JPH0393040A - ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 - Google Patents
ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置Info
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- JPH0393040A JPH0393040A JP1228993A JP22899389A JPH0393040A JP H0393040 A JPH0393040 A JP H0393040A JP 1228993 A JP1228993 A JP 1228993A JP 22899389 A JP22899389 A JP 22899389A JP H0393040 A JPH0393040 A JP H0393040A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 64
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
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- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの基
板を洗浄し乾燥させる装置に関する。
板を洗浄し乾燥させる装置に関する。
［従来の技術コ
コンビュータ等の電子装置の補助記憶装置としてハード
ディスクを使用する傾向は近年特に強まり、ハードディ
スクを早く且つ安価に製造することが益々要求されてい
る。周知の如く、ハードディスク基板上に磁性体を設け
る前に７１−ドディスク基板（以下単に基板という場合
がある）を研削して研磨し、研磨後の基板を洗浄・乾燥
させる必要がある。
ディスクを使用する傾向は近年特に強まり、ハードディ
スクを早く且つ安価に製造することが益々要求されてい
る。周知の如く、ハードディスク基板上に磁性体を設け
る前に７１−ドディスク基板（以下単に基板という場合
がある）を研削して研磨し、研磨後の基板を洗浄・乾燥
させる必要がある。
従来の基板洗浄・乾燥装置では、基板を１枚づつ装置に
搬入し、搬入したｌ枚の基板を洗浄・乾燥させた後に基
板を取り出し、次の１枚を装置に搬入して上記の動作を
繰り返している。即ち、基板を１枚づつ装置に搬入して
洗浄・乾燥して搬出していたため、処理時間が長いとい
う欠点があった。
搬入し、搬入したｌ枚の基板を洗浄・乾燥させた後に基
板を取り出し、次の１枚を装置に搬入して上記の動作を
繰り返している。即ち、基板を１枚づつ装置に搬入して
洗浄・乾燥して搬出していたため、処理時間が長いとい
う欠点があった。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、複数のハードディスク基板を一枚づつ装置に
搬入し、搬入された複数の基板を順次洗浄工程及び乾燥
工程に搬送し、いわばベルトコンベア式に複数の基板を
次々に洗浄して乾燥させることにより上述の従来の欠点
を克服している。
搬入し、搬入された複数の基板を順次洗浄工程及び乾燥
工程に搬送し、いわばベルトコンベア式に複数の基板を
次々に洗浄して乾燥させることにより上述の従来の欠点
を克服している。
［課題を解決するための手段及び作用］本発明の一態様
は、第１の軸を中心として回転可能な第１のインデック
ステーブルと；第２の軸を中心として回転可能な第２の
インデックステーブルと；上記第１のインデックステー
ブルに設けた少なくとも第１，第２及び第３の基板保持
搬送手段と；上記第２のインデックステーブルに設けた
少なくとも第１，第２及び第３の基板保持搬送手段とを
備え；上記第１のインデックステーブルに設けた上記第
１，第２及び第３の基板保持搬送手段の夫々は、上記第
１のインデックステーブルの回転により、順次、基板を
受け取る基板受取部、基板を洗浄する基板洗浄部、洗浄
後の基板を取り外す基板取外部に移動し；上記第２のイ
ンデックステーブルに設けた上記第１，第２及び第３の
基板保持搬送手段は、上記第２のインデックステーブル
の回転により、順次、上記第１のインデックステーブル
