method, the molten glass may be directly pressed using an upper mold, a lower mold, and a body mold to obtain a disk-shaped glass body.
【００６７】なお、アルミノシリケイトガラスとして
は、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、ＺｎＯ2を
０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、ＬｉＯ2を７〜
１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラス（例えば、モル％表示で、Ｓｉ
Ｏ2：６７．０％、ＺｎＯ2：１．０％、Ａｌ2Ｏ3：９．
０％、ＬｉＯ2：１２．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％を主
成分として含有する化学強化用ガラス）を使用した。As the aluminosilicate glass, in terms of mol%, SiO 2 is 57 to 74%, ZnO 2 is 0 to 2.8%, Al 2 O 3 is 3 to 15%, and LiO 2 is 7 to 7%.
Glass for chemical strengthening containing 16% and 4 to 14% of Na 2 O as main components (for example, Si
O 2 : 67.0%, ZnO 2 : 1.0%, Al 2 O 3 : 9.
Glass for chemical strengthening containing 0%, LiO 2 : 12.0%, and Na 2 O: 10.0% as main components) was used.
【００６８】次いで、上記砥石よりも粒度の細かいダイ
ヤモンド砥石で上記ガラス基板の両面を片面ずつ研削加
工した。このときの荷重は１００ｋｇ程度とした。これ
により、ガラス基板両面の表面粗さをＲｍａｘ（ＪＩＳ
Ｂ ０６０１で測定）で１０μｍ程度に仕上げた。Next, both surfaces of the glass substrate were ground one by one with a diamond grindstone having a finer grain size than the grindstone. The load at this time was about 100 kg. As a result, the surface roughness of both surfaces of the glass substrate can be reduced to Rmax (JIS
B 0601) (about 10 μm).
【００６９】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直
径を９５ｍｍφとした後、外周端面及び内周面に所定の
面取り加工を施した。このときのガラス基板端面の表面
粗さは、Ｒｍａｘで１４μｍ程度であった。Next, a hole is made in the center of the glass substrate using a cylindrical grindstone, and the outer peripheral end surface is also ground to a diameter of 95 mm. Then, the outer peripheral end surface and the inner peripheral surface are subjected to predetermined chamfering. did. At this time, the surface roughness of the end face of the glass substrate was about 14 μm in Rmax.
【００７０】（２）端面鏡面加工工程 次いで、スラリーを使用してブラシ研磨又は機械研磨に
より、ガラス基板を回転させながらガラス基板の内周及
び外周端面の表面粗さが所定の範囲になるように鏡面研
磨した。なお、試料１〜４に関しては、ブラシの回転
数、研磨時間、研磨剤等を変化させることで、端面の表
面粗さが良くなるように条件出しを行った。また、試料
５に関しては、ウレタン系ポリシャを用いた機械研磨と
した。(2) End Mirror Finishing Process Then, the surface roughness of the inner and outer peripheral edges of the glass substrate is adjusted to a predetermined range while rotating the glass substrate by brush polishing or mechanical polishing using a slurry. Mirror polished. With respect to Samples 1 to 4, conditions were determined by changing the number of rotations of the brush, the polishing time, the abrasive, and the like so as to improve the surface roughness of the end face. For sample 5, mechanical polishing was performed using a urethane polisher.
【００７１】上記端面鏡面加工を終えたガラス基板の表
面を水洗浄した。The surface of the glass substrate which had been subjected to the above-mentioned mirror polishing of the end face was washed with water.
【００７２】（３）砂掛け（ラッピング）工程 次に、ガラス基板に砂掛け加工を施した。この砂掛け工
程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。
砂掛け加工は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒
度を＃４００、＃１０００と替えて２回行った。(3) Sanding (Lapping) Step Next, the glass substrate was sanded. This sanding step aims at improving dimensional accuracy and shape accuracy.
The sanding process was performed using a lapping device, and was performed twice while changing the grain size of the abrasive grains to # 400 and # 1000.
【００７３】詳しくは、はじめに、粒度＃４００のアル
ミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、
内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリ
ア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、
表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度にラッピングした。More specifically, first, a load L was set to about 100 kg using alumina abrasive grains having a grain size of # 400.
By rotating the internal rotation gear and the external rotation gear, both sides of the glass substrate housed in the carrier are surface-accurate 0-1 μm,
Lapping was performed to a surface roughness (Rmax) of about 6 μm.
【００７４】次いで、アルミナ砥粒の粒度を＃１０００
に替えてラッピングを行い、表面粗さ（Ｒｍａｘ）２μ
ｍ程度とした。Next, the particle size of the alumina abrasive grains was changed to # 1000.
Perform lapping instead of surface roughness (Rmax) 2μ
m.
【００７５】上記砂掛け加工を終えたガラス基板を、中
性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。The glass substrate that had been subjected to the sanding process was washed by sequentially immersing it in a neutral detergent and water washing tank.
【００７６】（４）第一研磨工程 次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。(4) First Polishing Step Next, a first polishing step was performed. This first polishing step is intended to remove scratches and distortion remaining in the above sanding step, and was performed using a polishing apparatus.
【００７７】詳しくは、ポリシャ（研磨粉）として硬質
ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：スピードファム
社製）を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施し
た。More specifically, the first polishing step was performed under the following polishing conditions using a hard polisher (cerium pad MHC15: manufactured by Speed Fam) as a polisher (polishing powder).
