JPH0274506A - 安定化した過酸化水素組成物 - Google Patents
安定化した過酸化水素組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
る。
従来技術
過酸化水素の分解はそれがガスおよび熱を発生すること
で安全性の問題を生ずるので常にその制御を考慮しなけ
ればならない。純粋な過酸化水素は、それが清潔な不活
性容器に貯蔵される時は、比較的安定であるが、市販の
溶液は通常不純物として触媒を含んでいるので安定化さ
せる必要がある。通常使用される安定化剤は、錯体を形
成するかあるいは吸着によってその触媒活性を消滅させ
ている。米国特許第4059678号明細書は、過酸化
水素を安定化するために用いられるシステムを開示して
いる。
で安全性の問題を生ずるので常にその制御を考慮しなけ
ればならない。純粋な過酸化水素は、それが清潔な不活
性容器に貯蔵される時は、比較的安定であるが、市販の
溶液は通常不純物として触媒を含んでいるので安定化さ
せる必要がある。通常使用される安定化剤は、錯体を形
成するかあるいは吸着によってその触媒活性を消滅させ
ている。米国特許第4059678号明細書は、過酸化
水素を安定化するために用いられるシステムを開示して
いる。
必要とされる安定化剤の濃度は、過酸化水素濃度が増加
するにつれて減少する。希釈過酸化水素(約70%H,
O□)は35〜50%の濃度に希釈するに十分な量の安
定化剤を含んでいる。ある種の安定化剤は、高濃度過酸
化水素によって性能が落ち、希釈溶液においてのみ使用
し得る。
するにつれて減少する。希釈過酸化水素(約70%H,
O□)は35〜50%の濃度に希釈するに十分な量の安
定化剤を含んでいる。ある種の安定化剤は、高濃度過酸
化水素によって性能が落ち、希釈溶液においてのみ使用
し得る。
安定化剤は特に過酸化水素の分解に対して触媒的に活性
な金属イオンで汚染された過酸化水素溶液に対してのみ
使用される。過酸化水素の分解に対して触媒作用を有す
る金属のうちには多価金属、例えば鉄、亜鉛、銅、アル
ミニウム等がある。過酸化水素水溶液を触媒金属汚染が
発生する用途に使用するときは、安定化剤は過酸化水素
の利点を得るために必要である。
な金属イオンで汚染された過酸化水素溶液に対してのみ
使用される。過酸化水素の分解に対して触媒作用を有す
る金属のうちには多価金属、例えば鉄、亜鉛、銅、アル
ミニウム等がある。過酸化水素水溶液を触媒金属汚染が
発生する用途に使用するときは、安定化剤は過酸化水素
の利点を得るために必要である。
発明が解決しようとする課題
本発明の目的は金属触媒による汚染が問題となる多くの
用途に有用な過酸化水素用の新規な有機安定化剤を提供
することにある。
用途に有用な過酸化水素用の新規な有機安定化剤を提供
することにある。
課題を解決するための手段
本発明は、過酸化水素水溶液およびノニオン、アニオン
、カチオンおよび両性界面活性剤、フェニル酢酸および
その塩、サリチル酸およびその塩、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸およびその塩、スルホサリチル酸、その塩
および多価フェニルスルホン酸およびその塩およびメチ
ル−3,4,5−トリヒドロキシベンゾエイトからなる
群から選ばれた少なくとも1種を安定化するに必要な量
で含む安定化過酸化水素組成物に関する。
、カチオンおよび両性界面活性剤、フェニル酢酸および
その塩、サリチル酸およびその塩、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸およびその塩、スルホサリチル酸、その塩
および多価フェニルスルホン酸およびその塩およびメチ
ル−3,4,5−トリヒドロキシベンゾエイトからなる
群から選ばれた少なくとも1種を安定化するに必要な量
で含む安定化過酸化水素組成物に関する。
本発明の新規な安定化剤の濃度は用いられる安定化剤の
種類、効率、および過酸化水素の濃度により異なる。過
酸化水素の濃度が高い場合は一般に安定化剤の量は少な
くて良い。一般に安定化剤の過酸化水素に対する比率は
約1 : 10000〜l:lである。
種類、効率、および過酸化水素の濃度により異なる。過
酸化水素の濃度が高い場合は一般に安定化剤の量は少な
くて良い。一般に安定化剤の過酸化水素に対する比率は
約1 : 10000〜l:lである。
使用される安定化剤の量は好ましくは溶液中の過酸化水
素の約0.05〜10%であり、最も好ましくは約0.
