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JPH10134705A - Forming method for fine partitioning wall - Google Patents

Forming method for fine partitioning wall

Info

Publication number
JPH10134705A
JPH10134705A JP30388396A JP30388396A JPH10134705A JP H10134705 A JPH10134705 A JP H10134705A JP 30388396 A JP30388396 A JP 30388396A JP 30388396 A JP30388396 A JP 30388396A JP H10134705 A JPH10134705 A JP H10134705A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine
mold
partition
glass substrate
partition wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP30388396A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3660449B2 (en
Inventor
Motoyasu Nakanishi
幹育 中西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzuki Sogyo Co Ltd
Original Assignee
Suzuki Sogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzuki Sogyo Co Ltd filed Critical Suzuki Sogyo Co Ltd
Priority to JP30388396A priority Critical patent/JP3660449B2/en
Publication of JPH10134705A publication Critical patent/JPH10134705A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3660449B2 publication Critical patent/JP3660449B2/en
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Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/082Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses having profiled, patterned or microstructured surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/41Profiled surfaces
    • C03B2215/412Profiled surfaces fine structured, e.g. fresnel lenses, prismatic reflectors, other sharp-edged surface profiles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved forming method for a fine partitioning implementing a fine patterning and a large scale picture place. SOLUTION: A material for a partitioning wall is fitted in a fine pattern groove 11 having a fine striped pattern or a fine checkered pattern in a mold. Afterwards these a glass substrate are fitted to each other. Next, after the partitioning wall material is somewhat cured the mold is separated from the glass substrate. Then, the material is subjected to complete curing. The mold is formed out of a semicured silicone rubber sheet 2 being subjected to heat press with a master metallic mold 1. Accordingly a fine partitioning wall having a required height is obtained at a time without making a lap printing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルにおける隔壁やその他のディスプレイパネル
等で必要とされる微細隔壁の形成方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a partition wall in a plasma display panel and a fine partition wall required for other display panels and the like.

【0002】[0002]

【発明の背景】例えば、プラズマディスプレイパネル
は、簡単には第6図に示すように、前面パネルAと背面
パネルBとを、両パネルにそれぞれ形成したストライプ
状電極A1、B1が互いに直角に対向するよう重ね合わ
せ、その交点におけるストライプ状または格子状の隔壁
C内で放電を起こすことにより発光する。ストライプ状
または格子状の隔壁Cは、光のクロストークを防ぐとと
もに画面のコントラストを作るために設けられている。
この隔壁は非常に微細なものであり、例えば、ストライ
プ状のものにあっては、今や、幅約30μm、高さ約2
00μm程度で、100μm程度の間隔でパネル全面に
わたって形成されることが要求されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION For example, in a plasma display panel, as shown in FIG. 6, a front panel A and a rear panel B are formed by forming stripe electrodes A1 and B1 formed on both panels at right angles to each other. Light is emitted by causing a discharge in the stripe-shaped or lattice-shaped partition C at the intersection. The stripe-shaped or lattice-shaped barrier ribs C are provided to prevent light crosstalk and to provide a screen contrast.
This partition is very fine. For example, in the case of a stripe, the partition is now about 30 μm in width and about 2 μm in height.
It is required to be formed over the entire surface of the panel at intervals of about 100 μm at about 00 μm.

【0003】この隔壁は、一般にスクリーン印刷によっ
て形成するのであるが、ガラスペーストの印刷、乾燥
を、毎回位置合わせして10回程度繰り返す、所謂重ね
刷りをして得ている。この他の方法として、ガラスペー
ストをガラス基板の全面に塗布、フォトレジストで被
覆、露光、現像の後、レジストパターンに被覆されない
部分をサンドブラストし、その後に焼成して得る方法等
が試みられている。
The partition walls are generally formed by screen printing, and are obtained by so-called overprinting, in which printing and drying of a glass paste is repeated about 10 times each time with positioning. As another method, a method of applying a glass paste on the entire surface of a glass substrate, coating with a photoresist, exposing, developing, sandblasting a portion that is not covered with a resist pattern, and then sintering has been attempted. .

【0004】しかしながら、前者のスクリーン印刷によ
る隔壁形成の方法では、毎回の位置合わせとスクリーン
の歪みとが、ファインパターン化、大画面化に際しての
大きな障害となっている。また、後者のサンドブラスト
による方法では、ブラスト深さに不均一を生じ易いこと
が、ファインパターン化、大画面化に際しての大きな障
害となっている。
However, in the former method of forming partition walls by screen printing, the alignment and the distortion of the screen each time are a major obstacle in forming a fine pattern and increasing the screen size. Further, in the latter method using sand blast, unevenness in blast depth is liable to occur, which is a major obstacle in forming a fine pattern and increasing the screen size.