【００７８】研磨液：酸化セリウム＋水 荷重：３００ｇ／ｃｍ2（Ｌ＝２３８ｋｇ） 研磨時間：１５分 除去量：３０μｍ 下定盤回転数：４０ ｒｐｍ 上定盤回転数：３５ ｒｐｍ 内ギア回転数：１４ ｒｐｍ 外ギア回転数：２９ ｒｐｍPolishing liquid: cerium oxide + water Load: 300 g / cm 2 (L = 238 kg) Polishing time: 15 minutes Removal amount: 30 μm Lower platen rotation speed: 40 rpm Upper platen rotation speed: 35 rpm Gear rotation speed in the inner part: 14 rpm Outer gear rotation speed: 29 rpm
【００７９】上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、
洗浄した。The glass substrate after the first polishing step is
Immerse in each washing tank of neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), IPA (steam drying) sequentially,
Washed.
【００８０】（５）第二研磨工程 次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリラックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ2、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。(5) Second Polishing Step Next, using the polishing apparatus used in the first polishing step, the polisher was changed from a hard polisher to a soft polisher (Polyac: manufactured by Speed Fam), and the second polishing step was performed. Carried out. The polishing conditions were the same as in the first polishing step, except that the load was 100 g / cm 2 , the polishing time was 5 minutes, and the removal amount was 5 μm.
【００８１】上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピ
ルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次
浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加
した。The glass substrate after the second polishing step is
Washing was performed by sequentially immersing in a washing tank of a neutral detergent, a neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.
【００８２】（６）化学強化工程 次に、上記研削、研磨工程を終えたガラス基板に化学強
化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝
酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意
し、この化学強化溶液を４００℃に加熱し、３００℃に
予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬して行
った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強
化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保
持されるようにホルダーに収納した状態で行った。(6) Chemical Strengthening Step Next, the glass substrate after the grinding and polishing steps was chemically strengthened. For the chemical strengthening, a chemical strengthening solution in which potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) are mixed is prepared, and the chemical strengthening solution is heated to 400 ° C., and the cleaned glass substrate preheated to 300 ° C. is washed. The immersion was performed for 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, the immersion was performed in a state where a plurality of glass substrates were housed in a holder so as to be held at end faces.
【００８３】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。As described above, by performing the immersion treatment in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions on the surface layer of the glass substrate become sodium ions and
The glass substrate is strengthened by being respectively substituted by potassium ions.
【００８４】ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層
の厚さは、約１００〜２００μｍであった。The thickness of the compressive stress layer formed on the surface of the glass substrate was about 100 to 200 μm.
【００８５】上記化学強化を終えたガラス基板を、２０
℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持した。The glass substrate that has been chemically strengthened is
It was immersed in a water bath at a temperature of 10 ° C. and rapidly cooled and maintained for about 10 minutes.
【００８６】上記急冷を終えたガラス基板を、約４０℃
に加熱した硫酸に浸漬し、超音波をかけながら洗浄を行
った。The quenched glass substrate is heated to about 40 ° C.
The substrate was immersed in heated sulfuric acid and washed while applying ultrasonic waves.
【００８７】上記の工程を経て得られたガラス基板の端
面の表面粗さは図１に示す各部位（面取部Ａ（長さ０．
１５ｍｍ）及びＣ（長さ０．１５ｍｍ）、側壁部Ｂ（長
さ０．３５ｍｍ））において表１に示す通りであった。
また、ガラス基板の主表面の表面粗さＲａは０．５〜１
ｎｍであった。なお、Ａ，Ｃ面に比べＢ面の表面粗さの
値が大きいのは、端面鏡面加工工程後に行われる研磨工
程においてＢ面が若干粗れるためであると考えられる。
さらに、ガラス表面を精密検査したところサーマル・ア
スペリティの原因となるパーティクルは認められなかっ
た。The surface roughness of the end face of the glass substrate obtained through the above-described process is shown in FIG.
15 mm), C (length 0.15 mm), and side wall B (length 0.35 mm)) as shown in Table 1.
Further, the surface roughness Ra of the main surface of the glass substrate is 0.5 to 1
nm. It is considered that the reason why the value of the surface roughness of the surface B is larger than that of the surfaces A and C is that the surface B is slightly roughened in the polishing process performed after the end surface mirror polishing process.
Further, upon close inspection of the glass surface, no particles causing thermal asperity were found.
【００８８】[0088]
【表１】 [Table 1]
【００８９】（７）磁気ディスク製造工程 上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＡｌＮのスパッタによるテクスチャー層、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜して磁気ディスクを得た。(7) Magnetic Disk Manufacturing Process On both surfaces of the magnetic disk glass substrate obtained through the above-described processes, a texture layer, a Cr underlayer, and a CrMo underlayer are formed by sputtering AlN using an in-line sputtering apparatus. , A CoPtCrTa magnetic layer and a C protective layer were sequentially formed to obtain a magnetic disk.
【００９０】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気ディスク
表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気
ディスク表面の突起に衝突すること）は認められなかっ
た。また、サーマル・アスペリティの原因となるパーテ
ィクルによって、磁性層等の膜に欠陥が発生していない
ことも確認できた。When a glide test was performed on the obtained magnetic disk, no hit (the head touches a protrusion on the magnetic disk surface) or crash (the head collides with the protrusion on the magnetic disk surface) was not recognized. . In addition, it was confirmed that no defect was generated in the film such as the magnetic layer due to the particles causing the thermal asperity.
