JPH0364729A - 走査線ピッチムラを補正した光走査装置 - Google Patents
走査線ピッチムラを補正した光走査装置Info
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- JPH0364729A JPH0364729A JP20198589A JP20198589A JPH0364729A JP H0364729 A JPH0364729 A JP H0364729A JP 20198589 A JP20198589 A JP 20198589A JP 20198589 A JP20198589 A JP 20198589A JP H0364729 A JPH0364729 A JP H0364729A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
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- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 4
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はレーザービー・ムプリンタ等の光走査装置に関
し、より詳細には走査綿ピッチムラを補正した光走査装
置に関する。
し、より詳細には走査綿ピッチムラを補正した光走査装
置に関する。
［従来の技術］
従来１回転多面鏡によりレーザービームな偏向走査する
光走査装置が存在するが、こうした装置においては５回
転多面鏡（ポリゴンミラー）の偏向反射面の所謂面倒れ
によって被走査媒体上で走査綿ピッチムラが発生し、解
像度低下の要因となるこヒがあった。
光走査装置が存在するが、こうした装置においては５回
転多面鏡（ポリゴンミラー）の偏向反射面の所謂面倒れ
によって被走査媒体上で走査綿ピッチムラが発生し、解
像度低下の要因となるこヒがあった。
こうした走査綿ピッチムラを補正するための方法ヒして
は、従来１例えば、次の様なものがある。
は、従来１例えば、次の様なものがある。
■走査結像光学系にシリンドリカルレンズやトーリック
レンズ等のアナモフィック１／ンズを用いてピッチムラ
を補正する方法、■音響光学素子によってビームの角度
を制御することでピッチムラを補正する方法。
レンズ等のアナモフィック１／ンズを用いてピッチムラ
を補正する方法、■音響光学素子によってビームの角度
を制御することでピッチムラを補正する方法。
などである。
しかし乍ら、上記■の方法でば、回転非対称レンズを用
いる為に、製造コストが高くなるなどの難点がある。
いる為に、製造コストが高くなるなどの難点がある。
また、上記■の方法では１回転対称レンズを用いること
が出来るが、音響光学素子の位置調整の厳しさや応答速
度が遅い等の点で難点がある。
が出来るが、音響光学素子の位置調整の厳しさや応答速
度が遅い等の点で難点がある。
従って、本発明の目的は、上記課題に鑑み、回転対称レ
ンズの使用が可能であると共に応答速度も速く低コスト
化及び高速化が出来る光走査装置を提供することにある
。
ンズの使用が可能であると共に応答速度も速く低コスト
化及び高速化が出来る光走査装置を提供することにある
。
［課題を解決する為の手段］
上記目的を達成する為の本発明では、複数の充分に応答
速度が速い半導体レーザーなどの光源エレメントが配列
された光源アレイから出射されたビームを回転多面鏡に
より被走査媒体上に偏向走査し、ビームの入射する回転
多面鏡の反射面の交替に応じて、光源アレイの光源エレ
メントを選択的に点灯制御し、それにより被走査媒体上
における副走査方向の走査綿ピッチムラを補正している
。
速度が速い半導体レーザーなどの光源エレメントが配列
された光源アレイから出射されたビームを回転多面鏡に
より被走査媒体上に偏向走査し、ビームの入射する回転
多面鏡の反射面の交替に応じて、光源アレイの光源エレ
メントを選択的に点灯制御し、それにより被走査媒体上
における副走査方向の走査綿ピッチムラを補正している
。
応答速度の充分に速い光源エレメントとしては半導体レ
ーザーなどがあり９、またピッチムラ補正をより精細す