【0005】[0005]

【解決を試みた技術的事項】そこで、本出願人は、所謂
凹版印刷式にプラズマディスプレイパネル等における微
細隔壁を形成できないかとの考えから、種々試行した結
果、本発明をするに至ったものであり、従来の形成方法
が問題としていたファインパターン化、大画面化を可能
とする新たなる微細隔壁の形成方法を提供しようとする
ものである。
Accordingly, the present applicant has made various attempts based on the idea that fine partition walls in a plasma display panel or the like may be formed in a so-called intaglio printing method, and as a result, the present invention has been accomplished. An object of the present invention is to provide a new method of forming fine partition walls, which enables fine patterning and a large screen, which are problems of the conventional forming method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち、請求項1記載
の微細隔壁の形成方法は、成形型における微細ストライ
プ状または微細格子状の微細パターン溝内へ隔壁材料を
埋め込む工程と、その後これらとガラス基板とを重ね合
わせる工程と、該隔壁材料が多少とも硬化した状態以降
においてガラス基板から成形型を脱型させる工程と、該
隔壁材料を完全硬化させる工程とを具えるとともに、成
形型はシリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化
シリコーンシートを出発材料とし、このものをマスター
金型によってヒートプレスすることによって、その微細
ストライプ状または微細格子状の微細パターン溝を転写
形成していることを特徴とするものである。そして、こ
のような発明特定事項を手段とすることによって、所謂
凹版印刷式に厚膜印刷するような形成方法であっても、
隔壁材料が多少とも硬化した状態以降において成形型を
脱型させるようにしているから隔壁材料のダレは防止さ
れ、また、脱型できるまで占用されてしまう成形型を、
シリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコ
ーンシートを出発材料とし、このものをマスター金型に
よってヒートプレスすることによって、幾つでも簡単に
複製的に得られるようにして対処しており、量産性を保
ちつつ、前記課題の解決が図られるのである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of forming a fine partition wall, the step of embedding a partition material in a fine pattern groove of a fine stripe or a fine lattice in a molding die, and then forming a glass with the material. A step of superimposing the substrate, a step of releasing the mold from the glass substrate after the partition material is hardened at least, and a step of completely curing the partition material. A semi-cured silicone sheet, which was made into a sheet by semi-curing, was used as a starting material, and this was heat-pressed with a master mold to transfer and form the fine pattern grooves in the form of fine stripes or fine lattices. It is a feature. And, by using such specific features of the invention as a means, even in a method of forming a thick film by a so-called intaglio printing method,
Since the mold is released from the mold after the partition material is hardened to some extent, the sagging of the partition material is prevented, and the mold that is occupied until it can be removed,
Starting from a semi-cured silicone sheet, which is a semi-cured sheet made of silicone rubber, and heat-pressing this with a master mold so that any number can be easily duplicated. The above-mentioned problem can be solved while maintaining the characteristics.

【0007】また、請求項2記載の微細隔壁の形成方法
は、前記要件に加え、前記シリコーンゴムは、湿式法に
よる疎水性シリカを含有する透明シリコーンゴムである
ことを特徴とするものである。そして、このような発明
特定事項を手段とすることによって、成形型の耐久性を
さらに向上させつつ、隔壁材料の埋め込み状況も良く確
認できて、量産性を保ちつつ、前記課題の解決が図られ
るのである。
The method of forming a fine partition according to a second aspect is characterized in that, in addition to the above requirements, the silicone rubber is a transparent silicone rubber containing hydrophobic silica by a wet method. By using such invention-specifying items as means, while further improving the durability of the mold, the embedding state of the partition wall material can be well confirmed, and the above-mentioned problem can be solved while maintaining mass productivity. It is.

【0008】また、請求項3記載の微細隔壁の形成方法
は、前記要件に加え、前記成形型は、微細ストライプ状
または微細格子状の微細パターン溝が転写形成された硬
化シリコーンシートに板状体が積層されていることを特
徴とするものである。そして、このような発明特定事項
を手段とすることによって、成形型の扱い、特に成形型
とガラス基板とを重ね合わせる工程動作やガラス基板か
ら成形型を脱型させる工程動作が行い易くなって、前記
課題の解決が図られるのである。
According to a third aspect of the present invention, in addition to the above-described requirements, the molding die may be a plate-like body formed on a cured silicone sheet on which fine pattern grooves of a fine stripe or a fine lattice are transferred and formed. Are laminated. And, by using such invention specific items as means, handling of the mold, in particular, the step operation of overlapping the mold and the glass substrate and the step operation of removing the mold from the glass substrate become easy to perform, This solves the problem.

