JPH02290218A

JPH02290218A - ガス吸収塔

Info

Publication number: JPH02290218A
Application number: JP1317705A
Authority: JP
Inventors: Masaki Fujimoto; 雅樹藤本; Tatsumi Tano; 龍海田野
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1989-02-07
Filing date: 1989-12-08
Publication date: 1990-11-30
Anticipated expiration: 2010-11-08
Also published as: KR900012662A; CN1044599A; KR930006401B1; DE4003370A1; CN1019271B; JPH07102300B2; US4968335A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、例えばボイラ廃ガス中に含まれる亜硫酸ガス
（硫黄酸化物）等の特定成分を該廃ガス中から吸収（脱
硫）する脱硫塔等のガス吸収塔に関するものである。

〔従来の技術〕

従来より、例えば石炭焚きボイラの廃ガス中には亜硫酸
ガス（ＳＯ２）等の硫黄酸化物が大量に含まれており、
酸性雨等の公害を防止するため、これを大気中に排出す
る前に脱硫塔に通して硫黄酸化吻を除去している。

このような従来から用いられている硫黄酸化物を吸収除
去するガス吸収塔としての脱硫塔は例えば第６図に示さ
れるような構造とされている。

第６図において、１０は一次脱硫塔、２ｏは二次脱硫塔
であり、廃ガスは一次脱硫塔１０にまず供給されて大部
分の硫黄酸化物が除去され、次いで、廃ガスは二次脱硫
塔２０に導入され残りの硫黄酸化物がここで所定値まで
脱硫されて除去される。

一次脱硫塔１０は断面矩形状で垂直塔状に形成され、最
上部に廃ガス供給口１１が、最下部に廃ガス排出口１３
（二次脱硫塔２０への導入口）が形成され、この廃ガス
排出口１３は二次脱硫塔２０の下部へ開口されて接続さ
れている。一次脱硫塔１０は支持脚ｌ９によって基礎に
固定支持されている。一次脱硫塔１０の内部には垂直方
向に所定間隔開けて複数段で吸収液散布ノズル１２が多
数設けられており、これらのノズル１２は廃ガス流と対
向されて設けられている。これらのノズル１２には二次
脱硫塔２０の最下部の吸収液受槽２■から配管１４、ボ
ンブ１５を介して配管１６が連結されている。６２は配
管１４のボンプ１５の吸込側に設けられた補給液供給管
、１７は使用済吸収液の一部を排出し排水処理へ供給す
る排出バイブである。

一方、二次脱硫塔２０は断面円形状で垂直塔状に形成さ
れており、その下部を支持脚３５により基礎に固定支持
されている。前記一次脱硫塔１０の廃ガス排出口ｌ３の
下方位置における最下部には前記した吸収液受槽２ｌが
、その上部には一次脱硫塔１０の廃ガス排出口１３の開
口部に而して気液分離室２２が設けられている。さらに
その上部には上部の二次脱硫部から落下する吸収液の受
槽２３が設けられ、この吸収液受槽２３には下端を前記
気液分離室２２に開口された複数個のチムニー（煙突）
２４が垂直方向に貫通して設けられている。チムニー２
４にはその上部にガス排出口が形成された状態で傘２４
ａが設けられ、さらにこの傘２４ａにはこれと同様な構
造の複数個の小チムニー２４ｂが設けられている。さら
に、この？収液受槽２３の上部にはガスと吸収液とを接
触させるプラスチック等の充填物２５が設けられ、その
上方には多数の吸収液散布ノズル３１が設けられている
。そして、その上方にはガスに同伴する液滴などのミス
トを除去するエリミネータ２６が設けられており、塔２
０の最上部には脱硫されたガスの排出口２７が設けられ
ている。ノズル３１には吸収液受槽２３から配管２８、
ボンプ２９を介して配管３０が連結されている。配管２
８にはポンプ２９の吸込側に補給液供給管３２が接続さ
れている。

