JPH03200790A - チタニルフタロシアニン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は電子写真感光体等に顔料として有用なチタニル
フタロシアニンに関し、特に、半導体レーザー光及び発
光ダイオード（ＬＥＤ）光に対して高感度を要求される
電子写真感光体に使用可能なチタニルフタロシアニンに
関するものである。

口、従来技術 フタロシア・ニン系化合物は、顔料として古くから知ら
れてきたが、近年、電子工業の発達に伴って、半導体レ
ーザー光やＬＥＤ光などの赤外〜近赤外の波長の光源に
感応する電子写真感光体用の素材として注目されている
。

フタロシアニン系化合物としてのチタニルフタロシアニ
ンについては、特開昭６１−２３９２４８号、特開昭６
２−６７０９４号、特開昭６３−１１６１５８号の各公
報などに多くの結晶型のものが開示されている。しかし
、これらはいずれも、感度、繰り返し使用に対する電位
安定性、反転現像を用いる電子写真プロセスにおけるカ
ブリなどの問題がある。

また、ＣｕＫａ特性Ｘ線（波長１．５４１人）に対する
Ｘ線回折スペクトルのブラッグ角２θが２７．２度にお
いてＸ線強度のピークを有するものに限ってみても、特
開昭６２−６７０９４号公報に記載されている■型チタ
ニルフタロシアニンは帯電性に劣り、感度も低い。特開
昭６４−１７０６６号公報に記載のものは、２７．３度
に大きなピークを示す他、９．５度、９．７度、１１．
７度、１５．０度、２３．５度、２４．１度に小さなピ
ークを持ち、感度も高いものであるが、反転現像や電子
写真プロセスにおける高速化を考えると、より高感度で
あって帯電性が更に良く、繰り返し使用も一層向上した
ものが求められている。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、高感度にしてかつ残留電位が小さく、
また繰り返し使用においても電位特性が安定している優
れた電子写真感光体に適する新規な結晶型のチタニルフ
タロシアニンを提供することにある。

本発明の他の目的は、半導体レーザー等の長波長光源に
対しても十分な感度を有する電子写真感光体に適する新
規な結晶型のチタニルフタロシアニンを提供することに
ある。

二１発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１入
）に対するＸ線回折スペクトルのブラッグ角２θが少な
くとも９．６度±０．２度及び２７．２度±０．２度に
おいて夫々Ｘ線強度のピークを示し、９．６度±０．２
度でのピークのＸ線強度が２７．２度±０．２度でのピ
ークのＸ線強度の６０％以上である結晶状態にあるチタ
ニルフタロシアニンを提供するものである。

本発明のチタニルフタロシアニンの基本構造は、次の一
般式で表される。

一般式： （但し、ＸＩ　Ｓ）（！　、ＸＩ　、ＸＩは水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、或いはアルコキシ基を表し
、ｎ、ｍ、ｌ、には０〜４の整数を表す。） Ｘ線回折スペクトルは次の条件で測定される。

ここでのピークとは、ノイズとは異なった明瞭な鋭角の
突出部のことである。

Ｘ線管球　　　　Ｃｕ 電圧　　　　　　４０．ＯＫＶ 雷電流　　　　１００．０　　ｍ　Ａ スタート角度　　６．Ｏｄｅｇ。

ストップ角度　　３５．Ｏｄｅｇ。

ステップ角度　　０．０２　ｄｅｇ。

測定時間　　　　０．５０　ｓｅｃ。

このようにして測定されたＸ線回折スペクトルは、一般
に、測定試料の表面状態や測定装置に依存したベースラ
インの上昇を含んでいる。特に有機多結晶試料の場合、
ピーク強度の絶対値が比較的小さいために、上記のよう
な影響が深刻となり、ベースラインの補正が必要となる
。本発明における回折角度９．６度±０．２度と２７．
２度±０．２度のピークのピーク強度は、次のようにし
て決定される。

即ち、９゜６度から２７．３度の間の領域において、Ｘ
線強度の最も低い点（通常は、２０．５度に現れる。）
ヲ１ｌｌｌってベースラインをひき、このベースライン
からピークの頂点までの高さをピーク強度としている（
第１７図参照）。

