JPH03140326A - アルコールおよび煮沸水に対し安定な成形材料 - Google Patents
アルコールおよび煮沸水に対し安定な成形材料Info
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- JPH03140326A JPH03140326A JP2279516A JP27951690A JPH03140326A JP H03140326 A JPH03140326 A JP H03140326A JP 2279516 A JP2279516 A JP 2279516A JP 27951690 A JP27951690 A JP 27951690A JP H03140326 A JPH03140326 A JP H03140326A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/265—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from at least two different diamines or at least two different dicarboxylic acids
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔腫東上の利用分野〕
本発明rよ無定形のコポリ7ミドCベースとしたアルコ
ールによび蕉1pc対し安定な成形材料に関する。
ールによび蕉1pc対し安定な成形材料に関する。
無定形のコポリ7ミドCベースとした煮沸水に刈し安定
な成形愕科μ云知でめる(賦州荷肝第5U742−jt
明細誉、同第69700勺男細誉および西ドイツ1籍吐
第36 LIO015号明細簀)、シかし該成形材!
+トその実用性において決足釣な入点C胃する、丁なわ
ち跋成形仔科ハアルコール、たとえVよメタノール、エ
タノール、グロバノール、1タノ一ル等tこ対し不女足
でのる。(″れ1′こより1級成形材料ζアルコールの
存在下で謁濁し、lIe彊しIfcは付層する頑flJ
がめる;該成形材料の−fI5はアルコールに先金に溶
解する。しかしながら、多くの使用目的のため、たとえ
ばめがね7レ一ム里たは装置ののぞき窓のためには、ア
ルコールに対する安定性が不IIIT欠である。
な成形愕科μ云知でめる(賦州荷肝第5U742−jt
明細誉、同第69700勺男細誉および西ドイツ1籍吐
第36 LIO015号明細簀)、シかし該成形材!
+トその実用性において決足釣な入点C胃する、丁なわ
ち跋成形仔科ハアルコール、たとえVよメタノール、エ
タノール、グロバノール、1タノ一ル等tこ対し不女足
でのる。(″れ1′こより1級成形材料ζアルコールの
存在下で謁濁し、lIe彊しIfcは付層する頑flJ
がめる;該成形材料の−fI5はアルコールに先金に溶
解する。しかしながら、多くの使用目的のため、たとえ
ばめがね7レ一ム里たは装置ののぞき窓のためには、ア
ルコールに対する安定性が不IIIT欠である。
本発明の課題ば、v1把入点τ有せず、しかもrよかの
有利な待機を失わない成形(f科を提供することでめっ
た。
有利な待機を失わない成形(f科を提供することでめっ
た。
〔課11を解決するための手獣〕
本発明の課mに
A)イソフタル酸と、
B) n−デカメチレンジアミン−1,1020〜8
0モルラ ビス(4−7ミノ7クロヘキシルノメタン20〜80モ
ル優 とのX組合1ζより僧りれ九コポリアミドを用いること
rこより解決される。
0モルラ ビス(4−7ミノ7クロヘキシルノメタン20〜80モ
ル優 とのX組合1ζより僧りれ九コポリアミドを用いること
rこより解決される。
A)イソフタル販と
B) n−デカメテレ/ジアミン−1,1020〜8
0モル% ビス(4−7ミノシクコへキシル977720〜80モ
ル% とのλ縮合により涛り九九コポリフィトとベースとした
成形材料が有利でるる。
0モル% ビス(4−7ミノシクコへキシル977720〜80モ
ル% とのλ縮合により涛り九九コポリフィトとベースとした
成形材料が有利でるる。
更に有利な実施!gi9Rでは、インクタル酸の50モ
ルs1でかテレフタル酸とKmえbnているよりなコポ
リアミドを使用する。
ルs1でかテレフタル酸とKmえbnているよりなコポ
リアミドを使用する。
本発明にもとづく成ル付科の基にとなるコポリアミドは
1.4〜2.1の範囲の、M利には1.55〜1.95
0軍巨囲の相対浴液粘度 (り、。1)を有する。;ポ
リアミドのがラス転移点(Tg)は120〜180℃の
範囲、有利には140〜170℃の1@囲にめる。
1.4〜2.1の範囲の、M利には1.55〜1.95
0軍巨囲の相対浴液粘度 (り、。1)を有する。;ポ
リアミドのがラス転移点(Tg)は120〜180℃の
範囲、有利には140〜170℃の1@囲にめる。
コポリアミドの装造は原理的に公知でδる。
成分のl[#曾は#融資中で夾誰する。場合により燐か
ら#54−5れる一般式H3P021 (n=2〜4〕
で示されるall九はトリフェニル7オスフイトの存在
下で実施することがで龜る。
ら#54−5れる一般式H3P021 (n=2〜4〕
で示されるall九はトリフェニル7オスフイトの存在
下で実施することがで龜る。
過当な、燐から誘導される酸は次亜燐酸、亜m11it
1燐峨でるる。
1燐峨でるる。
触媒を亦加する際には、該触媒を丁べてのモノマー総意
に対してU、(J 01〜1モル優、有利にはQ、00
1〜0.1モル鋒の倉でil!用する。
に対してU、(J 01〜1モル優、有利にはQ、00
1〜0.1モル鋒の倉でil!用する。
dm応r! 200〜550 ’Cv41i4ifL
W利には210〜321J’CO鞄−の@直で6融物甲
で犬mする。
