JPH032946B2 - - Google Patents
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- JPH032946B2 JPH032946B2 JP58001248A JP124883A JPH032946B2 JP H032946 B2 JPH032946 B2 JP H032946B2 JP 58001248 A JP58001248 A JP 58001248A JP 124883 A JP124883 A JP 124883A JP H032946 B2 JPH032946 B2 JP H032946B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、蒸着材料から成る成形片を蒸着装置
の蒸発器に供給するための装置に関する。
の蒸発器に供給するための装置に関する。
物質、特に金属の薄膜は、相応する物質を真空
で蒸発させ、生じる蒸気を相応の基材上に付着す
ることによつて比較的容易に得ることができる。
この場合、施すべき物質の蒸着は、所謂蒸発器
(Verdampfer)で加熱するか又は電子ビームを
用いて行なわれる。
で蒸発させ、生じる蒸気を相応の基材上に付着す
ることによつて比較的容易に得ることができる。
この場合、施すべき物質の蒸着は、所謂蒸発器
(Verdampfer)で加熱するか又は電子ビームを
用いて行なわれる。
限定された面上に単一の蒸着材料を用いて薄膜
を蒸着するのは比較的簡単である。エンドレスな
バンドの蒸着、合金膜又は種々の物質から成る蒸
着の場合には、就中真空の中断なしに蒸着材料を
蒸発器に連続的に供給する(これによつて膜質低
下が生じるであろう)ために、複雑な装置が不可
欠である。蒸発器に新しく材料を供給するために
真空を中断する際には、更に蒸着装置を繰返し排
気するのが不経済であるという難点が生じる。
を蒸着するのは比較的簡単である。エンドレスな
バンドの蒸着、合金膜又は種々の物質から成る蒸
着の場合には、就中真空の中断なしに蒸着材料を
蒸発器に連続的に供給する(これによつて膜質低
下が生じるであろう)ために、複雑な装置が不可
欠である。蒸発器に新しく材料を供給するために
真空を中断する際には、更に蒸着装置を繰返し排
気するのが不経済であるという難点が生じる。
数種の成分から成る膜を基材上に真空蒸着によ
つて施す際、基材を次々と相応の物質を含む蒸発
器上に運ぶことによつて実施することは公知であ
る(西独国特許出願公開第1910332号)。しかしこ
の方法及び装置は、蒸着装置で限定量の蒸着材料
を用いてしか作業することができない。同じ欠点
は、種々の蒸着材料を含む蒸発器を回転板上に配
置して次々に加熱していく場合にも生じる(西独
国特許出願公告第1298833号公報)。
つて施す際、基材を次々と相応の物質を含む蒸発
器上に運ぶことによつて実施することは公知であ
る(西独国特許出願公開第1910332号)。しかしこ
の方法及び装置は、蒸着装置で限定量の蒸着材料
を用いてしか作業することができない。同じ欠点
は、種々の蒸着材料を含む蒸発器を回転板上に配
置して次々に加熱していく場合にも生じる(西独
国特許出願公告第1298833号公報)。
また、蒸着材料をそれを用いて蒸着工程の間つ
まり真空保持下に連続的に蒸発器に供給すること
のできる装置も公知である。すなわち例えば西独
国特許752141号明細書では蒸着材料が送出ロール
から線状で取出され、加熱された蒸発るつぼに直
接供給され、そこで蒸発材料は蒸発され、基材上
に付着される。また、被蒸発物質を小粒子の形で
適当な装置によつて高温に加熱された蒸発器上に
落下させることも西独国特許出願公告第1032998
号公報から公知である。しかしこの供給装置は、
装置の大きい熱負荷のために分離して冷却されな
ければならず、蒸着時には不利な“影”を投じる
こともあるという欠点を有する。
まり真空保持下に連続的に蒸発器に供給すること
のできる装置も公知である。すなわち例えば西独
国特許752141号明細書では蒸着材料が送出ロール
から線状で取出され、加熱された蒸発るつぼに直
接供給され、そこで蒸発材料は蒸発され、基材上
に付着される。また、被蒸発物質を小粒子の形で
適当な装置によつて高温に加熱された蒸発器上に
落下させることも西独国特許出願公告第1032998
号公報から公知である。しかしこの供給装置は、
装置の大きい熱負荷のために分離して冷却されな
ければならず、蒸着時には不利な“影”を投じる
こともあるという欠点を有する。
従つて本発明の課題は、蒸着装置の蒸発器に蒸
着材料から成る成形片を供給する際、真空の中断
なく、特定の冷却を要さずかつ“投影”の出現な
しにそれを用いて蒸発器に繰返し材料を追加供給
することのできる蒸発器に材料を供給するための
装置を創作することである。
着材料から成る成形片を供給する際、真空の中断
なく、特定の冷却を要さずかつ“投影”の出現な
しにそれを用いて蒸発器に繰返し材料を追加供給
することのできる蒸発器に材料を供給するための
装置を創作することである。
この課題は本発明により、該装置が成形片を載
置するために切欠きを有し、旋回可能の軸上で安
心されかつ密接に取付けられているケーシングに
よつて包囲されたロール、旋回可能の軸に取付け
られていて、段階的送りを有する運動要素及び休
止位置ならびに供給位置に移動可能で、取付要素
を介してロールを有する旋回可能の軸がそこに取
付けられている回り軸から構成され、この際ロー
ルのケーシングが成形片に相応する間隙を備えて
いて、同間隙が回り軸の供給位置では蒸発器の真
上に存在することによつて解決される。
