JPH0229071B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は一般式
(但し、R1は置換されていてもよいアリール
基又は含窒素複素環式基、―NHYは保護されて
いてもよいアミノ基を表す。) で示される光学活性1―置換―2―アミノプロパ
ン又はその塩の製法に関する。
基又は含窒素複素環式基、―NHYは保護されて
いてもよいアミノ基を表す。) で示される光学活性1―置換―2―アミノプロパ
ン又はその塩の製法に関する。
本発明の目的物は各種医薬化合物の合成中間体
として有用であり、例えば一般式()において
R1がp―メトキシフエニル基である光学活性1
―(p―メトキシフエニル)―2―アミノプロパ
ンは優れた気管支拡張作用を有する光学活性8―
ヒドロキシ―5―{1―ヒドロキシ―2―〔N―
(2―(p―メトキシフエニル)―1―メチルエ
チル)アミノ〕エチル}カルボスチリル(特開昭
第60―208965号)の合成中間体として有用な化合
物である。
として有用であり、例えば一般式()において
R1がp―メトキシフエニル基である光学活性1
―(p―メトキシフエニル)―2―アミノプロパ
ンは優れた気管支拡張作用を有する光学活性8―
ヒドロキシ―5―{1―ヒドロキシ―2―〔N―
(2―(p―メトキシフエニル)―1―メチルエ
チル)アミノ〕エチル}カルボスチリル(特開昭
第60―208965号)の合成中間体として有用な化合
物である。
(従来技術)
従来、光学活性1―置換―2―アミノプロパン
の製法としては、例えば(a)p―メトキシフエニル
アセトンと光学活性1―メチルベンジルアミンと
を縮合させた後、不斉還元して光学活性N―(α
―フエネチル)―(p―メトキシフエニルイソプ
ロピル)アミンを製し、次いでフエネチル基を脱
離させて光学活性1―(p―メトキシフエニル)
―2―アミノプロパンを得る不斉誘導法{ジヤー
ナル・オブ・ザ・メデイシナル・ケミストリー
〔J.Med.Chem.,16,480(1973)〕}或いは(b)ラセ
ミ型1―(p―メトキシフエニル)―2―アミノ
プロパンをd―酒石酸により光学分割する方法
{ケミカル・フアルマシユーテイカル・ブレツテ
イン〔Chem.Pharm.Bull.,26,1123(1978)〕}等
が知られている。しかしながら、これらの方法の
うち(a)法によれば、光学活性1―(p―メトキシ
フエニル)―2―アミノプロパンを製するために
は常に理論上等モル以上の光学活性1―メチルベ
ンジルアミンを用いねばならず、又(b)法では目的
物の分割収率が6〜16%と極めて悪いという技術
的難点があつた。
の製法としては、例えば(a)p―メトキシフエニル
アセトンと光学活性1―メチルベンジルアミンと
を縮合させた後、不斉還元して光学活性N―(α
―フエネチル)―(p―メトキシフエニルイソプ
ロピル)アミンを製し、次いでフエネチル基を脱
離させて光学活性1―(p―メトキシフエニル)
―2―アミノプロパンを得る不斉誘導法{ジヤー
ナル・オブ・ザ・メデイシナル・ケミストリー
〔J.Med.Chem.,16,480(1973)〕}或いは(b)ラセ
ミ型1―(p―メトキシフエニル)―2―アミノ
プロパンをd―酒石酸により光学分割する方法
{ケミカル・フアルマシユーテイカル・ブレツテ
イン〔Chem.Pharm.Bull.,26,1123(1978)〕}等
が知られている。しかしながら、これらの方法の
うち(a)法によれば、光学活性1―(p―メトキシ
フエニル)―2―アミノプロパンを製するために
は常に理論上等モル以上の光学活性1―メチルベ
ンジルアミンを用いねばならず、又(b)法では目的
物の分割収率が6〜16%と極めて悪いという技術
的難点があつた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明はかかる従来技術と異なり、工業的に多
量かつ容易に入手しうる光学活性アミノ酸エステ
ルを原料化合物として用い、これから収率良く光
学的に純粋な1―置換―2―アミノプロパン
()を製造する工業的有利な方法を提供するも
のである。
量かつ容易に入手しうる光学活性アミノ酸エステ
ルを原料化合物として用い、これから収率良く光
学的に純粋な1―置換―2―アミノプロパン
()を製造する工業的有利な方法を提供するも
のである。
(発明の構成及び効果)
本発明によれば光学活性1―置換―2―アミノ
プロパン()又はその塩は (1) 一般式 (但し、R1は置換されていてもよいアリー
ル基又は含窒素複素環式基、R2はエステル残
基、―NHYは保護されていてもよいアミノ基
を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
ピオン酸エステル又はその塩を還元して一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有する。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
パノールを製し、次いで該化合物()の水酸
基を保護して、一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、OZは保護された水酸基を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
パノール誘導体又はその塩を得た後、 (2) 該アミノプロパノール誘導体()又はその
塩を金属ハライドの存在下還元するか、或い
は、 (3) 該アミノプロパノール誘導体()又はその
塩と金属ハライドとを反応させて一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、Xはハロゲン原子を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロピ
ルハライド又はその塩を得た後、これを還元する
ことにより製することができる。
プロパン()又はその塩は (1) 一般式 (但し、R1は置換されていてもよいアリー
ル基又は含窒素複素環式基、R2はエステル残
基、―NHYは保護されていてもよいアミノ基
