JPH03251801A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH03251801A JPH03251801A JP2050491A JP5049190A JPH03251801A JP H03251801 A JPH03251801 A JP H03251801A JP 2050491 A JP2050491 A JP 2050491A JP 5049190 A JP5049190 A JP 5049190A JP H03251801 A JPH03251801 A JP H03251801A
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- Pending
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- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は反射防止膜に関する。
[従来の技術]
反射防止膜はレンズやプリズム等の透明な光学部品の表
面による反射を防止するために用いられ、従来から種々
のものが提案されている。
面による反射を防止するために用いられ、従来から種々
のものが提案されている。
可視光領域で比較的に低く且つ平坦な反射率を持つ反射
防止膜としては従来から、中心波長λに対しλ/2の光
学的厚さを持った層を、λ/4の光学的厚さをもった層
で挟むようにした3層構造のものが知られている(特開
昭58−60701号公報)。
防止膜としては従来から、中心波長λに対しλ/2の光
学的厚さを持った層を、λ/4の光学的厚さをもった層
で挟むようにした3層構造のものが知られている(特開
昭58−60701号公報)。
また近来、プラスチックレンズを初めとしてプラスチッ
クの光学部品が広く実用化されつつあるがプラスチック
の光学部品は帯電しやすく、微塵等が静電的に吸着され
て汚れやすいという問題がある。
クの光学部品が広く実用化されつつあるがプラスチック
の光学部品は帯電しやすく、微塵等が静電的に吸着され
て汚れやすいという問題がある。
このような帯電の問題を解消するために上記3層構造の
反射防止膜の真中の層を、In2O3,ITO,5n0
2、ZnO等の導電性材料で形成することが提案されて
いる(特開平1−180501号公報)。
反射防止膜の真中の層を、In2O3,ITO,5n0
2、ZnO等の導電性材料で形成することが提案されて
いる(特開平1−180501号公報)。
[発明が解決しようとする課題]
上記3層構造の反射防止膜は、真中の層の光学的厚さが
中心波長λ。の1/2倍と大きく、この層を形成するの
に長時間を要し、結果的に反射防止膜形成のコストが高
くなる。
中心波長λ。の1/2倍と大きく、この層を形成するの
に長時間を要し、結果的に反射防止膜形成のコストが高
くなる。
また帯電防止のために上記真中の層に導電性の材料を用
いると、この真中の層の光吸収率が大きくなるため光学
部品の光透過率は60〜70%程度と低くなり反射防止
膜の効果を十分に生かすことができない。
いると、この真中の層の光吸収率が大きくなるため光学
部品の光透過率は60〜70%程度と低くなり反射防止
膜の効果を十分に生かすことができない。
本発明は上述した事情に艦みてなされたものであって、
比較的低コストで作製でき、しかも光学部品の帯電の問
題を有効に解決でき、尚且つ可視光全領域で良好な反射
防止機能を持つ新規な反射防止膜の提供を目的とする。
比較的低コストで作製でき、しかも光学部品の帯電の問
題を有効に解決でき、尚且つ可視光全領域で良好な反射
防止機能を持つ新規な反射防止膜の提供を目的とする。
[課題を解決するための手段]
以下、本発明を説明する。
本発明の反射防止膜は「1.4〜1.9の範囲内の屈折
率を有する透明な光学部品の入射面および/または射出
面に設けられる反射防止膜」であって、光学部品の表面
側から順次、第1乃至第3層を積層してなる。従って第
1層は光学部品表面に接し、第3層は空気に接する。
率を有する透明な光学部品の入射面および/または射出
面に設けられる反射防止膜」であって、光学部品の表面
側から順次、第1乃至第3層を積層してなる。従って第
1層は光学部品表面に接し、第3層は空気に接する。
「第1層」は屈折率1.2〜1.9の低屈折率材料によ
り光学的厚さが、中心波長をλ0として(λ。/4)の
1.0〜1.6倍であるように形成される。
り光学的厚さが、中心波長をλ0として(λ。/4)の
1.0〜1.6倍であるように形成される。
「第2層」は金属を含み屈折率1.5〜2.5の高屈折
率材料により光学的厚さが、(λ。/4)の0.1〜1
.5倍であるように形成される。
率材料により光学的厚さが、(λ。/4)の0.1〜1
.5倍であるように形成される。
「第3層Jは屈折率1.2〜1.9の低屈折率材料によ
り光学的厚さが(λ。/4)の0.9〜1.6倍である
ように形成される。
り光学的厚さが(λ。/4)の0.9〜1.6倍である
ように形成される。
本発明の反射防止膜は、一般には光学部品の入射面と射
出面とに設けられる。このようにすることにより光学部
品の光透過率を高めることができる。光学部品の用途に
よっては入射面・射出面のうちの一方にのみ設ける場合