置するために切欠きを有し、旋回可能の軸上で安
心されかつ密接に取付けられているケーシングに
よつて包囲されたロール、旋回可能の軸に取付け
られていて、段階的送りを有する運動要素及び休
止位置ならびに供給位置に移動可能で、取付要素
を介してロールを有する旋回可能の軸がそこに取
付けられている回り軸から構成され、この際ロー
ルのケーシングが成形片に相応する間隙を備えて
いて、同間隙が回り軸の供給位置では蒸発器の真
上に存在することによつて解決される。
成形片としては例えば薄片、球又は好ましくは
線断片を使用することができ、この際これらはそ
の都度、同じ蒸着材料又は種々の膜を製造する場
合には種々の材料から成つていてもよい。回り軸
は、成形片を蒸発器に供給する際には該装置を蒸
発器上に旋回し、成形片の蒸着の間には該装置を
蒸着作業空間から遠ざけるために休止位置に旋回
する。
線断片を使用することができ、この際これらはそ
の都度、同じ蒸着材料又は種々の膜を製造する場
合には種々の材料から成つていてもよい。回り軸
は、成形片を蒸発器に供給する際には該装置を蒸
発器上に旋回し、成形片の蒸着の間には該装置を
蒸着作業空間から遠ざけるために休止位置に旋回
する。
段階的送りを有する運動要素、例えばツメ車
は、ロールを段階的に旋回し、蒸発器の真上に存
在するケーシングの間隙から成形片を段階的に放
出する。
は、ロールを段階的に旋回し、蒸発器の真上に存
在するケーシングの間隙から成形片を段階的に放
出する。
蒸着装置が数個の蒸発器を有する場合には、各
蒸発器に、同一軸又は異なる軸上に存在する固有
の供給ロールを配置するのが有利である。運動要
素は好ましくは、回り軸が供給位置に旋回すると
固定されたつめに掛かり、旋回可能の軸を供給ロ
ールと共にその都度一つの位置だけ引続き移動す
るつめ車として形成されている。更に、回り軸を
蒸着装置から空密に引出し、装置外でこれに伝動
装置を設けるのも有利である。
蒸発器に、同一軸又は異なる軸上に存在する固有
の供給ロールを配置するのが有利である。運動要
素は好ましくは、回り軸が供給位置に旋回すると
固定されたつめに掛かり、旋回可能の軸を供給ロ
ールと共にその都度一つの位置だけ引続き移動す
るつめ車として形成されている。更に、回り軸を
蒸着装置から空密に引出し、装置外でこれに伝動
装置を設けるのも有利である。
次に本発明による装置を、図示した実施例によ
り説明する。
り説明する。
旋回可能の軸4上には、その周辺に相応の蒸着
材料より成る成形片1を載置するための切欠き1
0を有しかつケーシング3によつて包囲されたロ
ール2が取付けられている。旋回可能の軸4及び
場合によつてはまたケーシング3は、取付要素5
を介して回り軸6に結合されている。この軸は軸
受12に支持されていて、蒸着装置外の機械的伝
動装置、例えばレバーによつて休止位置A及び供
給位置Bに旋回されうる。旋回可能の軸4には段
階的送りを有する運動要素、本例の場合にはつめ
車が取付けられている。このつめ車は回り軸6が
供給位置Bに旋回すると固定されたつめ9に掛か
り、旋回可能の軸4をつめ車8のピツチに応じて
一つの位置だけ引続き旋回する。すると成形体1
はロール2のケーシング3の間隙11によつてロ
ール2の切欠き10から蒸発器7中に落下する。
次に回り軸6は再び休止位置に旋回されるが、こ
の位置では蒸着装置は、影作用によつて蒸着を不
良にしかつ冷却を要する極端な加熱の影響を受け
ない。蒸発器7近辺にロール2が短時間滞在する
ことによつて加熱された蒸発器7で供給が行なわ
れる。
材料より成る成形片1を載置するための切欠き1
0を有しかつケーシング3によつて包囲されたロ
ール2が取付けられている。旋回可能の軸4及び
場合によつてはまたケーシング3は、取付要素5
を介して回り軸6に結合されている。この軸は軸
受12に支持されていて、蒸着装置外の機械的伝
動装置、例えばレバーによつて休止位置A及び供
給位置Bに旋回されうる。旋回可能の軸4には段
階的送りを有する運動要素、本例の場合にはつめ
車が取付けられている。このつめ車は回り軸6が
供給位置Bに旋回すると固定されたつめ9に掛か
り、旋回可能の軸4をつめ車8のピツチに応じて
一つの位置だけ引続き旋回する。すると成形体1
はロール2のケーシング3の間隙11によつてロ
ール2の切欠き10から蒸発器7中に落下する。
次に回り軸6は再び休止位置に旋回されるが、こ
の位置では蒸着装置は、影作用によつて蒸着を不
良にしかつ冷却を要する極端な加熱の影響を受け
ない。蒸発器7近辺にロール2が短時間滞在する
ことによつて加熱された蒸発器7で供給が行なわ
れる。
図面は本発明による装置の略示斜視図である:
1……成形片、2……ロール、3……ケーシン
グ、4……旋回可能の軸、5……取付要素、6…
…回り軸、7……蒸発器、8……運動要素、9…
…つめ、10……切欠き、11……間隙、13…
…伝動装置。
グ、4……旋回可能の軸、5……取付要素、6…
…回り軸、7……蒸発器、8……運動要素、9…
…つめ、10……切欠き、11……間隙、13…
…伝動装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 蒸着材料から成る成形片を蒸着装置の蒸発器
に供給するための装置において、該装置が、成形
片1を載置するために切欠き10を有し、旋回可
能の軸4上で安心されかつ密接に取付けられてい
るケーシング3によつて包囲されたロール2、軸
4に取付けられていて、段階的送りを有する運動
要素8及び休止位置ならびに供給位置に移動可能
で、取付要素5を介してロール2を有する軸4が
そこに取付けられている回り軸6から成り、この
際ロール2のケーシング3が成形片1に相応する