を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
ピオン酸エステル又はその塩を還元して一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有する。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
パノールを製し、次いで該化合物()の水酸
基を保護して、一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、OZは保護された水酸基を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
パノール誘導体又はその塩を得た後、 (2) 該アミノプロパノール誘導体()又はその
塩を金属ハライドの存在下還元するか、或い
は、 (3) 該アミノプロパノール誘導体()又はその
塩と金属ハライドとを反応させて一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、Xはハロゲン原子を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロピ
ルハライド又はその塩を得た後、これを還元する
ことにより製することができる。
本発明の原料化合物()としては工業的に入
手容易な光学活性アミノ酸エステルを使用でき、
例えばアミノ基が保護されているか、或いは保護
されていない光学活性フエニルアラニン、チロシ
ン、p―メトキシフエニルアラニン、トリプトフ
アン、ヒスチジン等の各種の天然型又は非天然型
アミノ酸のエステルをいずれも用いることができ
る。
手容易な光学活性アミノ酸エステルを使用でき、
例えばアミノ基が保護されているか、或いは保護
されていない光学活性フエニルアラニン、チロシ
ン、p―メトキシフエニルアラニン、トリプトフ
アン、ヒスチジン等の各種の天然型又は非天然型
アミノ酸のエステルをいずれも用いることができ
る。
原料化合物()において、そのアミノ基が保
護されたアミノ基である場合、該保護基として
は、例えばアセチル基、プロピオニル基の如き低
級アルカノイル基;ベンゾイル基の如き置換もし
くは非置換ベンゾイル基;メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、tert―ブトキシカル
ボニル基の如き低級アルコキシカルボニル基;
2,2,2―トリクロロエトキシカルボニル基の
如きモノ―、ジ―、またはトリ―ハロゲン化低級
アルコキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボ
ニル基、p―メトキシベンジルオキシカルボニル
基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカル
ボニル基;ベンジル基、p―メトキシベンジル基
の如き置換もしくは非置換フエニル低級アルキル
基;ベンズヒドリル基、トリチル基の如きジ―又
はトリ―フエニル低級アルキル基;トシル基の如
き置換もしくは非置換フエニルスルホニル基;o
―ニトロフエニルスルフエニル基の如き置換もし
くは非置換フエニルスルフエニル基をいずれも用
いることができる。
護されたアミノ基である場合、該保護基として
は、例えばアセチル基、プロピオニル基の如き低
級アルカノイル基;ベンゾイル基の如き置換もし
くは非置換ベンゾイル基;メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、tert―ブトキシカル
ボニル基の如き低級アルコキシカルボニル基;
2,2,2―トリクロロエトキシカルボニル基の
如きモノ―、ジ―、またはトリ―ハロゲン化低級
アルコキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボ
ニル基、p―メトキシベンジルオキシカルボニル
基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカル
ボニル基;ベンジル基、p―メトキシベンジル基
の如き置換もしくは非置換フエニル低級アルキル
基;ベンズヒドリル基、トリチル基の如きジ―又
はトリ―フエニル低級アルキル基;トシル基の如
き置換もしくは非置換フエニルスルホニル基;o
―ニトロフエニルスルフエニル基の如き置換もし
くは非置換フエニルスルフエニル基をいずれも用
いることができる。
又、原料化合物()におけるエステル残基と
しては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
の如き低級アルキル基が好適に挙げられる。
しては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
の如き低級アルキル基が好適に挙げられる。
一方、化合物()において基Zとしては例え
ば、ホルミル基、アセチル基の如き低級アルカノ
イル基;フエニルスルホニル基、p―トリエンス
ルホニル基の如き置換もしくは非置換フエニルス
ルホニル基;ナフタレンスルホニル基;メチルス
ルホニル基、エチルスルホニル基の如き低級アル
キルスルホニル基等の如き水酸基の保護基をいず
れも好適に用いることができる。
ば、ホルミル基、アセチル基の如き低級アルカノ
イル基;フエニルスルホニル基、p―トリエンス
ルホニル基の如き置換もしくは非置換フエニルス
ルホニル基;ナフタレンスルホニル基;メチルス
ルホニル基、エチルスルホニル基の如き低級アル
キルスルホニル基等の如き水酸基の保護基をいず
れも好適に用いることができる。
化合物()〜()の塩としては、例えば塩
酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩の
如き無機酸付加塩或いはメタンスルホン酸塩、エ
タンスルホン酸塩、p―トルエンスルホン酸塩等
の如き有機酸付加塩を挙げることができる。
酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩の
如き無機酸付加塩或いはメタンスルホン酸塩、エ