から取り外した基板を受け取る基板受取部、基板を乾燥
させる基板乾燥部、乾燥後の基板を取り外す基板取外部
に移動し；上記第１のインデックステーブルに取り付け
た基板を、洗浄及び乾燥の後、上記第２のインデックス
テーブルから取り出すことを特徴とするノ翫一ドディス
ク基板の洗浄・乾燥装置である。
は、第１の軸を中心として回転可能な第１のインデック
ステーブルと；第２の軸を中心として回転可能な第２の
インデックステーブルと；上記第１のインデックステー
ブルに設けた少なくとも第１，第２及び第３の基板保持
搬送手段と；上記第２のインデックステーブルに設けた
少なくとも第１，第２及び第３の基板保持搬送手段とを
備え；上記第１のインデックステーブルに設けた上記第
１，第２及び第３の基板保持搬送手段の夫々は、上記第
１のインデックステーブルの回転により、順次、基板を
受け取る基板受取部、基板を洗浄する基板洗浄部、洗浄
後の基板を取り外す基板取外部に移動し；上記第２のイ
ンデックステーブルに設けた上記第１，第２及び第３の
基板保持搬送手段は、上記第２のインデックステーブル
の回転により、順次、上記第１のインデックステーブル
から取り外した基板を受け取る基板受取部、基板を乾燥
させる基板乾燥部、乾燥後の基板を取り外す基板取外部
に移動し；上記第１のインデックステーブルに取り付け
た基板を、洗浄及び乾燥の後、上記第２のインデックス
テーブルから取り出すことを特徴とするノ翫一ドディス
ク基板の洗浄・乾燥装置である。
［実施例］
以下、添付の図面を参照して本発明の実施例を説明する
。
。
第１図は本発明に係る７％−ドディスク基板の洗浄・乾
燥装置を正面からみた概略図、第２図は第１図の基板洗
浄部及び基板乾燥部の主要部を示す図である。
燥装置を正面からみた概略図、第２図は第１図の基板洗
浄部及び基板乾燥部の主要部を示す図である。
先ず第１図を参照して本発明の実施例を説明する。
第１図において、参照番号１０及び１２は夫々装置の基
板洗浄部及び基板乾燥部を示す。参照番号ｌ４は洗浄・
乾燥前の基板を複数枚収納するマガジンであり、複数個
のマガジンが紙面に対して垂直方向に動くマガジン搬送
手段ｌ６上に置か，れる。参照番号ｌ８は、基板取り出
し位置にあるマガジンｌ４から基板を１枚づつ取り出し
て基板洗浄部ｌＯに搬送する搬送手段であり、基板を掴
み或いは離すアーム２０（矢印２２で示す垂直方向に移
動可能）、アーム２０を矢印２３で示す水平方向に移動
させるレール２４等を有する。参照番号２６．２８は夫
々基板洗浄部１０及び基板乾燥部ｌ２の操作パネルであ
る。
板洗浄部及び基板乾燥部を示す。参照番号ｌ４は洗浄・
乾燥前の基板を複数枚収納するマガジンであり、複数個
のマガジンが紙面に対して垂直方向に動くマガジン搬送
手段ｌ６上に置か，れる。参照番号ｌ８は、基板取り出
し位置にあるマガジンｌ４から基板を１枚づつ取り出し
て基板洗浄部ｌＯに搬送する搬送手段であり、基板を掴
み或いは離すアーム２０（矢印２２で示す垂直方向に移
動可能）、アーム２０を矢印２３で示す水平方向に移動
させるレール２４等を有する。参照番号２６．２８は夫
々基板洗浄部１０及び基板乾燥部ｌ２の操作パネルであ
る。
基板洗浄部１０は、矢印２９の方向に回転可能なインデ
ックステーブル３０， このインデックステーブル３
０上に設けた４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく
述べる）、第１及び第２の基板洗浄器３２．３４等を有
する。基板洗浄器３２，３４は後述するように夫々基板
洗浄用のパ・ノド及びローラを有し、洗浄動作時には矢
印３２ａ及び３４ａの向きに移動して図示の位置で基板
の洗浄を行なう。基板洗浄部１０で洗浄が終了した基板
は、基板搬送手段４０により基板乾燥部ｌ２に搬送され
る。基板乾燥部１２は、矢印４１の方向に回転可能のイ
ンデックステーブル４２、このテーブル４２上に設けた
４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述べる〉等を
有する。基板乾燥部１２で乾燥した基板は、基板搬送手
段５０により搬出されてマガジン６０に収納される。基
板搬送手段５０は、上述した基板搬送手段１８と同様に
、基板を掴み或いは離すアーム５２（矢印５３で示す垂
直方向に移動可能）、このアームを水平方向（矢印５５
