JPH03167150A - Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketone - Google Patents
Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketoneInfo
- Publication number
- JPH03167150A JPH03167150A JP30357789A JP30357789A JPH03167150A JP H03167150 A JPH03167150 A JP H03167150A JP 30357789 A JP30357789 A JP 30357789A JP 30357789 A JP30357789 A JP 30357789A JP H03167150 A JPH03167150 A JP H03167150A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- groups
- aryl
- cobalt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 40
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 150000004700 cobalt complex Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims abstract description 7
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims abstract description 6
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims abstract description 4
- 125000005157 alkyl carboxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 16
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 25
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 abstract description 4
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 abstract 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 37
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- -1 n- Propyl Chemical group 0.000 description 26
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DGXPASZXUJQWLQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[SiH](CC)OC DGXPASZXUJQWLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- BVQVLAIMHVDZEL-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2-propanedione Chemical compound CC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 BVQVLAIMHVDZEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C1=CC=CC=C1 OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000487 osmium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N oxoosmium Chemical compound [Os]=O JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHUURDQYRGVEHX-UHFFFAOYSA-N prop-1-ynylbenzene Chemical compound CC#CC1=CC=CC=C1 GHUURDQYRGVEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- HIMLFYUFZYQSDE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dicyclohexylpropane-1,3-dione Chemical compound C1CCCCC1C(=O)CC(=O)C1CCCCC1 HIMLFYUFZYQSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPKDKQUFCKJJIH-UHFFFAOYSA-N 1-(4-bromophenyl)-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 IPKDKQUFCKJJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWXZPFGJVHAMGS-UHFFFAOYSA-N 2,2,8,8-tetramethylnonane-4,6-dione Chemical compound CC(C)(C)CC(=O)CC(=O)CC(C)(C)C XWXZPFGJVHAMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNTICNOWHGKBPW-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethylidene)-3-oxobutanoic acid Chemical compound COC=C(C(C)=O)C(O)=O RNTICNOWHGKBPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- CJLGKQGYTBDGJZ-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethylnonane-4,6-dione Chemical compound CCC(C)C(=O)CC(=O)C(C)CC CJLGKQGYTBDGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMACGPVPFPOWGY-UHFFFAOYSA-N 3-benzoylpentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 OMACGPVPFPOWGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCSDAMGBOVWGEO-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-3-phenylpropanal Chemical compound O=CCC(=O)C1=CC=CC=C1 HCSDAMGBOVWGEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKQIDSVLSKFZQC-UHFFFAOYSA-N 3-oxobutanal Chemical compound CC(=O)CC=O PKQIDSVLSKFZQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LCLCVVVHIPPHCG-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethylhexane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C(C)(C)C LCLCVVVHIPPHCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYQQDAOOLSYXAW-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(=O)NN(C)C Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(=O)NN(C)C BYQQDAOOLSYXAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQVWFWSRMSFFCY-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(=O)NN1CCNCC1 Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(=O)NN1CCNCC1 WQVWFWSRMSFFCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVCFMVWQAFKXDR-UHFFFAOYSA-N CCN(CC)NC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C Chemical compound CCN(CC)NC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C ZVCFMVWQAFKXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 244000241257 Cucumis melo Species 0.000 description 1
- 235000015510 Cucumis melo subsp melo Nutrition 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100025027 E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Human genes 0.000 description 1
- 101000830203 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Proteins 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDFXPNLBEUSQIJ-UHFFFAOYSA-N N1(CCCCC1)NC(=O)C(CC(C(C)(C)C)=O)=O Chemical compound N1(CCCCC1)NC(=O)C(CC(C(C)(C)C)=O)=O NDFXPNLBEUSQIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVMDAQQBXVFTTI-UHFFFAOYSA-N [Si]OCCC1=CC=CC=C1 Chemical compound [Si]OCCC1=CC=CC=C1 ZVMDAQQBXVFTTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000475 acetylene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N biphenylacetylene Chemical group C1=CC=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZLBVVRZWTOGMMJ-UHFFFAOYSA-N butyl 5,5-dimethyl-2,4-dioxohexanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C ZLBVVRZWTOGMMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- BKFAZDGHFACXKY-UHFFFAOYSA-N cobalt(II) bis(acetylacetonate) Chemical compound [Co+2].CC(=O)[CH-]C(C)=O.CC(=O)[CH-]C(C)=O BKFAZDGHFACXKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001212 derivatisation Methods 0.000 description 1
- QWVFZGVJZUJZGG-UHFFFAOYSA-N diethyl(phenyl)silicon Chemical compound CC[Si](CC)C1=CC=CC=C1 QWVFZGVJZUJZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYQVQWIASIXXRT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,4-dioxopentanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC(C)=O OYQVQWIASIXXRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMCDYRGMTRCAPZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-acetyl-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C(C)=O)C(C)=O YMCDYRGMTRCAPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMJWTVYVMCEPGG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-benzoyl-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C(C)=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CMJWTVYVMCEPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMKIMUBJFWPTD-UHFFFAOYSA-N ethyl 5,5-dimethyl-2,4-dioxohexanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C NIMKIMUBJFWPTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGBMSFLTRRZTGI-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)silane Chemical compound CC[SiH](C)C QGBMSFLTRRZTGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCSGKKPVRAKXLL-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)silane Chemical compound CC[SiH2]C BCSGKKPVRAKXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N ethylsilane Chemical compound CC[SiH3] KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L manganese oxide Inorganic materials [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N methoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si]C XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMHOEQINEXASKE-UHFFFAOYSA-N methyl 2,4-dioxopentanoate Chemical compound COC(=O)C(=O)CC(C)=O OMHOEQINEXASKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNIBFTZCNSFNRK-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(ethoxymethylidene)-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC=C(C(C)=O)C(=O)OC YNIBFTZCNSFNRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDEHDFHNQPTQFC-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(methoxymethylidene)-3-oxobutanoate Chemical compound COC=C(C(C)=O)C(=O)OC RDEHDFHNQPTQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POITUNMGPFESML-UHFFFAOYSA-N methyl 5,5-dimethyl-2,4-dioxohexanoate Chemical compound COC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C POITUNMGPFESML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKHRRIGNGQFVEE-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)C1=CC=CC=C1 OKHRRIGNGQFVEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- ADIIFIBMKMALKB-UHFFFAOYSA-N nonane-3,4-dione Chemical compound CCCCCC(=O)C(=O)CC ADIIFIBMKMALKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910000489 osmium tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012285 osmium tetroxide Substances 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001706 oxygenating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N phenylmethoxysilane Chemical compound [SiH3]OCC1=CC=CC=C1 XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJWOWXZSFTXJEX-UHFFFAOYSA-N phenylsilicon Chemical compound [Si]C1=CC=CC=C1 XJWOWXZSFTXJEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- QCVFJTLSGHVLPQ-UHFFFAOYSA-N propyl 5,5-dimethyl-2,4-dioxohexanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C QCVFJTLSGHVLPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- MMYRBBZVCDXGHG-UHFFFAOYSA-N tripropylsilicon Chemical compound CCC[Si](CCC)CCC MMYRBBZVCDXGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
- C07C45/34—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties in unsaturated compounds
- C07C45/36—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties in unsaturated compounds in compounds containing six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
- C07C45/34—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties in unsaturated compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本光明14 コバルト錯体を用いてα−ジケトンおよ
び/またはa−ヒドロキシケトンを製造する新規な方法
に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel method for producing α-diketones and/or α-hydroxyketones using cobalt complexes.
の 的 並びにその 占
従来から、 σ−ジケトンおよびa−ヒドロキシケトン
は医農薬中間本 香料などとして用いられてきへ
このような、 a−ジケトンはまず、 ジフェニルアセ
チレンのようなアセチレン化合物を、過マンガン酸カリ
ウムを用いて酸化するか、四酸化オスミウム/ヒドロパ
ーオキシド、四酸化オスミウム/N−オキシドのような
反応試剤を用いて製造されてきtも
しかしながら、これらの方法では、毒性が強く人体にき
わめて有害な6価マンガンや四酸化オスミウムのような
試剤を使うことが問題でありj4他方、 α−ヒドロキ
シケトンは通常ケトンを原料に用いて、製造される。す
なわち1.ケトンをリチウムジイソプロピルアミドのよ
うな強塩基でリチウムエノラートに変換したのち、−7
8℃乃至−20℃の低温で種々の酸素化剤(例え1!、
酸素分子、過酢酸誘導化 酸化モリブデンなど)と反応
させることによって、 a−ヒドロキシケトンに変換す
ることができる。Traditionally, σ-diketones and α-hydroxyketones have been used as pharmaceuticals, agricultural chemicals, and fragrances. However, these methods are highly toxic and extremely harmful to the human body. The problem lies in the use of reagents such as hexavalent manganese and osmium tetroxide.j4 On the other hand, α-hydroxyketones are usually produced using ketones as raw materials. That is, 1. After converting the ketone to a lithium enolate with a strong base such as lithium diisopropylamide, -7
Various oxygenating agents (e.g. 1!,
It can be converted to a-hydroxyketone by reacting with molecular oxygen, peracetic acid derivatization, molybdenum oxide, etc.).
しかしながら、このような方法では、取り扱いの危険な
強塩基を用い、 しかも反応温度を低温に保ちながら反
応を行うといった、煩雑な操作が必要であっj4
31目2JL躬
本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、コバルト錯体を用いて化合物か
ら効率良く安全にa−ジケトンおよび/またはa−ヒド
ロキシケトンを製造することができる方法を提供するこ
とを目的としている。However, such a method requires complicated operations such as using a strong base that is dangerous to handle and carrying out the reaction while keeping the reaction temperature low. The purpose is to solve the problems associated with the technology, and to provide a method that can efficiently and safely produce a-diketones and/or a-hydroxyketones from compounds using cobalt complexes. There is.
^ユ五皇1
本発明の製造方法は、次式[rvlで表わされるa−ジ
ケトンおよび/または式[V]で表わされるa−ヒドロ
キシケトンの製造方法である。The manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing an a-diketone represented by the following formula [rvl] and/or an a-hydroxyketone represented by the formula [V].
ただし 上記式[■]において、RIB及びR11転
それぞれ独立&−低級アルキル基 アリール幕 アリー
ルアルキル基 シクロアルキル基よりなる群から選ばれ
る基を表わl、、RleおよびR1+が共同して環を構
成していてもよい。However, in the above formula [■], RIB and R11 conversion
Each independently represents a group selected from the group consisting of &-lower alkyl group, aryl group, arylalkyl group, and cycloalkyl group, and l, , Rle and R1+ may jointly constitute a ring.
