JPH0396385A - 印刷方法 - Google Patents
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- JPH0396385A JPH0396385A JP23394989A JP23394989A JPH0396385A JP H0396385 A JPH0396385 A JP H0396385A JP 23394989 A JP23394989 A JP 23394989A JP 23394989 A JP23394989 A JP 23394989A JP H0396385 A JPH0396385 A JP H0396385A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、銅貼基板のｔＲ Ｍやガラス基板上のＩＴ
Ｏなどの各種′ｐｌＴ！４のエッチングレジストなど平
滑なインキ皮膜を形戒することのできる印刷方法に関す
るものである。
Ｏなどの各種′ｐｌＴ！４のエッチングレジストなど平
滑なインキ皮膜を形戒することのできる印刷方法に関す
るものである。
一般に、硬質の被印刷体に薄膜の印刷を行う方法として
は平版オフセット印刷法が知られている．平版オフセッ
ト印刷法では、使用可能なインキが湿し水とあまり乳化
せず、版に忠実に転移することが要求される．したがっ
て、この方法に用いることのできるインキは８０．００
０〜１００，ＯＯＯｃ．ｐ．ｓ，の高粘度を有するイン
キに限定され、しかも形威された皮膜は平滑性が乏しい
ものであった．そのため、たとえば液晶配向膜や液晶封
入用シールなどに用いる数１０〜３０．ＯＯＯｃ．ｐ，
ｓ，の低粘度のインキを用いて平滑性に優れた皮膜を形
戒することは、平版オフセット印刷法ではできなかった
．そこで本出願人は、さきに第３図に示すような薄膜形
或装置を提供している（実開昭５８−１７０８６４号）
。この装置は、多数の小孔や溝からなる凹部を有する平
板状凹版１２と被印刷体１３とを基台１１上に並べて載
置する一方、数１０〜３０，０００ｃ．．ｐ．Ｓ．の粘
度を有するインキを凹版１２の凹部に充填するインキ供
給装Ｗ（図示せず）とゴムや樹脂からなる弾性凸版１４
ａを備えた印刷ロール１４とを有する印刷ロール支持枠
１５を、凹版１２と被印刷体１３との間で基台１１に移
動自在に備えるとともに、印刷ロール支持枠１５に凹版
１２の凹部に充填されたインキのうち余分なインキを凹
版１２からかき落とすドクター１６を備えるように構威
している． この装置においては、インキ供給装置から凹版１２の凹
部にインキを供給してドクター１６で余分なインキをか
き落としたのち、印刷ロール１４を凹版１２に圧接させ
つつ回転させて、印刷ロール１４に備えられた弾性凸版
１４ａの表面に凹版１２の凹部のインキを付着させ、イ
ンキの付着した印別ロール１４を被印刷体１３上に搬送
して印刷ロール１４を回転させつつ弾性凸版１４ａのイ
ンキを被印刷体１３の表面に転移して所定パターンを形
戒するようにしたものである。 また、本出願人は、印刷ロール１４に一定量のインキを
供給する凹版１２を平板状ではなく、円筒体として構戒
した薄膜形威装置も提供している（特開昭６２−２０２
７３６号）．
は平版オフセット印刷法が知られている．平版オフセッ
ト印刷法では、使用可能なインキが湿し水とあまり乳化
せず、版に忠実に転移することが要求される．したがっ
て、この方法に用いることのできるインキは８０．００
０〜１００，ＯＯＯｃ．ｐ．ｓ，の高粘度を有するイン
キに限定され、しかも形威された皮膜は平滑性が乏しい
ものであった．そのため、たとえば液晶配向膜や液晶封
入用シールなどに用いる数１０〜３０．ＯＯＯｃ．ｐ，
ｓ，の低粘度のインキを用いて平滑性に優れた皮膜を形
戒することは、平版オフセット印刷法ではできなかった
．そこで本出願人は、さきに第３図に示すような薄膜形
或装置を提供している（実開昭５８−１７０８６４号）
。この装置は、多数の小孔や溝からなる凹部を有する平
板状凹版１２と被印刷体１３とを基台１１上に並べて載
置する一方、数１０〜３０，０００ｃ．．ｐ．Ｓ．の粘
度を有するインキを凹版１２の凹部に充填するインキ供