本発明のチタニルフタロシアニンは、一般によく知られ
た方法で製造することができる。これに限定されるもの
ではないが、例えば、四塩化チタンとフタロジニトリル
とをα−クロルナフタレン等の不活性高沸点溶媒中で反
応させる。反応温度は１６０〜３００°Ｃで、一般には
１６０〜２６０°Ｃで行われる。これによって得られる
ジクロルチタニウムフクロシアニンを塩基もしくは水で
加水分解することによって、チタニルフタロシアニンが
得られる。

本発明の結晶型を得るには、以下に限定されるものでは
ないが、上記加水分解後にチタニルフタロシアニンを直
接、又は硫酸に溶かして水に注いで得たアモルファスの
ものから、水の存在下に水に非混和性の有機溶媒（例え
ばジクロルエタン）で処理する事によって得ることがで
きる。

この処理に用いられる装置としては一般的な撹拌装置の
他に、ホモもキサ−、ディスパーザ−アジター、或いは
ボールもル、サンドミル、アトライタ等を用いることが
できる。

以下、本発明の用途の一例である電子写真感光体につい
て述べる。

本発明では、上記のチタニルフタロシアニンの外に他の
キャリア発生物質を併用してもよい。そのようなキャリ
ア発生物質としては、本発明のチタニルフタロシアニン
とは結晶型において異なる、例えばα型、β型、α、β
混合型、アモルファス型等のチタニルフタロシアニンを
はじめ、他のフタロシアニン顔料、アゾ顔料、アントラ
キノン顔料、ペリレン顔料、多環牛ノン顔料、スクェア
リウム顔料等が挙げられる。

本発明の感光体におけるキャリア輸送物質としては、種
々のものが使用できるが、代表的なものとしては例えば
、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チア
ジアゾール、イミダゾール等に代表される含窒素複素環
核及びその縮合環核を有する化合物、ポリアリールアル
カン系の化合物、ピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化
合物、トリアリールアミン系化合物、スチリル系化合物
、スチリルトリフェニルア壽ン系化合物、β−フェニル
スチリルトリフェニルアミン系化合物、ブタジェン系化
合物、ヘキサトリエン系化合物、カルバゾール系化合物
、縮合多環系化合物等が挙げられる。これらのキャリア
輸送物質の具体例としては、例えば特開昭６１−１０７
３５６号に記載のキャリア輸送物質をはじめ、多くのも
のを挙げることができるが、特に代表的なものの構造を
次に示す。

（１） （２） （３） （４） （８） （５） （９） （６） （ｌＯ） （１１） （７） ＣＪ。

（１９） （２０） 感光体の構成は種々の形態が知られている。本発明の感
光体はそれらのいずれの形態をもとりうるが、積層型若
しくは分散型の機能分離型感光体とするのが望ましい。

この場合、通常は第１図から第６図のような構成となる
。第１図に示す層構成は、導電性支持体１上にキャリア
発生層２を形成し、これにキャリア輸送層３を積層して
感光層４を形成したものであり、第２図はこれらのキャ
リア発生層２とキャリア輸送層３を逆にした感光層４′
を形成したものである。第３図は第１図の層構成の感光
層４と導電性支持体１の間に中間層５を設け、第４図は
第２図の層構成の感光層４′と導電性支持体１との間に
中間層５を設けたものである。第５図の層構成はキャリ
ア発生物質６とキャリア輸送物質７を含有する感光層４
″を形成したものであり、第６図はこのような感光層４
“と導電性支持体１との間に中間層５を設けたものであ
る。また、感光体の最表面には保護層（図示せず）を設
けてもよい。

感光層の形成においては、キャリア発生物質或いはキャ
リア輸送物質を単独で、若しくはバインダや添加剤とと
もに溶解させた溶液を塗布する方法が有効である。しか
しまた、一般にキャリア発生物質の溶解度は低いため、
そのような場合、キャリア発生物質を、超音波分散機、
ボールミル、サンドミル、ホモミキサー等の分散装置を
用いて適当な分散媒中に微粒子分散させた液を塗布する
方法が有効となる。この場合、バインダや添加剤は分散
液中に添加して用いられるのが通常である。