【００９１】なお、本発明のようにガラス基板の端面を
鏡面研磨した本実施例（試料６〜１３）と、ガラス基板
の端面を化学エッチング処理した比較例（試料１４〜１
５）と、ガラス基板の端面を研磨もエッチングもしない
未処理品（試料１６〜１７）に関し、それぞれ成膜後の
各１００枚について、比較のためフライングハイトを
１．１〜１．３インチとしてグライドテストを実施して
膜下欠陥不良率（歩留まり）を調べたところ、表２に示
す通り、本実施例の方が優れていることが判明した。The present embodiment (samples 6 to 13) in which the end surface of the glass substrate was mirror-polished as in the present invention and the comparative example (samples 14 to 1) in which the end surface of the glass substrate was chemically etched.
5) and the unprocessed product (samples 16 to 17) in which the end face of the glass substrate is neither polished nor etched, and the flying height is set to 1.1 to 1.3 inches for comparison for each of the 100 substrates after film formation. A glide test was performed to examine the defect rate (yield) under the film, and as shown in Table 2, it was found that this example was superior.
【００９２】[0092]
【表２】 [Table 2]
【００９３】このように、ガラス基板の端面を化学エッ
チング処理したものでは、本発明の目的を達成できない
ことが判る。なお、試料１４〜１５においてはガラス基
板の端面が、なし地（光沢のない面）の状態であった。As described above, it can be seen that the object of the present invention cannot be achieved by chemically etching the end surface of the glass substrate. In Samples 14 and 15, the end surfaces of the glass substrates were in a plain background (a surface with no luster).
【００９４】また、グライドテストを終えた本実施例の
磁気ディスクについて、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を
行ったが、複数のサンプル（５００枚）の全数について
サーマル・アスペリティによる再生の誤動作は認められ
なかった。さらに、Ａ面の表面粗さＲａ：０．０４μ
ｍ、Ｒｍａｘ：０．５μｍ、Ｂ面の表面粗さＲａ：０．
０７μｍ、Ｒｍａｘ：０．６２μｍ、Ｃ面の表面粗さＲ
ａ：０．０５μｍ、Ｒｍａｘ：０．４８μｍの試料（端
面研磨品）、及び端面未研磨品（それぞれ２５枚、表裏
で５０面）について、表３に示す各種欠陥検査（certif
ication test）を行ったところ、端面研磨品の方が欠陥
が少なく優れていることが判明した。なお、表３におい
て、各記号は以下の内容を意味する。「Ｐ−Ｍｏｄ」は
ポジティブモジュレーションエラー試験（Positive Mod
uration Error Test）を示し、緩やな突起を検出する試
験を意味する。「Ｎ−Ｍｏｄ」はネガティブモジュレー
ションエラー試験（Negative Moduration Error Test）
を示し、緩やなへこみを検出、評価する試験を意味す
る。同様に、「Ｍｉｓ」はミッシングパルスエラー試験
（Missing Pulse Error Test）を示し、磁性膜の欠落を
検出、評価する試験を意味する。この場合、記号「Ｃ」
は修正可能な（Corrective）欠落欠陥を示し、記号
「Ｕ」は修正不可能な（Uncorrective）欠落欠陥を示
し、「Ｌ」はエラービット長の長い（Long）欠落欠陥を
示す。「Ｓｐｉｋｅ」はスパイクパルスエラー試験（Sp
ike Pulse Error Test）を示し、急峻な突起を検出、評
価する試験を意味する。この場合、記号「Ｃ」、
「Ｕ」、「Ｌ」の表す意味は上記と同様である。「Ｅｘ
ｔｒａ」はエキストラパルスエラー試験（Extra Pulse
Error Test）を示し、消し残し信号を検出、評価する試
験を意味する。この場合、記号「Ｃ」、「Ｕ」、「Ｌ」
の表す意味は上記と同様である。上記表３に示す各試験
は、読み取り／書き込みヘッドとしてＭＲヘッドを用
い、読み取り／書き込みのトラック幅Ｒ／Ｗ＝３．０／
２．４μｍ、フライングハイト＝５０μｍ、周速＝７ｍ
／ｓｅｃの条件下、信号の書き込み、再生、消去を行い
実施した。A reproduction test was performed on the magnetic disk of this embodiment after the glide test by using a magnetoresistive head. A reproduction malfunction due to thermal asperity was observed for all of a plurality of samples (500 sheets). Did not. Further, the surface roughness Ra of the surface A: 0.04 μm
m, Rmax: 0.5 μm, surface roughness Ra of surface B: 0.
07 μm, Rmax: 0.62 μm, surface roughness R of C-plane
a: 0.05 μm, Rmax: 0.48 μm sample (end polished product) and unpolished end product (25 sheets each, 50 front and back), various defect inspections shown in Table 3 (certif
ication test), it was found that the edge-polished product had less defects and was superior. In addition, in Table 3, each symbol means the following contents. “P-Mod” is a positive modulation error test (Positive Mod error test).
uration Error Test), meaning a test that detects loose protrusions. "N-Mod" is a negative modulation error test.