間隙11を備えていて、同間隙が回り軸6の供給
位置では蒸発器7の真上に存在することを特徴と
する蒸着材料を蒸発器に供給するための装置。 2 運動要素8が、回り軸6が供給位置に旋回す
ると固定されたつめ9に掛かるつめ車として形成
されている特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 軸4上に蒸発器7の数に応じて数個のロール
2の装置されている特許請求の範囲第1又は第2
項記載の装置。 4 回り軸6が蒸着装置から引出されかつ装置外
に機械的伝動装置13が設けられている特許請求
の範囲第1〜3項のいづれか1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE32008481 | 1982-01-14 | ||
DE3200848A DE3200848C2 (de) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | Vorrichtung zum Beschicken von Verdampfern in Aufdampfanlagen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58123871A JPS58123871A (ja) | 1983-07-23 |
JPH032946B2 true JPH032946B2 (ja) | 1991-01-17 |
Family
ID=6152998
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58001248A Granted JPS58123871A (ja) | 1982-01-14 | 1983-01-10 | 蒸着装置の蒸発器に材料を供給するための装置 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4470370A (ja) |
EP (1) | EP0084126B1 (ja) |
JP (1) | JPS58123871A (ja) |
AT (1) | ATE15233T1 (ja) |
CA (1) | CA1195489A (ja) |
DE (2) | DE3200848C2 (ja) |
DK (1) | DK154350C (ja) |
ES (1) | ES518945A0 (ja) |
NO (1) | NO161627C (ja) |
YU (1) | YU43110B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4125350A1 (de) * | 1991-07-31 | 1993-02-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum beschichten von werkstueckflaechen |
DE4209428C1 (en) * | 1992-03-24 | 1993-04-15 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | Automatic evapn. of large amts. of material without breaking vacuum - by charging moulded evapn. material from containers into recesses in rollers which then move mouldings to evaporators |
DE19547650A1 (de) * | 1995-12-20 | 1997-06-26 | Henkel Kgaa | Verfahren zum Desinfizieren von Flächen |
US7232588B2 (en) * | 2004-02-23 | 2007-06-19 | Eastman Kodak Company | Device and method for vaporizing temperature sensitive materials |
US20060099344A1 (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-11 | Eastman Kodak Company | Controlling the vaporization of organic material |
KR200465407Y1 (ko) * | 2011-06-14 | 2013-02-18 | 임지홍 | 냉장유지보조품 보관부가 분리구획된 공기튜브식 보조용기 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54157782A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Canon Inc | Evaporating material feeder in vacuum treatment device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE973280C (de) * | 1948-10-02 | 1960-01-07 | Siemens Ag | Durch unmittelbaren Stromdurchgang beheizter, stabfoermiger Verdampfer |