）に移動させるレール５４等を有する。
ックステーブル３０， このインデックステーブル３
０上に設けた４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく
述べる）、第１及び第２の基板洗浄器３２．３４等を有
する。基板洗浄器３２，３４は後述するように夫々基板
洗浄用のパ・ノド及びローラを有し、洗浄動作時には矢
印３２ａ及び３４ａの向きに移動して図示の位置で基板
の洗浄を行なう。基板洗浄部１０で洗浄が終了した基板
は、基板搬送手段４０により基板乾燥部ｌ２に搬送され
る。基板乾燥部１２は、矢印４１の方向に回転可能のイ
ンデックステーブル４２、このテーブル４２上に設けた
４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述べる〉等を
有する。基板乾燥部１２で乾燥した基板は、基板搬送手
段５０により搬出されてマガジン６０に収納される。基
板搬送手段５０は、上述した基板搬送手段１８と同様に
、基板を掴み或いは離すアーム５２（矢印５３で示す垂
直方向に移動可能）、このアームを水平方向（矢印５５
）に移動させるレール５４等を有する。
マガジン搬送手段６２は紙面に垂直の方向に移動可能で
あり、複数のマガジンを移動させて洗浄・乾燥済みの基
板を順次カセットに収納する。
あり、複数のマガジンを移動させて洗浄・乾燥済みの基
板を順次カセットに収納する。
次に、第２図（Ａ）及び（Ｂ）を参照して更に詳細に本
発明を説明する。
発明を説明する。
第２図（Ａ）及び（Ｂ）は夫々第１図の基板洗浄部１０
及び基板乾燥部ｌ２の主要部を示す図である。
及び基板乾燥部ｌ２の主要部を示す図である。
第２図（Ａ）の基板洗浄部１０は上述したようにインデ
ックステーブル３０を有し、このインデックステーブル
３０は軸３１を中心として矢印２９の方向に回転可能で
あり、図示の実施例では、第１乃至第４の基板保持搬送
手段７０， ７２． ７４及び７６を有する。基板
保持搬送手段７０は基板保持具７０ａ，７０ｂ及び７０
ｃにより基板の外周を回転可能に保持する。同様に、他
の基板保持搬送手段７２．７４及び７６も夫々３個づつ
基板保持具（ ７ ２ ａ， ７ ２ ｂ， ７
２ ｃ， ７ ４ ａ， ７４ ｂ， ７ ４
ｃ， ７ ６ ａ， ７ ６ ｂ， ７ ６ ｃ
）を有する。第２図では、基板保持搬送手段７０，７
２，７４．７６は、夫々、基板受取位置Ｍｌ，第１基板
洗浄位置Ｍ ２’、第２基板洗浄位置Ｍ３、基板取出位
置Ｍ４にあり、基板を回転可能に保持している状態を示
している。
ックステーブル３０を有し、このインデックステーブル
３０は軸３１を中心として矢印２９の方向に回転可能で
あり、図示の実施例では、第１乃至第４の基板保持搬送
手段７０， ７２． ７４及び７６を有する。基板
保持搬送手段７０は基板保持具７０ａ，７０ｂ及び７０
ｃにより基板の外周を回転可能に保持する。同様に、他
の基板保持搬送手段７２．７４及び７６も夫々３個づつ
基板保持具（ ７ ２ ａ， ７ ２ ｂ， ７
２ ｃ， ７ ４ ａ， ７４ ｂ， ７ ４
ｃ， ７ ６ ａ， ７ ６ ｂ， ７ ６ ｃ
）を有する。第２図では、基板保持搬送手段７０，７
２，７４．７６は、夫々、基板受取位置Ｍｌ，第１基板
洗浄位置Ｍ ２’、第２基板洗浄位置Ｍ３、基板取出位
置Ｍ４にあり、基板を回転可能に保持している状態を示
している。
第２図（Ａ）では、第１図に示した基板洗浄器３２．３
４の全体の図示を省略し、洗浄器３２の主要部である洗
浄具８ ０ ａ， ８ ０ ｂ， ８ ０ ｃ、及
び洗浄器３４の主要部である洗浄具８２ａ，８２ｂ，８
２−Ｃを示している。洗浄具８０ａは基板の片面を洗浄
するパッド状の洗浄具（例えばスポンジパソド）であり
、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板の背後にあるた
め図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具で
基板を挟んでその表面を洗浄する。一方、洗浄具８０ｂ
，８０ｃは例えばローラ状の洗浄具であり、基板の外周
及び内周を洗浄するためのものである。洗浄具８２ａ，
８２ｂ及び８２ｃは夫々上記の洗浄具８０ａ，８０ｂ，