る為に光源アレイのアレイ方向を副走査方向に対して傾
けても良い［作用］ 上記構成によれば、副走査方向に間隔を持って配列され
た光源エレメントの被走査媒体上の像は副走査方向にず
れた位置に形成されるので、複数の光源エレメントを選
択的に使用反射面に応じて適当に点灯すれば、回転多面
鏡の面倒れによる副走査方向の走査綿ピッチムラは補正
されることになる。
ーザーなどがあり９、またピッチムラ補正をより精細す
る為に光源アレイのアレイ方向を副走査方向に対して傾
けても良い［作用］ 上記構成によれば、副走査方向に間隔を持って配列され
た光源エレメントの被走査媒体上の像は副走査方向にず
れた位置に形成されるので、複数の光源エレメントを選
択的に使用反射面に応じて適当に点灯すれば、回転多面
鏡の面倒れによる副走査方向の走査綿ピッチムラは補正
されることになる。
【実施例１
第１図と第２図は、本発明の実施例の副走査方向（走査
結像光学系の光軸に直角な２方向のうち光走査方向以外
の方向）断面における概略構成を示す。
結像光学系の光軸に直角な２方向のうち光走査方向以外
の方向）断面における概略構成を示す。
同図において、ｌは半導体レーザーアレイｌａ〜ｌｅは
半導体レーザーアレイｌの各レーザーエレメント、２は
コリメータレンズ、３はポリゴンミラーの偏向反射面、
４は回転対称なｆ・θレンズ、５ａ〜５ｅは、夫々、レ
ーザーエレメント１ａ＝Ｌｅからの放射光に対応する感
光体６上での像を示し、Ｘは光軸方向、２は副走査方向
を示す、そして。
半導体レーザーアレイｌの各レーザーエレメント、２は
コリメータレンズ、３はポリゴンミラーの偏向反射面、
４は回転対称なｆ・θレンズ、５ａ〜５ｅは、夫々、レ
ーザーエレメント１ａ＝Ｌｅからの放射光に対応する感
光体６上での像を示し、Ｘは光軸方向、２は副走査方向
を示す、そして。
第１図がポリゴンミラーの面倒れがある場合の様子を示
し、第２図がこの面倒れがない場合の様子を示す。
し、第２図がこの面倒れがない場合の様子を示す。
第３図は、半導体レーザーアレイｌのレーザーエレメン
ト１ａ＝ｌｅの配置を正面から見た（光軸方向から見た
）様子を示す。
ト１ａ＝ｌｅの配置を正面から見た（光軸方向から見た
）様子を示す。
以上の構成において、半導体レーザーアレイｌのレーザ
ーエレメント１ａ＝Ｌｅから出射するレーザービームは
コリメータレンズ乏により平行光とされ、ポリゴンミラ
ーの反射面３によって反射、偏向され、更にｆ・θレン
ズ４によって収束されて感光体６上にビームスポット５
ａ〜５ｅを形成する。このビームスポットがポリゴンミ
ラーの回転によって主走査方向（ｙ方向）に走査され、
これと共に感光体６が副走査方向に移動されることによ
り感光体６上に２次元の画像が形成されるのである。
ーエレメント１ａ＝Ｌｅから出射するレーザービームは
コリメータレンズ乏により平行光とされ、ポリゴンミラ
ーの反射面３によって反射、偏向され、更にｆ・θレン
ズ４によって収束されて感光体６上にビームスポット５
ａ〜５ｅを形成する。このビームスポットがポリゴンミ
ラーの回転によって主走査方向（ｙ方向）に走査され、
これと共に感光体６が副走査方向に移動されることによ
り感光体６上に２次元の画像が形成されるのである。
上述した様に、第２図はポリゴンミラーの反射面３が面
倒れをしていない場合の動作を示すものであり、このと
きにはレーザーエレメント１ａｘｌｅのうち光軸上に配
置されたエレメントｌｃのみが点灯され、他のエレメン
トｌａ％ ｉｂ％ ｌｄ、ｌｅは消灯されている。こう
することにより、感光体６の所望の副走査方向位置に１
個のビームスポット５ｃが形成されることになり、これ
が主走査方向に走査されて所望の走査綿を描く。
倒れをしていない場合の動作を示すものであり、このと
きにはレーザーエレメント１ａｘｌｅのうち光軸上に配
置されたエレメントｌｃのみが点灯され、他のエレメン
トｌａ％ ｉｂ％ ｌｄ、ｌｅは消灯されている。こう
することにより、感光体６の所望の副走査方向位置に１
個のビームスポット５ｃが形成されることになり、これ
が主走査方向に走査されて所望の走査綿を描く。
次に、第１図に示す如く、ポリゴンミラーの反射面３に
面倒れがある場合には、半導体レーザーアレイｌの各レ
ーザーエレメントｌミル１６の像５ａ〜５ｅは第２図の