ただし、上記式[V]において、R1@及びR目は、そ
れぞれ独立に、低級アルキル基 アリール基 アリール
アルキル基 シクロアルキル基よりなる群から選ばれる
基を表わ5 R+sおよびR口が共同して環を構成し
ていてもよい。However, in the above formula [V], R@ and R each independently represent a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group. It may form a ring.
上記のようなa−ジケトンおよび/またはα−ヒドロキ
シケトンを製造するための本発明に係る方法は、
次式[I]で表わされるβ−ジカルボニル化合物のコバ
ルト錯体;
[上記式[rlにおいて、R1、R2、R6およびR6
は、それぞれ独立シミ 水素原子、炭素数1〜10の
低級アルキル基 シクロアルキル基 アリール基 アリ
ールアルキル基 フッ素原子を有するアリール基 トリ
フルオロメチル豚 アルコキシカルボニル豚 アルキル
カルボニル基およびカルバモイル基よりなる群から選ば
れる原子若しくは基を表わI R3およびRA iL
それぞれ独立に、炭素数1〜10の低級アルキル基
アリール幕アルキルカルボキシ五 アリールアルキル
基およびシクロアルキル基よりなる群から選ばれる基を
表わす。]の存在下1
次式[nlで表わされるシラン誘導体;・・・ [rl
[ただ臥 式[■]において、Rフ、ReおよびR91
L それぞれ独立へ 水素原子、炭素数1〜lOの低
級アルキル基 アリール基 低級アルコキシ基およびア
リールアルキル基よりなる群から選ばれる基若しくは原
子を表わすと共E、 R”、ReおよびReのうち、
少なくとも1つの基は、水素原子以外の基である。コと
、
次式[mlで表わされる鎖状アセチレン;n−c=c−
n” ・・・・・・・[rrl][ただし 上記式[I
II]において、R、10=およびR目14 それぞ
れ独立1 低級アルキル忍アリール五 アリールアルキ
ル基 シクロアルキル基よりなる群から選ばれる基を表
わl、、R1@およびR1+が共同して環を構成してい
てもよい。]と、
酸素含有ガスとを接触させることを特徴としている。The method according to the present invention for producing an a-diketone and/or an α-hydroxyketone as described above includes a cobalt complex of a β-dicarbonyl compound represented by the following formula [I]; R1, R2, R6 and R6
are selected from the group consisting of a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, an aryl group having a fluorine atom, a trifluoromethyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyl group, and a carbamoyl group. Represents an atom or group I R3 and RA iL
Each independently represents a group selected from the group consisting of a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an arylalkyl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group. ] In the presence of the primary formula [nl], a silane derivative represented by the primary formula [nl;
L each independently represents a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, a group or an atom selected from the group consisting of a lower alkoxy group and an arylalkyl group;
At least one group is a group other than a hydrogen atom. and the following formula [chain acetylene expressed in ml; n-c=c-
n” ・・・・・・・・・[rrl] [However, the above formula [I
II], R, 10= and R14 each independently represent a group selected from the group consisting of 1, lower alkyl, aryl, 5, arylalkyl group, and cycloalkyl group. 1, , R1@ and R1+ together form a ring. You may do so. ] is brought into contact with an oxygen-containing gas.
本発明に係るa−ジケトンおよび/またはa−基ヒドロ
キシケトンの製造方法によれば、触媒として特定のコバ
ルト錯体を使用しているため、アセチレンからσ−ジケ
トンおよび/またはα−ヒドロキシケトンを一段で合成
することができる。さら鐵 この反応1戴 従来の反応
のように酸化オスミウムのような毒性の高い触媒を使用
する必要がないため、安全性が高い。According to the method for producing a-diketones and/or a-group hydroxyketones according to the present invention, since a specific cobalt complex is used as a catalyst, σ-diketones and/or α-hydroxyketones can be produced from acetylene in one step. Can be synthesized. This reaction is highly safe because it does not require the use of highly toxic catalysts such as osmium oxide as in conventional reactions.
日 の な 1 次に本発明について具体的に説明する。Day 1 Next, the present invention will be specifically explained.
まず、本発明の製造方法で触媒として使用されるコバル
ト錯体について説明する。First, the cobalt complex used as a catalyst in the production method of the present invention will be explained.
本発明で使用されるコバルト錯体は、β−ジカルボニル
化合物のコバルト錯体であり、このコバルト錯体は次式
[!]で表わすことができる。The cobalt complex used in the present invention is a cobalt complex of a β-dicarbonyl compound, and this cobalt complex has the following formula [! ].
・・ [I1
上記式[I]において、R1,R2、RJURaは、そ
れぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜1゜の低級アルキ
ル基 シクロアルキル庖 アリール忍 アリールアルキ
ル基 フッ素原子を有するアリール基 トリフルオロメ
チル基 アルコキシカルボニル五 アルキルカルボニル
基およびカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子若
しくは基を表わす。また、 RsおよびR41戯 そ
れぞれ独立に、炭素数1〜10の低級アルキル基 アリ
ール基 アルキルカルボキシ豚 アリールアルキル基お
よびシクロアルキル基よりなる群から選ばれる基を表わ
す。... [I1 In the above formula [I], R1, R2, and RJURa each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 1° of carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group having a fluorine atom, an aryl group having a fluorine atom, and a hydrogen atom. Fluoromethyl group represents an atom or group selected from the group consisting of alkoxycarbonyl penta-alkylcarbonyl group and carbamoyl group. Further, Rs and R41 each independently represent a group selected from the group consisting of a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an alkylcarboxy group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group.
上記の低級アルキル基は、炭素数1〜10、好ましくは
1〜6のアルキル基であり、このアルキル基は、直鎖状
であっても分岐を有していてもよい。このようなアルキ
ル基の具体的な例としては、メチル五 エチル& n−
プロピル豚 イソプロピルミn−ブチル& 5ec−
ブチル& L−ブチル幕イソブチルAn−ペンチル&
n−ヘキシル& n−ヘプチルLn−オクチル豚 イ
ンオクチル基及びn−ノニル基を挙げることができる。The above-mentioned lower alkyl group is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and this alkyl group may be linear or branched. Specific examples of such alkyl groups include methyl pentaethyl & n-
Propyl pig Isopropylmin-n-butyl & 5ec-
Butyl & L-Butyl Isobutyl An-Pentyl &
n-hexyl & n-heptylLn-octyl An octyl group and an n-nonyl group may be mentioned.
これらの低級アルキル基のうち、R1、R1、R%およ
びR@とじて好ましいアルキル基1戴 炭素数1〜6の
アルキル五 特にエチルin−ブチル五 七−ブチル五
イソブチルin−ヘキシル基であり R3及びR4とし
て好ましいアルキル基は、炭素数1〜6のアルキル忍
特にエチルin−ブチル&1−ブチル幕 イソブチル&
n−ヘキシル基である。Among these lower alkyl groups, R1, R1, R% and R@ are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, particularly ethyl in-butyl5, 7-butyl5 isobutyl in-hexyl group, and R3 Preferred alkyl groups as R4 and R4 are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.
Especially ethyl in-butyl & 1-butyl group isobutyl &
It is an n-hexyl group.
また、シクロアルキル基の具体的な例としては、シクロ
ヘキシル五 シクロペンチル基 シクロへブチル忍 シ
クロオクチル基を挙げることができる。なお、上記のよ
うく シクロアルキル基はシクロアルキル環に置換基を
有していてもよい。Further, specific examples of the cycloalkyl group include cyclohexyl, pentacyclopentyl, cyclohebutyl, and cyclooctyl groups. In addition, as mentioned above, the cycloalkyl group may have a substituent on the cycloalkyl ring.
これらのシクロアルキル基のうち R1,R2、R%及
びR・として好ましいシクロアルキル基は、1−メチル
シクロペンチル豚 1−メチルシクロヘキシル&4−t
−ブチルシクロヘキシル基である。また R3およびR
4として好ましいシクロアルキル基;戴1−メチルシク
ロペンチル11−メチルシクロヘキシル基である。Among these cycloalkyl groups, preferred cycloalkyl groups as R1, R2, R% and R are 1-methylcyclopentyl, 1-methylcyclohexyl &4-t
-butylcyclohexyl group. Also R3 and R
A preferred cycloalkyl group as 4 is a 1-methylcyclopentyl 11-methylcyclohexyl group.
上記アリール基(戴 芳香族環上の水素原子が、ハロゲ
ン原子等の他の原子、あるいは置換基等で置換されてい
てもよく、このようなアリール基の具体的な例としてL
p−ブロモフェニル基等ノハロゲン化フェニル五
オクチル基 フェニル基)a 以下に記載する式(1
)〜(20)で表わされる基を挙げることができる。The hydrogen atom on the aromatic ring may be substituted with another atom such as a halogen atom, or a substituent, etc., and a specific example of such an aryl group is L.
p-bromophenyl group etc. halogenated phenyl group
Octyl group Phenyl group) a Formula (1) described below
) to (20) can be mentioned.
r−■Σ−(14) F−1−・・(15)「
φΣ ・・・(I6)
CFs−ζΣト …(17)
(D(豆Σ・・・(13)
これらアリール基の内、 R1,R2、R5及びR6と
して好ましいアリール基は、式(1勺、式(151、式
(101式(17)、 式(10、式(19)および
式(20)で表わされる基であり、 R3およびR4と
して好ましいアリール基は、式(1)、・式(八 式(
3、式(勾、式(9、式(0、式(′7)、式(印、式
(9、式(10、式(11)、式(12)および式(1
3)で表わされる基である。r-■Σ-(14) F-1-...(15) φΣ...(I6) CFs-ζΣ...(17) (D(bean Σ...(13) Among these aryl groups, Preferred aryl groups as R1, R2, R5 and R6 are groups represented by formula (1), formula (151, formula (101), formula (17), formula (10), formula (19) and formula (20), Preferable aryl groups as R3 and R4 include formula (1), formula (8) and formula (8).
3, Equation (gradient, Equation (9), Equation (0, Equation ('7), Equation (mark, Equation (9, Equation (10), Equation (11), Equation (12) and Equation (1
3).
さらGミ アリールアルキル基としては、次式で表わ
される基を挙げることができる。Further, examples of the arylalkyl group include groups represented by the following formula.
ただし、上記式において、Rは水素原子若しくはアルキ
ル基を表わし、mはO〜3、好ましくは0〜1の整数で
あり、 nは1〜4、好ましくは1〜3の整数である。However, in the above formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group, m is an integer of 0 to 3, preferably 0 to 1, and n is an integer of 1 to 4, preferably 1 to 3.