もあり得る。また光学部品がコーナーキューブのような
場合には入射面が同じに射出面であるのでこの場合は射
出面を兼ねた入射面に設けることになる。
出面とに設けられる。このようにすることにより光学部
品の光透過率を高めることができる。光学部品の用途に
よっては入射面・射出面のうちの一方にのみ設ける場合
もあり得る。また光学部品がコーナーキューブのような
場合には入射面が同じに射出面であるのでこの場合は射
出面を兼ねた入射面に設けることになる。
[作 用]
本発明の反射防止膜は上述のように3層構造であるが、
各層の光学的厚さは中心波長λ。の1/4倍を単位とし
て平均して上記単位の0.1〜1.6倍程度であるから
各層の形成に然程の長時間を要しない。
各層の光学的厚さは中心波長λ。の1/4倍を単位とし
て平均して上記単位の0.1〜1.6倍程度であるから
各層の形成に然程の長時間を要しない。
また第2層は金属を含む材料で構成されるから反射防止
膜を低電気抵抗に形成できる。
膜を低電気抵抗に形成できる。
本発明の反射防止膜の基本的構成を第1.第3図と第5
図を参照して具体的に説明する。
図を参照して具体的に説明する。
第1図で、符号1は透明な平行平板を示す。この平行平
板は具体的には屈折率1.49の透明ポリメチルメタア
クリレート(以下PMMAと略記する)で形成されてい
る。
板は具体的には屈折率1.49の透明ポリメチルメタア
クリレート(以下PMMAと略記する)で形成されてい
る。
平行平板1の両面には本発明の反射防止膜8゜9が形成
されている。これら反射防止膜8,9は3層構造であり
、反射防止膜8は第1層2.第2層3.第3層4により
構成され、反射防止膜9は第1層5.第2層6.第3層
7により構成されている。
されている。これら反射防止膜8,9は3層構造であり
、反射防止膜8は第1層2.第2層3.第3層4により
構成され、反射防止膜9は第1層5.第2層6.第3層
7により構成されている。
第1層2.5は、屈折率1.5〜1.8の屈折率を持つ
SiOを材料として形成され光学的厚さは中心波長λ。
SiOを材料として形成され光学的厚さは中心波長λ。
=420〜430nmに対して(λ。/4)の1.3〜
1.4倍に形成される。
1.4倍に形成される。
なお第1層の材料中には主材料たるSiOの他に81が
混入しており、このSiの混入量の変動により屈折率が
1.5〜1.9の範囲で変動する。
混入しており、このSiの混入量の変動により屈折率が
1.5〜1.9の範囲で変動する。
第2層3,6は屈折率1.95〜2.05を持ツ■n2
03の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。=400
〜600nmに対しくλ。/4)の0.1〜1.5倍で
ある。
03の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。=400
〜600nmに対しくλ。/4)の0.1〜1.5倍で
ある。
第2層の材料が「金属」を含むとは、このような酸化物
の形で含む場合をも包含する。
の形で含む場合をも包含する。
第3層4,7は屈折率1.2〜1.5の屈折率を持つ5
102を材料として形成され光学的厚さは中心波長λo
・540〜560nmに対して(λ。/4)の0.9〜
1.2倍に形成される。
102を材料として形成され光学的厚さは中心波長λo
・540〜560nmに対して(λ。/4)の0.9〜
1.2倍に形成される。
従って屈折率の大小関係は、第1層が低屈折率、第2層
が高屈折率、第3層が低屈折率である。
が高屈折率、第3層が低屈折率である。
第1図のように反射防止膜8,9を形成されたPM島の
平行平板に光を照射した場合の分光反射率は第3図に示
す如くであり、分光透過率は第5図に示す如くである。
平行平板に光を照射した場合の分光反射率は第3図に示
す如くであり、分光透過率は第5図に示す如くである。
これらの図から明かなように、可視光の全域にわたって
反射率は1%以下、透過率は98%以上である。表面電
気抵抗率は108Ω/口以下である。
反射率は1%以下、透過率は98%以上である。表面電
気抵抗率は108Ω/口以下である。
[実施例コ
以下、具体的な実施例を説明する。
第2図に於いて符号11はPMMAで形成されたレンズ
を示している。
を示している。
レンズ11の両面に反射防止膜18.19が形成されて
いる。
いる。
反射防止膜18は、第1層12.第2層13.第3層1
4により構成され、反射防止膜19は、第1層15.第
2層16.第3層17により構成されている。
4により構成され、反射防止膜19は、第1層15.第
2層16.第3層17により構成されている。
第1層12.15は、屈折率1.60〜1.80の屈折
率を持つSiOを材料として形成され光学的厚さは中心
波長λ。=420〜430nmに対して(λ(、/4)
の1.3〜1.5倍に形成される。
率を持つSiOを材料として形成され光学的厚さは中心
波長λ。=420〜430nmに対して(λ(、/4)
の1.3〜1.5倍に形成される。
第2層13.16は屈折率1.95〜2.05を持つI
n2O:+の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。=
400〜600nmに対しくλ。/4)の0.3〜0.