８０ｃに対応し同様の動作をするので、詳細な説明は省
略する。上述の如く２個のパッド状の洗浄具で基板を挟
んで基板の表面を洗浄するので、基板保持搬送手段？０
，７２，７４．７６は夫々基板を例えば１０ｃｍ乃至１
５ｃｍ程度インデックステーブル３０から離して保持す
る。
４の全体の図示を省略し、洗浄器３２の主要部である洗
浄具８ ０ ａ， ８ ０ ｂ， ８ ０ ｃ、及
び洗浄器３４の主要部である洗浄具８２ａ，８２ｂ，８
２−Ｃを示している。洗浄具８０ａは基板の片面を洗浄
するパッド状の洗浄具（例えばスポンジパソド）であり
、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板の背後にあるた
め図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具で
基板を挟んでその表面を洗浄する。一方、洗浄具８０ｂ
，８０ｃは例えばローラ状の洗浄具であり、基板の外周
及び内周を洗浄するためのものである。洗浄具８２ａ，
８２ｂ及び８２ｃは夫々上記の洗浄具８０ａ，８０ｂ，
８０ｃに対応し同様の動作をするので、詳細な説明は省
略する。上述の如く２個のパッド状の洗浄具で基板を挟
んで基板の表面を洗浄するので、基板保持搬送手段？０
，７２，７４．７６は夫々基板を例えば１０ｃｍ乃至１
５ｃｍ程度インデックステーブル３０から離して保持す
る。
次に、第２図（Ａ）を参照して基板の洗浄動作について
更に詳細に説明する。先ず、基板保持搬送手段７０，７
２，７４．７６は夫々基板を保持していない状態と仮定
する。第１図に示した基板搬送手段１８が、マガジンｌ
４から１枚の基板（第１の基板）を取り出し、基板受取
位置Ｍｌにある基板保持搬送手段７０まで基板を搬送す
る。基板保持搬送手段７０は例えば３個の基板保持具７
０ ａ， ７ ０ ｂ， ７ ０ ｃを夫々外側に
ずらして基板を受け取り、基板を回転可能に保持する。
更に詳細に説明する。先ず、基板保持搬送手段７０，７
２，７４．７６は夫々基板を保持していない状態と仮定
する。第１図に示した基板搬送手段１８が、マガジンｌ
４から１枚の基板（第１の基板）を取り出し、基板受取
位置Ｍｌにある基板保持搬送手段７０まで基板を搬送す
る。基板保持搬送手段７０は例えば３個の基板保持具７
０ ａ， ７ ０ ｂ， ７ ０ ｃを夫々外側に
ずらして基板を受け取り、基板を回転可能に保持する。
その後、インデックステーブル３０が矢印２９の方向に
９０度回転し、基板保持搬送手段７０．７６は夫々第１
基板洗浄位置Ｍ２及び基板受取位置Ｍ１となる。基板受
取位置Ｍ１にある基板保持搬送手段への第２枚目の基板
（第２の基板）の取付は上述の通りなので説明を省略す
る。基板保持搬．送手段７０が第１基板洗浄位置Ｍｌに
なると、基板洗浄器３２が第１図に示す位置に移動し、
基板の両面、内周、外周の夫々を洗浄具８ ０ ａ，
８ ０ ｂ， ８ ０Ｃを用いて中性洗剤によりス
クラグ洗浄する。基板は回転自由に保持されているので
、スポンジパッド８０ａの回転により“ならい”回転を
する。
９０度回転し、基板保持搬送手段７０．７６は夫々第１
基板洗浄位置Ｍ２及び基板受取位置Ｍ１となる。基板受
取位置Ｍ１にある基板保持搬送手段への第２枚目の基板
（第２の基板）の取付は上述の通りなので説明を省略す
る。基板保持搬．送手段７０が第１基板洗浄位置Ｍｌに
なると、基板洗浄器３２が第１図に示す位置に移動し、
基板の両面、内周、外周の夫々を洗浄具８ ０ ａ，
８ ０ ｂ， ８ ０Ｃを用いて中性洗剤によりス
クラグ洗浄する。基板は回転自由に保持されているので
、スポンジパッド８０ａの回転により“ならい”回転を
する。
基板受取位置Ｍｌにおいて基板の受取が完了し且つ第１
基板洗浄位置Ｍ２で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄
器３２はインデックステーブル３０の回転に支障がない
位置に待避し、インデックステーブル３０が矢印２９の
方向に９０度回転する。
基板洗浄位置Ｍ２で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄
器３２はインデックステーブル３０の回転に支障がない
位置に待避し、インデックステーブル３０が矢印２９の
方向に９０度回転する。