給装Ｗ（図示せず）とゴムや樹脂からなる弾性凸版１４
ａを備えた印刷ロール１４とを有する印刷ロール支持枠
１５を、凹版１２と被印刷体１３との間で基台１１に移
動自在に備えるとともに、印刷ロール支持枠１５に凹版
１２の凹部に充填されたインキのうち余分なインキを凹
版１２からかき落とすドクター１６を備えるように構威
している． この装置においては、インキ供給装置から凹版１２の凹
部にインキを供給してドクター１６で余分なインキをか
き落としたのち、印刷ロール１４を凹版１２に圧接させ
つつ回転させて、印刷ロール１４に備えられた弾性凸版
１４ａの表面に凹版１２の凹部のインキを付着させ、イ
ンキの付着した印別ロール１４を被印刷体１３上に搬送
して印刷ロール１４を回転させつつ弾性凸版１４ａのイ
ンキを被印刷体１３の表面に転移して所定パターンを形
戒するようにしたものである。 また、本出願人は、印刷ロール１４に一定量のインキを
供給する凹版１２を平板状ではなく、円筒体として構戒
した薄膜形威装置も提供している（特開昭６２−２０２
７３６号）．
しかし、これらの薄膜形戒装置による印刷方法において
は、厚さが１μｍ以上の平滑な皮膜を形戒することが困
難であった。なぜなら、１回当りのインキ転移量に限界
があり、多量のインキを均一性よく被印刷体に付着させ
ることができないからである．また、被印刷体の材質や
表面状態によってはインキの付着性が乏しく、ハジキ・
ビンホールなどの欠陥が薄膜に生じた．また、顔料など
の各種粉体を分散したインキは流動性・レベリング性・
転移性に乏しく、平滑な皮膜に形或することは困難であ
った。しかも、各種籾体を分散したインキは、分散物の
４度が高いほどチキソトロビックとなり乎清な皮膜とす
ることが困難になり、反対に分散物の濃度を下げると所
定の機能が得られなくなる。また、高濃度インキは印刷
膜厚を大きくできるが粘度が高くなる傾向があり、その
場合にはドクターによってインキを計量することが困難
となってくる． したがって、この発明の目的は、上記のような問題を解
決することにあり、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なイ
ンキ皮膜を形戒することのできる印刷方法を提供するこ
とにある．
は、厚さが１μｍ以上の平滑な皮膜を形戒することが困
難であった。なぜなら、１回当りのインキ転移量に限界
があり、多量のインキを均一性よく被印刷体に付着させ
ることができないからである．また、被印刷体の材質や
表面状態によってはインキの付着性が乏しく、ハジキ・
ビンホールなどの欠陥が薄膜に生じた．また、顔料など
の各種粉体を分散したインキは流動性・レベリング性・
転移性に乏しく、平滑な皮膜に形或することは困難であ
った。しかも、各種籾体を分散したインキは、分散物の
４度が高いほどチキソトロビックとなり乎清な皮膜とす
ることが困難になり、反対に分散物の濃度を下げると所
定の機能が得られなくなる。また、高濃度インキは印刷
膜厚を大きくできるが粘度が高くなる傾向があり、その
場合にはドクターによってインキを計量することが困難
となってくる． したがって、この発明の目的は、上記のような問題を解
決することにあり、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なイ
ンキ皮膜を形戒することのできる印刷方法を提供するこ
とにある．
上記の目的を達戒するために、この発明の印刷方法は、
凹版に充填したインキを胴表面に樹脂またはゴムからな
る弾性体を設けた印刷ロールを介して被印刷体上へ第１
回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷ロールを介し
て同一の被印刷体上に形成済みの第１回目のインキ皮膜
上へ第２回目のインキを刷り重ねるように構成したもの
である．この発明を、図面を参照しながらさらに詳しく
説明する．第１図は、この発明の印刷方法に用いること
のできる印別装置の一実施例を示す斜視図である．１は
被印刷体、２は凹版、３は凹部、４は印刷ロール、５は
凸部をそれぞれ示す。 まず、インキが凹版２の凹部３に供給され、凹版２の凹
部３内に一定量のインキが充填・保持される。 続いて、凹版２と印刷ロール４とが接触し、凹版２の凹