このような構造の脱硫塔の作動を説明する。

例えば温度が１４０〜１５０“Ｃ，ＳＯ■濃度１０００
ｐｐｍのボイラー廃ガスは一次脱硫塔１０の廃ガス供給
口１１から塔工０内に供給され、下方に向かって下降す
る途中で吸収液散布ノズル１２から散布される吸収液と
向流接触して廃ガス中のＳ０２などの硫黄酸化吻が大部
分除去される。

この時、廃ガス中に含まれるフライアッシュなどのダス
トの除去や廃ガスの冷却も行われる。このような作用を
受けた廃ガスは一次脱硫塔１ｏの廃ガス排出口１３を出
た段階で例えば温度が６０″Ｃ、Ｓ０２濃度が１５０Ｐ
Ｐｍ程度とされている。

次脱硫を受けた廃ガスは廃ガス排出口１３がら二次脱硫
塔２０内の気液分離室２２に導入され、ここで、気体と
液体とに分離され、液体は最下部の吸収液受槽２１に溜
められ、気体としての廃ガスは塔２０の上方へと流れ、
チムニー２４、小チムニー２４ｂを通過して塔２０の断
面に均等に分配され、さらに上部の充填物２５内部に導
入される。

充填物２５内部では、上方の吸収液散布ノズル３１から
散布される吸収液と廃ガスが均等に接触し、廃ガス中の
Ｓ０２が例えば４０ｐｐｍ程度まで除去される。この充
填物２５を通過して落下した吸収液は受槽２３に受け止
められて溜められ、ボンプ２９により配管２８、３０を
介してノズル３１へと送られて循環使用される。なお、
吸収液受槽２３からは吸収液が溢流して下方の一次脱硫
部の吸収液受槽２１へ落下する。充填物２５で所定値ま
でＳＯ２を除去された廃ガスはエリミネータ２？を通っ
てミストを除去された後、排出口２７から排出される。

このようなＳＯ■　（亜硫酸ガス）の吸収除去に使用さ
れる吸収液は例えばＭｇＳＯ３　（亜硫酸マグネシュウ
ム）　、Ｍｇ　（ＨＳＯ：ｌ）２　　（酸性亜硫酸マグ
ネシュウム）ＭｇＳＯ４（硫酸マグネシュウム）および
１１２０　（水）からなる混合水溶液であり、Ｓ０２の
吸収には主としてＭ　ｇ　Ｓ　Ｏ　ｘが作用する。

また混合水溶液にはＭｇ（ＯＨｈ（水酸化マグネシュウ
ム］が補給される。そして、一次脱硫塔ＩＯには例えば
濃度５％、ＰＨ値５．２の混合水溶液が、二次脱硫塔２
０には例えば濃度１％、Ｐ　Ｈ値５．９〜６．２の混合
水溶液が使用される。

〔本発明が解決しようとする課題〕

所定のａ硫性能を確保するためには脱硫部における処理
ガスのガス流速を特に一次脱硫部においては所定の流速
に保たねばならないが、前記したような従来の脱硫塔で
は、一次脱硫塔と二次脱硫塔とが別個に設けられている
ので、装置全体が大きくなることはもとより、特に、多
量の廃ガス量、例えば３５０，ＯＯＯＮボ／Ｉｌｒを処
理する場合には、一次脱硫塔１０の断面寸法が２ｍＸ４
ｍ、二次脱硫塔２０の内径が８ｍと大型になり、この大
型の一次、二次脱硫塔がそれぞれ工塔ずつ、計２塔も必
要となり、多量の廃ガスを処理する場合には装置が大掛
かりになり、設置面積を多く必要とし、配置制限を受け
やすいという欠点がある。また、二次脱硫塔２０にはチ
ムニー２４を取り付けた吸収液受槽２３が必要であり、
この構造が複雑であり、かつ、高価なものであるという
欠点もある。

