JPH03252622A - カラー表示装置の製造方法 - Google Patents
カラー表示装置の製造方法Info
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- JPH03252622A JPH03252622A JP2051132A JP5113290A JPH03252622A JP H03252622 A JPH03252622 A JP H03252622A JP 2051132 A JP2051132 A JP 2051132A JP 5113290 A JP5113290 A JP 5113290A JP H03252622 A JPH03252622 A JP H03252622A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ワープロ、ラップトノブコンピューター等、
幅広い用途への応用が可能なカラー表示装置に関するも
のである。
幅広い用途への応用が可能なカラー表示装置に関するも
のである。
［発明の概要１
本発明は、カラーフィルターとその間隙に遮光膜を有す
るカラー表示装置の製造方法において、該遮光膜の製造
工程に基板背面からの露光工程と基板表面からの瞬間的
露光工程を組み合わせることにより、従来より高歩留り
、且つ高品質のカラー表示装置の製造方法を提供するも
のである。
るカラー表示装置の製造方法において、該遮光膜の製造
工程に基板背面からの露光工程と基板表面からの瞬間的
露光工程を組み合わせることにより、従来より高歩留り
、且つ高品質のカラー表示装置の製造方法を提供するも
のである。
し従来の技術］
従来のカラー表示装置のカラーフィルター間隙の遮光膜
の製造方法として、透明電極上に無電解メツキで形成し
たＮｉ膜や、カラーフィルターをフォトマスクとして利
用した背面露光法が考案されている。その−例を第４．
５図に示す。
の製造方法として、透明電極上に無電解メツキで形成し
たＮｉ膜や、カラーフィルターをフォトマスクとして利
用した背面露光法が考案されている。その−例を第４．
５図に示す。
第４図はＮ】膜をフォトマスクとして利用した遮光膜の
製造方法である。バターニングされた透明電極２上に無
電解メツキによりＮｉ膜３を析出さゼる（（ｂ） ）。
製造方法である。バターニングされた透明電極２上に無
電解メツキによりＮｉ膜３を析出さゼる（（ｂ） ）。
ついで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂４を塗布す
る（（ｃ） ）。ついで透明基板１の背面より露光する
（（ｄ））。ついで現像を行い、露光されなかったＮｉ
膜上の感光性樹脂を除去する（（ｅ） ）。ついでＮ
ｉのみをエノヂングする（（ｆ＞ ）。
る（（ｃ） ）。ついで透明基板１の背面より露光する
（（ｄ））。ついで現像を行い、露光されなかったＮｉ
膜上の感光性樹脂を除去する（（ｅ） ）。ついでＮ
ｉのみをエノヂングする（（ｆ＞ ）。
第５図はカラーフィルターをフォトマスクとして利用し
た遮光膜の製造方法である。印刷法、染色決、電着法等
で透明基板１上にカラーフィルタを形成する（（ａ）
）。ついで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂４を
塗布する（（ｂ） ）。
た遮光膜の製造方法である。印刷法、染色決、電着法等
で透明基板１上にカラーフィルタを形成する（（ａ）
）。ついで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂４を
塗布する（（ｂ） ）。
ついで基板２の背面より露光する（（Ｃ） ）。ついで
現像を行い、露光されなかったカラーフィルター１−の
感光性樹脂を除去する（（ｄ））。
現像を行い、露光されなかったカラーフィルター１−の
感光性樹脂を除去する（（ｄ））。
上記方法によれば、遮光１１りのためのフォＩ・マスク
が不要であるのはもらろんのこと、さらにフォＩ・マス
クと基板とのアライメント工程を除去でき、また極めて
高精度の遮光膜を形成できるため、従来の製造方法より
簡便な製造工程で、高品質なカラー表示装置を、高歩留
りで製造することが可能である。
が不要であるのはもらろんのこと、さらにフォＩ・マス
クと基板とのアライメント工程を除去でき、また極めて
高精度の遮光膜を形成できるため、従来の製造方法より
簡便な製造工程で、高品質なカラー表示装置を、高歩留
りで製造することが可能である。
［発明が解決しようとする課題］
しかし背面からの露光は、感光性樹脂の光による重合が
基板側から開始するため、現像後の膜厚は露光量に比例
する。従って平行光を使っても、基板による光の散乱や
カラーフィルターからの光の回り込み等により露光量に
バラツキができ、その結果感光１１樹脂ずなわち遮光膜
