JPH03162973A - Correcting picture element position - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は複数ビームレーザ走査装置に関し、特に機楓的
な位置合わせ誤りおよびレーザビーム間の電気的な伝播
遅れに起囚する画素位置エラーを修正する電子的修正方
法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a multi-beam laser scanning device, and particularly to a multi-beam laser scanning device, and in particular, to eliminate pixel position errors caused by mechanical misalignment and electrical propagation delays between laser beams. Concerning an electronic correction method for correction.
[従来の技術]
複数ビームレーザ装置は広範囲の用途に使用できるが、
その一用途は感光面にわた−で光ビーtを走査するため
に回転ポリゴンミラーが用いられているプリント装置で
ある。複数のレーザビームプリント装置において用いる
ことにより一時に1行以−ヒの情報を発生させることが
でき、回転ポリゴンミラーの実用速度を保ちながら、例
えばインチ当り480以Lの画素である、高画素分解能
を可能とする。複数ビーム装置はさらに他の能力も提供
する。即ち、複数ビームはスポット群内でスポットを変
調することにより有効書き込みスポットの形を変えるた
めに使用でき、あるいは各画素位置において提供される
光量を変調するために使用できる。[Prior Art] Although multiple beam laser devices can be used for a wide range of applications,
One such application is in printing equipment where a rotating polygon mirror is used to scan a light beam t across a photosensitive surface. Used in multiple laser beam printing devices, it is possible to generate more than one line of information at a time, and while maintaining the practical speed of rotating polygon mirrors, high pixel resolution, e.g. 480 pixels per inch or more, is possible. is possible. Multiple beam devices also offer other capabilities. That is, multiple beams can be used to change the shape of the effective writing spot by modulating the spots within a group of spots, or can be used to modulate the amount of light provided at each pixel location.
複数ビームレーザ装置を用いると単一ビームレーザ装置
に比して顕著な利点を有する反面複数ビームレーザ装置
の場合、プリント位置(画素位置)が行から行に対して
正しく位置決めされていること、即ち一方のレーザによ
り書き込まれる画素が別のレーザにより書き込まれる画
素と適正に整合していることを保証する精密な機楓的位
置合わせを必要とする。レーザアレイを採用している複
数ビーム装置では、画素を正確に位置決めするために緊
密な公差でレーザダイオードをチップ上に位置決めする
ことを要するが、それでもチップ内で半導体のレーザダ
イオードの若干の物理的な位置合わせ誤りの可能性があ
り、レーザスポットが若干変動するレーザアレイでも使
用できる装置を提供することが望まれる。さらに、レー
ザアレイチップは非走査方向で正確なビーム位置合わせ
を提供するため通常傾けられる。しかしながら、傾けら
れることにより走査方向においてビーム間でのオフセッ
トを発生させることになり画素の位置決めの問題を発生
させる。本明細書で使用する機械的位置合わせ誤りとい
う用語は1)レーザアレイ上でのレーザ・スポットの位
置の物理的変動、2)レーザアレイチップ、あるいは本
機楓内での個別のレーザ光源の機械的位置合わせ誤り、
および3)レーザアレイを傾けることにより発生するオ
フセッ1・とを含む。While the use of multi-beam laser systems has significant advantages over single-beam laser systems, in the case of multi-beam laser systems it is important that the print position (pixel position) is correctly aligned from row to row, i.e. It requires precise mechanical alignment to ensure that pixels written by one laser are properly aligned with pixels written by another laser. Multiple-beam devices employing laser arrays require positioning the laser diode on the chip with close tolerances to accurately position the pixels; It would be desirable to provide an apparatus that can be used with laser arrays where there is a possibility of significant misalignment and where the laser spot varies slightly. Additionally, the laser array chip is typically tilted to provide precise beam alignment in non-scanning directions. However, the tilting causes an offset between the beams in the scanning direction, resulting in pixel positioning problems. As used herein, mechanical misalignment refers to 1) physical variations in the position of the laser spot on the laser array, 2) mechanical variations in the laser array chip, or individual laser sources within the machine frame. misalignment,
and 3) offset 1 caused by tilting the laser array.
複数ビームレーザ装置に係わる別の問題は各レーザ光源
に対して異なるレーザ励振器を用いることから発生する
電気的伝播遅れの変動である。Another problem with multiple beam laser systems is the variation in electrical propagation delays resulting from the use of different laser exciters for each laser source.
励振器は同じ設計であるとしても、該励振器を構戊する
諸要素が一方のレーザから他方のレーザヘビームをオン
、オフする際に遅れを変動させることにより画素拉置を
変動させる。これらの変動はレーザ励振器の温度と経年
とにより変動する珂能A<あり、画素位置一ラーは動的
に変動する。Even though the exciter is of the same design, the elements that make up the exciter vary the pixel placement by varying the delay in turning one laser beam on and off from another. These fluctuations vary depending on the temperature and age of the laser exciter, and the pixel position varies dynamically.
従来技術の電子的修正方法はレーザアレイの必要な傾き
による{,7置合わせ誤りに対して多数の画素を修正で
きる。これらの電子的方法のあるもの11
はサブ画素単位の精度を達成する。それらの装置は、高
分解能、即ち1インチ当り480画素以上の装置を計画
する場合、ナノ秒単位の分解能を必要とする。2ナノ秒
までの分解能に対して500 X10611zのクロッ
ク周波数が必要とされる。前述のような分解能を用いる
クロックや高速ロジックは高価である。Prior art electronic correction methods can correct large numbers of pixels for misalignment due to the required tilt of the laser array. Some of these electronic methods achieve sub-pixel accuracy. These devices require nanosecond resolution if high resolution, ie, 480 pixels per inch or higher, devices are planned. A clock frequency of 500 x 10611z is required for resolution up to 2 nanoseconds. Clocks and high-speed logic using the above-mentioned resolution are expensive.
[発叩が解訣しようとする課題]
本発明の目的は電気的伝播遅れ並びに機械的位置合わせ
誤りによるエラーを修正するために、複数ビーム走査レ
ーザ装置と共に用いる電子的修正方法を提供することで
ある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an electronic correction method for use with multiple beam scanning laser devices to correct errors due to electrical propagation delays as well as mechanical misalignment. be.
本発明の別の目的は前述のようなエラーに対する閉ルー
プの電子的修正方法を提供することである。Another object of the invention is to provide a closed-loop electronic correction method for such errors.
本発明のさらに別の目的は比較的低クロック周波数を用
いるが、ナノ秒の範囲内の修正分解能を与える電子的修
正方法を提供することである。Yet another object of the present invention is to provide an electronic correction method that uses relatively low clock frequencies but provides correction resolution within the nanosecond range.
本発明の別の目的は異なるレーザビームの強度の変動並
びにビーム間のレーザスポットサイズの12
変動に対して比較的鈍感な修正方法を提供することであ
る。Another object of the invention is to provide a correction method that is relatively insensitive to variations in the intensity of different laser beams as well as variations in laser spot size between beams.
さらに別の本発明の目的は、機械的位置合わせ誤りある
いは電気的伝播遅れにおいて動的な変動を発生させる温
度および/または経年変化に対して動的に適応していく
電子的修正方法を提供することである。Yet another object of the invention is to provide an electronic correction method that dynamically adapts to temperature and/or aging changes that create dynamic variations in mechanical misalignment or electrical propagation delays. That's true.
[課題を解決するための手段]
本発明はレーザビームの付勢から制御信号が発生される
閉ループ修正装置を提供することによる、複数ビームレ
ーザブリン1・ヘッドにおいて発生する本気的伝播遅れ
並びに機猟的位置合わせ誤り問題に対する電子的修正に
関する。付勢点は次いで希望位置まで動かされ、ビーム
間でマッチングされる。サブ画素単位での修正がタップ
付きあるいはプログラム可能遅延線を用いることにより
比較的低クロック周波数で達成される。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention eliminates serious propagation delays and machine hunting occurring in multiple beam laser beam heads by providing a closed loop correction device in which control signals are generated from laser beam energization. Concerning electronic correction of misregistration problems. The biasing point is then moved to the desired position and matched between the beams. Sub-pixel modification is accomplished at relatively low clock frequencies by using tapped or programmable delay lines.