本発明の目的はこのような欠点を除去して、吸収塔を小
型化し、設置面積を多く必要とせず、シンプルな配置を
可能とするなどしたガス吸収塔を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のガス吸収塔は、〔１）塔本体の内部の下部と上部にそれぞれ一次吸収部
（一次脱硫部）と二次吸収部（二次脱硫部）とを収容配
置し、該塔下部に配置される一次吸収部を、塔の略中央
部に配置されて塔壁面との間でガス通路を形成し、上部
を該二次吸収部と連通開口され、下部を閉止されて二次
吸収部からの落下吸収液の受槽を形成された内筒と、該
ガス通路に開口するガス導入口と、該ガス導入口からガ
ス通路に沿って所定距離隔てた位置でガス通路と連通さ
れて内筒内へ通じるように内筒側壁に開口されて設けら
れたガス流入口と、該内筒へのガス流入口へ到る間のガ
ス通路内にガス流れ方向に沿って複数位置に配置した吸
収液散布ノズルと、から構成したものである。また、（２）該ガス通路をガス導入口の取付位置から２方向へ
分岐して配し、咳ガス流入口をガス導入口とは反対位置
側の内筒側壁に開口して設けると共に、各々のガス通路
をガス流入口で合流させた構成としたものである。また
、（３）該ガス導入口をガス通路の接線方向に向けて開口
して設け、該ガス流入口を該ガス導入口が位置する側の
内筒側壁に開口して設けた構成にしたものである。

〔作　用］前記（１）項のような構成にすると、吸収塔下部の一次
吸収部のガス導入口から導入される硫黄酸化物等の特定
成分を含んだボイラ廃ガス等のガスは内筒と塔本体壁面
とで形成されるガス通路を通りここでガス流れ方向に沿
って複数位置に配置された吸収液散布ノズルから敗布さ
れる吸収液と接触されて冷却、除塵、および所定分の硫
黄酸化物等の特定成分の吸収（脱硫）が行われる。この
ガス通路は充分な容積を確保でき所定のガス流速を確保
しうるので一次吸収作用が確実に行われる。このガス通
路で所定分の特定成分を除去されたガスはガス導入口か
ら所定距離隔てた位置の内筒の側壁に形成されたガス流
入口へと流入され、内筒上部を出て、その上方に位置す
る二次吸収部へと導入されて、最終的な吸収作用を受け
る。また、二次吸収部で吸収作用を終えた吸収液は下方
へ落下し内筒の内部下部の受槽に収容される。

しかして、本発明のガス吸収塔では、従来の吸収塔（脱
硫塔）の気液分離室２２が位置する部分に一次吸収部が
組み込まれている構成とされているので、塔の全体構造
がシンプルとなり、また従来の吸収塔のようにチムニー
２４を取り付け、所定深さ（高さ）を必要とした吸収液
受槽２３が不要となり、この分、装置高さを低くでき、
装置を小さくすることができる。また、例えば、前記し
たような多量の廃ガスＩｔ３５０，０００Ｎｍ／Ｉｌｒ
を処理する場合でも一つの塔で行えるものである。

そして、前記（２）項のような措成にすると、ガス通路
が二分されるので一次吸収部でのガス流速を遅くでき、
圧力Ｉｆｆ失を低くできると共にミストがガスからより
分離され易く、二次吸収部へのミストの同伴が少なくさ
れる。

また、前記（３）項のような構成にすると、一次吸収部
におけるガス通路の長さを長くすることができ、このガ
ス通路でガスと吸収液との接触回数を多くとることがで
き、ガス吸収率を良くすることができる。そして、ミス
ト除去区間長さを有効に確保することができるため、二
次吸収部へのミストの同伴量を少なくできる。

〔実施例〕

第１図および第２図は本発明の第１実施例を説明するも
のであり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図
の■〜■線矢視断面（平面）図である。なお、以下の実
施例においては、吸収塔が脱硫塔であり、ガスがボイラ
廃ガスであり、廃ガス中の吸収すべき特定成分が亜硫酸
ガス等の硫黄酸化物である場合を説明する。

第１図に示すように、脱硫塔４０は円筒状塔型に形成さ
れており、その下部を支持屓４ｌで基礎に支持固定され
ている。脱硫塔４０の下部分には一次脱硫部（一次吸収
部）５０が形成され、その上部に二次脱硫部（二次吸収
部）６０が形成されている。そして、二次脱硫部６０の
上方にはエリミネータ２６が位置しており、最上部には
廃ガス排出口２７が形成されている。

