JPH03236144A - 冷陰極画像表示装置 - Google Patents
冷陰極画像表示装置Info
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- JPH03236144A JPH03236144A JP2997790A JP2997790A JPH03236144A JP H03236144 A JPH03236144 A JP H03236144A JP 2997790 A JP2997790 A JP 2997790A JP 2997790 A JP2997790 A JP 2997790A JP H03236144 A JPH03236144 A JP H03236144A
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- gate electrode
- dielectric layer
- electrode strip
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Links
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Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、冷陰極尖端から放射された放射電子流を蛍光
体に照射し、この蛍光体からの光により画像を表示する
冷陰極画像表示装置に関するものである。
体に照射し、この蛍光体からの光により画像を表示する
冷陰極画像表示装置に関するものである。
第2図は、アイイーイーイー トランザクションズ オ
ブ エレクトロン デバイシズ(IEEETransa
ctions of Electron Device
s、 36 [月(1989−1)、 C,A、5pi
ndt、 ”Field−Emitter Array
s^pplied to Vacuun+ Fluor
escent Display” P、225−227
)に記載された従来の冷陰極画像表示装置の一部分を
示す構成図である。
ブ エレクトロン デバイシズ(IEEETransa
ctions of Electron Device
s、 36 [月(1989−1)、 C,A、5pi
ndt、 ”Field−Emitter Array
s^pplied to Vacuun+ Fluor
escent Display” P、225−227
)に記載された従来の冷陰極画像表示装置の一部分を
示す構成図である。
第2図に示される従来の装置においては、酸化膜2で覆
われたSi基板1上にベース電極(陰極)3が形成され
、その上に絶縁膜4を介してゲート電極5が形成されて
いる。そして、ゲート電極5に数十から数百個の電極孔
6が形成されており、電極孔6内には円錐突起状に形成
された冷陰極尖端(図示せず)が形成されている。
われたSi基板1上にベース電極(陰極)3が形成され
、その上に絶縁膜4を介してゲート電極5が形成されて
いる。そして、ゲート電極5に数十から数百個の電極孔
6が形成されており、電極孔6内には円錐突起状に形成
された冷陰極尖端(図示せず)が形成されている。
一方、スペーサ7を挾んで基板lに対向して配置された
透明な前面基板8は、基板1に対向する側の面上にIT
O等よりなる透明導電膜(陽極)9を有し、その上に蛍
光色の異なる3種の蛍光体層10が形成されている。
透明な前面基板8は、基板1に対向する側の面上にIT
O等よりなる透明導電膜(陽極)9を有し、その上に蛍
光色の異なる3種の蛍光体層10が形成されている。
ここで第3図は、ジャーナル オブ アプライド フィ
ジックス(Journal of Applied P
hysics、 47 [12] (1976−12)
(米)AIleriCan In5tituteof
physics、 C,A、5pindt、 ”P
hysical propertiesof ttli
n−filll field eflissiOn C
athOdeSwithIIolybdenun+ c
ones”、 P、5248−5263)に記載の冷陰
極画像表示装置の冷陰極尖端部分を示す断面図である。
ジックス(Journal of Applied P
hysics、 47 [12] (1976−12)
(米)AIleriCan In5tituteof
physics、 C,A、5pindt、 ”P
hysical propertiesof ttli
n−filll field eflissiOn C
athOdeSwithIIolybdenun+ c
ones”、 P、5248−5263)に記載の冷陰
極画像表示装置の冷陰極尖端部分を示す断面図である。
そして、ここに示される冷陰極尖端は第2図では詳細が
示されていない符号6部分に適用できるものである。第
3図に示されているように、かかる装置においてはSi
基板11上に、5i02よりなる絶縁膜12が形成され
、さらに絶縁膜12の空洞部12aの中央に円錐突起状
の冷陰極尖端13が形成されている。また、絶縁膜12
上には冷陰極尖端13の先端部分を囲う電極孔14aを
有するゲートtgit4が備えられている。
示されていない符号6部分に適用できるものである。第
3図に示されているように、かかる装置においてはSi
基板11上に、5i02よりなる絶縁膜12が形成され
、さらに絶縁膜12の空洞部12aの中央に円錐突起状
の冷陰極尖端13が形成されている。また、絶縁膜12
上には冷陰極尖端13の先端部分を囲う電極孔14aを
有するゲートtgit4が備えられている。
そして、第2図に示されるように、ゲート電極5のベー
ス電vf13と交差する部分の電極孔内に形成された冷
陰極尖端13から電子を放出させるなめに107V/c
ri程度の強電界を印加して、冷陰極尖端13から電子
流を放出させ、この放射電子流を透明導電膜(第2図の
符号9)で加速し集合させ蛍光体層(第2図の符号10
)に照射して画像を表示している。
ス電vf13と交差する部分の電極孔内に形成された冷
陰極尖端13から電子を放出させるなめに107V/c
ri程度の強電界を印加して、冷陰極尖端13から電子
流を放出させ、この放射電子流を透明導電膜(第2図の
符号9)で加速し集合させ蛍光体層(第2図の符号10
)に照射して画像を表示している。
しかしながら、上記従来例において冷陰極尖端からゲー
ト電極5に流れ込む放射電子流を低減させるためにゲー
ト電極5の厚さを薄くする対策をとると(ゲート電極5
が厚い場合には、冷陰極尖端からの無指向性に近い放射
電子流がゲート電極5に流入される割合が大きくなる)
、ゲート電極5の抵抗値が増大し、ゲート電極5におけ
る伝送損失による輝度むらが生じて画質を低下させると
いう問題があった。
ト電極5に流れ込む放射電子流を低減させるためにゲー
ト電極5の厚さを薄くする対策をとると(ゲート電極5
が厚い場合には、冷陰極尖端からの無指向性に近い放射
電子流がゲート電極5に流入される割合が大きくなる)
、ゲート電極5の抵抗値が増大し、ゲート電極5におけ
る伝送損失による輝度むらが生じて画質を低下させると
いう問題があった。
また、第2図に示されるように、従来の構造においては
、ゲート電極5とベース電極3との交差部の面積が大き
いので、この交差部における電極間の静電容量が大きく
なり、例えば、画素数が多く高画質化の図られた装置の
ように交差点数が多い場合には、直交する両電極間の結
合漏話が大きくなり画質に悪影響を与える問題があった
。
、ゲート電極5とベース電極3との交差部の面積が大き
いので、この交差部における電極間の静電容量が大きく
なり、例えば、画素数が多く高画質化の図られた装置の
ように交差点数が多い場合には、直交する両電極間の結
合漏話が大きくなり画質に悪影響を与える問題があった
。
さらに、上記従来例においてはベース電極3及びゲート
電極5と共に伝送線路を構成する他の対向電極はSi基
板1とみなすことができるが(他の対向電極としては透