この回転により、基板保持搬送手段７０，７６．７４は
夫々第２基板洗浄位置Ｍ３、第１基板洗浄位置Ｍ２、基
板受取位置Ｍ１となる。第１の基板洗浄器３２と同様の
構成の第２の基板洗浄器３４は、市水或いは純水により
基板を更に洗浄する。
夫々第２基板洗浄位置Ｍ３、第１基板洗浄位置Ｍ２、基
板受取位置Ｍ１となる。第１の基板洗浄器３２と同様の
構成の第２の基板洗浄器３４は、市水或いは純水により
基板を更に洗浄する。
この間に、基板洗浄器３２は第２の基板を中性洗剤によ
り洗浄し、基板受取位置Ｍｌにある基板保持搬送手段７
４は第３枚目の基板（第３の基板）を受け取っている。
り洗浄し、基板受取位置Ｍｌにある基板保持搬送手段７
４は第３枚目の基板（第３の基板）を受け取っている。
基板の受け取り、第１及び第２の基板洗浄が完了すると
、インデックステーブル３０は更に９０度回転し、基板
保持搬送手段７０，７６，７４．７２は夫々基板取出位
置Ｍ４、第２基板洗浄位置Ｍ３、第１基板洗浄位置Ｍ２
、基板受取位置Ｍｌとなる。基板取出位置Ｍ４にきた第
１の基板は例えば純水のシャワーリンスを受けた後、第
１図に示す基板搬送手段４０により取り外され、第２図
（Ｂ）に示す基板乾燥部ｌ２に運ばれる。このようにし
て、基板洗浄部ｌＯは複数の基板を順次洗浄して次段の
基板乾燥部１２に送り出す。
、インデックステーブル３０は更に９０度回転し、基板
保持搬送手段７０，７６，７４．７２は夫々基板取出位
置Ｍ４、第２基板洗浄位置Ｍ３、第１基板洗浄位置Ｍ２
、基板受取位置Ｍｌとなる。基板取出位置Ｍ４にきた第
１の基板は例えば純水のシャワーリンスを受けた後、第
１図に示す基板搬送手段４０により取り外され、第２図
（Ｂ）に示す基板乾燥部ｌ２に運ばれる。このようにし
て、基板洗浄部ｌＯは複数の基板を順次洗浄して次段の
基板乾燥部１２に送り出す。
第２図（Ｂ）の基板乾燥部１２は第１図にも示したよう
にインデックステーブル４２を有し、軸４３を中心にし
て矢印４ｌの方向に回転可能である。インデックステー
ブル４２には、第１乃至第４の基板保持搬送手段１００
，１０２，１０４，１０６が設けられ、夫々、基板受取
位置Ｎｌ， 第１乾燥位置Ｎ２、第２乾燥位置Ｎ３、基
板取出位置Ｎ４にある（図示の状態）。基板乾燥部１２
の基板保持搬送手段１００，１０２，１０４，１０６は
夫々基板の内周壁の３点で基板を固定して保持する。参
照番号１１０，１１２，１１４，１１６は基板を遠心力
で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
にインデックステーブル４２を有し、軸４３を中心にし
て矢印４ｌの方向に回転可能である。インデックステー
ブル４２には、第１乃至第４の基板保持搬送手段１００
，１０２，１０４，１０６が設けられ、夫々、基板受取
位置Ｎｌ， 第１乾燥位置Ｎ２、第２乾燥位置Ｎ３、基
板取出位置Ｎ４にある（図示の状態）。基板乾燥部１２
の基板保持搬送手段１００，１０２，１０４，１０６は
夫々基板の内周壁の３点で基板を固定して保持する。参
照番号１１０，１１２，１１４，１１６は基板を遠心力
で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
次に、第２図（Ｂ）の基板乾燥部ｌ２の動作を説明する
。先ず、基板保持搬送手段ｉｏｏ，ｉｏ２，１０４，１
０６は夫々基板を保持していないとする。第１枚目の基
板（第１の基板）が第２図（Ａ）から基板受取位置Ｎｌ
にある基板保持搬送手段１００に取り付けられると、イ
ンデックステーブル４２は矢印４ｌの方向に９０度回転
し、基板保持搬送手段１００，１０２，１０４，１０６
は夫々Ｎ２，Ｎ３，．Ｎ４，Ｎｌで示す基板処理位置に
なる。第１基板乾燥位置Ｎ２に移動した第１の基板に付
着した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）
。第１基板乾燥位置Ｎ２でのスピン乾燥が終了し且つ第
２枚目の基板（第２の基板）が基板保持搬送手段１０６
に取り付けられると、インデックステーブル４２は更に
９０度回転し、基板保持搬送手段１００，１０２，１０
４，１０６は夫々Ｎ３，Ｎ２，Ｎｌ，Ｎ４で示す基板処
理位置になる。第１の基板は第２乾燥位置Ｎ３において
更にスピン乾燥を受けるが、実施例の４個の基板保持搬