一次脱硫部５０には、第２図にも示すように塔本体４０
と同心状に配置され、断面が円形であり所定の高さを有
する内筒５１がその壁部上端を截頭逆円錐状の仕切部材
５１ａによって塔本体４０の内壁に固定されて取り付け
られており、内筒５１の下部５ｌｂは閉塞されて吸収液
受槽５１ｃが形成されている。内筒５１の上部は開口さ
れて二次脱硫部６０と連通されている。そして、内筒５
１と塔本体４０壁面との間には所定の高さを有し、断面
が環状の廃ガス通路５２、５２が形成され、この通路５
２、５２に面して廃ガス導入口５３が塔本体４０の側壁
に開口され、この廃ガス導入口５３には廃ガス導入ダク
ト５４が接続されている。

この環状通路５２は第２図に示すように廃ガス導入口５
３から二分されて内筒５１を囲むようにして形成され、
廃ガス導入口５３から遠ざかり所定距離隔てた位置であ
る廃ガス導入口５３とは反対側の内筒５１の上部側壁に
は各々の環状通路５２、５２を通過し一次脱硫（吸収）
を終えた廃ガスの流入口５５が形成されている。各々の
環状通路５２、５２の終端は廃ガス流入口５５で合流さ
れている。この流入口５５は所定の高さと幅を存してい
る。各々の環状通路５２、５２内には、第２図に示すよ
うに平面視状態でガス流に沿って間隔をおいた複数位置
（本実施例では各通路内に３個所ずつ）に吸収液散布ノ
ズル１２が多数設けられ、また各個所のノズルｌ２は第
１図に示すように高さ方向にも複数段（本実施例では５
段）設けられており、各ノズルｌ２は廃ガス流と対向さ
せて設けられている。内筒５１の下部５ｌｂと塔本体４
０の底部との間には一次吸収液の受槽５７が形成される
。この受槽５７の底部には配管１４が接続され、この配
管１４にはボンプｌ５を介して配管１６が接続され、さ
らに配管１６は各々のノズル１２に分岐されて接続され
ている。配管１４にはボンブ１５の吸込側に補給液供給
管６２が接続され、配管１６には使用済吸収液の排出管
１７が接続されている。

一方、一次脱硫部５０の上方の二次脱硫部６０にはプラ
スック等の充填物２５とその上部に横断して配置された
多数の吸収液散布ノズル３ｌが設けられており、このノ
ズル３１は内７１５１下部の受槽５１ｃとの間を配管３
０、ボンブ２９、配管２８によって接続されている。配
管２８にはポンプ２９の吸込側に補給液供給管３２が接
続されて？る。

次に、第１実施例の作用を説明する。

温度１４０〜１　５　０　’Ｃ、亜硫酸ガス（Ｓｏ．）
を約１０００ｐｐｍ含有したボイラ廃ガスは廃ガス導入
ダクト５４から廃ガス導入口５３を通って一次脱硫部５
０に導入され、廃ガスは第２図に示すように内筒５１の
作用により内筒５１を取り囲むように二分されて二つの
環状通路５２、５２内を流れ、廃ガス導入口５３とは反
対側に形成された内筒５１の上部璧部に形成されたガス
流入口５５へと送られる。この間に各々の環状通路５２
、５２内では多数のノズル１２から前記したと同様な組
成の混合水溶液である吸収液がポンブ２９の作用でボイ
ラ廃ガス流と対向して噴出され、廃ガス中の亜硫酸ガス
（Ｓｏ■）が例えば１５０ｐｐｍ程度になるまで吸収さ
れるとともに、廃ガスはフライアッシュ等のダストを除
去され、６０゛Ｃ程度に冷却される。廃ガスを脱硫、冷
却し、そのダストを除去した後の吸収液は受槽５７に落
下して一定レベルに保たれる。受槽５７には図示してい
ない液面レベル計が設置されており、受槽５７の液面レ
ベルが液面レベル計の検出により一定となるように排出
管ｌ７から使用済吸収液が抜き出される。