明導電膜9もあるが、透明導電膜9までの距離dはSi
基板1までの距[dさが0.1μm程度であることを考
慮すると透明導電膜9が伝送特性に及ぼす影響は無視で
きるほど小さい)、si基板の導電率は画像信号の最高
周波数が10MHz程度の場合に導電率が10−2Ω・
C11程度と小さいため(但し、Si基板における表皮
効果深さδは200μm程度であり画像信号がSi基板
の厚さの全域に亘って流れるので導電率の低さは幾分緩
和される)、非常に大きな減衰が生じるという問題があ
った。
電極5と共に伝送線路を構成する他の対向電極はSi基
板1とみなすことができるが(他の対向電極としては透
明導電膜9もあるが、透明導電膜9までの距離dはSi
基板1までの距[dさが0.1μm程度であることを考
慮すると透明導電膜9が伝送特性に及ぼす影響は無視で
きるほど小さい)、si基板の導電率は画像信号の最高
周波数が10MHz程度の場合に導電率が10−2Ω・
C11程度と小さいため(但し、Si基板における表皮
効果深さδは200μm程度であり画像信号がSi基板
の厚さの全域に亘って流れるので導電率の低さは幾分緩
和される)、非常に大きな減衰が生じるという問題があ
った。
即ち、伝送線路の単位長さ当たりの抵抗値をR(Ω/C
11)、伝送線路の特性インピーダンスを20としたと
きに、次式(1)で与えられる減衰定数αが大きいとい
う問題があった。
11)、伝送線路の特性インピーダンスを20としたと
きに、次式(1)で与えられる減衰定数αが大きいとい
う問題があった。
α=4.35R/Zo [dB/c11〕 −・・式
(1)ここで、誘電体の厚さをh、伝送線路の幅をW、
基板導電体と伝送線路との間の誘電体層の比誘電・・・
式(2) さらにまた、例えば、ゲート電極5に伝送される信号に
対して流れるSi基板1側の電流は、ゲート電極5を構
成する線路間隔よりもはるかに深い範囲にまで拡がって
おり、かかる電流の拡がりが両線路間に結合コンダクタ
ンスを形成することになり、これが両線路間の結合漏話
を引き起こす問題があった。
(1)ここで、誘電体の厚さをh、伝送線路の幅をW、
基板導電体と伝送線路との間の誘電体層の比誘電・・・
式(2) さらにまた、例えば、ゲート電極5に伝送される信号に
対して流れるSi基板1側の電流は、ゲート電極5を構
成する線路間隔よりもはるかに深い範囲にまで拡がって
おり、かかる電流の拡がりが両線路間に結合コンダクタ
ンスを形成することになり、これが両線路間の結合漏話
を引き起こす問題があった。
そこで、本発明は上記した従来技術の課題を解決するた
めになされたものであり、その目的とするところは、電
圧降下や結合漏話による画質の劣化の少ない高画質な表
示ができる冷陰極画像表示装置を提供することにある。
めになされたものであり、その目的とするところは、電
圧降下や結合漏話による画質の劣化の少ない高画質な表
示ができる冷陰極画像表示装置を提供することにある。
また、他の発明においては、電圧降下や結合漏話による
画質の劣化のさらに少ない高画質な表示ができる冷陰極
画像表示装置を提供することをも目的とする。
画質の劣化のさらに少ない高画質な表示ができる冷陰極
画像表示装置を提供することをも目的とする。
本発明に係る冷陰極画像表示装置は、第一の誘電*層と
、上記第一の誘電体層上にストライプ状に備えられた複
数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体
層上であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路
の間に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続
された複数のベース電極分岐部と、上記ベース電極分岐
部上に突起状に形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖
端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、上記ベース電
極ストリップ′a路、及び上記ベース電極分岐部上に備
えられた第二の誘電体層と、上記第二の誘電体層上に上
記ベース電極ストリップ線路に直交する方向に延びるス
トライプ状に備えられた複数本のゲート電極ストリップ
線路と、上記冷陰極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上
記複数本のゲート電極ストリップ線路の間であって上記
ベース電極分岐部上に備えられ、上記ゲート電極ストリ
ップ線路に接続された複数のゲート電極分岐部と、所定
間隔をあけて上記冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰
極尖端から放射される電子流を所定方向に導く陽極電極
と、上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体
とを有することによって構成されている。
、上記第一の誘電体層上にストライプ状に備えられた複
数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体
層上であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路
の間に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続
された複数のベース電極分岐部と、上記ベース電極分岐
部上に突起状に形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖
端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、上記ベース電
極ストリップ′a路、及び上記ベース電極分岐部上に備
えられた第二の誘電体層と、上記第二の誘電体層上に上
記ベース電極ストリップ線路に直交する方向に延びるス
トライプ状に備えられた複数本のゲート電極ストリップ
線路と、上記冷陰極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上
記複数本のゲート電極ストリップ線路の間であって上記
ベース電極分岐部上に備えられ、上記ゲート電極ストリ
ップ線路に接続された複数のゲート電極分岐部と、所定
間隔をあけて上記冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰
極尖端から放射される電子流を所定方向に導く陽極電極
と、上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体
とを有することによって構成されている。
また、他の発明に係る冷陰極画像表示装置は、導電性基
板と、上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と
、上記第一の誘電体層上にストライプ状に備えられた複
数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体
層上であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路
の間に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続
された複数のベース電極分岐部と、上記ベース電極分岐
部上に突起状に形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖
端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、上記ベース電
極ストリップ線路、及び上記ベース電極分岐部上に備え
られた第二の誘電体層と、上記第二の誘電体層上に上記
ベース電極ストリップ線路に直交する方向に延びるスト