【0009】更にまた、請求項4に記載の微細隔壁の形
成方法は、前記要件に加え、前記隔壁材料として、メチ
ル基もしくはフェニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンを主剤とし、アルコキシ基、アシロキシ基、オキシム
基等の官能性側鎖を有するオルガノシロキサンを架橋剤
とし、これに硬化触媒を加えたものを使用することを特
徴とする。そして、このような発明特定事項を手段とす
ることによって、良好な作業性を確保した上で比較的低
温でも隔壁材料を硬化、ガラス化させることができ、前
記課題の解決が図られるのである。
Further, in addition to the above requirements, the method for forming a fine partition according to claim 4 is characterized in that, as the partition material, an organopolysiloxane having a methyl group or a phenyl group is used as a main component, and an alkoxy group, an acyloxy group, and an oxime are used. It is characterized in that an organosiloxane having a functional side chain such as a group is used as a crosslinking agent and a curing catalyst is added thereto. By using such specific items of the invention as a means, it is possible to harden and vitrify the partition wall material even at a relatively low temperature while securing good workability, and the above-mentioned problem is solved.

【0010】更にまた、請求項5に記載の微細隔壁の形
成方法は、同様に、前記隔壁材料として、ペルヒドロポ
リシラザンを使用することを特徴とする。そして、この
ような発明特定事項を手段とすることによっても、良好
な作業性を確保した上で比較的低温でも隔壁材料を硬
化、ガラス化させることができ、前記課題の解決が図ら
れるのである。
Further, the method for forming a fine partition according to a fifth aspect is characterized in that a perhydropolysilazane is similarly used as the partition material. Also, by using such specific features of the invention as a means, the partition material can be hardened and vitrified even at a relatively low temperature while ensuring good workability, and the above-mentioned problem can be solved. .

【0011】更にまた、請求項6に記載の微細隔壁の形
成方法は、前記要件に加え、前記ガラス基板は、プラズ
マディスプレイパネル用のガラス基板であることを特徴
とする。そして、このような発明特定事項を手段とする
ことによって、プラズマディスプレイパネルにおける微
細隔壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さに得る
ことができて、前記課題の解決が図られるのである。
Further, in the method of forming a fine partition according to claim 6, in addition to the above requirements, the glass substrate is a glass substrate for a plasma display panel. By using such specific features of the invention as a means, the fine partition walls in the plasma display panel can be obtained at a desired height at one time without overprinting, and the above-mentioned problem is solved.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図示の実施の形態を例にと
って、本発明微細隔壁の形成方法について種々の実施の
態様を織り交ぜながら説明する。図1において、1はマ
スター金型であり、このマスター金型1は、後述する成
形型における微細パターン溝の反転像としての微細スト
ライプ状または微細ドット状の微細パターン溝11が刻
設されて成る。なお、このマスター金型1には、耐錆
性、加工性、仕上がり性、寸法精度等に優れる金属が使
用され、精密な切削加工や放電加工等により微細パター
ン溝11が形成されている。この微細パターン溝11
は、例えば、深さ200μm、幅60μm、間隔160
μm程度の微細ストライプ状に形成される。なお、格子
状の微細隔壁を必要とする場合には、微細ストライプ状
の微細パターン溝11に替えて、これを直交させたよう
な微細ドット状の微細パターン溝が形成されることとな
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The method of forming a fine partition wall according to the present invention will be described with reference to the illustrated embodiment as an example while interweaving various embodiments. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a master mold, and the master mold 1 is formed by engraving a fine stripe groove or fine dot groove 11 as an inverted image of a fine pattern groove in a molding die described later. . The master mold 1 is made of a metal having excellent rust resistance, workability, finishability, dimensional accuracy, and the like, and the fine pattern groove 11 is formed by precision cutting or electric discharge machining. This fine pattern groove 11
Is, for example, a depth of 200 μm, a width of 60 μm, and an interval of 160 μm.
It is formed in a fine stripe shape of about μm. When a grid-like fine partition is required, a fine dot-like fine pattern groove is formed instead of the fine stripe-like fine pattern groove 11.

