[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH0396061A - Close-contact reading sensor - Google Patents

Close-contact reading sensor

Info

Publication number
JPH0396061A
JPH0396061A JP1231610A JP23161089A JPH0396061A JP H0396061 A JPH0396061 A JP H0396061A JP 1231610 A JP1231610 A JP 1231610A JP 23161089 A JP23161089 A JP 23161089A JP H0396061 A JPH0396061 A JP H0396061A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reading
sensor
light
read
photoelectric conversion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1231610A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2781614B2 (en
Inventor
Tatsuya Nagata
達也 永田
Michihiro Watanabe
渡邊 道弘
Takehiko Yamada
山田 武彦
Shigetoshi Hiratsuka
平塚 重利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1231610A priority Critical patent/JP2781614B2/en
Priority to KR1019900011431A priority patent/KR930006828B1/en
Priority to US07/559,144 priority patent/US5162644A/en
Publication of JPH0396061A publication Critical patent/JPH0396061A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2781614B2 publication Critical patent/JP2781614B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/024Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
    • H04N1/028Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/198Contact-type image sensors [CIS]
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N2201/00Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
    • H04N2201/0077Types of the still picture apparatus
    • H04N2201/0093Facsimile machine

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はファクシミリ等に用いられる原稿読み取り用の
読み取りセンサに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a reading sensor for reading originals used in facsimiles and the like.

従来の読み取りセンサは特開昭60 − 244062
号公報記載のように,読み取り用の光を受光する第lの
光導電体と、光を受光しない第2の光導電体とをそれぞ
れ形成し、両者間を接続して直列に電圧を印加した時の
各光導電体の接続点における電位を出力電圧として外部
にとり出していた。
The conventional reading sensor is JP-A-60-244062.
As described in the publication, a first photoconductor that receives reading light and a second photoconductor that does not receive light are formed, and a voltage is applied in series by connecting them. The potential at the connection point of each photoconductor was taken out as an output voltage.

また、別の従来の読み取りセンサは、日経エレクトロニ
クス、434 (1987年),第207頁から第22
1頁記載のように、導電型素子と蓄積容量と,アモルフ
ァスシリコン(以下、a−Siと略す)薄膜トランジス
タで形成した転送スイッチ及びリセットスイッチと、信
号マトリクス配線とゲート配線とで構成されていた。読
み取りは、光導電素子を形成した透明基板にM稿を密着
させ、透明基板の光導電素子を形威した面の反対側に配
置した光源によって、透明基板を通して原稿を照明し,
その反射光を光導電素子にとり込んで光電変換する,い
わゆる完全密着読み取りを行っている。
Another conventional reading sensor is Nikkei Electronics, 434 (1987), pp. 207-22.
As described on page 1, it consisted of a conductivity type element, a storage capacitor, a transfer switch and a reset switch formed of amorphous silicon (hereinafter abbreviated as a-Si) thin film transistors, a signal matrix wiring, and a gate wiring. For reading, the M document is brought into close contact with the transparent substrate on which the photoconductive element is formed, and the document is illuminated through the transparent substrate by a light source placed on the opposite side of the transparent substrate to the side on which the photoconductive element is formed.
The reflected light is captured by a photoconductive element and converted into electricity, performing so-called complete contact reading.

光導電素子は、原稿からの反射光のみを受けるようにな
っており、発生した光電流はすべて蓄積容量に一定時間
蓄積される。ゲート配線に転送信号を送ってlブロック
当り32ケの光導電素子で発生した信号電荷をa−Si
薄膜トランジスタのスイッチ作用により、32本の信号
マトリクス配線の容量に転送し、外部回路により電圧を
順次読み出すようになっていた。1ブロックごとの信号
電荷の転送及びリセットは、ゲート配線に外部より信号
を入力することによって行っているため、ブロックの数
だけ、ゲート配線を設けていた。また、ブロック中の素
子の数と、信号マトリクス配線の数は同一で構成してい
た。
The photoconductive element receives only reflected light from the original, and all generated photocurrent is stored in the storage capacitor for a certain period of time. A-Si
By the switching action of the thin film transistor, the voltage was transferred to the capacitance of 32 signal matrix wirings, and the voltage was sequentially read out by an external circuit. Transfer and reset of signal charges for each block is performed by inputting a signal from the outside to the gate wiring, so that the number of gate wirings is equal to the number of blocks. Further, the number of elements in a block and the number of signal matrix wirings were configured to be the same.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記2つの従来技術は、JMHを照らす光源の照度ばら
つきに配慮されておらず、光源の照度ばらつきが直接、
出力信号のばらつきとなる問題があった。また,温度に
よる感度変化や経時変化による感度変化,或いはバタン
精度のばらつきも直接信号ばにつきの原因となる構成と
なっていた。
The above two conventional technologies do not take into account the illuminance variation of the light source that illuminates the JMH, and the illuminance variation of the light source directly causes
There was a problem with variations in the output signal. In addition, sensitivity changes due to temperature, changes over time, or variations in batting accuracy are also a direct cause of signal fluctuation.

また上記後考の従来技術は、光電変換素子の光電流をす
べて蓄積容量に蓄積しているため、コンダクタンスの小
さな薄膜トランジスタによって電荷の転送に時間がかか
ることに配慮されておらず、高速の読み取り動作が難し
い問題があった。
In addition, in the conventional technology discussed later, all of the photocurrent of the photoelectric conversion element is stored in the storage capacitor, so it does not take into account the time it takes to transfer the charge due to thin film transistors with small conductance, which allows for high-speed reading operation. There was a difficult problem.

更に上記後者の従来技術は読み取りのマトリクス駆動を
すべて外部回路で行っているため、配線の数が多くなる
点について配慮されておらず、小型化に不利であり,外
部回路の規模が大きい問題があった。
Furthermore, in the latter conventional technology, the reading matrix is entirely driven by an external circuit, so there is no consideration given to the increase in the number of wiring lines, which is disadvantageous for miniaturization, and there is a problem that the scale of the external circuit is large. there were.

また、上記後者の従来技術はブロック中の素子の数と信
号マトリクス配線の数が同一のためブロック切換え時に
データ転送時間及びリセット時間を要し、ブロックごと
の信号の間に休止期間が入る点には配慮がなされておら
ず,信号読み出しが複雑になることがあった。
In addition, in the latter conventional technology, since the number of elements in a block and the number of signal matrix wirings are the same, data transfer time and reset time are required when switching blocks, and there is a pause period between signals of each block. No consideration was given to this, and signal readout could become complicated.

本発明の目的は、光源ばらつきによる読み取り信号ばら
つきを軽減することにある。
An object of the present invention is to reduce variations in read signals due to variations in light sources.

本発明の他の目的は,薄膜トランジスタによる高速の騙
動を可能とし,外部回路の規模が小さく小型化が可能な
安価な読み取りセンサを提供することにある. 〔課題を解決するための手段〕 本発明は上記目的を達成するために、透光性基板の上に
原稿を照明する光源からの直接光を光電変換する基準素
子と,原稿からの反射光を光電変換する読み取り素子を
設けたものである。
Another object of the present invention is to provide an inexpensive reading sensor that enables high-speed deception using thin film transistors, has a small external circuit, and can be miniaturized. [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention includes a reference element that photoelectrically converts direct light from a light source that illuminates a document on a translucent substrate, and a reference element that photoelectrically converts direct light from a light source that illuminates a document, and a reference element that photoelectrically converts direct light from a light source that illuminates a document. It is equipped with a reading element that performs photoelectric conversion.

この場合、読み取り素子と基準素子とを直列に接続して
供給電圧を分圧して読み取り信号とすることが好ましく
、また,読み取り素子と並列に,或いは基準素子と並列
に読み取り電圧転送用の容量を設けることが好ましい。
In this case, it is preferable to connect the read element and the reference element in series to divide the supplied voltage and use it as a read signal, and also to connect a capacitor for reading voltage transfer in parallel with the read element or in parallel with the reference element. It is preferable to provide one.

尚,読み取り素子と基準素子とは同一工程で形或するこ
とが可能であり、効率が良い。
Note that the reading element and the reference element can be formed in the same process, which is efficient.

更には、基準素子の光電流に対する自原稿を読み取った
時の読み取り素子の光電流の比を0.1〜100とする
ことが好ましくまた割り算回路により出力信号を直線化
することが好ましい。
Further, it is preferable that the ratio of the photocurrent of the reading element when reading the original document to the photocurrent of the reference element is set to 0.1 to 100, and that the output signal is linearized by a dividing circuit.

また上記他の目的を達成するために、本発明はアモルフ
ァスシリコン薄膜トランジスタより成るシフトレジスタ
と、このシフトレジスタの出力に接続したバッファと、
このバッファに接続したブロックスイッチ及び安定化ス
イッチと、複数の分割マトリクス線とにより選択した読
み出しスイッチを順次切換えて、読み取り素子の電荷を
転送して読み取りを行うものである。
In order to achieve the other objects mentioned above, the present invention provides a shift register made of an amorphous silicon thin film transistor, a buffer connected to the output of the shift register,
Reading is performed by sequentially switching readout switches selected by block switches and stabilization switches connected to this buffer and a plurality of divided matrix lines to transfer the charge of the readout element.

また同じく上記他の目的を達成するために、本発明は薄
膜トランジスタより成るシフトレジスタと、このシフト
レジスタの出力に接続したバッファと、このバッファに
接続したブロックスイッチ及び安定化スイッチと、複数
の分割マトリクス線とにより選択した読み出しスイッチ
を順次切換えて読み取りを行う読み取りセンサにおいて
、分割マトリクス線よりも1ブロックの素子の数を少な
くしたものである. 以上の光電変換素子群は導電性を付与した透明樹脂フィ
ルム等の透明積層部材を備えることが望ましく、これら
は素子表面に面する側かつ素子近傍位置が入射光の散乱
面及び/または微細凹凸面(通称,梨地つや消し面)に
なっていることが好ましい。
In order to achieve the other objects mentioned above, the present invention also provides a shift register made of thin film transistors, a buffer connected to the output of this shift register, a block switch and a stabilization switch connected to this buffer, and a plurality of dividing matrices. This is a reading sensor that performs reading by sequentially switching readout switches selected by lines and has a smaller number of elements in one block than a divided matrix line. The above photoelectric conversion element group is preferably equipped with a transparent laminated member such as a transparent resin film imparted with conductivity, and the side facing the element surface and the position near the element is a scattering surface of incident light and/or a finely uneven surface. (commonly known as a satin matte surface) is preferable.

尚、この透明積層部材は接着剤なして載置すれば静電容
量上の問題はない。
Incidentally, if this transparent laminated member is mounted without adhesive, there will be no problem regarding capacitance.

本発明の読み取りアセンブリは,各読取センサにおける
透光部位裏面に入射光路を確保すると共に、前記のフィ
ルム若しくは透明積層部材の外側かつ光電変換素子群近
傍に紙面を介してプラテンローラが当接するように構成
したものであり,望ましくは光路確保の為に素子搭載用
基板を取付けるベース内に光源を具備させたものである
The reading assembly of the present invention secures an incident optical path on the back surface of the light-transmitting part of each reading sensor, and also ensures that the platen roller contacts the outside of the film or transparent laminated member and near the photoelectric conversion element group through the paper surface. Preferably, a light source is provided within the base on which the element mounting board is attached to secure the optical path.

更に本発明のファクシミリ装置は、読み取りセンサアセ
ンブリをサーマルヘッド及び記録紙ローラから成る記録
部と共に筐体内に収納してなることを特徴とする。
Furthermore, the facsimile apparatus of the present invention is characterized in that the reading sensor assembly is housed in a housing together with a recording section consisting of a thermal head and a recording paper roller.

表面微細凹凸加工は,梨地つや消し加工が最適である。For surface micro-roughness processing, satin matte processing is optimal.

即ち導電性フィルムの片面を梨地状につや消し加工し、
梨地面をセンサ上面側に装着することによって達成され
る構成や透明フィルムの片面を梨期状につや消し加工し
、梨地面をセンサ上面側に装着し、さらに、前記梨地加
工したフィルムの上に導電性透明フィルムを装着するこ
とが好ましい。
That is, one side of the conductive film is matted to give it a satin finish.
A configuration is achieved by attaching a pear-finished surface to the top of the sensor, or one side of a transparent film is matted in a pear-like pattern, the pear-finished surface is attached to the top of the sensor, and a conductive film is placed on top of the matted film. It is preferable to attach a transparent film.