また、上記式における芳香族環上の水素原子がハロゲン
原子等の他の原子、あるいは置換基で置換されていても
よい。Further, the hydrogen atom on the aromatic ring in the above formula may be substituted with another atom such as a halogen atom, or a substituent.
これらの基の具体的な例としては以下に記載する式(2
1)〜(39)で表わされる基を挙げることができ る
。Specific examples of these groups include the following formula (2
Examples include groups represented by 1) to (39).
これらアリール基のに R1,21% RS及びR6と
して好ましいアリールアルキル基は、式(2g)、式(
30、式(31)、式(3り、式(33、式(3IO1
式(3つ、式(3Q1式(37)、式(38)および式
(39)で表わされる基である。Preferred arylalkyl groups as R1, 21% RS and R6 of these aryl groups are formula (2g), formula (
30, formula (31), formula (3ri, formula (33), formula (3IO1
It is a group represented by three formulas: formula (3Q1), formula (37), formula (38), and formula (39).
さらE、 アルコキシカルボニル基としては、次式で
表わされる基を挙げることができる。E. Examples of the alkoxycarbonyl group include groups represented by the following formula.
C,H,、、,0−CO−
ただし 上記式において、ρζ戴 1〜6の整数を表わ
す。このようなアルコキシカルボニル基の具体的な例と
して1戴 メトキシ基 エトキシ五n−プロポキシ幕
アルコキシ基がn−ブトキシ基およびn−ペントキシ基
であるアルコキシカルボニル基を挙げることができる。C, H, , , 0-CO- However, in the above formula, ρζ represents an integer from 1 to 6. Specific examples of such alkoxycarbonyl groups include 1 methoxy group, ethoxy5n-propoxy group,
Mention may be made of an alkoxycarbonyl group in which the alkoxy group is an n-butoxy group and an n-pentoxy group.
これらのアルコキシカルボニル基のうち、R1,R1,
RS及びR6として好ましい基A メトキシ基 エトキ
シ基 プロポキシ基およびブトキシ基であるアルコキシ
カルボニル基である。Among these alkoxycarbonyl groups, R1, R1,
Preferred groups as RS and R6 A methoxy group Ethoxy group An alkoxycarbonyl group such as a propoxy group and a butoxy group.
さらく アルキルカルボニル基としては、上記のアルコ
キシカルボニル基を構成するアルキル基がカルボニル基
を構成する炭素原子に直接結合した基である。Further, the alkylcarbonyl group is a group in which the alkyl group constituting the above-mentioned alkoxycarbonyl group is directly bonded to a carbon atom constituting the carbonyl group.
また、カルバモイル基は、次式で表わすことができる。Further, the carbamoyl group can be represented by the following formula.
ただし 上記式において、R14およびR15は、それ
ぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基 シクロアルキ
ル基のうちから選択される原子若しくは基を表わす。さ
らに、R14および21%が共同して環を形成していて
もよく、この場合、−0−−8〜 −NH+4 (た
だしR目は低級アルキル基若しくは水素原子である)、
あるいは、−N=を介してRI4およびR1%が連結さ
れ環を形成していてもよい。However, in the above formula, R14 and R15 each independently represent an atom or group selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a cycloalkyl group. Furthermore, R14 and 21% may jointly form a ring, in which case -0--8 to -NH+4 (wherein R is a lower alkyl group or a hydrogen atom),
Alternatively, RI4 and R1% may be linked via -N= to form a ring.
なお、ここで低級アルキル基およびシクロアルキル基と
しては、上記例示した基を挙げることができる。Here, examples of the lower alkyl group and the cycloalkyl group include the groups exemplified above.
このようなカルバモイル基の具体的な例としては、ジメ
チルアミノカルバモイル幕 メチルアミノカルバモイル
人 ジエチルアミノカルバモイル五 ジプロピルアミノ
カルバモイル豚 メチルエチルアミノカルバモイル肱
ピペラジノカルバモイル基 ピペラジノカルバモイル基
モルフォリノカルバモイル豚 エチルアミノカルバモ
イル幕シクロヘキシルアミノカルバモイル基およびシク
ロへキシルエチルアミノカルバモイル基等を挙げること
ができる。Specific examples of such carbamoyl groups include dimethylaminocarbamoyl group, methylaminocarbamoyl group, diethylaminocarbamoyl group, dipropylaminocarbamoyl group, methylethylaminocarbamoyl group, and dipropylaminocarbamoyl group.
Piperazinocarbamoyl group Piperazinocarbamoyl group Morpholinocarbamoyl group Ethylaminocarbamoyl group, cyclohexylaminocarbamoyl group, cyclohexylethylaminocarbamoyl group, and the like.
これらのカルバモイル基のうち、式[rlにおけるR1
、 R2、R%およびR@とじて好ましい基(九ジエチ
ルアミノカルバモイル幕 ピペラジノカルバモイル基
ピペラジノカルバモイル基およびモルフォリノカルバモ
イル基である。Among these carbamoyl groups, R1 in the formula [rl
, R2, R% and R@ are particularly preferred groups (9-diethylaminocarbamoyl group, piperazinocarbamoyl group
They are a piperazinocarbamoyl group and a morpholinocarbamoyl group.
これら式[rlにおけるR1. R2、R%及びR6
は、同一であっても異なっていてもよい。These formulas [R1 in rl. R2, R% and R6
may be the same or different.
さらE、R’とR4とは同一であっても異なっていても
よい。Further, E, R' and R4 may be the same or different.
本発明において、上記式[I]で表わされるコバルト錯
体のh 特に優れた触媒活性を示す化合物として1九
次式[I−1]、 [r −2]、 [+ −3]、[
I−4]および[I−5]で表わされる化合物である。In the present invention, h of the cobalt complex represented by the above formula [I] is used as a compound exhibiting particularly excellent catalytic activity.
The following formula [I-1], [r -2], [+ -3], [
I-4] and [I-5].
・・・ [r −1]
ただし、上記式[l−11において、R111RITR
+sおよびR’eJ4 それぞれ独立くメチル&、n
−プロピルWe、 5ec−ブチルミt−ブチルミn
−ペンチル基等の低級アルキル基;トロフルオロメチル
基;
フェニル基 ペンタフルオロフェニル&p−ブロモフェ
ニル幕 メトキシフェニル基のような置換もしくは非置
換のアリール基;
シクロヘキシル基のようなシクロアルキル基;水素原子
:
のうちのいずれかの豚 若しくは原子であることが好ま
しい。... [r -1] However, in the above formula [l-11, R111RITR
+s and R'eJ4 each independently methyl &, n
-propyl We, 5ec-butylmi t-butylmi n
- Lower alkyl groups such as pentyl group; trofluoromethyl group; phenyl group, pentafluorophenyl & p-bromophenyl group; substituted or unsubstituted aryl group such as methoxyphenyl group; cycloalkyl group such as cyclohexyl group; hydrogen atom: Preferably, it is either a pig or an atom.
・・・ [r −2]
ただし、上記式[5−23において、R2@R21R2
2およびR2*Jf、 それぞれ独立シミメチル基
エチル& n−プロピル& t−ブチル基およびn−ブ
チル基のような低級アルキル基であることが好ましい。... [r −2] However, in the above formula [5-23, R2@R21R2
2 and R2*Jf, each independent simimethyl group
Lower alkyl groups such as ethyl & n-propyl & t-butyl groups and n-butyl groups are preferred.
・・ [l −3]
ただし 上記式[I−33において、R24R218H
ayおよびR2月戴 それぞれ独立&へメチル基 エチ
ル1 5ec−ブチル基およびt−ブチル基等の低級ア
ルキル基であることが好ましく、さらに]lj[l戴
メトキシ幕 エトキシL 5ec−ブチル基および
七−ブチル基等の低級アルコキシ基;メチル基 エチル
基等の低級アルキル基であることが好ましい。なお、二
個のR211は、同一であっても異なっていてもよい。...[l-3] However, in the above formula [I-33, R24R218H
ay and R2 are preferably lower alkyl groups such as ethyl 1 5ec-butyl and t-butyl;
Methoxy group Ethoxy L Lower alkoxy groups such as 5ec-butyl group and 7-butyl group; Methyl group Preferably a lower alkyl group such as ethyl group. Note that the two R211's may be the same or different.
・・ [I −4ま
ただし 上記式[r−4]において、Rln R31
R34およびR”lL それぞれ独立に、メチル五
エチル基等の低級アルキル幕 あるいはR31とR”
およびR’lとH,zaとが窒素原子を取り込んでピ
ペリジン幕 ピペラジノ振 あるいはモルフォリノ基の
ようなヘテロ環からなる基を形成していることが好まし
く、 また、 RitおよびR21114それぞれ独立
に、t−ブチル基のような低級分岐アルキル基であるこ
とが好ましい。... [I-4 madashi In the above formula [r-4], Rln R31
R34 and R”IL each independently
Lower alkyl group such as ethyl group or R31 and R”
It is preferable that R'l, H, and za incorporate a nitrogen atom to form a group consisting of a heterocyclic ring such as a piperidine group, a piperazine group, a morpholino group, and Rit and R21114 each independently, t- Preferably, it is a lower branched alkyl group such as a butyl group.
・・・ [夏 −5]
ただし 上記式[I−5]において、R26およびR2
eのうちの少なくともいずれか一方は、 トリフルオロ
メチル幕 若しくはp−)リフルオロメチルフェニル基
のようなフッ素原子を含有する基であることが好ましく
、Rtt及びRJI14 p−メチルフェニルLm−
メトキシフェニル& 2.4.6− )リメチルフェ
ニル幕2.4−ジメトキシフェニル幕1−ナフチル五
2−ナフチル基等の芳香族基であることが好ましい。... [Summer-5] However, in the above formula [I-5], R26 and R2
At least one of e is preferably a group containing a fluorine atom such as trifluoromethyl group or p-)trifluoromethylphenyl group, and Rtt and RJI14 p-methylphenyl Lm-
Methoxyphenyl & 2.4.6-)limethylphenyl2.4-dimethoxyphenyl1-naphthyl5
Preferably, it is an aromatic group such as 2-naphthyl group.
上記のような式[I]で表わされる化合物のうち、本発
明で使用される触媒として特に好ましい化合物(戴 以
下に示される式(50)〜(94)で表わされる化合物
である。Among the compounds represented by the above formula [I], the compounds represented by the following formulas (50) to (94) are particularly preferable as the catalyst used in the present invention.