【0013】2は、シリコーンゴムを半硬化でシート状
とした半硬化シリコーンシートであり、この段階では可
塑状態であるが、その後の加熱により完全硬化してゴム
状弾性体となるものである。また、この半硬化シリコー
ンシート2は、これに何らかの微細凹凸面を押し当てて
加熱硬化させると、その微細凹凸を精密、精緻に反転複
製できるものである。このような半硬化シリコーンシー
トに、東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社販売
のSOTEFA(ソテファ−商品名−)がある。このも
のは、0.6〜2mm程度の半硬化シート状であるとと
もに、接着性があって、フィルム状高透明シリコーンゴ
ム接着剤として販売されており、SOTEFA−70な
るものは、130℃、20〜30分で、JIS A硬度
で70程度に硬化するものとされている。また、このも
のは、特公昭61−56255号や特公昭62−240
13号に開示されるごとく、湿式法による疎水性シリカ
を含有して、高透明で、物性強化されたシリコーンゴム
となっている。3は、アルミ板等の板状体であり、半硬
化シリコーンシート2に積層させて剛性を付与して、一
体の成形型として扱い易くするためのものである。な
お、半硬化シリコーンシート2のみが硬化した状態より
剛性が上がればよいので、この板状体3は金属でなくて
も、強化ガラス板や耐熱樹脂板等であってもよい。ま
た、半硬化シリコーンシート2との接合強化のため、板
状体3の接合面は前もって荒らしておいたり、プライマ
ー処理しておくのがよく、熱膨張率も低いものが望まし
い。
Reference numeral 2 denotes a semi-cured silicone sheet in which silicone rubber is semi-cured and formed into a sheet. The semi-cured silicone sheet is in a plastic state at this stage, but is completely cured by heating to become a rubber-like elastic body. Further, when the semi-cured silicone sheet 2 is heated and cured by pressing some fine uneven surface against the semi-cured silicone sheet 2, the fine unevenness can be reversely and precisely replicated. One such semi-cured silicone sheet is SOTEFA (trade name) sold by Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. This is in the form of a semi-cured sheet having a thickness of about 0.6 to 2 mm, and has an adhesive property and is sold as a film-like highly transparent silicone rubber adhesive. It is supposed that it will be cured to about 70 in JIS A hardness in about 30 minutes. In addition, this is disclosed in JP-B-61-56255 and JP-B-62-240.
As disclosed in No. 13, the silicone rubber contains hydrophobic silica obtained by a wet method, and is highly transparent and has enhanced physical properties. Reference numeral 3 denotes a plate-like body such as an aluminum plate, which is laminated on the semi-cured silicone sheet 2 so as to impart rigidity so that it can be easily handled as an integrated mold. Note that the rigidity only needs to be higher than the state in which only the semi-cured silicone sheet 2 is cured, so that the plate-like body 3 may be a tempered glass plate or a heat-resistant resin plate, instead of metal. Further, in order to strengthen the bonding with the semi-cured silicone sheet 2, the bonding surface of the plate-like body 3 is preferably roughened or primed in advance, and preferably has a low coefficient of thermal expansion.

【0014】そこで、これらをヒートプレス機Pの固定
盤P1と可動盤P2との間に、下からマスター金型1、
半硬化シリコーンシート2、板状体3の順で配した後、
可動盤P2を降下させ、例えば、圧力50gf/c
2、温度130℃下に、25分間程放置して半硬化シ
リコーンシート2を完全硬化させる。なお、図示しない
が、これらを均一に押圧できるように、熱伝導性の良い
クッション材を、固定盤P1や可動盤P2の間に挟むよ
うにしてもよい。その後、可動盤P2を上昇させて取り
出したら、マスター金型1と半硬化シリコーンシート2
とが密着した間を剥がす。半硬化シリコーンシート2が
完全硬化した硬化シリコーンシート20には、マスター
金型1の微細パターン溝11がその反転像として転写さ
れ、微細ストライプ状の微細パターン溝21が形成され
ている。また同時に、硬化シリコーンシート20は板状
体3と接着された状態ともなっており、図2に示すとお
り、微細ストライプ状の微細パターン溝21が形成さ
れ、板状体3で裏打ちされたような、一体状の成形型4
が得られることとなる。勿論、板状体を積層せず、硬化
シリコーンシートのみで成形体を構成してもよいが、そ
の場合には、半硬化シリコーンシートとして厚手のもの
が必要となる。何れにせよ、成形型4は、マスター金型
1から簡単に複製的に作られるので、低コストで数多く
用意することができる。
Therefore, these are placed between the fixed plate P1 and the movable plate P2 of the heat press machine P from below in the master mold 1,
After arranging the semi-cured silicone sheet 2 and the plate-like body 3 in this order,
The movable platen P2 is lowered, for example, at a pressure of 50 gf / c.
The semi-cured silicone sheet 2 is completely cured by leaving it at m 2 and a temperature of 130 ° C. for about 25 minutes. Although not shown, a cushion material having good thermal conductivity may be interposed between the fixed board P1 and the movable board P2 so that they can be pressed uniformly. Thereafter, when the movable platen P2 is lifted and taken out, the master mold 1 and the semi-cured silicone sheet 2 are removed.
Peel off the contact between the and. On the cured silicone sheet 20 in which the semi-cured silicone sheet 2 is completely cured, the fine pattern grooves 11 of the master mold 1 are transferred as an inverted image thereof, and fine stripe grooves 21 are formed. At the same time, the cured silicone sheet 20 is also in a state of being bonded to the plate-like body 3, as shown in FIG. Integrated mold 4
Is obtained. Needless to say, the molded body may be constituted only by a cured silicone sheet without laminating the plate-like bodies, but in this case, a thick semi-cured silicone sheet is required. In any case, the mold 4 can be easily duplicated from the master mold 1, so that many molds 4 can be prepared at low cost.