Indicates a test for detecting and evaluating gentle dents. Similarly, “Mis” indicates a missing pulse error test, which means a test for detecting and evaluating a missing magnetic film. In this case, the symbol "C"
Indicates a correctable (Corrective) missing defect, the symbol "U" indicates an uncorrectable missing defect, and "L" indicates a long defect having a long error bit length. “Spike” is a spike pulse error test (Sp
ike Pulse Error Test), which means a test for detecting and evaluating steep protrusions. In this case, the symbols "C",
The meanings of “U” and “L” are the same as described above. "Ex
tra ”is an extra pulse error test.
Error Test), which means a test that detects and evaluates unerased signals. In this case, the symbols "C", "U", "L"
Has the same meaning as described above. In each test shown in Table 3 above, an MR head was used as a read / write head, and a read / write track width R / W = 3.0 /
2.4 μm, flying height = 50 μm, peripheral speed = 7 m
Signal writing, reproduction, and erasing were performed under the conditions of / sec.
【００９５】[0095]
【表３】 [Table 3]
【００９６】実施例２〜３ アルミノシリケートガラスの代わりにソーダライムガラ
ス（実施例２）、ソーダアルミノケイ酸ガラス（実施例
３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、磁気デ
ィスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得た。 Examples 2 and 3 Glasses for magnetic disks were prepared in the same manner as in Example 1 except that soda lime glass (Example 2) and soda aluminosilicate glass (Example 3) were used instead of aluminosilicate glass. A substrate and a magnetic disk were obtained.
【００９７】その結果、ソーダライムガラスの場合、ガ
ラス基板の外周端面と内周端面の表面粗さは、Ｒｍａｘ
で１．５μｍとなり、アルミノシリケートガラスに比べ
やや粗面ではあったが、実用上問題はなかった。As a result, in the case of soda lime glass, the surface roughness of the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate is Rmax
Was 1.5 μm, which was slightly rougher than that of aluminosilicate glass, but had no practical problem.
【００９８】実施例４ 実施例１で得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面
に、Ａｌ（膜厚５０オングストローム）／Ｃｒ（１００
０オングストローム）／ＣｒＭｏ（１００オングストロ
ーム）からなる下地層、ＣｏＰｔＣｒ（１２０オングス
トローム）／ＣｒＭｏ（５０オングストローム）／Ｃｏ
ＰｔＣｒ（１２０オングストローム）からなる磁性層、
Ｃｒ（５０オングストローム）保護層をインライン型ス
パッタ装置で形成した。 Example 4 On both surfaces of the glass substrate for a magnetic disk obtained in Example 1, Al (film thickness 50 Å) / Cr (100
0 Å / CrMo (100 Å), CoPtCr (120 Å) / CrMo (50 Å) / Co
A magnetic layer made of PtCr (120 Å),
A Cr (50 Å) protective layer was formed by an in-line type sputtering apparatus.
【００９９】上記基板を、シリカ微粒子（粒経１００オ
ングストローム）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水
とＩＰＡとテトラエトキシシランとの混合液）に浸し、
焼成することによってＳｉＯ2からなるテクスチャー機
能を持った保護層を形成し、さらに、この保護層上をパ
ーフロロポリエーテルからなる潤滑剤でディップ処理し
て潤滑層を形成して、ＭＲヘッド用磁気ディスクを得
た。The above substrate is immersed in an organic silicon compound solution (a mixed solution of water, IPA and tetraethoxysilane) in which fine silica particles (particle size: 100 Å) are dispersed,
A protective layer having a texture function made of SiO 2 is formed by firing, and a dip treatment is performed on the protective layer with a lubricant made of perfluoropolyether to form a lubricating layer. Got a disc.
【０１００】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒットやクラッシュは認められ
なかった。また、磁性層等の膜に欠陥が発生していない
ことも確認できた。さらに、磁気抵抗型ヘッドによる再
生試験の結果、サーマル・アスペリティによる再生の誤
動作は認められなかった。When a glide test was performed on the obtained magnetic disk, no hit or crash was recognized. It was also confirmed that no defect occurred in the film such as the magnetic layer. Furthermore, as a result of a reproduction test using a magnetoresistive head, no reproduction malfunction due to thermal asperity was observed.
【０１０１】実施例５ 下地層をＡｌ／Ｃｒ／Ｃｒとし、磁性層をＣｏＮｉＣｒ
Ｔａとしたこと以外は実施例４と同様にして薄膜ヘッド
用磁気ディスクを得た。 Example 5 The underlayer was made of Al / Cr / Cr, and the magnetic layer was made of CoNiCr.
A magnetic disk for a thin film head was obtained in the same manner as in Example 4 except that Ta was used.
【０１０２】上記磁気ディスクについて実施例４と同様
のことが確認された。It was confirmed that the magnetic disk was the same as in Example 4.
【０１０３】次に、本第二発明にかかる実施例について
説明する。実施例６ Next, an embodiment according to the second invention will be described. Example 6
【０１０４】（１）荒ずり工程 まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研
削砥石で直径９６ｍｍφ、厚さ３ｍｍの円盤状に切り出
したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、
比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径９６
ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍに成形した。この場合、ダウン
ドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型
を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス体を
得てもよい。(1) Roughing Step First, a glass substrate made of aluminosilicate glass having a diameter of 96 mmφ and a thickness of 3 mm cut out from a sheet glass formed by a down-draw method with a grinding wheel is used.
Grinding with a relatively rough diamond wheel
It was molded to a diameter of 1.5 mm and a thickness of 1.5 mm. In this case, instead of the downdraw method, the molten glass may be directly pressed using an upper mold, a lower mold, and a body mold to obtain a disk-shaped glass body.