1〜5%である。一般に溶液中の過酸化水素の量に関し
、濃度が高くなると安定化剤の濃度は低くてもよい。
素の約0.05〜10%であり、最も好ましくは約0.
1〜5%である。一般に溶液中の過酸化水素の量に関し
、濃度が高くなると安定化剤の濃度は低くてもよい。
過酸化水素が高濃度の場合は、ある種の本発明安定化剤
は過酸化水素と又応するため使用することができない。
は過酸化水素と又応するため使用することができない。
これらの安定化剤はより希釈された過酸化水素溶液にお
いて使用しなければならない。
いて使用しなければならない。
本発明安定化剤は過酸化水素に溶解するか、あるいは過
酸化水素と相互に作用してその安定化剤が組成物を安定
化するに少なくとも必要な量で存在しなければならない
。
酸化水素と相互に作用してその安定化剤が組成物を安定
化するに少なくとも必要な量で存在しなければならない
。
本発明の安定化剤は触媒量の多価金属イオンの存在下で
過酸化水素の分解に対してこれを安定化するために用い
られる。安定化剤は酸性およびアルカリ性いずれにおい
ても使用し得る。本発明安定化剤はpHが約7以下にお
いて、銅イオンの触媒活性に対して過酸化水素溶液を安
定化させる上で特に有用である。
過酸化水素の分解に対してこれを安定化するために用い
られる。安定化剤は酸性およびアルカリ性いずれにおい
ても使用し得る。本発明安定化剤はpHが約7以下にお
いて、銅イオンの触媒活性に対して過酸化水素溶液を安
定化させる上で特に有用である。
本発明安定化剤は常温から過酸化水素が一般に調整され
、かつ利用される昇温範囲において有用である。
、かつ利用される昇温範囲において有用である。
本発明安定化剤は、安定化剤である界面活性を利用する
用途において特に有用である。このような用途としては
金属片またはストラングを過酸化水素含有組成物でスプ
レーしたり、これに浸漬したりする金属処理がある。こ
れらの用途において安定化剤である界面活性は金属から
処理用組成物を排出したり、基材のより迅速なすすぎを
助ける。
用途において特に有用である。このような用途としては
金属片またはストラングを過酸化水素含有組成物でスプ
レーしたり、これに浸漬したりする金属処理がある。こ
れらの用途において安定化剤である界面活性は金属から
処理用組成物を排出したり、基材のより迅速なすすぎを
助ける。
本発明組成物は本発明の安定化剤を過酸化水素水溶液に
それらの使用濃度に添加することによって調製できる。
それらの使用濃度に添加することによって調製できる。
本発明安定化剤は過酸化水素と安定化剤の濃厚溶液を調
製し、および使用濃度に希釈した濃厚溶液を調製するた
めに使用し得る。安定化溶液を調製するための別の方法
は、過酸化水素溶液を使用濃度に調製し、過剰の安定化
剤を加えることにより行う。過剰の安定化剤を含む溶液
を次いで他の過酸化水素溶液に加え、安定化させる。
製し、および使用濃度に希釈した濃厚溶液を調製するた
めに使用し得る。安定化溶液を調製するための別の方法
は、過酸化水素溶液を使用濃度に調製し、過剰の安定化
剤を加えることにより行う。過剰の安定化剤を含む溶液
を次いで他の過酸化水素溶液に加え、安定化させる。
本発明安定化剤は単独で用いても良く、あるいは過酸化
水素用の別の安定化剤と併用しても良い。
水素用の別の安定化剤と併用しても良い。
本発明組成物において有用な安定化剤はアニオン界面活
性剤、例えばカルボキンレート(RCoOM)二式中、
RはCs Cx+炭化水素鎖、Mはアルカリ金属、ア
ンモニア等であってよく、石鎌であってもよい):
ポリアルコキンカルボキシレート(R−(○CH2CH
R’−)OR“C00M:式中、Rは前記と同意義、R
1は水素または低級アルキル、およびR“は低級アルキ
ルおよびMは前記と同意義); N−アシルザルコシン
酸塩(RCON(CH,)CH2C00M) 式中、
RおよびMは前記同意義; 加水分解プロティンの脂肪
酸または脂肪酸クロライドによるアシル化により調製し
たアシル化プロティン加水分解物; アルキル、アリー
ル、アルキルアリールスルホ不イトおよびそれらのアル
カリ金属塩、例えばアルキルベンゼンスルホネート(R
2C6H,SO,M:式中、R2は炭素数約7〜約15
の脂肪族基)、アルキルアレンスルホネートおよびそれ
らのアルカリ金属およびアンモニウム塩(トルエン、キ
シレンおよびイソプロピルベンゼンのスルホネート塩を
含んでいてもよい); ナフタレンスルホネート(ナ