ときと比べて副走査方向にシフトする。従って、このと
きにも、もし光軸上のレーザーエレメント１ ｃを点灯
したままで尤ｉｆｌむを１１なったならば、その像５ｃ
は所望の走合線位青からずり。
面倒れがある場合には、半導体レーザーアレイｌの各レ
ーザーエレメントｌミル１６の像５ａ〜５ｅは第２図の
ときと比べて副走査方向にシフトする。従って、このと
きにも、もし光軸上のレーザーエレメント１ ｃを点灯
したままで尤ｉｆｌむを１１なったならば、その像５ｃ
は所望の走合線位青からずり。
て走査きｔＬ７Ｉごとになり、疋百線の副走査方向ビグ
チｈう生じることになる。
チｈう生じることになる。
そこで、第１図σ）ときに（：ｊ：、光軸」二のｌｌ
−ザーエ１／メン１−１ｃを消灯し、代わりに１７ザー
エレメンＩ＝ ｌ ｅを点月１″第１、ば、その像５ｅ
が所望 走 位 、、形 二 走査綿ピッチムラが
補正できることになる。
−ザーエ１／メン１−１ｃを消灯し、代わりに１７ザー
エレメンＩ＝ ｌ ｅを点月１″第１、ば、その像５ｅ
が所望 走 位 、、形 二 走査綿ピッチムラが
補正できることになる。
従って、ポリゴンミラーの名反射面ｔ、′λ・ｉして、
夫々の面倒わ、見に応じて点灯さ（ｌ−るレーザー：Ｌ
、 ｌ／メン１−を変えてい６１ば、感光体Ｇの画面全
体に亙って足前線ビヴグ〜ｂうが補正されることになる
のであろう 本デ絶倒では、予めポリゴンミラーの各反射面の面倒Ｉ
１１敞を測っておいて、各反射面で光走査が行むわれる
ときにどの１ノーザーヱ１ノメント１ａ−１ｅを点灯さ
せるかを決定１−１〔おいて、こＡ１に従って装置をコ
ンｌ＝ ’Ｏ−ルしているのである。
夫々の面倒わ、見に応じて点灯さ（ｌ−るレーザー：Ｌ
、 ｌ／メン１−を変えてい６１ば、感光体Ｇの画面全
体に亙って足前線ビヴグ〜ｂうが補正されることになる
のであろう 本デ絶倒では、予めポリゴンミラーの各反射面の面倒Ｉ
１１敞を測っておいて、各反射面で光走査が行むわれる
ときにどの１ノーザーヱ１ノメント１ａ−１ｅを点灯さ
せるかを決定１−１〔おいて、こＡ１に従って装置をコ
ンｌ＝ ’Ｏ−ルしているのである。
第３Ｅ（口、を十↓’Ｘ ｊ＊ ｌｌ−イーアレイ１の
配置の１例を示ずｌ、のであり、ｐは各１／−ザーエ１
〕ｌンＩ、の間隔を、１−）゛はエレメント間陥ｐの副
走査方向成分を、０ば１ノーず−ア１ノイ１が主走査方
向、％’ｅ成を角度を示す１、−・般に半導体１ノーザ
ー ７１ノイ１は結像走査光学系で鉱ノくさｉｔ、て綬
６光体面贋」二に結像されるが５その結像Ｆ率６」；、
上記実施例でざλ、ばｆ・θＩノンズ４とコリメータレ
ンズ２との焦点距暉の比になる。今、この／、？ｉ率を
１０倍（例えば、ｆ−／１ｌＬ＝ンズ福が２００ｒｒ＋
ｒｎ、コリメーター１／ンズ２が２０ｍｍの焦点距献の
場合）ヒ仮定すると、美しメン１−間唱ｐがＯｌｍｒｒ
ｉの半導体レーザーア１ノ・イな用いた場合には名工１
ノメン１−の像の間熱は１ ｍ ｍ Ｊ二なる、従って
、７１／イ方向を副走査７Ｔ向と一致きぜｆこの”ｌｌ
、各エレメントの副走査方向の像の間隔が１ｒ［１ｒｆ
Ｉと大き過ぎてピプチムラ袖正の為に（：Ｊ不都合であ
る。
配置の１例を示ずｌ、のであり、ｐは各１／−ザーエ１
〕ｌンＩ、の間隔を、１−）゛はエレメント間陥ｐの副
走査方向成分を、０ば１ノーず−ア１ノイ１が主走査方
向、％’ｅ成を角度を示す１、−・般に半導体１ノーザ
ー ７１ノイ１は結像走査光学系で鉱ノくさｉｔ、て綬
６光体面贋」二に結像されるが５その結像Ｆ率６」；、
上記実施例でざλ、ばｆ・θＩノンズ４とコリメータレ
ンズ２との焦点距暉の比になる。今、この／、？ｉ率を
１０倍（例えば、ｆ−／１ｌＬ＝ンズ福が２００ｒｒ＋
ｒｎ、コリメーター１／ンズ２が２０ｍｍの焦点距献の
場合）ヒ仮定すると、美しメン１−間唱ｐがＯｌｍｒｒ
ｉの半導体レーザーア１ノ・イな用いた場合には名工１
ノメン１−の像の間熱は１ ｍ ｍ Ｊ二なる、従って
、７１／イ方向を副走査７Ｔ向と一致きぜｆこの”ｌｌ
、各エレメントの副走査方向の像の間隔が１ｒ［１ｒｆ
Ｉと大き過ぎてピプチムラ袖正の為に（：Ｊ不都合であ
る。
この為、第３図に示′１−様に、アレイ方向を傾６プて
、Ｌ記副ボ査方向の像の間隔を支配するニレメン！・間