の膜厚バラツキが生しる。このことは、歩留りの低下だ
けでなく、表示品質低下の原因となる。
基板側から開始するため、現像後の膜厚は露光量に比例
する。従って平行光を使っても、基板による光の散乱や
カラーフィルターからの光の回り込み等により露光量に
バラツキができ、その結果感光１１樹脂ずなわち遮光膜
の膜厚バラツキが生しる。このことは、歩留りの低下だ
けでなく、表示品質低下の原因となる。
［課題を解決するだめの手段］
上記問題点を解決するため、基板背面からの露光工程の
前または後に基板表面からの瞬間的露光工程を加えた。
前または後に基板表面からの瞬間的露光工程を加えた。
［作用］
基板表面からの瞬間的露光により感光性樹脂表面が重合
するため、その膜厚は感光性樹脂を基板に塗布した時の
状態に保たれる。すなわち露光量には依存せず、均一な
膜厚の遮光膜が得られる。
するため、その膜厚は感光性樹脂を基板に塗布した時の
状態に保たれる。すなわち露光量には依存せず、均一な
膜厚の遮光膜が得られる。
なおりラーフィルターやＮｉ膜上の感光性樹脂にも瞬間
的露光が行われることになるが、この部分は背面からの
露光を受りていないため表面のほんの一部が重合しただ
けであり、従っていわゆるリフトオフと同様に現像時に
剥離されてしまう。
的露光が行われることになるが、この部分は背面からの
露光を受りていないため表面のほんの一部が重合しただ
けであり、従っていわゆるリフトオフと同様に現像時に
剥離されてしまう。
以下実施例により、本発明を詳説する。
［実施例１］
第１図をもとに説明する。
■ 透明基板１上にＩＴＯを蒸着し、表示パタんにエツ
チングを行う（ａ）。
チングを行う（ａ）。
■ 無電解メツキによりＩｒＯ２十にＮｉ膜３を析出さ
セる（ｂ）。
セる（ｂ）。
■ 」―記基板に、フタロシアニン系顔料とアントラキ
ノン系顔料を分散させて黒色にしたネガ型感光性樹脂を
スピンコーターにより塗布し、８０’Ｃ１１０分ヘーキ
ングする（Ｃ）。
ノン系顔料を分散させて黒色にしたネガ型感光性樹脂を
スピンコーターにより塗布し、８０’Ｃ１１０分ヘーキ
ングする（Ｃ）。
■ 上記基板を基板背面より露光する（ｄ）。
■ 上記基板を基板表面より２秒間露光するくｅ）
■ 上記基（反を現像液に浸漬し、未感光部ずなわちＮ
ｉ膜上の感光性樹脂を除去し、２００°Ｃ６０分ヘ−キ
ングする（ｆ）。
ｉ膜上の感光性樹脂を除去し、２００°Ｃ６０分ヘ−キ
ングする（ｆ）。
■ 上記基板を４０χＨＮＯ３中に浸漬し、Ｎｉをエツ
チングする（ｇ）。
チングする（ｇ）。
■ 電着法によりＩＴＯ上にカラーフィルター６を形成
する（ｈ）。
する（ｈ）。
以上の工程で得られたカラーフィルター基板の遮光膜は
、膜厚バラツキが０．１μｍ以下であった。このカラー
フィルター基板を用いて、第３図のごとく液晶表示装置
を作製したところ、高品質の表示装置を高い歩留りで製
造することが出来た。
、膜厚バラツキが０．１μｍ以下であった。このカラー
フィルター基板を用いて、第３図のごとく液晶表示装置
を作製したところ、高品質の表示装置を高い歩留りで製
造することが出来た。
なお、」二記工程の■と■は順番を逆にしても同様な効
果が得られた。
果が得られた。
［実施例２］
実施例１の製造工程において、感光性樹脂として被染色
性樹脂であるゼラチンを使用し、Ｎｉエツチング後に黒
色染料で染色して液晶表示装置を作製したところ、実施
例１と同様の効果が得られた。なおこの場合は、感光性
樹脂が透明なため、瞬間露光の時間は１秒以下で十分で
あった。
性樹脂であるゼラチンを使用し、Ｎｉエツチング後に黒
色染料で染色して液晶表示装置を作製したところ、実施
例１と同様の効果が得られた。なおこの場合は、感光性
樹脂が透明なため、瞬間露光の時間は１秒以下で十分で
あった。
［実施例３］
第２図をもとに説明する。
■ 染色法で透明基板１上にカラーフィルター６を形成
する（ａ）。
する（ａ）。
■ 上記基板に、感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂
４をスピンコーターにより塗布し、ヘーキングする（
Ｃ）。
４をスピンコーターにより塗布し、ヘーキングする（
Ｃ）。
■ 上記基板を基板背面より露光する（ｄ）。
■ 上記基板を基板表面より１〜２秒間露光する（ｅ）
■ 」二記基板を現像液に浸漬し、未感光部ずなわらカ
ラーフィルター上の感光性樹脂を除去し、２００°ｃ６
０分ヘ−キングする（ｅ）。
ラーフィルター上の感光性樹脂を除去し、２００°ｃ６
０分ヘ−キングする（ｅ）。
以上の工程で得られたカラーフィルター基板を用いて、
実施例１と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、
高品質の表示装置を高い歩留りで製造することが出来た
。
実施例１と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、