部３内に充填されたインキが印刷ロール４の凸部５に転
移する．印刷ロール４は形威される皮膜のパターンに対
応した形状の凸部５を有している． さらに、印刷ロール４が回転しながら被印刷体１に圧接
し、印刷ロール４の凸部５上のインキが被印刷体１上に
転移する。 続いて、凹版２にインキが供給され、再び前記と同様に
して同一の被印刷体１にインキ皮膜が重ねて形戒される
。 第１回目の印刷に用いるインキとしては、金属、顔料、
染料またはフィラーなどの粉体からなる被分散物を含ま
ない粘度が３０〜１００ｃ．ｐ．ｓ．で固形分濃度が１
０％以下の低濃度ワニスやビヒクルなどを使用し、０．
０５μｍ前後の膜厚で印刷したときがマージナルゾーン
や液ダレなどが少なくなり、機上安定性もよい．したが
って、インキ容量の小さなアニロックスロールなどの凹
版２とある程度低濃度のインキとを使用するとよい。低
粘度のインキとインキ容量の大きい凹版２とを組み合わ
せると液グレや泳ぎが著しくなり、高粘度のインキとイ
ンキ容量の小さい凹版２とを組み合わせるとマージナル
ゾーンやビンホール、凹版２のスクリーン目の痕跡が著
しくなってしまう．しかも、高粘度インキは固形分濃度
が高く乾きやすいので機上安定性が低く、印刷中に粘度
上昇を起こすことがある． 第２回目の印刷は、第１回目の印刷で使用した印刷ロー
ル４を再び用いることが、印刷精度と経済性の上で好ま
しい．また、同一あるいは同系統のインキとするのが好
ましい．また、インキ中に被分散物を含んでいてもよい
。また、第２回目の印刷に用いるインキの固形分濃度は
、第１回目の印刷に用いるインキの固形分濃度以上とす
るとよい． 第２回目の印刷に用いる凹版２としては、第１回目の印
刷に用いたものと同じもの、あるいはインキ容量の大き
なものが好ましい．凹版２が同じものであれば、凹版２
のコストや交換の手間を省くことができる。また、凹版
２のインキ容量を大きくすれば、１回当りの印刷膜厚を
大きくすることができ、より厚い皮膜を形戒することが
できる。 被印刷体１表面においては、被印刷体１の上へ直接印刷
する場合と、インキ乾燥後皮膜が形成されている被印刷
体１上に印刷する場合では、後者の方がインキの転移率
が高くなる場合が多く、同系統あるいは同一のインキを
選択して積層する方が転移率がより高くなり好ましい．
また、インキの受容性が高いのでハジキやピンホールの
発生が減少するとともに転移性が向上するので、インキ
の版離れがよく均一にインキが転移し、したがって皮膜
の平滑性が向上する。 また、インキ皮膜の凹凸をより平滑にするために、以上
に述べたように２回印刷を行うだけでなく、３回以上印
刷を行うようにしてもよい．また、複数の印刷機を直列
に配置し、必要に応じて中間に乾燥機を設置するインラ
イン形式を採用してもよい。 このようにして、被印刷体１表面に重ね刷りが行われ、
表面が平滑でパターンのエッジがきれいな皮膜が形威さ
れる。
凹版に充填したインキを胴表面に樹脂またはゴムからな
る弾性体を設けた印刷ロールを介して被印刷体上へ第１
回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷ロールを介し
て同一の被印刷体上に形成済みの第１回目のインキ皮膜
上へ第２回目のインキを刷り重ねるように構成したもの
である．この発明を、図面を参照しながらさらに詳しく
説明する．第１図は、この発明の印刷方法に用いること
のできる印別装置の一実施例を示す斜視図である．１は
被印刷体、２は凹版、３は凹部、４は印刷ロール、５は
凸部をそれぞれ示す。 まず、インキが凹版２の凹部３に供給され、凹版２の凹
部３内に一定量のインキが充填・保持される。 続いて、凹版２と印刷ロール４とが接触し、凹版２の凹
部３内に充填されたインキが印刷ロール４の凸部５に転
移する．印刷ロール４は形威される皮膜のパターンに対
応した形状の凸部５を有している． さらに、印刷ロール４が回転しながら被印刷体１に圧接
し、印刷ロール４の凸部５上のインキが被印刷体１上に
転移する。 続いて、凹版２にインキが供給され、再び前記と同様に
して同一の被印刷体１にインキ皮膜が重ねて形戒される
。 第１回目の印刷に用いるインキとしては、金属、顔料、