【0015】このようにして成形型4が得られたら、こ
れを微細パターン溝21が上になるようにして平坦な台
の上に置き、図3に示すように、この微細ストライプ状
の微細パターン溝21内に隔壁材料5を埋め込み、余剰
の隔壁材料5はスキージして取り除く。なお、半硬化シ
リコーンシート2としてSOTEFAを用いるとともに
板状体3にも透明なものを用いたときには、この成形体
4を透明化することができて、隔壁材料5の埋め込み状
況、充填不具合をよく確認できて、不良原因を事前に除
去することができる。また、図3のように隔壁材料5を
成形体4の上面全体に流し出して行うのではなく、スク
リーン版または単なるマスクで微細パターン溝21以外
の処を被覆して、微細パターン21内へのみ隔壁材料5
が埋め込まれるように工夫してもよいこと勿論である。
隔壁材料5としては、焼成後に緻密化して黒色の絶縁層
を形成する従来組成のガラスペースト等であっても良い
が、この例では、ホーマーテクノロジー株式会社販売の
ヒートレスガラス(HEATLESS GLASS−商
品名−)に黒色顔料の他、東芝シリコーン株式会社販売
のトスパール(商標名)を添加したものを用いることと
した。
When the molding die 4 is obtained in this manner, the molding die 4 is placed on a flat table with the fine pattern grooves 21 facing upward, and as shown in FIG. The partition wall material 5 is embedded in the groove 21, and excess partition wall material 5 is removed by squeegeeing. When SOTEFA is used as the semi-cured silicone sheet 2 and a transparent material is used for the plate-like body 3, the molded body 4 can be made transparent, and the embedding state of the partition wall material 5 and the filling defect can be reduced. The cause can be confirmed, and the cause of the defect can be removed in advance. Further, as shown in FIG. 3, instead of flowing the partition wall material 5 over the entire upper surface of the molded body 4, a portion other than the fine pattern grooves 21 is covered with a screen plate or a simple mask, and only the inside of the fine pattern 21 is covered. Partition wall material 5
Of course may be devised so as to be embedded.
The partition wall material 5 may be a glass paste of a conventional composition which densifies after firing to form a black insulating layer, but in this example, a heatless glass (HEATLESS GLASS-trade name) sold by Homer Technology Co., Ltd. −) To which black pigment and Tospearl (trade name) sold by Toshiba Silicone Co., Ltd. are added.

【0016】ヒートレスガラスは、言わば一液タイプの
シリカ溶液で、低温加熱や常温乾燥でも各種基材に硬質
で密着性に優れた非晶質なセラミックス層を形成するも
のである。そして、このものは、主剤、架橋剤、硬化触
媒の三者で構成されており、含有珪素成分(SiO2
が換算で40%以上含有し、また、溶剤、水もしくは水
酸基を含有しないものである。なお、主剤はメチル基も
しくはフェニル基を有するオルガノポリシロキサンであ
り、架橋剤はアルコキシ基、アシロキシ基、オキシム基
等の官能性側鎖を有するオルガノシロキサンであり、硬
化触媒はZn、Al、Co、Sn等の含金属有機化合物
およびハロゲンである。また、その硬化機構は、主剤オ
ルガノポリシロキサンの官能基が、まず空気中の水分に
より加水分解を受けて水酸基に変化し、次に該オルガノ
ポリシロキサンの水酸基を架橋剤オルガノシロキサンの
官能基がアタックし、硬化触媒の作用も受けて脱アルコ
ール反応を起こし、三次元構造の高分子化合物たるポリ
シロキサン硬化体を形成すると考えられている。所謂ゾ
ル−ゲル法による金属アルコキシド縮合物となる。
The heatless glass is a so-called one-part type silica solution, which forms an amorphous ceramic layer which is hard and has excellent adhesion to various substrates even when heated at low temperature or dried at room temperature. This product is composed of a base material, a cross-linking agent, and a curing catalyst, and contains silicon component (SiO 2 ).
Contains 40% or more in terms of conversion and does not contain a solvent, water or a hydroxyl group. The main agent is an organopolysiloxane having a methyl group or a phenyl group, the crosslinking agent is an organosiloxane having a functional side chain such as an alkoxy group, an acyloxy group, and an oxime group, and the curing catalyst is Zn, Al, Co, Metal-containing organic compounds such as Sn; and halogens. Further, the curing mechanism is such that the functional group of the main component organopolysiloxane is firstly hydrolyzed by moisture in the air to change to a hydroxyl group, and then the hydroxyl group of the organopolysiloxane is attacked by the functional group of the crosslinking agent organosiloxane. However, it is considered that a dealcoholation reaction is caused by the action of a curing catalyst to form a cured polysiloxane, which is a polymer compound having a three-dimensional structure. It becomes a metal alkoxide condensate by a so-called sol-gel method.