環状通路５２、５２は所要の幅と高さ及び長さ（円周方
向）を形成せしめることが可能であり、充分な容積が確
保され、また、環状通路５２、５２は二分されて脱硫塔
４０に導入されるガス量がほぼ半量ずつ各々の通路５２
、５２を流れるため処理廃ガス量が多くても一次脱硫部
５０でのガス流速を遅くすることができ、例えば所定効
率の脱硫（吸収）作用を行わせるに必要な所定のガス流
速〔実速度が例えば１５〜２０ｍ／ｓｅｃ．）を確保す
ることができ、処理廃ガス量に対応させて所定の効率の
脱硫を行わせるようにすることができる。

従って、ガス通路５２、５２でのガス流速を遅《するこ
とができるため、一次脱硫部５０での圧力損失を低くお
さえることができ、また、ガス通路５２、５２で散布さ
れた吸収液のミストがこの通路内で分離されて吸収液受
槽５７へ回収され易くなるため、二次脱硫部６０へのミ
スト同伴量を少？くすることができる。

二つの環状通路５２内で一次脱硫を終えた廃ガスは内筒
５１のガス流入口５５で合流してここがら内筒５１内へ
と流入し内筒５ｌ内を上方へと流れて仕切部材５１ａ部
を通過し、その上部の二次脱硫部６０へ導入されて充填
吻２５内部へ導入される。なお、この時、二次脱硫部６
０へはガスが塔本体４０の中央部に位置する内筒５１の
内部から上方へと送られるので、ガスが塔の断面にわた
ってほぼ均等に流れることとなり、従来装置のようにチ
ムニー２４、２４ｂを襟数個設けたりしてガスの均等分
散化を敢えて行う必要もない。充填物２５内ではその上
部の吸収液散布ノズル３１からボンブ２９の作用で敗布
される前記と同様な組成の混合水溶液と効率良く接触さ
れて最終的な脱硫が行われ、充填物２５部を通過した時
点で廃ガス中の亜硫酸ガス（ＳＯ■）が例えば４０１）
Ｐｍ程度になるまで吸収される。この後、廃ガスはエリ
ミネータ２６を通過してミストが除去され、最上部の廃
ガス排出口２７から排出される。充填物２？から落下す
る吸収液は上方に拡径された截頭逆円錐状の仕切部材５
１により案内されて内筒５１内部に受けられ、その下部
の受槽５１ｃに溜められる。なお、このように本実施例
装置では円８５ｌの内部の下部に受槽５１ｃが形成され
ているので、従来装置のように吸収液受槽２３を塔の内
部に別途設ける必要がなくなり、この分、塔の高さを低
くすることが可能になる。受槽５１ｃの貯蔵液の液面は
その一部が前記ガス流入口５５から溢流して受槽５７へ
流下することにより一定レベルに溜められる。そして受
槽５１ｃの吸収液は配管２８、ボンプ２９、配管３０を
経てノズル３ｌへ循環使用される。また、配管３２およ
び６２からは適宜、Ｍｇ（０１｛）ｚ［水酸化マグネシ
ュウム］が補給される。なお、一次脱硫部５０および二
次脱硫部６０で使用される吸収液は前記と同様に、例え
ばＭｇＳＯｚ（亜硫酸マグネシュウム）、Ｍｇ　（ＨＳ
Ｏ：ｌ）２　　（酸性亜硫酸マグネシュウム〕、ＭｇＳ
Ｏａ（硫酸マグネシュウム）およびＩ１■Ｏ（水）から
なる混合水溶液であり、Ｓ○２の吸収に？主としてＭｇ
ＳＯ，が作用する。なお、脱硫（吸収）作用は次のよう
な反応によって行われる。