染料またはフィラーなどの粉体からなる被分散物を含ま
ない粘度が３０〜１００ｃ．ｐ．ｓ．で固形分濃度が１
０％以下の低濃度ワニスやビヒクルなどを使用し、０．
０５μｍ前後の膜厚で印刷したときがマージナルゾーン
や液ダレなどが少なくなり、機上安定性もよい．したが
って、インキ容量の小さなアニロックスロールなどの凹
版２とある程度低濃度のインキとを使用するとよい。低
粘度のインキとインキ容量の大きい凹版２とを組み合わ
せると液グレや泳ぎが著しくなり、高粘度のインキとイ
ンキ容量の小さい凹版２とを組み合わせるとマージナル
ゾーンやビンホール、凹版２のスクリーン目の痕跡が著
しくなってしまう．しかも、高粘度インキは固形分濃度
が高く乾きやすいので機上安定性が低く、印刷中に粘度
上昇を起こすことがある． 第２回目の印刷は、第１回目の印刷で使用した印刷ロー
ル４を再び用いることが、印刷精度と経済性の上で好ま
しい．また、同一あるいは同系統のインキとするのが好
ましい．また、インキ中に被分散物を含んでいてもよい
。また、第２回目の印刷に用いるインキの固形分濃度は
、第１回目の印刷に用いるインキの固形分濃度以上とす
るとよい． 第２回目の印刷に用いる凹版２としては、第１回目の印
刷に用いたものと同じもの、あるいはインキ容量の大き
なものが好ましい．凹版２が同じものであれば、凹版２
のコストや交換の手間を省くことができる。また、凹版
２のインキ容量を大きくすれば、１回当りの印刷膜厚を
大きくすることができ、より厚い皮膜を形戒することが
できる。 被印刷体１表面においては、被印刷体１の上へ直接印刷
する場合と、インキ乾燥後皮膜が形成されている被印刷
体１上に印刷する場合では、後者の方がインキの転移率
が高くなる場合が多く、同系統あるいは同一のインキを
選択して積層する方が転移率がより高くなり好ましい．
また、インキの受容性が高いのでハジキやピンホールの
発生が減少するとともに転移性が向上するので、インキ
の版離れがよく均一にインキが転移し、したがって皮膜
の平滑性が向上する。 また、インキ皮膜の凹凸をより平滑にするために、以上
に述べたように２回印刷を行うだけでなく、３回以上印
刷を行うようにしてもよい．また、複数の印刷機を直列
に配置し、必要に応じて中間に乾燥機を設置するインラ
イン形式を採用してもよい。 このようにして、被印刷体１表面に重ね刷りが行われ、
表面が平滑でパターンのエッジがきれいな皮膜が形威さ
れる。
この発明の印刷方法は、凹版に充填したインキを胴表面
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている， したがって、１回で厚みの大きい皮膜を形威するのでは
なく、第１回目の印刷で精度の高い薄い皮膜が形威され
、次にこの上に第１回目の印刷のインキ以上の固形分濃
度を有するインキがビンホール、ハジキ、パターンエッ
ジ部の著しいマージナルゾーンや液ダレなどが発生する
ことなく転移性よく厚く印刷される． 印刷したインキを乾燥あるいは硬化させることにより、
被印刷体１上に１μｍ以上の厚く平滑でエッジ状態に優
れた皮膜を形或することができる。
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている， したがって、１回で厚みの大きい皮膜を形威するのでは
なく、第１回目の印刷で精度の高い薄い皮膜が形威され
、次にこの上に第１回目の印刷のインキ以上の固形分濃
度を有するインキがビンホール、ハジキ、パターンエッ
ジ部の著しいマージナルゾーンや液ダレなどが発生する
ことなく転移性よく厚く印刷される． 印刷したインキを乾燥あるいは硬化させることにより、
被印刷体１上に１μｍ以上の厚く平滑でエッジ状態に優
れた皮膜を形或することができる。
裏嵐班１
第１回目の印刷に用いるインキ容量が小さな凹版として
３００線／インチのピラミッド型セルを形威したアニロ
ックスロールを、第２回目の印刷に用いるインキ容量が
大きな凹版として１００′Ｊｓ／インチのピラミッド型
セルを形威したアニロックスロールを用いた．印刷ロー
ルの凸部としては、パターンサイズ２５０ Ｘ ２００
ｍｓ角の感光性樹脂凸版を用いた．被印刷体としては、
