JPH0383886A - Susceptor for pulling up single crystal - Google Patents
Susceptor for pulling up single crystalInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、チロクラルスキー法による単結晶引き上げ装
置に使用されるシリコン単結晶引き上げ用サセプタに関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a susceptor for pulling a silicon single crystal used in a single crystal pulling apparatus using the Tyrochralski method.
[従来の技術]
従来、チロクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造
には、第5図に示されるような装置が使用されている。[Prior Art] Conventionally, an apparatus as shown in FIG. 5 has been used to manufacture silicon single crystals by the Tyrochralski method.
この単結晶引き上げ装置は、炉体iの中央部に石英ルツ
ボ2が設けられ、この石英ルツボ2の略全域が器状の黒
鉛サセプタ3の内部に保持されて構成されている。前記
黒鉛サセプタ3の下端部はベデスタリング4を介して軸
5の上端に取り付けられており、図示しない石英ルツボ
回転モータ及び石英ルツボ昇降モータにより石英ルツボ
2が駆動されるようになっている。また、石英ルツボ2
の周囲にはヒータ6が設けられ、このヒータの加熱量を
制御し七シリコンを融点以上に保ちなから溶湯11を加
熱している。そして、図示しないが、上方に配置された
引き上げIIを使用し、引き上げワイヤ8の先端部のシ
ード支持具9を介して取り付けられたシード10(結晶
の種)を石英ルツボ2内の溶湯11に浸した後に引き上
げることにより、シードlOを始点として順次成長した
単結晶棒12が引き上げられるようになっている。This single crystal pulling apparatus is configured such that a quartz crucible 2 is provided in the center of a furnace body i, and substantially the entire area of the quartz crucible 2 is held inside a vessel-shaped graphite susceptor 3. The lower end of the graphite susceptor 3 is attached to the upper end of a shaft 5 via a bedester ring 4, and the quartz crucible 2 is driven by a quartz crucible rotating motor and a quartz crucible lifting motor (not shown). In addition, quartz crucible 2
A heater 6 is provided around the molten metal 11, and the amount of heating by this heater is controlled to keep the molten metal 11 at or above the melting point of the silicon. Although not shown, a seed 10 (crystal seed) attached via a seed support 9 at the tip of the pulling wire 8 is applied to the molten metal 11 in the quartz crucible 2 using a pulling II placed above. By pulling up after dipping, the single crystal rod 12 that has grown sequentially starting from the seed IO can be pulled up.
この単結晶棒12の引き上げに伴い溶湯11量は減少す
るが、石英ルツボ昇降モータを駆動して石英ルツボ2を
徐々に上昇させ、溶湯11表面レベルを一定に保つよう
にしている。また、欠陥の無いかつ縄の一定な単結晶棒
12を得るために、溶湯11の表面11aの温度をシリ
コン融点より一定温度高い温度に保つことが重要なポイ
ントとなっている。As the single crystal rod 12 is pulled up, the amount of the molten metal 11 decreases, but the quartz crucible lifting motor is driven to gradually raise the quartz crucible 2 to keep the surface level of the molten metal 11 constant. Furthermore, in order to obtain a defect-free single crystal rod 12 with a constant shape, it is important to maintain the temperature of the surface 11a of the molten metal 11 at a certain temperature higher than the silicon melting point.
[発明が解決しようとする課II]
ところが、このようにヒータ6によって石英るつぼ2の
周囲を加熱する場合において、溶湯11の表面部11a
の温度より底部側の温度が高くなる傾向がある。これは
、ベデスタリング4を通して袖5へ逃げる熱量に比べて
、溶湯11の表面部11aから炉体lの雰囲気中へ発散
する熱量か大きいからと考えられる。この逆温度勾配に
より、溶湯11の底部11bと表面部11aとの間で熱
対流が発生し、溶湯11が底部11bから表面部11a
へ流動するようになる。そして、流動するシリコン溶t
Ihxtが、石英ルツボ2の内壁と順次反応して揮発性
の酸化ケイ素(Sin)を生成し、この酸化ケイ素が溶
湯it内に一部混入するので、第5図中の矢印のように
、石英ルツボ2の内壁から溶湯11内部へ酸素が溶出さ
れる。[Problem II to be Solved by the Invention] However, when the area around the quartz crucible 2 is heated by the heater 6 in this way, the surface portion 11a of the molten metal 11
The temperature at the bottom tends to be higher than the temperature at the bottom. This is considered to be because the amount of heat dissipated from the surface portion 11a of the molten metal 11 into the atmosphere of the furnace body l is greater than the amount of heat escaping through the bedestal ring 4 to the sleeve 5. Due to this reverse temperature gradient, thermal convection occurs between the bottom part 11b and the surface part 11a of the molten metal 11, and the molten metal 11 flows from the bottom part 11b to the surface part 11a.
