JPH03129301A - 多層反射防止膜 - Google Patents
多層反射防止膜Info
- Publication number
- JPH03129301A JPH03129301A JP1266202A JP26620289A JPH03129301A JP H03129301 A JPH03129301 A JP H03129301A JP 1266202 A JP1266202 A JP 1266202A JP 26620289 A JP26620289 A JP 26620289A JP H03129301 A JPH03129301 A JP H03129301A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- film
- films
- high refractive
- mgf2
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002356 single layer Substances 0.000 abstract description 10
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical group [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、透明基板の表面での光の反射を減少させるた
めにこの透明基板上に形成される多層反射防止膜に関す
るものであって、特に光学機器に使用されるレンズ等に
適用される多層反射防止膜に関する。 [従来の技術] 従来より光学機器に使用されている反射防止膜は、単層
、2層、3層、6層のものである。単層として最も一般
的なものは、フッ化マグネシウム(MgF*屈折率n
= 1.38)からなる反射防止膜である。2層反射防
止膜は高屈折率膜と低屈折率膜の構成により反射防止帯
域をやや広げることができる。3層反射防止膜は可視域
で用いられる最も一般的な反射防止膜であり、2FJ反
射防止膜に比較してさらに反射防止帯域を広げることが
できる。 6層反射防止膜はさらに十分な反射防止効果を得るため
に3層構造の中屈折率膜を高屈折率膜と低屈折率膜で置
換し、さらに高屈折率膜を高屈折率膜、低屈折率膜、高
屈折率膜で置換したものである。現在使用されている低
屈折率材f4の中で、最も屈折率の低く、信頼性を持つ
ものはフッ化マグネシウムであり、通常ハードコート(
基板温度を300℃前後に加熱して成膜する)によって
形成している。この成膜方法によれば、膜硬度、密着性
1分光特性等の特性は実用上問題ないものが得られるこ
とがわかっている。 ところで、最近の成膜装置等の開発にともない、イオン
ガンな使用する(イオンアシスト法)ことによってハー
ドコートをソフトコート(基板温度を室温のままで成膜
する)に置き換える検討が行なわれている。このような
技術開発が進めば、基板温度を上げずに成膜することが
可能になり、その結果生産性の向上などのメリットが期
待できる。 ryR明が解決しようとする課題] このような観点から、反射防止膜材料で使用されるもの
としてMgh、 5ift、 Al□01等の単層膜に
ついて、イオンアシスト法を使用してハードコートと同
等の膜特性を有するものがソフトフートで可能かどうか
検討したところ、5ilh、 Al2O3の酸化物材料
では、イオンアシスト法により膜硬度。 定着性1分光特性等の特性がハードコートに近いものが
得られた。 しかしながら、MgF zでは特に膜硬度が不十分で簡
単に膜にキズが入ってしまい、ハードコート並みの特性
は得られない状況である。 MgF2のハードコートをイオンアシスト法によるソフ
トコートに置き換えることは、非常に難しい、この原因
はよくわかっていないが、MgFzは結合エネルギーが
低く、化学的に不安定であることに大きく起因している
と思われる。 MgFよの単、g膜は現状でも需要があり、またMgF