タンスルホン酸塩、p―トルエンスルホン酸塩等
の如き有機酸付加塩を挙げることができる。
化合物()またはその塩の還元は溶媒中、還
元剤の存在下で実施することができる。溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、n―プロパノール又はこれらの混
合物等を好適に使用することができ、還元剤とし
ては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素カリウム、水素化ホウ素リチウムの如き水素
化ホウ素アルカリ金属を好適に用いることができ
る。本反応は0〜100℃、特に0〜20℃で実施す
るのが好ましい。
元剤の存在下で実施することができる。溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、n―プロパノール又はこれらの混
合物等を好適に使用することができ、還元剤とし
ては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素カリウム、水素化ホウ素リチウムの如き水素
化ホウ素アルカリ金属を好適に用いることができ
る。本反応は0〜100℃、特に0〜20℃で実施す
るのが好ましい。
化合物()またはその塩における水酸基の保
護は保護基の種類に応じて通常の方法により実施
することができる。例えば該保護基がトシル基で
ある場合には、化合物()とトシルハライドと
を溶媒中、塩基及び触媒の存在下で反応させるこ
とにより実施することができる。トシルハライド
の例としてはトシルクロリド等が好適である。溶
媒としてはベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ク
ロロホルム、ジクロロメタン等が好ましく、塩基
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムの如き水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムの如き炭酸カリウム金属等を好
適に使用することができる。また、触媒として
は、例えばn―テトラブチルアンモニウムクロリ
ド、n―テトラブチルアンモニウムブロマイド、
n―テトラブチルアンモニウムスルフエート等の
四級アンモニウム塩が好適に挙げられる。本反応
は0〜50℃、特に0〜20℃で実施するのが好まし
い。
護は保護基の種類に応じて通常の方法により実施
することができる。例えば該保護基がトシル基で
ある場合には、化合物()とトシルハライドと
を溶媒中、塩基及び触媒の存在下で反応させるこ
とにより実施することができる。トシルハライド
の例としてはトシルクロリド等が好適である。溶
媒としてはベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ク
ロロホルム、ジクロロメタン等が好ましく、塩基
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムの如き水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムの如き炭酸カリウム金属等を好
適に使用することができる。また、触媒として
は、例えばn―テトラブチルアンモニウムクロリ
ド、n―テトラブチルアンモニウムブロマイド、
n―テトラブチルアンモニウムスルフエート等の
四級アンモニウム塩が好適に挙げられる。本反応
は0〜50℃、特に0〜20℃で実施するのが好まし
い。
目的化合物()またはその塩はかくして得ら
れた化合物()又はその塩を金属ハライドの存
在下に還元して製することができ、或いはまた、
化合物()又はその塩を一旦金属ハライドと反
応させて対応するプロピルハライド()又はそ
の塩とした後、これを還元して製することもでき
る。
れた化合物()又はその塩を金属ハライドの存
在下に還元して製することができ、或いはまた、
化合物()又はその塩を一旦金属ハライドと反
応させて対応するプロピルハライド()又はそ
の塩とした後、これを還元して製することもでき
る。
化合物()又はその塩の還元を金属ハライド
の存在下で実施する場合、該反応は溶媒中、還元
剤の存在下で実施することができる。溶媒として
は、例えば水、テトラヒドロフラン、モノメチレ
ングリコール、ジメチレングリコール、酢酸、希
塩酸又はこれらの混合物が好適である。金属ハラ
イドとしては、例えばヨウ化ナトリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム等のアルカリ金属ハラ
イド等を挙げることができ、とりわけヨウ化ナト
リウムを好適に使用できる。還元剤としては、例
えば金属亜鉛、亜鉛―銅合金、金属マグネシウ
ム、2価クロム金属塩(例えば塩化クロム(2
価)、硫酸クロム(2価)、酢酸クロム(2価))
等を好適に挙げることができる。金属ハライドの
使用量は化合物()又はその塩に対して1〜5
倍モル量であるのが好ましく、還元剤の使用量は
化合物()又はその塩に対し1〜10倍モル量で
あるのが好ましい。本反応は20〜100℃、特に50
〜100℃で実施するのが好ましい。
の存在下で実施する場合、該反応は溶媒中、還元
剤の存在下で実施することができる。溶媒として
は、例えば水、テトラヒドロフラン、モノメチレ
ングリコール、ジメチレングリコール、酢酸、希
塩酸又はこれらの混合物が好適である。金属ハラ
イドとしては、例えばヨウ化ナトリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム等のアルカリ金属ハラ
イド等を挙げることができ、とりわけヨウ化ナト
リウムを好適に使用できる。還元剤としては、例
えば金属亜鉛、亜鉛―銅合金、金属マグネシウ
ム、2価クロム金属塩(例えば塩化クロム(2
価)、硫酸クロム(2価)、酢酸クロム(2価))
等を好適に挙げることができる。金属ハライドの
使用量は化合物()又はその塩に対して1〜5
倍モル量であるのが好ましく、還元剤の使用量は
化合物()又はその塩に対し1〜10倍モル量で