式[x−11で表わされる化合物のうち好適な化金物の
例;
(50) ビス(3,7−シメチルー4,6−ツナンジ
オナト)コバルト([I)
(52) ビス(2,2,8,8−テトラメチル−4,
6−ツナンジオナト)コバルト(++)
ル ト (n)
ビス
(2,4−ヘキサンジオナト)
コバ
(51) ビス(1,3−ジシクロへキシル−1,3
−プロパンジオナト)コバルト(、n)
(54) ビス[I,3−ビス(4−メトキシフェニ
ル)−1,3−プロパンジオナト]:Iバルト([I)
ビス
(1−ペンタフルオロフェニル−2
ビス
(4,4−ジメチル−1−
フェニル−1
,4−ブタンジオナト)コバルト([I)、3−ペンタ
ンジオナト)
コノ(ル
ト
(n)
ビス[I−(4−ブロモフェニル)
−4,4−
ビス
(4,4−ジメチル−1−ペンタフル
ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コバル
ト
(rl)
オロフェニルー1.3−ペンタンジオナト)コバル
ト
(■ )
ビス(2,4−ノナンジオナト)
コバルト
ビス
(1,1,1−ト
リ
フルオロ−2,4−ペン
(n)
タンジオナト)
コバルト
(a)
ビス
(2,2−ジメチル−3,5−ヘキサンビ、ス
(1−フェニル−1,3−ブタンジオナジオナト)
コバルト
(n)
ト)
コバルト
(n)
ビス
[4,6−ノナンジオナト)
コバル
コバル
ト
(a)
ビス
(アセチルアセ
ト
(n)
ト す ト )
式
[I
−2]
で表わされる化合物のうち、
好適な
ビス
(1−n−メ
トキシカルボニル−1,3
化合物の例;
一メチルー1.3−ブタンジオナト)
コバルト
(n)
ビス
(1−エ
トキシカルボニル−1,3
ブタンジオナト)
コ ノ(ル
ト
(n)
ビス
(1−メ
トキシカルボニル−4,4−
ビス
(1−n−ブトキシカルボニル−4,4ジメチル−1,
3−ペンタンジオナト)コバル
ト
(■ )
一ジメチル−1,3−ペンタンジオナ小)コバル
ト
(n)
ビス
(1−エトキシカルボニル−4,4−
式[■
一3]
で表わされる化合物のうち好適な化
ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コバル
ト
(n)
合一の例:
(7l)
ビス(2−エトキシカルボニル−1−フェニル−1,3
−ブタンジオナト)
コバルト
ビス
(1−n−プロポキシカルボニル
−4,4−ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コ
ノ(ル
ト
(n)
ビス
(3−エトキシカ、ルボニルー2.4−ペンタンジオナ
ト)
コバルト
(n)
ビス
(2−アセチル−1−フェニル−2,4−ビス
(2−sec−ブトキシカルボニル−
ペンタンジオナト)
コバルト
(n)
1.3−ブタンジオナト)
コバルト
(n)
ビス
(2−七一プトキシカルボニル
1.3
ビス
(2−メ
トキシカルボニル−1,3〜
−ブタンジオナト)
コバルト
([l )
ブタンジオナト)
コバルト
([I)
ビス
(2−エトキシカルボニル−1,3−
ブタンジオナト)
コバルト
([I)
式[I
−4]
で表わされる化合物のうち、
好適な
ビス
(1−ジエチルアミノカルバモイ
化合物の例;
ルー4.4−ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コ
バル
ビス
(1−ピペリジノカルバモイル−4
ト
(n)
、4−ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コバルト
(ri)
(8l)
ビス
(1−ピペリジノカルバモイル
−4,4−ジメチル−1,3−ペンタンジオ、ナト)コ
バル
ト
ビス
(1−ジメチルアミノカルバモイ
(n)
ルー4.4−ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コ
バル
ト
(n)
(82) ビス(1−モルフォリノカルバモイル−4
,4−ジメチル−1,3−ペンタンジオナト)コバルト
(■)
式[r−5]で表わされる化合物のうち、好適な化合物
の例;
(84) ビス[I,1,1−)リフルオロ−5−(
4−メチルフェニル)−2,4−ペンタンジオナト]コ
バル)(n)
(83) (1−ジメチルアミノカルバモイル−4
,4−ジメチル−1,3−ペンタンジオカド)(1−ピ
ペラジノカルバモイル−4,4−ジメチル−1,3−ペ
ンタンジオナト)コバルト(■)
(85) ビス[I,1,1−トリフ、ルオロ−5−
(4−メトキシフェニル)−2,4−ペンタンジオナト
]コバル)(n)
(86) ビス[I,1,1−)リフルオロ−5−(
3−トリフルオロメチルフェニル)−2,4−ペンタン
ジオナト]コバルト (n)
(88) ビス[I,1,1−)リフルオロ−4−<
2.4゜6−ドリメチルフエニル)−2,4−ブタンジ
オナト]コバルト(n)
(87) ビス[I,1,1−)リフルオロ−4−(
4−メチルフェニル)−2,4−ブタンジオナト]コバ
ルト(I])
(89) ビス[I,1,1−)リフルオロ−4−(
2,4−ジメトキシフェニル)−2,4−ブタンジオナ
ト]コバル ト (n)
(90) ビス[I,1,1−トリフルオロ−4−(
1−ナフチル)−2,4−ブタンジオナト]コバルト(
[I)(92) ビス[I−(4−メチルフェニル)
−3−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1,3
−プロパンジオナト]コバルト(n)
(91) ビス[I,1,1−)リフルオロ−4−(
2−ナフチル)−2,4−ブタンジオナト]コバルト(
n)エニル)−3−(2,4,6−)リメチルフェニル
)−1,3−プロパンジオナト]コバルト(n)
(94) ビス[I−(2,4−ジメトキシフェニル
)−3−(4−)リフルオロメチルフェニル)−1,3
−プロパンジオナト]コバルト(n)
コバルトのようなコバルト化合物を添加することにより
得ることができる。Examples of suitable metal compounds among the compounds represented by the formula [x-11; 8-tetramethyl-4,
6-tunandionato) cobalt (++) Ruto (n) bis(2,4-hexanedionato) cobalt(51) bis(1,3-dicyclohexyl-1,3
-propanedionato) cobalt(,n) (54) bis[I,3-bis(4-methoxyphenyl)-1,3-propanedionato]:Ibalt([I)
Bis(1-pentafluorophenyl-2 bis(4,4-dimethyl-1-phenyl-1,4-butanedionato)cobalt([I), 3-pentanedionato) cono(ruto(n) bis[I-( 4-Bromophenyl) -4,4-bis(4,4-dimethyl-1-pentafludimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt (rl) Orophenyl-1,3-pentanedionato)cobalt (■) Bis (2,4-nonanedionato) Cobalt bis(1,1,1-trifluoro-2,4-pene(n) tandionato) Cobalt(a) Bis(2,2-dimethyl-3,5-hexanebi,su(1 -Phenyl-1,3-butanedionadionato) Cobalt(n) Cobalt(n) Bis[4,6-nonanedionato) Cobalt(a) Bis(acetylaceto(n) To) Formula [I - 2] Among the compounds represented by, examples of suitable bis(1-n-methoxycarbonyl-1,3 compounds; monomethyl-1,3-butanedionato) cobalt(n) bis(1-ethoxycarbonyl-1,3-butanedionato) ) Cono(rut(n) bis(1-methoxycarbonyl-4,4-bis(1-n-butoxycarbonyl-4,4dimethyl-1,
3-pentanedionato) cobalt (■) 1-dimethyl-1,3-pentanediona) cobalt (n) bis(1-ethoxycarbonyl-4,4-) Preferred compounds among the compounds represented by the formula [■-3] Dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt(n) Example of coalescence: (7l) Bis(2-ethoxycarbonyl-1-phenyl-1,3
-butanedionato) Cobalt bis(1-n-propoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1,3-pentanedionato)
Cobalt(n) Bis(2-acetyl-1-phenyl-2,4-bis(2-sec-butoxycarbonyl-pentanediono) Cobalt (n) Cobalt (n) 1,3-Butanedionato) Cobalt (n) Bis(2-71ptoxycarbonyl 1.3 Bis(2-methoxycarbonyl-1,3--butanedionato) Cobalt ([l) Butanedionato) Cobalt ([I) Bis(2-ethoxycarbonyl-1,3-butanedionato) cobalt ([I) Among the compounds represented by the formula [I-4], examples of suitable bis(1-diethylaminocarbamoy compounds; Ru 4 .4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalbis(1-piperidinocarbamoyl-4to(n), 4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt(ri) (8l) bis(1 -piperidinocarbamoyl-4,4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobaltbis(1-dimethylaminocarbamoy(n)-4,4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt(n) ) (82) Bis(1-morpholinocarbamoyl-4
,4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt (■) Examples of preferred compounds among compounds represented by formula [r-5]; (84) Bis[I,1,1-)refluoro- 5-(
(4-methylphenyl)-2,4-pentanedionato]kobal) (n) (83) (1-dimethylaminocarbamoyl-4
,4-dimethyl-1,3-pentanediocad)(1-piperazinocarbamoyl-4,4-dimethyl-1,3-pentanedionato)cobalt (■) (85) Bis[I,1,1- Trif, fluoro-5-
(4-Methoxyphenyl)-2,4-pentanedionato]kobal)(n) (86) Bis[I,1,1-)lifluoro-5-(
3-trifluoromethylphenyl)-2,4-pentanedionato]cobalt (n) (88) bis[I,1,1-)lifluoro-4-<
2.4゜6-drimethylphenyl)-2,4-butanedionato]cobalt(n) (87) Bis[I,1,1-)lifluoro-4-(
4-methylphenyl)-2,4-butanedionato]cobalt(I]) (89) bis[I,1,1-)lifluoro-4-(
2,4-dimethoxyphenyl)-2,4-butanedionato]cobalt (n) (90) Bis[I,1,1-trifluoro-4-(
1-naphthyl)-2,4-butanedionato]cobalt (
[I) (92) Bis[I-(4-methylphenyl)
-3-(4-trifluoromethylphenyl)-1,3
-propanedionato] cobalt (n) (91) bis[I,1,1-)refluoro-4-(
2-naphthyl)-2,4-butanedionato]cobalt (
n)enyl)-3-(2,4,6-)limethylphenyl)-1,3-propanedionato]cobalt(n) (94) Bis[I-(2,4-dimethoxyphenyl)-3- (4-)lifluoromethylphenyl)-1,3
-propanedionato]cobalt (n) It can be obtained by adding a cobalt compound such as cobalt.
なお、この上うなβ−ジカルボニル化合物のコバルト錯
体(戴 水和物あるいは塩で、あってもよい。In addition, a cobalt complex (a hydrate or a salt) of the β-dicarbonyl compound may also be present.
