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JPH0393767A - セミカルバジド基を有するヒドラジン化合物の製造方法 - Google Patents

セミカルバジド基を有するヒドラジン化合物の製造方法

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Publication number
JPH0393767A
JPH0393767A JP22900589A JP22900589A JPH0393767A JP H0393767 A JPH0393767 A JP H0393767A JP 22900589 A JP22900589 A JP 22900589A JP 22900589 A JP22900589 A JP 22900589A JP H0393767 A JPH0393767 A JP H0393767A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
general formula
hydrogen atom
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22900589A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Onodera
明 小野寺
Yasushi Usagawa
泰 宇佐川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP22900589A priority Critical patent/JPH0393767A/ja
Publication of JPH0393767A publication Critical patent/JPH0393767A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は新規なセミ力ルバジド基を有するヒドラジン化
合物の製造方法に関する。
〔発明の背景〕
ヒドラジン化合物は、従来より各種の分野において使用
されている。例えば、写真感光材料の分野で、硬調化剤
あるいはカブらせ剤等として用いられている。
例えば硬調化剤として用いるヒドラジン化合物について
言えば、更に性能の良い硬調化作用を示す化合物が望ま
れている。
本発明者らは、上記のような背景のもとに、種々検討を
重ね、新規のヒドラジン化合物であって、従来より更に
良好な性能を示し得る化合物の開発の研究を進めて来た
〔発明の目的〕 本発明の目的は、良好な性能を示すことができる新規な
ヒドラジン化合物を開発し、その製造方法を提供するこ
とにある。
〔発明の構成〕
本発明は、下記一般式〔II〕で表されるヒドラジン誘
導体と、下記一般式(lI[)で表される化合物とを縮
合させることを特徴とする、下記一般式〔I〕で表され
るセごカルバジド基を有するヒドラジン化合物の製造方
法である。
一般式〔■〕 一般式CI!) 一般式(III) 以下本発明について、更に詳述する。
本発明によれば、上記した一般式〔I〕で表されるヒド
ラジン化合物が提供される。
一般式(1)中、A I , A fはともに水素原子
を表すか、または一方が水素原子で他方はアシル基、ス
ルホニル基またはオキザリル基を表すものである。Xは
2価の芳香族残基または複素環残基を表す。
R’,R”及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、復素環基
、アシル基、チオアシル基、スルホニル基、カルバモイ
ル基、またはチオヵルバモイル基を表す.R1とR2及
び/またはR”とR3で環を形威してもよく、R1とR
2でアルキリデン基を形威してもよい。
R4は水素原子またはアルキル基を表す。
Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホス
ホリル基、チオカルボニル基、またはイミノメチレン基
を表し、RSは水素原子、アルキル基、アリール基、複
素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオ
キシ力ルボニル基、アルキニルオキシ力ルボニル基、ア
リールオキシ力ルボニル基またはカルバモイル基を表す
一般式(1)について、更に詳しく説明すると、A I
 , A !はともに水素原子であるか、または一方が
水素原子で他方はアシル基(例えば、アセチル、トリフ
ルオロアセチル、ベンゾイル等の各基)、スルホニル基
(例エハ、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ト
ルエンスルホニル等の各基)、またはオキザリル基(例
えば、エトキザリル等の基)を表す。A I , A 
!は、水素原子であることが最も好ましい。
Xは2価の芳香族残基(例えばフヱニレン基、ナフチレ
ン基、またはこれらに置換基を有するもの等)、または
2価の複素環残基(例えば、ピリジン、ピロール、チオ
フエン、ペンゾチオフエン、フラン等の各基またはこれ
らに置換基を有するもの等)を表す.Xはフエニレン基
、ナフチレン基であることが好ましく、特に1,4−フ
ェニレン?が好ましい。
Rl.R2及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基
(例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、シアノエ
チル、ヒドロキシエチル、2(2. 4−ジーも−アく
ルフエノキシ)エチル、ベンジル、トリフルオロエチル