導電性フィルムはセンサ基板上面に直接、間接いずれで
装着(接着)してもよい。
The conductive film may be attached (adhered) to the upper surface of the sensor substrate either directly or indirectly.

ここで梨地面とは、表面に微細な凹凸があり、これによ
って反射光及び透過光の光路が変化し乱散される面を言
う。好ましくは表面粗さが平均の高さで0.2μmから
10μm程度あり、散乱光を含めた光の透過率が70%
以上の面をいう。
Here, the satin surface refers to a surface that has fine irregularities on its surface, which change and scatter the optical paths of reflected light and transmitted light. Preferably, the average height of the surface roughness is about 0.2 μm to 10 μm, and the transmittance of light including scattered light is 70%.
Refers to the above aspects.

尚,梨地加工に限らず、センサ基板の上に導電性フィル
ムを設けて該フィルム表面の光の集中反射凹面鏡的反射
を防止する機構にすれば当初の目的を達せられる。
In addition, the original purpose can be achieved not only by matte finishing but also by providing a conductive film on the sensor substrate and creating a mechanism for preventing concentrated reflection and concave mirror reflection of light on the surface of the film.

センサ搭載用基板は絶縁材で成ることが望ましい6素子
搭載部位近傍とは素子取付部分とその周囲を示し、″周
囲”は例えば導電性フィルムとセンサ搭載基板とがプラ
テンローラの抑圧によってもセンサ素子の厚みによって
必然的に生じてしまうような空間を形成する領域に相当
する。
It is desirable that the sensor mounting board be made of an insulating material. 6. The vicinity of the element mounting area refers to the element mounting area and its surroundings. The "surroundings" refers to the area where the sensor element is mounted even if the conductive film and the sensor mounting board are suppressed by the platen roller. This area corresponds to the area that forms the space that is inevitably created due to the thickness of the area.

透光・透明の意義は、使用光源によって影響される。使
用光はセンサ素子が感知する波長域の光であって,a−
Si(非晶質シリコン)製センサ素子の場合は可視光全
般となる。
The significance of translucent/transparent is influenced by the light source used. The light used is in the wavelength range that the sensor element senses, and is a-
In the case of a sensor element made of Si (amorphous silicon), all visible light is used.

尚、光源を納めたベース自体がセンサ搭載支持板を兼ね
ても差支えない。
Note that the base itself containing the light source may also serve as a sensor mounting support plate.

〔作用〕[Effect]

原稿を照明する光源の直接光を光電変換する基準素子は
,光源の輝度に比例した出力を出し、また原稿からの反
射光を光電変換する読み取り素子は,原稿面の照度に比
例した出力を出しかつ,原稿面の反射率に比例した光電
変検出力を出す。そのため、読み取り素子の光電変検出
力は、本来読み出したい原稿面の反射率に対応する出力
に照度ばらつきによるノイズ或分が入ったものになる。
The reference element that photoelectrically converts the direct light from the light source illuminating the document outputs an output proportional to the brightness of the light source, and the reading element that photoelectrically converts the light reflected from the document outputs an output proportional to the illuminance of the document surface. It also provides a photoelectric detection power proportional to the reflectance of the document surface. Therefore, the photoelectric change detection power of the reading element is an output that corresponds to the reflectance of the document surface that is originally desired to be read, but includes some noise due to variations in illuminance.

基準素子は光源の輝度に比例した出力を出すが、光源の
輝度と原稿面の照度は比例するため、この基準素子の出
力を用いて、読み取り素子の出力を補正することによっ
て,原稿の反射率に対応する出力のみ取り出すことがで
きる。
The reference element outputs an output proportional to the brightness of the light source, but since the brightness of the light source is proportional to the illuminance of the document surface, by correcting the output of the reading element using the output of this reference element, the reflectance of the document can be adjusted. Only the output corresponding to can be retrieved.

読み取り素子と基準素子とを直列に接続し、供給電圧を
分圧して,読み取り信号とすると、出力電圧は両素子の
抵抗の比によって分圧される。読み取り素子及び基準素
子の抵抗は導電率に反比例し、導電率は素子に入射する
光の強度に比例するので、分圧出力は読み取り素子と基
準素子に入射する光の強度の比に反比例することになる
。出力電圧が読み取り素子と基準素子の導電率の比によ
って決まるので、光源ばらつきによる出力むらをなくす
ることができる。
When a read element and a reference element are connected in series and the supply voltage is divided to produce a read signal, the output voltage is divided by the ratio of the resistances of both elements. Since the resistance of the read element and the reference element is inversely proportional to the conductivity, and the conductivity is proportional to the intensity of the light incident on the element, the partial voltage output is inversely proportional to the ratio of the intensity of the light incident on the read element and the reference element. become. Since the output voltage is determined by the ratio of the conductivities of the reading element and the reference element, it is possible to eliminate uneven output due to variations in the light source.

読み取り素子と基準素子を直列に接続して電圧を加えさ
らに、読み取り素子と並列に或いは基準素子と並列に読
み取り電圧転送容量を設けると、先に述べたように原稿
の反射率に対応した読み取り電圧が、読み取り素子と基
準素子の接続点に出てくる。そのため、読み取り電圧転
送容量はその容量を読み取り電圧に比例した信号電荷を
蓄えることができる。読み取り電圧転送容量の大きさは
、読み取り素子や基準素子の光電流の大きさに依存せず
、任意に設定することができるので、信号を読み出す回
路の能力に応じて、容量値を選定することができる. 読み取り素子と基準素子は光の入射方向が異なるが両者
とも光電変換を行う半導体膜であり,同一の工程で作成
することにより、素子のばらつきを低減し,また製造工
程を少なくして安価な読み取りセンサを供給することを
可能にする。
By connecting the reading element and the reference element in series and applying a voltage, and further providing a reading voltage transfer capacitor in parallel with the reading element or in parallel with the reference element, the reading voltage corresponding to the reflectance of the original can be generated as described above. appears at the connection point between the reading element and the reference element. Therefore, the read voltage transfer capacitor can store signal charges proportional to the read voltage. The size of the read voltage transfer capacitance does not depend on the photocurrent size of the read element or reference element and can be set arbitrarily, so the capacitance value can be selected according to the ability of the circuit that reads the signal. Can be done. Although the reading element and the reference element have different light incident directions, they are both semiconductor films that perform photoelectric conversion.By manufacturing them in the same process, variations in the elements can be reduced, and the number of manufacturing steps can be reduced, resulting in inexpensive reading. Enables supply of sensors.

基準素子の光電流と,読み取り素子の光電流の最大値、
即ち,白い(反射率0.8程度)M稿を読み取った時の
光電流値は,大幅に異なると先に述べたような基準素子
による光源ばらつきの補正を行った時のS/N比が悪く
なる6そのため,この光電流比を0.1から100とす
ることによって、補正誤差を少なくできる。また、基準
素子と読み取り素子を直列に接続して、分圧した信号を
読み取り電圧とした場合には、両者の電流に大きな差が
あると,読み取り素子の光電流が変化した時の電圧変化
が小さくなり、S/N比がとりにくくなるため、読み取
り素子の光電流の最大値を、基準素子の光電流の0.1
 から100とすることにより、良好な出力を得ること
ができる。
The maximum value of the photocurrent of the reference element and the photocurrent of the reading element,
In other words, the photocurrent value when reading a white (reflectance of about 0.8) M document is significantly different from the S/N ratio when the light source variation is corrected using the reference element as mentioned earlier. Therefore, by setting this photocurrent ratio from 0.1 to 100, the correction error can be reduced. In addition, when a reference element and a reading element are connected in series and the divided signal is used as the reading voltage, if there is a large difference in the current between the two, the voltage change when the photocurrent of the reading element changes The maximum value of the photocurrent of the reading element is set to 0.1 of the photocurrent of the reference element.
By setting the value from 100 to 100, good output can be obtained.

先に述べたように、読み取り素子と、基準素子とを直列
に接続し、分圧出力を読み取り電圧とする読み取りでは
、読み取り電圧は両素子の抵抗の比により分圧される。
As described above, in reading where a read element and a reference element are connected in series and the divided voltage output is used as the read voltage, the read voltage is divided by the ratio of the resistances of both elements.

JMaの読み取りにおいては光の反射率,即ち、読み取
り素子に入射する光の強度に比例した読み取り出力信号
が出た方が好ましいが,抵抗値の比によって決まる読み
取り電圧は、光導電率即ち、光の強度に反比例した出力
電圧が来る。そこで、割算回路により、出力電圧の逆数
をとると、光の強度に比例した出力を得ることができる
When reading JMa, it is preferable to output a read output signal proportional to the light reflectance, that is, the intensity of light incident on the reading element, but the read voltage determined by the ratio of resistance values is proportional to the photoconductivity, that is, the light intensity. The output voltage is inversely proportional to the intensity of the output voltage. Therefore, by taking the reciprocal of the output voltage using a divider circuit, it is possible to obtain an output proportional to the intensity of light.

アモルファスシリコン薄膜トランジスタは,アモルファ
スシリコン中の電子の移動度が0.2〜1.0 cd/
V−Sと小さいため,結晶シリコンのように高速のトラ
ンジスタはできないが、回路の工夫により、読み取りセ
ンサの駆動速度を可能とするトランジスタ回路を形成で
きる。アモルファスシリコン薄膜トランジスタにより形
成したシフトレジスタにデータ転送クロツクと共にブロ
ック選択開始信号を入力すると、シフトレジスタは、転
送クロツクに同期してデータ1をシフトする。
In an amorphous silicon thin film transistor, the electron mobility in amorphous silicon is 0.2 to 1.0 cd/
Due to the small V-S, it is not possible to create high-speed transistors like crystalline silicon, but by devising circuits, it is possible to form transistor circuits that can drive the read sensor at high speeds. When a block selection start signal is input together with a data transfer clock to a shift register formed of amorphous silicon thin film transistors, the shift register shifts data 1 in synchronization with the transfer clock.

シフトレジスタ各段の出力はバッファを介して,ブロッ
クスイッチ及び安定化スイッチに接続しており,ブロッ
クスイッチはシフトレジスタの出力が1の時(論理がH
ighの時)に導通となり,安定化スイッチは逆にシフ
トレジスタの出力がOの時(論理がLowの時)導通と
なる。ブロックスイッチは読み出しスイッチの制御線と
分割マトリクス線とを接続し、安定化スイッチは読み出
しスイッチの制御線をOFF側の電源線に接続する機能
を持つ。ブロックスイッチ及び安定化スイッチは、読み
取り素子1ヶについて1ヶ配置した読み出しスイッチl
ケについて、1ヶずつ接続されており、複数の読み取り
素子で1ブロックを形威している。
The output of each stage of the shift register is connected to a block switch and a stabilizing switch via a buffer, and the block switch is connected when the output of the shift register is 1 (logic is H).
The stabilizing switch becomes conductive when the output of the shift register is O (when the logic is low). The block switch has the function of connecting the control line of the readout switch and the divided matrix line, and the stabilization switch has the function of connecting the control line of the readout switch to the power supply line on the OFF side. The block switch and stabilization switch are one readout switch for each readout element.
The reading elements are connected one at a time, and a plurality of reading elements form one block.

シフトレジスタにブロック選択信号がシフトされると、
バッファを介してブロックスイッチが導通となる。そこ
で、複数の分割マトリクス配線を順次Highにすると
.読み出しスイッチが1ヶずつ順次導通となり、−読み
取り素子により光電変換された信号電荷が順次転送され
る。ブロックが非選択で,ブロックスイッチがOFFの
時には安定化スイッチが導通となっており読み出しスイ
ッチの制御線をOFF側の電源線に接続している。ここ
で、他のブロックの信号読み出しのために分割マトリク
スに順次信号が加えられると、非選択のブロックは、O
FF状態にあるブロックスイッチの寄生容量によって、
分割マトリクス線の信号がもれ込んで読み出しスイッチ
の制御線の電位が変動する。
When the block selection signal is shifted to the shift register,
The block switch becomes conductive via the buffer. Therefore, if you sequentially set multiple divided matrix wirings to High. The readout switches are sequentially turned on one by one, and the signal charges photoelectrically converted by the readout elements are sequentially transferred. When a block is not selected and the block switch is OFF, the stabilizing switch is conductive and the control line of the read switch is connected to the OFF side power supply line. Here, when signals are sequentially added to the divided matrix to read signals of other blocks, the unselected blocks are
Due to the parasitic capacitance of the block switch in the FF state,
The signal from the divided matrix line leaks in, causing the potential of the control line of the read switch to fluctuate.