本発明におけるa−ジカルボニル化合物のコバルト錯体
との表現:瓢 a−ジカルボニル化合物のコバルト錯体
の水和物および塩をも包含するものとする。In the present invention, the expression "cobalt complex of an a-dicarbonyl compound" also includes hydrates and salts of cobalt complexes of an a-dicarbonyl compound.
上記のようなa−ジカルボニル化合物のコバルト錯体L
例えば以下に示すようへ 得ようとする錯体の配位
子に対応するジカルボニル化合物若しくはこの塩が分散
もしくは溶解されているアルコール溶液あるいは水溶液
1 攪拌下へ 水酸化ナトリウム水溶液を滴下狐 次い
でこの溶液に塩化β−ジカルボニル化合物とコバルト化
合物との反応は、通常は反応液のpH値を8〜12の範
囲内のアルカリ性に調整して行われる。この反応は、通
常O〜50℃の反応温度で、0.1〜2時間で終了する
。Cobalt complex L of a-dicarbonyl compound as above
For example, as shown below: An alcoholic or aqueous solution in which a dicarbonyl compound or its salt corresponding to the ligand of the complex to be obtained is dispersed or dissolved 1 While stirring, an aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise to this solution. The reaction between the β-dicarbonyl chloride compound and the cobalt compound is usually carried out by adjusting the pH value of the reaction solution to be alkaline within the range of 8 to 12. This reaction is usually completed in 0.1 to 2 hours at a reaction temperature of 0 to 50°C.
上記のようにして製造されたコバルト錯体は、前述の式
[!]において、通常は、コバルト原子を対称点として
、R1とR@、 R2とR%およびR3とR3とが同
一の基である化合物である。The cobalt complex produced as described above has the above formula [! ] is usually a compound in which R1 and R@, R2 and R%, and R3 and R3 are the same group with the cobalt atom as the point of symmetry.
本発明のコバルト錯体let、 上記のように対称性
を有する化合物であってもよいが、対称性を有していな
くともよく、このような対象性を有しない化合物は、上
記のようにして対象性を有するコバルト錯体を2ffl
類以上用意し この2種類以上のコバルト錯体を混合し
例えばトルエン等の反応溶媒の存在下に還流すること
により製造することができる。以下に上記のような反応
の例を示す。The cobalt complex let of the present invention may be a compound having symmetry as described above, but it does not need to have symmetry. 2ffl of cobalt complex with
It can be produced by preparing two or more types of cobalt complexes, mixing these two or more types, and refluxing the mixture in the presence of a reaction solvent such as toluene. Examples of the above reactions are shown below.
により得ることができる。It can be obtained by
上記のようにしてコバルト錯体を製造する際に使用され
るβ−ジカルボニル化合物としてL 上記のようなコ
バルト錯体を形成しうる化合物であれば特に制限なく使
用することができる。このようなβ−ジカルボニル化合
物の具体的な例としては、3.7−シメチルー4.6−
ノナンジオン、1.3−ジシクロヘキシル1,3−プロ
パンジオン、2、2.8.8−テトラメチル−4,6−
ノナンジオン、1.3−ブタンジオン、
1.3−ヒス(4−メトキシフェニル)−1,3−プロ
パンジオン、
1−ペンタフルオロフェニル−1,3−ブタンジオン、
4.4−ジメチル−1−ペンタフルオロフェニル−1,
3−ペンタンジオン、
4.4−ジメチル−1−フェニル−1,3−Tペンタン
ジオン、1−(4−ブロモフェニル)−4,4−ジメチ
ル−1,3−ペンタンジオン、
2.4−ノナンジオン、
2.2−ジメチル−3,5−ヘキサンジオン、4.6−
ノナンジオン、
1−エトキシカルボニル−1,3−ブタンジオン、1−
n−ブトキシカルボニル−4,4−ジメチル−1,3−
ペンタンジオン、
1−n−メトキシカルボニル−4,4−ジメチル−1,
3−ブタンジオン、
1−メトキシカルボニル−1,3−ブタンジオン、1−
メトキシカルボニル−4,4−ジメチル−1,3−ペン
タンジオン、
1−エトキシカルボニル−4,4−ジメチル−1,3−
ペンタンジオン、
1−n−プロポキシカルボニル−4,4−ジメチル−1
,3−ペンタンジオン、
2−エトキシカルボニル−1−フェニル−1,3−ブタ
ンジオン、
3−エトキシカルボニル−2,4−ペンタンジオン、2
−アセチル−1−フェニル−1,3−ブタンジオン、2
−メトキシメチレンアセト酢酸メチルエステル、2−エ
トキシメチレンアセト酢酸メチルエステル、2−メトキ
シメチレンアセト酢酸5ec−ブトキシエステル
2−t−ヒドロキシメチレンアセト酢酸−七−ブチルエ
ステル、
1、1.1− )リフルオロ−5−(4−メチルフェニ
ル) −24−ペンタンジオン
1、1.1−トリフルオロ−5−(4−メトキシフェニ
ル−2,4−ペンタンジオン、
1−ピペリジノカルバモイル−4,4−ジメチル−1,
3−ペンタンジオン、
1−ジメチルアミノカルバモイル−4,4−ジメチル−
1,3−ペンタンジオン、
1−ジエチルアミノカルバモイル−4,4−ジメチル−
1,3−ペンタンジオン、
1−ピペラジノカルバモイル−4,4−ジメチル−1,
3−ペンタンジオン、
1−モルフォリノカルバモイル−4,4−ジメチル−1
゜3−ペンタンジオン、
1、1.1− )リフルオロ−5−(4−メチルフェニ
ル)−2,4−ペンタンジオン、
1、1.1− )リフルオロ−5−(4−ニトロフェニ
ル)−2,4−ペンタンジオン、
1、1. i−トリフルオロ−5−(3−)リフルオロ
メチルフェニル)−2,4−ペンタンジオン、1、1.
1− )リフルオロ−4−(4−メチルフェニル) −
2,4−ブタンジオン、
1、1.1− )リフルオロ−4−(2,4,6−トリ
メチルフェニル)−2,4−ブタンジオン、
1.1.1− )リフルオロ−4−(2,4−ジメトキ
シフェニル)−2,4−ブタンジオン、
1、1.1− )リフルオロ−4−(1−ナフチル)−
2,4−ブタンジオン、
i、 i、 1− トリフルオロ−5−(2−ナフチル
)−2,4−ブタンジオン、
1−(4−メチルフェニル)−3−(4−)リフルオロ
メチルフェニル)−1,3−プロパンジオン、1−(4
−)リフルオロメチルフェニル) −3−(2,4゜6
−トリメチルフェニル
1−(2.4−ジメトキシフェニル)−3−(4−)リ
フルオロメチルフェニル)(、3−プロパンジオン、お
よび
1−フェニル−1.3−プロパンジオンを挙げることが
できる。これらのβ−ジカルボニル化合物は単独で、あ
るいは組み°合わせて使用することができる。As the β-dicarbonyl compound used in producing the cobalt complex as described above, L can be used without any particular restriction as long as it is a compound that can form the above cobalt complex. A specific example of such a β-dicarbonyl compound is 3,7-dimethyl-4,6-
Nonanedione, 1,3-dicyclohexyl 1,3-propanedione, 2,2.8.8-tetramethyl-4,6-
Nonanedione, 1,3-butanedione, 1,3-his(4-methoxyphenyl)-1,3-propanedione, 1-pentafluorophenyl-1,3-butanedione,
4.4-dimethyl-1-pentafluorophenyl-1,
3-pentanedione, 4.4-dimethyl-1-phenyl-1,3-Tpentanedione, 1-(4-bromophenyl)-4,4-dimethyl-1,3-pentanedione, 2.4-nonanedione , 2,2-dimethyl-3,5-hexanedione, 4.6-
Nonanedione, 1-ethoxycarbonyl-1,3-butanedione, 1-
n-butoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1,3-
Pentanedione, 1-n-methoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1,
3-butanedione, 1-methoxycarbonyl-1,3-butanedione, 1-
Methoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1,3-pentanedione, 1-ethoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1,3-
Pentanedione, 1-n-propoxycarbonyl-4,4-dimethyl-1
,3-pentanedione, 2-ethoxycarbonyl-1-phenyl-1,3-butanedione, 3-ethoxycarbonyl-2,4-pentanedione, 2
-acetyl-1-phenyl-1,3-butanedione, 2
-Methoxymethyleneacetoacetic acid methyl ester, 2-ethoxymethyleneacetoacetic acid methyl ester, 2-methoxymethyleneacetoacetic acid 5ec-butoxy ester 2-t-hydroxymethyleneacetoacetic acid-7-butyl ester, 1,1.1-) Refluoro- 5-(4-methylphenyl)-24-pentanedione 1,1,1-trifluoro-5-(4-methoxyphenyl-2,4-pentanedione, 1-piperidinocarbamoyl-4,4-dimethyl- 1,
3-pentanedione, 1-dimethylaminocarbamoyl-4,4-dimethyl-
1,3-pentanedione, 1-diethylaminocarbamoyl-4,4-dimethyl-
1,3-pentanedione, 1-piperazinocarbamoyl-4,4-dimethyl-1,
3-pentanedione, 1-morpholinocarbamoyl-4,4-dimethyl-1
゜3-pentanedione, 1,1.1-)lifluoro-5-(4-methylphenyl)-2,4-pentanedione, 1,1.1-)lifluoro-5-(4-nitrophenyl)-2 , 4-pentanedione, 1, 1. i-trifluoro-5-(3-)lifluoromethylphenyl)-2,4-pentanedione, 1,1.
1-) Lifluoro-4-(4-methylphenyl)-
2,4-butanedione, 1,1.1-)lifluoro-4-(2,4,6-trimethylphenyl)-2,4-butanedione, 1.1.1-)lifluoro-4-(2,4- dimethoxyphenyl)-2,4-butanedione, 1,1.1-)lifluoro-4-(1-naphthyl)-
2,4-butanedione, i, i, 1-trifluoro-5-(2-naphthyl)-2,4-butanedione, 1-(4-methylphenyl)-3-(4-)lifluoromethylphenyl)- 1,3-propanedione, 1-(4
-) fluoromethylphenyl) -3-(2,4゜6
-trimethylphenyl 1-(2.4-dimethoxyphenyl)-3-(4-)lifluoromethylphenyl) (, 3-propanedione, and 1-phenyl-1.3-propanedione. These β-dicarbonyl compounds can be used alone or in combination.