感光層の形成に使用される溶剤或いは分散媒としては広
く任意のものを用いることができる。例えば、ブチルア
ミン、エチレンジアミン、Ｎ、　　Ｎ−ジメチルホルム
アミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、メチルセルソルプ、エチルセルソルブ、エ
チレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレ
ン、アセトフェノン、クロロホルム、ジクロルメタン、
ジクロルエタン、トリクロルエタン、メタノール、エタ
ノール、プロパツール、ブタノール等が挙げられる。

キャリア発生層若しくはキャリア輸送層、或いは感光層
の形成にバインダを用いる場合に、バインダとして任意
のものを選ぶことができるが、特に疎水性でかつフィル
ム形成能を有する高分子重合体が望ましい。このような
重合体としては例えば次のものを挙げることができるが
、これらに限定されるものではない。

ポリ力−ネネート　　　　　　　　　ポリトネネートｚ
樹脂アクリル樹脂　　　　　　　　メタクリル　樹脂ポ
リ塩化ビニル　　　　　　　ポリ塩化ビニリチンポリス
チレン　　　　　　　　　　スチレンープタシＩン　共
重合体ポリ酢酸ビニル　　　　　　　ポリビニル＊ルマ
ールポリビニルプチラール　　　　　　ポリビニル７セ
クールポリビニルカルバゾール・　　　　スチレン−ア
ルキット　樹脂シリコーン　樹脂　　　　　　シリコー
ン　−フルキッド　樹脂ポリエステル　　　　　　　　
　　フェノール　樹脂ポリウレタン　　　　　　　　　
　ヱポキシ樹脂塩化ビニリダン　−７クリロニト１ハト
共重合体塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 塩化ビニル−酢酸ビニルー無水マレイン酸共重合体バイ
ンダに対するキャリア発生物質の割合は１０〜６００　
ｗｔ％が望ましく、更には５０〜４００　ｓｙｔ％が好
ましい。バインダに対するキャリア輸送物質の割合は１
０〜５００　ｗｔ％とするのが望ましい。キャリア発生
層の厚さは、０．０１〜２０μｍとされてよいが、更に
は０．０５〜５μｍが好ましい。キャリア輸送層の厚み
は１−１００μｍとされてよいが、更には５〜３０μｍ
が好ましい。

上記感光層には感度の向上や残留電位の減少、或いは反
復使用時の疲労の低減を目的として、電子受容性物質を
含有させることができる。このような電子受容性物質と
しては例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム
無水琥珀酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸
、テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸
、４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水
メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼ
ン、１，３．５−）ジニトロベンゼン、ｐ−ニトロベン
ゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブロマニル、ジクロルジシアノ−ｐ−ベ
ンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン
、９−フルオレニリデンマロノジニトリル、ポリニトロ
−９−フルオレニリデンマロノジニトリル、ピクリン酸
、０−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３゜５−
ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、５−ニト
ロサリチル酸、３．５−ジニトロサリチル酸、フタル酸
、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙
げることができる。電子受容性物質の添加割合はキャリ
ア発生物質の重量１００に対して０．Ｏ１〜２００が望
ましく、更には０．１〜１００が好ましい。

また、上記感光層中には保存性、耐久性、耐環境依存性
を向上させる目的で、酸化防止剤や光安定剤等の劣化防
止剤を含有させることができる。

そのような目的に用いられる化合物としては例えば、ト
コフェロール等のクロマノール誘導体及びそのエーテル
化化合物若しくはエステル化化合物、ポリアリールアル
カン化合物、ハイドロキノン誘導体及びそのモノ及びジ
エーテル化化合物、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリ
アゾール誘導体、チオエーテル化合物、ホスホン酸エス
テル、亜燐酸エステル、フェニレンシアミン誘導体、フ
ェノール化合物、ヒンダードフェノール化合物、直鎖ア
ミン化合物、環状アミン化合物、ヒンダードアミン化合
物などが有効である。特に有効な化合物の具体例として
は、ｒｌＲＧＡＮＯＸ　　ｌ０ＩＯＪ、ｒ　ＩＲＧＡＮ
ＯＸ　５６５Ｊ　　（以上、チバ・ガイギー社製）、「
スミライザー　ＢＨＴ、、「スミライザー　ＭＤＰＪ　
　（以上、住友化学工業社製）等のヒンダードフェノー
ル化合物、「サノール　ＬＳ−２６２６Ｊ、「サノール
　ＬＳ　−６２２ＬＤＪ　　（以上、三共社製）等のヒ
ンダードアミン化合物が挙げられる。