安定化スイッチは導通状態なので、この電位変動をOF
FE側の電位とするように働くので,読み出しスイッチ
が誤動作して非選択ブロックの信号電荷を読み出すのを
防止する。
Since the stabilization switch is in a conductive state, this potential fluctuation is turned off.
Since it works to set the potential on the FE side, it prevents the read switch from malfunctioning and reading out the signal charges of the non-selected block.

さらに,上記で説明した、アモルファスシリコン薄膜ト
ランジスタで形威した、シフトレジスタ、バッファ、ブ
ロックスイッチ、安定化スイッチ、分割マトリクス配線
、光電変換素子で形或じた読み取りセンサの構或で,各
ブロックの光電変換素子の数を分割マトリクス配線より
も少なくすると、シフトレジスタの出力がある段から、
次の段に移行して、選択されていたブロックと次のブロ
ックが、同時に選択されている期間があっても許容され
るようになる6即ち、各ブロックの光電変換素子の数を
N、分割マトリクス配線の数をN+nとする。あるブロ
ックが選択されて、分割マトリクス配線に信号を順次入
れて、素子を順次読み出してN番目を読み出した後、次
のブロックを同時に選択して、N+n番目まで読み出し
ても、2つの選択したブロックで、同一の分割マトリク
ス線には,素子は1つしかないので、2個同時に読み出
されることはない。そのため、n個の素子を読み出す時
間は、2つのブロックを重ねることができ、ブロック切
換え時の余裕時間となる。そのため,読み出し信号はブ
ロック切換え時に特に休止期間を置かなくても、読み出
しを行うことができる。
Furthermore, with the structure of the read sensor formed of the shift register, buffer, block switch, stabilization switch, divided matrix wiring, and photoelectric conversion element formed using amorphous silicon thin film transistors, as explained above, the photoelectric conversion of each block is performed. If the number of conversion elements is smaller than that of divided matrix wiring, from the stage with the output of the shift register,
Moving to the next stage, it is now permissible for there to be a period in which the selected block and the next block are selected at the same time.6 In other words, the number of photoelectric conversion elements in each block is divided by N. Let the number of matrix wirings be N+n. Even if a certain block is selected, signals are sequentially input to the divided matrix wiring, the elements are sequentially read out, the Nth element is read out, the next block is simultaneously selected, and the N+nth element is read out, the two selected blocks are Since there is only one element on the same divided matrix line, two elements are never read out at the same time. Therefore, the time required to read out n elements allows two blocks to be overlapped, and becomes a margin time when switching blocks. Therefore, the read signal can be read without a particular pause period when switching blocks.

また、梨地透明導電フィルムを読み取りセンサに装着し
て、完全密着読み取りを行うことによって、原稿走行時
に発生する静電気による電場がシールドされるので、配
線に電場の変動による誘動ノイズが誘起されないので、
薄膜トラン・ジスタが誤動作することがなく,また微小
な読み取り信号が変動することを防止する。
In addition, by attaching a matte transparent conductive film to the reading sensor and performing complete contact reading, the electric field due to static electricity generated when the document is running is shielded, so induced noise due to electric field fluctuations is not induced in the wiring.
This prevents thin film transistors from malfunctioning and prevents minute read signal fluctuations.

ここで梨地透明導電フィルムとは、弾性変形が可能な透
明フィルムで・、面積抵抗が100kΩ/口以下の導電
性があり、センサ面と接触する側の面が凹凸形状をして
おり、光が散乱される面となっているフィルムをいう。
Here, the matte transparent conductive film is a transparent film that can be elastically deformed, has conductivity with a sheet resistance of 100 kΩ/hole or less, and has an uneven surface on the side that comes into contact with the sensor surface, allowing light to pass through. This refers to the film that is the surface that is scattered.

また、梨地面は読み取りセンサ基板側となるようにフィ
ルムを装着するが、これは、基板背面より原稿を照明す
る光源からの光が、フィルム表面の梨地面で散乱される
ので、原稿を押しつけて密着した状態でのフィルム変形
で、凹面鏡形状となった時に、反射による集光で読み取
り出力が異常となることを防止することができる。
Also, the film is attached so that the matte surface is on the reading sensor board side, but this is because the light from the light source that illuminates the document from the back of the board is scattered by the matte surface of the film surface, so it is difficult to press the document against it. When the film is deformed into a concave mirror shape when the film is in close contact with the film, it is possible to prevent the reading output from becoming abnormal due to light condensation due to reflection.

すなわち,基板上に導電性透明フィルムを装着すること
により、読取性能の安定した作成が容易な完全密着セン
サを得ることができる。導電性透明フィルムは荷重が加
わると簡単に弾性変形するため破損しにくい。また、導
電性透明フィルムは電波および静電気誘動に対してシー
ルドとなるので,完全密着型続み取りセンサの出力信号
のノイズを防止する効果がある。また、原稿面とセンサ
素子との間のスペーサとなるため、照明の透光スペーサ
としてまた耐摩耗性保護フィルムとしても働く.これら
の効果のため、このフィルムを適用した完全密着型続み
取りセンサは組立性が良く、従来と同程度の読み取り性
能を安定に得ることができる。
That is, by mounting a conductive transparent film on a substrate, a fully contact sensor with stable reading performance and easy to manufacture can be obtained. Conductive transparent film easily deforms elastically when a load is applied, so it is difficult to break. Further, since the conductive transparent film acts as a shield against radio waves and electrostatic induction, it has the effect of preventing noise in the output signal of the complete contact type continuity sensor. It also acts as a spacer between the document surface and the sensor element, so it also functions as a transparent spacer for illumination and as a wear-resistant protective film. Because of these effects, a complete contact type continuation sensor using this film is easy to assemble and can stably obtain reading performance comparable to conventional sensors.

導電フィルムに高分子フィルムを用いれば鏡面部分を少
なくして散乱効果を向上させ、これが読み取りセンサの
機能の一助となる。
If a polymer film is used as the conductive film, the mirror surface area will be reduced and the scattering effect will be improved, which will help the reading sensor function.

導電フィルムの片面を梨地状につや消し加工し、梨地面
を光,電変換素子上面側に装着すると、裏面からの照明
光は梨地面で散乱され、透過および反射する。原稿を押
し付けることによって、梨地加工した導電フィルムは変
形し,反射の方向が変化するが、梨地加工のない平滑面
では照明光の鏡面反射が光電変換素子に入射して原稿か
らの光に加わるため白出力が異常に大きくなる欠点があ
るが、一方梨地面では反射光も散乱されるまでこのよう
な反射光を防止できる。このため上記の作用に加えて、
フィルム表面反身による異常白出力をなくして、安定な
読取り性能が確保できることになる。
When one side of the conductive film is matted to have a satin finish and the satin finish is attached to the top side of the optical/electrical conversion element, the illumination light from the back side is scattered by the satin finish and is transmitted and reflected. When an original is pressed against a matte finish, the conductive film is deformed and the direction of reflection changes, but on a smooth surface without a matte finish, the specular reflection of the illumination light enters the photoelectric conversion element and is added to the light from the original. There is a drawback that the white output becomes abnormally large, but on the other hand, the satin surface can prevent such reflected light until it is also scattered. Therefore, in addition to the above effects,
Abnormal white output due to film surface warping can be eliminated, and stable reading performance can be ensured.

導電フィルムと梨地加工したフィルムを別にして、それ
ぞれの作用を分離すれば,片面を梨地加工したフィルム
を、梨地面を光電変換素子上面側となるように素子に装
着することによって反射光を散乱させ、センサ基板裏側
からの照明光が鏡面反射してセンサ素子に入射すること
によって起る出力異常を防止する。更にセンサ基板に導
電性透明フィルムを接着すると原稿を読み取りセンサに
押付けた時のフィルムの変形が抑えられるので、フィル
ムのセンサ基板側表面での照明の反射がセンサ素子に入
射するのを抑制し、出力異常が出にくくなる。また、セ
ンサ基板と導電性透明フィルムを接着すると,センサ基
板と導電性透明フィルムとの間に屈折率の低い空気層が
なくなるので、導電性フィルムのセンサ基板側表面にお
ける反射率が低下して,同じく出力異常を出にくくする
作用をする。
If you separate the conductive film and the satin-finished film and separate their functions, you can scatter reflected light by attaching a film with a satin finish on one side to the photoelectric conversion element with the satin-finished surface on the top side of the photoelectric conversion element. This prevents output abnormalities caused by specular reflection of illumination light from the back side of the sensor substrate and incident on the sensor element. Furthermore, by adhering a conductive transparent film to the sensor substrate, the deformation of the film when a document is read and pressed against the sensor is suppressed, which suppresses the reflection of illumination on the sensor substrate side surface of the film from entering the sensor element. Output abnormalities are less likely to occur. In addition, when the sensor substrate and the conductive transparent film are bonded together, there is no air layer with a low refractive index between the sensor substrate and the conductive transparent film, so the reflectance on the surface of the conductive film on the sensor substrate side decreases. Similarly, it works to prevent output abnormalities from occurring.

更に導電性透明フィルムをセンサ基板の上に装着するこ
とによって導電性透明フィルムの表面での反射を防止す
ることによって、センサ素子に原稿からの反射光以外の
反射光が入射するのを防止することができるので安定な
センサ出力を得られる。
Further, by mounting a conductive transparent film on the sensor substrate to prevent reflection on the surface of the conductive transparent film, reflected light other than the reflected light from the original is prevented from entering the sensor element. This allows stable sensor output to be obtained.

尚,透明フィルムに代えてガラス板を用いることも勿論
本発明の範囲内にある。
Note that it is of course within the scope of the present invention to use a glass plate instead of the transparent film.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図に従って説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例に係る完全密着型続み取りセ
ンサの断面図である。全体構成は、読み取リセンサ基板
100に梨地導電フィルム13を装着し、原稿1lをプ
ラテンローラ10によって読み取りセンサ基板100に
押しつけている。読み取りセンサ基板100の原稿11
と反対側に光114を配置している。光源14からの照
明光は、読み取りセンサ基板100の透光部及び梨地導
電フィルム13を通して,読み取りを行う原稿11の表
面を照明し、乱反射された光は、原稿11の表面の反射
濃度(文字のある,なし等)に対応した強度で,読み取
りセンサ基板100の上に形或した読み取り素子2に入
射し、光電変換される。
FIG. 1 is a sectional view of a complete contact type continuity sensor according to an embodiment of the present invention. In the overall configuration, a matte conductive film 13 is mounted on a reading sensor board 100, and a document 1l is pressed against the reading sensor board 100 by a platen roller 10. Original 11 on reading sensor board 100
A light 114 is placed on the opposite side. The illumination light from the light source 14 illuminates the surface of the document 11 to be read through the transparent part of the reading sensor board 100 and the matte conductive film 13, and the diffusely reflected light increases the reflection density (characters) of the surface of the document 11. The light enters the reading element 2 formed on the reading sensor substrate 100 with an intensity corresponding to the presence, absence, etc., and is photoelectrically converted.

ファクシミリの63規格の原稿読み取りでは、読み取り
素子2はl un当たり8ヶの割合でライン状に配置さ
れており、A4判の原稿では素子数は約1728個、8
4判の原稿読み取り用のセンサでは約2048個の素子
が並んでいる。読み取り幅ではそれぞれ216lIII
1,256lInであり、原稿を原寸で読み取るいわゆ
る密着型読み取りセンサでは、センサ自体の寸法も原稿
サイズと同じ長さが必要であり、また光源14も、原稿
サイズをすべて照明する必要がある。しかしながら光源
として利用されている蛍光燈は中央と端では照度が異な
り,また、発光ダイオードを多数個並べた光源では,個
々の発光ダイオードのばらつきにより照度むらを生じて
いた。
In facsimile 63 standard document reading, the reading elements 2 are arranged in a line at a rate of 8 per lun, and for an A4 size document, the number of elements is approximately 1728, 8.
Approximately 2048 elements are lined up in a sensor for reading 4-size originals. The reading width is 216lIII each.
In a so-called contact type reading sensor that reads a document at its original size, the size of the sensor itself must be the same as the size of the document, and the light source 14 must also illuminate the entire size of the document. However, fluorescent lights used as light sources have different illuminance between the center and the edges, and light sources with a large number of light emitting diodes lined up have uneven illuminance due to variations in the individual light emitting diodes.