あるのが好ましい。本反応は20〜100℃、特に50
〜100℃で実施するのが好ましい。
一方、化合物()又はその塩と金属ハライド
との反応は溶媒中で実施することができる。溶媒
としては、例えば水、テトラヒドロフラン、モノ
メチレングリコール、ジメチレングリコール又は
これらの混合物が好適である。金属ハライドとし
ては、例えば前記化合物()を金属ハライドの
存在下で還元反応する際に例示したものをいずれ
も好適に使用することができる。金属ハライドの
使用量は化合物()又はその塩に対して1〜5
倍モル量であるのが好ましい。本反応は20〜100
℃、特に50〜100℃で実施するのが好ましい。
との反応は溶媒中で実施することができる。溶媒
としては、例えば水、テトラヒドロフラン、モノ
メチレングリコール、ジメチレングリコール又は
これらの混合物が好適である。金属ハライドとし
ては、例えば前記化合物()を金属ハライドの
存在下で還元反応する際に例示したものをいずれ
も好適に使用することができる。金属ハライドの
使用量は化合物()又はその塩に対して1〜5
倍モル量であるのが好ましい。本反応は20〜100
℃、特に50〜100℃で実施するのが好ましい。
化合物()又はその塩の還元は溶媒中、還元
剤の存在下で実施することができる。溶媒として
は、例えば化合物()又はその塩と金属ハライ
ドとの反応の説明の際に例示した溶媒をいずれも
用いることができる。還元剤としては、例えば金
属亜鉛、亜鉛―銅合金、金属マグネシウム、2価
クロム金属塩(例えば塩化クロム(2価)、硫酸
クロム(2価)、酢酸クロム(2価)等)等を好
適に挙げることができ、その使用量は化合物
()又はその塩に対し1〜10倍モル量であるの
が好ましい。本反応は20〜100℃、特に50〜100℃
で実施するのが好ましい。
剤の存在下で実施することができる。溶媒として
は、例えば化合物()又はその塩と金属ハライ
ドとの反応の説明の際に例示した溶媒をいずれも
用いることができる。還元剤としては、例えば金
属亜鉛、亜鉛―銅合金、金属マグネシウム、2価
クロム金属塩(例えば塩化クロム(2価)、硫酸
クロム(2価)、酢酸クロム(2価)等)等を好
適に挙げることができ、その使用量は化合物
()又はその塩に対し1〜10倍モル量であるの
が好ましい。本反応は20〜100℃、特に50〜100℃
で実施するのが好ましい。
更に、上記の如くして得られる光学活性1―置
換―2―アミノプロパン()又はその塩におい
て、そのアミノ基が保護されたアミノ基である場
合には、当該保護基の除去は保護基の種類に応じ
常法により実施することができ、例えば加水分
解、電解還元、塩基処理、酸処理、接触還元、酸
化反応等の手段を用いて行うことができる。より
具体的には、例えばベンジルオキシカルボニル
基、p―メトキシベンジルオキシカルボニル基、
ベンジル基、p―メトキシベンジル基等の保護基
はコロイドパラジウム、パラジウム炭素又はパラ
ジウム黒の如き適当な触媒の存在下、常圧もしく
は加圧下で除去することができる。又、ベンゾイ
ル基の如き保護基は、例えばアンモニア、モノ又
はジ置換低級アルキルアミン、ナトリウム低級ア
ルコキシドで処理することにより除去することが
できる。アセチル基、tert―ブトキシカルボニル
基、ベンズヒドリル基、トリチル基、o―ニトロ
フエニルスルフエニル基等の如き保護基は、例え
ばギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸、p―トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸
等で処理することによつて、更に、エトキシカル
ボニル基の如き保護基は、例えば水酸化カリウム
等の塩基又は塩酸、臭化水素酸等の酸で加水分解
することにより除去することができる。トシル基
の如き保護基は電解還元又は塩基処理することに
より除去することができる。
換―2―アミノプロパン()又はその塩におい
て、そのアミノ基が保護されたアミノ基である場
合には、当該保護基の除去は保護基の種類に応じ
常法により実施することができ、例えば加水分
解、電解還元、塩基処理、酸処理、接触還元、酸
化反応等の手段を用いて行うことができる。より
具体的には、例えばベンジルオキシカルボニル
基、p―メトキシベンジルオキシカルボニル基、
ベンジル基、p―メトキシベンジル基等の保護基
はコロイドパラジウム、パラジウム炭素又はパラ
ジウム黒の如き適当な触媒の存在下、常圧もしく
は加圧下で除去することができる。又、ベンゾイ
ル基の如き保護基は、例えばアンモニア、モノ又
はジ置換低級アルキルアミン、ナトリウム低級ア
ルコキシドで処理することにより除去することが
できる。アセチル基、tert―ブトキシカルボニル
基、ベンズヒドリル基、トリチル基、o―ニトロ
フエニルスルフエニル基等の如き保護基は、例え
ばギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸、p―トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸
等で処理することによつて、更に、エトキシカル
ボニル基の如き保護基は、例えば水酸化カリウム
等の塩基又は塩酸、臭化水素酸等の酸で加水分解
することにより除去することができる。トシル基
の如き保護基は電解還元又は塩基処理することに
より除去することができる。
本発明方法における上記反応はいずれもラセミ
化を伴わず進行するため、原料化合物()又は
その塩として光学活性体を用いれば、化合物
()又はその塩も光学活性体として得られる。
従つて、本発明方法は従来公知の方法と比べ、入
手容易な光学活性アミノ酸エステルから収率良く
高純度の光学活性1―置換―2―アミノプロパン
()を製することができるため、医薬合成中間
体として有用な化合物()の好ましい工業的製
法となりうるという特徴を有するものである。
化を伴わず進行するため、原料化合物()又は
その塩として光学活性体を用いれば、化合物
()又はその塩も光学活性体として得られる。
従つて、本発明方法は従来公知の方法と比べ、入
手容易な光学活性アミノ酸エステルから収率良く