ライプ状に備えられな複数本のゲート電極ストリップ線
路と、上記冷陰極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上記
複数本のゲート電極ストリップ線路の間であって上記ベ
ース電極分岐部上に備えられ、上記ゲート電極ストリッ
プ線路に接続された複数のゲート電極分岐部と、所定間
隔をあけて上記冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰極
尖端から放射される電子流を所定方向に導く陽極電極と
、上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体と
を有することによって構成されている。
板と、上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と
、上記第一の誘電体層上にストライプ状に備えられた複
数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体
層上であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路
の間に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続
された複数のベース電極分岐部と、上記ベース電極分岐
部上に突起状に形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖
端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、上記ベース電
極ストリップ線路、及び上記ベース電極分岐部上に備え
られた第二の誘電体層と、上記第二の誘電体層上に上記
ベース電極ストリップ線路に直交する方向に延びるスト
ライプ状に備えられな複数本のゲート電極ストリップ線
路と、上記冷陰極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上記
複数本のゲート電極ストリップ線路の間であって上記ベ
ース電極分岐部上に備えられ、上記ゲート電極ストリッ
プ線路に接続された複数のゲート電極分岐部と、所定間
隔をあけて上記冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰極
尖端から放射される電子流を所定方向に導く陽極電極と
、上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体と
を有することによって構成されている。
さらに他の発明に係る冷陰極画像表示装置は、導電性基
板と、上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と
、上言己第−の誘電体層上にストライプ状に備えられた
複数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘′
f4体層上であって、上記複数本のベース電極線路の間
に備えられ、上記ベース電極線路に接続された複数のベ
ース電極分岐部と、上記ベース電極分岐部上に突起状に
形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖端を囲う孔を有
し、上記第一の誘電体層、上記ベース電極ストリップ線
路、及び上記ベース電極分岐部上に備えられた第二の誘
電体層と、上記第二の誘電体層上に上記ベース電極スト
リップ線路に直交する方向に延びるストライプ状に備え
られた複数本のゲート電極ストリップ線路と、上記冷陰
極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上記複数本のゲート
電極ストリップ線路の間であって上記ベース電極分岐部
上に備えられ、上記ゲート電極ストリップ線路に接続さ
れた複数のゲート電極分岐部と、所定間隔をあけて上記
冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰極尖端から放射さ
れる電子流を所定方向に導く陽極電極と、上記電子流が
照射されることにより発光する蛍光体とを有し、上記導
電性基板を上記ゲート電極ストリップ線路と上記ベース
電極ストリップ線路に対応させた格子状に形成したこと
をすることによって構成されている。
板と、上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と
、上言己第−の誘電体層上にストライプ状に備えられた
複数本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘′
f4体層上であって、上記複数本のベース電極線路の間
に備えられ、上記ベース電極線路に接続された複数のベ
ース電極分岐部と、上記ベース電極分岐部上に突起状に
形成された冷陰極尖端と、上記冷陰極尖端を囲う孔を有
し、上記第一の誘電体層、上記ベース電極ストリップ線
路、及び上記ベース電極分岐部上に備えられた第二の誘
電体層と、上記第二の誘電体層上に上記ベース電極スト
リップ線路に直交する方向に延びるストライプ状に備え
られた複数本のゲート電極ストリップ線路と、上記冷陰
極尖端を囲うゲート電極孔を有し、上記複数本のゲート
電極ストリップ線路の間であって上記ベース電極分岐部
上に備えられ、上記ゲート電極ストリップ線路に接続さ
れた複数のゲート電極分岐部と、所定間隔をあけて上記
冷陰極尖端に対向配置され、上記冷陰極尖端から放射さ
れる電子流を所定方向に導く陽極電極と、上記電子流が
照射されることにより発光する蛍光体とを有し、上記導
電性基板を上記ゲート電極ストリップ線路と上記ベース
電極ストリップ線路に対応させた格子状に形成したこと
をすることによって構成されている。
本発明においては、第一の誘電体層上にストライプ状に
備えられた複数本のベース電極ストリップ線路と冷陰極
尖端を備えたベース電極分岐部とが別個に形成されてお
り、また、第二の誘電体層上に備えられるストライブ状
のゲート電極ストリップ線路とベース電極分岐部上に備
えられたゲート電極分岐部とが別個に形成されている。
備えられた複数本のベース電極ストリップ線路と冷陰極
尖端を備えたベース電極分岐部とが別個に形成されてお
り、また、第二の誘電体層上に備えられるストライブ状
のゲート電極ストリップ線路とベース電極分岐部上に備
えられたゲート電極分岐部とが別個に形成されている。
このように、ゲート電極ストリップ線路と、冷陰極尖端
から電子流を放出させるゲート$極分岐部とを別個に構
成したので、冷陰極尖端から流れ込むゲート電流の低減
を図る等の理由から伝送線路であるゲート@極ストリッ
プ線路を薄く構成する必要はなく(ゲート電極分岐部の
みを薄く構成すればよい)、よって、ゲート電極ストリ
ップ線路における伝送損失を小さくでき、輝度むらを小
さくできる。
から電子流を放出させるゲート$極分岐部とを別個に構
成したので、冷陰極尖端から流れ込むゲート電流の低減
を図る等の理由から伝送線路であるゲート@極ストリッ
プ線路を薄く構成する必要はなく(ゲート電極分岐部の
みを薄く構成すればよい)、よって、ゲート電極ストリ
ップ線路における伝送損失を小さくでき、輝度むらを小
さくできる。
また、伝送線路と、電子流を放射する分岐部とを別個に
構成しているため、伝送線路の交差面積を小さくでき、
伝送線路としての特性インピーダンスを隣接線路間の結
合漏話を防止できる程度まで大きくすることができる。
構成しているため、伝送線路の交差面積を小さくでき、
伝送線路としての特性インピーダンスを隣接線路間の結
合漏話を防止できる程度まで大きくすることができる。
さらに他の発明に係る冷陰極画像表示装置は、上記作用
に加えて、ゲート電極ストリップ線路とベース電極スト
リップ線路の信号の伝送において、それぞれの線路に対
向する他の対向電極としてグレーズ層を有する導電性の
基板を備えて減衰定数の一層の低減を図り、導電性の基