中間層、保護層等に用いられるバインダとしては、上記
のキャリア発生層及びキャリア輸送層用に挙げたものを
用いることができるが、その他にポリアミド樹脂、ナイ
ロン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸
ビニル−メタクリル酸共重合体等のエチレン系樹脂、ポ
リビニルアルコール、セルロース誘導体等が有効である
。

導電性支持体としては、金属板、金属ドラムが用いられ
る外、導電性ポリマーや酸化インジウム等の導電性化合
物、若しくはアルミニウム、パラジウム等の金属の薄層
を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により紙やプラスチ
ックフィルム等の基体の上に設けてなるものを用いるこ
とができる。

本発明の結晶型のチタニルフタロシアニンを使用した感
光体は以上のような構成であって、以下の実施例からも
明らかなように、帯電特性、感度特性、繰り返し特性に
優れたものである。

ホ、実施例 （合成例１） フタロジニトリル６５ｇとα−クロルナフタレン５００
　ｔｎｌとの混合物中に窒素気流下でＬ４．１ｍｌの四
塩化チタンを滴下した後、徐々に２００″Ｃまで昇温し
、反応温度を２００〜２２０　’Ｃの間に保って３時間
攪拌して反応を完結させた。その後に放冷し、１３０°
Ｃになったところで熱時濾過し、α−クロルナフタレン
で洗浄し、ジクロルチタニウムフタロシアニン粗品を得
、これをメタノールで数回洗浄し、更に８０″Ｃの熱水
で数回洗浄した。得られた結晶を乾燥し、その５ｇを９
６％硫酸１００ｇ中で３〜５°Ｃで攪拌した後、濾過し
て、得られた硫酸溶液を水３．５１中に注いだ。析出し
た結晶を濾取し、洗浄液が中性となるまで水洗を繰り返
した後、濾取し、ウェットケーキをジクロルエタンで処
理し、メタノールで洗浄した後、乾燥して本発明の結晶
を得た。

この結晶は第７図に示すように、ブラッグ角２θが９．
６度のピークと２７．２度の比は８３％である。

また、ＫＢｒ錠剤をセル物質として使用し、この合成例
で得られた結晶化合物の赤外線吸収スペクトルを測定し
たところ、第８図のようになった。

（合成例２） 合成例１で得られたウェットケーキをジクロルエタンに
代えてクロロホルムで処理して、本発明の結晶を得た。

この結晶は第９図に示すように、主なピークとして７．
５度、９．６度、２７．２度にある。このうち、ブラッ
グ角２θが９．６度のピーク強度は２７．２度のそれの
８７％である。

（合成例３） 合成例１で得られたウェットケーキをジクロルエタンに
代えてアニソールで処理して、本発明の結晶を得た。

この結晶は第１０図に示すように、ピーク強度の比：９
．６度／２７．２度＝８０％である。

（合成例４） フタロジニトリル１３０ｇとα−クロルナフタレン８０
０ｄとの混合物中に窒素気流下、１２０°Ｃで２８．２
ｍｌの四塩化チタンを滴下し、２１０°Ｃまで昇温し２
１０〜２２０°Ｃで４時間反応させた。−夜放冷後、濾
過し、α−クロルナフタレンで洗浄し、ジクロルチタニ
ウムフタロシアニン粗品を得、これをクロロホルム、次
いでメタノールで洗浄した。更に、アンモニア水２１の
中で７０°Ｃで５時間加熱して加水分解し、水洗して粗
品を得た。そのうち１５ｇを硫酸５００　ｇ中で０〜５
°Ｃで攪拌した後、濾過して水５１中に注いだ。析出し
た結晶を濾取し、洗浄液が中性になるまで水洗した後、
濾取し、ウェットケーキをオルトジクロルベンゼンで処
理し、本発明の結晶を得た。