原稿1■からの反射光の強度は原稿面の照度に比例する
ため、光源14が原稿11を照らす照度むらはそのまま
読み取りセンサの出力むらとなり,シエーデインと呼ば
れている。このシエーデイングのある読み取りセンサの
出力を一定の基準で白黒2値化を行うと、原稿の実際の
反射濃度からずれたものとなり画像の劣化を引き起こす
ため好ましくない。
Since the intensity of the reflected light from the document 12 is proportional to the illuminance of the document surface, the illuminance unevenness with which the light source 14 illuminates the document 11 directly becomes the output unevenness of the reading sensor, and is called shading. If the output of the reading sensor with this shading is converted into black and white based on a certain standard, it is not preferable because the output deviates from the actual reflection density of the document, causing image deterioration.

一般には、均一な白い原稿を読み取った時のシエーデイ
ングを予めメモリに蓄え,実際に原稿を読み取るときに
は、記憶したシエーデイングの値を参照して、あたかも
シエーデイングがないように補正を行っている。しかし
ながら、このような補正は、補正回路のA/D変換の精
度や入力電圧振幅の制限から,実際、工業的には大幅な
シエーデイングの補正は難しい。本発明は、このような
シエーデイングを読み取りセンサの構或の工夫によりな
くそうとするものである。
Generally, the shading when a uniformly white document is read is stored in memory in advance, and when the document is actually read, the stored shading value is referred to and correction is made as if there were no shading. However, in practice, it is difficult to make a large shading correction industrially due to the accuracy of A/D conversion of the correction circuit and limitations on the input voltage amplitude. The present invention attempts to eliminate such shading by devising a structure of the reading sensor.

読み取りセンサ基板100は、透光性基板101上に,
電極102,遮光膜102a,絶縁膜103,光電変換
膜104、オーミツクコンタクト層105,電極106
,保護膜107,遮光膜108を形或し.所定の形状に
IC等のパターン形成で用いられるのと同様なホトリソ
グラフィー技術を用いて所定のパターンに形戒している
。こうして読み取り素子2,蓄積容量2a,基準素子1
,読み出しスイッチ3を作或している。尚,梨地導電フ
ィルム13は導電性透明フィルム13aと梨地加エフィ
ルム13cとを積着層13bを介在して積層したもので
ある。
The reading sensor board 100 has a transparent substrate 101 and
Electrode 102, light shielding film 102a, insulating film 103, photoelectric conversion film 104, ohmic contact layer 105, electrode 106
, the protective film 107 and the light shielding film 108 are formed. A predetermined shape is formed into a predetermined pattern using photolithography technology similar to that used in pattern formation of ICs and the like. In this way, the reading element 2, the storage capacitor 2a, the reference element 1
, readout switch 3 is made. The satin-finished conductive film 13 is obtained by laminating a conductive transparent film 13a and a satin-finished film 13c with a lamination layer 13b interposed therebetween.

第2図は第1図の例にて形成した平面図とこれに対応す
る回路図との組み合せ図面である。読み取り素子2及び
基準素子1は光導電型の光電変換素子を用いており、読
み出しスイッチ3は電界効果型の薄膜トランジスタであ
る。なお、この図では、形状がわかり易いように、遮光
膜108等は省略してある。
FIG. 2 is a combined drawing of a plan view formed in the example of FIG. 1 and a corresponding circuit diagram. The read element 2 and the reference element 1 use photoconductive photoelectric conversion elements, and the read switch 3 is a field effect thin film transistor. Note that in this figure, the light shielding film 108 and the like are omitted to make the shape easier to understand.

読み取り素子2は,遮光膜102aにより、光源14の
光は直接受光しないように形威されており,光源14が
原稿11を照らした反射光を光電変換する。一方,読み
取り素子の近傍に形或した基準素子1は,遮光膜102
aはなく、光源l4の光を直接光電変換する。また、こ
の時、基準素子1の上には遮光膜108を形成してあり
、原稿11からの反射光は入射しない。読み取り素子2
の光電変換出力は、原稿11の照度及び反射率に比例す
る。
The reading element 2 is configured so as not to directly receive the light from the light source 14 by the light shielding film 102a, and photoelectrically converts the reflected light from the light source 14 onto the original 11. On the other hand, the reference element 1 formed near the reading element has a light shielding film 102.
There is no a, and the light from the light source 14 is directly photoelectrically converted. Further, at this time, a light shielding film 108 is formed on the reference element 1, so that reflected light from the original 11 does not enter. Reading element 2
The photoelectric conversion output is proportional to the illuminance and reflectance of the original 11.

また、基準素子lの光電変換出力は光源14の方射強度
に比例するので、読み取り素子2の光電変換出力をこれ
を用いて補正すれば、原稿の照度むら、即ち,光源の方
射強度のむらに依存しない。
Furthermore, since the photoelectric conversion output of the reference element 1 is proportional to the directional intensity of the light source 14, if the photoelectric conversion output of the reading element 2 is corrected using this, uneven illuminance of the document, that is, unevenness of the directional intensity of the light source can be corrected. does not depend on

反射率に依存した出力を取り出すことができる。Output that depends on reflectance can be extracted.

本実施例では、読み取り素子2に基準素子1を直列に接
続しており,一定印加電圧VssとVouを分圧してお
り,読み取り素子2と基準素子1の接続点Aに読み取り
出力信号が電圧として出てくる構成となっている。更に
、読み出し容量2aは、読み取り素子2と並列に形威し
てあり、接続点Aの電圧VSIGと読み出し容量2aの
静電容量Cに比例した信号電荷Q = C (Vs+a
 − Vss)を蓄える。
In this embodiment, the reference element 1 is connected to the reading element 2 in series, and the constant applied voltages Vss and Vou are divided, and the read output signal is output as a voltage at the connection point A between the reading element 2 and the reference element 1. The configuration is as follows. Furthermore, the read capacitor 2a is arranged in parallel with the read element 2, and a signal charge Q = C (Vs+a
- Vss).

一定の読み取り周期ごとに読み出しスイッチ3を導通状
態として信号線SIGに電荷を転送し、読み出しを行う
The readout switch 3 is turned on at regular readout intervals to transfer charge to the signal line SIG, and readout is performed.

本実施例の要部を第3図に示す。The main part of this embodiment is shown in FIG.

接続点の電圧Vs+aは読み取り素子2と基準素子1の
抵抗をそれぞれR2及びRzとするとR t + R 
2 み取り素子の導電率σ2は光源l4の放射強度■及び原
稿の反射率γに比例し,また基準素子1の導電率σ1は
光源l4の放射強度に比例する。そのため、信号電圧V
sraは 1+− γ1 と表わされ、光源のばらつきに依存せず、原稿の反射率
によってのみ変化する出力が得られる。
The voltage Vs+a at the connection point is R t + R, where the resistances of the reading element 2 and reference element 1 are R2 and Rz, respectively.
2. The conductivity σ2 of the picking element is proportional to the radiation intensity ■ of the light source 14 and the reflectance γ of the original, and the conductivity σ1 of the reference element 1 is proportional to the radiation intensity of the light source 14. Therefore, the signal voltage V
sra is expressed as 1+-γ1, and an output that does not depend on variations in the light source and changes only depending on the reflectance of the original is obtained.

ここでBは反射率γ=■の時の読み取り素子と基準素子
との導電率の比であり、素子のレイアウトや光源と素子
の配置により設計できる。
Here, B is the ratio of conductivity between the reading element and the reference element when the reflectance γ=■, and can be designed depending on the layout of the element and the arrangement of the light source and the element.

出力電圧はこの比と逆比例関係にある。そのためBが大
きい場合も小さい場合も出力電圧変化は小さくなるので
適当な値にする必要がある。
The output voltage is inversely proportional to this ratio. Therefore, whether B is large or small, the output voltage change will be small, so it is necessary to set it to an appropriate value.

信号電荷Qは,信号電圧Vsxaと読み出し容量Cに依
存する出力なので,読み出し容量の静電容量Cを変える
ことによって、信号電荷Qの大きさを選択することがで
きる。そのため,本実施例のように電界効果型薄膜トラ
ンジスタから成る読み出しスイッチを用いて電荷を信号
線SIGに転送する場合には、読み取りに要求される速
度や、読み出しスイッチ3の駆動電流容量に応じて読み
出し電荷Qを変えることができる。これは従来の読み取
りセンサが,原稿からの反射光を光電変換する読み取り
素子の光電流をすべて蓄積容量に蓄えていた点と大きく
異なる点である。このような読み取り素子2,基準素子
1,読み出し容量2aからなる読み取り素子構成は、読
み取りセンサの性能及び回路の構或自由度を大きく向上
させる。
Since the signal charge Q is an output that depends on the signal voltage Vsxa and the read capacitance C, the magnitude of the signal charge Q can be selected by changing the capacitance C of the read capacitor. Therefore, when transferring charges to the signal line SIG using a readout switch made of field-effect thin film transistors as in this embodiment, readout depends on the speed required for reading and the drive current capacity of the readout switch 3. Charge Q can be changed. This is a big difference from conventional reading sensors, which store all the photocurrent of the reading element that photoelectrically converts the light reflected from the document in a storage capacitor. Such a reading element configuration consisting of the reading element 2, the reference element 1, and the reading capacitor 2a greatly improves the performance of the reading sensor and the degree of freedom in the configuration of the circuit.

また本実施例では読み取り素子と基準素子は同一の光電
変換膜で、同一の工程で作成している。
Further, in this embodiment, the reading element and the reference element are made of the same photoelectric conversion film and are made in the same process.

そのため,読み取り素子と基準素子と2つの光電変換素
子を設けても工程が増えることはない。膜及び工程が同
一なので材料ばらつきや,パターン精度のばらつきは共
通に受けるため、基準素子と読み取り素子との導電率の
比による読み出しを行っている本実施例では、素子ばら
つきが小さくなる効果がある。
Therefore, even if a reading element, a reference element, and two photoelectric conversion elements are provided, the number of steps does not increase. Since the films and processes are the same, they are subject to material variations and pattern accuracy variations in common, so this embodiment, which performs readout based on the ratio of conductivity between the reference element and the reading element, has the effect of reducing element variations. .

本実施例には複数の発明が含まれており、これらを分け
て記述すると次のようになる。
This embodiment includes a plurality of inventions, and these will be described separately as follows.

透光性基板上に形成した、原稿の反射光を光電変換する
読み取り素子と、光源よりの直接光を光電変換する読み
取り素子を設けることにより、光源のばらつきによるシ
エーデイングを補正し、原稿の反射率のみ含んだ信号を
得ることができる効果がある。本実施例では、読み取り
素子と、基準素子は光導電型の光電変換素子を用いてい
るが、ホトダイオード動作をする積層型の光電変換素子
を用いても良い.また、本実施例では、読み取り素子1
ヶに対して基準信号tヶを設けているが、シエーデイン
グがなだらかな場合には、読み取り素子複数個に対して
基準素子を1ヶ設ける構成としても良い。光源ばらつき
を補正するためには実施例にあるように読み取り素子と
基準素子の出力の比を取る必要がある。そのため、読み
取り素子と、基準素子の数が1=1でない場合には、読
み取り素子と基準素子の光電変換出力を別個に取り出し
外部で割り算を行なえば良い。光電変換出力としては電
圧,電流,電荷があるが、素子に入射する光量と比例す
る出力であればいずれでも良い。
By providing a reading element formed on a translucent substrate that photoelectrically converts the light reflected from the original and a reading element that photoelectrically converts the direct light from the light source, shading caused by variations in the light source can be corrected and the reflectance of the original can be corrected. This has the effect of making it possible to obtain a signal containing only In this embodiment, a photoconductive type photoelectric conversion element is used as the reading element and the reference element, but a laminated type photoelectric conversion element that operates as a photodiode may also be used. Furthermore, in this embodiment, the reading element 1
However, if the shading is gentle, one reference element may be provided for a plurality of reading elements. In order to correct light source variations, it is necessary to calculate the ratio of the outputs of the reading element and the reference element as in the embodiment. Therefore, if the number of reading elements and reference elements is not 1=1, it is sufficient to take out the photoelectric conversion outputs of the reading element and the reference element separately and perform the division externally. The photoelectric conversion output includes voltage, current, and charge, but any output may be used as long as it is proportional to the amount of light incident on the element.