３００ ｘ ３００ ｘ １． １問のソーダライムガ
ラス基板を用いた。インキとしては、固形分濃度１５重
量％・粘度７０ｃ．ｐ．ｓ．のボリアミック酸溶液を使
用した． まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してインキを
ガラス基板に印刷し、ホットプレートにて８０゜Ｃで５
分間乾燥したところ、厚さ０．３μｍの指触乾燥皮膜を
得た． 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
ｌ回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて同じインキを印刷した
．乾燥後、３００゜Ｃで３０分間クリーンオーブンにて
加熱硬化させた． この結果、１．１μｍ厚で高低差０．１μｍの平滑性に
優れたポリイミド樹脂皮膜を得た（第２図ａ参照）。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．７μｍ、高低差０．４μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたボリイξド樹脂皮膜を得た．皮膜の
エッジ部には著しいマージナルゾーンが形威された（第
２図ｂ参照）．実益班２ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ０． １＋＋一・凹部深度５μｍ・凹凸
比７：３のものを、第２回目の印刷に用いる凹版として
単線スクリーンでスクリーンピッチ０．３ｍｍ・凹部深
度２０μｍ・凹凸比２７：３のものを用いた．印刷ロー
ルの凸部としては、パターンサイズ２５０ Ｘ ２００
ｍｍ角の感光性樹脂凸版を用いた．被印刷体としては、
３００ Ｘ ３００ Ｘ １． １問のソーダライムガ
ラス基板を用いた．第１回目の印刷に用いるインキとし
ては固形分濃度５．０重量％・粘度７０ｃ．ｐ．Ｓ．の
ボリアミック酸溶液を、第２回目の印刷に用いるインキ
としては固形分濃度１８．０重量％・帖度１，ｌｏＯｃ
．ｐ．ｓのボリアごツタ酸溶液に有機顔料のファストバ
イオレット／フタロシアニンブルー＝＝１／１０に混合
したものを８重量％加え分散させてブルーに着色したも
の（粘度１８，０００ｃ．ｐ−ｓ． ）を使用した． まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用して第１回目
の印刷に用いるインキをガラス基板に印刷し、ホットプ
レートにて８０゜Ｃで５分間乾燥したところ、厚さ０．
１μｍの指触乾燥皮膜を得た．次に、凹版を第２回目の
印刷に用いる凹版に交換し、第１回目の印刷の乾燥皮膜
に重ねて第２回目の印刷に用いるインキを印刷した．乾
燥後、窒素雰囲気中、３００゜Ｃで３０分間クリーンオ
ーブンにて加熱硬化させた。 この結果、１．２μｍ厚で高低差０．１５μｍの平滑性
に優れた色純度の高い青色のポリイミド樹脂皮膜を得た
。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．７μｍ、高低差０．５μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。エソジ
部のマージナルゾーンや皮膜の薄い部分は色濃度が不十
分で色純度も低いものであった． 尖施明３ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチＯ．Ｌｍｎ＋・凹部深度５．０μｍ・凹
凸比７：３のものを、第２回目の印刷に用いる凹版とし
て単線スクリーンでスクリーンピッチ０．３ｍｓ・凹部
深度２０μｍ・凹凸比２７：３のものを用いた．印刷ロ
ールの凸部としては、パターンサイズ３４５ Ｘ ３４
ｈｌ１角のブチルゴム彫刻凸版を用いた。 被印刷体としては、３００ ｘ ３００ ｘ １． １
間のＩＴＯ透明導電膜付ソーダライムガラス基板を用い
た．第１回目の印刷に用いるインキとしてはボジ型フォ
トレジスト（５０ｃ．ｐ．ｓ．） ２重量部をエチルカ
ルビトールアセテート１重量部を加えて希釈したものを
、第２回目の印刷に用いるインキとしてはボジ型フォト