It begins to flow to Then, the flowing silicon melt
Ihxt sequentially reacts with the inner wall of the quartz crucible 2 to produce volatile silicon oxide (Sin), and some of this silicon oxide is mixed into the molten metal it. Oxygen is eluted from the inner wall of the crucible 2 into the molten metal 11.
このような、ヒータ6に加熱される溶SZのメカニズム
により、製造される単、結晶棒12は、先端側の肩部以
降においても極度に酸素濃度が高い値を示すため、半導
体として使用可能な部分が少なくなり、単結晶の歩留り
が悪くなる。Due to the mechanism of the molten SZ heated by the heater 6, the manufactured single crystal rod 12 exhibits an extremely high oxygen concentration even after the shoulder on the tip side, so it can be used as a semiconductor. The number of crystals decreases, and the yield of single crystals deteriorates.
例えば、上記問題の解決策として、石英ルツボの加熱手
段として、石英ルツボの上下方向外周に複数のヒータを
配設し、単結晶引き上げ工程の進行状況に応じて夫々の
ヒータ加熱量を加減して、シリコン溶湯を一定温度に設
定するようにしたものがある。For example, as a solution to the above problem, a plurality of heaters are arranged around the quartz crucible in the vertical direction as heating means for the quartz crucible, and the heating amount of each heater is adjusted depending on the progress of the single crystal pulling process. There is one that sets the temperature of molten silicon at a constant temperature.
しかしながら、このような装置にあっては、複数のヒー
タ制御により溶湯を容易に一定温度に設定できるものの
、ヒータの構成が複雑となること、制御機械を設ける必
要があることなどの不利点があった。However, although such devices can easily set the molten metal at a constant temperature by controlling multiple heaters, they have disadvantages such as the complicated configuration of the heaters and the need to provide a control machine. Ta.
本発明は、上記事情に鑑みて提案されたもので、石英ル
ツボ内の溶湯を常時設定温度に維持することが可能な単
結晶引き上げ用サセプタを提供することにある。The present invention was proposed in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a susceptor for pulling a single crystal that can constantly maintain the molten metal in a quartz crucible at a set temperature.
[課題を解決するための手段]
本発明に係る単結晶引き上げ用サセプタは、サセプタが
少なくとも上下に二分割された形状で構成されているこ
とを特徴とするものである。[Means for Solving the Problems] A susceptor for pulling a single crystal according to the present invention is characterized in that the susceptor is divided into at least two parts, an upper and a lower part.
一般に、サセプタは、石英ルツボを内装させて補強する
ために器状に一体に成形されたものである。しかしなが
ら、本発明者等の研究の結果、溶湯の表面部より上方に
延出するサセプタの上縁部が、溶湯の表面部の熱を弾っ
て炉体内部に放出する放熱体の役目を果たしてしまうた
め、溶湯の表面温度が低下するという知見を得た。本発
明はこのような知見に基くものである。Generally, a susceptor is integrally formed into a vessel shape in order to house and reinforce a quartz crucible. However, as a result of research by the present inventors, the upper edge of the susceptor, which extends upward from the surface of the molten metal, plays the role of a heat radiator that repels the heat from the surface of the molten metal and releases it into the furnace body. It was discovered that the surface temperature of the molten metal decreases due to storage. The present invention is based on this knowledge.