i単層並みの分光特性がソフトコートによって得られれ
ば、多層反射防止膜になっても生産上有利になり、さら
に熱変形の理由によりハードコートできないガラス基体
へMgFt単層並単層時性の膜を形成できれば非常に有
効性は高くなる。 本発明の主な目的はソフトコートによってMgFz単層
と同等の分光特性を持ち、かつ実用上問題ない程度の膜
硬度、密着性のある反射防止膜を提供することである。 〔課題を解決するための手段] 本発明は、光学用硝子又は光学用プラスチックからなる
透明基板上にこの基板から遠ざかる方向に向って第1の
高屈折率膜、第1の低屈折率膜、第2の高屈折率膜及び
第2の低屈折率膜がこの順に積層された多層反射防止膜
において、第1及び第2の高屈折率膜及び低屈折率膜の
すべてがイオンアシスト法による蒸着で形成され、第1
及び第2の高屈折率膜の屈折率が2.0〜2.5であり
、第1及び第2の低屈折率膜の屈折率がいずれも1.4
6〜1.50であることを特徴とする多層反射防止膜で
ある。 前記第1及び第2の高屈折率膜は、TiO□7Taxe
s、 Zr0z、 In2O5,SnO,Nb2Ogも
しくはYb、0.又はこれらの混合物からなる透明材料
であることが好ましい。 MgFtに代わる低屈折率材料であってイオンアシスト
法も適用できる材料としてSiO2、SiO2.AhC
hが好適である。 前記第1及び第2の低屈折率膜は5iOz、SiO□と
Al2O3との混合物、又はSingを主成分とする物
質からなることが好ましい。これらの材料の屈折率はM
ghよりも高く、SiO□では1.46〜1.50、A
hOsでは1.50〜1.63である。 5iOzと
AhOsの混合物を用いることもでき、この場合はSi
O2、SiO2とAltosの中間の屈折率になる。ま
たこの他の材料であっても屈折率がSiO2やAl2O
3と同程度であれば本発明の反射防止膜に適用できる。 膜硬度については、イオンアシスト法を用いた蒸着法に
よればこれらの高屈折率膜材料および低屈折率膜材料で
は、バートコ−1・に近い膜硬度が得られ実用上問題な
い。
めにこの透明基板上に形成される多層反射防止膜に関す
るものであって、特に光学機器に使用されるレンズ等に
適用される多層反射防止膜に関する。 [従来の技術] 従来より光学機器に使用されている反射防止膜は、単層
、2層、3層、6層のものである。単層として最も一般
的なものは、フッ化マグネシウム(MgF*屈折率n
= 1.38)からなる反射防止膜である。2層反射防
止膜は高屈折率膜と低屈折率膜の構成により反射防止帯
域をやや広げることができる。3層反射防止膜は可視域
で用いられる最も一般的な反射防止膜であり、2FJ反
射防止膜に比較してさらに反射防止帯域を広げることが
できる。 6層反射防止膜はさらに十分な反射防止効果を得るため
に3層構造の中屈折率膜を高屈折率膜と低屈折率膜で置
換し、さらに高屈折率膜を高屈折率膜、低屈折率膜、高
屈折率膜で置換したものである。現在使用されている低
屈折率材f4の中で、最も屈折率の低く、信頼性を持つ
ものはフッ化マグネシウムであり、通常ハードコート(
基板温度を300℃前後に加熱して成膜する)によって
形成している。この成膜方法によれば、膜硬度、密着性
1分光特性等の特性は実用上問題ないものが得られるこ
とがわかっている。 ところで、最近の成膜装置等の開発にともない、イオン
ガンな使用する(イオンアシスト法)ことによってハー
ドコートをソフトコート(基板温度を室温のままで成膜
する)に置き換える検討が行なわれている。このような
技術開発が進めば、基板温度を上げずに成膜することが
可能になり、その結果生産性の向上などのメリットが期
待できる。 ryR明が解決しようとする課題] このような観点から、反射防止膜材料で使用されるもの
としてMgh、 5ift、 Al□01等の単層膜に
ついて、イオンアシスト法を使用してハードコートと同
等の膜特性を有するものがソフトフートで可能かどうか
検討したところ、5ilh、 Al2O3の酸化物材料