レジスト（５０ｃ．ρ．Ｓ，）を使用した。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してセーフテ
ィライト下で第１回目の印刷に用いるインキをガラス基
板に印刷し、ホットプレートにて９０℃で３分間乾燥し
たところ、厚さ０．２μｍの指触乾燥皮膜を得た． 次いで、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、
第１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用
いるインキを印刷した．乾燥後９０゜Ｃで３０分間クリ
ーンオーブンにて加熱硬化させた。 この結果、１．０μｍ厚で高低差０．０４μｍの平滑性
に優れたレジスト皮膜を得た。 次に、マスクアライナーとガラスマスクを用いて密着パ
ターン露光を行った後、現像してレジストパターン層を
形威した。次に、塩化第２鉄／塩酸系エッチング液にて
エッチング後、レジスト層を剥離したところ、直線性の
良好なＩＴＯパターンを得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．６μｍ１高低差０．５μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたレジスト皮膜を得た．実施例と同し
マスクを使用し、露光・現像・エッチングを行ったとこ
ろ、得られたＩＴＯパターンは直線性に欠けたギザギザ
のものとなり、ところどころビンホールが発生したもの
であった。
３００線／インチのピラミッド型セルを形威したアニロ
ックスロールを、第２回目の印刷に用いるインキ容量が
大きな凹版として１００′Ｊｓ／インチのピラミッド型
セルを形威したアニロックスロールを用いた．印刷ロー
ルの凸部としては、パターンサイズ２５０ Ｘ ２００
ｍｓ角の感光性樹脂凸版を用いた．被印刷体としては、
３００ ｘ ３００ ｘ １． １問のソーダライムガ
ラス基板を用いた。インキとしては、固形分濃度１５重
量％・粘度７０ｃ．ｐ．ｓ．のボリアミック酸溶液を使
用した． まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してインキを
ガラス基板に印刷し、ホットプレートにて８０゜Ｃで５
分間乾燥したところ、厚さ０．３μｍの指触乾燥皮膜を
得た． 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
ｌ回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて同じインキを印刷した
．乾燥後、３００゜Ｃで３０分間クリーンオーブンにて
加熱硬化させた． この結果、１．１μｍ厚で高低差０．１μｍの平滑性に
優れたポリイミド樹脂皮膜を得た（第２図ａ参照）。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．７μｍ、高低差０．４μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたボリイξド樹脂皮膜を得た．皮膜の
エッジ部には著しいマージナルゾーンが形威された（第
２図ｂ参照）．実益班２ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ０． １＋＋一・凹部深度５μｍ・凹凸
比７：３のものを、第２回目の印刷に用いる凹版として
単線スクリーンでスクリーンピッチ０．３ｍｍ・凹部深
度２０μｍ・凹凸比２７：３のものを用いた．印刷ロー
ルの凸部としては、パターンサイズ２５０ Ｘ ２００
ｍｍ角の感光性樹脂凸版を用いた．被印刷体としては、
３００ Ｘ ３００ Ｘ １． １問のソーダライムガ
ラス基板を用いた．第１回目の印刷に用いるインキとし
ては固形分濃度５．０重量％・粘度７０ｃ．ｐ．Ｓ．の
ボリアミック酸溶液を、第２回目の印刷に用いるインキ
としては固形分濃度１８．０重量％・帖度１，ｌｏＯｃ
．ｐ．ｓのボリアごツタ酸溶液に有機顔料のファストバ
イオレット／フタロシアニンブルー＝＝１／１０に混合
したものを８重量％加え分散させてブルーに着色したも