高純度の光学活性1―置換―2―アミノプロパン
()を製することができるため、医薬合成中間
体として有用な化合物()の好ましい工業的製
法となりうるという特徴を有するものである。
実施例 1
(1) L―チロシン300gをエタノール2.6に懸濁
させ、氷冷下にて撹拌しながらチオニルクロリ
ド320mlを1時間を要して滴加し、室温にて一
夜撹拌する。該溶液から溶媒を留去し、残査に
エーテルを加え、析出晶をろ取する。該結晶を
エーテルにて洗浄し、乾燥することによりL―
チロシンエチルエステル・塩酸塩の淡黄色結晶
416gを得る。収率:定量的 m.p. 170〜170.5℃ IRνnujol nax(cm-1):3340,1735 NMR(DMSO―d6,δ):1.13(3H,t,J=
7Hz), 4.09(2H,q,J=7Hz), 6.70及び7.01(2H,d,J=8.5Hz) (2) 本品416gに酢酸エチル2、水1.4炭酸カ
リウム460gを加え、氷冷し、撹拌下、ベンジ
ルオキシカルボニルクロリド282gを50分を要
して加える。同温にて30分間撹拌後、酢酸エチ
ル層を分取する。該酢酸エチル層を水、希塩酸
及び水で順次洗浄し、乾燥する。不溶物をろ去
後、溶媒を留去することにより、L―N―ベン
ジルオキシカルボニルチロシンエチルエステル
の淡黄色油状物585.5gを得る。
させ、氷冷下にて撹拌しながらチオニルクロリ
ド320mlを1時間を要して滴加し、室温にて一
夜撹拌する。該溶液から溶媒を留去し、残査に
エーテルを加え、析出晶をろ取する。該結晶を
エーテルにて洗浄し、乾燥することによりL―
チロシンエチルエステル・塩酸塩の淡黄色結晶
416gを得る。収率:定量的 m.p. 170〜170.5℃ IRνnujol nax(cm-1):3340,1735 NMR(DMSO―d6,δ):1.13(3H,t,J=
7Hz), 4.09(2H,q,J=7Hz), 6.70及び7.01(2H,d,J=8.5Hz) (2) 本品416gに酢酸エチル2、水1.4炭酸カ
リウム460gを加え、氷冷し、撹拌下、ベンジ
ルオキシカルボニルクロリド282gを50分を要
して加える。同温にて30分間撹拌後、酢酸エチ
ル層を分取する。該酢酸エチル層を水、希塩酸
及び水で順次洗浄し、乾燥する。不溶物をろ去
後、溶媒を留去することにより、L―N―ベン
ジルオキシカルボニルチロシンエチルエステル
の淡黄色油状物585.5gを得る。
(3) 本品585.5gにジメチルスルホキシド2.6、
炭酸カリウム685g及びヨウ化メチル423gを加
え、室温で一夜撹拌する。反応後、ベンゼン6
を加え、混合物を水、3.3%水酸化ナトリウ
ム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄する。
乾燥後、不溶物をろ去する。溶媒を減圧留去す
ることにより、(S)―3―(4―メトキシフ
エニル)―2―ベンジルオキシカルボニルアミ
ノプロピオン酸エチルエステルの淡黄色油状物
605gを得る。収率:定量的 (4) エタノール1に氷冷下にて、撹拌下、水素
化ホウ素ナトリウム94gを加える。該混合物に
本品302.5gのエタノール2溶液を一気に加
え、8℃で30分間撹拌後、室温に戻す。該混合
液の温度を25℃付近に保ち、7時間撹拌する。
該溶液にアセトン0.75を冷却下に滴加し、次
いで、濃塩酸206mlを滴加する。10%塩酸5ml
及び水200mlを加え、該溶液のPHを弱酸性とし
た後、不溶物をろ去する。ろ液を減圧下に濃縮
した後、酢酸エチルにて抽出する。抽出液を
水、水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水
で順次洗浄する。抽出液を乾燥し、不溶物をろ
去後、減圧下に溶媒を留去する。残査を酢酸エ
チル―n―ヘキサンから再結晶することによ
り、(S)―3―(4―メトキシフエニル)―
2―ベンジルオキシカルボニルアミノプロパノ
ールの無色結晶223.5gを得る。収率:85.6% m.p. 93〜99℃ 〔α〕20 D―39.5゜(C=1.11,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3450,3400,3350,3305,
1685,1660 Mass(m/e):315(M+) NMR(CDCl3,δ):2.70(2H,d,J=6.5
Hz), 3.72(3H,S), 5.02(2H,S), 6.74及び7.04(2H,dJ=8.5Hz), 7.24(5H,S) (5) 本品7.35g、ジクロロメタン50ml及び5%水
酸化ナトリウム水溶液50mlとを混合し、該混
合物に氷冷下、p―トリエンスルホニルクロリ
ド4.90gを加える。該混液に氷冷下、n―テト
ラブチルアンモニウムスルフエート1.75gを加
え、同温で1時間撹拌後、p―トルエンスルホ
ニルクロリド0.2gを加え、室温で1時間撹拌す
る。反応液にエーテルを加え、水洗し、乾燥
後、不溶物をろ去する。ろ液から溶媒を減圧留
去し、残査を酢酸エチル―n―ヘキサンから再
結晶することにより、(S)―3―(4―メト
キシフエニル)―2―ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ―1―(p―トルエンスルホニル)プ
ロパノールの無色針状晶11.36gを得る。収率:
定量的 m.p. 80〜81℃ 〔α〕20 D―31.9゜(C=1.04,メタノール) IRνCHCl 3nax(cm-1):3440,1715,1610 Mass(m/e):297(M+) NMR(CDCl3,δ):2.41(3H,S),3.71(3H,
S), 4.98(2H,S), 6.5〜7.9(13H,m) (6) 本品34g、ヨウ化ナトリウム54g、テトラヒ
ドロフラン500ml及び水25mlの混合物をかく拌
下、2.5時間還流する。反応液から溶媒を留去
し残査をベンゼンで抽出する。抽出液を水、水
酸化ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水
溶液及び水で順次洗浄し、乾燥後、減圧下で溶
媒を留去する。残査を酢酸エチル―n―ヘキサ