本実施例によれば照明光を受ける基準素子と、原稿反射
光を受ける読み取り素子を設けているため、これら2素
子と光電変換出力の比を取ることによってシエーデイン
グのない読み取り信号が得られるという効果がある。
According to this embodiment, since a reference element that receives illumination light and a reading element that receives reflected light from the original are provided, a reading signal without shading can be obtained by taking the ratio of these two elements and the photoelectric conversion output. There is.

次に、読み取り素子と基準素子とを直列に接続し、供給
電圧を分圧して読み取り信号とした場合には,N単な構
成で光源ばらつきによるシエーデイングを補正して、原
稿の反射率に対応した出力電圧が得られる効果がある。
Next, when the reading element and the reference element are connected in series and the supplied voltage is divided to produce a reading signal, the shading due to light source variation can be corrected using an N-only configuration, and the shading can be adjusted to correspond to the reflectance of the original. This has the effect of increasing the output voltage.

本実施例では読み取り素子及び基準素子は光導電型の光
電変換素子であるが、積層型ホトダイオードを光電変換
素子に用いても,同様な効果が得られる。基準素子と読
み取り素子はどちらがアース側でも良い。
In this embodiment, the reading element and the reference element are photoconductive type photoelectric conversion elements, but the same effect can be obtained even if a stacked photodiode is used as the photoelectric conversion element. Either the reference element or the reading element may be on the ground side.

次に、読み取り素子と基準素子とを直列に配置し、さら
に読み取り素子と並列にまたは基準素子と並列に読み取
り電荷転送容量を設けることによって、読み取り素子及
び基準素子の光電流の大きさに依存せずに読み出し信号
電荷を設定できるので、読み出し回路の駆動能力に対応
して信号電荷を設定できる効果がある。そのため、設計
自由度が向上する効果がある。
Next, by arranging the reading element and the reference element in series, and further providing a reading charge transfer capacitor in parallel with the reading element or in parallel with the reference element, the photocurrent of the reading element and the reference element is not dependent. Since the readout signal charge can be set without any problem, the signal charge can be set in accordance with the drive capability of the readout circuit. Therefore, there is an effect that the degree of freedom in design is improved.

次に、読み取り素子と基準素子とを同一の工程で製造す
ると、素子のバタンばらつき、物性ばらつきを読み取り
素子と、基準素子とで同一とすることができるので、ば
らつき低減の効果がある。
Next, if the reading element and the reference element are manufactured in the same process, it is possible to make the variation in element slam and physical properties the same for the reading element and the reference element, which has the effect of reducing variations.

また、これらの素子を薄膜トランジスタと同一の工程で
形成することもできる。同一工程で読み取り素子及び基
準素子とを形成することにより、工程を増やすことなく
,高性能の読み取りを行うことができる効果がある。
Further, these elements can also be formed in the same process as the thin film transistor. By forming the reading element and the reference element in the same process, there is an effect that high-performance reading can be performed without increasing the number of processes.

次に、読み取り素子と基準素子の導電率の比↓こついて
、第4図及び第5図を用いて説明する。第1図及び第2
図の実施例の説明で述べたように,読み取り電圧は式(
1)で表わされた読み取り素子の導電率と基準素子の導
電率の比Bに依存し,Bが大きくても,小さくても出力
電圧は飽和するので誤差が大きくなる。実用的には約B
=LOに設定すると電圧変化を大きくとれるが直線性は
B=1位が良く目的により0.1〜100 の範囲で設
定すれば良い。このBの設定は読み取り素子と基準素子
の大きさ,レイアウト、光源との位置関係等で決まるが
、設計自由度の大きな値である。このように,反射率が
1の時の読み取り素子の光導電率と,基準素子の光導電
率の比を0.1〜100とすることにより、読み取り電
圧原稿反射率変化による読み取り電圧変化を大きく取る
ことができるため、読み取り精度を向上できる効果があ
る。
Next, the conductivity ratio of the reading element and the reference element will be explained with reference to FIGS. 4 and 5. Figures 1 and 2
As mentioned in the description of the example in the figure, the reading voltage is determined by the formula (
It depends on the ratio B between the conductivity of the reading element and the conductivity of the reference element expressed in 1), and whether B is large or small, the output voltage will be saturated and the error will become large. Practically about B
If it is set to = LO, the voltage change can be made large, but the linearity is best when B = 1, and it may be set in the range of 0.1 to 100 depending on the purpose. The setting of B is determined by the size and layout of the reading element and reference element, the positional relationship with the light source, etc., and is a value with a large degree of freedom in design. In this way, by setting the ratio of the photoconductivity of the reading element when the reflectance is 1 to the photoconductivity of the reference element to 0.1 to 100, the change in the read voltage due to the change in the read voltage original reflectance can be greatly reduced. This has the effect of improving reading accuracy.

またBの小さい範囲では反射率と出力電圧変化が直線関
係に近くなるので良質の信号が得られるという効果があ
る。
In addition, in a small range of B, the reflectance and the output voltage change have a nearly linear relationship, so there is an effect that a high quality signal can be obtained.

なお、最小読み取り分解能は,読み取りの隙間分解能す
なわち、上階調の電圧変化がノイズレベルよりも大きい
ことが必要であり、読み取りセンサシステム系のノイズ
レベルに依存する。
Note that the minimum reading resolution requires the reading gap resolution, that is, the voltage change in the upper gradation to be larger than the noise level, and depends on the noise level of the reading sensor system.

次に、第2図から第5図で説明した読み取りセンサの読
み出し回路について第6図および第7図を用いて説明す
る。第2図から第5図で説明した実施例では,読み出し
電圧は読み取り素子導電率と基準素子導電率の比Bに式
(1)に示すような関係で表わされた。ここで、反射率
γが変わるとほぼ反射率に反比例して読み出し電圧Vs
Iaが出てくる。読み出し方式によって信号の形態は異
なるが、電圧,電流,電荷のいずれの読み出しでも出力
の強度は反射率γに反比例の関係がある。この非線形性
は多数の階調(中間の色の濃さ)を読み取って区別する
ためにはあまり好ましくない特性であり、第6図に示す
ように、読み取りセンサの出力Xで一定電圧Yを除算す
ることによって、線形な出力Zを得ることができる。読
み取りセンサの出力XはOになることが許されないので
、注意が必要である. 第1図及び第2図にて説明した実施例では、出力信号を
電荷として読み出し、第7図に一例として示すような電
流増幅回路201、積分回路202、割り算回路203
を用いた回路が高速読み取りに好都合である。Bの小さ
な範囲では信号の直線性が良いため割り算回路203を
省略することが可能である。
Next, the readout circuit of the readout sensor explained in FIGS. 2 to 5 will be explained using FIGS. 6 and 7. In the embodiments described in FIGS. 2 to 5, the read voltage is expressed by the ratio B between the read element conductivity and the reference element conductivity as shown in equation (1). Here, when the reflectance γ changes, the read voltage Vs is approximately inversely proportional to the reflectance.
Ia comes out. Although the form of the signal differs depending on the readout method, the intensity of the output is inversely proportional to the reflectance γ in any of the voltage, current, and charge readouts. This nonlinearity is a characteristic that is not very desirable for reading and distinguishing many gradations (intermediate color depth), and as shown in Figure 6, when a constant voltage Y is divided by the output By doing so, a linear output Z can be obtained. The output X of the reading sensor is not allowed to become O, so care must be taken. In the embodiment described in FIGS. 1 and 2, the output signal is read out as a charge, and the current amplification circuit 201, integration circuit 202, and division circuit 203 shown as an example in FIG.
A circuit using this is advantageous for high-speed reading. In a small range of B, the linearity of the signal is good, so the division circuit 203 can be omitted.

このように、第t図から第7図の実施例で示したように
、基準素子と読み取り素子を直列に接続し,読み取り信
号として分圧出力を用いた場合には、割り算回路により
、読み取り出力として反射率,即ち反射光の光の強さに
比例した出力が得られるので階調読み取りのような高画
質読み取りに効果がある. 本発明の実施例を第8図の回路図及び第9図の信号タイ
ミング図を用いて説明する。本発明の読み取りセンサは
アモルファスシリコン薄膜トランジスタから成るシフト
レジスタ部7,バッファ部6,分割マトリクス@B,ブ
ロックスイッチ5,安定化スイッチ44及び光電変換素
子である読み出し転送スイッチ3、基準素子1、読み取
り素子2より成る。
In this way, as shown in the embodiments shown in Figs. It is effective for high-quality reading such as gradation reading because it provides an output proportional to the reflectance, that is, the intensity of the reflected light. An embodiment of the present invention will be described using the circuit diagram of FIG. 8 and the signal timing diagram of FIG. 9. The read sensor of the present invention includes a shift register section 7 made of amorphous silicon thin film transistors, a buffer section 6, a division matrix@B, a block switch 5, a stabilizing switch 44, a read transfer switch 3 which is a photoelectric conversion element, a reference element 1, and a read element. Consists of 2.

第8図の回路はすべて透光性基板上に作或したものであ
る。読み取り素子はS1より82048まであり、G3
規格のファクシミリの例である。
All of the circuits shown in FIG. 8 are fabricated on a transparent substrate. There are reading elements from S1 to 82048, and G3
This is an example of a standard facsimile.

なお.31〜82048の一部素子は省略あるいは数字
で略記した。シフトレジスタは入力線IBにデータをセ
ットした後、クロックφ及びTによりシフトレジスタ段
SROからSR64まで順次データ転送される。信号は
シフトレジスタ部7からバッファ6を介してlブロック
(ここでは32素子)を選択するブロックスイッチ5及
び安定化スイッチ4を駆動する。バッファは論理の調整
のためのNORゲート6cとインバータ6bを介してプ
ッシュプル回路6aを駆動する.この間に信号の論理の
調整及びスイッチサイズの大型化による駆動電流の増幅
を行っている。プッシュプル回路は1ブロックに2組あ
り一方は、ブロックスイッチ32ケのゲート電極をまた
、もう一方はブロックスイッチ駆動用のプッシュプル回
路と逆論理で動作させ、安定化スイッチのゲート線を駆
動している。
In addition. Some of the elements 31 to 82048 have been omitted or abbreviated with numbers. After the shift register sets data on the input line IB, the data is sequentially transferred from shift register stage SRO to SR64 by clocks φ and T. The signal is transmitted from the shift register unit 7 via the buffer 6 to drive the block switch 5 for selecting l block (32 elements in this case) and the stabilization switch 4. The buffer drives a push-pull circuit 6a via a NOR gate 6c and an inverter 6b for logic adjustment. During this time, the drive current is amplified by adjusting the signal logic and increasing the switch size. There are two sets of push-pull circuits in one block; one operates the gate electrodes of the 32 block switches, and the other operates in reverse logic to the push-pull circuit for driving the block switches, driving the gate line of the stabilizing switch. ing.

ブロックスイッチ4を,シフトレジスタ部7のデータを
バッファを介して選択し、次に分割マトリクス線8の一
本を1 (正論理)にすると、ブロックスイッチ5及び
分割マトリクス1lA8のマトリクスにより選択すると
1ヶの読み出しスイッチ3が導通となる。これにより1
ヶの読み取り素子の読み取り電荷が信号線に転送される
。ここで読み取り素子は第1図及び第2図ですでに説明
した、読み取り素子2と基準素子1を直列に配列したも
ので、ここでは省略しているが、第2図中の回路図にあ
るように読み出し容量2aを持っている。
When the block switch 4 selects the data in the shift register section 7 via the buffer and then sets one of the divided matrix lines 8 to 1 (positive logic), when the data is selected by the block switch 5 and the matrix of the divided matrix 1lA8, it becomes 1. The readout switch 3 becomes conductive. This results in 1
The read charges of the read elements are transferred to the signal line. Here, the reading element is the one in which the reading element 2 and the reference element 1 are arranged in series, as already explained in FIGS. 1 and 2. Although omitted here, it is shown in the circuit diagram in FIG. It has a read capacity of 2a.

第7図で説明した回路を用いて信号線Seaの信号を増
幅積分割り算をした例を第9図のV o u tに示し
ている。ここでは信号の強さのみ示している。
V out in FIG. 9 shows an example in which the signal on the signal line Sea is amplified, integrated, and divided using the circuit described in FIG. 7. Only the signal strength is shown here.