の（粘度１８，０００ｃ．ｐ−ｓ． ）を使用した． まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用して第１回目
の印刷に用いるインキをガラス基板に印刷し、ホットプ
レートにて８０゜Ｃで５分間乾燥したところ、厚さ０．
１μｍの指触乾燥皮膜を得た．次に、凹版を第２回目の
印刷に用いる凹版に交換し、第１回目の印刷の乾燥皮膜
に重ねて第２回目の印刷に用いるインキを印刷した．乾
燥後、窒素雰囲気中、３００゜Ｃで３０分間クリーンオ
ーブンにて加熱硬化させた。 この結果、１．２μｍ厚で高低差０．１５μｍの平滑性
に優れた色純度の高い青色のポリイミド樹脂皮膜を得た
。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．７μｍ、高低差０．５μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。エソジ
部のマージナルゾーンや皮膜の薄い部分は色濃度が不十
分で色純度も低いものであった． 尖施明３ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチＯ．Ｌｍｎ＋・凹部深度５．０μｍ・凹
凸比７：３のものを、第２回目の印刷に用いる凹版とし
て単線スクリーンでスクリーンピッチ０．３ｍｓ・凹部
深度２０μｍ・凹凸比２７：３のものを用いた．印刷ロ
ールの凸部としては、パターンサイズ３４５ Ｘ ３４
ｈｌ１角のブチルゴム彫刻凸版を用いた。 被印刷体としては、３００ ｘ ３００ ｘ １． １
間のＩＴＯ透明導電膜付ソーダライムガラス基板を用い
た．第１回目の印刷に用いるインキとしてはボジ型フォ
トレジスト（５０ｃ．ｐ．ｓ．） ２重量部をエチルカ
ルビトールアセテート１重量部を加えて希釈したものを
、第２回目の印刷に用いるインキとしてはボジ型フォト
レジスト（５０ｃ．ρ．Ｓ，）を使用した。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してセーフテ
ィライト下で第１回目の印刷に用いるインキをガラス基
板に印刷し、ホットプレートにて９０℃で３分間乾燥し
たところ、厚さ０．２μｍの指触乾燥皮膜を得た． 次いで、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、
第１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用
いるインキを印刷した．乾燥後９０゜Ｃで３０分間クリ
ーンオーブンにて加熱硬化させた。 この結果、１．０μｍ厚で高低差０．０４μｍの平滑性
に優れたレジスト皮膜を得た。 次に、マスクアライナーとガラスマスクを用いて密着パ
ターン露光を行った後、現像してレジストパターン層を
形威した。次に、塩化第２鉄／塩酸系エッチング液にて
エッチング後、レジスト層を剥離したところ、直線性の
良好なＩＴＯパターンを得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったところ
、平均膜厚０．６μｍ１高低差０．５μｍの凹凸を有す
る表面のざらついたレジスト皮膜を得た．実施例と同し
マスクを使用し、露光・現像・エッチングを行ったとこ
ろ、得られたＩＴＯパターンは直線性に欠けたギザギザ
のものとなり、ところどころビンホールが発生したもの
であった。
この発明の印刷方法は、凹版に充填したインキを胴表面
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構戒されている。 このように、インキの印刷を２回以上に分け先に上記の
固形分濃度のインキで薄膜を形戒しておくことにより、
後に印刷するインキの転移性が向上し、印刷１回当りの
転移量が増加し、またハジキやピンホールの発生が減少
し、皮膜の平滑性の向上、マージナルゾーンの軽減が実
現され、厚さがｌｌｌｍ以上の厚くて平滑なインキ皮膜
を形戒することができる．
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構戒されている。 このように、インキの印刷を２回以上に分け先に上記の
固形分濃度のインキで薄膜を形戒しておくことにより、