画素位置を修正する方法は、基準レーザビームがオンと
される位置を検出し、その位置を希望する点に対して凋
幣することを含む。次いで、一時に1個づつ非基準レー
ザビームがオンとされ、それが基準ビームと同じ位置に
来るまで前記のオンする点を調整する。こうして、機械
的かつ電気的スキューがあったとしてもビームが画素を
行間で整合して書き込みできるようにする。The method of modifying pixel position includes detecting the position at which the reference laser beam is turned on and marking that position relative to the desired point. The non-reference laser beams are then turned on, one at a time, and their turn-on points are adjusted until they are in the same position as the reference beam. This allows the beam to write pixels in row-to-row alignment despite mechanical and electrical skew.
一実施例においては、ビームは検出エレメントのトレー
リング・エッジにおいて、オンとされた点を検出するこ
とにより整合される。第2の実施例においては、CCD
アレイの同じ2個のエレメントの接合点において、ビー
ム間で全レーザエネルギの点を適合させることによりビ
ームが整合される。In one embodiment, the beam is aligned by detecting a turned-on point at the trailing edge of the detection element. In the second embodiment, the CCD
At the junction of the same two elements of the array, the beams are aligned by matching the total laser energy point between the beams.
双方の実施例において、タップ付きの遅延線あるいはプ
ログラム可能遅延線がサブ画素単位の分解能を提供する
よう使川される。In both embodiments, tapped or programmable delay lines are used to provide sub-pixel resolution.
本発明の前述の目的並びにその他の特徴や目的、および
それらを達成する態様については、添付図面と関連した
本発明の実施例についての以下の説明を参照すればより
明らかとなり、本発叩自体も最良に理解される。The foregoing objects and other features and objects of the invention, as well as the manner in which they are achieved, will become more apparent with reference to the following description of embodiments of the invention in conjunction with the accompanying drawings, and the present invention itself. best understood.
[実 施 例コ
本発明の適用については、感光面」二に対象の像を形成
し、その像を現像し、次いで、紙あるいはその他のプリ
ン1・受容利料に前記像を融着させることによりプリン
トが作られる電子写真機械の構成内で示すことができる
。殆んどの電子写真機械においては、■子写真プロセス
は転写タイプであって、感光材料が四転ドラムの周りに
置かれるか、あるいはローラ系により駆動されるベルト
として配設される。典型的な転写プロセスにおいては、
感光材料が固定したチャージ発生ステーションの下方を
通され、感光面全体にわたり通常数百ボルトの比較的均
一な静電チャージが付与される。次に感光体は像形成ス
テーションまで運ばれ、そこで光線発生源から光線を受
け取る。光源が完全に起動すると感光体は放電するかあ
るいはチャージを比較的低レベルまで低下させ、一方光
源がオフとされるか中間レベルで起動されるか、比較的
短時間起動されると、感光体は高電圧レベルを持ち続け
る。このようにして、感光利料は、15
受容材−1二にプリントしたいと思うプリント、陰影等
に対応するチャージパターンを有するようにされる。[Example] Application of the present invention involves forming an image of an object on a photosensitive surface, developing the image, and then fusing said image to paper or other material. can be illustrated within the configuration of an electrophotographic machine in which prints are made. In most electrophotographic machines, the photographic process is of the transfer type, in which the photosensitive material is placed around a four-wheel drum or arranged as a belt driven by a system of rollers. In a typical transcription process,
The photosensitive material is passed beneath a fixed charge generating station, which applies a relatively uniform electrostatic charge, typically several hundred volts, across the photosensitive surface. The photoreceptor is then transported to an imaging station where it receives light from a light source. When the light source is fully activated, the photoreceptor discharges or reduces its charge to a relatively low level, whereas when the source is turned off, activated at an intermediate level, or activated for a relatively short period of time, the photoreceptor discharges or reduces its charge to a relatively low level. continues to have high voltage levels. In this way, the photosensitive dye is made to have a charge pattern corresponding to the print, shading, etc. desired to be printed on the receiving material.
電子写真プリンタにおける光線発生源は、特定の画素領
域において光伝導体を露出するパワーあるいは時間の長
さを制御するようビームがキャラクタ発生器により変調
されるレーザ手段から構成されることが多い。複数ビー
ムレーザ装置においては、キャラクタ発生器は一時に1
本以]二のビームを変調することができ、そのため一時
に1行以上の画素の書き込みができる。The light source in electrophotographic printers often consists of a laser means whose beam is modulated by a character generator to control the power or length of time that exposes the photoconductor in a particular pixel area. In a multi-beam laser system, the character generator is one at a time.
Two beams can be modulated, so more than one row of pixels can be written at a time.
感光体上に像を形成した後、像は本機械の現像ステーシ
ョンに運ばれ、そこでトナーと称する現像材が像の上に
置かれる。この材料は通営粉末の形態であって、感光体
の選択した領域に粉末を堆積させるようチャージを有し
ている。After forming the image on the photoreceptor, the image is transported to the development station of the machine where a developer material, called toner, is placed over the image. This material is in the form of a continuous powder and has a charge to deposit the powder on selected areas of the photoreceptor.
現像された像は現像器から転写ステーションまで運ばれ
、そこで通常紙であるコピイ受容材が現像された像と兼
尻され、紙の裏側にチャージが移されることにより、感
光体から紙が剥離されると、16
トナー制は紙のーLに保持され、感光体からは除去され
る。The developed image is transported from the developer to a transfer station, where a copy receiving material, usually paper, is combined with the developed image and a charge is transferred to the back side of the paper, causing the paper to be separated from the photoreceptor. Then, the 16 toner system is retained on the paper L and removed from the photoreceptor.
プロセスの残りのステップは1・ナー像をコピイ用紙に
永久的に定着させ、感光体を再使用できるようにその上
の残留トナーを清浄にすることである。The remaining steps in the process are 1. Permanently fixing the toner image to the copy paper and cleaning the photoreceptor of any residual toner thereon so that it can be reused.
第1図は本発明を実施するために使用する典型的な電子
写真機楓を示す。感光材10は、Aの方向に回転するよ
う、図示していない運動手段により駆動されるドラムl
1の表面に設置される。チャージ発生器12がチャージ
ングステーション12′ において感光体の表面にわた
って数百ホル1・の均一なチャージを付j−J,する。FIG. 1 shows a typical electrophotographic machine used to practice the present invention. The photosensitive material 10 is mounted on a drum l driven by a moving means (not shown) so as to rotate in the direction A.
installed on the surface of 1. A charge generator 12 applies a uniform charge of several hundred holes over the surface of the photoreceptor at a charging station 12'.
チャージされた感光体は、図示していない、暗箱内に装
着され、例えば複数ビームレーザ発生器のような光線発
生源から構成されるプリントヘッド13まで回転する。The charged photoreceptor is mounted in a dark box (not shown) and rotated to a printhead 13, which comprises a light beam source, such as a multi-beam laser generator.
この光源は像形成ステーション13’ において、チャ
ージされた感光体を選択的に露出し、現像したい領域に
おいて感光体を放電するか(放電された領域を現像する
方法、即ちDAD法)あるいは1・ナーの無域を現像す
る方法、即ちCAD法)。This light source selectively exposes the charged photoreceptor in the imaging station 13' and either discharges the photoreceptor in areas desired to be developed (discharged area development method, i.e., DAD method) or A method of developing an infinite area (i.e. CAD method).
DAD法に対しては、感光体の放電された領域は、トナ
ーを付lj4することによって感光体がデータの可視像
を有するようにさせる現像装置14により現像ステーシ
ョン14′で現像される。現像された像は転写ステーシ
ョン15′ まで回転し、そこでBの方向に運動してい
るプリント用紙が感光体の表而と並置される。トナー上
のチャージに対して極性が逆のチャージが転写チャージ
発生器15によりプリント用紙の裏側に位置され、その
ため紙が感光体の表面から剥離されると、トナーは紙に
誘引され、感光体10の表面から離れる。残留l・ナー
は清浄装置16により清浄ステーション16′において
感光体から掃除される。For the DAD method, the discharged areas of the photoreceptor are developed at a developer station 14' by a developer 14 which applies toner to cause the photoreceptor to have a visible image of the data. The developed image is rotated to transfer station 15' where a print sheet moving in direction B is juxtaposed with the surface of the photoreceptor. A charge opposite in polarity to the charge on the toner is placed on the back side of the print paper by the transfer charge generator 15 so that when the paper is peeled from the surface of the photoreceptor, the toner is attracted to the paper and transferred to the photoreceptor 10. away from the surface. Residual l-toner is cleaned from the photoreceptor at cleaning station 16' by cleaning device 16.