【0017】また、トスパールは、シロキサン結合が三
次元に伸びた網状構造で、珪素原子に1個のメチル基が
結合した無機と有機の中間的な構造を有するシリコーン
樹脂微粒子であり、焼成して真球状シリカ微粒子が得ら
れるものである。したがって、トスパールがヒートレス
ガラスに添加されて焼成された場合には、ヒートレスガ
ラスがゾル化、ゲル化、硬化してゆく間に、トスパール
もシリカ化し、全体でガラス化する。そして、このトス
パールの添加により、液状時のヒートレスガラスのチク
ソトロピー性が改善されるとともに、焼成時の退け、体
積縮小をヒートレスガラス単独のときより少なくするこ
とができる。
Tospearl is a silicone resin fine particle having a network structure in which siloxane bonds extend three-dimensionally and having an intermediate structure between inorganic and organic in which one methyl group is bonded to a silicon atom. True spherical silica fine particles are obtained. Therefore, when Tospearl is added to the heatless glass and baked, the Tospearl is also converted to silica and vitrified as a whole while the heatless glass turns into a sol, gel, and hardens. The addition of tospearl improves the thixotropy of the heatless glass in a liquid state, and can reduce rejection and volume reduction during firing as compared to the case of using the heatless glass alone.

【0018】次ぎは、図4に示すように、隔壁材料5を
埋め込んだ成形型4上に、プラズマディスプレイパネル
用のガラス基板6を載置する。なお、このガラス基板6
の表面には、図示しないストライプ状の透明電極等が形
成されている。すなわち、普通、ガラス基板には、交流
方式のパネルにあってはアドレス用電極が形成された
後、直流方式のパネルにあってはアノード・バス線エッ
チング、抵抗印刷、絶縁層印刷、アノード印刷の後に、
微細隔壁が形成されるようになっている。そして、ガラ
ス基板6と成形型4とが多少とも押圧された状態となる
よう、両者をクランプしたり、荷重を掛けた状態とし
て、所定温度下で所定時間放置する。この所定温度下で
所定時間とは、隔壁材料5が多少とも硬化して脱型がで
き、かつ脱型後も隔壁材料がダレない、温度と時間であ
り、数値的には隔壁材料の組成等との関係から一概には
言えず、経験的に求めることとなる。ともかく隔壁材料
が多少とも硬化して脱型できるようになったら、図5に
示すごとく、成形型4をガラス基板6から脱型させる。
その後、用いた隔壁材料に見合った加熱焼成等を行え
ば、例えば、幅60μm、高さ200μm弱、間隔16
0μmの微細ストライプ状の隔壁50が形成されたプラ
ズマディスプレイパネル用のガラス基板が出来上がるこ
ととなる。脱型した成形型4は、変形したり、微細な傷
等を生じていなければ、再使用が可能であるため、再び
前記最初の工程へと戻して使ってゆくこととなる。勿
論、損傷等があれば、その成形型は廃棄すればよい。
Next, as shown in FIG. 4, a glass substrate 6 for a plasma display panel is placed on the mold 4 in which the partition wall material 5 is embedded. The glass substrate 6
A transparent electrode or the like (not shown) is formed on the surface. That is, usually, an address electrode is formed on an AC type panel on a glass substrate, and then an anode / bus line etching, resistance printing, insulating layer printing, anode printing is performed on a DC type panel. later,
Fine partition walls are formed. Then, the glass substrate 6 and the molding die 4 are left for a predetermined period of time at a predetermined temperature in a state where they are clamped or a load is applied so that they are pressed somewhat. The predetermined time at the predetermined temperature is a temperature and a time at which the partition material 5 hardens to some extent and can be removed from the mold, and the partition material does not sag even after the removal from the mold. It cannot be said unconditionally from the relationship with, and will be determined empirically. In any case, when the partition wall material is hardened somewhat and the mold can be removed, the mold 4 is removed from the glass substrate 6 as shown in FIG.
After that, if heat baking or the like according to the used partition wall material is performed, for example, the width is 60 μm, the height is less than 200 μm, and the interval is 16 μm.
Thus, a glass substrate for a plasma display panel on which fine-striped partition walls 50 of 0 μm are formed is completed. The removed mold 4 can be reused as long as it has not been deformed or has a fine scratch or the like, so that the mold 4 is returned to the first step and used again. Of course, if there is damage, the mold may be discarded.