後に印刷するインキの転移性が向上し、印刷１回当りの
転移量が増加し、またハジキやピンホールの発生が減少
し、皮膜の平滑性の向上、マージナルゾーンの軽減が実
現され、厚さがｌｌｌｍ以上の厚くて平滑なインキ皮膜
を形戒することができる．
第１図は、この発明の印刷方法に用いることのできる印
刷装置の一実施例を示す斜視図である。 第２図は、この発明の印刷方法によって形戒された皮膜
の一実旅例と比較例を示す断面図である。 第３図は、従来の印刷装置を示す断面図である。
刷装置の一実施例を示す斜視図である。 第２図は、この発明の印刷方法によって形戒された皮膜
の一実旅例と比較例を示す断面図である。 第３図は、従来の印刷装置を示す断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 凹版に充填したインキを胴表面に樹脂またはゴムか
らなる弾性体を設けた印刷ロールを介して被印刷体上へ
第１回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷ロールを
介して同一の被印刷体上に形成済みの第１回目のインキ
皮膜上へ第２回目のインキを刷り重ねることを特徴とす
る印刷方法。 ２ 第１回目に印刷されるインキの固形分濃度が第２回
目に印刷されるインキの固形分濃度以下である請求項１
記載の印刷方法。 ３ 第１回目の印刷に使用する凹版のインキ容量が、第
２回目の印刷に使用する凹版のインキ容量以下である請
求項１または２記載の印刷方法。 ４ 第１回目に印刷するインキと第２回目に印刷するイ
ンキが、同じ系統のビヒクルからなるものである請求項
１記載の印刷方法。 ５ 第１回目に印刷するインキが、金属、顔料、染料ま
たはフィラーからなる被分散物を含まないワニスまたは
ビヒクルである請求項１記載の印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23394989A JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23394989A JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0396385A true JPH0396385A (ja) | 1991-04-22 |
| JPH0775907B2 JPH0775907B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=16963147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23394989A Expired - Lifetime JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0775907B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8418615B2 (en) | 2001-09-24 | 2013-04-16 | Giesecke & Devrient Gmbh | Method for individualising security documents and corresponding security document |
-
1989
- 1989-09-09 JP JP23394989A patent/JPH0775907B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8418615B2 (en) | 2001-09-24 | 2013-04-16 | Giesecke & Devrient Gmbh | Method for individualising security documents and corresponding security document |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0775907B2 (ja) | 1995-08-16 |
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