像形成ステーション13′ において感光体1oに光線
を選択的に付与することは、プリントヘッド変調手段1
7を介して達成される。半導体レーザダイオードに対し
て、プリントヘッド変調器は、パターンデータに従って
感光体の放′iシ程度を変えるベく長時間あるいは短時
間光源を発光させるか、パターンデータに従って照射強
度を強弱させるため光線発生源を発光させる電源を含む
。いずれにしても、変調はメモリ19に記憶されたデー
タに従って生ずる。前記データはラスタバッファ18に
送られ、さらにプリントヘッド変調器へ送られる。Selectively applying a beam of light to the photoreceptor 1o at the imaging station 13' includes printhead modulation means 1.
This is achieved through 7. For a semiconductor laser diode, a print head modulator is used to emit a light source for a long or short time to change the degree of radiation of the photoreceptor according to pattern data, or to generate light to increase or decrease the irradiation intensity according to pattern data. includes a power source that causes the source to emit light. In any case, the modulation occurs according to the data stored in memory 19. The data is sent to a raster buffer 18 and then to a printhead modulator.
第2図は第1図に示す電子写真機械のプリントヘッド1
3において使用する光学走査装置を示す。Figure 2 shows print head 1 of the electrophotographic machine shown in Figure 1.
Fig. 3 shows the optical scanning device used in Fig. 3.
第2図に示す複数ビーム装代においては、概ね共軸線関
係の4本のレーザビーム40〜43が複数ビームレーザ
アレイモジュール24から放射されているものとして示
されている。4本のレーザビームは円柱レンズ25を通
り各々回転ポリゴンミラーの表面26に集光される。ビ
ームは回転ミラーから負の倍率の球面レンズ群27、ア
ナモルフィックレンズ群28および正の倍率の球面レン
ズ群29を介して感光体10の表面−1二に反射される
。第2図は折而げミラー80、出口ウインドウ31,感
光体10を横切る走査長さ32およびビーム拡大光学系
33とを示す。各レーザビームからの光線を光検出器3
5に反射させ1つ
て走査開始(SOS)信号を引き出すために反射面34
が設けられている。走査終了(EOS)信号を発生させ
るために類似の装置を用いるか、あるいは反射面が走査
光線ビームの終りを検出器35へ導き同じ検出器をSO
SとEOS信号の双方に対してい用いることができる。In the multiple beam arrangement shown in FIG. 2, four generally coaxial laser beams 40-43 are shown being emitted from the multiple beam laser array module 24. The four laser beams pass through a cylindrical lens 25 and are each focused on a surface 26 of a rotating polygon mirror. The beam is reflected from the rotating mirror onto the surface -12 of the photoreceptor 10 via a negative magnification spherical lens group 27, an anamorphic lens group 28, and a positive magnification spherical lens group 29. FIG. 2 shows folding mirror 80, exit window 31, scan length 32 across photoreceptor 10, and beam expansion optics 33. The light beam from each laser beam is detected by a photodetector 3.
reflective surface 34 to reflect the start of scan (SOS) signal to
is provided. A similar device may be used to generate an end of scan (EOS) signal, or a reflective surface may direct the end of the scanning light beam to the detector 35, and the same detector may be
It can be used for both S and EOS signals.
第3図は、プロセス方向pにおいて画素を正しく位置さ
せるためにレーザアレイモジュール24を傾ける必要の
あることを示す。インチ当り480画素の解像力におい
ては、画素はインチ間隔(第3図のbの寸法)の480
分の1毎に位置させる必要がある。アレイ24上のレー
ザスポットは、プロセス方向の軸線pに対して平行にレ
ーザアレイ24を位置させるためには同様の近接した間
隔である必要がある。しかしながら、レーザアレイをそ
のような詰めた公差に製作することは実用的でない。FIG. 3 shows that the laser array module 24 needs to be tilted in order to correctly position the pixels in the process direction p. At a resolution of 480 pixels per inch, the pixels are 480 pixels per inch (dimension b in Figure 3).
It is necessary to position it every 1/10th. The laser spots on array 24 need to be similarly closely spaced to position laser array 24 parallel to the process direction axis p. However, it is impractical to fabricate laser arrays to such tight tolerances.
従って、アレイ24は、bの距離より大きい距離だけレ
ーザスポットを離しても、依然として画素を走査ライン
の間の距離bだけ正しく隔置させる角度に傾けられる。Thus, array 24 is tilted at an angle that allows the laser spots to be separated by a distance greater than the distance b and still correctly space the pixels by the distance b between scan lines.
そのようにすることにより、20
レーザスポットは走査方向Sにおいては距離Cだけオフ
セッ1・される。従って、画素f1゜liを走査方向に
おいて適正に合わせるために距離Cだけ横移動するに必
要な時間だけレーザビーム間で走査方向におけるプリン
トの開始をレーザアレイ装置において電子的にオフセッ
トする必要がある。By doing so, the 20 laser spot is offset by a distance C in the scanning direction S. It is therefore necessary to electronically offset the start of printing in the scan direction between the laser beams by the time required to traverse the distance C to properly align pixel f1°li in the scan direction.
レーザビーム40が基準レーザとして選定されるとすれ
ば、レーザビーム41によりプリントされる画素は、レ
ーザビーム41が距離Cだけ横移動するに十分な時間だ
け遅れる必要がある。同様にビーム42によりプリント
される画素はビーム4lの遅れの約2倍の量遅れる必要
があり、ビーム43によりプリントされる画素はビーム
4lの遅れの量の約3倍遅れる必要がある。このような
タイプの修正を提供する装霞が考案された訳であるが、
従来技術による装置はビーム間の電気的伝播の遅れを考
慮に入れていなかった。If laser beam 40 is selected as the reference laser, the pixels printed by laser beam 41 must be delayed by a sufficient time for laser beam 41 to traverse a distance C. Similarly, pixels printed by beam 42 need to be delayed by about twice the amount that beam 4l is delayed, and pixels printed by beam 43 need to be delayed by about three times the amount that beam 4l is delayed. A system was devised to provide this type of correction;
Prior art devices did not take into account electrical propagation delays between beams.
第4図は電気的伝播遅れの作用を示し、かつ機械的な位
置合わせ誤り要素の他に、画素が正しく並ぶように電気
的伝播遅れを追加する必要のあることを示す。即ち、走
査ライン41における、基準走査ライン40に対する正
確な遅れは、機城的エラーCと共に電気的エラーeを考
慮に入れるべきである。FIG. 4 illustrates the effect of electrical propagation delays and shows that in addition to the mechanical misalignment component, electrical propagation delays must be added to ensure that the pixels line up correctly. That is, the exact delay in the scan line 41 relative to the reference scan line 40 should take into account the mechanical error C as well as the electrical error e.
第5図は必要な修正を行うための回路の単純なブロック
図である。ゲート制御された画素クロック信号44が遅
延線45に供給され、適当なときにレーザ励振器46を
作動させてレーザ47を付勢する。FIG. 5 is a simple block diagram of the circuitry for making the necessary modifications. A gated pixel clock signal 44 is provided to a delay line 45 to activate a laser exciter 46 to energize a laser 47 at the appropriate times.
レーザ励振器46に対する正確な遅れは遅延選択ライン
48を介して提供される。同様に、複数ビーム装置にお
けるその他のレーザ励振器に対する他の遅れは各秤の走
査ラインに沿って各画素を適正に整列させるための適正
な遅れと共に提供される。The precise delay to laser exciter 46 is provided via delay select line 48. Similarly, other delays for other laser exciters in a multiple beam device are provided with appropriate delays to properly align each pixel along each scale scan line.