Ｍｇ　（０１１）　ｔ　［補給液］　　＋ＳＯ２＋ｎｚ
ｏ→ＭｇＳＯ３＋ＩｌｚＯＭｇＳＯ＋　＋ＳＯ■＋１！
２０→Ｍｇ（ｌｌｓＯ＋：ｈＭｇＳＯ３＋１／２　０２
→ＭｇＳ０４そして、一次脱硫部５０には例えば濃度５
％、ＰＨ値５．２の混合水溶液が、二次脱硫部６０には
例えば濃度１％、ＰＨ値５．９〜６．２の混合水溶液が
使用される。ＰＨ値の調整は一次脱硫部５０および二次
脱硫部６０のそれぞれノズル１２手前の配管１６および
ノズル３１手前の配管３０に取り付けられた図示してい
ないＰＨ計により検出されるそれぞれの吸収液のＰＨ値
に基づいて、それぞれ補給液供給管６２および３２に設
置された図示していない補給液供給量調整弁の開度を制
御することにより行われる。

本実施例装置は以上説明したように構成されることによ
り、前記したような多量の廃ガス量、例えば３５０，０
００Ｎｒｒｆ／Ｈｒを処理する場合でも内径を８ｍとし
た一つの塔で行える。

第３図および第４図は本発明の第２実施例を示すもので
あり、第３図は脱硫塔の縦断面図、第４図は第３図の■
〜■線矢視断面（平面）図である。

なお、第３図、第４図において、第１図、第２図と同一
部分または相当する部分は同一符号を付しその説明は省
略する。

この実施例は、第４図に示すように、一次脱硫部５０の
ガス通路７２を１本の環状通酪に形成し、ガス導入口７
０をこの環状通路７２の接線方向に向けて開口させて設
け、二次脱硫部６０へ通じるガス流入口７３をガス導入
口７０が位置する部分の内筒５１の側壁に開口して設け
たものである。

即ち、第４図に示すようにガス流入口７３はガス導入ダ
クト７１の内側の側壁と内筒５１の側壁との接合部分に
形成されている。なお、ガス導入ダクト７１の内側の側
壁は、内筒５１の側壁と塔本体壁面とに吸収液受槽５７
の吸収液液面下まで伸ばされ状態で接合されている。こ
のため、ガス導入ダクト７１から導入されるガスと二次
脱硫部６０へ通じるガス流入口７３のガスは完全に分離
され混合することはない。そして、吸収液散布ノズル１
２がガス通路７２内でガス導入口７０側に寄せた位置の
所定範囲内で所定間隔開けて配置されて設けられている
。

このように、一次脱硫部５０のガス通路７２を形成する
と、ガス通路が長くなると共にガスは１個の通路を流れ
るため、吸収液との接触回数が多くとれ、ガスの吸収率
を良くすることができる。

そして、第４図においてガス流れ方向で最も下流位置に
あるノズル１２とガス流入口７３との間のガス通路７２
を符号ＭＥで示すようにミスト除去区間として確保でき
るので、一次脱硫部５０でのミスト除去も良好となり、
二次脱硫部６０へのミスト同伴量を少なくすることがで
きる。

以上の第１、第２実施例の吸収塔に加えて、第５図に示
したように内筒５１の上端と充填物２５の間の空間に、
内筒５ｌから上昇し二次脱硫部６０へ導入されるガス分
敗装置８０を設けることもできる。このガス分敗装置８
０は断面に所定数均等に分散させて開口するガス通過口
８’ｌａを形成した下部プレート８１と、該ガス通過口
８１ａの上部に位置し多数のガス通過口８２ａを開設し
た複数個の上部ブレーｌ・８２から構成され、内筒５１
から排出されたガスが下部プレート８ｌのそれぞれのガ
ス通過口８１ａへ分配導入され、更に、上部へ流れて上
部プレー上８２の多数のガス通過口８２ａや上部プレー
ト８２同士の間を通過して、断面均等にガスが分散され
、上部の二次脱硫部６０の充填物２５へ均等量のガスが
供給される。このため、充填物２５での二次脱硫（吸瞑
）効率をより良好に行わせるようにすることができる。