この結晶は第１１図に示すように、ピーク強度の比：９
．５度／２７．２度＝６５％である。

（合成例５） 合成例４で得られたウェットケーキをオルトジクロルベ
ンゼンに代えてフルオロベンゼンで処理し、本発明の結
晶を得た。

この結晶は第１２図に示すように、ピーク強度の比：９
．５度／２７．２度＝８０％である。

（合成例６） 合成例４で得たウェットケーキをオルトジクロルベンゼ
ンに代えて１，２．４−）リクロルベンゼンで処理し、
本発明の結晶を得た。この結晶は第１３図に示すように
、ピーク強度の比：９．５度／２７．２度＝７８％であ
る。

（比較合成例１） 合成例１で述べたと同様にフタロジニトリルと四塩化チ
タンからジクロルチタニウムフタロシアニンを作り、こ
れを熱水で加水分解した（ここまでは合成例１と同じ）
。このものをメタノールで洗い、乾燥して比較例１の結
晶を得た。

この結晶は第１４図に示すように、９．６度に明瞭なピ
ークは見られない。

（比較合成例２） 比較合成例１で述べた、加水分解した直後の結晶をウェ
ットペーストのままクロルベンゼンで処理し、メタノー
ルで洗い、比較例２の結晶を得た。

この結晶は第１５図に示すように、ピーク強度の比：９
．６度／２７．２度＝２９％である。

（比較合成例３） 合成例１で記載している方法に従って、フタロジニトリ
ルと四塩化チタンからジクロルチタニウムフタロシアニ
ンを合威し、次いで加水分解を行った。このもの５ｇを
硫酸２００　ｇに溶かし、ＩＮの水に注いで結晶を析出
させ、中性になるまで水洗を繰り返した。このウェット
ケーキをジクロルエタンで処理し、比較例３の結晶を得
た。

この結晶は第１６図に示すように、ピーク強度の比：９
．６度／２７．２度＝５７％である。

この比較合成例３は、合成例１と比べてアシッドペース
ト処理条件が異なるだけである。即ち、ジクロルチタニ
ウムフタロシアニンを加水分解して得た粗チタニルフタ
ロシアニンを硫酸に溶かし、水に注ぐ工程において、硫
酸と水との比率が異なるだけである。しかし、このわず
かの差により、結晶型は異なり、電子写真特性も後述す
るように大きく異なってしまう。

尖施奥１ 合成例１において得られた、第７図のＸ線回折パターン
を有するチタニルフタロシアニン３部、バインダ樹脂と
してのシリコーン樹脂（ｒＫＲ−５２４０の１５％キシ
レン−ブタノール溶液」信越化学社製）３５部、分散媒
としてのメチルエチルケトン１００部をサンド果ルを用
いて分散し、これをアルミニウムを蒸着したポリエステ
ルベース上にワイヤバーを用いて塗布して、膜厚、０．
２μｍのキャリア発生層を形成した０次いで、キャリア
輸送物質（２）１部とポリカーボネート樹脂「ニーピロ
ンＺ２００　Ｊ　　（三菱瓦斯化学社製）１．３部及び
微量のシリコーンオイルｒＫＦ　−５４Ｊ　　（信越化
学社製）を１．２−ジクロルエタン１０部に溶解した液
をブレード塗布機を用いて塗布し、乾燥の後、膜厚２０
μｍのキャリア輸送層を形成した。このようにして得ら
れた感光体をサンプルｌとする。

尖旌明呈 実施例１におけるチタニルフタロシアニンに代えて、合
成例２で得た第９図のＸ線回折パターンを持つフタロシ
アニンを用いた他は実施例１と同様にして、感光体を得
た。これをサンプル２とする。