第6図は電気的伝播遅れ並びに機械的位置合わせ誤りを
修正するために必要とされる情報を提供する光検出器3
5の実施例を示す。走査タイミング修正装置に対して要
求されるエレメントの1つは、ビーム間の機槻的および
電気的なタイミング・スキューを測定しうる装置である
。第6図に示す装置は、その位置を第2図において示す
2個のエレメントからなる走査開始(SOS)センサ3
5である。前記センサは感光而10の近傍にある必要は
ないが、ポリゴンミラーからビームが集中される場所と
、相似の距離に位置すべきである。第6図に示す2個の
エレメントからなるセンサ35はビームの走査方向に対
して垂直に取り付けられている。FIG. 6 shows a photodetector 3 that provides the information needed to correct electrical propagation delays as well as mechanical misalignment.
Example 5 is shown below. One of the required elements for a scan timing correction system is a device that can measure mechanical and electrical timing skew between beams. The apparatus shown in FIG. 6 includes a two-element start of scan (SOS) sensor 3 whose position is shown in FIG.
It is 5. The sensor need not be in close proximity to the photoreceptor 10, but should be located at a similar distance to where the beam is focused from the polygon mirror. A two-element sensor 35 shown in FIG. 6 is mounted perpendicular to the beam scanning direction.
従来技術において示された典型的なタイミング構戊にお
いては、基準レーザビームは例えば検出器35のような
2個のエレメントからなる検出器を横切って移動し、第
1のエレメント50からの走査開始パルスとエレメント
5lからの第2のパルスを提供する。2番目の走査にお
いて、基準レーザはエレメント50が横切られるまで、
付勢され、次いで消勢される。その後の短い時間、レー
ザ1は付勢され、整合しているエレメント51を照射す
る。In a typical timing arrangement shown in the prior art, the reference laser beam is moved across a two-element detector, such as detector 35, and a scan start pulse from the first element 50 is detected. and a second pulse from element 5l. In the second scan, the reference laser continues until element 50 is traversed.
energized and then deenergized. For a short time thereafter, the laser 1 is energized and illuminates the aligned element 51.
こうして基準レーザの第2のパルスに対してレーザ1を
適合させるに要する遅れの量を決めることができる。し
かしながら、この従来技術による方法は基準レーザと非
基準レーザとの間の機械的位置合わせ誤りのみ測定し、
パルスが付勢されてい23
るレーザビームから発生されるので電気的な伝播遅延を
mリ定しない。電気的伝播遅れを測定するためには、非
基準レーザのオンの時間と共に基準レーザのオンの時間
から作動する方法を考案する必要がある。そのようにし
て、機械的位置合わせ誤りと電気的伝播遅れとを一緒に
測定することができる。The amount of delay required to adapt laser 1 to the second pulse of the reference laser can thus be determined. However, this prior art method only measures mechanical misalignment between the reference and non-reference lasers;
Since the pulses are generated from an energized laser beam, electrical propagation delays are not determined. In order to measure the electrical propagation delay, it is necessary to devise a method that works from the on-time of the reference laser as well as the on-time of the non-reference laser. In that way, mechanical misalignment and electrical propagation delay can be measured together.
第6図に示す2個のエレメントからなるセンサは、異な
るレーザビームが通過する際のそれらの相対位置を検出
するために本発明において用いられる。第7図に関して
詳細に説明するように、走査開始位置をサブ画素単位で
修正するために遅延線が使用される。本発明の装置にお
いては、161期化は走査開始センサエレメント50か
ら達成される。The two-element sensor shown in FIG. 6 is used in the present invention to detect the relative positions of different laser beams as they pass through. As explained in detail with respect to FIG. 7, delay lines are used to modify the scan start position on a sub-pixel basis. In the device of the present invention, 161 initialization is accomplished from the scan start sensor element 50.
即ち基準レーザビームが走査の開始、即ちセンサエレメ
ント50を付勢すると、ゲー1・された制御クロックは
再同期化される。基準レーザ、例えば第3図におけるレ
ーザビーム40はそれがセンサエレメント50に達する
時間の前にオンとされる。基準レーザビームが走査開始
センサエレメント50を付24
勢すると、同期パルスが発生し、これはゲートされた制
御クロックをゲート制御するために用いられる。基準レ
ーザビーム40は同期信号発生後オフとされ、次いで整
合センサエレメント51のトレーリング・エッジと離れ
ると同時にオンとされる。That is, when the reference laser beam begins scanning, ie, energizes the sensor element 50, the gated control clocks are resynchronized. A reference laser, e.g. laser beam 40 in FIG. 3, is turned on before the time it reaches sensor element 50. When the reference laser beam energizes the scan start sensor element 50, a synchronization pulse is generated, which is used to gate the gated control clock. The reference laser beam 40 is turned off after the synchronization signal is generated and then turned on as soon as it leaves the trailing edge of the aligned sensor element 51.
このようにするためには、夕ロックの値がダウンカウン
タ64(第8図)にロードされ、該ダウンカウンタ64
はセンサエレメント50と整合センサエレメント51の
トレーリング・エッジとの間のクロックパルスの数を近
似する。カウンタが零に達すると、基準レーザ40が再
びオンとされ、整合センサが付勢された場合、先の値よ
り1だけ大きく増分した新しい値がダウンカウンタにロ
ードされ、プロセスが再開される。整合センサ51が間
び{−J勢されると、夕゛ウンカウンタにおける1直は
再び1だけ増分され、プロセスが再開される。このよう
に、整合センサエレメントが基準レーザビームにより付
勢されなくなるまでプロセスは繰り返される。To do this, the value of the evening lock is loaded into the down counter 64 (FIG. 8);
approximates the number of clock pulses between sensor element 50 and the trailing edge of matched sensor element 51. When the counter reaches zero, the reference laser 40 is turned on again, and if the alignment sensor is energized, a new value incremented by one over the previous value is loaded into the down counter and the process restarts. When alignment sensor 51 is activated, the one shift in the counter is again incremented by one and the process is restarted. The process is thus repeated until the aligned sensor element is no longer energized by the reference laser beam.
前記付勢がない時点で、ダウンカウンタは1だけ減分さ
れ、ダウンカウンタにおけるクロ・ノクノくルスの遅れ
の数が、基準レーザ40が走査開始位置から整合センサ
のトレーリング・エッジまで運動するに要した時間の長
さを近似する。この時点において、経過的調整は完全で
あって、微調整が行われる。即ち、第8図に示すプログ
ラム可能遅延線63が同様に調整され、整合センサがビ
ームの存在を検出する、最終クロックパルスの部分を提
供する。At the time of said deenergization, the down counter is decremented by 1 and the number of lags of clock pulses in the down counter increases as the reference laser 40 moves from the start of scan position to the trailing edge of the alignment sensor. Approximate the length of time required. At this point, the historical adjustments are complete and fine adjustments are made. That is, the programmable delay line 63 shown in FIG. 8 is similarly adjusted to provide the portion of the final clock pulse at which the alignment sensor detects the presence of the beam.
第7図は、タップ{=jき又はプログラム可能の遅延線
63により発生された一連のパルスの付与を示し、それ
によりゲート制御されたクロックパルス53の時間内で
微細な分解能を提供することができる。経過的調整が完
了した後は、プログラム可能遅延線63が最小にセット
される。整合センサが付勢されると、遅れは1だけ増分
され、整合センサが付勢されなくなるまでプロセスは継
続する。第7図においては、整合パルス54はタツブB
とタツプCとの間で発生することが検出される。1ある
いは2ナノ秒の分解能を有するタップ付き遅延線が得ら
れるので、パルス54の立トリは1または2ナノ秒の分
解能まで検出でき、これは分解能がインチ当り480画
素以上であったとしても1画素の10分の1以下である
。このように、基準レーザビーム40が同期信号を発生
させる時刻からレーザビーム40が幣合センサを出てい
く時刻までの遅れ時間が識別される。その遅れ時間はレ
ーザビーム40による書き込みを制御し、適正な遅れエ
レメント、例えば第5図におけるエレメント45ヘロー
ドされる。FIG. 7 shows the application of a series of pulses generated by a tapped or programmable delay line 63, thereby providing fine resolution within the time of gated clock pulses 53. can. After the temporal adjustment is complete, programmable delay line 63 is set to a minimum. When the alignment sensor is energized, the delay is incremented by one and the process continues until the alignment sensor is de-energized. In FIG. 7, matching pulse 54 is shown at tab B.