等の各5) 、アルケニル基(例えば、アリル、ブテニ
ル、ベンテニル、ペンタジエニル等の各基)、アルキニ
ル基(例エハ、プロパルギル、プチニル、ペンチニル等
の各基)、アリール基(例えばフエニル、ナフチル、■
シアノフェニル、メトキシフエニル等の各基)、複素環
基(例えばピリジン、チオフエン、フラン、テトラヒド
口フラン、スルホラン等の各基)、アシル基(例えばア
セチル、ベンゾイル、2−(2.4−ジーt−アミルフ
ェノキシ)ブタノイル等の各基)、チオアシル基(例え
ばチオアセチル、チオベンゾイル等の各基)、スルホニ
ル基(例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル等の各基)、カルバモイル基(例えば
無置換カルバモイル、メチルカルバイル、プロビル力ル
バモイル、ドデシルカルバモイル、フェニルカルバモイ
ル、ペンジルカルバモイル等の各基)、チオカルバモイ
ル基(例えば無置換チオカルバモイル、メチルチオカル
バモイル、エチルチオカルバモイル、プチルチオカルバ
モイル、オクチルチオカルバモイル、フェニルチオカル
バモイル、ペンジルチオカルバモイル、シクロヘキシル
チオカルバモイル等の各基)を表し、R’ とR2及び
/またはR1とR3は、窒素原子とともに複素環(例え
ばビペリジン、ビペラジン、モルホリン等の環)を形成
してもよく、Rl とR2はペンジリデンまたはこれに
置換基を有するもの゜などのアルキリデン基を形成して
もよい。
R4は水素原子またはアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ベンジル等の各基)を表す。
−C式[1)中、Gがカルボニル基の場合、RSは水素
原子、アルキル基(例えばメチル、トリフルオロメチル
、2.4−ジーt−アミルフエノキシメチル、メトキシ
メチル、フェノキシメチル、ヒドロキシメチル、シアノ
メチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等の各
基)、アリール基(例えばフエニル、クロロフエニル等
の各基)、アルコキシ基(例えばエトキシ、ペンジルオ
キシ等の各基)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ
等の基)、複素環基(例えばビリジル、チェニル、フリ
ル等)、ヒドロキシ基、アミノ基(例えばアξノ、メチ
ルアξノ、ジメチルアミノ、アニリノ等の各基)、アル
コキシ力ルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル等の各
基)、アルケニルオキシカルボニル基(例えばアリルオ
キシカルホニル等の基)、アルキニルオキシ力ルボニル
基(例えばプロパルギルオキシカルボニル等の基)アリ
ールオキシ力ルポニル基(例えばフエノキシカルポニル
等の基)、カルバモイル基(例えばカルバモイル、メチ
ルカルバモイル、エチル力ルバモイル、メトキシエチル
カルバモイル、シアノエチルカルバモイル、ヒドロキシ
エチルカルバモイル、4−(2.4−ジーt−アミルフ
ェノキシ)プチルカルバモイル、ペンジルカルバモイル
、トリフルオロエチルカルバモイル、アリルカルバモイ
ル、ペンタジエニルカルバモイル、プロパルギル力ルバ
モイル、フェニルカルバモイル、シアノフエニルカルバ
モイル、ナフチルカルバモイル、ピリジルカルバモイル
、フリルカルバモイル、テトラヒドロフリルカルバモイ
ル、ヒドロキシカルバモイル、メトキシ力ルバモイル、
アリルオキシカルバモイル、プロパルギルオキシカルバ
モイル、了りールオキシ力ルバモイル、ピリジルオキシ
カルバモイル、ビペリジノカルボニル、モルホリノカル
ボニル、(2,2,6.6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)カルバモイル等の各基)を表す。Gがスルホ
ニル基の場合、R5はアルキル基(例えばメチル、エチ
ル等の各基)、アリール基(例えばフェニル、トリル、
4−ドデシルオキシフエニル等の各基)、複素環基(例
えばピリジル、フリル、チェニル等の各基)、アミノ基
(例えばアミノ、メチルアミノ、モルホリノ等の各基)
が好ましい。Gがスルホキシ基の場合、R5はアルキル
基(例えばシアノベンジル等の基)が好ましい。Gがホ
スホリル基の場合、Rsはアリール基(例えばフェニル
等の基)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ等
の各基)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ等の基
)が好ましい。
Gがチオカルボニル基の場合、Rsは水素原子、アルキ
ル基(例えばメチル等の基)、アリール基(例えばフヱ
ニル等の基)が好ましい。Gがイξノメチレン基の場合
、R%はアルキル基(例えばメチル、エチル等の基)、
アリール基(例えばフェニル基等の基)が好ましい。
本発明において、より好ましい化合物は一般式(1)中
のGがカルボニル基で、RSが水素原子、アルキル基ま
たはカルバモイル基である化合物である。
本発明の製造方法においては、一般式〔I〕で表される
ヒドラジン化合物は、前記した一般式〔II〕で表され
る化合物(以下適宜「化合物〔II〕Jと記すこともあ
る)と一般式(III)で表される化合物(以下適宜「
化合物〔■〕」と記すこともある)を縮合させることに
より製造する。
前記一般式(n)  (III)中、R t,Rz,R
i,Ra,R’,X,A’,A”及びGは、前記と同じ
意味を表す。
Rhは水素原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル
、メトキシエチル、ベンジル等の各基)、アリールM(
例えばフエニル、クロロフエニル等の各基)または複素
環基(例えば、ピリジル等の基)を表し、これらの中で
フェニル基が最も好ましい。
化合物〔II〕と化合物(III)との縮合反応は、化
合物(1)を溶解する性質を有する溶媒を用いるのが有
利である。例えばアセトニトリル、ピリジン、ベンゼン
、トルエン、クロロベンゼン、酢酸エチルまたはアミド
頻(例えばアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアξF等)などが適当である。
この縮合反応は、反応溶媒中、化合物〔■〕,(I[[
]のみで行うか、または塩基(例えばトリエチルアミン
、ピリジン、イξダゾール等)の存在下で行うことが好
ましく、一般には室温から溶媒の沸点の温度範囲で行う
のが適当である。
但し、本発明の製造方法は上記反応条件に限定されるも
のではない. 一般式〔II〕で表されるヒドラジン誘導体は、市販で
人手されるか、下記反応式(IVY.(V),(VIE
による方法、あるいはジャーナル・オブ・ザ・ケミカル
・ソサエテ4 (Journal of the Ch
elIIical Society) 1961年、第
1743−1748真及び特開平1 −132561号
等に記載されているような下記反応式〔■〕.〔■〕に
よる方法によって合戒することができる。
以下余白 反応式(IV) N}IJHz・H,0 反応式〔V〕 反応式(Vl) 反応式〔■〕 反応式〔■〕 具体的化合物例 (1) (3) 上記中、Etはエチル基、Acはアセチル基を示す。
一般式〔I〕で表される化合物は、例えば式中のGがカ
ルボニル基で、AI,A2, R4,RSが水素原子、
R&がフェニル基の化合物について、特開昭62−27
0948号に記載されている公知の方法で合威すること
ができ、他の化合物(III)も、これと同様に合戒す
ることができる。
本発明によって製造される一般式〔I〕で表される化合
物の代表的な例を以下に示す。但し、本発明によって得
られる一般式(1)の具体的化合物は、これらの化合物
に限定されるものではない。
(5) (11) (7) (12) (8) (9) 〈14) (lO) (15) (16) (17) (l8) (l9) (25) (27) (20) (2l) (22) (29) (3l) (32) (33) (34) (35) (36) (38) (44) (39) (42) (53) (55) (56) (57) (5日) (64) (66) (67) (59) (60) (62) (63) (68) (70) CI. (72) (73) (74) (75) (76) (8I) (84〉 (77) (78) (79) (85) (86) (87) し■3 ※ NHNIICOCONIICI12CIhOCI13N
HCSNIICzlls (90) (9l) (92) (93) (9日) (100) C2HS (94) (95〉 (96) (97) (+02) (103) 上記の内、例示化合物(2).(3).(5)は、化合
物(1)にそれぞれ2−(2.4−ジーt−アごルフエ
ノキシ)ブタン酸クロライド、メチルイソチオシアナー
ト、ドデシルイソシアナートを反応させることによって
も得ることができ、例示化合物(1)は一般式(1)の
化合物の合威中間体としても有効である。
本発明によって製造される、一般式〔■〕で表される化
合物は、この種のヒドラジン化合物を用いる各種の分野
に使用できる。
例えば、ハロゲン化銀写真感光材料の分野において、硬
調化剤として使用することができる。また、カブらせ剤
として使用することができる。
特に、硬調化剤として有効である。
即ち、例えば印刷製版プロセスにおける網点画像による
連続調画像の写真的再現、あるいは線画の再生において
、硬調な写真特性を有するハロゲン化銀写真感光材料が
必要とされる。この目的のため、ヒドラジン化合物をハ
ロゲン化銀写真乳剤に添加することが特開昭56−10
6244号公報及び米国特許第4,686.167号明
細書等に開示されている.本発明で製造されるヒドラジ
ンは、上記目的で使用されるヒドラジン、いわゆる硬調
化剤として特に優れた性能を示すものである. 〔実施例〕 以下に本発明を実施例によって説明する.但し以下の実
施例は本発明の一例にすぎないものであって、本発明は
これに限定されるものでないことは当然である. 実施例l 例示化合物(1)の合戒 化合物(1)は、下記合威法に従って合成される化合物
(a)と市販の抱水ヒドラジンから得られる. (上記において、Pd/Cは、パラジウムー炭素触媒で
ある)。
アセトニトリル200#ll!に、上記により得られた
化合物(a)20.0gを添加し、撹拌しながらその懸
濁液に抱水ヒドラジン4.0dをアセトニトリル100
 dで希釈した溶液を滴下し、還流すると化合物(a)
が溶解する。約10分後、白色結晶が析出しはじめやが
て析出充満する。還流下4時間険拌したのち室温まで冷
却し、析出結晶を吸引濾取しアセトニトリル100−で
洗浄後、乾燥し化合物( 1 ) 15.7gを得た。
化合物(1)は210″Cで褐色となり分解した。
例示化合物(2).(3),(5),(64)等は、本
発明の製造法以外に下記合威法によっても化合物(1)
から容易に得られた。
実施例2 例示化合物(2)の合威 化合物(2)は、実施例lの化合物(a)と下記合戒法
に従って合威される化合物(b)から得られる。
ピリジン100dに化合物(a ) 10.0gと化合
物(b)10.5gを添加し、撹拌下還流する。5時間
反応後、反応液を濃縮したのち、水5001d中に注入