Ｈｐの副走査方向成分ｐ′を小さくして用いるのである
。第３図の様に、主走査方向とアレイ方向ヒが０だけ角
度を成す様に半導体レーザーアレイ１を配置すかば、エ
レメント間陽ｐの副走査方向成分ｐ′は１” ＝ ｐ
Ｓ Ｉ ｒｌ Ｏでｊえられ、各エレメントの像間陥の
副走査方向成分が小さくなる。
、Ｌ記副ボ査方向の像の間隔を支配するニレメン！・間
Ｈｐの副走査方向成分ｐ′を小さくして用いるのである
。第３図の様に、主走査方向とアレイ方向ヒが０だけ角
度を成す様に半導体レーザーアレイ１を配置すかば、エ
レメント間陽ｐの副走査方向成分ｐ′は１” ＝ ｐ
Ｓ Ｉ ｒｌ Ｏでｊえられ、各エレメントの像間陥の
副走査方向成分が小さくなる。
例えばθ＝１°とし、前述の倍率に関する仮定を用いる
と、各エレメントの像の間隔の副走査へ同成分をｌ ７
ｕ、 ｍとするこヒが出来、これは走査綿ピッチムラ
を補正１”る為に６：ｊ充分に小さい値である。
と、各エレメントの像の間隔の副走査へ同成分をｌ ７
ｕ、 ｍとするこヒが出来、これは走査綿ピッチムラ
を補正１”る為に６：ｊ充分に小さい値である。
以上の実施例では、ｌｌ−ザーエレメントが５個の半導
体レーザ・−アレイ１を用いていたが、これに限定され
るしのではな（エレメント数は２個以上ならば何個であ
っても良い。
体レーザ・−アレイ１を用いていたが、これに限定され
るしのではな（エレメント数は２個以上ならば何個であ
っても良い。
Ｅ発哨の効甲］
以上黒目した揉に、本発哨の構成によれば、１数個のレ
ーザーエレメントなどの充分応答速度の連い光神を配置
１！−て成る半導体１．−ザーアレイなどの光源ア１／
イを、今現在先走査に使われている回転多面鋼の偏向反
射向に対応して、選択的に点灯するこヒで走査綿ピッチ
ムラを補正するので、光学系ヒしで回転対称レンズの使
用が可能であると共に応答速度も速くなる。よって、製
品の低価格化、動作の高速化なども実現きれる、
ーザーエレメントなどの充分応答速度の連い光神を配置
１！−て成る半導体１．−ザーアレイなどの光源ア１／
イを、今現在先走査に使われている回転多面鋼の偏向反
射向に対応して、選択的に点灯するこヒで走査綿ピッチ
ムラを補正するので、光学系ヒしで回転対称レンズの使
用が可能であると共に応答速度も速くなる。よって、製
品の低価格化、動作の高速化なども実現きれる、
第１図と第２図は木発閉の実施例の副走査方向断面の構
成こ動作金説明する図であり。 第３図は実施例の半導体レーザーアレイを正面から見た
様子を示１゛図である。 １・・・・・半導体１／−ザーアレイ、１８〜１ｅ・・
・・・レーザーエレメント、２・・・・・コリメータレ
ンズ、３・・・・・ポリゴンミラーの反射面、４−・・
・・同転対称ｆ・θレンズ、５ａ〜５ｅ・・・・・１／
−ザーエレメンｉ−の像、６・・・・・感光体手 続 補 正 書（方式） （１）別紙の通り、図面第３図を差し替えます。 平成１年１２月１４日
成こ動作金説明する図であり。 第３図は実施例の半導体レーザーアレイを正面から見た
様子を示１゛図である。 １・・・・・半導体１／−ザーアレイ、１８〜１ｅ・・
・・・レーザーエレメント、２・・・・・コリメータレ
ンズ、３・・・・・ポリゴンミラーの反射面、４−・・
・・同転対称ｆ・θレンズ、５ａ〜５ｅ・・・・・１／
−ザーエレメンｉ−の像、６・・・・・感光体手 続 補 正 書（方式） （１）別紙の通り、図面第３図を差し替えます。 平成１年１２月１４日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、複数の光源エレメントが配列された光源アレイから
出射したビームを回転多面鏡により被走査媒体上に偏向
走査する光走査装置において、ビームの入射する回転多
面鏡の反射面の交替に応じて、前記光源アレイの光源エ
レメントを選択的に点灯制御し、それにより被走査媒体
上における走査綿ピッチムラを補正することを特徴とす
る光走査装置。 ２、前記光源アレイは半導体レーザーアレイである請求
項１記載の光走査装置。 ３、前記光源エレメントのアレイ方向は副走査方向に対
して角度を成す請求項１記載の光走査装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20198589A JPH0364729A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 走査線ピッチムラを補正した光走査装置 |