The occurrence between tap C and tap C is detected. Because a tapped delay line with a resolution of 1 or 2 nanoseconds is available, the rising edge of pulse 54 can be detected to a resolution of 1 or 2 nanoseconds, even if the resolution is greater than 480 pixels per inch. This is less than one-tenth of a pixel. In this manner, the delay time from the time the reference laser beam 40 generates the synchronization signal to the time the laser beam 40 exits the balance sensor is identified. The delay time controls writing by laser beam 40 and is loaded into the appropriate delay element, such as element 45 in FIG.
他のレーザビームを基準ビームに対して調整する場合、
以下のようにプロセスが繰り返される。When aligning other laser beams with respect to the reference beam,
The process repeats as follows.
SOSセンサエレメント50を付勢して間期化パルス5
2を発生させることができるように基準ビームがオンと
される。次いで基準ビームはオフとされ、次のレーザビ
ーム即ちレーザビーム41が、それが整合センサエレメ
ント51を離れるときにオンとされる。このことはダウ
ンカウンタ75において近似カウントをセットすること
により達成される。整合センサ51がレーザビーム41
を検出すると、ダウンカウンタのカウントは、整合セン
サがそれ以27
上付勢されなくなるまで1づつ増分される。その点にお
いて、ダウンカウンタは1たけ仄され、プログラム可能
遅延線75が調整されて、整合用センサがそれ以上付勢
されない最終クロックサイクルの部分を見い出す。その
ようにして、糸準レーザビーム40が同期化信号を発生
させる時刻からレーザビーム41が整合センサを出てい
く時間までに要する遅延時間が識別される。その遅延時
間はレーザ41による書き込みを制御するために使用さ
れ、第5図の適正な遅延エレメントにロードされる。energizes the SOS sensor element 50 to generate an interperiod pulse 5
The reference beam is turned on so that 2 can be generated. The reference beam is then turned off and the next laser beam, laser beam 41, is turned on as it leaves aligned sensor element 51. This is accomplished by setting an approximate count in down counter 75. The matching sensor 51 is connected to the laser beam 41
When 27 is detected, the count of the down counter is incremented by one until the alignment sensor is no longer energized. At that point, the down counter is incremented by one and the programmable delay line 75 is adjusted to find the portion of the final clock cycle where the alignment sensor is no longer energized. In that way, the delay time required from the time the alignment laser beam 40 generates the synchronization signal to the time the laser beam 41 exits the alignment sensor is identified. The delay time is used to control writing by laser 41 and is loaded into the appropriate delay element of FIG.
同様に、複数ビーム装置におけるその他のいずれのレー
ザも、各ビームに対して適当な遅延値を見出すよう基準
レーザに対して検査される。この方法においては各レー
ザビームの立上りが利用されるので、各レーザビームの
遅延係数が走査方向における電気的並びに機械的スキュ
ーをもたらす。Similarly, any other lasers in the multiple beam system are tested against the reference laser to find appropriate delay values for each beam. Since the rise of each laser beam is utilized in this method, the delay coefficient of each laser beam results in electrical and mechanical skew in the scanning direction.
第8図は極めて高速のロジックを川いることなく機械的
および電気的スキューを高分解能で測定する装置の詳細
ブロック図である。第8図は、チャンネル1に近似のチ
ャンネル0を備えた、228
本のレーザ装置に対する諸エレメントを示す。唯一の差
異はチャンネル0が追加のANDゲー1・60を何する
点である。双方のチャンネルの作動は概ね同じであるの
で、チャンネル0の動作のみを詳細に説明する。FIG. 8 is a detailed block diagram of an apparatus for measuring mechanical and electrical skew with high resolution without requiring very high speed logic. FIG. 8 shows the elements for a 228 laser system, with channel 0 approximating channel 1. The only difference is what channel 0 does with the additional AND game 1.60. Since the operation of both channels is generally the same, only the operation of channel 0 will be described in detail.
第8図に示す装置の動作に対してキーエレメントが2個
ある。第1は、高分解能プログラム可能遅延線63が正
確な間接的時間測定を可能とすることである。プロセス
は異なるビームの相対位置を基準化する零化タイプであ
るので、プログラム可能遅延線の絶対精度は重要でない
。第2に、ビームが整合されたセンサを横移動するのを
概ね終ったときレーザを付勢することにより電気的スキ
ューが測定に含まれることである。There are two key elements for the operation of the device shown in FIG. First, the high resolution programmable delay line 63 allows accurate indirect time measurements. The absolute accuracy of the programmable delay line is not important because the process is a nulling type that scales the relative positions of the different beams. Second, electrical skew is included in the measurement by energizing the laser approximately when the beam has finished traversing the aligned sensor.
第8図はエレメント50から走査の開始信号を受け取る
制御装置61を示す。制御装置61は整合過程を開始す
べくダウンカウンタ64にカウントをロードする。プロ
グラム可能遅延線63はサブ画素単位の修正を提供し、
全体的遅れがORゲート65およびANDゲート60を
介してレーザ制御−路66まで通される。また、制御回
路66は、レーザチツプ69を付勢ずるレーザ励振器6
8を変調するために像データ67を受け取る。検出エレ
メント5iからの整合信号は整合センサ上のビームのラ
ッチ(BOASラッチ)70により受け取られる。整合
センサの信号は極めて持続時間の短いものであるので、
ラッチ70が利用される。FIG. 8 shows a control device 61 that receives a scan start signal from element 50. Controller 61 loads a count into down counter 64 to begin the matching process. A programmable delay line 63 provides sub-pixel correction;
The global delay is passed through OR gate 65 and AND gate 60 to laser control path 66. The control circuit 66 also controls a laser exciter 6 that energizes the laser chip 69.
8. Image data 67 is received for modulation. The alignment signal from the detection element 5i is received by the beam latch (BOAS latch) 70 on the alignment sensor. Since the matched sensor signal is of extremely short duration,
A latch 70 is utilized.
第9A図は第8囚の目路における各種のタイミングイベ
ントを示す。第9B図は同期化位置の周りのタイミング
の拡大図である。調整局面の間、像データ67に含まれ
たデータは全て「1」であり、データがレーザ励振器6
8にクロツクされるとレーザ0が光線を放射するように
させる。制御装置61は、本装置に対するタイミングセ
ンサであり、意欲決定エレメントである。それは各走査
に対してrSOS PWRJ信号を発生させる。その
信号はANDゲート60に入力される。その結果、基準
レーザは、SOSセンサ50の第1のエレメントを付勢
でき、そのためSOS信号を発生する時にオンとされる
。SOS信号は全装置に対する同期化信号である。SO
S PWR信号は制御装置61がSOSの立上りを検
出するまで作動状態のままである。各走査時、精密発振
器71により発生するゲー1・制御されたクロック信号
はSOSの検出と同時に再同期化される。次いで、制御
装置61はSOSのトレーリング・エッジとゲー1・制
御されたクロック信号との論理的組合せを介してリセッ
トおよび15J朋化信号を発生させる。FIG. 9A shows various timing events in the eighth prisoner's path. FIG. 9B is an enlarged view of the timing around the synchronization position. During the adjustment phase, the data contained in the image data 67 are all "1", and the data is
Clocked to 8 causes laser 0 to emit a beam. The control device 61 is a timing sensor and a motivation determining element for the device. It generates an rSOS PWRJ signal for each scan. The signal is input to AND gate 60. As a result, the reference laser can energize the first element of the SOS sensor 50 and is thus turned on when generating the SOS signal. The SOS signal is a synchronization signal for all devices. S.O.
The SPWR signal remains active until controller 61 detects the rise of SOS. During each scan, the G1 controlled clock signal generated by precision oscillator 71 is resynchronized upon detection of SOS. Controller 61 then generates the reset and 15J standardization signals through a logical combination of the trailing edge of SOS and the G1 controlled clock signal.