板を格子状に形成することにより、隣接する線路間の結
合漏話の低減を図っている。
に加えて、ゲート電極ストリップ線路とベース電極スト
リップ線路の信号の伝送において、それぞれの線路に対
向する他の対向電極としてグレーズ層を有する導電性の
基板を備えて減衰定数の一層の低減を図り、導電性の基
板を格子状に形成することにより、隣接する線路間の結
合漏話の低減を図っている。
以下に本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る冷陰極画像表示装置の一実施例の
構成を示す分解斜視図である。
構成を示す分解斜視図である。
同図に示される装置においては、ステンレス等よりなる
導電性の金属基板21上に、ガラス層を塗布・焼成して
形成された厚さ30〜100μm程度のグレーズ層(第
一の誘電体層)22が備えられている。このグレーズ層
22上にはストライブ状に備えられた複数本(図には1
本のみを示す)のベース電極ストリップ線路23aと、
このストリング1lB23aの間に位置しストリップ線
路23aに接続された複数のベース電極分岐部23bと
が備えられている。そして、ベース電極分岐部23b上
には第3図に示されたような冷陰極尖端(第1図には図
示せず)が複数個備えられている。
導電性の金属基板21上に、ガラス層を塗布・焼成して
形成された厚さ30〜100μm程度のグレーズ層(第
一の誘電体層)22が備えられている。このグレーズ層
22上にはストライブ状に備えられた複数本(図には1
本のみを示す)のベース電極ストリップ線路23aと、
このストリング1lB23aの間に位置しストリップ線
路23aに接続された複数のベース電極分岐部23bと
が備えられている。そして、ベース電極分岐部23b上
には第3図に示されたような冷陰極尖端(第1図には図
示せず)が複数個備えられている。
尚、ベース電極23(ベース電極ストリップ線路23a
及びベース電極分岐部23b)は、例えば、厚さ1〜5
μm程度のMo全面成膜の後に、リングラフ技術により
形成される。
及びベース電極分岐部23b)は、例えば、厚さ1〜5
μm程度のMo全面成膜の後に、リングラフ技術により
形成される。
また、上記グレーズ層22とベース電極23上にはS
x O2層(第二の誘電体層)24が重ねて備えられ、
この3102層24のベース電極分岐部23b上の部分
には冷陰極尖端を囲うように、第2図の符号12a部分
と同様な孔が形成されている。尚、第1図では内部形状
を示すためにSiO2層24をベース電極23から離し
て描いているが、実際にはベース電極23上にCVD法
によつS i 02を堆積させて形成されており、電界
により電子を放射する上で必要なベース電極・ゲート電
極間距離(1〜2μm程凌)をSiO3層の厚さにより
確保している。また、このSio2層を、例えば、AJ
Oの第−層とSiO2の第3 二層との複合層としてもよい。
x O2層(第二の誘電体層)24が重ねて備えられ、
この3102層24のベース電極分岐部23b上の部分
には冷陰極尖端を囲うように、第2図の符号12a部分
と同様な孔が形成されている。尚、第1図では内部形状
を示すためにSiO2層24をベース電極23から離し
て描いているが、実際にはベース電極23上にCVD法
によつS i 02を堆積させて形成されており、電界
により電子を放射する上で必要なベース電極・ゲート電
極間距離(1〜2μm程凌)をSiO3層の厚さにより
確保している。また、このSio2層を、例えば、AJ
Oの第−層とSiO2の第3 二層との複合層としてもよい。
さらに、上記3102層24上にはベース電極ストリッ
プ線路23aと直交する方向に延びるようにストライプ
状に備えられた複数本のゲート電極ストリップ線路25
aが形成されている。そして、このゲート@極ストリッ
プ線路25aの間であってベース電極分岐部23bの上
にはMOよりなるゲート電極分岐部25aが備えられお
り、このゲート電極分岐部25aには上記冷陰極尖端を
囲う複数のゲート電極孔(第1図には図示せず)が形成
されている。尚、ゲート電極23は例えば厚さ0.1〜
0.4μm程度のMoにより形成される。
プ線路23aと直交する方向に延びるようにストライプ
状に備えられた複数本のゲート電極ストリップ線路25
aが形成されている。そして、このゲート@極ストリッ
プ線路25aの間であってベース電極分岐部23bの上
にはMOよりなるゲート電極分岐部25aが備えられお
り、このゲート電極分岐部25aには上記冷陰極尖端を
囲う複数のゲート電極孔(第1図には図示せず)が形成
されている。尚、ゲート電極23は例えば厚さ0.1〜
0.4μm程度のMoにより形成される。
さらにまた、第1図には示されていないが、上記冷陰極
尖端から所定間隔をあけて冷陰極尖端から放射される電
子流を所定方向に導く陽極電極としてのITO膜が備え
られ、このITO膜上には蛍光体が備えられており、冷
陰極尖端から放射される電子流が照射されることにより
蛍光体は発光する。
尖端から所定間隔をあけて冷陰極尖端から放射される電
子流を所定方向に導く陽極電極としてのITO膜が備え
られ、このITO膜上には蛍光体が備えられており、冷
陰極尖端から放射される電子流が照射されることにより
蛍光体は発光する。
以上述べたように、本実施例においては、グレーズ層2
2上にストライプ状に備えられた複数本のベース電極ス
トリップ線路23aと冷陰極尖端を備えたベース電極分
岐部23bとが別個に形成されており、ベース電極スト
リップ線路23aに伝送線路としての機能を持たせ、ベ
ース電極分岐部23bに電子流を放射する表示画素とし
ての機能を持たせている。
2上にストライプ状に備えられた複数本のベース電極ス
トリップ線路23aと冷陰極尖端を備えたベース電極分
岐部23bとが別個に形成されており、ベース電極スト
リップ線路23aに伝送線路としての機能を持たせ、ベ
ース電極分岐部23bに電子流を放射する表示画素とし
ての機能を持たせている。
また、S 102層24上に備えられるストライプ状の
ゲート電極ストリップ線路25aとベース電極分岐部2
3b上に備えられたゲート電極分岐部25bも別個に形
成されており、ゲート電極ストリップ線路25aに伝送
線路としての機能を持たせ、ゲート電極分岐部25bに
ベース電極分岐部23b上の冷陰極尖端から電子流を放
射させる機能を持たせている。
ゲート電極ストリップ線路25aとベース電極分岐部2
3b上に備えられたゲート電極分岐部25bも別個に形
成されており、ゲート電極ストリップ線路25aに伝送
線路としての機能を持たせ、ゲート電極分岐部25bに
ベース電極分岐部23b上の冷陰極尖端から電子流を放
射させる機能を持たせている。
このように、ゲート電極ストリップ線路25aと、冷陰
極尖端から電子流を放出させるゲート電極分岐部25b
とを別個に構成したので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部25bに流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由
から伝送線路であるストリップ線路25aを薄く構成す
る必要はなく(ゲート電極分岐部25bのみを薄く構成
すればよい)、ストリップ線路25aにおける伝送損失
を小さくできる。このため、画素間のU度むらを低減で
き画質の向上を図ることができる。
極尖端から電子流を放出させるゲート電極分岐部25b
とを別個に構成したので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部25bに流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由
から伝送線路であるストリップ線路25aを薄く構成す
る必要はなく(ゲート電極分岐部25bのみを薄く構成
すればよい)、ストリップ線路25aにおける伝送損失
を小さくできる。このため、画素間のU度むらを低減で