フタレンスルホネート、テトラヒドロナフタレンスルホ
ネート、アルキルナフタレンスルホネートおよびホルム
アルデヒド−ナフタレン縮合生成物のスルホネート・
オレフィンスルホネート塩;石油スルホネート塩;
エステル、アミド、エーテル結合を有するスルホネート
、例えばジアルキルスルホサタン不−1−(R302C
CH2CH(SO,Na)CO,R,)、アミドスルホ
ネート(N−アシル−N−アルキルタウレート、RCO
NR,−CH2CH2SChM:式中Rは前記と同意義
、R1は低級アルキル):脂肪酸のスルホエチルエステ
ル(RCO2CH2CH2S O3M : 式中、R
およびNは前記と同意義)、アルコールサルフェート(
ROS 03M : 式中RおよびMは前記と同意義
); エトキシル化および硫酸化アルコール(R(OC
J(2C)(2)。OSO3M: 式中、RおよびMは
前記と同意義): エトキシル化および硫酸化アルキル
フェノール(RC。
性剤、例えばカルボキンレート(RCoOM)二式中、
RはCs Cx+炭化水素鎖、Mはアルカリ金属、ア
ンモニア等であってよく、石鎌であってもよい):
ポリアルコキンカルボキシレート(R−(○CH2CH
R’−)OR“C00M:式中、Rは前記と同意義、R
1は水素または低級アルキル、およびR“は低級アルキ
ルおよびMは前記と同意義); N−アシルザルコシン
酸塩(RCON(CH,)CH2C00M) 式中、
RおよびMは前記同意義; 加水分解プロティンの脂肪
酸または脂肪酸クロライドによるアシル化により調製し
たアシル化プロティン加水分解物; アルキル、アリー
ル、アルキルアリールスルホ不イトおよびそれらのアル
カリ金属塩、例えばアルキルベンゼンスルホネート(R
2C6H,SO,M:式中、R2は炭素数約7〜約15
の脂肪族基)、アルキルアレンスルホネートおよびそれ
らのアルカリ金属およびアンモニウム塩(トルエン、キ
シレンおよびイソプロピルベンゼンのスルホネート塩を
含んでいてもよい); ナフタレンスルホネート(ナ
フタレンスルホネート、テトラヒドロナフタレンスルホ
ネート、アルキルナフタレンスルホネートおよびホルム
アルデヒド−ナフタレン縮合生成物のスルホネート・
オレフィンスルホネート塩;石油スルホネート塩;
エステル、アミド、エーテル結合を有するスルホネート
、例えばジアルキルスルホサタン不−1−(R302C
CH2CH(SO,Na)CO,R,)、アミドスルホ
ネート(N−アシル−N−アルキルタウレート、RCO
NR,−CH2CH2SChM:式中Rは前記と同意義
、R1は低級アルキル):脂肪酸のスルホエチルエステ
ル(RCO2CH2CH2S O3M : 式中、R
およびNは前記と同意義)、アルコールサルフェート(
ROS 03M : 式中RおよびMは前記と同意義
); エトキシル化および硫酸化アルコール(R(OC
J(2C)(2)。OSO3M: 式中、RおよびMは
前記と同意義): エトキシル化および硫酸化アルキル
フェノール(RC。
H、(OCH2CH2)、○SOxM:式中、Rおよび
Mは前記と同意義): スルホン化天然油脂; リン酸
モノおよびジエステル((R50)、(OH)l−、P
O:式中、nは1または2およびR6は炭素数1〜2
2のアルキルフェニル、エトキシル化アルキル、エトキ
シル化フェニル、エトキシル化アルキルフェニル、グリ
セリドエステル等を含む。
Mは前記と同意義): スルホン化天然油脂; リン酸
モノおよびジエステル((R50)、(OH)l−、P
O:式中、nは1または2およびR6は炭素数1〜2
2のアルキルフェニル、エトキシル化アルキル、エトキ
シル化フェニル、エトキシル化アルキルフェニル、グリ
セリドエステル等を含む。
ノニオン界面活性剤はエトキシレイト類、例えばアルコ
ールエトキシレイト(Ra(OCH2CH2)−〇H:
式中、R6は炭素数約1〜22の基);アルキルフェノ
ールエトキシレイトCR7C6H4(OCH2CH2)
、、OH:式中、mは約1〜70):脂肪酸のグリセロ
ールエステル類: ロジン、トール油および脂肪酸類等
のポリオキンエチレンエステル類: エトキシル化無水
ソルビトールエステル類: エトキ・フル化天然油脂お
よびワックス類;カルボン酸アミド類; ジェタノール
アミン縮合物; モノエタノールアミン縮合物;ポリオ
キシエチレン脂肪酸アミド類; ポリアルキレンオキン
ドポリマーおよびブロックコポリマー類等か例示される
。
ールエトキシレイト(Ra(OCH2CH2)−〇H:
式中、R6は炭素数約1〜22の基);アルキルフェノ
ールエトキシレイトCR7C6H4(OCH2CH2)
、、OH:式中、mは約1〜70):脂肪酸のグリセロ
ールエステル類: ロジン、トール油および脂肪酸類等
のポリオキンエチレンエステル類: エトキシル化無水
ソルビトールエステル類: エトキ・フル化天然油脂お
よびワックス類;カルボン酸アミド類; ジェタノール
アミン縮合物; モノエタノールアミン縮合物;ポリオ
キシエチレン脂肪酸アミド類; ポリアルキレンオキン
ドポリマーおよびブロックコポリマー類等か例示される
。
カチオン系界面活性剤としては無酸素モノおよびジアル
キルアミン類; 含酸素アミン類、例えばアルキルアミ
ンエトキノレイトおよびアルキルアミンオキシド: ロ
ジンおよび脂肪酸アミンエトキシレイト; 2−アルキ
ル−1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダシリン
; アマイド結合を有するアミン類、および第4級アン
モニウム塩等が例示される。
キルアミン類; 含酸素アミン類、例えばアルキルアミ
ンエトキノレイトおよびアルキルアミンオキシド: ロ
ジンおよび脂肪酸アミンエトキシレイト; 2−アルキ
ル−1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダシリン
; アマイド結合を有するアミン類、および第4級アン
モニウム塩等が例示される。
両性界面活性剤としては酸性および塩基性の親水性基の
両方を含む、イミダゾリウム誘導体;アルキルベタイン
類; アミドプロピルベタイン類; スルホベタイン類
; スルホタイン類等が例示される。
両方を含む、イミダゾリウム誘導体;アルキルベタイン
類; アミドプロピルベタイン類; スルホベタイン類
; スルホタイン類等が例示される。
他の有用な安定化剤はフェニル酢酸およびその塩、サリ
チル酸およびその塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸
およびその塩およびメチル−3゜4.5−トリヒドロキ
シベンゾエイト、スルホサリチル酸およびその塩および
重合フェニルスルホネート等がある。
チル酸およびその塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸
およびその塩およびメチル−3゜4.5−トリヒドロキ
シベンゾエイト、スルホサリチル酸およびその塩および
重合フェニルスルホネート等がある。
本発明に有用な上述した代表的な組成物は、単に例示で
あって本発明組成物中における安定化剤として有用な組
成物の範囲を制限するものではない。代表的な界面活性
剤の構造は、カーク・オスマー(Kirk−Othme
r)、エンサイクロペディア・オブ・ケミカル・テクノ
ロジー(第22巻、第3版、ジョーン・ライレイ・アン
ド・サンズ、第347386頁、+983)に記載され
ており、これを本明細書の一部とする。以下の実施例は
本発明過酸化水素組成物の安定性を説明する。
あって本発明組成物中における安定化剤として有用な組
成物の範囲を制限するものではない。代表的な界面活性
剤の構造は、カーク・オスマー(Kirk−Othme
r)、エンサイクロペディア・オブ・ケミカル・テクノ
ロジー(第22巻、第3版、ジョーン・ライレイ・アン
ド・サンズ、第347386頁、+983)に記載され
ており、これを本明細書の一部とする。以下の実施例は
本発明過酸化水素組成物の安定性を説明する。
好ましい界面活性剤は、ミナテイン・シービーニス(M
inataine CBS)、ノオニルフェノールエト
キシレート、モナーエーティ(Mona AT) l
200(アルキルベタインおよびケムファノク・ピーシ
−(Chemfac PC) −006゜すべての実施
例において特に断らない限り成分の量あるいは反応条件
は゛約″をつけて表示されl二ものとする。
inataine CBS)、ノオニルフェノールエト
キシレート、モナーエーティ(Mona AT) l
200(アルキルベタインおよびケムファノク・ピーシ
−(Chemfac PC) −006゜すべての実施
例において特に断らない限り成分の量あるいは反応条件
は゛約″をつけて表示されl二ものとする。
実施例1
安定化していない過酸化水素(フィッシャー・サーティ
ファイド・エイ・シー・ニス 30%)を使用して安定