このような信号タイミングは、読み取り素子のブロック
分割方式に依存している本実施例は1ブロックの構成素
子数は32であり、2048個の素子を駆動するのに6
4ブロック必要である。シフトレジスタはブロック選択
を重ねる論理をとるためSROからSR64まで65ケ
あり,分割マトリクス線はA1〜A64まで64本ある
。一般的な分割マトリクス駆動ではマトリクス線と1ブ
ロックの素子数は同じであり、この場合32本になりそ
うであるが,そうするとあるブロックから、次のブロッ
クを選択しようとすると動作遅れのためにブロック間に
休止期間を必要とする。本実施例の構成によれば、1ブ
ロックに属する素子の数Noよりも、分割マトリクス線
8の数N.を増すことにより、ブロックの切換え期間を
1素子当りの読み出し時間を1.11とすると、tu(
N*  Na)だけ増すことができる。第8図の実施例
はN,=2NBとしており,M単な論理で休止期間なく
連続な出力が得られる。
Such signal timing depends on the block division method of the reading elements.In this embodiment, the number of constituent elements in one block is 32, and it takes 6 to drive 2048 elements.
Four blocks are required. There are 65 shift registers from SRO to SR64 since the logic of block selection is repeated, and there are 64 dividing matrix lines from A1 to A64. In general divided matrix driving, the number of matrix lines and the number of elements in one block are the same, and in this case it would probably be 32, but if you try to select from one block to the next block, the block will be blocked due to the operation delay. Requires a rest period in between. According to the configuration of this embodiment, the number N of divided matrix lines 8 is larger than the number N of elements belonging to one block. By increasing the block switching period and readout time per element to 1.11, tu(
can be increased by N*Na). In the embodiment shown in FIG. 8, N=2NB, and a continuous output can be obtained without any pause period with M simple logic.

第8図で用いているスイッチ類はすべて第10図に示す
ような、いわゆる逆スタガ型のアモルファスシリコン薄
膜トランジスタで構戒できる。透明基板101上にゲー
ト電極102、絶縁膜103、i型アモルファスシリコ
ン104、n十型アモルファスシリコン105.ソース
電極106a及びドレイン電極106b、保護層107
を順次積層及びホトリソグラフィー技術を用いて所定の
形状にパターニングされている。
All the switches used in FIG. 8 can be made of so-called inverted staggered amorphous silicon thin film transistors as shown in FIG. A gate electrode 102, an insulating film 103, an i-type amorphous silicon 104, an n-type amorphous silicon 105, and so on are formed on a transparent substrate 101. Source electrode 106a, drain electrode 106b, protective layer 107
are sequentially laminated and patterned into a predetermined shape using photolithography technology.

この構戒の薄膜トランジスタスイッチはnチャンネル型
のMIS電解効果型トランジスタとなり、ゲート電極1
02にVcの電圧を加えるとコンダW クタンスgm=−CIμ(vG−v丁)で表わされるL MOS型トランジスタの基本式によくあった動作をする
。ここで、Wはチャンネル幅,Lはチャンネル長、CI
はゲートの単位面積当りの容量,μは電子の移動度、v
丁は閾値電圧を表わす。
This structured thin film transistor switch is an n-channel MIS field effect transistor, and the gate electrode 1
When a voltage of Vc is applied to 02, an operation similar to the basic formula of an L MOS type transistor is performed, which is expressed by the conductor Wcance gm=-CIμ(vG-vt). Here, W is the channel width, L is the channel length, and CI
is the capacitance per unit area of the gate, μ is the electron mobility, v
D represents the threshold voltage.

しかしながらこのようなアモルファスシリコンの薄膜ト
ランジスタは、電子の移動度μが一般に0.1 〜1a
#/VSと結晶シリコンと3桁程度小さいため、大きな
電流を駆動することは難しい。
However, such amorphous silicon thin film transistors generally have an electron mobility μ of 0.1 to 1a.
Since #/VS is about three orders of magnitude smaller than crystalline silicon, it is difficult to drive a large current.

動作速度のマトリクス駆動による高速化、駆動容量の減
少、読み取り素子容量の選定により第8図で示した実施
例では、シフトレジスタが20KHz1ブロックのマト
リクス数が32本であり総合の動作速度は600KHz
程度が得られる。この速度はG3規格では十分実用とな
る読み取り速度である。また、読取り素子と薄膜トラン
ジスタを共用できるのでプロセスの簡略化、配線量の減
少、基板の小型化が可能であり、高性能で安価な読み取
りセンサを供給できる。
By increasing the operating speed by matrix driving, reducing the driving capacity, and selecting the read element capacity, in the embodiment shown in Fig. 8, the shift register has a 20 KHz, the number of matrices in one block is 32, and the overall operating speed is 600 KHz.
degree is obtained. This speed is a reading speed sufficient for practical use according to the G3 standard. Furthermore, since the reading element and the thin film transistor can be shared, it is possible to simplify the process, reduce the amount of wiring, and downsize the substrate, making it possible to provide a high-performance and inexpensive reading sensor.

尚、基本インバータにはE/Rインバータ、E/Eイン
バータCMOS構或のインバータを用いることができる
Note that an E/R inverter or an inverter with an E/E inverter CMOS structure can be used as the basic inverter.

E/Rインバータを用いたシフトレジスタ回路を第11
図に示す。この構成のインバータはE/Eインバータよ
りも6倍程度高速であり、好都合であるが、E/R,E
/Eどちらのインバータでも良い。
The 11th shift register circuit using an E/R inverter
As shown in the figure. The inverter with this configuration is about 6 times faster than the E/E inverter, which is advantageous, but the E/R, E
/E Either inverter may be used.

本実施例によれば低容量の第1図及び第2図に示す読み
取り素子及びアモルファスシリコンの薄膜トランジスタ
スイッチで形成したシフトレジスタ部,バッファ部、ブ
ロックスイッチ、安定化スイッチ、分離マトリクス線に
よって配線量を減少し、基板の小型化が可能となり安価
で高性能な読み取りセンサを供給できる効果がある。
According to this embodiment, the amount of wiring can be reduced by using the low capacitance reading element shown in FIGS. 1 and 2, a shift register section formed of amorphous silicon thin film transistor switches, a buffer section, a block switch, a stabilizing switch, and a separation matrix line. This has the effect of making it possible to downsize the substrate and supplying an inexpensive and high-performance reading sensor.

また、本発明でさらに、分割マトリクス線の数を↓ブロ
ックを構成する素子数よりも多くすることによって,ブ
ロック切換え時間に余裕ができるため、連続な読み取り
出力を得られる効果がある。
Furthermore, in the present invention, by making the number of divided matrix lines larger than the number of elements constituting the ↓ block, it is possible to have a margin in block switching time, so that continuous read output can be obtained.

本発明により読み取りセンサを構成した実施例はすでに
第1図にその断面構造を示している。回路及び素子の動
作はすでに説明したとうりである。
A cross-sectional structure of an embodiment of a reading sensor constructed according to the present invention is already shown in FIG. The operation of the circuit and elements has already been described.

ここでは梨地透明導電フィルムの実施例として説明する
。原稿11はプラテンローラ1oによって梨地透明導電
フィルムを介して、読み取り素子に押しつけられ、所定
の読み取りを行うことは先に説明した。この時、梨地透
明導電フィルム表面は原稿1lの押付け走行により静電
帯電する。その帯電状態が変動すると(原稿が走行する
と)周囲の電場が変化し、梨地透明導電フィルム11が
なければ、読み取りセンサの配線にノイズが誘導され、
薄膜トランジスタの誤動作や,読み取りセンサ出力が異
常となる原因となる。梨地透明導電フィルムはポリエス
テル、アクリル等の透明なフィルムベースとシールドの
ためのITO(インジウムスズ酸化物)やスズ酸化物よ
り成る透明導電層13b及び梨地処理面13cから成っ
ている。
Here, an example of a matte transparent conductive film will be described. As described above, the original 11 is pressed against the reading element by the platen roller 1o via the matte transparent conductive film, and predetermined reading is performed. At this time, the surface of the satin-finished transparent conductive film is electrostatically charged by the pressing movement of the document 1l. When the charged state changes (as the document runs), the surrounding electric field changes, and without the matte transparent conductive film 11, noise would be induced in the wiring of the reading sensor.
This may cause the thin film transistor to malfunction or the reading sensor output to become abnormal. The matte transparent conductive film consists of a transparent film base made of polyester, acrylic, etc., a transparent conductive layer 13b made of ITO (indium tin oxide) or tin oxide for shielding, and a matte finish surface 13c.

IT○はJM稿の走行によって原稿1lが走行するベー
スフィルム面に発生する静電気によるノイズをシールド
する役割を持ち,また、梨地面13c.これがない場合
に発生する素子の異常出力を防止する。即ち梨地面がな
い場合には,プラテンローラ10の押し付けによってフ
ィルムが変動し、読み取り素子2の近傍で凹面鏡形状と
なることがある。これにより,フィルムのセンサ面側が
梨地面でない場合にはフィルムのセンサ面側の光源から
の光が、凹面鏡のような効果で集光され、異常に高い出
力となることがある。梨地面13cは凹凸形状をしてお
り、これによって透過光及び反射光が散乱される面を言
うが、これにより、光源の光は散乱され、フィルムが凹
型に変形しても安定な読み取りが可能な効果がある。
IT○ has the role of shielding noise due to static electricity generated on the base film surface on which the original 1l runs due to the running of the JM manuscript, and also has a matte surface 13c. This prevents abnormal output from the element that would otherwise occur. That is, if there is no matte surface, the film may be moved by the pressing of the platen roller 10 and may take on a concave mirror shape near the reading element 2. As a result, if the sensor surface side of the film is not satin-finished, the light from the light source on the sensor surface side of the film may be condensed with an effect similar to a concave mirror, resulting in an abnormally high output. The pear surface 13c has an uneven shape, and is a surface that scatters transmitted light and reflected light.This scatters the light from the light source, allowing stable reading even if the film is deformed into a concave shape. It has a great effect.

尚、梨地透明導電フィルムはITOを片面につけたフィ
ルムと、梨地加工したフィルムとを、ITO面および非
梨地面で接着して得ることもできる。
Note that the satin-finished transparent conductive film can also be obtained by adhering a film coated with ITO on one side and a satin-finished film with the ITO surface and the non-matin finish.

第12図は本発明によるセンサ部分の斜視図であり、図
のように光電変換素子を構或する上下の電極102,1
06の重複数は多数個配設されることになる。
FIG. 12 is a perspective view of a sensor portion according to the present invention, and as shown in the figure, upper and lower electrodes 102, 1 constituting a photoelectric conversion element are shown.
A large number of duplicates of 06 will be provided.

第1図及び第8図で示した読み取りセンサを、ファクシ
ミリに実装した時の一例の断面図を第l2図により説明
する。この断面図においては本発明の読み取りセンサア
センブリ300、プラテンローラ10.感熱記録ヘッド
301、感熱紙302を示しており、他の回路,電源等
は省略している。読み取りセンサアセンブリ300は、
第1図の断面図に示すような構或となっており、梨地透
明導電フィルム13及び光源l4も含んでいるものであ
る。
A sectional view of an example of the reading sensor shown in FIGS. 1 and 8 installed in a facsimile will be explained with reference to FIG. 12. In this cross-sectional view, a read sensor assembly 300 of the present invention, a platen roller 10. A thermal recording head 301 and thermal paper 302 are shown, and other circuits, power supplies, etc. are omitted. The read sensor assembly 300 includes:
It has a structure as shown in the sectional view of FIG. 1, and also includes a matte transparent conductive film 13 and a light source 14.