US2635579A (en) * | 1949-12-01 | 1953-04-21 | Nat Res Corp | Coating by evaporating metal under vacuum |
DE1032998B (de) * | 1954-04-03 | 1958-06-26 | Standard Elektrik Ag | Vorrichtung zur Herstellung von duennen Schichten aus mehreren Komponenten |
US2996037A (en) * | 1959-01-26 | 1961-08-15 | Nat Res Corp | Vacuum coating apparatus |
NL291466A (ja) * | 1962-04-13 | |||
US3488214A (en) * | 1967-03-15 | 1970-01-06 | Sperry Rand Corp | Evaporant material control for vapor deposition apparatus |
DE1621361A1 (de) * | 1967-08-01 | 1971-05-13 | Telefunken Patent | Aufdampfvorrichtung |
DE1910332A1 (de) * | 1969-02-28 | 1970-09-10 | Siemens Ag | Hochvakuum-Bedampfungsapparatur |
US4226208A (en) * | 1977-08-04 | 1980-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Vapor deposition apparatus |
-
1982
- 1982-01-14 DE DE3200848A patent/DE3200848C2/de not_active Expired
- 1982-10-20 US US06/435,601 patent/US4470370A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-12-14 EP EP82111605A patent/EP0084126B1/de not_active Expired
- 1982-12-14 AT AT82111605T patent/ATE15233T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-12-14 DE DE8282111605T patent/DE3265909D1/de not_active Expired
- 1982-12-24 YU YU2875/82A patent/YU43110B/xx unknown
- 1982-12-29 NO NO824403A patent/NO161627C/no not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-01-06 DK DK002883A patent/DK154350C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-01-10 JP JP58001248A patent/JPS58123871A/ja active Granted
- 1983-01-13 CA CA000419412A patent/CA1195489A/en not_active Expired
- 1983-01-13 ES ES518945A patent/ES518945A0/es active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54157782A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Canon Inc | Evaporating material feeder in vacuum treatment device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3200848C2 (de) | 1984-09-27 |
DK154350B (da) | 1988-11-07 |
DE3265909D1 (en) | 1985-10-03 |
NO161627B (no) | 1989-05-29 |
ES8400496A1 (es) | 1983-10-16 |
NO824403L (no) | 1983-07-15 |
US4470370A (en) | 1984-09-11 |
EP0084126B1 (de) | 1985-08-28 |
EP0084126A1 (de) | 1983-07-27 |
YU43110B (en) | 1989-02-28 |
DK2883D0 (da) | 1983-01-06 |
YU287582A (en) | 1985-10-31 |
DE3200848A1 (de) | 1983-07-21 |
ES518945A0 (es) | 1983-10-16 |
ATE15233T1 (de) | 1985-09-15 |
NO161627C (no) | 1989-09-06 |
JPS58123871A (ja) | 1983-07-23 |
DK154350C (da) | 1989-04-10 |
CA1195489A (en) | 1985-10-22 |
DK2883A (da) | 1983-07-15 |
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