化剤10m1と過酸化物190m1とを混合するか過酸
化物198m+と安定化剤2mlを混合することにより
5%および1%濃度のものを調整した。安定化剤は固形
分換算でlogまたは2gを加えた(ある種の安定化剤
は活性な物質の溶液であるので安定化剤の実際の量はそ
れとは異なっている)。試験溶液は濃縮物32m1と7
0%硝酸10m1を混合し、これに脱イオン水を加えて
400m1に希釈することにより調製した。試験溶液の
過酸化水素濃度を通宝した。各試験溶液200m1をコ
ントロールとしてプラスチック容器中にいれ、容器の蓋
を容器上に置いた(ただし栓はしめない)。別の各試験
溶液200m1に硝酸銅溶液(20g/ρ)5m1を加
え試験溶液中に銅500ppmを含む溶液を調製した。
ファイド・エイ・シー・ニス 30%)を使用して安定
化剤10m1と過酸化物190m1とを混合するか過酸
化物198m+と安定化剤2mlを混合することにより
5%および1%濃度のものを調整した。安定化剤は固形
分換算でlogまたは2gを加えた(ある種の安定化剤
は活性な物質の溶液であるので安定化剤の実際の量はそ
れとは異なっている)。試験溶液は濃縮物32m1と7
0%硝酸10m1を混合し、これに脱イオン水を加えて
400m1に希釈することにより調製した。試験溶液の
過酸化水素濃度を通宝した。各試験溶液200m1をコ
ントロールとしてプラスチック容器中にいれ、容器の蓋
を容器上に置いた(ただし栓はしめない)。別の各試験
溶液200m1に硝酸銅溶液(20g/ρ)5m1を加
え試験溶液中に銅500ppmを含む溶液を調製した。
この銅を含む溶液をプラスチック容器に入れた。容器上
に蓋を置いた(ただし栓はしめない)。試験サンプルお
よびコントロールの過酸化水素濃度を2週間後に通宝し
tこ。
に蓋を置いた(ただし栓はしめない)。試験サンプルお
よびコントロールの過酸化水素濃度を2週間後に通宝し
tこ。
分解パーセントは以下のごとく測定した:修正初期適定
量を銅を含まない時に生ずる希釈および分解に対し修正
する。ために測定した。修正初期適定量は安定化剤を含
むが、銅イオンを含まないコントロール試料から測定し
た。
量を銅を含まない時に生ずる希釈および分解に対し修正
する。ために測定した。修正初期適定量は安定化剤を含
むが、銅イオンを含まないコントロール試料から測定し
た。
修正初期通宝量−最終適定量(コン
0.975(希釈係数)。
分解パーセント−(修正初期通宝量
量(銅))/修正初期適定量。
トロール)×
最終適宜
(以下、
余白)
試験結果は安定化剤が金属触媒分解を実質上阻害してい
ることをしめしている。
ることをしめしている。
実施例2および3
試料を実施例1に示すごとく特定の安定化剤を含む市販
グレード35%過酸化水素から調製した。
グレード35%過酸化水素から調製した。
過酸化水素濃度は、調製時、および室温で覆いをかける
がシールしていない容器中に4週間保管した後測定した
。分解によって失われる過酸化水素の濃度を実施例1に
おけるごとく測定した。結果を表2および3に示す。
がシールしていない容器中に4週間保管した後測定した
。分解によって失われる過酸化水素の濃度を実施例1に
おけるごとく測定した。結果を表2および3に示す。
(以下、余白)
本発明組成物は、安定で場合によっては検知し得る程の
分解すら生じない。使用される界面活性剤は分解量の観
点のみならず、その界面活性剤の有する別の性質の有用
性に基づいて決められる。
分解すら生じない。使用される界面活性剤は分解量の観
点のみならず、その界面活性剤の有する別の性質の有用
性に基づいて決められる。
発明の効果
本発明過酸化水素組成物は、経時的な分解が少なく安定
である。
である。
特許出願人 ヘンケル・コーポレイション代理人 弁理
士青白 葆 はか1名
士青白 葆 はか1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、過酸化水素水溶液およびノニオン、アニオン、カチ
オンおよび両性界面活性剤、フェニル酢酸およびその塩
、サリチル酸およびその塩、ジエチレントリアミンペン
タ酢酸およびその塩、スルホサリチル酸、その塩および
多価フェニルスルホン酸およびその塩およびメチル−3
,4,5−トリヒドロキシベンゾエートからなる群から
選ばれた少なくとも1種を安定化するに必要な量で含む
安定化過酸化水素組成物。 2、界面活性剤の過酸化水素に対する比率が約1:10