ンから結晶化することにより、(S)―3―
(4―メトキシフエニル)―2―ベンジルオキ
シカルボニルアミノプロピルヨージドの無色針
状晶18.8gを得る。収率:61% m.p. 82〜84℃(酢酸エチル―n―ヘキサン
より再結晶) 〔α〕20 D―4.8°(C=1.04,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3320,1690 Mass(m/e):425(M+) NMR(CDCl3,δ):3.78(3H,S), 5.10(2H,S), 6.82及び7.16(2H,d,J=8.5Hz), 7.34(5H,S) (7) 本品2.13g、ジメトキシエタン20ml、水1ml
及び粉末亜鉛1.64gの混合物を撹拌下、30分間
還流する。不溶物をろ去し、エタノールにて洗
浄する。ろ液と洗液を合わせ、減圧下に溶媒を
留去する。残査を酢酸エチルにて抽出し、該抽
出液を希塩酸、水酸化ナトリウム水溶液及び水
で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:6)にて精製
することにより、(R)―1―(4―メトキシ
フエニル)―2―ベンジルオキシカルボニルア
ミノプロパンの無色固形物1.22gを得る。収
率:81.6% m.p. 87.5〜88℃(酢酸エチル―n―ヘキサ
ンより再結晶) 〔α〕20 D―26.2゜(C=1.0,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3320,1685 Mass(m/e):299(M+) NMR(CDCl3,δ):1.10(3H,d,J=6.4
Hz), 2.60〜2.80(2H,m), 3.77(3H,S),5.07(2H,S), 6.79及び7.08(2H,d,J=9Hz), 7.32(5H,S) (8) 本品1.05gに10%パラジウム炭素0.24g、テト
ラヒドロフラン15ml及び10%塩酸2mlを加え、
室温下、水素ガス加圧(1気圧)下にて3.5時
間処理することにより接触還元を行う。反応液
より触媒をろ去後、ろ液から溶媒を減圧留去す
る。残査をエタノール―ジエチルエーテルより
結晶化することにより、(R)―1―(4―メ
トキシフエニル)―2―アミノプロパン・塩酸
塩の無色プリズム晶590mgを得る。収率:83.6
% m.p. 251〜253℃ (文献値:m.p. 251〜253℃*) 〔α〕20 D―23.0゜(C=2.03,H2O) (文献値:〔α〕25 D―22.5゜(C=2.0,H2O)**) {*,**:ジヤーナル・オブ・ザ・メデイシ
ナル・ケミストリー〔J.Med.Chem.,16,480
(1973)〕} IRνnujol nax(cm-1):2700〜2500,2030,1610 Mass(m/e):165(M+,faint),122,121,
44 NMR(D2O,δ):1.34(3H,d,J=6.5Hz), 2.93(2H,d,J=7Hz), 3.88(3H,S),7.05及び 7.33(2H,d,J=8.5Hz) 実施例 2 (1) 上記実施例1―(4)で得られた(S)―3―
(4―メトキシフエニル)―2―ベンジルオキ
シカルボニルアミノプロパノール220.5gにベン
ゼン1.68を加え、35℃で溶解する。該溶液に
10%水酸化ナトリウム水溶液1.12及びp―ト
ルエンスルホニルクロリド143gを約20℃にて
加えた後、n―テトラブチルアンモニウムスル
フエート47gの水200ml溶液を12℃で滴加する。
該混液を氷冷下(液温17〜19℃)で35分間撹拌
する。ベンゼン層を分取し、水洗後、乾燥す
る。該ベンゼン層から減圧下に溶媒を留去する
ことにより(S)―3―(4―メトキシフエニ
ル)―2―ベンジルオキシカルボニルアミノ―
1―(p―トルエンスルホニル)プロパノール
の無色固形物341gを得る。収率:定量的 本品の物理恒数は上記実施例1―(5)で得られ
た化合物のそれと一致した。
炭酸カリウム685g及びヨウ化メチル423gを加
え、室温で一夜撹拌する。反応後、ベンゼン6
を加え、混合物を水、3.3%水酸化ナトリウ
ム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄する。
乾燥後、不溶物をろ去する。溶媒を減圧留去す
ることにより、(S)―3―(4―メトキシフ
エニル)―2―ベンジルオキシカルボニルアミ
ノプロピオン酸エチルエステルの淡黄色油状物
605gを得る。収率:定量的 (4) エタノール1に氷冷下にて、撹拌下、水素
化ホウ素ナトリウム94gを加える。該混合物に
本品302.5gのエタノール2溶液を一気に加
え、8℃で30分間撹拌後、室温に戻す。該混合
液の温度を25℃付近に保ち、7時間撹拌する。
該溶液にアセトン0.75を冷却下に滴加し、次
いで、濃塩酸206mlを滴加する。10%塩酸5ml
及び水200mlを加え、該溶液のPHを弱酸性とし
た後、不溶物をろ去する。ろ液を減圧下に濃縮
した後、酢酸エチルにて抽出する。抽出液を
水、水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水
で順次洗浄する。抽出液を乾燥し、不溶物をろ
去後、減圧下に溶媒を留去する。残査を酢酸エ
チル―n―ヘキサンから再結晶することによ
り、(S)―3―(4―メトキシフエニル)―
2―ベンジルオキシカルボニルアミノプロパノ
ールの無色結晶223.5gを得る。収率:85.6% m.p. 93〜99℃ 〔α〕20 D―39.5゜(C=1.11,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3450,3400,3350,3305,
1685,1660 Mass(m/e):315(M+) NMR(CDCl3,δ):2.70(2H,d,J=6.5
Hz), 3.72(3H,S), 5.02(2H,S), 6.74及び7.04(2H,dJ=8.5Hz), 7.24(5H,S) (5) 本品7.35g、ジクロロメタン50ml及び5%水
酸化ナトリウム水溶液50mlとを混合し、該混
合物に氷冷下、p―トリエンスルホニルクロリ