【0019】なお、以上の説明では、隔壁材料としてヒ
ートレスガラスを使用するものとして説明したが、例え
ば、ペルヒドロポリシラザン等の無機ポリマーも使用す
ることもできる。ペルヒドロポリシラザンは、構造式が
[SiHaNHbn(但し、aは1〜3、bは0または
1)で表される熱硬化性の無機シラザン(セラミックス
前駆体ポリマー)であり、このペルヒドロポリシラザン
を成分とする隔壁材料は、微細ストライプ状または微細
格子状の微細パターン溝内に埋め込まれ、所定の雰囲気
と温度で焼成してセラミックスの硬質層となる。なお、
このようなペルヒドロポリシラザンとしては東燃株式会
社販売の東燃ポリシラザン(商標名)がある。勿論、こ
れらに限られるものでなく、その他のセラミック前駆体
ポリマー等も隔壁材料として使用することができる。
Although the above description has been made on the assumption that heatless glass is used as the partition wall material, for example, an inorganic polymer such as perhydropolysilazane can also be used. Perhydropolysilazane structural formula [SiH a NH b] n (where, a is 1 to 3, b is 0 or 1) a thermosetting inorganic silazane represented by (ceramic precursor polymer), this The partition wall material containing perhydropolysilazane is embedded in the fine pattern grooves in the form of fine stripes or fine lattices and fired at a predetermined atmosphere and temperature to form a ceramic hard layer. In addition,
As such perhydropolysilazane, there is Tonen polysilazane (trade name) sold by Tonen Corporation. Of course, the present invention is not limited to these, and other ceramic precursor polymers and the like can also be used as the partition wall material.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の微細隔壁の形成方法は、以上述
べた実施の形態によって具現化される請求項1〜6に記
載された発明特定事項を有することによって成るもので
あって、このような発明特定事項を有することによって
以下述べるような種々の効果が発揮される。すなわち、
請求項1に記載された発明特定事項では、所謂凹版印刷
式に厚膜印刷するような形成方法であっても、隔壁材料
が多少とも硬化した状態以降において成形型を脱型させ
るようにしているから隔壁材料のダレは防止され、ま
た、脱型できるまで占用されてしまう成形型を、シリコ
ーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコーンシ
ートを出発材料とし、このものをマスター金型によって
ヒートプレスすることによって、幾つでも簡単に複製す
るようにして対処し、量産性を保ちつつ、ファインパタ
ーン化、大画面化にも対応して微細隔壁を得ることがで
きる。
The method for forming a fine partition according to the present invention has the features specified in claims 1 to 6 embodied by the above-described embodiments. Various effects as described below are exhibited by having various invention specific items. That is,
According to the invention specifying matter described in claim 1, even if the formation method is so-called intaglio printing type thick film printing, the mold is released from the mold after the partition material is hardened to some extent. The molding material that is prevented from sagging of the partition wall material and is occupied until it can be removed is used as a starting material, with a semi-cured silicone sheet made from silicone rubber semi-cured as a starting material, which is heated by a master mold. By pressing, any number of copies can be easily copied, and fine partition walls can be obtained corresponding to fine patterns and large screens while maintaining mass productivity.

【0021】また、請求項2に記載された発明特定事項
では、成形型の耐久性をさらに向上させつつ、隔壁材料
の埋め込み状況も良く確認できて、量産性を保ちつつ、
ファインパターン化、大画面化にも対応して微細隔壁を
得ることができる。
According to the second aspect of the present invention, while the durability of the mold is further improved, the embedding state of the partition wall material can be confirmed well, and the mass productivity can be maintained.
Fine partition walls can be obtained corresponding to fine patterning and large screen.

【0022】更にまた、請求項3に記載された発明特定
事項では、成形型の扱い、特に成形型とガラス基板とを
重ね合わせる工程動作やガラス基板から成形型を脱型さ
せる工程動作が行い易くなって、ファインパターン化、
大画面化にも対応して微細隔壁を得ることができる。
Furthermore, in the present invention, it is easy to handle a mold, and particularly to perform a step of superimposing a mold on a glass substrate and a step of removing a mold from a glass substrate. Become a fine pattern,
It is possible to obtain fine partition walls corresponding to a large screen.

【0023】更にまた、請求項4および請求項5に記載
された発明特定事項では、良好な作業性を確保した上で
比較的低温でも隔壁材料を硬化、ガラス化させることが
でき、ファインパターン化、大画面化にも対応して微細
隔壁を得ることができる。
Further, according to the present invention, the partition wall material can be hardened and vitrified even at a relatively low temperature while ensuring good workability, and a fine pattern can be formed. In addition, it is possible to obtain fine partition walls corresponding to a large screen.

【0024】更にまた、請求項6に記載された発明特定
事項では、プラズマディスプレイパネルにおける微細隔
壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さに、しかも
ファインパターン化、大画面化にも対応して得ることが
できる。なお、以上プラズマディスプレイパネルを例に
あげて説明したが、本発明はプラズマディスプレイパネ
ルに限らず、微細パターンでの隔壁を必要とするものに
は同様に施用できること勿論である。
Further, according to the present invention, the fine partition walls in the plasma display panel can be formed at a desired height at a time without overprinting, and can be formed into a fine pattern and a large screen. Can be obtained. Although the description has been given by taking the plasma display panel as an example, the present invention is not limited to the plasma display panel, and it is needless to say that the present invention can be similarly applied to those requiring a partition in a fine pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明微細隔壁の形成方法の一例における、半
硬化シリコーンシートを出発材料としてマスター金型か
ら成形型を得る工程を示すものである。
FIG. 1 shows a step of obtaining a mold from a master mold using a semi-cured silicone sheet as a starting material in one example of the method for forming a fine partition wall of the present invention.