W利には210〜321J’CO鞄−の@直で6融物甲
で犬mする。
通、Ilは不活性ガス下で冨比C夾識する。しかし4が
り島加圧もしくμ減圧で笑jすることもできるゆ 分子′tt−4加する次めに、コポリ7ミト°を不活性
ガス疼吐気内で固相後備ビさせることがで@る。
り島加圧もしくμ減圧で笑jすることもできるゆ 分子′tt−4加する次めに、コポリ7ミト°を不活性
ガス疼吐気内で固相後備ビさせることがで@る。
コポリ7ゼドは通虐の機械で射出成形!7trC押出成
形1〔よp成形iP)にカロエする。
形1〔よp成形iP)にカロエする。
該成形材、Nは、付方U的になお冗礪剤、たとえは滑石
、lたは強化剤、たとえばガラス繊維、7ツミド(AR
AMxpン繊維lたに炭虞稙膳、ならびに他の通常の一
カロ剤、たとえばIA科l九は安定刑忙富有することが
できる。
、lたは強化剤、たとえばガラス繊維、7ツミド(AR
AMxpン繊維lたに炭虞稙膳、ならびに他の通常の一
カロ剤、たとえばIA科l九は安定刑忙富有することが
できる。
該成形材料は射出成形、押出成形等の通常の方法によp
成形品、繊維、フィルム等に加工する。
成形品、繊維、フィルム等に加工する。
本発明にもとづく成形材料はアルコールに対して意想外
に高い安定性1c有し、しかも七の良好な一般的特徴、
特に蕉sXに対する安定性を失うことかをい。
に高い安定性1c有し、しかも七の良好な一般的特徴、
特に蕉sXに対する安定性を失うことかをい。
EJA細警および実施例に示されたパラメータは以下の
方法を用いて測定した。
方法を用いて測定した。
相対浴液粘度(lr13エラは25℃でm−クレゾール
ψの0.5!tチのボリアばド鹸漱で測定した。
ψの0.5!tチのボリアばド鹸漱で測定した。
ガラス伝移謳度(Tg)は刀0隔速腿20’に/min
においてD8C−1定から副廻し九。
においてD8C−1定から副廻し九。
C5AA例〕
しul
に入* : イ:/ 7fiル戚8.6LJ6KIz(
50モh)n−デカメチレンジアミン−1,1U 4.3L16々(25モル) ビス(4−アミノンクロへキフルンメタ15.258時
(25モル] 水 18.000KgHsPO
2(50ム濾膚水浴漱として) 0.6501i装人
物を170℃および圧力9バール(′こおいてX縮合反
応1#内で室木下で水中で溶解した。
50モh)n−デカメチレンジアミン−1,1U 4.3L16々(25モル) ビス(4−アミノンクロへキフルンメタ15.258時
(25モル] 水 18.000KgHsPO
2(50ム濾膚水浴漱として) 0.6501i装人
物を170℃および圧力9バール(′こおいてX縮合反
応1#内で室木下で水中で溶解した。
反応九盆物の温度全圧力を維持して260℃に上外し、
七の後t1.娘藏で1時間撹拌した。引続き温度t60
0℃に高めた。遊離した水を首去し7こ、60O℃で4
時間姪遇佼コポリアミド七反応器からとり出した。
七の後t1.娘藏で1時間撹拌した。引続き温度t60
0℃に高めた。遊離した水を首去し7こ、60O℃で4
時間姪遇佼コポリアミド七反応器からとり出した。
η =1.72 Tg=163℃e1
列 2
装入物:イ77 J ル& 4.984<1(
3LIモル)テレフタル酸 6.323に&(2
0七ルノn−デカメテレ/ジアミン−1,10 6、LJ62Q(3bモルン ビス(4−7ミノシクロへ千フルンメタン3.155寸
(15モルン 水 17.LILIOKgHa
lo2(50貞輩%水Meとじでノ C1,640,r
例1iこ類似してX瑞♂ζ冥りした。
3LIモル)テレフタル酸 6.323に&(2
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(15モルン 水 17.LILIOKgHa
lo2(50貞輩%水Meとじでノ C1,640,r
例1iこ類似してX瑞♂ζ冥りした。
11re1=1.65 T、=145℃例 6
装入物:イソフタル& 8.3LI6に&(5
(Jモk)n−デカメチレンシフばンー1.10 3.963KIIC23モルリ ビス(4−7ミノシクロヘギシルリメタン5.675’
lψ(27モル− yK 18.0CJIJ時例
1にgA似してJX紬曾を夷4した。
(Jモk)n−デカメチレンシフばンー1.10 3.963KIIC23モルリ ビス(4−7ミノシクロヘギシルリメタン5.675’
lψ(27モル− yK 18.0CJIJ時例
1にgA似してJX紬曾を夷4した。
v =1.61 Tg”167℃e1
例 4
?!l 1〜6により調造したコポリ7ゼドt2・〕の
商標名の、蕉加水に幻し安短として示さ几たコポリ7ミ
ド(A) #よひ(B)と比軟し7ζ。
商標名の、蕉加水に幻し安短として示さ几たコポリ7ミ
ド(A) #よひ(B)と比軟し7ζ。
コボリアずド(A)(コOGAM工pTンはモノマーと
してテレフタル酸およびトリメチルへギテメチレフジ7
ミ/(はぼ同じムム部の2.44−および2,2.41
リメナルヘキ丈メチレンジアミンからなる^在体混合物
)を貧有する。
してテレフタル酸およびトリメチルへギテメチレフジ7
ミ/(はぼ同じムム部の2.44−および2,2.41
リメナルヘキ丈メチレンジアミンからなる^在体混合物
)を貧有する。
コポリ7 # ト(B)、 (GRILLAMID@T
R55)はモノマーとしてイソフタル戚約30モル優、
6゜6′−ジメチル−4,4′−ジアミノジシクロヘキ
シルメタン約60モル優および2ウリンラクタム約40
モル係から#4成されている。
R55)はモノマーとしてイソフタル戚約30モル優、
6゜6′−ジメチル−4,4′−ジアミノジシクロヘキ
シルメタン約60モル優および2ウリンラクタム約40
モル係から#4成されている。
本発明にもとづくコポリマーならびに比較製品tエタノ
ール中で呈−で6i!1闇保存し罠、不発明にもとづく