では、イオンアシスト法により膜硬度。 定着性1分光特性等の特性がハードコートに近いものが
得られた。 しかしながら、MgF zでは特に膜硬度が不十分で簡
単に膜にキズが入ってしまい、ハードコート並みの特性
は得られない状況である。 MgF2のハードコートをイオンアシスト法によるソフ
トコートに置き換えることは、非常に難しい、この原因
はよくわかっていないが、MgFzは結合エネルギーが
低く、化学的に不安定であることに大きく起因している
と思われる。 MgFよの単、g膜は現状でも需要があり、またMgF
i単層並みの分光特性がソフトコートによって得られれ
ば、多層反射防止膜になっても生産上有利になり、さら
に熱変形の理由によりハードコートできないガラス基体
へMgFt単層並単層時性の膜を形成できれば非常に有
効性は高くなる。 本発明の主な目的はソフトコートによってMgFz単層
と同等の分光特性を持ち、かつ実用上問題ない程度の膜
硬度、密着性のある反射防止膜を提供することである。 〔課題を解決するための手段] 本発明は、光学用硝子又は光学用プラスチックからなる
透明基板上にこの基板から遠ざかる方向に向って第1の
高屈折率膜、第1の低屈折率膜、第2の高屈折率膜及び
第2の低屈折率膜がこの順に積層された多層反射防止膜
において、第1及び第2の高屈折率膜及び低屈折率膜の
すべてがイオンアシスト法による蒸着で形成され、第1
及び第2の高屈折率膜の屈折率が2.0〜2.5であり
、第1及び第2の低屈折率膜の屈折率がいずれも1.4
6〜1.50であることを特徴とする多層反射防止膜で
ある。 前記第1及び第2の高屈折率膜は、TiO□7Taxe
s、 Zr0z、 In2O5,SnO,Nb2Ogも
しくはYb、0.又はこれらの混合物からなる透明材料
であることが好ましい。 MgFtに代わる低屈折率材料であってイオンアシスト
法も適用できる材料としてSiO2、SiO2.AhC
hが好適である。 前記第1及び第2の低屈折率膜は5iOz、SiO□と
Al2O3との混合物、又はSingを主成分とする物
質からなることが好ましい。これらの材料の屈折率はM
ghよりも高く、SiO□では1.46〜1.50、A
hOsでは1.50〜1.63である。 5iOzと
AhOsの混合物を用いることもでき、この場合はSi
O2、SiO2とAltosの中間の屈折率になる。ま
たこの他の材料であっても屈折率がSiO2やAl2O
3と同程度であれば本発明の反射防止膜に適用できる。 膜硬度については、イオンアシスト法を用いた蒸着法に
よればこれらの高屈折率膜材料および低屈折率膜材料で
は、バートコ−1・に近い膜硬度が得られ実用上問題な
い。
実施例1
以下第1図、第2図及び第3図によって本発明の一実施
例について詳細に説明する。 第1図においてlはガラス基板(n=1.52)からな
る透明基板、2,3はそれぞれ膜厚60人のTi0z
(n = 2.5 )からなる第1の高屈折率膜及び膜
厚590AのSiO□(n = 1.46)からなる第
1の低屈折率膜である。4,5はそれぞれ@厚110人
のTiChからなる第2の高屈折率膜及び膜厚1190
人のSiO□からなる第2の低屈折率膜である。この4
層反射防止膜において、上記膜2,3,4.5を構成す
る材料は、可視光の波長領域で反射率がMgF2(n
= 1.38)の膜厚910人からなる分光特性に近づ
くように膜厚が各々決定されている。 この4層反射防止膜の分光反射特性を第2図に示す、同
様にMgF、を膜厚910人形成した分光特性を第3図
に示す。第2図、第3図から明らかなように本実施例に
おける4層反射防止膜の分光反射特性とMgFz単層の
分光反射特性は良く一致していることがわかる。 このように、本実施例によれば、MgF、単層と同等の
分光特性を持つ反射防止膜をMgl”2を使用しないで
ソフトコートによって製造できろ。 実施例2 実施例1と同様の構成の反射防止膜を作成した。ただし
、膜2.3をそれぞれ膜厚80人のz「02(n=2.