ド4.90gを加える。該混液に氷冷下、n―テト
ラブチルアンモニウムスルフエート1.75gを加
え、同温で1時間撹拌後、p―トルエンスルホ
ニルクロリド0.2gを加え、室温で1時間撹拌す
る。反応液にエーテルを加え、水洗し、乾燥
後、不溶物をろ去する。ろ液から溶媒を減圧留
去し、残査を酢酸エチル―n―ヘキサンから再
結晶することにより、(S)―3―(4―メト
キシフエニル)―2―ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ―1―(p―トルエンスルホニル)プ
ロパノールの無色針状晶11.36gを得る。収率:
定量的 m.p. 80〜81℃ 〔α〕20 D―31.9゜(C=1.04,メタノール) IRνCHCl 3nax(cm-1):3440,1715,1610 Mass(m/e):297(M+) NMR(CDCl3,δ):2.41(3H,S),3.71(3H,
S), 4.98(2H,S), 6.5〜7.9(13H,m) (6) 本品34g、ヨウ化ナトリウム54g、テトラヒ
ドロフラン500ml及び水25mlの混合物をかく拌
下、2.5時間還流する。反応液から溶媒を留去
し残査をベンゼンで抽出する。抽出液を水、水
酸化ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水
溶液及び水で順次洗浄し、乾燥後、減圧下で溶
媒を留去する。残査を酢酸エチル―n―ヘキサ
ンから結晶化することにより、(S)―3―
(4―メトキシフエニル)―2―ベンジルオキ
シカルボニルアミノプロピルヨージドの無色針
状晶18.8gを得る。収率:61% m.p. 82〜84℃(酢酸エチル―n―ヘキサン
より再結晶) 〔α〕20 D―4.8°(C=1.04,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3320,1690 Mass(m/e):425(M+) NMR(CDCl3,δ):3.78(3H,S), 5.10(2H,S), 6.82及び7.16(2H,d,J=8.5Hz), 7.34(5H,S) (7) 本品2.13g、ジメトキシエタン20ml、水1ml
及び粉末亜鉛1.64gの混合物を撹拌下、30分間
還流する。不溶物をろ去し、エタノールにて洗
浄する。ろ液と洗液を合わせ、減圧下に溶媒を
留去する。残査を酢酸エチルにて抽出し、該抽
出液を希塩酸、水酸化ナトリウム水溶液及び水
で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:6)にて精製
することにより、(R)―1―(4―メトキシ
フエニル)―2―ベンジルオキシカルボニルア
ミノプロパンの無色固形物1.22gを得る。収
率:81.6% m.p. 87.5〜88℃(酢酸エチル―n―ヘキサ
ンより再結晶) 〔α〕20 D―26.2゜(C=1.0,メタノール) IRνnujol nax(cm-1):3320,1685 Mass(m/e):299(M+) NMR(CDCl3,δ):1.10(3H,d,J=6.4
Hz), 2.60〜2.80(2H,m), 3.77(3H,S),5.07(2H,S), 6.79及び7.08(2H,d,J=9Hz), 7.32(5H,S) (8) 本品1.05gに10%パラジウム炭素0.24g、テト
ラヒドロフラン15ml及び10%塩酸2mlを加え、
室温下、水素ガス加圧(1気圧)下にて3.5時
間処理することにより接触還元を行う。反応液
より触媒をろ去後、ろ液から溶媒を減圧留去す
る。残査をエタノール―ジエチルエーテルより
結晶化することにより、(R)―1―(4―メ
トキシフエニル)―2―アミノプロパン・塩酸
塩の無色プリズム晶590mgを得る。収率:83.6
% m.p. 251〜253℃ (文献値:m.p. 251〜253℃*) 〔α〕20 D―23.0゜(C=2.03,H2O) (文献値:〔α〕25 D―22.5゜(C=2.0,H2O)**) {*,**:ジヤーナル・オブ・ザ・メデイシ
ナル・ケミストリー〔J.Med.Chem.,16,480
(1973)〕} IRνnujol nax(cm-1):2700〜2500,2030,1610 Mass(m/e):165(M+,faint),122,121,
44 NMR(D2O,δ):1.34(3H,d,J=6.5Hz), 2.93(2H,d,J=7Hz), 3.88(3H,S),7.05及び 7.33(2H,d,J=8.5Hz) 実施例 2 (1) 上記実施例1―(4)で得られた(S)―3―
(4―メトキシフエニル)―2―ベンジルオキ
シカルボニルアミノプロパノール220.5gにベン
ゼン1.68を加え、35℃で溶解する。該溶液に
10%水酸化ナトリウム水溶液1.12及びp―ト
ルエンスルホニルクロリド143gを約20℃にて
加えた後、n―テトラブチルアンモニウムスル
フエート47gの水200ml溶液を12℃で滴加する。
該混液を氷冷下(液温17〜19℃)で35分間撹拌
する。ベンゼン層を分取し、水洗後、乾燥す
る。該ベンゼン層から減圧下に溶媒を留去する
ことにより(S)―3―(4―メトキシフエニ
ル)―2―ベンジルオキシカルボニルアミノ―
1―(p―トルエンスルホニル)プロパノール
の無色固形物341gを得る。収率:定量的 本品の物理恒数は上記実施例1―(5)で得られ
た化合物のそれと一致した。
(2) 本品28.2g、テトラヒドロフラン390ml、水
13.5ml及びヨウ化ナトリウム45gの混合物に粉
末亜鉛40gを加え、2時間還流する。反応液か
ら不溶物をろ去し、エタノールで洗浄する。ろ
液と洗液を合わせ、減圧下で溶媒を留去する。
残査に酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を
水、希塩酸、水、水酸化ナトリウム水溶液及び
水で順次洗浄する。該抽出液を乾燥し、不溶物
をろ去後、ろ液から溶媒を減圧留去することに
よつて(R)―1―(4―メトキシフエニル)
―2―ベンジルオキシカルボニルアミノプロパ
ンの無色固形物17.8gを得る。収率:99.4% 本品の物理恒数は上記実施例1―(7)で得られ