【図2】同、得られた成形型の側面図である。FIG. 2 is a side view of the obtained mold.

【図3】同、成形型に隔壁材料を埋め込む工程を示すも
のである。
FIG. 3 shows a step of embedding a partition material in a molding die.

【図4】同、成形型にガラス基板を押し当てて隔壁材料
を硬化させる工程を示すものである。
FIG. 4 shows a step of pressing a glass substrate against a molding die to cure a partition wall material.

【図5】同、ガラス基板から成形型を脱型する工程を示
すものである。
FIG. 5 shows a step of releasing the mold from the glass substrate.

【図6】プラズマディスプレイの構造の一例を示す概略
斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing an example of the structure of a plasma display.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 前面パネル A1 ストライプ状電極 B 背面パネル B1 ストライプ状電極 C 隔壁 P ヒートプレス機 P1 固定盤 P2 可動盤 1 マスター金型 11 微細パターン溝 2 半硬化シリコーンシート 20 硬化シリコーンシート 21 微細パターン溝 3 板状体 4 成形型 5 隔壁材料 50 微細ストライプ状の隔壁 6 ガラス基板 Reference Signs List A Front panel A1 Stripe electrode B Back panel B1 Stripe electrode C Partition wall Heat press P1 Fixed plate P2 Movable plate 1 Master mold 11 Fine pattern groove 2 Semi-cured silicone sheet 20 Cured silicone sheet 21 Fine pattern groove 3 Plate shape Body 4 Mold 5 Partition material 50 Fine-striped partition 6 Glass substrate

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 成形型における微細ストライプ状または
微細格子状の微細パターン溝内へ隔壁材料を埋め込む工
程と、その後これらとガラス基板とを重ね合わせる工程
と、該隔壁材料が多少とも硬化した状態以降においてガ
ラス基板から成形型を脱型させる工程と、該隔壁材料を
完全硬化させる工程とを具えるとともに、成形型はシリ
コーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコーン
シートを出発材料とし、このものをマスター金型によっ
てヒートプレスすることによって、その微細ストライプ
状または微細格子状の微細パターン溝を転写形成してい
ることを特徴とする微細隔壁の形成方法。
1. A step of embedding a partition wall material in a fine pattern groove of a fine stripe or grid pattern in a molding die, a step of thereafter overlapping these with a glass substrate, and a step after the partition material is hardened to some extent In the method, a step of removing the mold from the glass substrate and a step of completely curing the partition material are provided, and the mold is a semi-cured silicone sheet obtained by semi-curing silicone rubber as a starting material. A method for forming a fine partition wall, wherein a fine pattern groove having a fine stripe shape or a fine lattice shape is transferred and formed by heat-pressing an object with a master mold.
【請求項2】 前記シリコーンゴムは、湿式法による疎
水性シリカを含有する透明シリコーンゴムであることを
特徴とする請求項1記載の微細隔壁の形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the silicone rubber is a transparent silicone rubber containing hydrophobic silica by a wet method.
【請求項3】 前記成形型は、微細ストライプ状または
微細格子状の微細パターン溝が転写形成された硬化シリ
コーンシートに板状体が積層されていることを特徴とす
る請求項1または2記載の微細隔壁の形成方法。
3. The molding die according to claim 1, wherein a plate-like body is laminated on a cured silicone sheet on which a fine pattern groove of a fine stripe or a fine lattice is transferred and formed. A method for forming fine partition walls.
【請求項4】 前記隔壁材料として、メチル基もしくは
フェニル基を有するオルガノポリシロキサンを主剤と
し、アルコキシ基、アシロキシ基、オキシム基等の官能
性側鎖を有するオルガノシロキサンを架橋剤とし、これ
に硬化触媒を加えたものを使用することを特徴とする請
求項1、2または3記載の微細隔壁の形成方法。
4. As a material for the partition wall, an organopolysiloxane having a methyl group or a phenyl group is used as a main component, and an organosiloxane having a functional side chain such as an alkoxy group, an acyloxy group, an oxime group is used as a cross-linking agent. 4. The method according to claim 1, wherein a catalyst is used.
【請求項5】 前記隔壁材料として、ペルヒドロポリシ
ラザンを使用することを特徴とする請求項1、2または
3記載の微細隔壁の形成方法。
5. The method for forming a fine partition according to claim 1, wherein a perhydropolysilazane is used as the partition material.
【請求項6】 前記ガラス基板は、プラズマディスプレ
イパネル用のガラス基板であることを特徴とする請求項
1、2、3、4または5記載の微細隔壁の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the glass substrate is a glass substrate for a plasma display panel.
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