【０１０５】なお、アルミノシリケイトガラスとして
は、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、ＺｎＯ2を
０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、ＬｉＯ2を７〜
１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラス（例えば、モル％表示で、Ｓｉ
Ｏ2：６７．０％、ＺｎＯ2：１．０％、Ａｌ2Ｏ3：９．
０％、ＬｉＯ2：１２．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％を主
成分として含有する化学強化用ガラス）を使用した。As the aluminosilicate glass, in terms of mol%, SiO 2 is 57 to 74%, ZnO 2 is 0 to 2.8%, Al 2 O 3 is 3 to 15%, and LiO 2 is 7 to 74%.
Glass for chemical strengthening containing 16% and 4 to 14% of Na 2 O as main components (for example, Si
O 2 : 67.0%, ZnO 2 : 1.0%, Al 2 O 3 : 9.
Glass for chemical strengthening containing 0%, LiO 2 : 12.0%, and Na 2 O: 10.0% as main components) was used.
【０１０６】次いで、上記砥石よりも粒度の細かいダイ
ヤモンド砥石で上記ガラス基板の両面を片面ずつ研削加
工した。このときの荷重は１００ｋｇ程度とした。これ
により、ガラス基板両面の表面粗さをＲｍａｘ（ＪＩＳ
Ｂ ０６０１で測定）で１０μｍ程度に仕上げた。Next, both surfaces of the glass substrate were ground one by one with a diamond grindstone having a finer grain size than the grindstone. The load at this time was about 100 kg. As a result, the surface roughness of both surfaces of the glass substrate can be reduced to Rmax (JIS
B 0601) (about 10 μm).
【０１０７】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直
径を９５ｍｍφとした後、外周端面及び内周面に所定の
面取り加工を施した。このときのガラス基板の端面（側
面及び面取部）の表面粗さは、Ｒｍａｘで１４μｍ程度
であった。Next, a hole is made in the center of the glass substrate using a cylindrical grindstone, and the outer peripheral end surface is also ground to a diameter of 95 mmφ. Then, the outer peripheral end surface and the inner peripheral surface are subjected to predetermined chamfering. did. At this time, the surface roughness of the end surface (side surface and chamfered portion) of the glass substrate was about 14 μm in Rmax.
【０１０８】（２）端面鏡面加工工程 次いで、スラリーを使用したブラシ研磨により、ガラス
基板を回転させながらガラス基板の端面部分（角張った
部位、側面及び面取部）の研磨を行い、角張った部位を
半径０．２〜１０ｍｍの曲面とするとともに、それらの
表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度
とした。(2) Step of Mirroring the End Surface Next, the edge portion (angular portion, side surface and chamfered portion) of the glass substrate is polished by brush polishing using a slurry while rotating the glass substrate, and the angular portion is formed. Are curved surfaces having a radius of 0.2 to 10 mm, and their surface roughness is about 1 μm in Rmax and about 0.3 μm in Ra.
【０１０９】上記端面鏡面加工を終えたガラス基板の表
面を水洗浄した。The surface of the glass substrate which had been subjected to the above-mentioned mirror polishing was washed with water.
【０１１０】（３）砂掛け（ラッピング）工程 次に、ガラス基板に砂掛け加工を施した。この砂掛け工
程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。
砂掛け加工は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒
度を＃４００、＃１０００と替えて２回行った。(3) Sanding (Wrapping) Step Next, the glass substrate was sanded. This sanding step aims at improving dimensional accuracy and shape accuracy.
The sanding process was performed using a lapping device, and was performed twice while changing the grain size of the abrasive grains to # 400 and # 1000.
【０１１１】詳しくは、はじめに、粒度＃４００のアル
ミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、
内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリ
ア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、
表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度にラッピングした。More specifically, first, a load L was set to about 100 kg using alumina abrasive grains having a grain size of # 400.
By rotating the internal rotation gear and the external rotation gear, both sides of the glass substrate housed in the carrier are surface-accurate 0-1 μm,
Lapping was performed to a surface roughness (Rmax) of about 6 μm.
【０１１２】次いで、アルミナ砥粒の粒度を＃１０００
に替えてラッピングを行い、表面粗さ（Ｒｍａｘ）２μ
ｍ程度とした。Next, the particle size of the alumina abrasive grains was changed to # 1000.
Perform lapping instead of surface roughness (Rmax) 2μ
m.
【０１１３】上記砂掛け加工を終えたガラス基板を、中
性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。The glass substrate that had been subjected to the sanding process was washed by immersing it sequentially in a washing bath of a neutral detergent and water.
【０１１４】（４）第一研磨工程 次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。(4) First Polishing Step Next, a first polishing step was performed. This first polishing step is intended to remove scratches and distortion remaining in the above sanding step, and was performed using a polishing apparatus.
【０１１５】詳しくは、ポリシャ（研磨粉）として硬質
ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：スピードファム
社製）を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施し
た。More specifically, the first polishing step was performed under the following polishing conditions using a hard polisher (cerium pad MHC15: manufactured by Speed Fam) as a polisher (polishing powder).