た化合物のそれと一致した。
13.5ml及びヨウ化ナトリウム45gの混合物に粉
末亜鉛40gを加え、2時間還流する。反応液か
ら不溶物をろ去し、エタノールで洗浄する。ろ
液と洗液を合わせ、減圧下で溶媒を留去する。
残査に酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を
水、希塩酸、水、水酸化ナトリウム水溶液及び
水で順次洗浄する。該抽出液を乾燥し、不溶物
をろ去後、ろ液から溶媒を減圧留去することに
よつて(R)―1―(4―メトキシフエニル)
―2―ベンジルオキシカルボニルアミノプロパ
ンの無色固形物17.8gを得る。収率:99.4% 本品の物理恒数は上記実施例1―(7)で得られ
た化合物のそれと一致した。
(3) 本品1.05gを実施例1―(8)と同様に処理する
ことにより(R)―1―(4―メトキシフエニ
ル)―2―アミノプロパン・塩酸塩の無色プリ
ズム晶を得た。
ことにより(R)―1―(4―メトキシフエニ
ル)―2―アミノプロパン・塩酸塩の無色プリ
ズム晶を得た。
本品の物理恒数は実施例1―(8)で得られた化
合物のそれと一致した。
合物のそれと一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (但し、R1は置換されていてもよいアリール
基又は含窒素複素環式基、―NHYは保護されて
いてもよいアミノ基、OZは保護された水酸基を
表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロパ
ノール誘導体又はその塩を金属ハライドの存在下
で還元するか、或いは、 該化合物()又はその塩と金属ハライドとを
反応させ一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を有
し、Xはハロゲン原子を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロピ
ルハライド又はその塩を得た後、これを還元する
ことを特徴とする一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を有
する。) で示される光学活性1―置換―2―アミノプロパ
ン又はその塩の製法。 2 (1) 一般式 (但し、R1は置換されていてもよいアリー
ル基又は含窒素複素環式基、R2はエステル残
基、―NHYは保護されていてもよいアミノ基
を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
ピオン酸エステル又はその塩を還元し、その生
成物の水酸基を保護して一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、OZは保護された水酸基を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
パノール誘導体又はその塩を製した後、 (2) 該化合物()又はその塩を金属ハライドの
存在下還元するか、或いは、 (3) 該プロパノール誘導体()又はその塩と金
属ハライドとを反応させ一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有し、Xはハロゲン原子を表す。) で示される光学活性3―置換―2―アミノプロ
ピルハライド又はその塩を製した後、これを還
元することを特徴とする一般式 (但し、R1及び―NHYは前記と同一意味を
有する。) で示される光学活性1―置換―2―アミノプロ
パン又はその塩の製法。 3 一般式()において―NHYが保護された
アミノ基である化合物から当該保護基を除去する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第
2項記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61084493A JPS62240651A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 光学活性1−置換−2−アミノプロパンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61084493A JPS62240651A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 光学活性1−置換−2−アミノプロパンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62240651A JPS62240651A (ja) | 1987-10-21 |
JPH0229071B2 true JPH0229071B2 (ja) | 1990-06-27 |
Family
ID=13832174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61084493A Granted JPS62240651A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 光学活性1−置換−2−アミノプロパンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62240651A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4750337B2 (ja) | 2000-06-08 | 2011-08-17 | 株式会社カネカ | スルホン酸エステルの製造方法 |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP61084493A patent/JPS62240651A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62240651A (ja) | 1987-10-21 |
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