すると粗結晶が析出する。この結晶を吸引濾取し、水で
洗浄ののち乾燥する。これをトルエン30dに加熱溶解
したのち室温まで冷却し、この溶液をヘキサン100a
llに注入すると白色結晶が析出する。これを吸引濾取
し、ヘキサン20#t1lで洗浄後乾燥し、化合物( 
2 N1.3 gを得た.融点は113.5゜Cであっ
た。
実施例3 例示化合物(3)の合威 化合物(3)は、実施例lの化合物(a)と市販のメチ
ルチオセミ力ルバジドから得られる。
アセトニトリル100dに化合物(a ) 10.0g
とメチルチオセ稟カルバジド4.0gを添加し、攪拌下
トリエチルアミン10dを滴下ののち還流する。
7時間反応後、反応液を室温まで冷却し、析出結晶を吸
引濾取する。この結晶をDMF (ジメチルホルムアミ
ド)70d、アセトニトリル70IR1の混合溶液に加
熱溶解したのちO″Cに冷却すると白色結晶が析出する
。これを吸引濾取し、アセトニトリル20dで洗浄後乾
燥し、化合物(3 ) 7.6gを得た。融点は212
.5゜Cであった。
実施例4 例示化合物(6)の合成 化合物(6)は、実施例lの化合物(a)と下記合威法
に従って合威される1.1−ジベンジルヒドラジンから
得られる。
クロロベンゼン63dに化合物( a ) 12.6g
と1,1−ジベンジルヒドラジン7.3gを添加し、攪
拌下還流する.2時間反応後、クロロベンゼン約50一
を留去し、酢酸エチル50mlを加えO″Cに冷却する
と白色結晶が析出する.この結晶を吸引濾取し、ヘキサ
ン20一で洗浄後乾燥し、化合物(6)9.6gを得た
。融点は154.5゜Cであった.実施例5 例示化合物(12)の合或 化合物(12)は、特開昭62−270948号公報等
に記載の公知の下記合戒法に従って合威される化合物(
C)と、抱水ヒドラジンから得られる。
化合物(c)20.0gと抱水ヒドラジン4.3dから
実施例lと同様の方法にて、化合物(12) 14.7
gを得た。
実施例6 例示化合物(38)の合威 化合物(38)は、米国特許4,686.167号に記
載されている下記化合物(d)から下記合或法にて合威
される化合物(e)と、市販のメチルチオセξカルバジ
ドから得られる. 以下余白−・″・ ′t  ′? 手続補正書(自釦 (d) アセトニトリルl00−に化合物( e ) 10.0
gとメチルチオセミカルバジド3.8gを添加し、攪拌
下トリエチルアξン10dを滴下後、実施例3と同様の
方法にて化合物(3B) 6.4gを得た.〔発明の効
果〕 本発明によれば、例えば硬調化剤として有用な新規なヒ
ドラジン化合物を提供することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式〔II〕で表されるヒドラジン誘導体と、
    下記一般式〔III〕で表される化合物とを縮合させるこ
    とを特徴とする、 下記一般式〔 I 〕で表されるセミカルバジド基を有す
    るヒドラジン化合物の製造方法。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、A^1、A^2はともに水素原子を表すか、また
    は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基また
    はオキザリル基を表すものである。Xは2価の芳香族残
    基または複素環残基を表す。 R^1、R^2及びR^3は、それぞれ水素原子、アル
    キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複
    素環基、アシル基、チオアシル基、スルホニル基、カル
    バモイル基、またはチオカルバモイル基を表す。R^1
    とR^2及び/またはR^1とR^3で環を形成しても
    よく、R^1とR^2でアルキリデン基を形成してもよ
    い。 R^4は水素原子またはアルキル基を表す。 Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホス
    ホリル基、チオカルボニル基、またはイミノメチレン基
    を表す。R^5は水素原子、アルキル基、アリール基、
    複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキ
    シ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルケニル
    オキシカルボニル基、アルキニルオキシカルボニル基、
    アリールオキシカルボニル基、またはカルバモイル基を
    表す。 R^6は水素原子、アルキル基、アリール基、または複
    素環基を表す。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0534596A2 (en) * 1991-08-06 1993-03-31 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Novel hydrazine compound, process for the preparation of the same, and non-linear optical organic material
US9624220B2 (en) 2010-04-01 2017-04-18 Critical Outcome Technologies Inc. Compounds and method for treatment of HIV

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