制御装置61はCFOのラベルを付した多数の線を介し
て、プログラム可能遅延線63にセットする遅れの量を
決定する。プログラム可能遅延線63は1あるいは2ナ
ノ秒のステップサイズを典型的に有する細密遅延機構で
ある。制御装置6lはまた、ダウンカウンタ64に対し
て適正なカウンタロード値CCOを供給することにより
必要とされる全画素遅延量を決定する。ダウンカウンタ
64は本装置に対する経過的遅延を提供する。制御装置
61がリセット指令を発すると、CCOはラッチ70の
セッティングと共に、ダウンカウンタ64にロードされ
る。この時、出力ラッチ70は第9A図に示すよう31
に高レベルとなる。Controller 61 determines the amount of delay to set in programmable delay line 63 via a number of lines labeled CFO. Programmable delay line 63 is a fine delay mechanism that typically has a step size of 1 or 2 nanoseconds. The controller 6l also determines the required total pixel delay amount by providing the appropriate counter load value CCO to the down counter 64. Down counter 64 provides an elapsed delay for the device. When the control device 61 issues a reset command, the CCO is loaded into the down counter 64 along with the setting of the latch 70. At this time, the output latch 70 goes to a high level at 31 as shown in FIG. 9A.
信号のタイミングは同期化時間の周りで最も重要である
ので、第9B図に拡大図を示す。間期化信号は走査タイ
ミング修正装置のタイミングイベントの始まりであって
、SOS信号の作動から特定−数のクロックザイクルの
後に制御装置61により発生される。同期化信号はAN
Dゲート62に対する一方の人力であり、クロック信号
が低レベルである時に遷移せねばならない。同期化信号
は数クロツクサイクルの間低レベルのままであってプロ
グラム可能遅延線63がクリャされて低レベルに留まる
よう保証する。制御装置6{は、同期化パルスの立」ニ
リエッジが、走査毎に走査開始信号の降下エッジに対し
て繰り返し可能であることを保証せねばならない。入力
を遅延線にゲートすることにより、遅延線を用いてクロ
ック信号」二で、クロックの1サイクルより大きい遅れ
を発生させることができる。Since the timing of the signals is most important around the synchronization time, an expanded view is shown in FIG. 9B. The interperiodization signal is the beginning of a timing event for the scan timing modifier and is generated by controller 61 a certain number of clock cycles after activation of the SOS signal. The synchronization signal is AN
One input to D-gate 62, which must transition when the clock signal is low. The synchronization signal remains low for several clock cycles to ensure that programmable delay line 63 is cleared and remains low. The controller 6 must ensure that the rising edge of the synchronization pulse is repeatable with respect to the falling edge of the scan start signal from scan to scan. By gating the input to a delay line, the delay line can be used to create a delay in the clock signal of more than one cycle of the clock.
第10図は本発明の第2の実施例を示す。電荷結合装置
(CCD)アレイ80が複式エレメントから32
なる走査始点センサ35の代りに用いられる。アレイ8
0はセンサエレメント35と概ね同じ位置において第2
図に示す光学装置に位置している。CCDアレイ80は
相互に相対的にレーザビームの位置ヲ検出するように構
成されている。基本的には、CCDアレイはフォトダイ
オードと類似の一連の半導体エレメントであって、光線
がエレメントに衝突すると、該エレメントに付属した容
量がチャージされる。チャージの量は供給されたエネル
ギ、即ち光線が半導体に衝突している時間の間の光線の
強度により決められる。CCDアレイは一次元あるいは
二次元のいずれでもよく、この実施例の場合、第10図
に示すように一次元のCCDアレイ80が使用されてい
る。前記アレイは付属の屯子装置を有し、そのためいず
れか特定の半導体に供給されるエネルギの量を確認でき
る。第10図に示すアレイにおいては、Nエレメントア
レイが利用されている。FIG. 10 shows a second embodiment of the invention. A charge coupled device (CCD) array 80 is used in place of the 32 dual element start-of-scan sensor 35. array 8
0 indicates the second position at approximately the same position as the sensor element 35.
Located in the optical device shown in the figure. CCD array 80 is configured to detect the position of the laser beams relative to each other. Basically, a CCD array is a series of semiconductor elements, similar to photodiodes, which charge a capacitance associated with the elements when a beam of light strikes them. The amount of charge is determined by the energy supplied, ie the intensity of the light beam during the time it impinges on the semiconductor. The CCD array may be either one-dimensional or two-dimensional; in this embodiment, a one-dimensional CCD array 80 is used as shown in FIG. The array has an attached tracking device so that the amount of energy delivered to any particular semiconductor can be ascertained. In the array shown in FIG. 10, an N-element array is utilized.
本実施例の方法において、基準レーザビーム40はCC
Dアレイを横切る間のある点においてオンとされる。例
えば、基準ビーム40は第lO図に示すように軌跡Aに
おいてCCDエレメント3を横切る間に検出される。軌
跡Bはエレメント3と関連したエネルギがCCDエレメ
ント2における零エネルギレベルに対して、40′で示
すように十分な量だけ上昇していることを示す。エレメ
ント4の間およびそれ以降、CCDアレイのエレメント
と関連したエネルギは全て最大レベル40′である。In the method of this embodiment, the reference laser beam 40 is
It is turned on at some point while traversing the D array. For example, the reference beam 40 is detected while traversing the CCD element 3 in trajectory A as shown in FIG. Trace B shows that the energy associated with element 3 has increased by a sufficient amount, as indicated at 40', relative to the zero energy level in CCD element 2. During element 4 and beyond, the energy associated with the elements of the CCD array are all at maximum level 40'.
このようにしてCCDアレイ80は、エレメント3の横
断r′l1lこ基準レーザビーム40がオンされたこと
を確認する。次に、前述のようなプログラム可能遅延線
が使用されてレーザビーム40のオンの点を置き直し、
そのためエレメント3における全エネルギが正確に侠置
決めされる。即ち、基準レーザビーム40のオンとなる
点を軌跡Cに示す位置まで動かすことによりCCDエレ
メント3の横断の正に開始時に全エネルギに達するよう
にすることが望ましい。プログラム可能遅延線はビーム
がエレメント3を横断する時間の間M−Qにおいて示す
ように一連のパルスを提供することにより遷移(レーザ
ビーム40のオンとなる点)が、プログラム可能遅延線
のタップPおよびQの間で発生するものとして検出され
る。遅れを第5図の回路を通して適当量調整することに
よりレーザビーム40に対するオンの点がシフトし、そ
のため第10図の軌跡Cで示すように、エレメント2と
3との接合点に全レーザエネルギが位置決めされる。In this way, the CCD array 80 confirms that the reference laser beam 40 is turned on across the traverse r'l11 of the element 3. A programmable delay line as described above is then used to reposition the on point of laser beam 40;
The total energy in element 3 is therefore accurately positioned. That is, it is desirable to move the point at which the reference laser beam 40 turns on to the position shown by the trajectory C so that full energy is reached at the very beginning of the traversal of the CCD element 3. The programmable delay line is configured such that the transition (the point at which laser beam 40 turns on) is made by providing a series of pulses as shown at M-Q during the time the beam traverses element 3, at tap P of the programmable delay line. and Q. By adjusting the delay by an appropriate amount through the circuit of FIG. 5, the on point for laser beam 40 is shifted so that all the laser energy is delivered to the junction of elements 2 and 3, as shown by trace C in FIG. Positioned.
基準ビームと適合するよう他のビームを調整する際、ビ
ームがCCDアレイの範囲内にあるとき一時に一本づつ
オンとされ、次いでそれもエレメント3においてピーク
になり始めるまで遅れが、調整される。例えば第lO図
の軌跡Aはレーザ41の立上りを示し、かつ同時にレー
ザ41が基準レーザ40以上の高いエネルギレベルを発
生させることを示す。次いで、プログラム可能遅延線が
利用され、CCDアレイエレメント3上でレーザ41の
オンの正確な位置を確認し、次いでレーザ41のオンの
点をレーザ40のオンの点に適合するよう動かすべく、
即ち、レーザ4lの最大エネルギがアレイ80のエレメ
ント2.3の接合部において発生するよう調整35
がなされる。このようにして、2本のビームが整合され
る。In adjusting the other beams to match the reference beam, one beam is turned on at a time when it is within range of the CCD array, and then the delay is adjusted until it too begins to peak at element 3. . For example, trace A in FIG. 10 shows the rise of laser 41 and at the same time shows that laser 41 generates a higher energy level than reference laser 40. A programmable delay line is then utilized to ascertain the exact turn-on position of laser 41 on CCD array element 3 and then move the turn-on point of laser 41 to match the turn-on point of laser 40.