コポリ7ミドには、外観およびm液粘度に訃いて変化が
認められなかったが、比42R品はわずかの時間を独で
、すでに付層した。蕉那水テスト(煮鏝した7X甲で2
4時間〕では本発明にもとつくコポリ7ミドには同様に
変化が生じなかったが、コポリアミド(AJには直しい
混濁がおよびコポリ7ミドCB)Kは弱い混濁が認めら
れた。
ール中で呈−で6i!1闇保存し罠、不発明にもとづく
コポリ7ミドには、外観およびm液粘度に訃いて変化が
認められなかったが、比42R品はわずかの時間を独で
、すでに付層した。蕉那水テスト(煮鏝した7X甲で2
4時間〕では本発明にもとつくコポリ7ミドには同様に
変化が生じなかったが、コポリアミド(AJには直しい
混濁がおよびコポリ7ミドCB)Kは弱い混濁が認めら
れた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、A)イソフタル酸と、 B)n−デカメチレンジアミン−1,10 20〜80モル% ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン 20〜80モル% との重縮合により得られた無定形コポリアミドをベース
とする、アルコールおよび煮沸水に対し安定な成形材料
。 2、含有されたコポリアミドが A)イソフタル酸と、 B)n−デカメチレンジアミン−1,10 40〜80モル% ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン 20〜60モル% との重縮合により得られたものである請求項1記載の成
形材料。 3、イソフタル酸の50モル%までがテレフタル酸と置
換えられている請求項1または2記載の成形材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3934927A DE3934927A1 (de) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | Gegenueber alkoholen und kochendem wasser bestaendige formmassen |
DE3934927.6 | 1989-10-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140326A true JPH03140326A (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=6391815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2279516A Pending JPH03140326A (ja) | 1989-10-20 | 1990-10-19 | アルコールおよび煮沸水に対し安定な成形材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5166312A (ja) |
EP (1) | EP0423473A3 (ja) |
JP (1) | JPH03140326A (ja) |
CA (1) | CA2027966A1 (ja) |
DE (1) | DE3934927A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012532943A (ja) * | 2009-07-10 | 2012-12-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | テレフタル酸単位ならびにトリメチルヘキサメチレンジアミン単位を含有するコポリアミドをベースとする成形材料 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4310970A1 (de) * | 1993-04-03 | 1994-10-06 | Huels Chemische Werke Ag | Farblose und transparente, amorph zu verarbeitende Polyamidformmassen mit guter Spannungsrißbeständigkeit und Schlagzähigkeit |
DE19651714A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-18 | Inventa Ag | Dekoriertes Halbzeug aus transparenten Polyamiden Verfahren zu seiner herstellung und dessen Verwendung |
US6936682B2 (en) * | 2000-12-11 | 2005-08-30 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyamide |
DE10224947B4 (de) * | 2002-06-05 | 2006-07-06 | Ems Chemie Ag | Transparente Polyamid-Formmassen mit verbesserter Transparenz, Chemikalienbeständigkeit und dynamischer Belastbarkeit |
CN103665372B (zh) * | 2012-09-06 | 2016-04-20 | 金发科技股份有限公司 | 一种半芳香族聚酰胺、其制备方法、其组合物及其应用 |
Family Cites Families (6)
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