[作用]
本発明の単結晶引き上げ用サセプタによれば、黒鉛サセ
プタが少なくとも上下に2分割された形状で構成されて
おり、補強機能が低下されずに溶湯の表面部の熱の逃げ
が防止され、上部からの出熱量のみを低下させる。それ
により、溶湯の温度の逆勾配の程度が小さくなり、溶湯
内の熱対流を抑制するので、酸素濃度も路内−状態にな
る。このような溶湯状態で製造された単結晶棒は、その
先端部から末端部までの略全域が半導体材料として最適
な酸素濃度値を有するものが得られる。[Function] According to the susceptor for pulling single crystals of the present invention, the graphite susceptor is configured in a shape in which it is divided into at least two parts, upper and lower, so that heat escape from the surface of the molten metal is prevented without reducing the reinforcing function. , reducing only the amount of heat output from the top. As a result, the degree of the inverse gradient of the temperature of the molten metal is reduced, and thermal convection within the molten metal is suppressed, so that the oxygen concentration also becomes in-path condition. A single crystal rod manufactured in such a molten state has an optimum oxygen concentration value as a semiconductor material in substantially the entire area from its tip to its end.
また、分割形状に構成されるサセプタのうち、下部分割
体は、熱膨張による応力歪を吸収するために縦方向に分
割形状にすることによりサセプタの長寿命化を図ること
ができ、その場合は、上部分割体は石英ルツボの補強機
能を損なわないためにリング状の一体型にすることが望
ましい。In addition, among the susceptors configured in a split shape, the lower split body can be split in the vertical direction to absorb stress and strain caused by thermal expansion, thereby extending the life of the susceptor. It is preferable that the upper divided body is an integral ring-shaped body in order not to impair the reinforcing function of the quartz crucible.
[実施例]
本発明による単結晶引き上げ用黒鉛サセプタの実施例に
ついて、第1図及び第4図を参照して説明する。なお、
上記実施例と同様な部分には、同一符号を付し、その説
明を省略する。[Example] An example of a graphite susceptor for pulling a single crystal according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 4. In addition,
Components similar to those in the above embodiment are given the same reference numerals, and their explanation will be omitted.
第1図は、本発明の単結晶引き上げ用黒鉛サセプタを示
す図である。この黒鉛サセプタ20の全体形状は従来の
サセプタと同じ寸法であって、上部分割体20aと下部
分割体20bとからなる上下に2分割されたものである
。上部分割体20aはリング形状をなし、その下端面2
0cが下方に向かうにしたがって漸次拡径するテーバ状
に形成されている。また、下部分割体20aは器状に形
成され、その下部がベデスタリング4の上部に載置され
ているとともに、上端面20dが下方に向かうにしたが
って漸次拡径するテーバ状に形成されている。そして、
下端面20cと上端面20dとを当接させて下部分割体
20bの上に上部分割体20aが重ねられることにより
黒鉛サセプタ20が構成されるようになっている。FIG. 1 is a diagram showing a graphite susceptor for pulling a single crystal according to the present invention. The overall shape of the graphite susceptor 20 has the same dimensions as a conventional susceptor, and is divided into two parts, an upper and a lower part, consisting of an upper part 20a and a lower part 20b. The upper divided body 20a has a ring shape, and its lower end surface 2
0c is formed in a tapered shape whose diameter gradually increases as it goes downward. Further, the lower divided body 20a is formed in a vessel shape, and the lower part thereof is placed on the upper part of the bedestal ring 4, and the upper end surface 20d is formed in a tapered shape whose diameter gradually increases as it goes downward. and,
The graphite susceptor 20 is constructed by stacking the upper divided body 20a on the lower divided body 20b with the lower end surface 20c and the upper end surface 20d in contact with each other.
この分割形状の黒鉛サセプタ20は、第2図及び第3図
に示されるように、その分割面(下端面20cと上端面
20dの当接面)が引き上げ開始時点における溶湯11
の表面部11aの上部に位置し、また、ヒータ6に常時
加熱される位置に配設されている。As shown in FIGS. 2 and 3, this split-shaped graphite susceptor 20 has a split surface (a contact surface between the lower end surface 20c and the upper end surface 20d) that is connected to the molten metal at the time of starting pulling.