That is, the adjustment 35 is made such that the maximum energy of the laser 4l is generated at the junction of the elements 2.3 of the array 80. In this way, the two beams are aligned.
CCDアレイの実施例の一つの利点は、もし特定のレー
ザビームが別のレーザより明るいか又はスポットサイズ
が大きい場合、どのレーザビームがCCDアレイに衝突
しているかとは無関係に全エネルギ点は依然として同じ
であることである。One advantage of the CCD array embodiment is that if a particular laser beam is brighter or has a larger spot size than another, the total energy point remains independent of which laser beam is impinging on the CCD array. It is to be the same.
エネルギの絶対値は測定されず、むしろレーザスポット
が全エネルギに達する位置が測定される。The absolute value of the energy is not measured, but rather the position where the laser spot reaches its full energy.
レーザビームのオンに対する測定がなされるので、電気
的伝播遅延並びに機楓的位置合わせ誤りが位置決めの過
程で配慮される。Since measurements are made for the laser beam on, electrical propagation delays as well as mechanical misalignment are taken into account in the positioning process.
本発明を好適実施例に関して図示しかつ説明してきたが
、本発明の精神や範囲から逸脱することなく本発明の形
態および細部において変更が可能なことが理解される。While the invention has been illustrated and described with reference to preferred embodiments, it will be understood that changes may be made in form and detail without departing from the spirit or scope of the invention.
例えば、本発明を、整合センサがレーザビームにより付
勢され、次いでビームがもはや検出されなくなるまで増
分されるような状況について説門してきた。初期走査に
おいて瞥合センサの付勢に失敗すれば、ダウン36
カウンタはビームが検出されるまで減分される。For example, the present invention has been described for a situation where an alignment sensor is energized by a laser beam and then incremented until the beam is no longer detected. If the eye alignment sensor fails to activate during the initial scan, the DOWN36 counter is decremented until a beam is detected.
第1図は電子写真機械の概略図、
第2図は第1図に示す機楓で使用するレーザアレイ光学
装置を示す図、
第3図は、プロセス方向において画素を適正に整合させ
るために傾けているが、そのため修正されない場合走査
方向における画素の整合が不適正となるレーザアレイを
示し、画素幣合が修正されて示されている図、
第4図は機槻的f\γ置合わせ誤りと共に電気的伝括遅
れによる作用を示す目、
第5図は走査方向における許容限度まで画素位置エラー
を低減させる簡単な方法を示すブロック図、
第6図は本発明の一実施例において使用する複式検出方
法を示す図、
第7図は比較的低周波数の夕ロックで高解像度の装置を
達成するためのプログラム可能遅延線の作用を示す園、
第8図は第6図に示すセンサと共に使用する回路のブロ
ック図、
第9A図と第9B図とは第8図に示す回路に介在する信
弓のタイミング線図、および
第10図は本発明の第2の実施例を示す図である。
(外1名)
第
ろ
図
第
4
図
第
0
図
第
7
図
第
5
図
−584−Figure 1 is a schematic diagram of an electrophotographic machine; Figure 2 is a diagram showing the laser array optics used in the machine shown in Figure 1; Figure 3 is tilted to properly align pixels in the process direction. Figure 4 shows a laser array with incorrect pixel alignment in the scan direction if not corrected, with the pixel alignment corrected. FIG. 5 is a block diagram illustrating a simple method for reducing pixel position errors to acceptable limits in the scan direction; FIG. Figure 7 shows the operation of a programmable delay line to achieve a high resolution device with a relatively low frequency evening lock; Figure 8 shows the use with the sensor shown in Figure 6. A block diagram of the circuit, FIGS. 9A and 9B are timing diagrams of the bow interposed in the circuit shown in FIG. 8, and FIG. 10 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. (1 other person) Figure 4 Figure 0 Figure 7 Figure 5 Figure -584-
Claims (1)
の位置を修正する方法において、基準レーザビームがオ
ンとされる位置を検出し、希望する点においてオンとな
るよう前記基準レーザビームの位置を調整し、 非基準レーザビームがオンとされる位置を検出し、 前記基準レーザビームと同じ位置でオンとなるよう前記
非基準レーザビームの位置を調整し、前記の調整された
位置に従って、前記の基準および非基準ビームにより発
生される画素を書き込むことにより機械的および電気的
スキューによる作用を修正するステップを含むことを特
徴とする画素位置を修正する方法。 2)特許請求の範囲第1項に記載の方法において、前記
基準レーザビームがオンとされる位置を検出するステッ
プが、 第1の光検出エレメントを横切って、付勢された状態で
前記基準ビームを走査して基準信号を発生させ、 前記基準ビームをオフとし、 第2の光検出エレメントを横切って前記基準ビームを走
査し、かつ前記基準ビームを、前記第2のエレメントか
ら第1のパルスを発生させるタイミングでオンとさせる
ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
法。 3)特許請求の範囲第2項に記載の方法において、前記
基準ビームの位置を調整するステップが、前記第1のパ
ルスが前記第2の光検出エレメントをそのトレーリング
・エッジにおいて付勢するように前記第1のパルスのリ
ーディング・エッジを位置決めし直して前記基準パルス
と、前記第1のパルスとの間に基準ビーム時間を設定す
るステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する
方法。 4)特許請求の範囲第3項に記載の方法において、非基
準ビームの位置を検出するステップが、前記基準ビーム
により前記基準パルスを発生させ 前記基準ビームをオフとし、 前記第2の光検出エレメントを横切って前記非基準ビー
ムを走査し、かつ前記第2の光検出エレメントから非基
準パルスを発生させるタイミングで前記非基準ビームを
オンとするステップを含むことを特徴とする画素位置を
修正する方法。 5)特許請求の範囲第4項に記載の方法において、前記
非基準ビームの位置を調整するステップが、前記第2の
光検出エレメントをそのトレーリング・エッジにおいて
付勢するように前記非基準パルスのリーディング・エッ
ジを位置決めし直して前記基準パルスと前記非基準パル
スの間に非基準ビーム時間を設定するステップを含むこ
とを特徴とする画素位置を修正する方法。 6)特許請求の範囲第5項に記載の方法において、前記
第1のパルスのリーディング・エッジを位置決めし直す
ステップが、 前記基準パルスにゲート制御された一連のクロックパル
スを発生し、 前記基準ビームの最初の走査において前記第1のパルス
を発生させ、 前記基準パルスと前記第1のパルスとの間の全クロック
パルスの数を決定し、 前記第1のパルスが発生しなくなるまで前記基準ビーム
の一連の各走査時に前記基準パルスと第1のパルスとの
間の全クロックパルスの数を1だけ増分し、次いでクロ
ックパルスの数を1だけ戻して確定したクロックパルス
数を発生させ、前記ステップにおいて確定された全クロ
ックパルスの最後に続くクロックパルスの間持続時間の
等しい一連の増分パルスを発生させ、 前記第1のパルスの消滅前に増分パルスの数を決定し、 全クロックパルスの数を増分パルスの数に加算して前記
基準時間を測定するステップを 含むことを特徴とする画素位置を修正する方法。 7)特許請求の範囲第6項に記載の方法において、非基
準パルスのリーディング・エッジを位置決めし直すステ
ップが、 前記非基準ビームの最初の走査において前記非基準パル
スを発生させ、 前記基準パルスと前記非基準パルスとの間の全クロック
パルスの数を決定し、 前記の非基準パルスが発生しなくなるまで前記非基準ビ
ームの一連の各走査時に前記基準パルスと前記非基準パ
ルスとの間の全クロックパルスの数を1だけ増分し、次
いで前記全クロックパルスの数を1だけ戻して確定した
全クロックパルス数を発生させ、 前記ステップで確定された全クロックパルスの最後に続
くクロックパルスの間持続時間の等しい一連の増分パル
スを発生させ、 前記非基準パルスの消滅の前に増分パルスの数を決定し
、 決定した全クロックパルス数を増分パルスの数に加算し
て前記非基準ビーム時間を測定するステップを含むこと
を特徴とする画素位置を修正する装置。 8)特許請求の範囲第1項に記載の方法において、前記
基準レーザビームがオンとされる位置を検出するステッ
プが、 CCDアレイを横切って消勢状態で前記基準ビームを走
査し、 前記CCDアレイから信号を発生させるタイミングで前
記基準ビームをオンにする、 ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
法。 9)特許請求の範囲第8項に記載の方法において、前記
基準ビームの位置を調整するステップが、隣接するCC
Dアレイエレメントの接合部において全レーザエネルギ
が検出されるまで基準ビームをオンする点を動かすこと
により達成されることを特徴とする画素位置を修正する
方法。 10)特許請求の範囲第9項に記載の方法において、前
記の非基準ビームの位置を検出するステップが、前記C
CDアレイを横切り消勢状態で前記非基準ビームを走査
し、 前記CCDアレイから信号を発生させるタイミングで前
記非基準ビームをオンにする ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
法。 11)特許請求の範囲第10項に記載の方法において、
前記の非基準ビームの位置を調整するステップが、前記
隣接するCCDアレイエレメントの接合部において全レ
ーザエネルギが検出されるまで前記非基準ビームをオン
とする位置を動かすことにより達成されることを特徴と
する画素位置を修正する方法。 12)特許請求の範囲第11項に記載の方法において、
基準ビームの位置を調整するステップがさらに、前記隣
接するCCDエレメントがまず基準ビームの全レーザエ
ネルギを検出する直前に基準レーザビームがCCDエレ
メントを横切る時間の間一連の増分パルスを発生させ、 全レーザエネルギを検出する前に増分パルスの数を決定
し、 決定された増分パルスの数に従って前記基準レーザビー
ムをオンにする点を動かす ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
法。 13)特許請求の範囲第12項に記載の方法において、
非基準ビームの位置を調整する手段がさらに、特許請求
の範囲第12項においてまず全レーザエネルギを検出す
るものとして識別されているCCDエレメントの直後に
CCDアレイエレメントにおいて全レーザエネルギがま
ず検出されるよう前記非基準ビームをオンにする点を動
かし、前記隣接するCCDエレメントがまず非基準レー
ザビームの全エネルギを検出する直前に非基準レーザビ
ームがCCDエレメントを横切る時間に一連の増分パル
スを発生させ、 全レーザエネルギを検出する前に増分パルスの数を決定
し、 決定された増分パルスの数に従って前記非基準レーザビ
ームのオンとなる点を動かす ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