き画質の向上を図ることができる。
また、ゲート電極分岐部23bを除外してゲート電極ス
トリップ線路23a上にCu等の導電性の高い金属層を
薄膜リフトオフ技術或いは選択メツキ技術で2〜5μm
厚程度形成した構成とすると減衰定数αの一層の低減を
図ることができる。
トリップ線路23a上にCu等の導電性の高い金属層を
薄膜リフトオフ技術或いは選択メツキ技術で2〜5μm
厚程度形成した構成とすると減衰定数αの一層の低減を
図ることができる。
以下に示す式(3)と上記式(1)、(2)から得られ
る式(4)は減衰定数αが低減されることを示している
。
る式(4)は減衰定数αが低減されることを示している
。
R=ρ/(w−t) 〔Ω/cn] ・・・式
(3)ここで、ρはゲート電極線路の抵抗率、tは厚さ
、Wは福である。
(3)ここで、ρはゲート電極線路の抵抗率、tは厚さ
、Wは福である。
この式(3)と上記式(1)、(2)からα
1/2
=0.0115ρε / < h −t ) i
:dB/cn51「 ・・・式(4) また、第2図の従来例では伝送線路自体に冷陰極尖端が
備えられており、伝送線路の幅を自由に狭めることはで
きなかっな。しかし、本実施例においては、伝送線路と
電子流を放射する分岐部とを別個に構成しているため、
伝送線路であるベース電極ストリップ線路23aとベー
ス電極ストリップ線路25aの幅を狭くすることができ
、これによりストリップ線路23aと25aとの交差面
積を小さくして、隣接線路間の結合漏話の低減を図るこ
とができる。
:dB/cn51「 ・・・式(4) また、第2図の従来例では伝送線路自体に冷陰極尖端が
備えられており、伝送線路の幅を自由に狭めることはで
きなかっな。しかし、本実施例においては、伝送線路と
電子流を放射する分岐部とを別個に構成しているため、
伝送線路であるベース電極ストリップ線路23aとベー
ス電極ストリップ線路25aの幅を狭くすることができ
、これによりストリップ線路23aと25aとの交差面
積を小さくして、隣接線路間の結合漏話の低減を図るこ
とができる。
ここで、第4図<a)乃至(c)は本実施例のベース電
極ストリップ線路23aとゲート電極ストリップ線路2
5aと交差部における結合漏話の状態を示す説明図であ
る。そして、同図(a)は1本のベース電極ストリップ
線路23aとこれと直交する1本のゲート電極ストリッ
プ線路25aとの交差部には結合容量C6と結合コンダ
クタンスGoとが形成されることを示し、同図(b)は
1本のベース電極ストリップ線路23aには交差部か3
×Np2個あることを、同図(c)は1本のゲート電極
ストリップ線路25aには交差部がN、1個あることを
示している。尚、すべての線路はそれぞれの終端で特性
インピーダンスZ。1’ Z02の薄膜抵抗26.27
を備えており、各線路内における多重反射による定在波
の発生を阻止して各線路相互間での結合漏話を最小にし
ている。また、交差部における結合容量CCは、ベース
電極分岐部とゲート電極分岐部の間と、ベース電極スト
リップ線路とゲート電極ストリップ線路の間の両方の静
電容量となるが、ストリップ線路の交差部の静電容量の
方がはるかに大きいことから、交差部面積の低減により
結合容量の低減を効果的に達成できる。また、交差部に
絶縁体層をさらに重ねて備え絶縁体の厚さを増加させれ
ば結合容量をさらに低減できる。
極ストリップ線路23aとゲート電極ストリップ線路2
5aと交差部における結合漏話の状態を示す説明図であ
る。そして、同図(a)は1本のベース電極ストリップ
線路23aとこれと直交する1本のゲート電極ストリッ
プ線路25aとの交差部には結合容量C6と結合コンダ
クタンスGoとが形成されることを示し、同図(b)は
1本のベース電極ストリップ線路23aには交差部か3
×Np2個あることを、同図(c)は1本のゲート電極
ストリップ線路25aには交差部がN、1個あることを
示している。尚、すべての線路はそれぞれの終端で特性
インピーダンスZ。1’ Z02の薄膜抵抗26.27
を備えており、各線路内における多重反射による定在波
の発生を阻止して各線路相互間での結合漏話を最小にし
ている。また、交差部における結合容量CCは、ベース
電極分岐部とゲート電極分岐部の間と、ベース電極スト
リップ線路とゲート電極ストリップ線路の間の両方の静
電容量となるが、ストリップ線路の交差部の静電容量の
方がはるかに大きいことから、交差部面積の低減により
結合容量の低減を効果的に達成できる。また、交差部に
絶縁体層をさらに重ねて備え絶縁体の厚さを増加させれ
ば結合容量をさらに低減できる。
さらに、従来は導電率が10−2Ω・C11程度と低い
St基板上に伝送線路を形成していたので最高周波数を
10MHz程度とすると大きな減衰が生じていたが、本
実施例ではベース電極23及びゲート電&25の双方に
対向する基板をグレーズ層22を備えた導電性の金属基
板21としたことにより従来の欠点とされfS極めて低
い特性インピーダンスと大きな減衰の問題の解決が図ら
れている。
St基板上に伝送線路を形成していたので最高周波数を
10MHz程度とすると大きな減衰が生じていたが、本
実施例ではベース電極23及びゲート電&25の双方に
対向する基板をグレーズ層22を備えた導電性の金属基
板21としたことにより従来の欠点とされfS極めて低
い特性インピーダンスと大きな減衰の問題の解決が図ら
れている。
第5図(a)はストリ・Vプ線1M33を流れる画像信
号に対応して流れる誘電体層32と導電性基板31側の
電流密度分布を示す説明図である。同図に示されるよう
に、ストリップ線路33の幅Wの両側にそれぞれ誘電体
層32の厚さhと同程度の幅のフリンジング域Fか形成
されている。
号に対応して流れる誘電体層32と導電性基板31側の
電流密度分布を示す説明図である。同図に示されるよう
に、ストリップ線路33の幅Wの両側にそれぞれ誘電体
層32の厚さhと同程度の幅のフリンジング域Fか形成
されている。
同図(b)は隣接している2条のストリップ線路と対向
する導電性基板31の間に流れる電流の範囲を示す説明
図であるか、隣接している2条のストリップ線路間の結
合を防止するためには、導電体基板31上で両ストライ
プに対応して流れる電流か重ならないようにする必要が
ある。このためには、ストリップ線路のストライプピッ
チWpと線路gWと誘電体層厚さhとの間に、h≦(W
−W)、、’2 ・・・式(5)の
関係か成り立つことが要求される。
する導電性基板31の間に流れる電流の範囲を示す説明
図であるか、隣接している2条のストリップ線路間の結
合を防止するためには、導電体基板31上で両ストライ
プに対応して流れる電流か重ならないようにする必要が
ある。このためには、ストリップ線路のストライプピッ
チWpと線路gWと誘電体層厚さhとの間に、h≦(W
−W)、、’2 ・・・式(5)の
関係か成り立つことが要求される。
一方、式(4)からは減衰定数の低減のためにはhを可
能な限り大きくすべきことが示されているので、結果と
して h=(W −W>/2 ・・・式(
6)がhの許容限界を与えることになる。
能な限り大きくすべきことが示されているので、結果と
して h=(W −W>/2 ・・・式(
6)がhの許容限界を与えることになる。
この場合、上記式(−1)に式(6)を代入するとα
1/2
一〇、0231ρε (Wp、/l > 、/f1−
1c >「 〔dB/c+31 ・・・式(7) %式% ここでは、K=W、/Wpとし、ストリップ線路の間隔
(Wp−W)がストリップ線路の幅Wより広くなる粂件
(W、−W)≧Wを満たすこと、即ち、K≦1/2とす
ることがストリップ線路の交差面積の低減の面から適当
である。
1c >「 〔dB/c+31 ・・・式(7) %式% ここでは、K=W、/Wpとし、ストリップ線路の間隔
(Wp−W)がストリップ線路の幅Wより広くなる粂件
(W、−W)≧Wを満たすこと、即ち、K≦1/2とす
ることがストリップ線路の交差面積の低減の面から適当
である。