1)からなる第1の高屈折率膜及び膜厚570人の5i
(h (n = 1.46)からなる第1の低屈折率膜
とし、膜4.5をそれぞれ膜厚160人のZr0zかう
なる第2の高屈折率膜及び膜厚】170人の5iOzか
らなる第2の低屈折率膜とした。 この4層反射防止膜において、上記膜2,3゜4.5を
構成する材料は、可視光の波長領域で反射率がMgFz
の膜厚910人からなる分光特性に近づくように膜厚が
各々設定されている。 第4図にこの4層反射防止膜の分光反射特性を示す、第
3図と比較すれば1本実施例の4i反射防止膜の分光反
射特性とMgF、単層の分光反射特性は良く一致してい
ることがわかる。 実施例3 基板として光学用アクリル樹脂を用い、また基板と第1
の高屈折率膜の間にSiO□を主成分とする膜を膜厚1
000〜2O00人形成した以外は実施例2と同様の構
成の反射防止膜を作成した0本実施例の反射防止膜の分
光反射特性もMgFa単層の分光反射特性と良く一致し
ていた。また、基板と第1の高屈折率膜の間に上記のよ
うなN(アンダーコートFI!りを設けることにより密
着性が向上した。 本実施例から、本発明によればソフトコートしかできな
いプラスチック基板等にも反射防止膜を形成でき、かつ
分光特性のみならず膜硬度が向上して実用上有効である
ことが明らかになった。 〔発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、MgFz単層と
同様に分光特性を持つ反射防止膜をMgFzを使用しな
いでイオンアシスト法によりソフトコートによって製造
できるため、生産性の向上等のメリットがある。
例について詳細に説明する。 第1図においてlはガラス基板(n=1.52)からな
る透明基板、2,3はそれぞれ膜厚60人のTi0z
(n = 2.5 )からなる第1の高屈折率膜及び膜
厚590AのSiO□(n = 1.46)からなる第
1の低屈折率膜である。4,5はそれぞれ@厚110人
のTiChからなる第2の高屈折率膜及び膜厚1190
人のSiO□からなる第2の低屈折率膜である。この4
層反射防止膜において、上記膜2,3,4.5を構成す
る材料は、可視光の波長領域で反射率がMgF2(n
= 1.38)の膜厚910人からなる分光特性に近づ
くように膜厚が各々決定されている。 この4層反射防止膜の分光反射特性を第2図に示す、同
様にMgF、を膜厚910人形成した分光特性を第3図
に示す。第2図、第3図から明らかなように本実施例に
おける4層反射防止膜の分光反射特性とMgFz単層の
分光反射特性は良く一致していることがわかる。 このように、本実施例によれば、MgF、単層と同等の
分光特性を持つ反射防止膜をMgl”2を使用しないで
ソフトコートによって製造できろ。 実施例2 実施例1と同様の構成の反射防止膜を作成した。ただし
、膜2.3をそれぞれ膜厚80人のz「02(n=2.
1)からなる第1の高屈折率膜及び膜厚570人の5i
(h (n = 1.46)からなる第1の低屈折率膜
とし、膜4.5をそれぞれ膜厚160人のZr0zかう
なる第2の高屈折率膜及び膜厚】170人の5iOzか
らなる第2の低屈折率膜とした。 この4層反射防止膜において、上記膜2,3゜4.5を
構成する材料は、可視光の波長領域で反射率がMgFz
の膜厚910人からなる分光特性に近づくように膜厚が
各々設定されている。 第4図にこの4層反射防止膜の分光反射特性を示す、第
3図と比較すれば1本実施例の4i反射防止膜の分光反
射特性とMgF、単層の分光反射特性は良く一致してい
ることがわかる。 実施例3 基板として光学用アクリル樹脂を用い、また基板と第1
の高屈折率膜の間にSiO□を主成分とする膜を膜厚1
000〜2O00人形成した以外は実施例2と同様の構
成の反射防止膜を作成した0本実施例の反射防止膜の分
光反射特性もMgFa単層の分光反射特性と良く一致し
ていた。また、基板と第1の高屈折率膜の間に上記のよ
うなN(アンダーコートFI!りを設けることにより密
着性が向上した。 本実施例から、本発明によればソフトコートしかできな
いプラスチック基板等にも反射防止膜を形成でき、かつ
分光特性のみならず膜硬度が向上して実用上有効である
ことが明らかになった。 〔発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、MgFz単層と
同様に分光特性を持つ反射防止膜をMgFzを使用しな
いでイオンアシスト法によりソフトコートによって製造
できるため、生産性の向上等のメリットがある。
第1図および第2図はそれぞれ実施例1の多M反射防止
膜の断面図および分光反射特性図、第3図はMgF2か
らなる反射防止膜の分光反射特性図、第4図は実施例2
の多層反射防止膜の分光反射特性図である。 l;ガラス基板 2:第1の高屈折率膜 3;第1の低屈折率膜 4;第2の高屈折率膜 5:第2の低屈折率膜
膜の断面図および分光反射特性図、第3図はMgF2か
らなる反射防止膜の分光反射特性図、第4図は実施例2
の多層反射防止膜の分光反射特性図である。 l;ガラス基板 2:第1の高屈折率膜 3;第1の低屈折率膜 4;第2の高屈折率膜 5:第2の低屈折率膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光学用硝子又は光学用プラスチックからなる透明基
板上にこの基板から遠ざかる方向に向って第1の高屈折
率膜、第1の低屈折率膜、第2の高屈折率膜及び第2の
低屈折率膜がこの順に積層された多層反射防止膜におい
て、第1及び第2の高屈折率膜及び低屈折率膜のすべて
がイオンアシスト法による蒸着で形成され、第1及び第
2の高屈折率膜の屈折率が2.0〜2.5であり、第1
及び第2の低屈折率膜の屈折率がいずれも1.46〜1
.50であることを特徴とする多層反射防止膜。 2、前記第1及び第2の高屈折率膜が TiO_2、Ta_2O_5、ZrO_2、In_2O
_3、SnO_2、Nb_2O_5もしくはYb_2O
_3又はこれらの混合物からなることを特徴とする請求
項1に記載の多層反射防止膜。 3、前記第1及び第2の低屈折率膜が SiO_2、SiO_2とAl_2O_3との混合物、
又はSiO_2を主成分とする物質からなることを特徴
とする請求項1に記載の多層反射防止膜。 4、前記第1の高屈折率膜と前記基板との間にSiO_