法。[Claims] 1) In a method for correcting the position of a pixel in the scanning direction of a multi-beam laser scanning device, a position where a reference laser beam is turned on is detected, and the reference laser beam is adjusted so that the reference laser beam is turned on at a desired point. adjusting the position of the beam, detecting a position where a non-reference laser beam is turned on, adjusting the position of the non-reference laser beam so that it is turned on at the same position as the reference laser beam, and adjusting the position of the non-reference laser beam so that it is turned on at the same position as the reference laser beam; A method of correcting pixel position according to the invention, comprising the step of correcting effects due to mechanical and electrical skew by writing pixels generated by said reference and non-reference beams. 2) A method according to claim 1, wherein the step of detecting the position at which the reference laser beam is turned on comprises detecting the reference laser beam in an energized state across a first light detection element. scanning the reference beam to generate a reference signal, turning off the reference beam, scanning the reference beam across a second photodetecting element, and applying a first pulse from the second element to the reference beam; A method for modifying a pixel position, the method comprising the step of turning on at the timing at which the pixel is generated. 3) The method of claim 2, wherein the step of adjusting the position of the reference beam is such that the first pulse energizes the second photodetector element at its trailing edge. A method of modifying pixel position comprising the steps of: repositioning a leading edge of the first pulse to establish a reference beam time between the reference pulse and the first pulse. 4) The method according to claim 3, wherein the step of detecting the position of a non-reference beam includes generating the reference pulse by the reference beam and turning off the reference beam; a method for modifying a pixel position, the method comprising: scanning the non-reference beam across a pixel; and turning on the non-reference beam at a time that causes a non-reference pulse to be generated from the second photodetection element. . 5) A method according to claim 4, wherein the step of adjusting the position of the non-reference beam includes the step of adjusting the position of the non-reference beam such that the non-reference pulse A method for modifying pixel position comprising the steps of: repositioning a leading edge of a pixel to establish a non-reference beam time between the reference pulse and the non-reference pulse. 6) The method of claim 5, wherein the step of repositioning the leading edge of the first pulse generates a series of clock pulses gated to the reference pulse; generating the first pulse in a first scan of the reference beam; determining the number of total clock pulses between the reference pulse and the first pulse; and determining the number of total clock pulses between the reference pulse and the first pulse; incrementing the total number of clock pulses between the reference pulse and the first pulse by 1 during each successive scan, and then incrementing the number of clock pulses by 1 to produce the determined number of clock pulses; generating a series of incremental pulses of equal duration during the clock pulses following the last of the determined total clock pulses, determining the number of incremental pulses before the extinction of said first pulse, and incrementing the number of total clock pulses; A method for correcting pixel position, comprising the step of measuring the reference time by adding it to a number of pulses. 7) The method of claim 6, wherein the step of repositioning a leading edge of a non-reference pulse comprises: generating the non-reference pulse in a first scan of the non-reference beam; determining a total number of clock pulses between the reference pulse and the non-reference pulse; incrementing the number of clock pulses by 1 and then incrementing said number of total clock pulses by 1 to generate a determined total number of clock pulses, lasting for a clock pulse following the last of the total clock pulses determined in said step; generating a series of equally timed incremental pulses, determining the number of incremental pulses before the extinction of the non-reference pulse, and measuring the non-reference beam time by adding the determined total number of clock pulses to the number of incremental pulses; An apparatus for modifying a pixel position, comprising the step of: 8) The method of claim 1, wherein the step of detecting the position at which the reference laser beam is turned on comprises: scanning the reference beam in a de-energized state across a CCD array; A method for correcting a pixel position, comprising the step of: turning on the reference beam at a time when a signal is generated from the reference beam. 9) The method according to claim 8, in which the step of adjusting the position of the reference beam
A method of modifying pixel position, characterized in that this is accomplished by moving the point at which the reference beam is turned on until all laser energy is detected at the junction of the D-array elements. 10) The method according to claim 9, wherein the step of detecting the position of the non-reference beam comprises
A method for modifying pixel position comprising: scanning the non-reference beam in a de-energized state across a CD array; and turning on the non-reference beam at a time to generate a signal from the CCD array. 11) In the method according to claim 10,
The step of adjusting the position of the non-reference beam is accomplished by moving the position at which the non-reference beam is turned on until all laser energy is detected at the junction of the adjacent CCD array elements. How to fix the pixel position. 12) In the method according to claim 11,
The step of adjusting the position of the reference beam further comprises: generating a series of incremental pulses during the time that the reference laser beam traverses the CCD element just before said adjacent CCD element first detects the total laser energy of the reference beam; A method for modifying a pixel position, comprising the steps of: determining a number of incremental pulses before detecting energy; and moving a point at which the reference laser beam is turned on according to the determined number of incremental pulses. 13) In the method according to claim 12,
The means for adjusting the position of the non-reference beam further comprises detecting the total laser energy first in the CCD array element immediately after the CCD element identified in claim 12 as first detecting the total laser energy. moving the point at which the non-reference beam is turned on so as to generate a series of incremental pulses at a time when the non-reference laser beam traverses the CCD element just before the adjacent CCD element first detects the full energy of the non-reference laser beam; , determining a number of incremental pulses before detecting the total laser energy; and moving a point on of the non-reference laser beam according to the determined number of incremental pulses. Method.
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