上記のようなβ−ジカルボキシ化合物と共に本発明のコ
バルト錯体を製造するために使用されるコバルト化合物
に特に制限はない八 本発明で使用することができるコ
バルト化合物としては、たとえばCoCQz等の無機コ
バルト化合物およびCo ( C HsC O O
) v等の有機コバルト化合物を挙げることができ、こ
れらのコバルト化合物は、単独であるいは組み合わせて
使用することができる。There is no particular restriction on the cobalt compound used to produce the cobalt complex of the present invention together with the above-mentioned β-dicarboxy compound.8 Cobalt compounds that can be used in the present invention include, for example, inorganic cobalt such as CoCQz. Compounds and Co (C HsC O O
) V, etc., and these cobalt compounds can be used alone or in combination.
このβ−ジカルボン酸とコバルト化合物との反応は、水
中で行なうこともできるが、水とアルコールとの混合溶
媒中で反応させることが好ましい。Although this reaction between the β-dicarboxylic acid and the cobalt compound can be carried out in water, it is preferable to carry out the reaction in a mixed solvent of water and alcohol.
本発明において使用する反応溶媒.中における水とアル
コールとの重量比率;九 通常10:90〜100′
0の範囲内にある。Reaction solvent used in the present invention. Weight ratio of water and alcohol inside; 9 Usually 10:90-100'
It is within the range of 0.
本発明に係るσージケトンおよび/またはa−ヒドロキ
シケトンの製造方法は、上記のようなβ−カルボニル化
合物のコバルト錯体の存在下に、シラン誘導体とアセチ
レン系炭化水素化合物と酸素含有ガスとを、接触させる
ことを特徴としている。The method for producing σ-diketones and/or a-hydroxyketones according to the present invention involves contacting a silane derivative, an acetylenic hydrocarbon compound, and an oxygen-containing gas in the presence of a cobalt complex of a β-carbonyl compound as described above. It is characterized by allowing
本発明において使用されるシラン誘導体は、次式[I1
]で表わすことができる。The silane derivative used in the present invention has the following formula [I1
].
ただし 式[r1]において、R’、R’及びR・は、
それぞれ独立に、水素原子、炭素数1−10の低級アル
キル五 アリール幕 低級アルコキシ基およびアリール
アルキル基よりなる群から選ばれる基若しくは原子を表
わす。However, in formula [r1], R', R' and R.
Each independently represents a group or atom selected from the group consisting of a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a lower alkoxy group, and an arylalkyl group.
ただし 上記式[nlにおいて R?、R@およびR9
のうち、少なくとも1つの基は、水素原子以外の基であ
る。従って、本発明において、SiH4は使用されない
。However, in the above formula [nl, R? , R@ and R9
Among them, at least one group is a group other than a hydrogen atom. Therefore, in the present invention, SiH4 is not used.
これら炭素数1〜10の低級アルキル瓜 アリール五
低級アルコキシ基およびアリールアルキル基の具体的な
例としては、前記式[I]で表わされるコバルト錯体の
説明の際に例示した基を挙げることができる。These lower alkyl melons having 1 to 10 carbon atoms
Specific examples of the lower alkoxy group and the arylalkyl group include the groups exemplified in the description of the cobalt complex represented by formula [I] above.
そして、上記式[II]で表わされるシラン誘導体の具
体的な例としては、メチルシラン、エチルシラン、フェ
ニルシラン、ジエチルシラン、ジメチルシラン、ベンチ
ルシラン、ジフェニルシラン、メチルエチルシラン、メ
チルフェニルシラン、 トリメチルシラン、 トリエチ
ルシラン、 トリーn−プロピルシラン、ジメチルフェ
ニルシラン、ジエチルフェニルシラン、ジメチルエチル
シランルジメチルシラン、七−ブチルジエチルシラント
キシシラン、エトキシシラン、メチルメトキシシラン、
ジエチルメトキシシラン、フェニルメトキシシラン、フ
ェニルエトキシシラン、メチルジメトキシシランおよび
ジエチルメトキシシランを挙げることができる。これら
のシラン誘導体は、単独で、あるいは組み合わせて使用
することができ る。Specific examples of the silane derivative represented by the above formula [II] include methylsilane, ethylsilane, phenylsilane, diethylsilane, dimethylsilane, bentylsilane, diphenylsilane, methylethylsilane, methylphenylsilane, trimethylsilane, triethyl. Silane, tri-n-propylsilane, dimethylphenylsilane, diethylphenylsilane, dimethylethylsilane, dimethylsilane, 7-butyldiethylsilantoxysilane, ethoxysilane, methylmethoxysilane,
Mention may be made of diethylmethoxysilane, phenylmethoxysilane, phenylethoxysilane, methyldimethoxysilane and diethylmethoxysilane. These silane derivatives can be used alone or in combination.
これらのシラン誘導体のうちでもジメチルシラン、 ジ
エチルシラン、 トリメチルシラン、 トリエチルシラ
ン、ジメチルフェニルシラン、メチルジフェニルシラン
、ジエチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
t−ブチルジメチルシランおよびフェニルシラン等が特
に好ましI/1本発明において使用されるアセチレン系
炭化水素化合物:九 通常、炭素数2〜30、好ましく
は4〜20のアセチレン系炭化水素化合物であり、例え
ば次式[I111で表わすことができる。Among these silane derivatives, dimethylsilane, diethylsilane, trimethylsilane, triethylsilane, dimethylphenylsilane, methyldiphenylsilane, diethylmethoxysilane, dimethylethoxysilane,
Particularly preferred are t-butyldimethylsilane and phenylsilane, etc. I/1 Acetylenic hydrocarbon compound used in the present invention: 9 Usually an acetylenic hydrocarbon compound having 2 to 30 carbon atoms, preferably 4 to 20 carbon atoms. , for example, can be expressed by the following formula [I111.
R−C”EC−R−−1−・・[ml
ただし、上記式[[+1]において、R11R1+は、
それぞれ独立に、アルキル幕 アリール豚 アルキルア
リール基の内から選ばれる基である。なお、これら)j
II RI 114 同一でも異、なっていても
よく、R1@とR目が共同して環を形成していてもよい
。R-C"EC-R--1-... [ml However, in the above formula [[+1], R11R1+ is
Each is independently a group selected from alkyl groups, aryl groups, and alkylaryl groups. In addition, these)
II RI 114 may be the same or different, and R1@ and R eyes may jointly form a ring.
このような上記式[mlで表わされるアセチレン系炭化
水素化合物には、脂肪族系アセチレン化合物、脂環族系
アセチレン化合物、芳香族系アセチレン化合物がある。Such acetylene hydrocarbon compounds represented by the above formula [ml include aliphatic acetylene compounds, alicyclic acetylene compounds, and aromatic acetylene compounds.
これらの化合物が置換基を有していてもよい。本発明の
方法において、反応に寄与する三重結合は、主鎖の末端
以外の部分、例えば主鎖の中心近傍に位置していてもよ
く、側鎖の末端以外の部分、例えば側鎖の中心近傍に位
置していてもよい。These compounds may have a substituent. In the method of the present invention, the triple bond contributing to the reaction may be located at a portion other than the end of the main chain, for example, near the center of the main chain, or may be located at a portion other than the end of the side chain, for example, near the center of the side chain. It may be located in
なお、本発明で使用されるオレフィン系炭化水素化合物
は、通常上記式[mlで示されるように、本発明の反応
のおける活性を有する三重結合を少なくとも1個有して
いる化合物であるカー このような三重結合を2@以上
有する化合物も使用することができる。さらに2個以上
の三重結合を有する場合、これらの三重結合は、本発明
の反応において同一の活性を示す必要はない。The olefinic hydrocarbon compound used in the present invention is usually a compound having at least one triple bond that is active in the reaction of the present invention, as shown by the above formula [ml]. Compounds having 2@ or more of such triple bonds can also be used. Furthermore, when having two or more triple bonds, these triple bonds do not need to exhibit the same activity in the reaction of the present invention.
このような官能基を有するアセ・チレン系炭化水素化合
物を使用しても、本発明の製造方法によれば、官能基が
形管を受けることなく、a−ジケトンおよび/またはa
−ヒドロキシケトンを製造することができる。Even if an acetyrene hydrocarbon compound having such a functional group is used, according to the production method of the present invention, the functional group does not receive the shape of the a-diketone and/or the a-diketone and/or the a-diketone.
-Hydroxyketones can be produced.
本発明において使用される酸素含有ガスとしては、酸素
自体を使用することができることはもちろん、空気等の
ように酸素以外の成分を含むガスを使用することもでき
る。酸素以外の成分を含むガスを使用する場合、反応の
経済性を考慮すると、このガス中における酸素の濃度が
5容量%以上のガスが好ましく使用される。As the oxygen-containing gas used in the present invention, not only oxygen itself can be used, but also a gas containing components other than oxygen such as air can also be used. When using a gas containing components other than oxygen, a gas in which the concentration of oxygen in the gas is 5% by volume or more is preferably used in consideration of the economic efficiency of the reaction.
本発明のa−ジケトンおよび/またはσ−ヒドロキシケ
トンの製造方法で1戴 特に反応溶媒を使用することを
要しないが、反応溶媒を使用することもできる。In the method for producing a-diketone and/or σ-hydroxyketone of the present invention, it is not necessary to use a reaction solvent, but a reaction solvent may be used.
本発明で反応溶媒を使用する場合、使用することのでき
る反応溶媒1戴 反応原料に対して活性を有していない
溶媒であれば特に限定なく使用することができる。本発
明において反応溶媒として使用することができる溶媒の
例とし、て鷹 ヘキサン、ベンゼン、 トルエン等の炭
化水素系溶媒。When a reaction solvent is used in the present invention, any usable reaction solvent may be used without particular limitation as long as it has no activity against the reaction raw materials. Examples of solvents that can be used as reaction solvents in the present invention include hydrocarbon solvents such as hexane, benzene, and toluene.
ジクロロメタン、エチレンジクロリド、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素系溶媒;ギ酸メチル、ギ酸エチル
、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系
溶媒;テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキ
サンおよびジエチルエーテル等のエーテル系溶媒を挙げ
ることができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは組
み合わせて使用することができる。Halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, ethylene dichloride, and chloroform; Ester solvents such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; Ether solvents such as tetrahydrofuran, dimethoxyethane, dioxane, and diethyl ether. can be mentioned. These solvents can be used alone or in combination.
これらの溶媒の中でもベンゼン、 トルエン、ジクロロ
メタン、エチレンジクロリドあるいはテトラヒドロフラ
ンが好ましく使用される。Among these solvents, benzene, toluene, dichloromethane, ethylene dichloride or tetrahydrofuran are preferably used.