送手段は夫々スピン乾燥用のモータを備えているので、
第１の基板が第１乾燥位置Ｎｌから第２乾燥位置Ｎ２に
移行する途中においてもスピン乾燥を行なうようにすれ
ば効率がよい。
。先ず、基板保持搬送手段ｉｏｏ，ｉｏ２，１０４，１
０６は夫々基板を保持していないとする。第１枚目の基
板（第１の基板）が第２図（Ａ）から基板受取位置Ｎｌ
にある基板保持搬送手段１００に取り付けられると、イ
ンデックステーブル４２は矢印４ｌの方向に９０度回転
し、基板保持搬送手段１００，１０２，１０４，１０６
は夫々Ｎ２，Ｎ３，．Ｎ４，Ｎｌで示す基板処理位置に
なる。第１基板乾燥位置Ｎ２に移動した第１の基板に付
着した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）
。第１基板乾燥位置Ｎ２でのスピン乾燥が終了し且つ第
２枚目の基板（第２の基板）が基板保持搬送手段１０６
に取り付けられると、インデックステーブル４２は更に
９０度回転し、基板保持搬送手段１００，１０２，１０
４，１０６は夫々Ｎ３，Ｎ２，Ｎｌ，Ｎ４で示す基板処
理位置になる。第１の基板は第２乾燥位置Ｎ３において
更にスピン乾燥を受けるが、実施例の４個の基板保持搬
送手段は夫々スピン乾燥用のモータを備えているので、
第１の基板が第１乾燥位置Ｎｌから第２乾燥位置Ｎ２に
移行する途中においてもスピン乾燥を行なうようにすれ
ば効率がよい。
一方、第３枚目の基板（第３の基板）が基板保持搬送手
段１０４に取り付けられ、第２の基板は最初のスピン乾
燥処理を受ける。次に、インデックステーブル４２が更
に９０度回転し、基板保持搬送手段１００，１０２，１
０４，１０６は夫々Ｎ４，Ｎ３，Ｎ２，Ｎｌで示す基板
処理位置になり、第１の基板は搬送手段５０により搬出
される。
段１０４に取り付けられ、第２の基板は最初のスピン乾
燥処理を受ける。次に、インデックステーブル４２が更
に９０度回転し、基板保持搬送手段１００，１０２，１
０４，１０６は夫々Ｎ４，Ｎ３，Ｎ２，Ｎｌで示す基板
処理位置になり、第１の基板は搬送手段５０により搬出
される。
方、第４枚目の基板（第４の基板）が基板保持搬送手段
１０６に取り付けられると共に、第２及び第３の基板は
夫々第１及び第２のスピン乾燥処理を受ける。このよう
にして、基板洗浄部１ｏから送られてくる複数の洗浄済
み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
１０６に取り付けられると共に、第２及び第３の基板は
夫々第１及び第２のスピン乾燥処理を受ける。このよう
にして、基板洗浄部１ｏから送られてくる複数の洗浄済
み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
第１図及び第２図を参照した上述の説明では、２段階の
基板洗浄及び２段階の基板乾燥を行なっている。しかし
ながら、本発明はこの２段階の洗浄・乾燥に限定される
ものではなく、場合によっては、１段階の洗浄及び１段
階の乾燥であってもよい。この場合、各インデックステ
ーブルに設ける基板保持搬送手段の数を３個にしてもよ
い。更に、インデックステーブル３０．４２は夫々４個
の基板保持搬送手段を有するが、５個以上の基板搬送保
持手段を設けるようにしてもよい。
基板洗浄及び２段階の基板乾燥を行なっている。しかし
ながら、本発明はこの２段階の洗浄・乾燥に限定される
ものではなく、場合によっては、１段階の洗浄及び１段
階の乾燥であってもよい。この場合、各インデックステ
ーブルに設ける基板保持搬送手段の数を３個にしてもよ
い。更に、インデックステーブル３０．４２は夫々４個
の基板保持搬送手段を有するが、５個以上の基板搬送保
持手段を設けるようにしてもよい。
［発明の効果］
以上の説明で明らかなように、本発明に係る装置によれ
ば、大量の基板を連続して洗浄・乾燥することが可能で
あり、従来の装置と比較し、処理時間を大幅に短縮でき
るという顕著な効果を有する。
ば、大量の基板を連続して洗浄・乾燥することが可能で
あり、従来の装置と比較し、処理時間を大幅に短縮でき
るという顕著な効果を有する。
第１図は本発明の一実施例を説明する概略図、第２図は
第１図の主要部を詳しく説明するための図である。 図中、ｌＯは基板洗浄部、ｌ２は基板乾燥部、３０．４
２は夫々インデックステーブル、３２，３４は夫々基板