| EP19900112793 EP0406844A3 (en) | 1989-07-05 | 1990-07-04 | Scanning optical apparatus |
| US08/476,047 US5627670A (en) | 1989-07-05 | 1995-06-07 | Scanning optical apparatus having beam scan controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20198589A JPH0364729A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 走査線ピッチムラを補正した光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0364729A true JPH0364729A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16450029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20198589A Pending JPH0364729A (ja) | 1989-07-05 | 1989-08-02 | 走査線ピッチムラを補正した光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0364729A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1844943A1 (en) | 2006-04-12 | 2007-10-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus and control method thereof |
| JP2007283512A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-11-01 | Canon Inc | 画像形成装置、光学走査装置および自動光量制御方法 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP20198589A patent/JPH0364729A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1844943A1 (en) | 2006-04-12 | 2007-10-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus and control method thereof |
| JP2007286129A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-11-01 | Canon Inc | 画像形成装置およびその制御方法 |
| JP2007283512A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-11-01 | Canon Inc | 画像形成装置、光学走査装置および自動光量制御方法 |
| US7688342B2 (en) | 2006-04-12 | 2010-03-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus and control method thereof |
| US7719559B2 (en) | 2006-04-12 | 2010-05-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus, optical scanning apparatus, and auto light power control method |
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