二次脱硫部６０からの落下吸収液はガス分散装置８０の
ガス通過口８２ａ、８１ａ等を通って内筒５１内へ落下
しその吸収液受槽５１ｃへ溜められる。

このようにした場合でも、従来装置が有していた第６図
における吸収液受槽２３は必要ではなく、この分、吸収
塔高さを低くでき、吸収塔を小型化することができる。

なお、以上の説明ではガス吸収塔が、ボイラ廃ガスに含
まれる硫黄酸化物を特定成分として吸収（脱硫）する脱
硫塔である場合を説明したが、本発明では勿論、他種の
ガスの特定成分を吸収する一般の吸収塔としても適用で
きるものである。

［発明の効果］以上の説明から明らかなように、本発明は、請求項（１
）の構成にすることにより、ガス吸収塔を小型化するこ
とができる。従って、多量のガスを処理する場合でも、
ガス吸収塔の設置面積を少なくすることができ、シンプ
ルな配置が可能となる。

そして、一次吸収部においては内筒と塔本体との間に充
分な容積を確保しうるガス通路を形成させることができ
るので、ガス中の特定成分の吸収に必要な所定のガス流
速を確保することができ、吸収作用を確実に行わせるこ
とができる。また、請求項（２）の構成にすることによ
り、ガス通路が二分されるので一次吸収部でのガス流速
を遅くでき、圧力損失を低くできると共にミストがガス
からより分離され易く、二次吸収部へのミストの同伴量
を少なくすることができる。そして、請求項（３）の構
成にすることにより、一次吸収部におけるガス通路の長
さを長くすることができ、このガス通路でガスと吸収液
との接触回数を多くとることができ、ガス吸収率を良く
することができる。そして、ミスト除去区間長さを有効
に確保することができるため、二次吸収部へのミストの
同伴量を少なくできる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の第１実施例を示すもので
あり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図の■
〜■線矢視断面（平面）図、第３図および第４図は本発
明の第２実施例を示すものであり、第３図は脱硫塔の縦
断面図、第４図は第３図の■〜■線矢視断面（平面）図
、第５図は本発明の更に他の実施例を示すものでありガ
ス分散装置を設置した脱硫塔の要部縦断面図、第６図は
従来の脱硫塔を示す縦断面図である。１２・・・吸収液散布ノズル（一次脱硫部）、２５・・
・充填物、３１・・・吸収液散布ノズル（二次脱硫部）
、２６・・・エリミネー夕、２７・・・廃ガス排出口、
４０・・・脱硫塔本体、５０・・・一次脱硫部、６０１・・・内筒、５２、７２７０・・・ガス導入口、５導入ダクト、５５、７３筒）、５１ｃ、５７・・・ガス分散装置。・・・二次脱硫部、５・・・環状通路、５３、４、７１・・・廃ガス・・ガス流入口（内吸収液受槽、８０・・

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ガス中の特定成分を一次吸収部と二次吸収部とで
吸収するガス吸収塔において、吸収塔内部の下部と上部
にそれぞれ一次吸収部と二次吸収部とを収容配置し、該
一次吸収部を、塔の略中央部に配置されて塔壁面との間
でガス通路を形成し、上部を該二次吸収部と連通開口さ
れ、下部を閉止されて二次吸収部からの落下吸収液の受
槽を形成された内筒と、該ガス通路に開口するガス導入
口と、該ガス導入口からガス通路に沿って所定距離隔て
た位置でガス通路と連通されて内筒内へ通じるように内
筒側壁に開口されて設けられたガス流入口と、該内筒へ
のガス流入口へ到る間のガス通路内にガス流れ方向に沿
って複数位置に配置した吸収液散布ノズルと、から構成
したことを特徴とするガス吸収塔。
（２）該ガス通路をガス導入口の取付位置から２方向へ
分岐して配し、該ガス流入口をガス導入口とは反対位置
側の内筒側壁に開口して設けると共に、各々のガス通路
をガス流入口で合流させたことを特徴とする請求項（１
）のガス吸収塔。
（３）該ガス導入口をガス通路の接線方向に向けて開口
して設け、該ガス流入口を該ガス導入口が位置する側の
内筒側壁に開口して設けたことを特徴とする請求項（１
）のガス吸収塔。