【０１１６】研磨液：酸化セリウム＋水 荷重：３００ｇ／ｃｍ2（Ｌ＝２３８ｋｇ） 研磨時間：１５分 除去量：３０μｍ 下定盤回転数：４０ ｒｐｍ 上定盤回転数：３５ ｒｐｍ 内ギア回転数：１４ ｒｐｍ 外ギア回転数：２９ ｒｐｍPolishing liquid: cerium oxide + water Load: 300 g / cm 2 (L = 238 kg) Polishing time: 15 minutes Removal amount: 30 μm Lower platen rotation speed: 40 rpm Upper platen rotation speed: 35 rpm Gear rotation speed in the inner part: 14 rpm Outer gear rotation speed: 29 rpm
【０１１７】上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、
洗浄した。After the first polishing step, the glass substrate is
Immerse in each washing tank of neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), IPA (steam drying) sequentially,
Washed.
【０１１８】（５）第二研磨工程 次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリラックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ2、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。(5) Second Polishing Step Next, using the polishing apparatus used in the first polishing step, the polisher was changed from a hard polisher to a soft polisher (Polyac: manufactured by Speedfam), and the second polishing step was performed. Carried out. The polishing conditions were the same as in the first polishing step, except that the load was 100 g / cm 2 , the polishing time was 5 minutes, and the removal amount was 5 μm.
【０１１９】上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピ
ルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次
浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加
した。The glass substrate after the second polishing step is
Washing was performed by sequentially immersing in a washing tank of a neutral detergent, a neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.
【０１２０】（６）化学強化工程 次に、上記研削、研磨工程を終えたガラス基板に化学強
化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝
酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意
し、この化学強化溶液を４００℃に加熱し、３００℃に
予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬して行
った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強
化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保
持されるようにホルダーに収納した状態で行った。(6) Chemical Strengthening Step Next, the glass substrate after the grinding and polishing steps was chemically strengthened. For the chemical strengthening, a chemical strengthening solution in which potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) are mixed is prepared, and the chemical strengthening solution is heated to 400 ° C., and the cleaned glass substrate preheated to 300 ° C. is washed. The immersion was performed for 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, the immersion was performed in a state where a plurality of glass substrates were housed in a holder so as to be held at end faces.
【０１２１】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。As described above, by performing the immersion treatment in the chemical strengthening solution, the lithium ions and the sodium ions on the surface layer of the glass substrate become sodium ions and
The glass substrate is strengthened by being respectively substituted by potassium ions.
【０１２２】ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層
の厚さは、約１００〜２００μｍであった。The thickness of the compressive stress layer formed on the surface of the glass substrate was about 100 to 200 μm.
【０１２３】上記化学強化を終えたガラス基板を、２０
℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持した。The glass substrate that has been chemically strengthened is
It was immersed in a water bath at a temperature of 10 ° C. and rapidly cooled and maintained for about 10 minutes.
【０１２４】上記急冷を終えたガラス基板を、約４０℃
に加熱した硫酸に浸漬し、超音波をかけながら洗浄を行
った。The glass substrate that has been quenched is heated to about 40 ° C.
The substrate was immersed in heated sulfuric acid and washed while applying ultrasonic waves.
【０１２５】上記の工程を経て得られたガラス基板を収
納容器に出し入れした後、ガラス基板表面を精密検査し
たところサーマル・アスペリティの原因となるパーティ
クルは認められなかった。After the glass substrate obtained through the above steps was taken in and out of the container, the surface of the glass substrate was subjected to a precision inspection, and no particles causing thermal asperity were found.
【０１２６】（７）磁気ディスク製造工程 上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＡｌＮのスパッタによるテクスチャー層、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜して磁気ディスクを得た。(7) Magnetic Disk Manufacturing Process A texture layer, a Cr underlayer, and a CrMo underlayer are formed on both surfaces of the magnetic disk glass substrate obtained through the above-described processes by using an in-line type sputtering apparatus by sputtering AlN. , A CoPtCrTa magnetic layer and a C protective layer were sequentially formed to obtain a magnetic disk.
【０１２７】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気ディスク
表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気
ディスク表面の突起に衝突すること）は認められなかっ
た。また、サーマル・アスペリティの原因となるパーテ
ィクルによって、磁性層等の膜に欠陥が発生していない
ことも確認できた。A glide test was performed on the obtained magnetic disk. As a result, no hit (the head touches a protrusion on the magnetic disk surface) or crash (the head collides with the protrusion on the magnetic disk surface) was not recognized. . In addition, it was confirmed that no defect was generated in the film such as the magnetic layer due to the particles causing the thermal asperity.
【０１２８】さらに、グライドテストを終えた本実施例
の磁気ディスクについて、磁気抵抗型ヘッドで再生試験
を行ったが、複数のサンプル（５００枚）の全数につい
てサーマル・アスペリティによる再生の誤動作は認めら
れなかった。また、実施例１と同様にグライドテスト及
び欠陥検査（certification test）を行ったところ、膜
下欠陥不良率の低下、及び欠陥減少率の向上が認められ
た。Further, a reproduction test was performed on the magnetic disk of this embodiment after the glide test by using a magnetoresistive head. A reproduction malfunction due to thermal asperity was observed for all of a plurality of samples (500 sheets). Did not. A glide test and a defect test (certification test) were performed in the same manner as in Example 1. As a result, a decrease in the defect rate under the film and an increase in the defect reduction rate were recognized.