5倍である。
n2O:+の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。=
400〜600nmに対しくλ。/4)の0.3〜0.
5倍である。
第3層14.17は屈折率1.30〜1.50の屈折率
を持つSiO□を材料として形成され光学的厚さは中心
波長λ。=540〜5800mに対して(λ。/4)の
1.0〜1.2倍に形成される。
を持つSiO□を材料として形成され光学的厚さは中心
波長λ。=540〜5800mに対して(λ。/4)の
1.0〜1.2倍に形成される。
この実施例光学部品に於ける分光反射率を第4図に示す
。
。
可視光の広範な領域に於いて反射率は1%以下である。
またこの実施例でも透過率は可視光の広範な領域で98
%以上で、表面電気抵抗率は108Ω/四以下であった
。
%以上で、表面電気抵抗率は108Ω/四以下であった
。
[発明の効果〕
以上、本発明によれば新規な反射防止膜を提供できる。
この反射防止膜は上記の如く構成されているから、低コ
ストでの作製が可能であり、光学部品の帯電を良好に防
止でき、尚且つ可視光の広範な領域で極めて高い透過率
と良好な反射防止機能とを実現できる。
ストでの作製が可能であり、光学部品の帯電を良好に防
止でき、尚且つ可視光の広範な領域で極めて高い透過率
と良好な反射防止機能とを実現できる。
第1図は本発明の反射防止膜の基本構成を説明するため
の図、第2図は本発明の1実施例を説明するための図、
第3図及び第4図は第1図及び第2図に対応した分光反
射率特性を示す図、第5図は第1図に対応した分光透過
率特性を示す図である。 11、、、光学部品としてのPMMAのレンズ、18.
19. 、 。 反射防止膜、12.15. 、 、第1層、13,16
.、、第2層、hδ 図 艮1年(%) 馬 図 反亭μ!y、) 00 .500 00 00 漫を値m) 透過教%) 崖 ρ 図
の図、第2図は本発明の1実施例を説明するための図、
第3図及び第4図は第1図及び第2図に対応した分光反
射率特性を示す図、第5図は第1図に対応した分光透過
率特性を示す図である。 11、、、光学部品としてのPMMAのレンズ、18.
19. 、 。 反射防止膜、12.15. 、 、第1層、13,16
.、、第2層、hδ 図 艮1年(%) 馬 図 反亭μ!y、) 00 .500 00 00 漫を値m) 透過教%) 崖 ρ 図
Claims (1)
- 1.4〜1.9の範囲内の屈折率を有する透明な光学部
品の入射面および/または射出面に設けられる反射防止
膜であつて、 光学部品の表面側から順次、第1乃至第3層を積層して
なり、 第1層は屈折率1.2〜1.9の低屈折率材料により光
学的厚さが、中心波長をλ_0として(λ_0/4)の
1.0〜1.6倍であるように形成され、 第2層は金属を含み屈折率1.5〜2.5の高屈折率材
料により光学的厚さが、(λ_0/4)の0.1〜1.
5倍であるように形成され、 第3層は屈折率1.2〜1.9の低屈折率材料により光
学的厚さが(λ_0/4)の0.9〜1.6倍であるよ
うに形成されたことを特徴とする、反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2050491A JPH03251801A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2050491A JPH03251801A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03251801A true JPH03251801A (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12860398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2050491A Pending JPH03251801A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03251801A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1249717A2 (en) * | 2001-04-10 | 2002-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Antireflection coating and optical element using the same |
JPWO2005059602A1 (ja) * | 2003-12-18 | 2007-12-13 | 旭硝子株式会社 | 光吸収性反射防止体 |
-
1990
- 1990-03-01 JP JP2050491A patent/JPH03251801A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1249717A2 (en) * | 2001-04-10 | 2002-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Antireflection coating and optical element using the same |
EP1249717A3 (en) * | 2001-04-10 | 2005-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Antireflection coating and optical element using the same |
JPWO2005059602A1 (ja) * | 2003-12-18 | 2007-12-13 | 旭硝子株式会社 | 光吸収性反射防止体 |
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