乾燥器、１８，４０．５０は夫々基板搬送手段、７０，
７２，７４，７６，１００，１０２，１０４，１０６は
夫々基板保持搬送手段を示す。
第１図の主要部を詳しく説明するための図である。 図中、ｌＯは基板洗浄部、ｌ２は基板乾燥部、３０．４
２は夫々インデックステーブル、３２，３４は夫々基板
乾燥器、１８，４０．５０は夫々基板搬送手段、７０，
７２，７４，７６，１００，１０２，１０４，１０６は
夫々基板保持搬送手段を示す。
Claims (4)
- （１）第１の軸を中心として回転可能な第１のインデッ
クステーブルと、 第２の軸を中心として回転可能な第２のインデックステ
ーブルと、 上記第１のインデックス−テーブルに設けた少なくとも
第１、第２及び第３の基板保持搬送手段と、上記第２の
インデックステーブルに設けた少なくとも第１、第２及
び第３の基板保持搬送手段とを備え、 上記第１のインデックステーブルに設けた上記第１、第
２及び第３の基板保持搬送手段の夫々は、上記第１のイ
ンデックステーブルの回転により、順次、基板を受け取
る基板受取部、基板を洗浄する基板洗浄部、洗浄後の基
板を取り外す基板取外部に移動し、 上記第２のインデックステーブルに設けた上記第１、第
２及び第３の基板保持搬送手段は、上記第２のインデッ
クステーブルの回転により、順次、上記第１のインデッ
クステーブルから取り外した基板を受け取る基板受取部
、基板を乾燥させる基板乾燥部、乾燥後の基板を取り外
す基板取外部に移動し、 上記第１のインデックステーブルに取り付けた基板を、
洗浄及び乾燥の後、上記第２のインデックステーブルか
ら取り出すことを特徴とするハードディスク基板の洗浄
・乾燥装置。 - （２）上記第１のインデックステーブルは更に第４の基
板保持搬送手段を有し、上記基板洗浄部は第１及び第２
の洗浄部から成る特許請求の範囲第１項記載の装置。 - （３）上記第２のインデックステーブルは更に第４の基
板保持搬送手段を有し、上記基板乾燥部は第１及び第２
の乾燥部から成る特許請求の範囲第１項或いは第２項記
載の装置。 - （４）上記第１のインデックステーブルの上記基板受取
部に基板を搬入する手段と、 上記第１のインデックステーブルの上記基板取外部から
洗浄後の基板を取り外し、上記第２のインデックステー
ブルの上記基板受取部に基板を搬送する手段と、 上記第２のインデックステーブルの上記基板取外部から
乾燥後の基板を搬出する手段とを 更に有する特許請求の範囲第１項乃至第３項記載のいず
れかに記載の装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1228993A JP2802783B2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| US08/061,107 US5357645A (en) | 1989-04-09 | 1993-05-14 | Apparatus for cleaning and drying hard disk substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1228993A JP2802783B2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0393040A true JPH0393040A (ja) | 1991-04-18 |
| JP2802783B2 JP2802783B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=16885085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1228993A Expired - Lifetime JP2802783B2 (ja) | 1989-04-09 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2802783B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5826292A (en) * | 1996-06-27 | 1998-10-27 | Speedfam Co., Ltd. | Disk cleaning and drying apparatus |