2を主成分とする膜が設けられたことを特徴とする請求
項1に記載の多層反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1266202A JPH03129301A (ja) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | 多層反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1266202A JPH03129301A (ja) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | 多層反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03129301A true JPH03129301A (ja) | 1991-06-03 |
Family
ID=17427681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1266202A Pending JPH03129301A (ja) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | 多層反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03129301A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05113505A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | 低反射膜付陰極線管およびその製造方法 |
WO2005096025A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Zeon Corporation | 脂環式構造含有重合体組成物からなる光学部品 |
JP2009199022A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Hoya Corp | 光学部材 |
US8789944B2 (en) | 2010-08-02 | 2014-07-29 | Hoya Lens Manufacturing Philippines Inc. | Optical article and optical article production method |
-
1989
- 1989-10-16 JP JP1266202A patent/JPH03129301A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05113505A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | 低反射膜付陰極線管およびその製造方法 |
WO2005096025A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Zeon Corporation | 脂環式構造含有重合体組成物からなる光学部品 |
JP2009199022A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Hoya Corp | 光学部材 |
US8789944B2 (en) | 2010-08-02 | 2014-07-29 | Hoya Lens Manufacturing Philippines Inc. | Optical article and optical article production method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5450238A (en) | Four-layer antireflection coating for deposition in in-like DC sputtering apparatus | |
JPH05503372A (ja) | D.c.反応性スパッタリングされた反射防止被覆 | |
JPH0685002B2 (ja) | プラスチツク光学部品の反射防止膜 | |
JPH10509832A (ja) | 温度感受性基体用反射防止コーティング | |
JP2009128820A (ja) | 多層反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 | |
JP2002055213A (ja) | 高反射ミラー | |
JPS6135521B2 (ja) | ||
JPH07111482B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
JPH03129301A (ja) | 多層反射防止膜 | |
JP3221770B2 (ja) | プラスチック光学部品の反射防止膜 | |
JP2566634B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
JPH07296672A (ja) | タッチパネル | |
JPS6029701A (ja) | 5層反射防止膜 | |
JPH0756004A (ja) | 導電性反射防止膜 | |
KR102672069B1 (ko) | 렌즈 코팅층 | |
JPH04191801A (ja) | 光学部品 | |
JPH06256929A (ja) | 金色蒸着製品 | |
JPS6296901A (ja) | 合成樹脂製レンズ | |
JPH01257801A (ja) | 反射防止膜 | |
JPS60126601A (ja) | 多層反射防止膜 | |
JPH1130704A (ja) | 眼鏡プラスチックレンズ | |
JP7405405B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学素子、反射防止膜の製造方法 | |
JPH10123302A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2624827B2 (ja) | ハーフミラー | |
JPH026904A (ja) | 光学フィルタ |