【０１２９】実施例７〜８ アルミノシリケートガラスの代わりにソーダライムガラ
ス（実施例７）、ソーダアルミノケイ酸ガラス（実施例
８）を用いたこと以外は実施例６と同様にして、磁気デ
ィスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得た。 Examples 7 and 8 Glass for magnetic disks was prepared in the same manner as in Example 6 except that soda lime glass (Example 7) and soda aluminosilicate glass (Example 8) were used instead of aluminosilicate glass. A substrate and a magnetic disk were obtained.
【０１３０】その結果、ソーダライムガラスの場合、ガ
ラス基板の端面部分の表面粗さは、Ｒｍａｘで１．５μ
ｍとなり、アルミノシリケートガラスに比べやや粗面で
はあったが、実用上問題はなかった。As a result, in the case of soda lime glass, the surface roughness of the end face of the glass substrate was 1.5 μm in Rmax.
m, which was slightly rougher than the aluminosilicate glass, but did not pose any practical problems.
【０１３１】実施例９ 実施例６で得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面
に、Ａｌ（膜厚５０オングストローム）／Ｃｒ（１００
０オングストローム）／ＣｒＭｏ（１００オングストロ
ーム）からなる下地層、ＣｏＰｔＣｒ（１２０オングス
トローム）／ＣｒＭｏ（５０オングストローム）／Ｃｏ
ＰｔＣｒ（１２０オングストローム）からなる磁性層、
Ｃｒ（５０オングストローム）保護層をインライン型ス
パッタ装置で形成した。 Example 9 On both surfaces of the magnetic disk glass substrate obtained in Example 6, Al (50 angstrom) / Cr (100
0 Å / CrMo (100 Å), CoPtCr (120 Å) / CrMo (50 Å) / Co
A magnetic layer made of PtCr (120 Å),
A Cr (50 Å) protective layer was formed by an in-line type sputtering apparatus.
【０１３２】上記基板を、シリカ微粒子（粒経１００オ
ングストローム）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水
とＩＰＡとテトラエトキシシランとの混合液）に浸し、
焼成することによってＳｉＯ2からなるテクスチャー機
能を持った保護層を形成し、さらに、この保護層上をパ
ーフロロポリエーテルからなる潤滑剤でディップ処理し
て潤滑層を形成して、ＭＲヘッド用磁気ディスクを得
た。The above substrate was immersed in an organic silicon compound solution (a mixed solution of water, IPA and tetraethoxysilane) in which fine silica particles (particle size: 100 Å) were dispersed,
A protective layer having a texture function made of SiO 2 is formed by firing, and a dip treatment is performed on the protective layer with a lubricant made of perfluoropolyether to form a lubricating layer. Got a disc.
【０１３３】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒットやクラッシュは認められ
なかった。また、磁性層等の膜に欠陥が発生していない
ことも確認できた。さらに、磁気抵抗型ヘッドによる再
生試験の結果、サーマル・アスペリティによる再生の誤
動作は認められなかった。When a glide test was performed on the obtained magnetic disk, no hit or crash was recognized. It was also confirmed that no defect occurred in the film such as the magnetic layer. Furthermore, as a result of a reproduction test using a magnetoresistive head, no reproduction malfunction due to thermal asperity was observed.
【０１３４】実施例１０ 下地層をＡｌ／Ｃｒ／Ｃｒとし、磁性層をＣｏＮｉＣｒ
Ｔａとしたこと以外は実施例９と同様にして薄膜ヘッド
用磁気ディスクを得た。 Example 10 The underlayer was made of Al / Cr / Cr, and the magnetic layer was made of CoNiCr.
A magnetic disk for a thin film head was obtained in the same manner as in Example 9 except that Ta was used.
【０１３５】上記磁気ディスクについて実施例９と同様
のことが確認された。It was confirmed that the above magnetic disk was the same as in Example 9.
【０１３６】以上好ましい実施例を挙げて本発明を説明
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not necessarily limited to the above embodiments.
【０１３７】例えば、ガラス基板の種類や磁性層の種類
は実施例のものに限定されない。For example, the type of the glass substrate and the type of the magnetic layer are not limited to those of the embodiment.
【０１３８】[0138]
【発明の効果】以上説明したように本第一発明では、ガ
ラス基板の端面を従来にないレベルの鏡面としているの
で、ヘッドクラッシュや、サーマル・アスペリティの原
因となるパーティクルが発生することがなく、サーマル
・アスペリティによる再生機能の低下を防止することが
できる。As described above, according to the first aspect of the present invention, since the end surface of the glass substrate is a mirror surface of an unprecedented level, particles which cause a head crash or thermal asperity are not generated. It is possible to prevent the reproduction function from deteriorating due to thermal asperity.
【０１３９】また、本第二本発明では、ガラス基板の端
面部分における面取部の両端の角張った部位を曲面とし
てあるので、ヘッドクラッシュや、サーマル・アスペリ
ティの原因となるパーティクルが発生することがなく、
サーマル・アスペリティによる再生機能の低下を防止す
ることができる。In the second aspect of the present invention, since the corners at both ends of the chamfered portion at the end face of the glass substrate are curved, particles which cause head crash or thermal asperity may be generated. Not
It is possible to prevent the reproduction function from deteriorating due to thermal asperity.
【０１４０】さらに、本発明では、サーマル・アスペリ
ティの原因となるパーティクルに起因する不良を回避で
き、より高品質の磁気記録媒体が高歩留まりで得られ
る。Further, according to the present invention, it is possible to avoid defects due to particles that cause thermal asperity, and to obtain a higher quality magnetic recording medium with a higher yield.