It is located above the surface portion 11a of the heater 6, and is placed in a position where it is constantly heated by the heater 6.
そして、単結晶の引き上げ作業を行う場合には、溶湯1
1内部の表面wJtlaは、石英ルツボ2を介して下部
分割体20bに伝導され、熱(第3図の中矢印)が奪わ
れていくが、下部分割体20の上面20dと当接する上
部分割体20aの下面20cとの間に僅かな空隙部20
eが形成されているため、熱は上部分割体20aまでに
伝わりにくくなり、放熱量が減少する。When performing single crystal pulling work, the molten metal 1
1, the inner surface wJtla is conducted to the lower divided body 20b via the quartz crucible 2, and heat (indicated by the arrow in FIG. A slight gap 20 between the lower surface 20c of 20a and
Since heat is formed, it is difficult for heat to be transmitted to the upper divided body 20a, and the amount of heat radiation is reduced.
したがって、黒鉛サセプタ20が少なくとも上下に二分
割された形状で構成されていることにより、溶mxiの
表面部11aの石英ルツボ2、黒鉛サセプタ3を通して
の熱の逃げが減少し、溶湯11の温度の逆勾配の程度が
小さくなり溶s11内部の熱対流を抑制するので、酸素
濃度も略角−状態になる。これ1こより製造される単結
晶+41112は、その先端部から末端部までの略全域
が半導体材料として最適な酸素濃度値を有するものが得
られる。Therefore, since the graphite susceptor 20 is configured to be divided into at least two parts, upper and lower, the escape of heat from the surface portion 11a of the molten metal mxi through the quartz crucible 2 and the graphite susceptor 3 is reduced, and the temperature of the molten metal 11 is reduced. Since the degree of the reverse gradient is reduced and thermal convection inside the melt s11 is suppressed, the oxygen concentration is also in a substantially angular-state. The single crystal +41112 produced from this single crystal has an oxygen concentration value suitable for a semiconductor material in almost the entire area from its tip to its end.
上記のように、黒鉛サセプタ20が上下に分割されて構
成されている場合、操業時に上下の温度が異なるので下
側が膨張するが、分割面20cと20dとの当接面がズ
レることにより逃げることができる。また、黒鉛サセプ
タ20の全高は従来のものと変わっていないため石英ル
ツボ2の補強機能を十分に発揮することができる。As described above, when the graphite susceptor 20 is configured to be divided into upper and lower parts, the lower side expands because the temperatures of the upper and lower parts are different during operation, but the expansion occurs due to the abutment surfaces of the divided surfaces 20c and 20d being misaligned. I can do it. In addition, since the overall height of the graphite susceptor 20 is unchanged from that of the conventional one, the reinforcing function of the quartz crucible 2 can be fully demonstrated.
また、第4図に示すものは、本発明の他の実施であり、
下部分割体20bが、縦方向に複数に(図示例では、3
分割)分割した形状に構成されているものである。これ
ら分割された縦割り分割体20f、 20g、 20h
の上部が、リング形状の上部分割体20aに支持されて
黒鉛サセプタ20が構成されていることにより、熱膨張
による応力歪を吸収して黒鉛サセプタ20のクラックや
割れを防止することができ、サセプタ20の長寿命化を
図ることができる。Moreover, what is shown in FIG. 4 is another implementation of the present invention,
The lower divided body 20b is divided into a plurality of parts in the vertical direction (in the illustrated example, there are three parts).
Division) It is constructed in a divided shape. These vertically divided bodies 20f, 20g, 20h
Since the graphite susceptor 20 is configured such that the upper part of the graphite susceptor 20 is supported by the ring-shaped upper divided body 20a, it is possible to absorb the stress strain caused by thermal expansion and prevent the graphite susceptor 20 from cracking. 20 can be extended in life.