本発明に係るa−ジケトンおよび/またはa−ヒドロキ
シケトンの製造方法において、β−ジカルボニル化合物
のコバルト錯体は、用いるアセ チレン系炭化水素化合
物1モルに対して、通常は0゜001−1モル、好まし
くは0.01〜02モルの範囲内の量で使用される。な
お、本発明においてコバルト錯体1転 単独で使用して
もよいし、担体に担持して使用することもで・きる。こ
の場合、通常使mされている担体を使用することができ
る。In the method for producing a-diketone and/or a-hydroxyketone according to the present invention, the cobalt complex of the β-dicarbonyl compound is usually 0°001-1 mol per mol of the acetylenic hydrocarbon compound used. , preferably in an amount within the range of 0.01 to 0.02 mol. In the present invention, the cobalt complex may be used alone or supported on a carrier. In this case, commonly used carriers can be used.
また、シラン誘導体は、アセチレン系炭化水素化合物1
モルに対して、通常IL 0. 3〜50モル、好ま
しくは0. 5〜3.0モルの範囲内の景で使用される
。In addition, the silane derivative is an acetylene hydrocarbon compound 1
For moles, usually IL 0. 3 to 50 mol, preferably 0. It is used in amounts ranging from 5 to 3.0 moles.
また、反応系に導入される酸素含有ガスの使用量は、使
用するアセチレン系炭化水素化合物1モルに対して2モ
ル以上であればよく、通常は過剰に反応系に導入される
。反応系への酸素含有ガスの供給形態:戴 シラン誘導
体およびアセチレン系炭化水素化合物等の反応原料なら
びに触媒として作用するコバルト錯体が酸素含有ガスと
接触可能な形態であれば特に制限はなく、酸素雰囲気下
に攪拌する方法、あるいは反応液中に酸素含有ガスをバ
ブリングさせる方法等を採mすることができる。Further, the amount of oxygen-containing gas introduced into the reaction system may be 2 mol or more per 1 mol of the acetylenic hydrocarbon compound used, and it is usually introduced in excess into the reaction system. Form of supply of oxygen-containing gas to the reaction system: There is no particular restriction as long as the reaction raw materials such as Dai silane derivatives and acetylene hydrocarbon compounds and the cobalt complex acting as a catalyst are in a form that allows contact with oxygen-containing gas, and oxygen atmosphere A method of stirring the mixture downward, a method of bubbling oxygen-containing gas into the reaction liquid, etc. can be adopted.
この反応は減圧乃至加圧のいずれの状態でも行なうこと
ができ、通常0. 1〜50気圧、0. 2〜2気圧の
範囲内の圧力で反応させることが好ましい。This reaction can be carried out under either reduced pressure or increased pressure, and is usually 0. 1 to 50 atmospheres, 0. It is preferable to carry out the reaction at a pressure within the range of 2 to 2 atmospheres.
上記のような反応の反応温度は、他の条件によって異な
るが、通常は一70〜200℃、好ましくは一1O〜1
50℃の範囲内に設定される。The reaction temperature for the above reaction varies depending on other conditions, but is usually -70 to 200°C, preferably -10 to 1
The temperature is set within a range of 50°C.
このような温度で反応させることにより、通常は0.
5〜50時間、好ましくは1〜20時間で反応が終了す
る。By reacting at such a temperature, usually 0.
The reaction is completed in 5 to 50 hours, preferably 1 to 20 hours.
上記の反応IL 固定東 流動東 移動床等の種々の
形態で行なうことができる。The above reaction IL can be carried out in various forms such as a fixed bed, a fluid bed, and a moving bed.
このように反応させることにより、次式[■]で表わさ
れるa−ジケトンおよび式[vlで表わされるσ−ヒド
ロキシケトンを得ることができる。By reacting in this manner, an a-diketone represented by the following formula [■] and a σ-hydroxyketone represented by the formula [vl] can be obtained.
ただ1 式[N]において、RIIおよびR++(1そ
れぞれ独立シミ 低級アルキル魚 アリール幕アリール
アルキル幕 シクロアルキル基よりなる群から選ばれる
基を表わり、、RI・およびRIが共同して環を構成し
ていてもよい。However, in formula [N], RII and R++ (1 each represent a group selected from the group consisting of an independent stain, a lower alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group, and RI and R++ jointly constitute a ring. You may do so.
ただし 上記式[vlにおいて、RII及びR1屯 そ
れぞれ独立1 低級アルキル豚 アリール基 アリール
アルキル基 シクロアルキル基よりなる群から選ばれる
基を表わり、、RIeおよびRIが共同して環を構成し
ていてもよい。However, in the above formula [vl, RII and R1 each independently represent a group selected from the group consisting of 1, lower alkyl group, aryl group, arylalkyl group, cycloalkyl group, and RIe and RI jointly constitute a ring. Good too.
なお、上記式[rvlおよび式[vlにおける低級アル
キル五 アリール基 アリールアルキル幕シクロアルキ
ル忍 低級アルケニル基の具体的な例1九 式[mlで
例示した基と同様である。Specific examples of lower alkenyl groups in the above formula [rvl and formula [vl] are the same as the groups exemplified in formula [ml].
本発明に係る製造方法により得られたa−ジケトン/α
−ヒドロキシケトン1礼 反応中間水 溶剤、香料等と
して有用性が高い。a-diketone/α obtained by the production method according to the present invention
-Hydroxyketone 1 reaction intermediate water Highly useful as a solvent, fragrance, etc.
及11と立置
本発明に係るσ−ジケトンおよび/またはσ−ヒドロキ
シケトンの製造方法によれ1!、触媒としてコバルト錯
体を使用しているため、アセチレンからa−ジケトンお
よび/またはa+ヒドロキシケトンを一段で合成するこ
とができる。さらに、この反応1戴 従来の反応のよう
に酸化オスミウムのような毒性の高い触媒を反応させる
必要がないため、安全性が高い。According to the method for producing σ-diketone and/or σ-hydroxyketone according to the present invention, 1! Since a cobalt complex is used as a catalyst, a-diketone and/or a+ hydroxyketone can be synthesized from acetylene in one step. Furthermore, this reaction is highly safe because it does not require a highly toxic catalyst such as osmium oxide, unlike conventional reactions.
また、上記のような触媒を使用することにより、官能基
を有するアセチレンを原料として使用して、σ−ジケト
ンおよび/またはσ−ヒドロキシケトンを高収率で製造
することができる。Moreover, by using the above catalyst, σ-diketone and/or σ-hydroxyketone can be produced in high yield using acetylene having a functional group as a raw material.
また、アセチレン系炭化水素化合物が官能基を有する場
合であっても、官能基が分解されることがなく、従って
官能基を有するアセチレン系炭化水素化合物から、この
ような官能基を有するa−ジケトンおよび/またはa−
ヒドロキシケトンを製造することができる。Furthermore, even if the acetylenic hydrocarbon compound has a functional group, the functional group will not be decomposed, and therefore an a-diketone having such a functional group can be converted from an acetylenic hydrocarbon compound having a functional group. and/or a-
Hydroxyketones can be produced.
次に本発明の実施例を示して本発明を具体的に説明する
が、本発明は、これら実施例によって限定されるもので
はない。Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
叉息j」
1.2−ジフェニル−1,2−エタンジオン−1及び1
.2−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−エタノ1ンー
2の合成ジフェニルアセチレン178.@(1ミリモル
)とトリエチルシラン456.(4ミリモル)、ビス(
アセチルアセトナト)コバルト錯体26W@(0,1ミ
リモル)を1.2−ジクロロエタン、 5ミリに溶かし
て、 1気圧の酸素雰囲気下、室温(およそ20℃)で
24時間攪拌しへ
反応終了後、 l規定塩酸水溶410m1を加えよく攪
拌した 有機物をジクロロメタンで抽出後、有機層を重
曹水で2回、食塩水で1回洗浄しtう有8i層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下にa縮重 薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル)で精製しt4
上記のように操作することのにより1.2−ジフェニル
−1,2−エタンジオンを100W@得た(収率48%
)。黄色油状物。1.2-diphenyl-1,2-ethanedione-1 and 1
.. Synthesis of 2-diphenyl-1-hydroxy-2-ethano1-2 Diphenylacetylene 178. @ (1 mmol) and triethylsilane 456. (4 mmol), bis(
Acetylacetonato) cobalt complex 26W@(0.1 mmol) was dissolved in 5 mmol of 1,2-dichloroethane and stirred at room temperature (approximately 20°C) for 24 hours under an oxygen atmosphere of 1 atm. After the reaction was complete, 1 Normal aqueous hydrochloric acid solution (410 ml) was added and stirred well. After extracting the organic matter with dichloromethane, the organic layer was washed twice with aqueous sodium bicarbonate and once with brine, and the remaining 8i layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then a By purifying with degenerate thin layer chromatography (silica gel) and operating as above, 100W of 1,2-diphenyl-1,2-ethanedione was obtained (yield 48%).
). Yellow oil.
また、1,2−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−エタ
ノンを34W@得た(収率16%)。無色油状物。In addition, 34W of 1,2-diphenyl-1-hydroxy-2-ethanone was obtained (yield: 16%). Colorless oil.
この他に安息香酸が30W@得られた
実施例2〜17
実施例1において、 トリエチルシランとコバルト錯体
の代わりく 表1に記載したシラン化合物、およびコバ
ルト錯体を使用した以外は同様に操作し九
上記のようにして操作することにより生成した1、2−
ジフェニル−1,Z−エタンジオン ・・・(1)1.
2−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−エタノン・・・
(2)の収率を表1に記載する。In addition, Examples 2 to 17 in which 30 W of benzoic acid was obtained. 1, 2- generated by operating as above
Diphenyl-1,Z-ethanedione...(1)1.
2-diphenyl-1-hydroxy-2-ethanone...
The yield of (2) is shown in Table 1.