実ＪＬｆＬ走 同様に合成例３で得た第１０図の結晶を用いてサンプル
３を作った。

裏施班土 同様に合成例４で得た第１１図の結晶を用いてサンプル
４を作った。

大嵐拠ｉ 同様に合成例５で得た第１２図の結晶を用いてサンプル
５を作った。

失施班立 同様に合成例６で得た第１３図の結晶を用いてサンプル
６を作った。

北較明１ 同様に比較合成例１で得た第１４図の結晶を用いて比較
サンプル１を作った。

止較旌２ 同様に比較合成例２で得た第１５図の結晶を用いて比較
サンプル２を作った。

北較明１ 同様に比較合成例３で得た第１６図の結晶を用いて比較
サンプル３を作った。

（評価１） 以上のようにして得られた各サンプルは、ペーパーアナ
ライザーＥ　Ｐ　Ａ　−８１００（川口電気社製）を用
いて、以下のような評価を行った。まず、−８０μＡの
条件で５秒間のコロナ帯電を行い、帯電直後の表面電位
Ｖａ及び５秒間放置後の表面電位Ｖｉを求め、続いて表
面照度が２　ｌｕｘとなるような露光を行い、表面電位
を１　／　２　Ｖ　ｉとするのに必要な露光量Ｅｙ＆、
表面電位を−６００Ｖから−１００Ｖまで低下させるの
に必要な露光量Ｅ６゜。／１０゜を求めた。またＤＤ＝
１００　　（Ｖａ−Ｖｉ）／Ｖａ（％）の式より暗減衰
率ＤＤを求めた。結果は表−１に示した。

（評価２） 得られた各サンプルはまた、プリンターＬＰ−３０１０
（コニカ社製）に半導体レーザー光源を装着した改造機
を用いて評価した。未露光部電位Ｖ、、露光部電位ＶＬ
を求め、更に１万回の繰り返しの後でのｖＨと初期のｖ
ｌ（との差ΔＶ工を求めた。

結果は表−２に示した。

この結果から、本発明の化合物（サンプル１〜６）は帯
電性（Ｖａ）が良く、感度（Ｅ　ｌ＋００／＋　００）
も良い。これに反して、同じ２７．２度にピークを持つ
ものでありながら比較サンプルｌは電位が乗らず、また
比較サンプル２及び３、特に３は感度は比較的改善され
るものの暗減衰（ＤＤ）がなお大きい。特に、本発明に
基づいてピーク強度比：９．６度／２７．２度を６０％
以上とすること（サンプル２）によって、同強度比が６
０％未満の場合（比較サンプル２）に比べて、帯電性、
感度、暗減衰のすべてにおいて優れていることが明らか
である。

（以下余白、次頁に続く） 表 この繰り返し試験においても、本発明の化合物（サンプ
ル１〜６）は良好であり、Ｖｔ（Ｖ）も低く、電位の低
下も少ない。それに反し、比較サンプル３は受容電位（
ｖＭ）、ｖＬは比較的良いものの、電位の低下（ΔＶ□
）が著しい。

本発明のチタニルフタロシアニンは本来的には、合成例
１（第７図）でみられるごと＜、２７．２度と９．６度
に他のピークよりぬきんでたピーク強度を示す結晶型を
とるものと考えられる。また、合成例４（第１１図）の
ものは結晶成長の程度がやや弱く、更に、合成例２（第
９図）は本来のピークの他に他の結晶型のピーク（例え
ば特開昭６１−２３９２４８号などに示されたピーク）
が混入したものと考えられる。しかし、これらはいずれ
も、９．６度と２７．２度のピークの発達と言う点で本
発明の範囲に入り、また、電子写真特性もサンプルｌに
比してやや低下するものの、高感度かつ高電位の優れた
特性を示している。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図、第４図、第５図、第６図は本
発明の用途である感光体の層構成の具体例を示した各断
面図である。 第７図、第９図、第１０図、第１１図、第１２図、第１
３図は夫々合成例１．２．３．４．５．６によって得ら
れる本発明のチタニルフタロシアニンの各Ｘ線回折図で
ある。 第８図は合成例１のチタニルフタロシアニンの赤外線吸
収スペクトル図である。 第１４図、第１５図、第１６図は夫々比較合成例１２．
３で得られるチタニルフタロシアニンの各Ｘ線回折図で
ある。 第１７図はピーク強度の求め方を示す概略図である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・導電性支持体 ２・・・・・・・・・キャリア発生層 ３・・・・・・・・・キャリア輸送層 ４．４′、４″・・・・・・・・・感光層５・・・・・
・・・・中間層 である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するＸ
   線回折スペクトルのブラッグ角２θが少なくとも９．６
   度±０．２度及び２７．２度±０．２度において夫々Ｘ
   線強度のピークを示し、９．６度±０．２度でのピーク
   のＸ線強度が２７．２度±０．２度でのピークのＸ線強
   度の６０％以上である結晶状態にあるチタニルフタロシ
   アニン。