この図に示すように原稿を303の矢印方向より原稿面
を下側にして入れると、原稿はプラテンローラ10aに
より読み取りセンサアセンブリに押付けられ、すでに説
明したような読み取りを行う。また、感熱ヘッド301
は感熱紙302をプラテンローラ10bで発熱素子に押
し付けて、所定の記録面を得る。こ,のように、ファク
シミリの実装は,読み取りセンサアセンブリ300及び
プラテンローラ10aによって形成される読み取り系と
、感熱ヘッド301、プラテンローラ10b、感熱紙3
02で構成される記録系の配置によりデザインが制約さ
れる。本発明の読み取りセンサを用いれば第l2図のよ
うにコンパクトな設計が可能となり、設計自由度が増す
効果がある。
As shown in this figure, when a document is placed with the document surface facing downward in the direction of the arrow 303, the document is pressed against the reading sensor assembly by the platen roller 10a and is read as described above. In addition, the thermal head 301
The thermal paper 302 is pressed against the heating element by the platen roller 10b to obtain a predetermined recording surface. As shown in this figure, the implementation of a facsimile consists of a reading system formed by a reading sensor assembly 300 and a platen roller 10a, a thermal head 301, a platen roller 10b, and a thermal paper 3.
The design is constrained by the arrangement of the recording system comprised of 02. By using the reading sensor of the present invention, a compact design as shown in FIG. 12 is possible, which has the effect of increasing the degree of design freedom.

これは、従来多く用いられていた縮小光学系を要するC
CDセンサ読み取り系では困難である。
This requires a reduction optical system, which was often used in the past.
This is difficult with a CD sensor reading system.

即ち、CCDセンサは小さなセンサ面に原稿表面を縮小
光学系で結像する必要があるため,光路長は25cm程
度必要であった。また、組立後の調整も必要であり、設
計は読み取り系により大きく制約されていた。これに対
して、本構或の原稿を読み取りセンサアセンブリと密着
させて読み取るいわゆる、完全密着型続み取りセンサで
は光路長は100μm前後であり、大幅な小型化及び設
計自由度が増す効果がある。
That is, the CCD sensor requires an optical path length of about 25 cm because it is necessary to image the surface of the document on a small sensor surface using a reduction optical system. In addition, post-assembly adjustments were required, and the design was largely restricted by the reading system. On the other hand, in the so-called full-contact type continuation sensor, which reads the document in close contact with the reading sensor assembly, the optical path length is around 100 μm, which has the effect of significantly reducing the size and increasing the degree of design freedom. .

以上の実施例によれば、透光性基板上に形成した読み取
り素子と、基準素子によりそれぞれ、原稿反射光及び、
光源の面接光を光電変換することができるので,読み取
り素子の光源ばらつきによるシエーデイングを基準素子
の出力で補正できるので,シエーデイングを補正可能な
高性能の完全密着型続み取りセンサを提供できる効果が
ある。
According to the embodiments described above, the reading element formed on the transparent substrate and the reference element respectively detect the reflected light of the document and the
Since the surface light of the light source can be photoelectrically converted, the shading caused by variations in the light source of the reading element can be corrected with the output of the reference element, so it is possible to provide a high-performance, fully contact type continuation sensor that can correct shading. be.

更に、読み取り素子と基準素子とを直列に接続して供給
電圧を分圧して読み取り信号とするため、簡単な構或で
光源ばらつきによるシエーデイングを補正することがで
きる。
Furthermore, since the read element and the reference element are connected in series and the supplied voltage is divided to produce a read signal, it is possible to correct shading due to light source variations with a simple structure.

また、実施例によれば,読み取り素子と直列に基準素子
を接続し、読み取り素子と並列に或いは基準素子と並列
に読み出し容量を設けているため、読み取り素子の光電
流の大小にかかわらず、分圧信号と読み出し容量の積で
決まる信号電荷を設定できる効果がある。このため、読
み出し回路の設計自由度が大幅に増す効果がある。
Furthermore, according to the embodiment, since the reference element is connected in series with the reading element and the reading capacitor is provided in parallel with the reading element or in parallel with the reference element, the separation is possible regardless of the magnitude of the photocurrent of the reading element. This has the effect of setting the signal charge determined by the product of the pressure signal and the read capacitance. This has the effect of greatly increasing the degree of freedom in designing the readout circuit.

本実施例によれば、読み取り素子と基準素子とを同一の
工程で作成するため、工程を増やすことなく、高性能の
読み取りが可能となる効果がある。
According to this embodiment, since the reading element and the reference element are manufactured in the same process, there is an effect that high-performance reading is possible without increasing the number of processes.

また,同一工程で作或するため基準素子と読み取り素子
の材料及びバタン精度のばらつきが少なく、その結果ば
らつきの少ない,読み取りができる・効果がある。
In addition, since they are manufactured in the same process, there is little variation in the materials and batting accuracy of the reference element and the reading element, and as a result, it is possible to read with less variation.

基準素子の導電率と読み取り素子の導電率を0.1〜1
00  とすると出力電圧の変化が大きいため、読み取
り精度が良くなる効果がある。
The conductivity of the reference element and the read element are set to 0.1 to 1.
If it is set to 00, the change in the output voltage is large, which has the effect of improving reading accuracy.

また、割り算回路により出力信号が直線化できるため、
中間調を含んだ高画質読み取りが可能となる効果がある
In addition, since the output signal can be linearized by the division circuit,
This has the effect of enabling high-quality reading including halftones.

更にアモルファスシリコン薄膜トランジスタより成るシ
フトレジスタとバッファとブロックスイッチと安定化ス
イッチを分割マトリクス線により読み出しスイッチを切
換えて読み取り素子の信号をとり出せるため、配線が少
なく小型のセンサを提供できる効果がある。
Furthermore, since the shift register, buffer, block switch, and stabilization switch made of amorphous silicon thin film transistors can be switched by dividing matrix lines to switch the readout switch and take out the signal of the readout element, it is possible to provide a compact sensor with less wiring.

加えて本実施例によれば分割マトリクス線の数よりも,
1ブロックの素子数が少ないため、ブロック切換え時に
休止期間がなく外部回路が少なく、ファクシミリに利用
し易い連続読み取り出力を得ることができる。
In addition, according to this embodiment, rather than the number of dividing matrix lines,
Since the number of elements in one block is small, there is no pause period when switching blocks, and there are few external circuits, and continuous read output that is easy to use for facsimile can be obtained.

原稿と導電性透明フィルムは摩擦するため、静電気が発
生する。導電性透明フィルムがない場合には静電気や.
周囲の電波によって、光電変換素子や回路配線にノイズ
が誘動されて出力信号が不安定となるが、この導電性透
明フィルムがあると誘動をシールドするための安定な出
力が得られる効果がある. 導電性透明フィルムは、外力により容易に変形するので
、破損することがなく、組立が容易となる効果があり,
信頼性が高い. この導電性透明フィルムには光を透過するポリエステル
、ナイロン,アクリル等を用いることができ、導電性は
ITo(インジウム スズ酸化物),スズ酸化物等の透
明導電性の材料や,金属薄膜をコーティングして得るの
が容易である。面積抵抗はIOOKΩ/口よりも小さい
のが好ましい。
Static electricity is generated due to friction between the original and the conductive transparent film. If there is no conductive transparent film, static electricity may occur.
Surrounding radio waves induce noise in photoelectric conversion elements and circuit wiring, making the output signal unstable, but this conductive transparent film has the effect of shielding the induction and providing stable output. be. Conductive transparent films are easily deformed by external forces, so they do not break and are easy to assemble.
Highly reliable. This conductive transparent film can be made of polyester, nylon, acrylic, etc. that transmits light, and for conductivity, transparent conductive materials such as ITo (indium tin oxide), tin oxide, or coating with a metal thin film can be used. It is easy to get. Preferably, the sheet resistance is smaller than IOOKΩ/mouth.

導電性透明フィルムの片面を梨地状につや消し加工する
とフィルム表面の反射光による異常出力を防止し,安定
な出力信号を得られる効果がある.すなわち、センサ基
板側の導電性透明フィルム表面が平滑であると、原稿を
センサに密着させるために押付けた時にフィルムが変形
しこの表面で照明光が反射してセンサ素子に入射し易く
なることがある。そうなると、センサ素子は原稿表面か
らの反射光以外の光が入射するため,出力信号が異常と
なる。この面を本実施例のように梨地面とすることによ
って、梨地面で反射した照明光は散乱されるので安定な
出力信号が得られる効果がある。
Matting one side of the conductive transparent film prevents abnormal output caused by light reflected from the film surface and provides a stable output signal. In other words, if the surface of the conductive transparent film on the sensor substrate side is smooth, the film will deform when an original is pressed to bring it into close contact with the sensor, and the illumination light will be reflected on this surface and more likely to enter the sensor element. be. In this case, light other than the light reflected from the surface of the document enters the sensor element, resulting in an abnormal output signal. By making this surface a matte surface as in this embodiment, the illumination light reflected on the matte surface is scattered, so that a stable output signal can be obtained.

また、梨地加工導電性透明フィルムは表面がよごれた場
合に容易に変換できるので保守性が良い効果もある。
In addition, since the satin-finished conductive transparent film can be easily replaced if the surface becomes soiled, it also has the advantage of being easy to maintain.

梨地透明導電フィルムを読み取りセンサ基板上に装着す
ることにより、薄膜トランジスタの誤動作がなく、読み
取り信号にも、電気的また化学的なノイズが発生しない
ため、高品質の読み取りができる効果がある。また、完
全密着読み取りにより,ファクシミリの小型化及び、設
計自由度が向上できる効果がある。
By mounting a matte transparent conductive film on the reading sensor substrate, there is no malfunction of the thin film transistor, and no electrical or chemical noise is generated in the read signal, resulting in high quality reading. In addition, complete close reading has the effect of making the facsimile more compact and increasing the degree of freedom in design.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明した通り、本発明によれば″光源ばらつきによ
る読み取り信号ばらつきを軽減することが可能となる。
As explained above, according to the present invention, it is possible to reduce read signal variations due to light source variations.