000から約1:1である請求項1記載の組成物。 3、安定化剤の濃度が過酸化水素の約0.01〜10重
量%である請求項1記載の組成物。 4、安定化剤がドデシルジフェニルオキシトリスルホン
酸ナトリウム塩、ドデシルジフェニルオキシトリスルホ
ン酸、2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム塩、アルキル
ポリエトキシスルホン酸ナトリウム塩、キシレンスルホ
ン酸ナトリウム塩、アルキルリン酸エステル、エトキシ
ル化オクチルフェノール、エトキシル化ノニルフェノー
ル、芳香族リン酸エステル(Chemfac PC 0
06)、芳香族リン酸エステル(Monofax 05
7)、アルキルリン酸エステル(Monofax 06
0)、ポリエトキシフェニルエーテルリン酸エステル、
カチオン性界面活性剤(Monoquat P−JC)
、アルキルエーテルヒドロキシプロピルサルテイン、コ
コアミドプロピルヒドロキシサルテイン、ドデシル硫酸
ナトリウム塩、スルホサリチル酸、両性界面活性剤(M
ona AT 1200)および重合フェニルスルホネ
ート(Hamplex DPS)からなる群から選ばれ
た少なくとも1種の界面活性剤を含む請求項1記載の組
成物。 5、安定化剤がドデシル硫酸ナトリウム、Mona A
T 1200)スルホサリチル酸、ココアミドプロピル
ヒドロキシサルテイン、芳香族リン酸エスチル(Mon
ofax 057)、ポリエトキシフェニルエーテルリ
ン酸エステル、芳香族リン酸エステル(Chemfac
PC 006)、エトキシル化ノニルフェノール、エ
トキシル化オクチルフェノールおよびドデシルジフェニ
ルオキシトリスルホン酸ナトリウムからなる群から選ば
れた少なくとも1種を含む請求項4記載の組成物。 6、過酸化水素とノニオン、アニオン、カチオンおよび
両性界面活性剤、フェニル酢酸およびその塩、サリチル
酸およびその塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸およ
びその塩、スルホサリチル酸およびその塩およびメチル
−3,4,5−トリヒドロキシベンゾエートおよび重合
性フエニルスルホネート(Hamplex DPS)か
らなる群から選ばれた少なくとも1種の安定化剤を安定
化するに必要な量、過酸化水素と混合することを特徴と
する過酸化水素溶液の安定化方法。 7、過酸化水素に対する界面活性剤の比が約1:100
00〜1:1である請求項6記載の方法。 8、多価金属イオンを含む請求項1記載の組成物。 9、多価金属イオンが銅、鉄、アルミニウムおよび亜鉛
からなる群から選ばれた少なくとも1種の金属イオンを
含む請求項1記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22106388A | 1988-07-19 | 1988-07-19 | |
US07/221,063 | 1988-07-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0274506A true JPH0274506A (ja) | 1990-03-14 |
Family
ID=22826178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18724089A Pending JPH0274506A (ja) | 1988-07-19 | 1989-07-19 | 安定化した過酸化水素組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0351772A3 (ja) |
JP (1) | JPH0274506A (ja) |
AU (1) | AU3822989A (ja) |
BR (1) | BR8903577A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002318455A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Tosoh Corp | 安定化方法 |
JP2007517823A (ja) * | 2004-01-16 | 2007-07-05 | ウエラ アクチェンゲゼルシャフト | 特に透明なゲルの形態である酸化処理用薬剤 |
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