高品質の表示装置を高い歩留りで製造することが出来た
。
［発明の効果］
以上詳説したごとく、本発明は、カラーフィルターとそ
の間隙に遮光膜を有するカラー表示装置の製造方法にお
いて、該遮光膜の製造工程に基板背面からの露光工程と
基板表面からの瞬間的露光工程を組み合わせることによ
り遮光膜の膜厚を均一化し、従来より高歩留り、珪つ高
品質のカラ表示装置の製造方法を提供するものである。
の間隙に遮光膜を有するカラー表示装置の製造方法にお
いて、該遮光膜の製造工程に基板背面からの露光工程と
基板表面からの瞬間的露光工程を組み合わせることによ
り遮光膜の膜厚を均一化し、従来より高歩留り、珪つ高
品質のカラ表示装置の製造方法を提供するものである。
遮光膜製造方法模式１程図、第３図は本発明によるカラ
ー表示装置の一実施例の断面模式図、第４図（ａｌ〜＋
ｆ）及び第５図＋ａｌ〜Ｆｄｌは従来の遮光膜製造方法
の模式１程図を示すものである。
ー表示装置の一実施例の断面模式図、第４図（ａｌ〜＋
ｆ）及び第５図＋ａｌ〜Ｆｄｌは従来の遮光膜製造方法
の模式１程図を示すものである。
１・・・・・ガラス基板
２・ ・・・透明電極
３・ ・・・Ｎｉ膜
４・・・・・透明電極
５・・・・・遮光膜
６・・・・・カラーフィルタ
７・・・・・偏光板
８・・・・・液晶
以」二
Claims (1)
- カラーフィルターとその間隙に遮光膜を有するカラー表
示装置の製造方法において、該遮光膜の製造工程に基板
背面からの露光工程と基板表面からの瞬間的露光工程を
含むことを特徴とするカラー表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2051132A JPH03252622A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2051132A JPH03252622A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252622A true JPH03252622A (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12878293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2051132A Pending JPH03252622A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03252622A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5418094A (en) * | 1991-12-17 | 1995-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
| US6352804B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Black matrix of resin, method for producing the same, method for producing color filter using the same, and liquid crystal element produced by the same color filter production method |
-
1990
- 1990-03-01 JP JP2051132A patent/JPH03252622A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5418094A (en) * | 1991-12-17 | 1995-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
| US5516606A (en) * | 1991-12-17 | 1996-05-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
| US6352804B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Black matrix of resin, method for producing the same, method for producing color filter using the same, and liquid crystal element produced by the same color filter production method |
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