また薄膜トランジスタによる高速の駆動が可能となり,
外部回路の規模を小さくすることができるという効果が
ある。
In addition, high-speed drive using thin film transistors becomes possible.
This has the effect that the scale of the external circuit can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係る完全密着型続み取りセ
ンサの要部断面図、第2図は第l図の実施例センサの平
面図と回路図の組み合わせ図,第3図は第2図の実施例
回路の部分拡大図、第4図は本発明の実施例センサにお
ける読み取り出力電圧比と、読み取り素子導電率と基準
素子の通電率との比との関係を示す特性図,第5図は同
じく出力電圧比と反射率との関係を示す特性図、第6図
は本発明の実施例に係る読み取りセンサの出力回路の一
例を示すブロック図、第7図は同じく読み取りセンサの
出力回路の一例を示す回路図、第8図は本発明の実施例
に係る読み取りセンサの全体の回路図、第9図は第8図
の回路の信号タイミング図,第10図は本発明に適用す
る薄膜トランジスタの一実施例の断面図、第1l図は同
じくシフトレジスタの一実施例の断面図、第12図は完
全密着型センサの電極群を示す要部の斜視図、第13図
は本発明を適用するファクシミリ実装例を示す装置の略
断面図である。 1・・・基準素子.2・・・読み取り素子、2a・・・
読み出し容量,3・・・転送スイッチ、4・・・安定化
スイッチ,5・・・ブロックスイッチ、6・・・バッフ
ァ部、7・・・シフトレジスタ部,8・・・分割マトリ
クス配線、10・・・プラテンローラ、11・・・原稿
、12・・・梨地透明導電フィルム。 革 1 図 冨 2 回 反射希r 茅6 図 纂 3 図 冨 4 図 第 l3 図 36Z 口 焚 へ,> 「1 「1
Fig. 1 is a sectional view of essential parts of a complete contact type continuation sensor according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a combination diagram of a plan view and a circuit diagram of the embodiment sensor of Fig. FIG. 2 is a partially enlarged view of the embodiment circuit of the present invention; FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the reading output voltage ratio and the ratio of the reading element conductivity to the reference element conductivity in the embodiment sensor of the present invention; FIG. 5 is a characteristic diagram showing the relationship between output voltage ratio and reflectance, FIG. 6 is a block diagram showing an example of the output circuit of the reading sensor according to the embodiment of the present invention, and FIG. A circuit diagram showing an example of an output circuit, FIG. 8 is an overall circuit diagram of a reading sensor according to an embodiment of the present invention, FIG. 9 is a signal timing diagram of the circuit in FIG. 8, and FIG. 10 is applied to the present invention. FIG. 11 is a sectional view of an embodiment of a shift register, FIG. 12 is a perspective view of a main part showing an electrode group of a fully contact type sensor, and FIG. 13 is a sectional view of an embodiment of a thin film transistor according to the present invention. 1 is a schematic cross-sectional view of a device showing an example of facsimile implementation to which the method is applied. 1...Reference element. 2...Reading element, 2a...
Read capacity, 3... Transfer switch, 4... Stabilization switch, 5... Block switch, 6... Buffer section, 7... Shift register section, 8... Divided matrix wiring, 10. ...Platen roller, 11... Original, 12... Satin transparent conductive film. Leather 1 Figure 2 2 reflections Ra Chi 6 Figure 3 Figure 4 Figure 13 Figure 36Z To the mouth, > ``1 ``1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、透光性基板と、該透光性基板上に配置した複数の光
電変換素子とを備えて成り、かつ該各光電変換素子は前
記透光性基板を挟んで光源の反対側に位置する完全密着
型続み取りセンサにおいて、前記各光電変換素子は、前
記光源からの直接光を光電変換する基準素子部と、原稿
の反射光を光電変換する読み取り素子部とを具備するも
のであることを特徴とする完全密着型続み取りセンサ。 2、前記読み取り素子と前記基準素子とを直列に接続し
、供給電圧を分圧して読み取り信号としたことを特徴と
する請求項1に記載の完全密着型続み取りセンサ。 3、前記読み取り素子と並列に、読み取り電荷転送容量
を設けたことを特徴とする請求項2に記載の完全密着型
続み取りセンサ。 4、前記基準素子と並列に、読み取り電荷転送容量を設
けたことを特徴とする請求項2に記載の完全密着型続み
取りセンサ。 5、前記読み取り素子と前記基準素子とを同一工程で形
成することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の完
全密着型続み取りセンサ。 6、前記基準素子の光電流と、前記読み取り素子の光電
流の最大値との比が、0.1〜100であることを特徴
とする請求項1、2、3又は4に記載の完全密着型続み
取りセンサ。 7、更に割り算回路を設け、これにより出力信号を直線
化したことを特徴とする請求項2、3又は4に記載の完
全密着型続み取りセンサ。 8、アモルファスシリコン薄膜トランジスタより成るシ
フトレジスタと、前記シフトレジスタ出力に接続したバ
ッファと、前記バッファと接続したブロックスイッチ及
び安定化スイッチと、複数の分割マトリクス線とにより
選択した、読み出しスイッチを順次切換えて、読み取り
素子の電荷を転送して読み取りを行うことを特徴とした
読み取りセンサ。 9、薄膜トランジスタより成る、シフトレジスタと、前
記シフトレジスタ出力に接続したバッファと、前記バッ
ファと接続したブロックスイッチ及び安定化スイッチと
、複数の分割マトリクス線とにより選択した読み出しス
イッチを順次切換えて、読み取り素子の電荷を転送して
読み取りを行う読み取りセンサにおいて、前記、分割マ
トリクス線の数よりも、1ブロックの素子の数を少なく
したことを特徴とする読み取りセンサ。 10、請求項1乃至9のいずれかに記載の読み取りセン
サにおいて、透光性基板上面には光電変換素子群を覆う
ように積層してなる透明樹脂フィルムを備え、該透明樹
脂フィルムは導電性を付与したものであることを特徴と
する完全密着型続み取りセンサ。 11、請求項1乃至9のいずれかに記載の読み取りセン
サにおいて、透光性基板上面には光電変換素子群を覆う
ように積層してなる導電性透明樹脂フィルムを備え、か
つ該フィルムの片面は少なくとも前記面に面する側かつ
素子近傍位置が微細凹凸面であることを特徴とする完全
密着型続み取りセンサ。 12、請求項1乃至9のいずれかに記載の読み取りセン
サにおいて、透光性基板上面には光電変換素子群を覆う
ように積層してなる透明積層部材を備え、かつ該透明積
層部材の片面は少なくとも前記素子面に面する側かつ素
子近傍位置が微細凹凸面であることを特徴とする完全密
着型続み取りセンサ。 13、請求項1乃至9のいずれかに記載の読み取りセン
サにおいて、透光性基板上面には光電変換素子群を覆う
ように積層してなる導電性透明樹脂フィルムを備え、か
つ該フィルムの片面は少なくとも前記素子面に面する側
かつ素子近傍位置が入射光の拡乱面となつていることを
特徴とする完全密着型続み取りセンサ。 14、請求項1乃至9のいずれかに記載の読み取りセン
サにおいて、透光性基板上面には光電変換素子群を覆う
ように積層してなる透明積層部材を備え、かつ透明積層
部材の片面は少なくとも前記センサ面に面する側かつセ
ンサ近傍位置が入射光の散乱面となつていることを特徴
とする完全密着型続み取りセンサ。 15、複数の前記光電変換素子を透光部位を有する基板
の該透光部位近傍に搭載し、更に該素子群を覆うように
透明積層部材を接着剤なしに載置してなることを特徴と
する請求項10乃至14いずれかに記載の完全密着型続
み取りセンサ。 16、請求項10乃至15いずれかに記載の読み取りセ
ンサにおける透光部位裏面に入射光路を確保すると共に
、前記フィルム若しくは透明積層部材の外側かつ前記光
電変換素子群近傍に紙面を介してプラテンローラが当接
するように構成してなることを特徴とする読み取りセン
サアセンブリ。 17、請求項16における光路確保の為に前記素子搭載
用基板を取付けるベース内に光源を具備してなることを
特徴とする読み取りセンサアセンブリ。 18、請求項16または17に記載の読み取りセンサア
センブリをサーマルヘッド及び記録紙ローラから成る記
録部と共に筐体内に収納してなることを特徴とするファ
クシミリ装置。
[Scope of Claims] 1. Comprising a light-transmitting substrate and a plurality of photoelectric conversion elements arranged on the light-transmitting substrate, and each photoelectric conversion element is connected to a light source with the light-transmitting substrate in between. In the complete contact type continuation sensor located on the opposite side, each of the photoelectric conversion elements includes a reference element section that photoelectrically converts direct light from the light source, and a reading element section that photoelectrically converts light reflected from the original. A complete contact type continuation sensor characterized by comprising: 2. The complete contact type continuation sensor according to claim 1, wherein the reading element and the reference element are connected in series, and a supply voltage is divided to obtain a reading signal. 3. The complete contact type continuation sensor according to claim 2, further comprising a read charge transfer capacitor provided in parallel with the read element. 4. The complete contact type continuation sensor according to claim 2, further comprising a read charge transfer capacitor provided in parallel with the reference element. 5. The complete contact type continuation sensor according to claim 1, 2 or 3, wherein the reading element and the reference element are formed in the same process. 6. Complete contact according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the ratio of the photocurrent of the reference element to the maximum value of the photocurrent of the reading element is 0.1 to 100. Mold continuation sensor. 7. The complete contact type continuation sensor according to claim 2, 3 or 4, further comprising a dividing circuit to linearize the output signal. 8. Sequentially switching readout switches selected by a shift register made of an amorphous silicon thin film transistor, a buffer connected to the shift register output, a block switch and a stabilization switch connected to the buffer, and a plurality of dividing matrix lines; , a reading sensor that performs reading by transferring electric charge of a reading element. 9. Read by sequentially switching readout switches selected by a shift register made of a thin film transistor, a buffer connected to the output of the shift register, a block switch and a stabilization switch connected to the buffer, and a plurality of divided matrix lines. A read sensor that performs reading by transferring charges of elements, characterized in that the number of elements in one block is smaller than the number of dividing matrix lines. 10. The reading sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the upper surface of the light-transmitting substrate is provided with a transparent resin film laminated to cover the photoelectric conversion element group, and the transparent resin film has conductivity. A completely contact type continuation sensor characterized by being attached. 11. The reading sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the upper surface of the transparent substrate is provided with a conductive transparent resin film laminated to cover the photoelectric conversion element group, and one side of the film is A completely contact type continuation sensor, characterized in that at least a side facing the surface and a position near the element is a finely uneven surface. 12. The reading sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the upper surface of the transparent substrate is provided with a transparent laminated member laminated to cover the photoelectric conversion element group, and one side of the transparent laminated member is A complete contact type continuation sensor, characterized in that at least a side facing the element surface and a position near the element is a finely uneven surface. 13. The reading sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the upper surface of the transparent substrate is provided with a conductive transparent resin film laminated to cover the photoelectric conversion element group, and one side of the film is A completely contact type continuation sensor, characterized in that at least a side facing the element surface and a position near the element serves as a diffusing surface for incident light. 14. The reading sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the upper surface of the transparent substrate is provided with a transparent laminated member laminated to cover the photoelectric conversion element group, and one side of the transparent laminated member has at least A completely contact type continuation sensor, characterized in that a side facing the sensor surface and a position near the sensor serves as a scattering surface for incident light. 15. A plurality of the photoelectric conversion elements are mounted on a substrate having a light-transmitting region near the light-transmitting region, and a transparent laminated member is further mounted without adhesive so as to cover the group of elements. The complete contact type continuation sensor according to any one of claims 10 to 14. 16. In the reading sensor according to any one of claims 10 to 15, an incident optical path is secured on the back surface of the light-transmitting part, and a platen roller is provided outside the film or the transparent laminated member and in the vicinity of the photoelectric conversion element group through the paper surface. A read sensor assembly comprising: a reading sensor assembly configured to abut; 17. A reading sensor assembly according to claim 16, characterized in that a light source is provided within a base to which the element mounting substrate is attached in order to secure an optical path. 18. A facsimile device comprising the reading sensor assembly according to claim 16 or 17 housed in a housing together with a recording section comprising a thermal head and a recording paper roller.
JP1231610A 1988-03-14 1989-09-08 Contact type reading sensor Expired - Lifetime JP2781614B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1231610A JP2781614B2 (en) 1989-09-08 1989-09-08 Contact type reading sensor
KR1019900011431A KR930006828B1 (en) 1989-09-08 1990-07-27 Contact type image sensor
US07/559,144 US5162644A (en) 1988-03-14 1990-07-30 Contact type image sensor having photoelectric conversion elements to reduce signal variation caused by luminous intensity variation of light source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1231610A JP2781614B2 (en) 1989-09-08 1989-09-08 Contact type reading sensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0396061A true JPH0396061A (en) 1991-04-22
JP2781614B2 JP2781614B2 (en) 1998-07-30

Family

ID=16926212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1231610A Expired - Lifetime JP2781614B2 (en) 1988-03-14 1989-09-08 Contact type reading sensor

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2781614B2 (en)
KR (1) KR930006828B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003069177A (en) * 2001-08-27 2003-03-07 Canon Inc Electronic equipment having flexible printed circuit board
JP2008098390A (en) * 2006-10-12 2008-04-24 Fujifilm Corp Radiation image detector and driving method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003069177A (en) * 2001-08-27 2003-03-07 Canon Inc Electronic equipment having flexible printed circuit board
JP2008098390A (en) * 2006-10-12 2008-04-24 Fujifilm Corp Radiation image detector and driving method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2781614B2 (en) 1998-07-30
KR930006828B1 (en) 1993-07-24
KR910007331A (en) 1991-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6295390B1 (en) Image input/output apparatus with light illumination device for two-dimensional illumination
TW293225B (en)
KR100255988B1 (en) Apparatus for reading out image
US5162644A (en) Contact type image sensor having photoelectric conversion elements to reduce signal variation caused by luminous intensity variation of light source
US5101285A (en) Photoelectric conversion device having an improved illuminating system and information processing apparatus mounting the device
US6069393A (en) Photoelectric converter
EP0177275B1 (en) Photosensor suited for image sensor
KR100650109B1 (en) Thin film phototransistor, active matrix substrate using the phototransistor, and image scanning apparatus using the substrate
JPH03231560A (en) Photoelectric conversion device
US4939592A (en) Contact photoelectric conversion device
US4924282A (en) Image reading device with moisture resistant layer
JPH0396061A (en) Close-contact reading sensor
US6549684B2 (en) Image sensor having an array with integrated control circuitry which includes constantly-illuminated photodiodes
JPH0730084A (en) Two-dimensional contact image sensor
JPH0399575A (en) Complete contact type read sensor and read sensor assembly
JP2001298583A (en) Image sensor
US6657175B2 (en) TFT type optical detecting sensor implementing small-sized drive IC
JP3893806B2 (en) Imaging apparatus and manufacturing method thereof
JPH0380385B2 (en)
JPS62279776A (en) Contact type image sensor
JPS61280659A (en) Contact type image sensor
JP3117171B2 (en) Photoelectric conversion device
JPH022303B2 (en)
JPH07107930B2 (en) Photoelectric conversion device manufacturing method
JPH06350803A (en) Line image sensor