第6図は本発明に係る冷陰極画像表示装置のさらに他の
実施例の構成を示す分解斜視図である。
実施例の構成を示す分解斜視図である。
尚、以下の説明では第1図と同一の構成部分には同一の
符号を用いる。
符号を用いる。
同図に示される装置においては、ガラス、セラミックス
等の絶縁体板20上に銀パラジウム等の金属を塗布、焼
成して得られた格子状の導電体層21上が備えられてい
る。そして絶縁体板20及び格子状の導電体層21上に
はガラス層を塗布・焼成して形成された厚さ30〜10
0μm程度のグレーズ層(第一の誘電体層)22が備え
られている。尚、第5図では内部形状を示すためにグレ
ーズ層22を導電体層21から離して描いているが、実
際には絶縁体板20及び導電体層21上に接して形成さ
れている。
等の絶縁体板20上に銀パラジウム等の金属を塗布、焼
成して得られた格子状の導電体層21上が備えられてい
る。そして絶縁体板20及び格子状の導電体層21上に
はガラス層を塗布・焼成して形成された厚さ30〜10
0μm程度のグレーズ層(第一の誘電体層)22が備え
られている。尚、第5図では内部形状を示すためにグレ
ーズ層22を導電体層21から離して描いているが、実
際には絶縁体板20及び導電体層21上に接して形成さ
れている。
このグレーズ層22上の上記格子状の導電体層21上に
はストライプ状に備えられた複数本(図には1本のみを
示す)のベース電極ストリップ線路23aが備えられて
いる。また、このグレーズ層22上のストリップ線路2
3aの間にはストリップ線路23aに接続された複数の
ベース電極分岐部23bとが備えられている。そして、
ベース電極分岐部23b上には第3図に示されたような
冷陰極尖端(第1図には図示せず)がa22層備えられ
ている。尚、ベース電極23(ベース電極ストリップ線
路23a及びベース電極分岐部23b)は、例えば、厚
さ1〜5μm程度のMO全而面膜の後に、リングラフ技
術により形成される。
はストライプ状に備えられた複数本(図には1本のみを
示す)のベース電極ストリップ線路23aが備えられて
いる。また、このグレーズ層22上のストリップ線路2
3aの間にはストリップ線路23aに接続された複数の
ベース電極分岐部23bとが備えられている。そして、
ベース電極分岐部23b上には第3図に示されたような
冷陰極尖端(第1図には図示せず)がa22層備えられ
ている。尚、ベース電極23(ベース電極ストリップ線
路23a及びベース電極分岐部23b)は、例えば、厚
さ1〜5μm程度のMO全而面膜の後に、リングラフ技
術により形成される。
まな、上記グレーズ層22とベース電極23上にはS
iO2層(第二の誘電体層)24が重ねて備えられ、こ
の5/02層24のベース電極分岐部23b上の部分に
は冷陰極尖端を囲うように、第2図の符号12a部分と
同様な孔が形成されている。尚、第6図では内部形状を
示すために5/02層24をベース電f!23から漏し
て描いているが、実際にはベース電極2,3上にCVD
法によりSiO2を堆積させて形成されており、電界に
より電子を放射する上で必要なベース電極・ゲート電極
間距離(1〜2μm程度)をS 102層の厚さにより
確保している。また、このSiO2層を、例えば、AJ
Oの第−層と3102の第3 二層との複合層としてもよい。
iO2層(第二の誘電体層)24が重ねて備えられ、こ
の5/02層24のベース電極分岐部23b上の部分に
は冷陰極尖端を囲うように、第2図の符号12a部分と
同様な孔が形成されている。尚、第6図では内部形状を
示すために5/02層24をベース電f!23から漏し
て描いているが、実際にはベース電極2,3上にCVD
法によりSiO2を堆積させて形成されており、電界に
より電子を放射する上で必要なベース電極・ゲート電極
間距離(1〜2μm程度)をS 102層の厚さにより
確保している。また、このSiO2層を、例えば、AJ
Oの第−層と3102の第3 二層との複合層としてもよい。
さらに、上記3102層24上であって上記格子状の導
電体層21上にはベース電極ストリップ線路23aと直
交する方向に延びるようにストライプ状に備えられた複
数本のゲート電極ストリップ線路25aが形成されてい
る。そして、このゲート電極ストリップ線路25aの間
であってベース電極分岐部23bの上にはMoよりなる
ゲート電極分岐部25aか備えられおり、このゲート電
極分岐部25aには上記冷陰極尖端を囲う複数のゲート
電極孔が形成されている。尚、ゲート電極23は例えば
厚さ0.1〜0.4μm程度の?VIOにより形成され
る。
電体層21上にはベース電極ストリップ線路23aと直
交する方向に延びるようにストライプ状に備えられた複
数本のゲート電極ストリップ線路25aが形成されてい
る。そして、このゲート電極ストリップ線路25aの間
であってベース電極分岐部23bの上にはMoよりなる
ゲート電極分岐部25aか備えられおり、このゲート電
極分岐部25aには上記冷陰極尖端を囲う複数のゲート
電極孔が形成されている。尚、ゲート電極23は例えば
厚さ0.1〜0.4μm程度の?VIOにより形成され
る。
さらにまた、第6図には示されていないが、上記冷陰極
尖端から所定間隔をあけて冷陰極尖端から放射される電
子流を所定方向に導く陽極電極としてのITO[か備え
られ、このITOM上には蛍光体が備えられており、冷
陰極尖端から放射される電子流か照射されることにより
蛍光体は発光する。
尖端から所定間隔をあけて冷陰極尖端から放射される電
子流を所定方向に導く陽極電極としてのITO[か備え
られ、このITOM上には蛍光体が備えられており、冷
陰極尖端から放射される電子流か照射されることにより
蛍光体は発光する。
以上述べたように、本実施例においては、グレーズ層2
2上にストライプ状に備えられた複数本のベース電極ス
トリップ線123aと冷陰極尖端を備えたベース電極分
岐部23bとが別個に形成されており、ベース電極スト
リップ線路23aに伝送線路としての機能を持たせ、ベ
ース電極分岐部23bに電子流を放射する表示画素とし
ての機能を持たせている。
2上にストライプ状に備えられた複数本のベース電極ス
トリップ線123aと冷陰極尖端を備えたベース電極分
岐部23bとが別個に形成されており、ベース電極スト
リップ線路23aに伝送線路としての機能を持たせ、ベ
ース電極分岐部23bに電子流を放射する表示画素とし
ての機能を持たせている。
また、S iO2層24上に備えられるストライプ状の
ゲート電極ストリップ線路25aとベース電極分岐部2
3b上に備えられたゲート電極分岐部25bも別個に形
成されており、ゲート電極ストリップ線路25aに伝送
線路としての機能を持たせ、ゲート電極分岐部25bに
ベース電極分岐部23b上の冷陰極尖端から電子流を放
射させる機能を持たせている。
ゲート電極ストリップ線路25aとベース電極分岐部2
3b上に備えられたゲート電極分岐部25bも別個に形
成されており、ゲート電極ストリップ線路25aに伝送
線路としての機能を持たせ、ゲート電極分岐部25bに
ベース電極分岐部23b上の冷陰極尖端から電子流を放
射させる機能を持たせている。
このように、ゲート電極ストリップ線路25aと、冷陰
極尖端から電子流を放出させるゲート電極分岐部25b
とを別個に構成しなので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部25bに流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由
がら伝送線路であるストリップ線路25aを薄く構成す
る必要はなく(ゲート電極分岐部25bのみを薄く構成
すればよい)、ストリップ線路25aにおける伝送損失
゛を小さくできる。このため、画素間の輝度むらと低減
でき画質の向上を図ることかできる。
極尖端から電子流を放出させるゲート電極分岐部25b