| US6163916A (en) * | 1998-07-09 | 2000-12-26 | Speedfam Clean System Co., Ltd. | Cleaning apparatus for disk-shaped workpieces |
| JP2007280451A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 |
| JP2007280450A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008021342A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008176893A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 乾燥機 |
| JP2008207735A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Honda Motor Co Ltd | 車体の溶接装置および車体の生産方法 |
| JP2009012141A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Nakanishi Metal Works Co Ltd | 昇降機能付き吊下げ搬送車及び吊下げ台 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4190374B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2008-12-03 | シブヤマシナリー株式会社 | 洗浄装置 |
-
1989
- 1989-09-04 JP JP1228993A patent/JP2802783B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5826292A (en) * | 1996-06-27 | 1998-10-27 | Speedfam Co., Ltd. | Disk cleaning and drying apparatus |
| US6163916A (en) * | 1998-07-09 | 2000-12-26 | Speedfam Clean System Co., Ltd. | Cleaning apparatus for disk-shaped workpieces |
| JP2007280451A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 |
| JP2007280450A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP4556245B2 (ja) * | 2006-04-03 | 2010-10-06 | 株式会社太陽 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008021342A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008176893A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 乾燥機 |
| JP2008207735A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Honda Motor Co Ltd | 車体の溶接装置および車体の生産方法 |
| JP2009012141A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Nakanishi Metal Works Co Ltd | 昇降機能付き吊下げ搬送車及び吊下げ台 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2802783B2 (ja) | 1998-09-24 |
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