表1
X施例
シラン化合物
一!ヱソヒL片j運 %番号
生Ift物(1)生成物(2)2 トリエチルシラン
3 FII上
4 同上
5 同上
6 同上
7 同上
−3−−一門よ
り モノフェニルシラン
lO同上
11 FBI上
12 同上
!−夛−−−−−−−−−pHよ
14 ジエチルシラン
15 同上
1−6−−−−−−−−−F11よ
17 エトキシジメチルシラン
叉去口F118
1−フェニル−1,2−プロパンジオン凰 及び1−フ
ェニル−2−ヒドロキシ−1−プロパノン−4の合1−
フェニルー1−プロピン、 116.1 (1ミリモル
)とフェニルシラン、 216.(2ミリモル)、ビス
(トリフルオロアセチルアセトナト)コノくルと錯体(
62番)32鴫(0,1ミリモル)を1゜2−ジクロロ
エタン5mlに溶かし、−気圧の酸素雰囲気下、室温で
12時間激しく攪拌しtら所定時間経過後、生成物をガ
ス・クロマトグラフィーを用いて分析したところ、1−
フェニル−1,2−プロパンジオン−3および1−フェ
ニル−2−ヒドロキシ−1−プロパノン−4の収率は、
それぞれ50%、30%でありt4
11例19〜21
実施例18において、1−フェニル−1−プロピンの代
わりに表2に記載した所定のアセチレン誘導体1ミリモ
ルを用いて所定時間反応を行った以外は同様に行っt4
その結果を表2に示す。Table 1 X Example silane compound 1! Esohi L piece j luck % number
Raw Ift product (1) Product (2) 2 Triethylsilane 3 FII above 4 Same as above 5 Same as above 6 Same as above 7 Same as above - 3 - From the same group Monophenylsilane lO Same as above 11 FBI above 12 Same as above! -夛---------pH 14 Diethylsilane 15 Same as above 1-6----------F11 17 Ethoxydimethylsilane removal port F118 1-phenyl-1,2-propanedione Synthesis of 凰 and 1-phenyl-2-hydroxy-1-propanone-4 1-
Phenyl-1-propyne, 116.1 (1 mmol) and phenylsilane, 216. (2 mmol), complex with bis(trifluoroacetylacetonato)conocle (
No. 62) Dissolve 32 (0.1 mmol) in 5 ml of 1°2-dichloroethane and stir vigorously for 12 hours at room temperature in an oxygen atmosphere of -atmosphere. After a specified period of time, the product was analyzed by gas chromatography. When analyzed using
The yields of phenyl-1,2-propanedione-3 and 1-phenyl-2-hydroxy-1-propanone-4 are:
50% and 30%, respectively, and t4 11 Examples 19 to 21 Except for Example 18, in which 1 mmol of the specified acetylene derivative listed in Table 2 was used instead of 1-phenyl-1-propyne and the reaction was carried out for a specified period of time. is done in the same way t4
The results are shown in Table 2.
Claims (1)
物のコバルト錯体; ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] [上記式[ I ]において、R^1、R^2、R^5お
よびR^6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜
10の低級アルキル基、シクロアルキル基、アリール基
、アリールアルキル基、フッ素原子を有するアリール基
、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニル基およびカルバモイル基よりなる群か
ら選ばれる原子若しくは基を表わし、R^3およびR^
4は、それぞれ独立に、炭素数1〜10の低級アルキル
基、アリール基、アルキルカルボキシ基、アリールアル
キル基およびシクロアルキル基よりなる群から選ばれる
基を表わす。]の存在下に、 次式[II]で表わされるシラン誘導体; ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・[II] [ただし、式[II]において、R^7、R^8およびR
^9は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10の
低級アルキル基、アリール基、低級アルコキシ基および
アリールアルキル基よりなる群から選ばれる基若しくは
原子を表わすと共に、R^7、R^8およびR^9のう
ち、少なくとも1つの基は、水素原子以外の基である。 ]と、 次式[III]で表わされる鎖状アセチレン; R^1^0−C≡C−R^1^1・・・・・・・[III
][ただし、上記式[III]において、R^1^0およ
びR^1^1は、それぞれ独立に、低級アルキル基、ア
リール基、アリールアルキル基、シクロアルキル基より
なる群から選ばれる基を表わし、R^1^0およびR^
1^1が共同して環を構成していてもよい。]と、酸素
含有ガスとを接触させることを特徴とする式[IV]で表
わされるα−ジケトンおよび/または式[V]で表わさ
れるα−ヒドロキシケトンの製造方法; ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・[I
V] [ただし、式[IV]において、R^1^0およびR^1
^1は、それぞれ独立に、低級アルキル基、アリール基
、アリールアルキル基およびシクロアルキル基よりなる
群から選ばれる基を表わし、R^1^0、R^1^1が
共同して環を構成していてもよい。] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・[
V] [ただし、上記式[V]において、R^1^0およびR
^1^1は、それぞれ独立に、低級アルキル基、アリー
ル基、アリールアルキル基、シクロアルキル基よりなる
群から選ばれる基を表わし、R^1^0およびR^1^
1が共同して環を構成していてもよい。]。(1) Cobalt complex of β-dicarbonyl compound represented by the following formula [I]; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...[I] [In the above formula [I], R^1, R^ 2, R^5 and R^6 are each independently a hydrogen atom, a carbon number of 1 to
Represents an atom or group selected from the group consisting of 10 lower alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, arylalkyl groups, aryl groups having a fluorine atom, trifluoromethyl groups, alkoxycarbonyl groups, alkylcarbonyl groups, and carbamoyl groups. , R^3 and R^
4 each independently represents a group selected from the group consisting of a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an alkylcarboxy group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group. ], a silane derivative represented by the following formula [II]; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・[II] ^8 and R
^9 each independently represents a group or atom selected from the group consisting of a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, a lower alkoxy group, and an arylalkyl group, and R^7, R^ At least one group among 8 and R^9 is a group other than a hydrogen atom. ] and a linear acetylene represented by the following formula [III]; R^1^0-C≡C-R^1^1...[III
][However, in the above formula [III], R^1^0 and R^1^1 each independently represent a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group. The expressions R^1^0 and R^
1^1 may jointly constitute a ring. ] and an oxygen-containing gas, a method for producing an α-diketone represented by the formula [IV] and/or an α-hydroxyketone represented by the formula [V]; ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc. There is▼・・・・・・・・・[I
V] [However, in formula [IV], R^1^0 and R^1
^1 each independently represents a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group, and R^1^0 and R^1^1 jointly constitute a ring. You may do so. ] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・・・・[
V] [However, in the above formula [V], R^1^0 and R
^1^1 each independently represents a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a cycloalkyl group, and R^1^0 and R^1^
1 may jointly form a ring. ].
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30357789A JPH03167150A (en) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketone |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30357789A JPH03167150A (en) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketone |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03167150A true JPH03167150A (en) | 1991-07-19 |
Family
ID=17922677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30357789A Pending JPH03167150A (en) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketone |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03167150A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6123974A (en) * | 1998-04-20 | 2000-09-26 | Givaudan Roure (International) Sa | Hydroxy-methyl-hexanones as flavoring agents |
CN101768037A (en) * | 2010-01-13 | 2010-07-07 | 苏州大学 | Method for generating 1,2-diketone by oxidizing alkyne with ruthenium compound as catalyst |
CN106220484A (en) * | 2016-08-05 | 2016-12-14 | 河南大学 | A kind of preparation method of dibenzoyl analog derivative |
-
1989
- 1989-11-22 JP JP30357789A patent/JPH03167150A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6123974A (en) * | 1998-04-20 | 2000-09-26 | Givaudan Roure (International) Sa | Hydroxy-methyl-hexanones as flavoring agents |
CN101768037A (en) * | 2010-01-13 | 2010-07-07 | 苏州大学 | Method for generating 1,2-diketone by oxidizing alkyne with ruthenium compound as catalyst |
CN106220484A (en) * | 2016-08-05 | 2016-12-14 | 河南大学 | A kind of preparation method of dibenzoyl analog derivative |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Brown et al. | The oxymercuration-demercuration of representative olefins. A convenient, mild procedure for the Markovnikov hydration of the carbon-carbon double bond | |
Cacchi | The palladium-catalyzed hydroarylation and hydrovinylation of carbon-carbon multiple bonds: New perspectives in organic synthesis | |
Gomez-Suarez et al. | Influence of a very bulky N-heterocyclic carbene in gold-mediated catalysis | |
Ozawa et al. | A new reactive system for catalytic bis-silylation of acetylenes and olefins | |
Negishi et al. | Patterns of stoichiometric and catalytic reactions of organozirconium and related complexes of synthetic interest | |
Still | Conjugate addition of trimethysilyllithium. A preparation of 3-silyl ketones | |
Tardif et al. | Rare earth alkyl and hydride complexes bearing silylene-linked cyclopentadienyl-phosphido ligands. Synthesis, structures, and catalysis in olefin hydrosilylation and ethylene polymerization | |
CN111420709B (en) | Application of Azacyclic Carbene-type Mixed Nickel(II) Complexes in the Synthesis of 2-Linear Alkyl Benzothiazoles | |
Klunduk et al. | The influence of steric congestion on the catalytic performance of TiIV active centers in the epoxidation of alkenes | |
Dimitrov et al. | Chiral β-and γ-aminoalcohols derived from (+)-camphor and (−)-fenchone as catalysts for the enantioselective addition of diethylzinc to benzaldehyde | |
Clegg et al. | Towards an understanding of the conjugate addition of organolithium reagents to α, β-unsaturated ketones: the isolation and solid-state structure of a monomeric lithium aluminate with very short agostic Li⋯ HC interactions | |
Djurovich et al. | Synthesis, Structure, and CH Bond Activation Chemistry of (. eta. 6-arene) Ru (H) 2 (SiMe3) 2 Complexes | |
Ohkuma et al. | A practical method for activation of commercial lithium hydride: reductive silylation of carbonyl compounds with lithium hydride and chlorotrimethylsilane | |
Woo et al. | Synthesis, reactivity, and characterization of the first donor-stabilized silylene complexes of osmium meso-tetra-p-tolylporphyrin (TTP) Os: SiR2. cntdot. THF (R= Me, Et, iso-Pr) and the molecular structure of (TTP) Os: SiEt2. cntdot. 2THF | |
Guo et al. | A facile Zr-mediated multicomponent approach to arylated allylic alcohols and its application to the synthesis of highly substituted indenes and spiroindenes | |
Fürstner et al. | Unprecedented McMurry reactions with acylsilanes: enedisilane formation versus brook rearrangement | |
Suginome et al. | Novel Activation of Two Si-Si. sigma.-Bonds in a Molecule by tert-Alkyl Isocyanide-Palladium Complexes | |
JPH03167150A (en) | Production of alpha-diketone and/or alpha-hydroxyketone | |
Panev et al. | Cerium (III) chloride promoted addition of organometallic reagents to (−)-menthone—preparation of chiral neomenthyl derivatives | |
Takahashi et al. | Metallocenes in regio-and stereoselective synthesis | |
Hua et al. | Bidentate N, O-aluminum complexes: Synthesis, characterization and catalytic study for MPV reduction reactions | |
JPH02219A (en) | Preparation of unsaturated alcohol | |
Dauvergne et al. | Titanium mediated alkylidenation of substituted cycloalkenones: scope and limitations | |
Xi et al. | Construction of carbocycles via zirconacycles and titanacycles | |
JP2801692B2 (en) | Method for producing silyl peroxide |