とを別個に構成しなので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部25bに流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由
がら伝送線路であるストリップ線路25aを薄く構成す
る必要はなく(ゲート電極分岐部25bのみを薄く構成
すればよい)、ストリップ線路25aにおける伝送損失
゛を小さくできる。このため、画素間の輝度むらと低減
でき画質の向上を図ることかできる。
また、上記式(4)から減衰定数が低減されることがわ
かる。
かる。
また、第2図の従来例では伝送線路自体に冷陰極尖端が
備えられており、伝送線路の幅を自由に狭めることはで
きなかったが、本実施例においては、伝送線路と電子流
を放射する分岐部とを別個に構成しているため、伝送線
路であるベース電極ストリップ線路23aとベース電極
ストリップ線路25aの幅を狭くすることができ、これ
によりストリップ線路23aと25aとの交差面積を小
さくして、隣接線路間の結合漏話を防止できる。
備えられており、伝送線路の幅を自由に狭めることはで
きなかったが、本実施例においては、伝送線路と電子流
を放射する分岐部とを別個に構成しているため、伝送線
路であるベース電極ストリップ線路23aとベース電極
ストリップ線路25aの幅を狭くすることができ、これ
によりストリップ線路23aと25aとの交差面積を小
さくして、隣接線路間の結合漏話を防止できる。
第7図<a)はストリップ線路33を流れる画像信号に
対応して流れる誘電体層32と基板31側の電流分布を
示す説明図である。同図に示されるように、ストリップ
線路33の幅Wの両側にそれぞれ誘電体層32の厚さh
と同程度の幅のフリンジングjjliFが形成されてい
る。
対応して流れる誘電体層32と基板31側の電流分布を
示す説明図である。同図に示されるように、ストリップ
線路33の幅Wの両側にそれぞれ誘電体層32の厚さh
と同程度の幅のフリンジングjjliFが形成されてい
る。
同図(b)、(c)は隣接している2条のストリップ線
路と対向する導電性基板31(第1図の導電体層21に
相当する)の間に流れる電流の範囲を示す説明図である
。格子状の導電体基板31の交差部では同図(b)に示
されるよう導電体基板31は連続であるが、交差部以外
の部分では同図(C)のように分離した構成(幅We)
となっており、隣接している2条のストリップ線路がそ
れぞれ独立のストリップ線路を構成しているものとみな
せるので、結合漏話の低減効果は大きくなる。尚、結合
漏話を・防止するなめには、導電体基板31上で両スト
ライプに対応して流れる電流が重ならないようにする必
要がある。このためには、ストリップ線路のストライプ
ピヴチW、と線路幅Wと誘電体層厚さhとの間に、 上記式(7)の関係が成り立つことが要求される。
路と対向する導電性基板31(第1図の導電体層21に
相当する)の間に流れる電流の範囲を示す説明図である
。格子状の導電体基板31の交差部では同図(b)に示
されるよう導電体基板31は連続であるが、交差部以外
の部分では同図(C)のように分離した構成(幅We)
となっており、隣接している2条のストリップ線路がそ
れぞれ独立のストリップ線路を構成しているものとみな
せるので、結合漏話の低減効果は大きくなる。尚、結合
漏話を・防止するなめには、導電体基板31上で両スト
ライプに対応して流れる電流が重ならないようにする必
要がある。このためには、ストリップ線路のストライプ
ピヴチW、と線路幅Wと誘電体層厚さhとの間に、 上記式(7)の関係が成り立つことが要求される。
したがって、K=W、/Wpとし、ストリップ線路の間
隔(W −W)がストリップ線路の@Wより広くなる
条件(Wp−W)≧Wを満たすこと、即ち、K≦1./
2とすることがストリップ線路の交差面積の低減の面か
ら適当である。
隔(W −W)がストリップ線路の@Wより広くなる
条件(Wp−W)≧Wを満たすこと、即ち、K≦1./
2とすることがストリップ線路の交差面積の低減の面か
ら適当である。
以上説明したように、本発明によれば、ストリ・17′
線路と、冷陰極尖端から電子流を放出させる電極分岐部
とを別個に構成しなので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部に流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由からゲ
ート電極ストリップ線路を薄く構成する必要はなく、ゲ
ート電極線路における伝送損失を小さくでき、画素間の
輝度むらを低減でき画質の向上を図ることができる。
線路と、冷陰極尖端から電子流を放出させる電極分岐部
とを別個に構成しなので、冷陰極尖端からゲート電極分
岐部に流れ込むゲート電流の低減を図る等の理由からゲ
ート電極ストリップ線路を薄く構成する必要はなく、ゲ
ート電極線路における伝送損失を小さくでき、画素間の
輝度むらを低減でき画質の向上を図ることができる。
また、本発明においては、ストリップ線路と電子流を放
q−tする分岐部とを別個に構成しているため、ストリ
ップ線路の幅を狭くすることができ、これによりベース
電極ストリップ線路とベース電極ストリップ線路との交
差面積を小さくすることで、伝送線路としての特性イン
ピーダンスを大きくして隣接線路間の結合漏話の低減を
図ることができる。
q−tする分岐部とを別個に構成しているため、ストリ
ップ線路の幅を狭くすることができ、これによりベース
電極ストリップ線路とベース電極ストリップ線路との交
差面積を小さくすることで、伝送線路としての特性イン
ピーダンスを大きくして隣接線路間の結合漏話の低減を
図ることができる。
さらにまた、他の発明によれは、ストリップ線路を備え
る基板をグレーズ層を備えた導電性の基板としたので、
結合漏話及び減衰の影響を一層小さくすることができ、
このような低伝送損失、低結合漏話の特性により高走査
線数の大型画面表示においても均一な輝度及びコントラ
ストを実現でき、高品位な画像を提供できるという効果
がある。
る基板をグレーズ層を備えた導電性の基板としたので、
結合漏話及び減衰の影響を一層小さくすることができ、
このような低伝送損失、低結合漏話の特性により高走査
線数の大型画面表示においても均一な輝度及びコントラ
ストを実現でき、高品位な画像を提供できるという効果
がある。
さらに導電体層をストリップ線路に対向させて格子状に
形成した他の発明においては、結合漏話のより一層の低
減を図ることができる。
形成した他の発明においては、結合漏話のより一層の低
減を図ることができる。
第1図は本発明に係る冷陰極画像表示装置の一実施例の
構成を示す分解斜視図、 第2図は従来の冷陰極画像表示装置の一例を示す構成図
、 第3図は従来の冷陰極画像表示装置の冷陰極尖端部分を
示す断面図、 第4図(a>乃至(c)は本実施例のベース電極線路と
ゲート電極線路との交差部における結合漏話の状態を示
す説明図、 第5図<a)、<b>は本実施例のストリップ線路にお
ける電流分布を示す説明図、 第6図は他の発明に係る冷陰極画像表示装置の一実施例
の構成を示す分解斜視図、 第7図<a>乃至(c)は第6図の実施例のストリップ
線路における電流分布を示す説明図である。 20・・・絶縁体基板 21・・・金属基板 22・・・グレーズ層(第一の誘電体層)23・・・ベ
ース電極 23a・・・ベース電極ストリップ線路23b・・・ベ
ース電極分岐部 24・・・SiO□層(第二の誘電体層)25・・・ゲ
ート電極 25a・・・ゲート電極ストリップ線路25b・・・ゲ
ート電極分岐部
構成を示す分解斜視図、 第2図は従来の冷陰極画像表示装置の一例を示す構成図
、 第3図は従来の冷陰極画像表示装置の冷陰極尖端部分を
示す断面図、 第4図(a>乃至(c)は本実施例のベース電極線路と
ゲート電極線路との交差部における結合漏話の状態を示
す説明図、 第5図<a)、<b>は本実施例のストリップ線路にお
ける電流分布を示す説明図、 第6図は他の発明に係る冷陰極画像表示装置の一実施例