【図１】磁気記録媒体用ガラス基板の端面を示す拡大図
である。FIG. 1 is an enlarged view showing an end face of a glass substrate for a magnetic recording medium.
【図２】磁気記録媒体用ガラス基板の端面を示す拡大図
である。FIG. 2 is an enlarged view showing an end face of a glass substrate for a magnetic recording medium.
１ ガラス基板 Ａ 面取部 Ｂ 側壁部 Ｃ 面取部 ２ 側壁部（側面） ３ 面取部（連接面） ４ 主表面 ５ 端面部分 ６ 角張った部位 ７ 曲面 Reference Signs List 1 glass substrate A chamfered part B side wall part C chamfered part 2 side wall part (side surface) 3 chamfered part (connecting surface) 4 main surface 5 end face part 6 angular part 7 curved surface
Claims (16)
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面が、鏡面
であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。1. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one surface of the chamfered portion and the side wall portion is a mirror surface.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａ
が、１μｍ未満の鏡面であることを特徴とする磁気記録
媒体用ガラス基板。2. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of a chamfered portion and a side wall has a surface roughness Ra.
Is a mirror surface having a diameter of less than 1 μm.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａ
が、０．００１〜０．５μｍの範囲の鏡面であることを
特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。3. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of a chamfered portion and a side wall has a surface roughness Ra.
Is a mirror surface in the range of 0.001 to 0.5 μm.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さＲａ
が、０．００１〜０．１μｍの範囲の鏡面であることを
特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。4. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of a chamfered portion and a side wall has a surface roughness Ra.
Is a mirror surface in the range of 0.001 to 0.1 μm.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、
Ｒｍａｘ：０．０１〜４μｍの範囲の鏡面であることを
特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。5. The glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered portion and the side wall has a surface roughness of:
Rmax: a glass substrate for a magnetic recording medium having a mirror surface in the range of 0.01 to 4 μm.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、
Ｒｍａｘ：０．０１〜２μｍの範囲の鏡面であることを
特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。6. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of a chamfered portion and a side wall has a surface roughness of:
Rmax: a glass substrate for a magnetic recording medium having a mirror surface in the range of 0.01 to 2 μm.
取部及び側壁部のうちの少なくとも一方の表面粗さが、
Ｒｍａｘ：０．０１〜１μｍの範囲の鏡面であることを
特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。7. The glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the chamfered part and the side wall part has a surface roughness of:
Rmax: a glass substrate for a magnetic recording medium having a mirror surface in the range of 0.01 to 1 μm.
の主表面とガラス基板の側面との間に面取りによる面取
部を設けた磁気記録媒体用ガラス基板であって、 ガラス基板の側面と面取部との間、及びガラス基板の主
表面と面取部との間のうちの少なくとも一方に、半径
０．２〜１０ｍｍの曲面を介在させたことを特徴とする
磁気記録媒体用ガラス基板。8. A glass substrate for a magnetic recording medium having a chamfered portion formed by chamfering between a main surface of a glass substrate on which a thin film including a magnetic layer is formed and a side surface of the glass substrate. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein a curved surface having a radius of 0.2 to 10 mm is interposed between at least one of the chamfered portion and the main surface of the glass substrate and the chamfered portion. .
ラス基板であって、表面粗さＲａが２ｎｍ以下の主表面
を持つことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。9. The glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the glass substrate has a main surface having a surface roughness Ra of 2 nm or less.
ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成したことを特
徴とする磁気記録媒体。10. A magnetic recording medium comprising at least a magnetic layer formed on the glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 1.
大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁気記録
媒体であることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録
媒体。11. The magnetic recording medium according to claim 10, wherein the magnetic recording medium is a magnetic recording medium compatible with a magnetoresistive head (MR head) or a large magnetoresistive head (GMR head).
ことを特徴とする請求項１０又は１１記載の磁気記録媒
体。12. The magnetic recording medium according to claim 10, wherein the magnetic layer is a CoPt-based magnetic layer.
パーティクルの発生を防止するためガラス基板の端面を
鏡面研磨又は機械研磨することを特徴とする磁気記録媒
体用ガラス基板の製造方法。13. A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, comprising mirror-polishing or mechanical polishing the end surface of a glass substrate to prevent generation of particles that cause thermal asperity.
パーティクルの発生を防止するためにガラス基板の側面
と面取部とが交差する部位、及びガラス基板の主表面と
面取部とが交差する部位のうちの少なくとも一方を研磨
して曲面にすることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス
基板の製造方法。14. A portion where a side surface of a glass substrate intersects a chamfered portion and a portion where a main surface of a glass substrate intersects a chamfered portion to prevent generation of particles causing thermal asperity. A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, wherein at least one of the glass substrates is polished to a curved surface.
粒、スラリーから選ばれた少なくとも一種と、研磨ブラ
シ、研磨パッド、砥石から選ばれた一種によって行われ
ることを特徴とする請求項１３又は１４記載の磁気記録
媒体用ガラス基板の製造方法。15. The polishing is performed by at least one selected from an abrasive, fixed abrasive, free abrasive, and slurry, and one selected from a polishing brush, a polishing pad, and a grindstone. 15. The method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium according to 13 or 14.
って製造された磁気記録媒体用ガラス基板上に、少なく
とも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。16. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: forming at least a magnetic layer on a glass substrate for a magnetic recording medium manufactured by the method according to claim 13. Description:
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