この例の場合には、黒鉛サセプタ20を組み立てる際に
、上部分割体20aが複数の下部分割体20bを押さえ
る役目をするので、軸5上部へのルツボ2等のセツティ
ングが容易になる。In this example, when assembling the graphite susceptor 20, the upper divided body 20a serves to hold down the plurality of lower divided bodies 20b, making it easy to set the crucible 2 and the like on the upper part of the shaft 5.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、黒鉛サセプタの
全体形状を変化させずに、少なくとも上下に二分割した
形状で構成することにより、溶湯上部への放熱量を低下
させ、それにより、溶湯の温度の逆勾配の程度が小さく
なり、溶湯内部の熱対流を抑制するので、酸素濃度も略
角−状態になる。これにより製造された単結晶棒は、そ
の先端部から末端部までの略全域が半導体材料として最
適な酸素濃度値を有するものが得られる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the amount of heat dissipated to the upper part of the molten metal can be reduced by configuring the graphite susceptor into at least two halves, without changing the overall shape of the graphite susceptor. As a result, the degree of the inverse gradient of the temperature of the molten metal is reduced and thermal convection inside the molten metal is suppressed, so that the oxygen concentration also becomes approximately angular. The single-crystal rod produced in this way has an optimum oxygen concentration value as a semiconductor material over substantially the entire region from the tip to the end.
第i図ないし第4図は本発明の単結晶引き上げ用サセプ
タの実施例を示すもので、第1図はサセプタの一実施例
を示す断面図、第2図は本発明のサセプタを単結晶引き
上げ装置に配設した要部断面図、第3図は石英ルツボ内
部の溶湯表面部付近を示す要部断面図、第4図はサセプ
タの他の実施例を示す外観図、第5図は従来のサセプタ
を単結晶引き上げ装置に配役した断面図である。
l・・・・・炉体、
2・・・・・石英ルツボ、
6・・・・・ヒータ、
!・・・・・溶湯、
la・・・・・溶湯表面部、 llb・・・・・溶湯
底部、2・・・・・単結晶棒、
O・・・・・黒鉛サセプタ、
Oa・・・・・上部分割体、 20b・・・・・下部
分割体、Oc・・・・・上部分割体の下端面、
0、d・・・・・下部分割体の上端面、Oe・・・・・
空隙部、
CB、 20g、 20h・・・・・縦割り分割体。Figures i to 4 show embodiments of the susceptor for pulling single crystals of the present invention. 3 is a sectional view of the main parts arranged in the apparatus, FIG. 3 is a sectional view of the main parts showing the vicinity of the molten metal surface inside the quartz crucible, FIG. 4 is an external view showing another embodiment of the susceptor, and FIG. 5 is the conventional susceptor. FIG. 2 is a cross-sectional view of a susceptor installed in a single crystal pulling device. l... Furnace body, 2... Quartz crucible, 6... Heater, ! ... Molten metal, la... Molten metal surface, llb... Molten metal bottom, 2... Single crystal rod, O... Graphite susceptor, Oa...・Upper divided body, 20b...Lower divided body, Oc...Lower end surface of the upper divided body, 0, d...Upper end surface of the lower divided body, Oe...
Gap, CB, 20g, 20h... Vertically divided body.
Claims (1)
れる石英ルツボを保持する器状のサセプタであって、 前記サセプタが少なくとも上下に二分割された形状で構
成されていることを特徴とする単結晶引き上げ用サセプ
タ。[Scope of Claim] A vessel-shaped susceptor for holding a quartz crucible used in a single crystal pulling device using the Czochralski method, wherein the susceptor is configured to be divided into at least two parts, an upper and a lower part. Characteristic susceptor for pulling single crystals.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22272589A JPH0383886A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Susceptor for pulling up single crystal |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22272589A JPH0383886A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Susceptor for pulling up single crystal |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0383886A true JPH0383886A (en) | 1991-04-09 |
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ID=16786925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP22272589A Pending JPH0383886A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Susceptor for pulling up single crystal |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH0383886A (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6369791A (en) * | 1986-09-09 | 1988-03-29 | Osaka Titanium Seizo Kk | Duplex crucible |
-
1989
- 1989-08-29 JP JP22272589A patent/JPH0383886A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6369791A (en) * | 1986-09-09 | 1988-03-29 | Osaka Titanium Seizo Kk | Duplex crucible |
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