の構成を示す分解斜視図、 第7図<a>乃至(c)は第6図の実施例のストリップ
線路における電流分布を示す説明図である。 20・・・絶縁体基板 21・・・金属基板 22・・・グレーズ層(第一の誘電体層)23・・・ベ
ース電極 23a・・・ベース電極ストリップ線路23b・・・ベ
ース電極分岐部 24・・・SiO□層(第二の誘電体層)25・・・ゲ
ート電極 25a・・・ゲート電極ストリップ線路25b・・・ゲ
ート電極分岐部
Claims (3)
- (1)第一の誘電体層と、 上記第一の誘電体層上にストライプ状に備えられた複数
本のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体層
上であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路の
間に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続さ
れた複数のベース電極分岐部と、 上記ベース電極分岐部上に突起状に形成された冷陰極尖
端と、 上記冷陰極尖端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、
上記ベース電極ストリップ線路、及び上記ベース電極分
岐部上に備えられた第二の誘電体層と、 上記第二の誘電体層上に上記ベース電極ストリップ線路
に直交する方向に延びるストライプ状に備えられた複数
本のゲート電極ストリップ線路と、上記冷陰極尖端を囲
うゲート電極孔を有し、上記複数本のゲート電極ストリ
ップ線路の間であって上記ベース電極分岐部上に備えら
れ、上記ゲート電極ストリップ線路に接続された複数の
ゲート電極分岐部と、所定間隔をあけて上記冷陰極尖端
に対向配置され、上記冷陰極尖端から放射される電子流
を所定方向に導く陽極電極と、 上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体とを
有することを特徴とする冷陰極画像表示装置。 - (2)導電性基板と、 上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と、 上記第一の誘電体層にストライプ状に備えられた複数本
のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体層上
であつて、上記複数本のベース電極ストリップ線路の間
に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続され
た複数のベース電極分岐部と、 上記ベース電極分岐部上に突起状に形成された冷陰極尖
端と、 上記冷陰極尖端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、
上記ベース電極ストリップ線路、及び上記ベース電極分
岐部上に備えられた第二の誘電体層と、 上記第二の誘電体層上に上記ベース電極ストリップ線路
に直交する方向に延びるストライプ状に備えられた複数
本のゲート電極ストリップ線路と、上記冷陰極尖端を囲
うゲート電極孔を有し、上記複数本のゲート電極ストリ
ップ線路の間であつて上記ベース電極分岐部上に備えら
れ、上記ゲート電極ストリップ線路に接続された複数の
ゲート電極分岐部と、所定間隔をあけて上記冷陰極尖端
に対向配置され、上記冷陰極尖端から放射される電子流
を所定方向に導く陽極電極と、 上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体とを
有することを特徴とする冷陰極画像表示装置。 - (3)導電性基板と、 上記導電性基板上に備えられた第一の誘電体層と、 上記第一の誘電体層にストライプ状に備えられた複数本
のベース電極ストリップ線路と、上記第一の誘電体層上
であって、上記複数本のベース電極ストリップ線路の間
に備えられ、上記ベース電極ストリップ線路に接続され
た複数のベース電極分岐部と、 上記ベース電極分岐部上に突起状に形成された冷陰極尖
端と、 上記冷陰極尖端を囲う孔を有し、上記第一の誘電体層、
上記ベース電極ストリップ線路、及び上記ベース電極分
岐部上に備えられた第二の誘電体層と、 上記第二の誘電体層上に上記ベース電極ストリップ線路
に直交する方向に延びるストライプ状に備えられた複数
本のゲート電極ストリップ線路と、上記冷陰極尖端を囲
うゲート電極孔を有し、上記複数本のゲート電極ストリ
ップ線路の間であって上記ベース電極分岐部上に備えら
れ、上記ゲート電極ストリップ線路に接続された複数の
ゲート電極分岐部と、所定間隔をあけて上記冷陰極尖端
に対向配置され、上記冷陰極尖端から放射される電子流
を所定方向に導く陽極電極と、 上記電子流が照射されることにより発光する蛍光体とを
有し、 上記導電性基板を上記ゲート電極ストリップ線路と上記
ベース電極ストリップ線路に対応させた格子状に形成し
たことを特徴とする冷陰極画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2997790A JPH03236144A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 冷陰極画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2997790A JPH03236144A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 冷陰極画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03236144A true JPH03236144A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12291022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2997790A Pending JPH03236144A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 冷陰極画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03236144A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5496199A (en) * | 1993-01-25 | 1996-03-05 | Nec Corporation | Electron beam radiator with cold cathode integral with focusing grid member and process of fabrication thereof |
-
1990
- 1990-02-09 JP JP2997790A patent/JPH03236144A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5496199A (en) * | 1993-01-25 | 1996-03-05 | Nec Corporation | Electron beam radiator with cold cathode integral with focusing grid member and process of fabrication thereof |
US5514847A (en) * | 1993-01-25 | 1996-05-07 | Nec Corporation | Electron beam radiator with cold cathode integral with focusing grid member and process of fabrication thereof |
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